RU2685887C1 - Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него - Google Patents
Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него Download PDFInfo
- Publication number
- RU2685887C1 RU2685887C1 RU2018116874A RU2018116874A RU2685887C1 RU 2685887 C1 RU2685887 C1 RU 2685887C1 RU 2018116874 A RU2018116874 A RU 2018116874A RU 2018116874 A RU2018116874 A RU 2018116874A RU 2685887 C1 RU2685887 C1 RU 2685887C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- thickness
- coating
- silicate glass
- reflective
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 title abstract description 12
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 title abstract description 5
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims abstract description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 18
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 57
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 25
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 5
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области антибликового остекления приборов радиоэлектронной техники. Антибликовое покрытие содержит первый внутренний слой из TiOтолщиной 10-17 нм, второй слой из SiOтолщиной 27-36 нм, третий слой из TiOтолщиной 102-120 нм и четвертый слой из SiOтолщиной 87-95 нм. Антибликовое покрытие (второй вариант) содержит первый внутренний слой из ITO толщиной 120-250 нм, второй слой из TiOтолщиной 0-22 нм, третий слой из SiOтолщиной 184-210 нм, четвертый слой из TiOтолщиной 17-100 нм и пятый слой из SiOтолщиной 75-125 нм. Антибликовый экран представляет собой силикатное стекло с нанесенным по крайней мере на одну его сторону одним из указанных выше покрытием. Силикатное стекло имеет толщину от 1 до 3 мм, собственный коэффициент пропускания не менее 90%, коэффициент отражения с двух граней не более 9%, действительную часть коэффициента преломления 1,51-1,54 в видимом диапазоне и 1,52-1,53 при длине волны 550 нм. Технический результат - обеспечение снижения интегрального коэффициента отражения и повышение интегрального коэффициента пропускания (для двухстороннего покрытия) антибликового экрана, в том числе в условиях высокой освещенности, без увеличения количества слоев покрытия (4 слоя - для антибликового покрытия, 5 слоев - для антибликового электрообогревного покрытия) 3 н.п. ф-лы, 7 пр.
Description
Изобретение относится к области антибликового остекления приборов радиоэлектронной техники и может быть использовано при изготовлении приборных панелей летательных аппаратов (ЛА).
В настоящее время существует проблема возникновения бликов от остекления приборных панелей ЛА, мешающих экипажу считывать показания приборов в условиях высокого уровня освещенности в кабине. В ЛА эффективное снижение интенсивности бликов может быть достигнуто за счет существенного уменьшения коэффициента отражения (до значений меньше 1%) остекления приборных панелей, что достигается нанесением на его поверхность многослойного антибликового покрытия, обеспечивающего широкополосное интерференционное просветление.
Применение многослойных антибликовых покрытий возможно как для приборов с воздушной прослойкой между излучающим индикатором и остеклением, так и для приборов без воздушной прослойки.
Многослойные покрытия могут быть нанесены на подложку (основной материал остекления, например, силикатное или органическое стекло) различными методами: магнетронным распылением, золь-гель методом, гальваническим и другими. Метод нанесения покрытий магнетронным распылением является наиболее простым, технологичным и масштабируемым в массовом производстве.
В составе многослойных антибликовых электрообогревных покрытий наиболее часто встречаются сочетания чередующихся слоев следующих материалов: оксида кремния (SiO2), оксида ниобия (Nb2O5), оксида олова, легированного сурьмой (АТО), оксида индия, легированного оловом (ITO), оксида цинка (ZnO) и оксида титана (TiO2). Чередование слоев различной толщины с высоким и низким коэффициентом преломления позволяет достичь широкополосного интерференционного просветления подложки в видимом диапазоне.
Известно многослойное антибликовое покрытие, предназначенное для нанесения на экран дисплея, в котором первый (внутренний) слой толщиной 200÷600 нм состоит из частиц АТО, диаметр которых лежит в диапазоне от 5 до 20 нм, выполняет антистатическую функцию, а также участвует в подавлении отражения падающего света, являясь слоем с высоким показателем преломления (1,8), второй слой толщиной 100÷200 нм состоит из частиц TiO2 диаметром от 5 до 50 нм (показатель преломления 2,0), третий (внешний) слой толщиной от 100 до 200 нм состоит из силикагеля. Покрытие может содержать четвертый слой из TiO2 и пятый слой из SiO2 (US 5652477 А, 29.07.1997).
Недостатком данного покрытия является многостадийность процесса его изготовления (нанесение первого слоя - нагрев - нанесение второго слоя - нанесение силикагеля при заданной температуре).
