DE4117257B4 - Optisch wirkendes Schichtsystem mit hoher Antireflexwirkung für transparente Substrate - Google Patents

Optisch wirkendes Schichtsystem mit hoher Antireflexwirkung für transparente Substrate Download PDF

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Abstract

Optisch wirkendes Schichtsystem für Substrate, wobei das Schichtsystem eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass auf der einem Betrachter Zugewandten Vorderseite eines Substrats (1) in der örtlichen Reihenfolge von dem Substrat (1) zum Betrachter hin eine erste am Substrat (1) anliegende, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (4) mit einer Schichtdicke von 80Å +/- 20% angeordnet ist, darauf eine zweite Nitrid aufweisende Schicht (5) mit einer Schichtdicke von 130 Å +/- 20% angeordnet ist, auf der Rückseite des Substrats (1) eine TiNx-Schicht (8) angeordnet ist mit einer Schichtdicke von 40 bis 150 Å und das Substrat (1) transparent ist und einen Brechungsindex von 1,5 bis 1,65 aufweist.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein optisch wirkendes Schichtsystem für transparente Substrate, wobei das Schichtsytem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist.
  • Es gibt eine breite Palette von Schichtsytemen für Substrate, insbesondere für Glas, die bestimmte optische Funktionen erfüllen. Die vorliegende Erfindung betrifft die Gattung der Antireflexschichten bzw. die Antireflexschichtsysteme.
  • Die Druckschrift DE 39 42 797 A1 beschreibt ein 5-Schichtsystem mit hoher Antireflexwirkung mit einer Schichtfolge aus dielektrischer Schicht mit Metalloxid (A) und Nitridschicht (B) in einer Schichtfolge, betrachtet ab Substrat: ABABA.
  • Die US Patentschrift US 4,690,871 (Gordon) beschreibt eine Zinnoxid von 300-800 Å Dicke, die eine darunterliegende Titannitridschicht während des Annealingvorgangs schützt. Die Titannitridschicht fungiert als Wärmeschutzschicht auf einem Glassubstrat.
  • Durch die deutsche Offenlegungsschrift 36 29 996 A1 ist ein Vorsatzaggregat für die Katodenstrahlröhren von Monitoren, Fernsehapparaten und dergleichen, bestehend aus einer Glasscheibe, insbesondere einer Grauglasscheibe, einer vorderseitigen Antireflexionsausrüstung und einer rückseitigen Ab sorptionsbeschichtung, wobei die Absorptionsbeschichtung Metallatome aufweist, bekannt geworden.
  • In dieser deutschen Offenlegungsschrift wird vorgeschlagen, daß die Absorptionsbeschichtung einschichtig aus Chrom, einer Chrom/Nickel-Legierung oder Siliciden aufgebaut und antistatisch eingerichtet und geerdet sowie mit einer Dicke versehen ist, welche die Lichttransmission gegenüber der unbeschichteten Glasscheibe um etwa ein Drittel absenkt.
  • In der US-Patentschrift Nr. US 38 54 796 wird weiterhin eine Beschichtung vorgeschlagen, die zur Reduzierung der Reflexion dienen soll. Die Beschichtung soll für ein Substrat angewendet werden, das eine Mehrzahl von Schichten aufweist. In der Reihenfolge beginnend beim Substrat ist in der US-Patentschrift folgende Anordnung beschrieben: drei Gruppen von wenigstens zwei Lambda/4-Schichten, die aufeinanderfolgenden Schichten der ersten Gruppe haben einen Brechungsindex, der unterhalb des Brechungsindexes des Substrats liegt. Die Schichten der zweiten Gruppe haben einen sich vergrößernden Brechungsindex und die Schichten der dritten Gruppe haben einen Brechungsindex unterhalb des Brechungsindexes des Substrats. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
  • Zum Stand der Technik gehört weiterhin die US-Patentschrift US 37 61 160 . Dort werden eine Breitbandreflexionsbeschichtung und Substrate, die da mit beschichtet werden, vorgeschlagen. Sie weisen wenigstens vier Schichten für Glas mit hohem Index und wenigstens sechs Schichten für Glas mit niedrigem Index auf. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
  • Weiterhin wird in der US-Patentschrift US 36 95 910 ein Verfahren zur Anbringung einer Antireflexionbeschichtung auf einem Substrat beschrieben. Diese Beschichtung besteht aus mehreren Einzelschichten. Das Verfahren für die Aufbringung der Antireflexionsschichten erfolgt unter Vakuum, und zwar unter Verwendung von Elektronenstrahlen. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.
