ES2621967T3 - Artículo óptico revestido con un revestimiento antirreflectante o reflectante que comprende una capa eléctricamente conductora a base de óxido de estaño y procedimiento de fabricación - Google Patents

Abstract

Artículo óptico con propiedades antiestáticas y antirreflectantes o reflectantes, que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal revestida de un revestimiento antirreflectante o reflectante, comprendiendo dicho revestimiento al menos una capa eléctricamente conductora, en el que - el depósito de dicha capa eléctricamente conductora se ha realizado bajo asistencia iónica, y - dicho sustrato tiene un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, siendo el porcentaje de recogida de agua medido después del secado previo de dicho sustrato y después del almacenamiento de este sustrato durante 800 horas en un recinto a 50ºC bajo una humedad relativa del 100% y a presión atmosférica, caracterizado por que - dicha capa eléctricamente conductora comprende al menos un 30% en masa, preferentemente al menos un 40% en masa y mejor aún al menos un 50% en masa de óxido de estaño SnO2 con respecto a la masa total de la capa eléctricamente conductora.

Description

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DESCRIPCION

Artfculo optico revestido con un revestimiento antirreflectante o reflectante que comprende una capa electricamente conductora a base de oxido de estano y procedimiento de fabricacion

La presente invencion se refiere de manera general a un artfculo optico, especialmente una lente oftalmica, que tiene al mismo tiempo propiedades antiestaticas, y antirreflectantes o reflectantes, que presentan la ventaja de no desarrollar con el tiempo defectos cosmeticos debidos al tratamiento antiestatico al que se sometio, asf como a un procedimiento de preparacion de tal artfculo optico.

Se conoce proteger la superficie de los cristales oftalmicos, ya sean minerales u organicos, mediante revestimientos duros (anti-abrasion y/o anti-rayaduras) generalmente a base de polisiloxano. Se conoce tambien tratar las lentes oftalmicas con el fin de impedir la formacion de reflejos parasitos molestos para el portador de la lente y sus interlocutores. La lente esta entonces provista de un revestimiento antirreflectante mono- o multicapas generalmente de material mineral.

Cuando la lente comprende en su estructura un revestimiento duro anti-abrasion, el revestimiento antirreflectante esta generalmente depositado sobre la superficie de la capa anti-abrasion. Tal apilado disminuye la resistencia a los choques, rigidificando el sistema, que se vuelve entonces quebradizo. Este problema es bien conocido en la industria de las lentes oftalmicas de cristal organico.

Para remediar este inconveniente, se ha propuesto disponer una capa primaria antichoque entre la lente de cristal organico y el revestimiento duro anti-abrasion.

Se conoce tambien que los artfculos opticos, que estan compuestos de materiales esencialmente aislantes, tienden a ver su superficie cargarse facilmente de electricidad estatica, particularmente cuando se limpian en condiciones secas por friccion de su superficie mediante un trapo, un trozo de espuma sintetica o de poliester (triboelectricidad). Las cargas presentes en su superficie crean un campo electroestatico capaz de atraer y fijar los objetos de muy baja masa que se encuentran cerca (algunos centfmetros), generalmente partfculas dimensiones reducidas, tales como polvos, y esto durante todo el tiempo en el que la carga permanece en el artfculo.

Con el fin de disminuir o anular la atraccion de las partfculas, es necesario disminuir la intensidad del campo electroestatico, es decir disminuir el numero de cargas estaticas presentes en la superficie del artfculo. Esto se puede realizar volviendo las cargas moviles, por ejemplo introduciendo una capa de un material que induce una fuerte movilidad de los “portadores de carga”. Los materiales que inducen la movilidad mas alta son los materiales conductores. Asf, un material de conductividad elevada permite disipar mas rapidamente las cargas.

El estado de la tecnica revela que un artfculo optico puede adquirir unas propiedades antiestaticas gracias a la incorporacion en su superficie, en el apilado de revestimientos funcionales, al menos una capa electricamente conductora, o “capa antiestatica”, siendo estas dos expresiones utilizadas indistintamente.

Esta capa antiestatica puede constituir la capa externa del apilado de revestimientos funcionales, una capa intermedia (interna) o estar depositada directamente sobre el sustrato del artfculo optico. La presencia de tal capa en un apilado confiere al artfculo unas propiedades antiestaticas, incluso si el revestimiento antiestatico esta intercalado entre dos revestimientos o sustratos no antiestaticos.

Por “antiestatica”, se entiende la propiedad de no retener y/o desarrollar una carga electrostatica apreciable. Un artfculo se considera generalmente como que tiene unas propiedades antiestaticas aceptables, cuando no atrae y no fija el polvo y las pequenas partfculas despues de que una de sus superficies haya sido frotada mediante un trapo apropiado. Es capaz de disipar rapidamente unas cargas electrostaticas acumuladas, con lo que tal artfculo parece mas “limpio” despues del secado.

Se pueden utilizar diferentes tecnicas para cuantificar las propiedades antiestaticas de un material.

La propiedad antiestatica de un material esta frecuentemente relacionada con el potencial estatico de este. Cuando el potencial estatico del material (medido mientras que el artfculo no se haya cargado) es de 0 KV +/- 0,1 KV (en valor absoluto), el material es antiestatico, por el contrario, cuando su potencial estatico es diferente de 0 KV +/- 0,1 KV (en valor absoluto), el material se denomina estatico.

Segun otra tecnica, la capacidad de un cristal para evacuar una carga estatica obtenida despues de la friccion por un tejido o por cualquier otro procedimiento de generacion de una cara electrostatica (carga aplicada por corona, etc.) se puede cuantificar por una medicion del tiempo de disipacion de dicha carga. En la presente solicitud, un cristal se considera como antiestatico si su tiempo de descarga es inferior o igual a 500 milisegundos. Los cristales estaticos pueden poseer unos tiempos de descarga del orden de varias decenas de segundos y, cuando acaban de secarse, pueden atraer los polvos de los alrededores durante todo el tiempo necesario para su descarga.

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Los revestimientos antiestaticos conocidos comprenden al menos un agente antiestatico, que es generalmente un oxido metalico (semi)-conductor eventualmente dopado, tal como el oxido de estano-indio (ITO), el oxido de zinc).

El oxido de estano-indio (ITO) es el material mas utilizado. Puede tratarse de oxido de estano dopado con indio u oxido de indio dopado con estano. Generalmente, el material mas utilizado es el oxido de indio dopado con estano, utilizandose el estano a razon del 5 al 17% en peso.

Las solicitudes o patentes EP 0834092, DE 3942990, DE 4117257, US 6,852,406, US 2008/028984 y US 2002/018887 describen unos artfculos opticos, en particular unas lentes oftalmicas, equipadas de un apilado antirreflectante de naturaleza mineral que comprende una capa electricamente conductora transparente de naturaleza mineral, depositada al vado, a base de oxido de titanio, de oxido de estano-indio (ITO), de oxido de zinc, de oxido de estano, etc. La capa de ITO descrita en la patente US 6,852,406 se forma generalmente a partir de una fuente que comprende un 90% de oxido de indio y un 10% de oxido de estano.

La solicitud WO 2009/004222 (o la correspondiente FR 2917510), a nombre del depositante, describe un artfculo optico con propiedades antirreflectantes, que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal revestida con un revestimiento antirreflectante, que puede comprender al menos una capa electricamente conductora. Esta capa comprende preferentemente un oxido metalico seleccionado entre los oxidos de indio, de estano, de zinc y sus mezclas, siendo el material preferido el acido de estano-indio (ITO).

Sin embargo, los revestimientos antirreflectantes que comprenden una capa antiestatica a base de ITO no son totalmente satisfactorios.

Las capas antiestaticas a base de ITO presentan el inconveniente de absorber en el campo de lo visible, de manera no insignificante, aunque su grosor debe ser relativamente reducido a fin de no perjudicar a las propiedades de transparencia de un artfculo optico. Asf, las capas de ITO presentan un nivel de amarillo ligeramente demasiado elevado cuando se depositan sobre ciertos sustratos, tales como el sustrato ORMA®, lo que es visible a simple vista si la capa de ITO tiene un grosor superior a 6,5 nm.

Pero el defecto mas molesto relacionado con la utilizacion de capas antiestaticas conductoras, en particular de capas de ITO, es la aparicion de defectos denominados defectos cosmeticos en el artfculo optico al final de un tiempo relativamente corto despues de la preparacion del artfculo optico de propiedades antirreflectantes y antiestaticas. Tales defectos impiden la comercializacion de los artfculos opticos en los que se observan. Segun los sustratos, estos defectos estan presentes inicialmente o se desarrollan al final de un tiempo que puede ir desde algunos dfas hasta algunos meses, durante el uso de las lentes oftalmicas. Estos defectos se presentan en forma de puntos o de lmeas en la superficie del artfculo.

Las capas conductoras se depositan generalmente bajo asistencia ionica. Los inventores han determinado que esta asistencia ionica reforzaba significativamente el porcentaje de aparicion de defectos.

El problema de la aparicion de defectos cosmeticos no se ha abordado en ningun documento presentado anteriormente.

La presente invencion tiene por lo tanto como objetivo proporcionar un artfculo optico transparente, en particular una lente oftalmica, que posea al mismo tiempo unas propiedades antiestaticas y antirreflectantes o reflectantes, eventualmente unas propiedades anti-abrasion y/o anti-rayaduras y/o anti-choque, pero que no desarrolle a lo largo del tiempo defectos cosmeticos, y que conserve excelentes propiedades de adhesion de las diferentes capas de revestimiento las unas con respecto a las otras.