Известен экран дисплея с антистатическим антибликовым покрытием, включающим внутренний слой из диоксида кремния, в который встроены электропроводящие частицы размером до 50 нм (например, АТО), и внешний слой из оксида кремния, при этом антиотражающий эффект обеспечивается всеми слоями в совокупности. Покрытие может содержать третий слой из диоксида кремния, полученный путем разложения алкоксисилана на поверхности сформировавшегося второго слоя (ЕР 0649160 В1, 19.09.2001).
Известно антибликовое антистатическое покрытие, наносимое на экран дисплея электронно-лучевой трубки, которое снабжено антистатическим покрытием, содержащим электропроводящие частицы, например АТО, а также дополнительным слоем диоксида кремния для получения антиотражающего эффекта. В состав покрытия может входить третий слой, состоящий из SiO2, полученного путем разложения алкоксисилана на поверхности сформировавшегося второго слоя. Светопропускание может варьироваться в пределах от 30% до 90%, поверхностное сопротивление - от 104 Ом/кв до 1010 Ом/кв (US 6087769 А, 11.07.2000).
Недостатком этих покрытий является сложность технологического процесса их изготовления, раздельное нанесение каждого слоя, наличие термообработки во время процесса изготовления, использование растворов и суспензий.
Наиболее близким аналогом предложенных покрытий является многослойное антибликовое покрытие, состоящее из пяти слоев. Первый (внешний) слой толщиной от 10 до 60 нм состоит из оксида с высоким показателем преломления. Второй слой толщиной от 10 до 70 нм состоит из оксида с низким показателем преломления. Третий слой толщиной от 30 до 100 нм состоит из оксида с высоким показателем преломления. Четвертый слой толщиной от 10 до 70 нм состоит из оксида с низким показателем преломления. Пятый (внутренний) слой толщиной от 10 до 60 нм, расположенный на подложке, состоит из оксида с высоким коэффициентом преломления. Покрытие может быть как антибликовым, так и антибликовым электрообогревным. Предпочтительный состав слоев, начиная с внешнего, следующий: ITO - SiO2-Nb2O5-SiO2-Nb2O5. Слои данного покрытия могут быть получены путем магнетронного распыления мишени в среде аргона с добавкой кислорода.
Наиболее близким аналогом предложенного антибликового экрана является антибликовый экран, представляющий собой полимерное стекло с нанесенным на него вышеописанным покрытием (JP 2003004902 А, 08.01.2003).
Недостатком покрытия-прототипа является необходимость использования Nb2O5 в качестве материала с высоким коэффициентом преломления, чьи оптические характеристики при получении магнетронным реактивным распылением хуже, чем у TiO2. Полимерное стекло, используемое в качестве подложки, легко царапается и деформируется при перепадах температур.
Технической задачей предлагаемого изобретения является разработка антибликового и антибликового электрообогревного покрытий, обеспечивающих улучшенные оптические свойства для антибликового экрана на основе наиболее распространенного и недорогого силикатного стекла со следующими показателями: толщина от 1 до 3 мм, собственный коэффициент пропускания не менее 90%, коэффициент отражения с двух граней не более 9%, действительная часть коэффициента преломления 1,51-1,54 в видимом диапазоне и 1,52-1,53 при длине волны 550 нм.
Техническим результатом заявленной группы изобретений является обеспечение снижения интегрального коэффициента отражения до значений не более 1% и повышение интегрального коэффициента пропускания (для двухстороннего покрытия) антибликового экрана до значений не менее 95%, в том числе в условиях высокой освещенности, без увеличения количества слоев покрытия (4 слоя - для антибликового покрытия, 5 слоев - для антибликового электрообогревного покрытия) и без увеличения количества материалов мишеней для изготовления покрытия (2 мишени - из Ti и Si - для антибликового покрытия, 3 мишени - из Si, Ti и сплава In-Sn - для антибликового электрообогревного покрытия).
Технический результат достигается за счет того, что предложено антибликовое покрытие подложки, содержащее первый внутренний слой из оксида титана толщиной 10-17 нм, второй слой из оксида кремния толщиной 27-36 нм, третий слой из оксида титана толщиной 102-120 нм и четвертый слой из оксида кремния толщиной 87-95 нм.
Технический результат достигается также за счет того, что предложено антибликовое покрытие подложки, содержащее первый внутренний слой из оксида индия, легированного оловом, толщиной 120-250 нм, второй слой из оксида титана толщиной до 22 нм, третий слой из оксида кремния толщиной 184-210 нм, четвертый слой из оксида титана толщиной 17-100 нм и пятый слой из оксида кремния толщиной 75-125 нм.