  • Zum Stand der Technik gehört weiterhin die schweizerische Patentschrift CH 223344 . Diese Schrift befaßt sich mit einem Überzug zur Verminderung der Oberflächenreflexion. Der Überzug besteht aus mindestens drei Schichten mit verschiedenen Brechungszahlen. Die Verminderung der Oberflächenreflexion soll nach dieser Schrift durch eine bestimmte Auswahl der Brechungszahlen der einzelnen Schichten erzielt werden.
  • Weiterhin wird in der US-Patentschrift US 54 07 733 A ein Verfahren zur Aufbringung von Antireflexionsschichten auf Substraten durch reaktives Sputtern eingegangen. Dabei werden besonders die optischen Eigenschaften der TiN-Schicht und anderer Schichten sowie deren Schichtdickenabhängigkeit beschrieben.
    •
  • Der Erfindung liegt die folgende Aufgabe zugrunde:
    Es sollen Voraussetzungen für die wirtschaftliche Herstellung von Antireflexionsbeschichtungen für transparente Substrate geschaffen werden.
  • Transparente Substrate werden in einer Vielzahl modernder Einrichtungen und Geräte benötigt. Die Hersteller dieser Einrichtungen und Geräte stellen hohe Anforderungen in Hinsicht auf die optischen und sonstigen Eigenschaften dieser Substrate.
  • Die Erfindung soll diese hohen Anforderungen insbesondere im Hinsicht auf die Entspiegelung, die Kontrasterhöhung und die Erhöhung der Antistatikwirkung erfüllen.
  • Weiterhin sollen Voraussetzungen dafür geschaffen werden, daß eine nur geringe Anzahl von Schichten benötigt wird. Gleichzeitig sollen die Dicken der Einzelschichten klein sein. Die Erfindung macht sich weiterhin zur Aufgabe, Voraussetzungen für den Einsatz preisgünstigerer Materialien zu schaffen.
  • Mit der Erfindung soll ein Konzept vorgeschlagen werden, bei dem DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget gesputtert werden kann.
  • Die geringe Anzahl der Schichten des Schichtsystems, die geringe Dicke der Einzelschichten des Schichtsystems, die Auswahl preisgünstiger Einsatzmaterialien und die Möglichkeit, DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget zu sputtern, führen zu einer äußerst wirtschaftlichen Herstellung der erfindungsgemäßen Antireflexschichtsysteme.
  • An sich ist die Benutzung von Metallschichten für Antireflexsysteme im Prinzip bekannt. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß die bekannten Metallschichten für den Alltagsbetrieb zu weich sind.
  • Es gehört daher mit zu der Aufgabenstellung der vorliegenden Erfindung, einen Ersatz für die bekannten weichen Metallschichten (Ag, Ni, ...) zu finden. Dieser Ersatz soll hart und kratzfest sein. Er soll einerseits eine keramische Härte aufweisen, andererseits jedoch auch die Wirkung einer metallähnlichen Optik besitzen.
  • Die gestellten Aufgaben werden erfindungsgemäß mit den Merkmalen gemäß Anspruch 1 dadurch gelöst, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht angeordnet ist, darauffolgend eine zweite Nitrid, vorzugsweise TiNx, aufweisende Schicht angeordnet ist und darauffolgend eine dritte ein Dielektrikum bildende Metalloxid aufweisende Schicht angeordnet ist.
  • Dabei kann vorgesehen werden, daß die erste Schicht Oxide aus der Gruppe: SnO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCr-Oxid, TiO2, Sb2O3, In2O3 oder Mischoxide von Oxiden aus dieser Gruppe umfaßt.
  • Weiterhin wird vorgeschlagen, daß die zweite Schicht Nitride aus der Gruppe TiN, ZrN umfaßt.
  • Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, daß die dritte Schicht niederbrechende Materialien, insbesondere mit einem Brechungsindex n gleich oder kleiner als 1,7 aufweist und Oxide aus der Gruppe SiO2, Al2O3, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO oder Oxidfluoride aus der gleichen Gruppe umfaßt.