Otro objetivo de la invencion es la obtencion de un artfculo optico cuyas propiedades antiestaticas sean estables en el tiempo.

La presente invencion tiene tambien por objeto un procedimiento de fabricacion de un artfculo tal como se ha definido anteriormente que se integra facilmente en el proceso clasico de fabricacion de dichos artfculos, y al mismo tiempo que no comprenda una etapa de calentamiento del sustrato.

Los inventores han determinado que se necesitaba actuar sobre la naturaleza del material que constituye la capa antiestatica y retener un material espedfico para resolver el problema tecnico. Este problema no se puede resolver modificando la localizacion del revestimiento antiestatico en el apilado.

Los inventores han determinado tambien la caractenstica de los sustratos propensos a desarrollar este tipo de defectos, una vez revestidos con un revestimiento antirreflectante (o reflectante), antiestatico, y cuyo sustrato no presentaba este tipo de defecto, sea cual sea la naturaleza de la capa antiestatica.

La presente invencion se basa en el hecho de que la utilizacion, en un revestimiento antirreflectante o reflectante, de ciertas capas antiestaticas a base de SnO2, no provoca ningun defecto cosmetico en sustratos cuyos porcentajes de

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recogida de agua es superior al 0,6% en masa, y preserva as^ la transparencia, en particular en el tiempo, de dicho revestimiento, impidiendo su alteracion.

Los objetivos fijados se alcanzan por lo tanto segun la invencion mediante un artfculo optico con propiedades antiestaticas y antirreflectantes o reflectantes, que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal revestida de un revestimiento antirreflectante o reflectante, comprendiendo dicho revestimiento al menos una capa electricamente conductora que comprende al menos un 30%, preferentemente al menos un 40% y mejor al menos un 50% en masa de oxido de estano (SnO2) con respecto a la masa total de la capa electricamente conductora, realizandose el deposito de dicha capa electricamente conductora bajo asistencia ionica, y teniendo dicho sustrato un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, siendo el porcentaje de recogida de agua medido despues del secado previo de dicho sustrato y despues del almacenamiento de este sustrato durante 800 horas en un recinto a 50°C bajo una humedad relativa del 100% y a presion atmosferica.

La invencion se refiere tambien a un procedimiento de fabricacion de tal artfculo optico que comprende al menos las etapas siguientes:

- proporcionar un artfculo optico que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal, teniendo dicho sustrato un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, midiendose el porcentaje de recogida de agua de la manera descrita anteriormente,

- depositar sobre dicha superficie principal del sustrato un revestimiento antirreflectante o reflectante, comprendiendo dicho revestimiento al menos una capa electricamente conductora, que comprende al menos un 30% en masa de oxido de estano (SnO2) con respecto a la masa total de la capa electricamente conductora, realizandose el deposito de dicha capa electricamente conductora bajo asistencia ionica,

- recuperar un artfculo optico que comprende un sustrato que tiene una superficie principal revestida de dicho revestimiento antirreflectante o reflectante que comprende dicha capa electricamente conductora.

La siguiente descripcion se refiere esencialmente a unos revestimientos antirreflectantes, pero se aplica tambien a unos revestimientos reflectantes, mutatis mutandis. La invencion se aplica sin embargo de manera preferida a unos revestimientos antirreflectantes.

En la presente solicitud, cuando un artfculo optico comprende uno o varios revestimientos en su superficie, la expresion “depositar una capa o un revestimiento sobre el artfculo” significa que una capa o un revestimiento se deposita sobre la superficie al descubierto (expuesta) del revestimiento externo del artfculo, es decir su revestimiento mas alejado del sustrato.

Un revestimiento que esta “sobre” un sustrato o que se ha depositado “sobre” un sustrato se define como un revestimiento que (i) esta posicionado por encima del sustrato, (ii) no esta necesariamente en contacto con el sustrato, es decir que pueden estar dispuestos uno o varios revestimientos intermedios entre el sustrato y el revestimiento en cuestion, y (iii) no recubre necesariamente el sustrato completamente. Cuando “una capa 1 esta localizada en una capa 2”, se comprendera que la capa 2 esta mas alejada del sustrato que la capa 1.

El artfculo optico preparado segun la invencion comprende un sustrato, preferentemente transparente, que tiene unas caras principales delantera y trasera, comprendiendo una al menos de dichas caras principales un revestimiento antirreflectante antiestatico, preferentemente las dos caras principales.

Por cara trasera (generalmente concava) del sustrato, se entiende la cara que, durante la utilizacion del artfculo, es la mas proxima al ojo del portador. A la inversa, por cara delantera (generalmente convexa) del sustrato, se entiende la cara que, durante la utilizacion del artfculo, es la mas alejada al ojo del portador.

Aunque el artfculo segun la invencion puede ser un artfculo optico cualquiera, tal como una pantalla o un espejo, es preferentemente una lente optica, mejor una lente oftalmica, para gafas, o un pieza bruta de lente optica u oftalmica. La lente puede ser una lente polarizada, tenida o una lente fotocromica. Preferiblemente, la lente oftalmica segun la invencion presenta una transmision elevada.

El revestimiento antirreflectante segun la invencion puede estar formado sobre al menos una de las caras principales de un sustrato desnudo, es decir no revestido, o sobre al menos una de las caras principales de un sustrato ya revestido de uno o varios revestimientos funcionales.

El sustrato del artfculo optico segun la invencion es necesariamente un cristal organico, por ejemplo de material plastico termoplastico o termoendurecible.

Debe presentar un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, preferentemente superior o igual al 0,7%, midiendose el porcentaje de recogida de agua despues del

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secado previo de dicho sustrato y despues del almacenamiento de este sustrato durante 800 horas en un recinto a 50°C bajo una humedad relativa del 100% y a presion atmosferica. Los inventores han constatado, en efecto, que los sustratos que presentan un porcentaje de recogida de agua inferior al 0,6% en masa en las condiciones de ensayo anteriores no daban lugar a la aparicion de defectos cosmeticos.

La determinacion del porcentaje de recogida de agua de un sustrato utiliza unos procedimientos clasicos, bien conocidos por el experto en la materia, y que no presentan ninguna dificultad de realizacion. Se describen en detalle en la parte experimental.

El sustrato del artfculo optico de la invencion se puede seleccionar entre las familias de materiales siguientes, con la condicion que verifiquen la caractenstica del porcentaje de recogida de agua indicada anteriormente: los (co)polfmeros (met)acnlicos, en particular el poli(metacrilato de metilo)(PMMA), los (co)polfmeros tio(met)acnlicos, el polivinilbutiral (PVB), los poliuretanos (PU), los poli(tiouretanos), los (co)polfmeros de alilcarbonatos de polioles, los copolfmeros termoplasticos etileno/acetato de vinilo, los poliesteres tales como el poli(tereftalato de etileno) (PET) o el poli(tereftalato de butileno) (PBT), los poliepoxidos, los copolfmeros policarbonatos/poliesteres, los copoUmeros de ciclo-olefinas tales como los copolfmeros etileno/norborneno o etileno/ciclopentadieno y sus combinaciones. Por supuesto, los sustratos se pueden obtener por polimerizacion de mezclas de monomeros, o tambien pueden comprender unas mezclas de estos polfmeros y copolfmeros.

Las clases de sustratos particularmente preferidas son los poli(tiouretanos), los poliepisulfuros y las resinas resultantes de la polimerizacion o copolimerizacion de bis alilcarbonatos de alquilenglicoles, con la condicion de que presenten un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6%.

Unos ejemplos de sustratos que son convenientes para la invencion son los sustratos obtenidos a partir de las resinas de MR6®, MR7® y MR8® (resinas de poliouretanos termoendurecibles). Los diferentes sustratos a base de resinas de poliouretano estan comercializados por Mitsui Toatsu Chemicals, y estos sustratos asf como los monomeros que sirven para su preparacion, se describen en particular en las patentes US 4,689,387, US 4,775,733, US 5,059,673, US 5,087,758 y US 5,191,055.

Son tambien adecuados los sustratos obtenidos por (co)polimerizacion del bis alilcarbonato de dietilenglicol (lentes ORMA® ESSILOR). El monomero de base para su smtesis se vende, por ejemplo, bajo la denominacion comercial CR-39® por la companfa PPGIndustries.

Unos ejemplos de sustratos que no son convenientes para la invencion, ya que presentan un porcentaje de recogida de agua muy inferior al 0,6%, son los sustratos minerales (cristales a base de sflice), el sustrato 1,74®, que es a base de una resina poliepisulfuro, y los sustratos de resina de homopolicarbonato de bisfenol-A, comercializados en particular por TEIJIN bajo la marca PANLITE®, por GENERAL ELECTRIC COMPANY bajo la marca de LEXAN®, por BAYER bajo la marca de BAYBLEND®, por MOBAY CHEMICHAL Corp.bajo la marca de MAKROLON® y por DOW CHEMICAL Co. bajo la marca de CALIBRE®.

Antes del deposito del revestimiento antirreflectante sobre el sustrato eventualmente revestido, por ejemplo con un revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras, es habitual someter la superficie de dicho sustrato, eventualmente revestido, a un tratamiento de activacion ffsica o qrnmica, destinado a aumentar la adhesion del revestimiento antirreflectante. Este pre-tratamiento se lleva a cabo generalmente al vado. Puede tratarse de un bombardeo con unas especies energeticas y/o reactivas, por ejemplo un haz de iones (Ion Pre-Cleaning” o “IPC”) o un haz de electrones, de un tratamiento por descarga en corona, por espalacion, por un tratamiento UV, o por un tratamiento por plasma al vado, generalmente un plasma de oxfgeno o de argon. Puede tambien tratarse de un tratamiento de superficie acida o basica y/o por disolventes (agua o disolvente organico). Varios de estos tratamientos se pueden combinar. Gracias a estos tratamientos de limpieza, se optimizan la limpieza y la reactividad de la superficie del sustrato.