Также предложен антибликовый экран, выполненный из силикатного стекла и содержащий нанесенное по крайней мере на одну его сторону одно из вышеописанных антибликовых покрытий, при этом силикатное стекло имеет толщину от 1 до 3 мм, собственный коэффициент пропускания не менее 90%, коэффициент отражения с двух граней не более 9%, действительную часть коэффициента преломления 1,51-1,54 в видимом диапазоне и 1,52-1,53 при длине волны 550 нм.
Наиболее доступное и распространенное силикатное стекло обладает следующими параметрами: толщиной от 1 до 3 мм, собственным коэффициентом пропускания не менее 90%, коэффициентом отражения с двух граней не более 9%, действительной частью коэффициента преломления 1,51-1,54 в видимом диапазоне и 1,52-1,53 при длине волны 550 нм.
Толщины и составы антибликового и антибликового электрообогревного покрытий для силикатного стекла с указанными свойствами были оптимизированы следующим образом. Сначала были сняты спектры отражения и пропускания используемых силикатных стекол. Из этих характеристик были получены дисперсии коэффициентов преломления. Затем на указанные стекла наносились отдельные слои ITO, SiO2, TiO2, снимались спектры отражения и пропускания, из которых были получены дисперсии отдельных слоев покрытий ITO, SiO2, TiO2. Далее по известной дисперсии коэффициентов преломления стекол и покрытий ITO, SiO2, TiO2 с помощью математического моделирования прохождения электромагнитного излучения подбирались толщины слоев с условием достижения минимального интегрального коэффициента отражения и максимального коэффициента пропускания.
Таким образом, подобранные в ходе моделирования толщины и составы покрытий обеспечивают низкий коэффициент отражения (менее 1%) и высокий коэффициент пропускания (более 95%), при использовании в качестве подложки стекла с указанными выше параметрами.
Поскольку толщины слоев покрытий были оптимизированы под экспериментально полученные дисперсии коэффициентов преломления, вне границ диапазона толщин указанных слоев покрытия будут обладать худшими оптическими характеристиками. Выбор материалов покрытий произведен на основании наибольшей разницы коэффициентов преломления слоев.
Действительная часть коэффициентов преломления используемых материалов при длине волны 550 нм должны составлять: TiO2 - не менее 2.30, SiO2- 1.45-1.47, ITO - 1.90-1.94.
Примеры осуществления изобретения.
Методом реактивного магнетронного распыления на установке для нанесения оптических покрытий в смеси аргона и кислорода за один технологический процесс без дополнительной термообработки были нанесены многослойные покрытия с использованием следующих мишеней: чистый Ti, чистый Si и сплав In-Sn в массовом соотношении 10:1 (для нанесения электропроводящего слоя).
В качестве подложки использовали широкодоступные силикатные стекла с действительной частью коэффициента преломления 1,51-1,54 в видимом диапазоне и 1,52-1,53 при длине волны 550 нм. В примерах 1-4 получали односторонние многослойные покрытия, в примерах 5-7 -двухстороннее.
В примерах 1, 2, 5 получали антибликовые покрытия, в примерах - 3, 4, 6, 7 - антибликовые электрообогревные покрытия.
Для односторонних покрытий измерялся интегральный коэффициент отражения с одной грани стекла, нормированный согласно ГОСТ EN 410-2014, для двухсторонних - интегральный коэффициент отражения и пропускания по ГОСТ EN 410-2014.
Пример 1.
На силикатном стекле толщиной 1 мм с собственным коэффициентом пропускания 91%, коэффициентом отражения с двух граней 8,2%, действительной частью коэффициента преломления 1,52 при длине волны 550 нм, с одной стороны было нанесено покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: TiO2 (10 нм) - SiO2 (27 нм) - TiO2 (102 нм) - SiO2 (87 нм). Интегральный коэффициент отражения грани стекла с нанесенным покрытием - 0,4%.
Пример 2.
На силикатном стекле толщиной 3 мм с собственным коэффициентом пропускания 90%, коэффициентом отражения с двух граней 9%, действительной частью коэффициента преломления 1,53 при длине волны 550 нм с одной стороны нанесено покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: TiO2 (17 нм) - SiO2 (36 нм) - TiO2 (120 нм) -SiO2 (95 нм). Интегральный коэффициент отражения грани стекла с нанесенным покрытием - 0,4%.
Пример 3.