  • Alternativ kann vorgesehen werden, daß die dritte Schicht MgF2 umfaßt.
  • In einer Gruppe von Ausführungsbeispielen wird vorgeschlagen, daß zwischen der ersten und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht angeordnet ist.
  • Weiterhin wird vorgeschlagen, daß das Substrat insbesondere transparent ist und vorzugsweise einen Brechungsindex von 1,5 bis 1,65 aufweist.
  • Für mindestens eine TiNx-Schicht wird weiterhin vorgeschlagen, daß für das beschriebene Schichtsystem überstöchiometrisches TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 eingesetzt wird.
  • In einem Ausführungsbeispiel kann vorgesehen werden, daß alle TiNx-Schichten der beschriebenen.
  • Schichtsysteme TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 aufweisen.
  • Weitere Einzelheiten der Erfindung, der Aufgabenstellung und der erzielten Vorteile sind der folgenden Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele der Erfindung zu entnehmen.
    •
  • Diese Ausführungsbeispiele werden anhand von fünf Figuren erläutert.
  • Die 1, 2 und 5 zeigen je ein Schichtsystem.
  • Die 3 und 4 zeigen Transmissions- beziehungsweise Reflexions-Kurven in Prozent über der Wellenlängen in nm.
  • Nachfolgend werden zunächst fünf Ausführungsbeispiele beschrieben:
    Das Substrat 1 besteht aus Glas. Die Vorderseite 2 des Substrats ist die Seite des Substrats, die dem Betrachter zugewandt ist. Die Rückseite 9 des Substrats ist die Seite, die vom Betrachter abgewandt ist.
  • Die an der Vorderseite des Substrats anliegende Schicht wird als "erste" Schicht 4 bezeichnet. Es folgen in Richtung zum Betrachter die "zweite" Schicht 5 und die "dritte" Schicht 6.
  • Das Schichtsystem des ersten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut (siehe 1):
    • – auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,
    • – in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
    • – die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,
    • – die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter der ersten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx,
    • – die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.
  • Das Schichtsystem des zweiten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut (siehe 2):
    • – auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,
    • – in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas,
    • – die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,
    • – es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 7, bestehend aus NiCrOx,
    • – die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,
    • – die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.
  • Das Schichtsystem des dritten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut (siehe 2):
    • – auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,
    • – in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
    • – die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,
    • – es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 7, bestehend aus NiCr-Suboxid,
    • – die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx-Schicht,
    • – die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO2.
  • Das Schichtsystem des vierten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut (siehe 1):
    • – auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,
    • – in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
    • – die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCrOx; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,
    • – die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,
    • – die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO2.
  • Das Schichtsystem des fünften Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut (siehe 1):
    • – auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,
    • – in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
    • – die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCrOx; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,
    • – die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,
    • – die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.
  • Als Substrat können außer Mineralglas, Floatglas auch Plexiglas, durchsichtige Kunststoffschichten, Folien usw. eingesetzt werden.
  • Neben der Vorderseitenentspiegelung durch die beschriebenen, vor der Vorderseite angeordneten Schichtsysteme wird eine weitere überraschend niedrige Gesamtreflexion durch die auf der Rück seite angeordnete TiNx-Schicht erzielt. Der Grundgedanke der Erfindung läßt eine Vielzahl von Ausführungsbeispielen bzw. Schichtsystemen zu, die durch die nachfolgend genannten Materialien und Schichtdicken charakterisiert sind.
  • "Erste" Schicht (Bezugsziffer 4), ein Dielektrikum:
    Metalloxid (SnO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCrOx, TiO2, Sb2O3, In2O3,
    Schichtdicke: 80 Angström ± 20
  • "Zweite" Schicht (Bezugsziffer 5):
    Nitrid (TiN, ZrN)
    Schichtdicke: 130 Angström ± 20
  • "Dritte" Schicht (Bezugsziffer 6) Dielektrikum:
    niederbrechende Materialien, n kleiner als 1,7 (SiO2, Al2O3, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO, MgF2)
    Optische Dicke: 5550/4 Angström ± 10
  • "Haftvermittler-Schicht" (Bezugsziffer 7):
    Ni, Cr, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr)
    Schichtdicke: 10 Angström ± 10
  • Auf der Rückseite 9 des Substrats ist die "Rückseitenschicht" (Bezugsziffer 8), bestehend aus TiNx, angeordnet,
    Schichtdicke: 40 bis 150 Angström.