Por especies energeticas (y/o reactivas), se entienden en particular unas especies ionicas que tiene una energfa que va de 1 a 300 eV, preferiblemente de 1 a 150 eV, mejor de 10 a 150 eV, y mejor aun de 40 a 150 eV. Las especies energeticas pueden ser unas especies qrnmicas tales como unos iones, unos radicales, o unas especies tales como fotones o electrones.

El pretratamiento preferido de la superficie del sustrato es un tratamiento por bombardeo ionico, efectuado mediante un canon de iones, siendo los iones unas partfculas constituidas de atomos de gas de los cuales se ha extrafdo uno o varios electrones. Se utiliza preferentemente como gas ionizado el argon (iones Ar+), pero tambien el oxfgeno, o sus mezclas, en una tension de aceleracion que va generalmente de 50 a 200 V, una densidad de corriente generalmente comprendida entre 10 y 100 |oA/cm2 sobre la superficie activada, y generalmente bajo una presion residual en el recinto al vado que puede variar de 8.10-5 mbares a 2.10-4 mbares.

El artfculo optico segun la invencion comprende un revestimiento antirreflectante (o reflectante), formado preferentemente en un revestimiento anti-abrasion.

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A excepcion de la o las capas a base de oxido de estano que comprende, el revestimiento antirreflectante o reflectante puede ser cualquier revestimiento antirreflectante o reflectante clasicamente utilizado en el campo de la optica, en particular de la optica oftalmica.

Un revestimiento antirreflectante se define como un revestimiento depositado en la superficie de un artmulo optico que mejora las propiedades anti-reflectantes del artmulo optico final. Permite reducir la reflexion de la luz en la interfase artmulo-aire sobre una porcion relativamente amplia del espectro visible.

Un revestimiento reflectante realiza el efecto inverso, es decir que aumenta la reflexion de los rayos luminosos. Tal tipo de revestimiento se utiliza, por ejemplo, para obtener un efecto de espejo en lentes solares. Los revestimientos anti-reflectantes o reflectantes pueden tambien poseer una o varias capas absorbentes en el espectro de lo visible, lo que conduce a unos artmulos opticos utilizables para gafas solares.

Como tambien es bien conocido, los revestimientos antirreflectantes comprenden clasicamente un apilado monocapa o multicapas de materiales dielectricos. Son preferentemente unos revestimientos multicapas, que comprenden unas capas de alto mdice de refraccion (HI) y unas capas de bajo mdice de refraccion (BI).

Los revestimientos reflectantes estan constituidos de capas de la misma naturaleza que los revestimientos antirreflectantes, pero los indices de refraccion, el numero y el grosor de las capas se seleccionan de manera que el revestimiento presente un efecto reflectante, lo que es bien conocido por el experto en la tecnica.

En la presente solicitud, una capa del revestimiento antirreflectante se denomina capa de alto mdice de refraccion cuando su mdice de refraccion es superior a 1,55, preferentemente superior o igual a 1,6, mejor superior o igual a 1,8, y aun mejor superior o igual a 2,0. Una capa de un revestimiento antirreflectante se denomina capa de bajo mdice de refraccion cuando su mdice de refraccion es inferior o igual a 1,55, preferentemente inferior o igual a 1,50, mejor inferior o igual a 1,45. Salvo que se indique lo contrario, los indices de refraccion a los que se hace referencia en la presente invencion se expresan a 25°C, para una longitud de onda de 550 nm.

Las capas HI son unas capas de alto mdice de refraccion clasicas, bien conocidas en la tecnica. Comprenden generalmente uno o varios oxidos minerales tales como, sin limitacion, la zirconia (ZrO2), el dioxido de titanio (TO2), el pentoxido de tantalo (Ta2Os), el oxido de neodimio (M2O5), el oxido de praseodimio (Pr2O3), el titanato de praseodimio (PrTiO3), La2O3, Dy2O5, Nb2O5, Y2O3. Segun un modo de realizacion de la invencion, una capa a base de SnO2 conforme a la invencion constituye una capa HI del revestimiento antirreflectante. Los materiales preferidos son TO2, PrTiO3, ZrO2, SnO2 y sus mezclas.

Segun un modo de realizacion particular de la invencion, al menos una capa HI del revestimiento antirreflectante es una capa a base de TiO2, cuyo mdice de refraccion elevado es particularmente interesante. Se deposita preferentemente bajo asistencia ionica (IAD), lo que aumenta la compresion de esta capa y por lo tanto su mdice de refraccion.

Segun otro modo de realizacion particular de la invencion, al menos una capa HI del revestimiento antirreflectante es una capa a base de PrTiO3, cuya resistencia termica elevada es particularmente interesante.

Las capas BI son tambien bien conocidas y pueden comprender, sin limitacion, SO2, MgF2, ZrF4, alumina (A^O3), en baja proporcion, AF3, chiolita (Na3AhF14]), criolita (Na3[AlF6]), y sus mezclas, preferentemente SO2 o SO2 dopado con alumina, lo cual contribuye a aumentar la resistencia termica del revestimiento antirreflectante. Se pueden utilizar tambien unas capas SiOF (SO2 dopado con fluor).

Cuando se utiliza una capa BI que comprende una mezcla de SO2 y de AhO3, esta comprende preferiblemente del 1 al 10%, mejor del 1 al 8% y aun mejor del 1 al 5% en masa de A^O3 con respecto a la masa total de SO2 + A^O3 en esta capa. Una proporcion muy importante de alumina puede ser desfavorable para la adhesion del revestimiento AR y aumentana demasiado el mdice de refraccion de esta capa. Segun un modo de realizacion preferido, al menos una capa BI del revestimiento antirreflectante comprende una mezcla de SiO2 y de A^O3, preferentemente consiste en una mezcla de SO2 y de A^O3.

Un modo de realizacion preferido de la invencion consiste en utilizar una o varias capas BI que comprenden una mezcla de SiO2 y de A^O3 en los revestimientos antirreflectantes segun la invencion, que permiten obtener unos revestimientos antirreflectantes al mismo tiempo antiestaticos y que poseen una temperatura cntica mejorada, es decir, que presentan una buena resistencia a la rotura cuando se someten a una elevacion de temperatura.

Los inventores han constatado que, en los apilados de la invencion, la presencia de una o varias capas BI que comprenden una mezcla de SiO2 y de A^O3 podfa contribuir e incluso reforzar muy significativamente la presencia de defectos cosmeticos. Los inventores han encontrado que convema preferiblemente depositar estas capas mixtas SiO2/Al2O3 introduciendo en el recinto de deposito, durante el deposito de estas, un gas, preferiblemente un gas raro como el argon, el xenon, el kripton, el neon o bien oxfgeno o una mezcla de dos o mas de estos gases.

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As^ la invencion proporciona un revestimiento antirreflectante preferido, que comprende al menos una capa electroconductora que comprende al menos un 30% en masa de SnO2 y al menos una capa de bajo mdice de refraccion SiO2/Al2O3 depositada con aporte de gas en el recinto al vado durante dicho deposito.

Este aporte de gas permite regular la presion en el recinto de deposito durante el deposito de la capa de SiO2/Al2O3. El intervalo de presion recomendado en el recinto durante el aporte del o de los gases vana generalmente de 5.10-5 a 3.10-4 mbares, preferiblemente 1.10-4 a 3.10-4 mbares y mejor 1,5.10-4 a 3.10-4 mbares.

Este aporte de gas es diferente a un tratamiento de bombardeo ionico, tal como una asistencia ionica (IAD), y se distingue tambien de una etapa de evaporacion de materiales tales como SO2 y AhO3.

Generalmente, las capas HI tienen un grosor ffsico que vana de 10 a 120 nm, y las capas BI tienen un grosor ffsico que vana de 10 a 100 nm.

Preferiblemente, el grosor total del revestimiento antirreflectante es inferior a 1 micrometro, mejor inferior o igual a 800 nm y mejor aun inferior o igual a 500 nm. El grosor total del revestimiento antirreflectante es generalmente superior a 100 nm, preferentemente superior a 150 nm.

Mas preferentemente, el revestimiento antirreflectante comprende al menos dos capas de bajo mdice de refraccion (BI) y al menos dos capas de alto mdice de refraccion (HI). Preferiblemente, el numero total de capas del revestimiento antirreflectante es inferior o igual a 8, mejor inferior o igual a 6.

No es necesario que las capas HI y BI esten alternas en el revestimiento antirreflectante, aunque pueden estarlo segun un modo de realizacion de la invencion. Dos capas HI (o mas) pueden estar depositadas la una sobre la otra, asf como dos capas BI (o mas) pueden estar depositadas la una sobre la otra.

Segun un modo de realizacion de la invencion, el revestimiento antirreflectante comprende una sub-capa. Constituye en este caso generalmente la primera capa de este revestimiento antirreflectante en el orden de deposito de las capas, es decir la capa del revestimiento antirreflectante que estan al contacto con el revestimiento sub-yacente (que es generalmente el revestimiento anti-abrasion y anti-rayaduras) o del sustrato, cuando el revestimiento anti- reflectante se deposita directamente sobre el sustrato, salvo en el caso particular en el que una capa a base de oxido de estano segun la invencion constituya la primera capa del revestimiento antirreflectante.