На силикатном стекле толщиной 1 мм с собственным коэффициентом пропускания 91%, коэффициентом отражения с двух граней 8,2%, действительной частью коэффициента преломления 1,52 при длине волны 550 нм с одной стороны нанесено покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: ITO (136 нм) - SiO2 (204 нм) - TiO2 (19 нм) -SiO2 (122 нм). Интегральный коэффициент отражения грани стекла с нанесенным покрытием - 0,4%.
Пример 4.
На силикатном стекле толщиной 3 мм с собственным коэффициентом пропускания 90%, коэффициентом отражения с двух граней 9%, действительной частью коэффициента преломления 1,53 при длине волны 550 нм с одной стороны нанесено антибликовое покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: ITO (247 нм) - TiO2 (20 нм) - SiO2 (187 нм) - TiO2 (95 нм) - SiO2 (80 нм). Интегральный коэффициент отражения грани стекла с нанесенным покрытием - 0,4%.
Пример 5.
На силикатном стекле толщиной 1,5 мм с собственным коэффициентом пропускания 91%, коэффициентом отражения с двух граней 8,2%, действительной частью коэффициента преломления 1,52 при длине волны 550 нм с двух сторон нанесено покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: TiO2 (12 нм) - SiO2 (34 нм) - TiO2 (111 нм) - SiO2 (88 нм). Интегральный коэффициент отражения с двух граней стекла - 0,3%, интегральный коэффициент пропускания - 98,1%.
Пример 6.
На силикатном стекле толщиной 2 мм с собственным коэффициентом пропускания 91%, коэффициентом отражения с двух граней 8,2%, действительной частью коэффициента преломления 1,52 при длине волны 550 нм с двух сторон нанесено покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: ITO (247 нм) - TiO2 (20 нм) - SiO2 (187 нм) - TiO2 (95 нм) - SiO2 (80 нм). Интегральный коэффициент отражения с двух граней стекла - 0,9%, интегральный коэффициент пропускания - 97,6%
Пример 7.
На силикатном стекле толщиной 3 мм с собственным коэффициентом пропускания 90%, коэффициентом отражения с двух граней 9%, действительной частью коэффициента преломления 1,53 при длине волны 550 нм с одной стороны нанесено антибликовое покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: ITO (137 нм) - SiO2 (204 нм) - TiO2 (19 нм) - SiO2 (123 нм), на другую сторону нанесено покрытие следующего состава, начиная с внутреннего слоя: TiO2 (12 нм) - SiO2 (34 нм) - TiO2 (111 нм) - SiO2 (88 нм). Интегральный коэффициент отражения с двух граней стекла - 0,7%, интегральный коэффициент пропускания 96,5%
Как показали экспериментальные данные, предлагаемые покрытия обеспечивают снижение интегрального коэффициента отражения и повышение интегрального коэффициента пропускания (для двухстороннего покрытия) антибликового экрана, в том числе в условиях высокой освещенности (более 500 лк), без увеличения количества слоев покрытия (4 слоя - для антибликового покрытия, 5 слоев - для антибликового электрообогревного покрытия) и без увеличения количества материалов мишеней для изготовления покрытия (2 мишени - из Ti и Si - для антибликового покрытия, 3 мишени - из Si, Ti и сплава In-Sn - для антибликового электрообогревного покрытия).
Claims (3)
1. Антибликовое покрытие подложки, содержащее первый внутренний слой из оксида титана толщиной 10-17 нм, второй слой из оксида кремния толщиной 27-36 нм, третий слой из оксида титана толщиной 102-120 нм и четвертый слой из оксида кремния толщиной 87-95 нм.
2. Антибликовое покрытие подложки, содержащее первый внутренний слой из оксида индия, легированного оловом, толщиной 120-250 нм, второй слой из оксида титана толщиной до 22 нм, третий слой из оксида кремния толщиной 184-210 нм, четвертый слой из оксида титана толщиной 17-100 нм и пятый слой из оксида кремния толщиной 75-125 нм.