  • Es ist selbstverständlich, daß solche Werte für die jeweilige Schichtdicke innerhalb der genannten Schichtdickentoleranz gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.
  • Es folgt die Beschreibung zweier Beispiele von Schichtsystemen, bei denen die Reflexion und die Transmission im sichtbaren Wellenbereich des Lichts gemessen wurden. Die Meßergebnisse sind grafisch anhand von Kurven in den 3 und 4 dargestellt.
  • Bei der Beschreibung der Schichtsysteme werden die Bezugsziffern der Beschreibung der 1 benutzt. Das Schichtsystem des ersten Beispiels ist wie folgt aufgebaut:
    Substrat: Glas (1), Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n = 1,52
    Schicht (4) Material: SnO2 Dicke 90 Angström, Brechungskoeffizient n = 2,05
    Schicht (5) Material: TiNx, Dicke 130 Angström
    Schicht (6) Material : Al2O3, Dicke 730 Angström,
    Brechungskoeffizient n = 1,6
    Schicht (8) Material: TiNx, Dicke 70 Angström
  • Der in 2 mit 7 bezeichnete Haftvermittler ist in diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.
  • Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.
  • Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Reflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:
    Figure 00130001
  • Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in 3 grafisch dargestellt. Auf der Abszisse 10 des Koordinatensystems in 3 sind die Wellenlängen in nm eingetragen. Auf der linken Ordinate 11 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Reflexion eingetragen. Auf der rechten Ordinate 12 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Transmission eingetragen.
  • Aus den Kurven ist deutlich erkennbar, daß die Reflexionskurve 14 im Kernwellenlängenbereich des sichtbaren Lichts außerordentlich niedrig ist. Sie liegt weit unter 1 %. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung in überraschend deutlicher Weise erzielt worden. Im gleichen Kernwellenlängenbereich hat die Transmissionskurve 13 relativ hohe Werte. Das Schichtsystem des zweiten Beispiels ist wie folgt gekennzeichnet:
    Substrat: Glas, Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n = 1, 52
    Schicht (4) Material: NiCr-Oxid, Dicke 70 Angström, Brechungskoeffizient n = 2,1
    Schicht (5) Material: TiNx, Dicke 130 Angström
    Schicht (6) Material: SiO2 Dicke 790 Angström,
    Brechungskoeffizient n = 1,5
    Schicht (8) Material: TiNx, Dicke 70 Angström
  • Ein gesonderter Haftvermittler, siehe Bezugsziffer 7, ist bei diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.
  • Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.
  • Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Reflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:
    Figure 00140001
  • Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in 4 grafisch dargestellt. Die Abszisse und die Ordinaten tragen die im Zusammenhang mit 3 beschriebenen Maßeinheiten.
  • Aus der Reflexionskurve 16 ist deutlich erkennbar, daß die Reflexion im Bereich von ca. 560 nm Wellenlänge einen ausgesprochenen Tiefpunkt hat. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung auch durch dieses Beispiel in überzeugender Weise erzielt worden. Die Transmissionskurve 15 hat im Kernbereich des sichtbaren Lichts ihr Maximum.
  • Zu der Transmissionskurve 13 (3) und zu der Transmissionskurve 15 (4) ist grundsätzlich folgendes zu sagen:
    Geringe Transmissionswerte einer Vorsatzscheibe können auf einfache Weise durch Verstärkung der. Lichtquelle, z. B. durch Aufdrehen des Potentiometers bei einem LCD, kompensiert werden.
  • Die Schichtsysteme, mit denen die oben kommentierten Transmissions- und Reflexionswerte erzielt wurden, sind nach dem im folgenden beschriebener Verfahren hergestellt worden:
    Es wurde mit Magnetron gesputtert und zwar in reaktiver Gasamtosphäre.