Por sub-capa del revestimiento antirreflectante (o reflectante), o capa de adhesion, se entiende un revestimiento de grosor relativamente importante, utilizado con el objetivo de mejorar la resistencia a la abrasion y/o a las rayaduras de dicho revestimiento y/o promover su adhesion al sustrato o al revestimiento sub-yacente.

Teniendo en cuenta su grosor relativamente importante, la sub-capa no participa generalmente en la actividad optica anti-reflectante (o reflectante), en particular en el caso en el que posee un mdice de refraccion proximo al del sustrato desnudo, si la sub-capa esta depositada sobre el sustrato desnudo, o del revestimiento si la sub-capa esta depositada sobre un sustrato revestido. En el resto de la descripcion, se distinguira la sub-capa de las capas del revestimiento antirreflectante depositadas sobre esta sub-capa, calificando estas ultimas de capas opticas, en oposicion a la sub-capa que no constituye una capa que tiene un efecto optico.

La sub-capa debe tener un grosor suficiente para promover la resistencia a la abrasion del revestimiento antirreflectante, pero preferentemente no demasiado elevado para no provocar una absorcion luminosa que, segun la naturaleza de la sub-capa, podna reducir significativamente el factor relativo de transmision v

La sub-capa comprende preferiblemente una capa a base de SiO2, de grosor preferiblemente superior o igual a 75 nm, mas preferiblemente superior o igual a 80 nm, mejor superior o igual a 100 nm, y aun mejor superior o igual a 150 nm. Su grosor es generalmente inferior a 250 nm, mejor inferior a 200 nm. Segun un modo de realizacion particular, la sub-capa consiste en una capa de SiO2.

Dicha capa a base de SiO2 puede comprender, ademas de sflice, uno o varios otros materiales convencionalmente utilizados para la fabricacion de sub-capas, por ejemplo uno o varios materiales seleccionados entre los materiales dielectricos descritos anteriormente en la presente descripcion.

Se prefiere utilizar una sub-capa de tipo monocapa. Sin embargo, la sub-capa puede ser laminada (multicapas). Las sub-capas utilizables en el ambito de la presente invencion se describen mas en detalle en las solicitudes WO 2008/107325 y WO 2009/004222, incorporadas aqrn como referencia.

Las diferentes capas del revestimiento antirreflectante (al cual pertenece la capa antiestatica) se depositan preferiblemente por deposito al vado segun una de las tecnicas siguientes: i) por evaporacion, eventualmente asistida por haz ionico; ii) por pulverizacion por haz de ion; iii) por pulverizacion catodica; iv) por deposito qmmico en fase vapor asistido por plasma. Estas diferentes tecnicas se describen en los documentos "Thin Film Processes" y

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"Thin Film Processes II," Vossen & Kern, Ed., Academic Press, 1978 y 1991 respectivamente. Una tecnica particularmente recomendada es la tecnica de evaporacion al vado.

Preferentemente, el deposito de cada una de las capas del revestimiento antirreflectante se realiza por evaporacion al vado.

Es posible realizar una etapa de tratamiento con unas especies energeticas tales como se han definido anteriormente, de manera concomitante al deposito de una o varias de las diferentes capas del revestimiento antirreflectante.

La tecnica del deposito bajo asistencia ionica o “IAD” (por Ion Assisted Deposition) se describe en particular en la solicitud de patente US 2006/017011 y en la patente US 5,268,781. No necesita calentamiento de los sustratos, lo que es interesante para el revestimiento de sustratos termosensibles tales como unos sustratos de cristal organico.

La evaporacion bajo asistencia ionica, consiste en depositar una peffcula de un material sobre un sustrato por evaporacion al vado bombardeando simultaneamente la superficie del sustrato con un haz de iones emitidos por un canon de iones, siendo los iones unas parffculas constituidas de atomos de gas de las cuales se ha extrafdo uno o varios electrones. El bombardeo ionico provoca una reorganizacion atomica en la capa durante su deposito, lo que permite tasarla mientras se esta formando. Ademas de una densificacion, la IAD permite mejorar la adherencia de las capas depositadas y aumentar su mdice de refraccion.

Consiste preferiblemente en un bombardeo de la superficie a tratar por unos iones oxfgeno, de una densidad de corriente generalmente comprendida entre 10 y 200 |oA/cm2, preferentemente entre 30 y 100 |oA/cm2 sobre la superficie activada y generalmente bajo una presion residual en el recinto al vado que puede variar de 6.10-5 mbares a 2.10-4 mbares, preferiblemente de 8.10-5 mbares a 2.10-4 mbares. Se pueden emplear otros gases ionizados en combinacion o no con el oxfgeno, como por ejemplo el argon, el nitrogeno, en particular una mezcla de O2 y de argon en una relacion volumica 2:1 a 1:2.

De manera opcional, se pueden realizar unos tratamientos de activacion ffsica o qmmica sobre la superficie de una o varias capas del revestimiento antirreflectante antes del deposito de la capa ulterior, en particular sobre la superficie de la penultima capa de este revestimiento y/o sobre la superficie de la sub-capa, cuando esta presente.

El tratamiento de activacion ffsica o qmmica se puede seleccionar entre los pre-tratamientos a los que el sustrato puede ser sometido y que ya han sido presentados anteriormente. El pretratamiento preferido es un bombardeo ionico. Habitualmente llevado a cabo al vado, utilizando por ejemplo un haz de iones argon generado con la ayuda de un canon de iones, permite generalmente por un lado mejorar las propiedades de resistencia a la abrasion del revestimiento antirreflectante, y por otro lado aumentar sus propiedades de adhesion.

Los revestimientos antirreflectantes utilizables y sus modos de preparacion se describen de manera mas detallada en la solicitud WO 2009/004222, que se incorpora aqm como referencia.

El artmulo de la invencion se vuelve antiestatico gracias a la incorporacion, en el revestimiento antirreflectante, de al menos una capa electricamente conductora que comprende al menos un 30%, preferentemente al menos un 40% y mejor al menos un 50% en masa de oxido de estano (SnO2) con respecto a la masa total de la capa electricamente conductora. Esta capa se denomina habitualmente en la presente solicitud “capa a base de oxido de estano”.

Preferentemente, la proporcion masica de oxido de estano en dicha capa electricamente conductora es superior o igual a uno de los valores siguientes: 70%, 75%, 80%, 90%, 95%, 97%, 99%, 99,5%, 99,9%, 99,95%. Idealmente, dicha capa electricamente conductora consiste en una capa de SnO2.

Dicha capa a base de oxido de estano segun la invencion puede contener otros constituyentes, en particular unos oxidos metalicos, en particular unos oxidos metalicos electricamente conductores, que son preferentemente altamente transparentes. Puede en particular comprender oxido de titanio y/u oxido de zinc.

Preferentemente, la capa electricamente conductora de la invencion no contiene indio, sea cual sea su forma, por ejemplo indio metalico o de oxido de indio.

La capa electricamente conductora puede estar localizada en diferentes sitios del revestimiento antirreflectante, siempre que sus propiedades anti-reflectantes no sean perturbadas. Puede por ejemplo ser depositada sobre la sub-capa (cuando esta presente), es decir ser intercalada entre la sub-capa y las otras capas del revestimiento antirreflectante. Puede tambien ser depositada sobre la sub-capa (cuando esta presente), es decir ser intercalada entre la sub capa y el sustrato eventualmente revestido de revestimientos funcionales. Mas generalmente, puede constituir la primera capa del revestimiento antirreflectante (en el orden de deposito), es decir ser directamente depositada sobre el sustrato eventualmente revestido de revestimientos funcionales. Esta localizada preferentemente entre dos capas dielectricas opticas del revestimiento antirreflectante y/o debajo de una capa optica de bajo mdice de refraccion del revestimiento antirreflectante. En el modo de realizacion optimo de la invencion, la

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capa a base de SnO2 constituye la penultima capa del revestimiento antirreflectante en el orden de apilado, siendo la ultima capa de dicho revestimiento antirreflectante preferentemente una capa BI.

Segun un modo de realizacion particular de la invencion, dicha capa a base de SnO2 no constituye la ultima capa (capa externa) del revestimiento antirreflectante. Segun otro modo de realizacion particular de la invencion, dicha capa a base de SnO2 no constituye la primera capa del revestimiento antirreflectante.

La capa electricamente conductora debe ser suficientemente delgada para no alterar la transparencia del revestimiento antirreflectante. Generalmente, su grosor vana de 0,1 a 150 nm, mejor de 0,1 a 50 nm. Un grosor inferior a 0,1 nm no permite generalmente obtener una conductividad electrica suficiente, mientras que un grosor superior a 150 nm no permite generalmente obtener las caractensticas de transparencia y de baja absorcion requeridas. Su grosor vana preferentemente de 0,1 a 30 nm, mejor de 1 a 20 nm y aun mejor de 1 a 15 nm. Segun un modo de realizacion de la invencion, el grosor de dicha capa electricamente conductora es superior o igual a 6 nm. Todos los grosores indicados en la presente solicitud son unos grosores ffsicos.

Generalmente, la capa electricamente conductora a base de SnO2 contribuye a la obtencion de propiedades antirreflectantes, particularmente cuando no esta localizada por debajo de una eventual sub-capa, y constituye una capa de alto mdice de refraccion en el revestimiento antirreflectante (mdice de refraccion del orden de 2).

Segun una caractenstica esencial de la invencion, el deposito de dicha capa electricamente conductora se realiza bajo la asistencia ionica, tecnica que se ha descrito anteriormente a fin de reducir la absorcion en lo visible de la capa a base de SnO2 y obtener una buena adhesion.

Los inventores han constatado que era posible aumentar la fuerza del bombardeo ionico durante el deposito de una capa conductora que contiene un contenido suficiente en SnO2 sin aumentar de manera significativa la frecuencia de los defectos cosmeticos que aparecen ulteriormente, mientras que por el contrario tal aumento de la fuerza del bombardeo ionico genera generalmente un incremento importante de los defectos cosmeticos para las capas sometidas a tal bombardeo, en particular de las capas conductoras a base de oxidos metalicos conductores. De manera particularmente ventajosa, el revestimiento antirreflectante comprende ademas al menos una, preferentemente una sola, capa electricamente conductora que confiere propiedades antiestaticas al artmulo, al menos cuatro capas dielectricas, preferentemente cuatro o cinco.

Segun un modo de realizacion preferido, el revestimiento antirreflectante de la invencion comprende, en el orden de deposito sobre la superficie del sustrato eventualmente revestido, una capa de ZrO2, generalmente de 10 a 40 nm de grosor y preferiblemente de 15 a 35 nm, una capa de SiO2 o de SiO2/Al2O3, generalmente de 10 a 40 nm de grosor y

preferiblemente de 15 a 35 nm, una capa de ZrO2 o de TiO2, generalmente de 40 a 150 nm de grosor,

preferiblemente de 50 a 120 nm, una capa a base de SnO2 segun la invencion, preferentemente una capa de SnO2, generalmente de 4 a 25 nm de grosor y preferiblemente de 5 a 20 nm, y una capa de SiO2 o de SiO2/Al2O3,

generalmente de 40 a 150 nm de grosor, preferiblemente de 50 a 100 nm.

El revestimiento antirreflectante se puede depositar directamente sobre un sustrato desnudo. En algunas aplicaciones, es preferible que la superficie principal del sustrato este revestida de uno o varios revestimientos funcionales previamente al deposito del revestimiento antirreflectante de la invencion. Estos revestimientos funcionales clasicamente utilizados en optica pueden ser, sin limitacion, una capa de imprimacion antichoque, un revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras, un revestimiento polarizado, un revestimiento fotocromico o un revestimiento tenido, en particular una capa de imprimacion antichoque revestida de una capa anti-abrasion y/o anti- rayaduras.

El revestimiento antirreflectante se deposita preferentemente en un revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras. El revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras puede ser cualquier capa clasicamente utilizada como revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras en el campo de las lentes oftalmicas.

Los revestimientos resistentes a la abrasion y/o a las rayaduras son preferentemente unos revestimientos duros a base de poli(met)acrilatos o de silanos que comprenden generalmente una o varias cargas minerales destinadas a aumentar la dureza y/o el mdice de refraccion del revestimiento una vez endurecido. Por (met)arilato, se entiende un acrilato o un metacrilato.

Los revestimientos duros anti-abrasion y/o anti-rayaduras se elaboran preferentemente a partir de composiciones que comprenden al menos un alcoxisilano y/o un hidrolizado de este, obtenido por ejemplo por hidrolisis con una solucion de acido clorhudrico, y opcionalmente unos catalizadores de condensacion y/o de endurecimiento y/o unos tensioactivos.

Entre los revestimientos recomendados en la presente invencion, se pueden citar los revestimientos a base de hidrolizados de epoxisilanos tales como los descritos en las patentes EP 0614957, US 4,211,823 y US 5,015,523.

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Numerosos ejemplos de catalizadores de condensacion y/o de endurecimiento utilizables son dados en los documented "Chemistry and Technology of the Epoxy Resins", B. Ellis (Ed.) Chapman Hall, New York, 1993 y "Epoxy Resins Chemistry and Technology" 2a edicion, C. A. May (Ed.), Marcel Dekker, New York, 1988.

Una composicion para revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras preferida es la divulgada en la patente EP 0614957, a nombre del depositante. Se describe en la parte experimental.

La composicion de revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras se puede depositar sobre la superficie principal del sustrato por inmersion o centrifugacion. Despues, se endurece por la via apropiada (preferentemente termica, o UV).

El grosor del revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras vana generalmente de 2 a 10 |im, preferiblemente de 3 a 5 |im.

Previamente al deposito del revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras, es posible depositar sobre el sustrato un revestimiento de imprimacion que mejora la resistencia al choque y/o la adhesion de las capas ulteriores en el producto final.

Este revestimiento puede ser cualquier capa de imprimacion antichoque clasicamente utilizada para los artteulos de material polimerico transparente, tales como las lentes oftalmicas.

Entre las composiciones de imprimacion preferidas, se pueden citar las composiciones a base de poliuretanos termoplasticos, tales como las descritas en las patentes JP 63-141001 y Jp 63-87223, las composiciones de imprimacion poli(met)acnlicas, tales como las descritas en la patente US 5,015,523, las composiciones a base de poliuretanos termoendurecibles, tales como las descritas en la patente EP 0404111 y las composiciones a base de latex poli(met)acnlicos o de latex de tipo poliuretano, tales como las descritas en las patentes US 5,316,791 y EP 0680492.

Las composiciones de imprimacion preferidas son las composiciones a base de poliuretanos y las composiciones a base de latex, en particular los latex de poliuretano y poli(met)acnlicos, y sus mezclas.

Los latex poli(met)acnlicos son unos latex de copolfmeros constituidos principalmente por un (met)acrilato, tal como, por ejemplo, el (met)acrilato de etilo, de butilo, de metoxietilo o de etoxietilo, con una proporcion generalmente menor de al menos otro co-monomero, tal como, por ejemplo, estireno.

Entre las composiciones de imprimacion comerciales que son convenientes para la invencion, se pueden citar las

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composiciones Witcobond® 232, Witcobond® 234, Witcobond® 240, Witcobond® 242 (comercializadas por BAXENDEN CHEMICALS), Neorez® R-962, Neorez® R-972, Neorez® R-986 y Neorez® R-9603 (comercializadas por ZENECA RESINS).

Estas composiciones de imprimacion pueden ser depositadas sobre las superficies del artteulo por inmersion o centrifugacion, despues secadas a una temperatura de por lo menos 70°C y que puede ir hasta 100°C, preferentemente del orden de 90°C, durante un tiempo de 2 minutos a 2 horas, generalmente del orden de 15 minutos, para formar unas capas de imprimacion que tiene unos grosores, despues de la coccion, de 0,2 a 2,5 |im, preferentemente de 0,5 a 1,5 |im.

El artteulo optico segun la invencion puede tambien comprender unos revestimientos formados sobre el revestimiento antirreflectante y capaces de modificar sus propiedades de superficie, tales como unos revestimientos hidrofobos y/o oleofobos (top coat anti-suciedades). Estos revestimientos se depositan preferentemente en la capa externa del revestimiento antirreflectante. Su grosor es generalmente inferior o igual a 10 nm, preferentemente de 1 a 10 nm, mejor de 1 a 5 nm.

Se trata generalmente de revestimientos de tipo fluorosilano o gluorosilazano. Pueden ser obtenidos por deposito de un fluorosilano o fluorosilazano precursor, que comprende preferentemente al menos dos grupos hidrolizables por molecula. Los fluorosilanos precursores contienen preferiblemente unos grupos fluoropolieteres y mejor unos grupos perfluoropolieteres. Estos fluorosilanos son bien conocidos y estan descritos, entre otras, en las patentes US 5,081,192, US 5,763,061, US 6,183, 872, US 5,739, 639, US 5,922,787, US 6,337,235, US 6,277,485 y EP 0933377.

Una composicion de revestimiento hidrofobo y/o oleofobo preferida esta comercializada por Shin-Etsu Chemical bajo la denominacion de KP 801M®. Otra composicion de revestimiento hidrofobo y/o oleofobo preferida esta comercializada por Daikin Industries bajo la denominacion OPTOOL DSX®. Se trata de una resina fluorada que comprende unos grupos perfluoropropileno.

Tfpicamente, un artteulo optico segun la invencion comprende un sustrato sucesivamente revestido de una capa de imprimacion antichoque, de un revestimiento anti-abrasion y/o anti-rayaduras, de un revestimiento antirreflectante (o reflectante) y antiestatico segun la invencion y de un revestimiento hidrofobo y/o oleofobo.

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La utilizacion de una capa a base de oxido de estano en un revestimiento antirreflectante presenta varias ventajas con respecto a unos artfculos opticos con propiedades antirreflectantes que comprenden una capa antiestatica a base de materiales tales como el ITO, el oxido de indio o el oxido de zinc. Efectivamente, las capas de ITO, de oxido de indio (In2O3), de oxido de zinc o de oxido de zinc dopado conducen todas a la aparicion de defectos cosmeticos cuando estan comprendidas en un revestimiento antirreflectante depositado sobre un sustrato conforme a la invencion, es decir que posee un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa, lo que no es el caso de una capa a base de SnO2 segun la invencion.

Ademas, una capa antiestatica a base de ITO presenta el inconveniente de absorber en el campo de lo visible de manera mas importante que una capa de SnO2 de mismo grosor, siendo su nivel de amarillo mas elevado. Este defecto es claramente visible para unos grosores de capas relativamente poco elevados, una capa de ITO aparece generalmente amarilla a grosores del orden de 13 nm, a pesar de un deposito bajo asistencia ionica, siendo el sustrato mirado visualmente por su canto, mientras que una capa de SnO2 de 50 nm de grosor es todavfa transparente.