  • Nachfolgend wird in der linken Spalte das Sputtermaterial und in der rechten Spalte das reaktive Sputtergemisch angegeben:
    SnO2 Ar + O2
    SiO2 Ar + O2
    Al2O3 Ar + O2
    TiN Ar + O2
    NiCr Ar + O2
  • Druck während des Sputtervorganges: ca. 5 × 10-3 mb.
  • Targetmaterial: Sn, Si, Ti, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr), Al.
  • Auf der Vorderseite der Schichtsysteme wurde ein Flächenwiderstand von 150 Ohm pro Quadrat gemessen, auf der Rückseite wurde ein Flächenwiderstand von 240 Ohm pro Quadrat gemessen. Dies sind relativ geringe Flächenwiderstände.
  • Durch Erdung der Flächen kann daher die statische Aufladung reduziert oder sogar aufgehoben werden.
  • Damit wird der gewünschte Antistatikeffekt erreicht.
  • 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel für das weiter oben in der Beschreibungseinleitung besprochene System, bestehend aus zwei Schichten auf der Vorderseite 2 des Substrats 1. Die "erste" am Substrat anliegende Schicht trägt bei dem Zweischichtsystem nach 5 die Bezugsziffer 17.
  • Darauf folgt zum Betrachter hin die "zweite" Schicht 18.
  • Für die "erste" Schicht 17 und die "zweite" Schicht 18 des Zweischichtsystems nach 5 werden diejenigen Daten über die chemischen Zusammensetzungen, die Schichtdicken, die Brechungsindizes und diejenigen Kombinationen dieser Daten eingesetzt, die für die Schichten 5 und 6 der 1 und 2 weiter oben und in der Beschreibungseinleitung beschrieben wurden.
  • Die für die Schichten 5 und 6 in der Beschreibungseinleitung und im Zusammenhang mit den 1 und 2 beschriebenen alternativen Ausführungsformen gelten auch für das Zweischichtsystem, wie es beispielsweise in 5 mit der "ersten" Schicht 17 und der "zweiten" Schicht 18 dargestellt wird.
  • Dabei entspricht die "erste" Schicht 17 des Zweischichtsystems der 5 der Schicht 5 der Schichtsysteme der 1 und 2.
  • Die "zweite" Schicht 18 des Zweischichtsystems der 5 entspricht. der Schicht 6 der Schichtsysteme der 1 und 2.
  • Die Flächenwiderstände des Zweischichtsystems entsprechen denjenigen der Systeme nach 1 und 2.
    • 1
    Substrat, Glas
    2
    Vorderseite
    3
    Pfeil, Blickrichtung
    4
    "erste" Schicht der 1 und 2
    5
    "zweite" Schicht der 1 und 2
    6
    "dritte" Schicht der 1 und 2
    7
    Haftvermittlerschicht
    8
    Rückseitenschicht
    9
    Rückseite
    10
    Abszisse
    11
    linke Ordinate
    12
    rechte Ordinate
    13
    Transmissionskurve
    14
    Reflexionskurve
    15
    Transmissionskurve
    16
    Reflexionskurve
    17
    "erste" Schicht der 5
    18
    "zweite" Schicht der 5

Claims (3)

  1. Optisch wirkendes Schichtsystem für Substrate, wobei das Schichtsystem eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass auf der einem Betrachter Zugewandten Vorderseite eines Substrats (1) in der örtlichen Reihenfolge von dem Substrat (1) zum Betrachter hin eine erste am Substrat (1) anliegende, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (4) mit einer Schichtdicke von 80Å +/- 20% angeordnet ist, darauf eine zweite Nitrid aufweisende Schicht (5) mit einer Schichtdicke von 130 Å +/- 20% angeordnet ist, auf der Rückseite des Substrats (1) eine TiNx-Schicht (8) angeordnet ist mit einer Schichtdicke von 40 bis 150 Å und das Substrat (1) transparent ist und einen Brechungsindex von 1,5 bis 1,65 aufweist.
  2. Optisch wirkendes Schichtsytem für Substrate gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass für mindestens eine der Nitrid aufweisenden Schichten (5, 8) überstöchiometrisches TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 eingesetzt wird.
  3. Optisch wirkendes Schichtsytem für Substrate gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass für alle der Nitrid aufweisenden Schichten (5, 8) überstöchiometrisches TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 eingesetzt wird.
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