La sustitucion de una capa de ITO clasica, que contiene tipicamente del orden del 5% de SnO2 por una capa de SnO2, material electricamente conductor altamente transparente, conduce a propiedades antiestaticas equivalentes y a la preservacion de las propiedades opticas, en particular la transparencia de los artfculos opticos.

Por otro lado, el procedimiento segun la invencion que utiliza el oxido de estano es mas facil de controlar que el procedimiento correspondiente que utiliza ITO, mejorando asf la productividad.

Las diferentes capas de revestimiento antirreflectante de la invencion presentan buenas propiedades de adhesion, en particular en la interfase con el sustrato. Las propiedades de adhesion del conjunto del revestimiento antirreflectante al sustrato se han verificado mediante el ensayo comunmente denominado “nx10 golpes”, siguiendo el procedimiento descrito en la solicitud internacional WO 99/49097.

Preferentemente, el artfculo optico segun la invencion no absorbe en lo visible o absorbe poco en lo visible, lo que significa, en el sentido de la presente solicitud, que su factor de transmision en lo visible tv, tambien denominado factor relativo de transmision en lo visible, es superior al 90%, mejor superior al 95%, mejor aun superior al 96% y de manera optima superior al 97%.

El factor iv responde a una definicion internacional normalizada (norma ISO 13666:1998) y se mide conforme a la norma ISO 8980-3. Se define en el intervalo de longitud de onda que va de 380 a 780 nm.

Preferentemente, la absorcion luminosa del artfculo revestido segun la invencion es inferior o igual al 1%.

Mas preferentemente, el factor medio de reflexion en el campo de lo visible (400-700 nm) de un artfculo revestido con un revestimiento antirreflectante segun la invencion, marcado con Rm, es inferior al 2,5% por cara, mejor inferior al 2% por cara y mejor aun inferior al 1% por cara del artfculo. En un modo de realizacion optimo, el artfculo comprende un sustrato cuyas dos superficies principales estan revestidas con un revestimiento antirreflectante segun la invencion y presenta un valor de Rm total (cumulo de reflexion debido a las dos caras) inferior al 1%, preferentemente comprendido entre el 0,7 y el 0,8%. Los medios para conseguir tales valores de Rm son bien conocidos por el experto en la materia.

El factor de reflexion luminoso Rv de un revestimiento antirreflectante segun la invencion es inferior al 2,5% por cara, preferentemente inferior al 2% por cara, mejor inferior al 1% por cara del artfculo, mejor < 0,75%, mejor aun < 0,5% y de manera optima < 0,4%.

En la presente solicitud, el “factor medio de reflexion” Rm (media de la reflexion espectral sobre el conjunto del espectro visible entre 400 y 700 nm) y el factor de reflexion luminoso Rv, son tales como se definen en la norma ISO 13666:1998, y medidos conforme a la norma ISO 8980-4.

Los artfculos opticos segun la invencion poseen un tiempo de descarga (o tiempo de disipacion de una carga estatica) < 500 milisegundos. Los artfculos opticos segun la invencion permiten incluso alcanzar unos tiempos de descarga < 200 milisegundos y mejor < 100, mejor aun < 75 milisegundos. Ventajosamente, sus propiedades antiestaticas son estables en el tiempo, lo que significa que las caractensticas relativas al tiempo de descarga enunciadas anteriormente son tambien verificadas al menos 6 meses despues de la fabricacion de los artfculos opticos.

Los ejemplos siguientes ilustran la invencion de manera mas detallada pero no limitativa.

Ejemplos

1. Procedimientos generales

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Los artfculos opticos empleados en los ejemplos comprenden un sustrato de lente ORMA® ESSILOR de 65 mm de diametro, de potencia -2,00 dioptnas y de grosor 1,2 mm, revestido: i) con un revestimiento de imprimacion antichoque a base de un latex poliuretano que contiene unas unidades poliester, endurecido a 90°C durante 1 hora (Witcobond® 234 de BAXENDEN CHEMICALS, deposito centnfugo a 1500 rpm durante 10 a 15 segundos); ii) del revestimiento anti-abrasion y anti-rayaduras (hard coat) divulgado en el ejemplo 3 de la patente EP 0614957 (de mdice de refraccion igual a 1,50), a base de hidrolizado de epoxi trialcoxisilano (y-glicidoxipropiltrimetoxisilano, GLYMO) y de dialquil dialcoxisilano (dimetildietoxisilano, DMDES), de sflice coloidales y de acetilacetonato de aluminio; iii) de un revestimiento antirreflectante; y i) de un revestimiento anti-suciedades.

Dicho revestimiento anti-abrasion y anti-rayaduras se ha obtenido por deposito y endurecimiento de una composicion que comprende en masa 224 partes de GLYMO, 80,5 partes de HCl 0,1 N, 120 partes de DMDES, 718 partes de sflice coloidal con el 30% masico de metanol, 15 partes de acetilacetonado de aluminio (catalizador de endurecimiento) y 44 partes de etilcelosolve. La composicion comprende tambien un 0,1% de tensioactivo FLUORAD™ FC 430® de 3M en masa con respecto a la masa total de la composicion.

Las capas del revestimiento antirreflectante se han depositado sin calentamiento de los sustratos por evaporacion al vado, eventualmente, cuando se precisa, asistida por haz de iones oxigeno durante el deposito (fuente de evaporacion: canon de electrones).

El revestimiento anti-suciedades se ha obtenido por evaporacion al vacfo del compuesto Optool DSX® de la comparna Daikin Industries (grosor: 1-5 nm).

El armazon del deposito es una maquina BAK 760 Physimeca equipada de un canon de electrones (8 kV) para la evaporacion de los oxidos, de un crisol con efecto Joule para el deposito del top coat y de un canon de iones Commonwealth Mark II alimentado por una alimentacion de potencia Veeco para la fase preliminar de preparacion de la superficie del sustrato por unos iones argon (IPC), asf como para los depositos de capas bajo asistencia ionica (IAD).

Las capas antiestaticas se forman segun la invencion a partir de granulados de SnO2 proporcionados por Cerac (Referencia: T-1218, diametro: 3-12mm, item n°: H618828 pureza: 99,9%), y en los ejemplos comparativos a partir de granulados de ITO (porcentaje masico oxido de estano (5) - oxido de indio (95)) proporcionado por Optron Inc. Las otras capas del revestimiento antirreflectante se forman a partir de granulados de ZrO2 (Umicore) o SiO2 (Optron Inc.).

Como comparacion, se proporcionan tambien unos ensayos sobre unas monocapas de In2O3 Cerac 3-12 mm I-1071 item n°: H608830, de ZnO dopado con B2O3 Cerac 3-12 mm Z-2070 item n°H614757-1, de ZnO dopado con Al.

El grosor de las capas se ha controlado mediante una microbalanza de cuarzo.

Las mediciones de transmision de la luz a traves de los cristales se han efectuado utilizando un espectrofotometro de la comparna Zeiss una hora despues de la preparacion de los cristales. Se ha verificado que los valores de iv obtenidos eran estables efectuando una segunda medicion al final de una semana.

2. Modo de realizacion

El procedimiento de preparacion de los artfculos opticos comprende la introduccion del sustrato revestido con un revestimiento de imprimacion y del revestimiento anti-abrasion descrito anteriormente en un recinto de deposito al vacfo, una etapa de bombeo hasta la obtencion de un vacfo secundario, una etapa de activacion de la superficie del sustrato por un haz de iones argon (IPC: 1 minuto, 100 V, 1A), la parada de la irradiacion ionica, y el deposito por evaporacion:

- de una capa de ZrO2 con una velocidad de deposito de 0,3 nm/s,

- de una capa de SiO2 con una velocidad de 0,7 nm/s,

- de una capa de ZrO2 con una velocidad de 0,3 nm/s,

- de una capa electricamente conductora bajo asistencia de iones oxfgeno (1,2 A/100 V) con una velocidad de 0,15

nm/s (SnO2 o ITO para los ejemplos comparativos),

- de una capa de SiO2 con una velocidad de 1 nm/s,

- de una capa de revestimiento anti-suciedades (top coat) (Optool DSXTM de la comparna Daikin),

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y finalmente de una etapa de ventilacion.

Los grosores mencionados anteriormente en las velocidades de deposito son unos grosores ffsicos.

3. Caracterizaciones

a. Caracterizacion de la resistencia a la abrasion

La resistencia a la abrasion se ha evaluado por determinacion de los valores BAYER ASTM (Bayer sable) y Bayer ISTM (Bayer alumine) sobre los sustratos revestidos con el revestimiento antirreflectante segun los metodos descritos en la solicitud WO 2008/001011 (norma ASTM F 735.81). Cuando mas elevado sea el valor obtenido en el ensayo BAYER, mas elevada es la resistencia a la abrasion.

Asf, el valor de Bayer ASTM (Bayer sable) se califica de bueno cuando R es superior o igual a 3,4 e inferior a 4,5. El valor de Bayer ISTM se califica de bueno cuando R es superior o igual a 3 e inferior a 4,5. El valor de Bayer Sable o ISTM se califica de excelente para unos valores de 4,5 y mas.

b. Caracterizacion de la adhesion del revestimiento antirreflectante sobre el sustrato (ensayo nx10 conteos)

El ensayo cualitativo conocido bajo el nombre de ensayo “nx10 conteos” permite evaluar las propiedades de adhesion de una pelfcula depositada sobre un sustrato, en particular la adhesion de un revestimiento antirreflectante a un sustrato de lente oftalmica. Se ha realizado sobre la cara convexa de las lentes siguiendo el procedimiento descrito en la solicitud internacional WO 99/49097.

Una carga (o ciclo) consiste en 10 veces de ida y vuelta de la goma (eraser). El operario ha verificado visualmente el estado de la lente ensayada cada 3 cargas hasta 9 cargas. La apreciacion consiste en elevar el numero de cargas que puede soportar una lente antes de la aparicion de un defecto. En el ambito de la presente solicitud de patente, se considera que la lente pasa con exito el ensayo si la lente esta intacta despues de 9 cargas.

c) evaluacion del tiempo de descarga

Los tiempos de descarga de los artfculos opticos se han medido a temperatura ambiente (25°C) mediante un aparato de medicion de tiempo de descarga JCI 155 (John Chubb Instrumentation) siguiendo las especificaciones del constructor, despues de someter dichos artfculos opticos a una descarga de corona de -9000 voltios durante 30 ms.

Durante estos experimentos de medicion de la carga y de la descarga de la superficie de un cristal sometido a una descarga de corona, se han determinado los dos parametros siguientes: la tension maxima medida en la superficie del cristal, anotada Umax y el tiempo para alcanzar 1/e = 36,7% de la tension maxima, que corresponde al tiempo de descarga.

La potencia de los cristales utilizados debe ser rigurosamente la misma a fin de poder comparar el rendimiento de los diferentes cristales, ya que los valores medidos por el aparato dependen de la geometna de los cristales.

d) evaluacion de la presencia eventual de defectos cosmeticos Se trata de defectos opticos localizados.

Aunque estos defectos son visibles a simple vista, para los defectos mas pronunciados, por reflexion en angulo rasante, su observacion se facilita por la utilizacion de una lampara de arco.

La presencia eventual de defectos cosmeticos de los artfculos opticos (artfculo segun la invencion o comparativos) se evalua visualmente bajo lampara de arco (lampara de alta intensidad), despues del almacenamiento de los artfculos, inmediatamente despues de su preparacion (tiempo de referencia t), en un recinto “climatico” regulado a 40°C con 80% de humedad relativa a presion atmosferica y durante un tiempo determinado.

Estas condiciones de almacenamiento permiten hacer envejecer prematuramente los artfculos opticos y acelerar la aparicion eventual de defectos cosmeticos. Los defectos visibles con lampara de arco se presentan en forma de puntos o pequenos filamentos.

Por presion atmosferica, se entiende una presion de 1,01325 Bares.

e) caracterizacion de la recogida de agua de un sustrato

Este ensayo se realiza en un sustrato de artfculo optico desnudo y permite determinar cuales sustratos estan sujetos a la aparicion de defectos cosmeticos a lo largo del tiempo, una vez revestidos con un revestimiento antirreflectante que comprende una capa antiestatica clasica, es decir una capa que no comprende oxido de estano en las

5

10

15

20

25

30

35

40

45

50

55

proporciones segun la invencion. Los inventores han realizado este ensayo que da una buena correlacion entre el porcentaje de recogida de agua de un sustrato desnudo y su capacidad para dar lugar a la aparicion de defectos cosmeticos una vez que ha sufrido un tratamiento antirreflectante y antiestatico.

Antes de ser introducido en el recinto de almacenamiento para la determinacion de su porcentaje de recogida de agua, el sustrato desnudo se seca (deshidratado) en un horno o recinto a 45°C durante 48h bajo presion atmosferica, sin utilizar un medio de deshidratacion adicional. Durante esta deshidratacion, el porcentaje de humedad en el horno es proximo al 0%.

El sustrato se almacena despues durante 800 horas en un recinto a 50°C saturado de agua, es decir bajo una humedad relativa (HR) del 100%, y a presion atmosferica. El porcentaje de recogida de agua del sustrato desnudo se determina gracias a una balanza AT261 (Mettler Toledo), pesando el sustrato deshidratado y el sustrato aproximadamente 30 segundos despues de su salida del recinto de almacenamiento humedo, segun la ecuacion:

Masa del sustrato (t = 800 h) — masa inicial del sustrato deshidratado

Porcentaje de recogida en agua (%) =---------------------—-----. . . , , ,------------:——------:------------------------

Masa inicial del sustrato deshidratado

Se han ensayado diferentes sustratos de geometria identica (biplanos de 65 mm de diametro y de 2 mm de grosor). Se describen a continuacion y los resultados de los ensayos se presentan en la Tabla 1.

Los recintos utilizados eran todos los recintos HERAEUS Instruments D6450 HANAU de tipo UT 6060.

Tabla 1

Substrato

Porcentaje de recogida de agua (800 h, 50°C, Patm, 100% HR)

MR6®

1,7%

ORMA®

1,5%

MR8®

1,9%

MR7®

0,89%

Policarbonato (PC)

0,37%

1,74®

0,12%

Cristal mineral

< 0,6%

ffis ffis ffis

Los sustratos se obtienen a partir de las resinas MR6 , MR7 , MR8 comercializadas por Mitsui Toatsu Chemicals

ffis ffis ffis

Inc. MR6 , MR7 y MR8 son unas resinas tio-uretanos (que dan lugar a politiouretanos termoendurecibles). Los sustratos obtenidos a partir de MR6® tienen un mdice de refraccion de 1,59 y un numero de Abbe de 36. Los obtenidos a partir del MR7® tienen un mdice de refraccion de 1,66 y un numero de Abbe de 32. La resina 1,74® es una resina poliepisulfuro que tiene un mdice de refraccion de 1,74. El sustrato policarbonato utilizado es una resina de homopolicarbonato de bisfenol-A de mdice de refraccion de 1,59 comercializada por TEIJIN bajo la marca PANLITE®.

El sustrato de cristal mineral (a base de sflice) utilizado es un cristal Essilor de mdice de refraccion igual a 1,523.

Los sustratos ORMA® y los obtenidos a partir de las resinas MR6®, MR7®, MR8® son unos sustratos conformes a la invencion ya que poseen un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total del sustrato en las condiciones de ensayo presentadas anteriormente.

Los sustratos 1,74®, policarbonato (PC) y de cristal mineral no son unos sustratos conformes a la invencion, ya que presentan un porcentaje de recogida de agua inferior al 0,6% en masa con respecto a la masa total del sustrato en las condiciones de ensayo presentadas anteriormente. El problema de la aparicion de defectos cosmeticos no se plantea ya para estos sustratos. No presentan ningun defecto cosmetico, ya sea que la capa antiestatica sea a base de SnO2 o de ITO (vease la tabla 3).

4. Resultados

a) sustrato ORMA®

La constitucion de los artmulos opticos obtenidos segun los ejemplos 1, 2 y los ejemplos comparativos C1 y C2 se detalla a continuacion (tabla 2). Se indican tambien sus rendimientos en terminos de adhesion, de resistencia a la abrasion, de propiedades antiestaticas, la presencia eventual de defectos cosmeticos asf como los parametros opticos siguientes de estos artmulos opticos: el factor medio de reflexion en el campo de lo visible Rm, el factor medio de reflexion ponderado por la sensibilidad ocular (factor de reflexion luminosas) Rv, el factor de transmision en lo visible tv, el angulo de color h y el croma C* en el sistema colorimetrico CIE L*a*b*. Los resultados presentados son una media realizada en un conjunto de varios artmulos identicos preparados en las mismas condiciones.

Ejemplo 1

Substrato + imprimacion+ hard coat

ZrO2

30 nm

SiO2

20 nm

ZrO2

80 nm

SnO2

6,5 nm

SiO2

80 nm

Top coat

arena Bayer

4,3

ISTM Bayer

8,7

n*10 golpes

>9

Tv (%)

98,4

Rv (%)

0,67

Rm (%)

0,73

C*

7,3

h (°)

144

Tiempo de descarga (ms)

30

Defecto cosmetico a t+24h

No

Defecto cosmetico t+ 2 meses

No

Ejemplo comparativo C1

Substrato + imprimacion + hard coat

ZrO2

30 nm

SiO2

20 nm

ZrO2

80 nm

ITO

6,5 nm

SiO2

80 nm

Top coat

Arena Bayer

4,5

ISTM Bayer

8,5

n*10 golpes

>9

Tv (%)

98,1

Rv (%)

0,75

Rm (%)

0,70

C*

7

h (°)

135

Tiempo de descarga (ms)

50

Defecto cosmetico a t+24h

No

Defecto cosmetico t+ 2 meses

A veces

Ejemplo 2

Substrato + imprimacion + hard coat

ZrO2

30 nm

SiO2

20 nm

ZrO2

80 nm

SnO2

13 nm

SiO2

80 nm

Top coat

arena Bayer

4,1

ISTM Bayer

8,3

n*10 golpes

>9

Tv (%)

98,6

Rv (%)

0,64

Rm (%)

0,72

C*

6.8

h (°)

136

Tiempo de descarga (ms)

57

Defecto cosmetico a t+24h

No

Defecto cosmetico t+ 2 meses

No

Ejemplo comparativo C2

Substrato + imprimacion + hard coat

ZrO2

30 nm

SiO2

20 nm

ZrO2

80 nm

ITO

13 nm

SiO2

80 nm

Top coat

Arena Bayer

4,5

ISTM Bayer

8,5

n*10 golpes

>9

Tv (%)

98,1

Rv (%)

0,75

Rm (%)

0,70

C*

7

h (°)

135

Tiempo de descarga (ms)

50

Defecto cosmetico a t+24h

Sf

Defecto cosmetico t+ 2 meses

Sf

Los ensayos de durabilidad fisicoqmmicos de los artfculos segun la invencion dan unos resultados equivalentes a los obtenidos sobre unos apilados a base de ITO (nx10 golpes, Bayer). Los parametros siguientes son tambien comparables: Rm, Rv, C*, h, iv, tiempo de descarga.

5

Todos los artfculos opticos obtenidos son altamente transparentes y presentan al mismo tiempo unas propiedades antiestaticas (tiempos de descarga inferior a 500 ms), unas propiedades antirreflectantes, una buena resistencia a la abrasion, una buena resistencia termica y buenas propiedades de adherencia. Se ha constatado que el tiempo de descarga de los artfculos opticos preparados era estable en el tiempo (ninguna variacion despues de un control 10 efectuado 6 meses despues de su preparacion).

Las lentes segun la invencion son totalmente satisfactorias desde el punto de vista cosmetico ya que no presentan defectos de superficie visibles, en particular a la lampara de arco.

15 No es el caso de las lentes comparativas, que incorporan una capa de ITO.

Los ejemplos comparativos C1 y C2 son obtenidos reproduciendo los ejemplos 1 y 2 pero sustituyendo el material conductor SnO2 por ITO (material tal como se describe en el procedimiento general en 1 anterior). Las lentes del ejemplo comparativo C2 presentan todas unos defectos cosmeticos, tanto inicialmente (t + 24h) como despues de 2 20 meses (t + 2 meses), mientras que se pueden observar unos defectos cosmeticos despues de 2 meses en algunas lentes del ejemplo comparativo C1.

No es el caso de sustratos que comprenden una monocapa de ITO depositada en las mismas condiciones de deposito indicadas en el punto 2 anterior (bajo asistencia de iones oxfgeno (1,2A/ 100V) con una velocidad de 0,15

5

10

15

20

25

30

35

40

nm/s, de In2O3, de ZnO dopado con B2O3, de ZnO dopado con Al en lugar de SnO2 (materiales detallados en “procedimiento general” en 1 anteriormente).

b) evaluacion de otros sustratos

El ejemplo 2 y el ejemplo comparativo C2 se han reproducido utilizando otros sustratos que el sustrato ORMA® (ejemplos 3 y 4 y ejemplos comparativos C2 a C10). Los resultados se presentan en la tabla 3, que menciona en recuerdo los resultados del ejemplo 2 y del ejemplo comparativo C2.

Tabla 3

Substrato

Ejemplo Capa antiestatica Defecto cosmetico a t + 2 meses

ORMA®

2 SnO2 No

C2

ITO Si

"1MR7®

3 SnO2 No

C3

ITO Si

MR8®

4 SnO2 No

C4

ITO Si

C5 SnO2 No

C6

ITO No

Policarbonato (PC)

C7 SnO2 No

C8

ITO No

Cristal mineral

C9 SnO2 No

C10

ITO No

Se constata que las lentes conformes a la invencion, que comprenden una capa de SnO2, en el revestimiento antirreflectante y un sustrato que tiene un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total del sustrato en las condiciones de ensayo presentadas anteriormente no presentan defecto cosmetico (ejemplo 2-4). En las mismas condiciones, las lentes comparativas que comprenden una capa de ITO en el revestimiento antirreflectante y un sustrato que tiene un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total del sustrato en las condiciones de ensayo presentadas anteriormente presentan unos defectos cosmeticos (ejemplos comparativos C2 a C5).

Finalmente, como se ha enunciado anteriormente, los sustratos a base de 1,74®, policarbonato (PC) y cristal mineral no presentan ningun defecto cosmetico despues de dos meses, ya sea la capa antiestatica a base de SnO2 o de ITO.

c) influencia del grosor de la capa de SnO2

El ejemplo 2 se ha reproducido modificando la naturaleza del sustrato (MR8® en lugar de ORMA®) y haciendo variar el grosor de la capa antiestatica de SnO2 de 3 a 75 nm. Se ha observado la presencia eventual de defectos cosmeticos y los resultados se consignan en la tabla 4.

Tabla 4

Ejemplo

Grosor de la capa de SnO2 (nm) Fecha de la observacion Defecto cosmetico

5

3 t + 5 semanas No

6

6,5 t + 5 semanas

7

13 t + 6 meses

8

20 t + 5 semanas

9

26 t + 4 semanas

10

32 t + 4 semanas

11

50 t + 4 semanas

12

75 t + 2 semanas

Se constata que incluso para unos grosores elevados de capa electricamente conductora de SnO2, no se observa ningun defecto cosmetico.

d) se ha reproducido el ejemplo 4 sustituyendo la capa de SnO2 a una pureza del 99,9% mediante las mezclas siguientes:

SnO2 25% ln2O3 75% SnO2 50% ln2O3 50% SnO2 75% ln2O3 25% Los resultados aparecen en la tabla siguiente:

Tabla 5

Ejemplo

Relacion SnO2-ln2O3 Defecto cosmetico despues de una semana

C11

25-75 S^

13

50-50 No

14

75-25 No

5

Claims (15)

1. 5

   10

   15

   20

   25

   30

   35

   40

   45

   50

   55

   60

   65

   REIVINDICACIONES

   1. Artmulo optico con propiedades antiestaticas y antirreflectantes o reflectantes, que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal revestida de un revestimiento antirreflectante o reflectante, comprendiendo dicho revestimiento al menos una capa electricamente conductora, en el que

   - el deposito de dicha capa electricamente conductora se ha realizado bajo asistencia ionica, y

   - dicho sustrato tiene un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, siendo el porcentaje de recogida de agua medido despues del secado previo de dicho sustrato y despues del almacenamiento de este sustrato durante 800 horas en un recinto a 50°C bajo una humedad relativa del 100% y a presion atmosferica,

   caracterizado por que

   - dicha capa electricamente conductora comprende al menos un 30% en masa, preferentemente al menos un 40% en masa y mejor aun al menos un 50% en masa de oxido de estano SnO2 con respecto a la masa total de la capa electricamente conductora.
2. 2. Artmulo optico segun la reivindicacion 1, caracterizado por que la capa electricamente conductora tiene un grosor de 0,1 a 150 nm, preferentemente de 0,1 a 50 nm, mejor de 1 a 20 nm.
3. 3. Artmulo optico segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa

   electricamente conductora no contiene indio.
4. 4. Artmulo optico segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa

   electricamente conductora comprende al menos un 90% en masa de oxido de estano (SnO2) con respecto a la masa total de la capa electricamente conductora.
5. 5. Artmulo optico segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa

   electricamente conductora consiste en una capa de SnO2.
6. 6. Artmulo optico segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa

   electricamente conductora no constituye la capa externa del revestimiento antirreflectante o reflectante en el orden de apilado.
7. 7. Artmulo optico segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa

   electricamente conductora constituye la penultima capa del revestimiento antirreflectante o reflectante en el orden de apilado.
8. 8. Artmulo optico segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que el sustrato es de naturaleza poli(tiouretano) o resulta de la polimerizacion o copolimerizacion de bis alil carbonatos de alquilenglicoles.
9. 9. Artmulo optico segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que el revestimiento antirreflectante o reflectante es un revestimiento multicapa, que comprende una alternancia de capas de alto mdice de refraccion y de capas de bajo mdice de refraccion.
10. 10. Artmulo segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que es una lente optica, preferentemente una lente oftalmica.
11. 11. Artmulo segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que el revestimiento antirreflectante o reflectante comprende al menos una capa que comprende una mezcla de SiO2 y de AhO3, y por que el deposito de esta capa se ha realizado en un recinto a vacm con introduccion de gas en dicho recinto durante dicho deposito.
12. 12. Artmulo segun la reivindicacion 11, caracterizado por que la presion en el recinto al vacm durante la introduccion de gas vana de 5.10-5 a 3.10-4 mbares.
13. 13. Procedimiento de fabricacion de un artmulo segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende las etapas siguientes:

    - proporcionar un artmulo optico que comprende un sustrato que tiene al menos una superficie principal, teniendo dicho sustrato un porcentaje de recogida de agua superior o igual al 0,6% en masa con respecto a la masa total de dicho sustrato, siendo el porcentaje de recogida de agua medido como se describe en la reivindicacion 1,

    - depositar sobre dicha superficie principal del sustrato un revestimiento antirreflectante o reflectante, comprendiendo dicho revestimiento al menos una capa electricamente conductora, que comprende al menos un 30%, preferentemente al menos un 40% y mejor al menos un 50% en masa de oxido de estano (SnO2) con respecto a la masa total de la capa electricamente conductora, siendo el deposito de dicha capa electricamente conductora

    5 realizado bajo asistencia ionica,

    - recuperar un artfculo optico que comprende un sustrato que tiene una superficie principal revestida de dicho revestimiento antirreflectante o reflectante que comprende dicha capa electricamente conductora.

    10 14. Procedimiento segun la reivindicacion 13, caracterizado por que el deposito de cada una de las capas del

    revestimiento antirreflectante o reflectante se realiza por evaporacion al vado.
14. 15. Utilizacion de una capa que comprende al menos un 30% en peso de SnO2 en un revestimiento antirreflectante o reflectante antiestatico depositado sobre el sustrato de un artfculo optico, teniendo dicho sustrato un porcentaje de

    15 recogida de agua de al menos un 0,6% en masa, para preservar la transparencia de dicho revestimiento.
15. 16. Utilizacion de una capa que comprende al menos un 30% en peso de SnO2 en un revestimiento antirreflectante o reflectante antiestatico depositado sobre el sustrato de un artfculo optico, teniendo dicho sustrato un porcentaje de recogida de agua de al menos un 0,6% en masa, para preservar la aparicion de defectos cosmeticos en el artfculo

    20 optico.