3. Антибликовый экран, содержащий нанесенное по крайней мере на одну его сторону антибликовое покрытие, отличающийся тем, что он выполнен из силикатного стекла, при этом в качестве нанесенного покрытия содержит покрытие по п. 1 или 2, при этом силикатное стекло имеет толщину от 1 до 3 мм, собственный коэффициент пропускания не менее 90%, коэффициент отражения с двух граней не более 9%, действительную часть коэффициента преломления 1,51-1,54 в видимом диапазоне и 1,52-1,53 при длине волны 550 нм.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2018116874A RU2685887C1 (ru) | 2018-05-07 | 2018-05-07 | Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2018116874A RU2685887C1 (ru) | 2018-05-07 | 2018-05-07 | Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2685887C1 true RU2685887C1 (ru) | 2019-04-23 |
Family
ID=66314767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018116874A RU2685887C1 (ru) | 2018-05-07 | 2018-05-07 | Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2685887C1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU221259U1 (ru) * | 2023-07-20 | 2023-10-27 | Акционерное общество "Специальное конструкторско-технологическое бюро Кольцова" (АО "СКТБ Кольцова") | Оптически прозрачное защитное покрытие для световой панели |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60130704A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-12 | Canon Inc | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
| US5652477A (en) * | 1995-11-08 | 1997-07-29 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Multilayer antistatic/antireflective coating for display device |
| JP2003004902A (ja) * | 2001-06-14 | 2003-01-08 | Applied Vacuum Coating Technologies Co Ltd | 最外層が透明導電膜である抗反射導電多層薄膜 |
| RU2204153C2 (ru) * | 1997-01-27 | 2003-05-10 | Питер Д. ХААЛАНД | Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек |
| US6621634B2 (en) * | 2000-04-04 | 2003-09-16 | Sony Corporation | Antireflection filter for display device |
| RU2005114483A (ru) * | 2002-10-10 | 2006-01-20 | Главербель (BE) | Гидрофильное отражающее изделие |
| RU2324763C2 (ru) * | 2003-05-23 | 2008-05-20 | Оптима, Инк. | Просветляющее покрытие для линз, имеющее малые внутренние напряжения и ультранизкую остаточную отражающую способность |
| RU2541227C1 (ru) * | 2013-07-18 | 2015-02-10 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский (Приволжский) Федеральный Университет" (ФГАОУ ВПО КФУ) | Способ получения упрочняющего теплоотражающего просветляющего покрытия для прозрачных пластиковых изделий |
| KR20150051040A (ko) * | 2013-11-01 | 2015-05-11 | (주)제일로닉 | 반사 억제형 유리기판 구조체 및 그 제조방법 |
| EA022784B1 (ru) * | 2009-03-27 | 2016-03-31 | Эссилор Энтернасьональ (Компани Женераль Д'Оптик) | Оптический элемент с антибликовым или отражающим покрытием, содержащим электропроводящую пленку на основе оксида олова, и способ его изготовления |
-
2018
- 2018-05-07 RU RU2018116874A patent/RU2685887C1/ru active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60130704A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-12 | Canon Inc | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
| US5652477A (en) * | 1995-11-08 | 1997-07-29 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Multilayer antistatic/antireflective coating for display device |
| RU2204153C2 (ru) * | 1997-01-27 | 2003-05-10 | Питер Д. ХААЛАНД | Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек |
| US6621634B2 (en) * | 2000-04-04 | 2003-09-16 | Sony Corporation | Antireflection filter for display device |
| JP2003004902A (ja) * | 2001-06-14 | 2003-01-08 | Applied Vacuum Coating Technologies Co Ltd | 最外層が透明導電膜である抗反射導電多層薄膜 |
| RU2005114483A (ru) * | 2002-10-10 | 2006-01-20 | Главербель (BE) | Гидрофильное отражающее изделие |
| RU2324763C2 (ru) * | 2003-05-23 | 2008-05-20 | Оптима, Инк. | Просветляющее покрытие для линз, имеющее малые внутренние напряжения и ультранизкую остаточную отражающую способность |
| EA022784B1 (ru) * | 2009-03-27 | 2016-03-31 | Эссилор Энтернасьональ (Компани Женераль Д'Оптик) | Оптический элемент с антибликовым или отражающим покрытием, содержащим электропроводящую пленку на основе оксида олова, и способ его изготовления |
| RU2541227C1 (ru) * | 2013-07-18 | 2015-02-10 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский (Приволжский) Федеральный Университет" (ФГАОУ ВПО КФУ) | Способ получения упрочняющего теплоотражающего просветляющего покрытия для прозрачных пластиковых изделий |
| KR20150051040A (ko) * | 2013-11-01 | 2015-05-11 | (주)제일로닉 | 반사 억제형 유리기판 구조체 및 그 제조방법 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU221259U1 (ru) * | 2023-07-20 | 2023-10-27 | Акционерное общество "Специальное конструкторско-технологическое бюро Кольцова" (АО "СКТБ Кольцова") | Оптически прозрачное защитное покрытие для световой панели |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2116855C (en) | An electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating | |
| JP2004152727A (ja) | 透明導電膜 | |
| KR102500410B1 (ko) | 반사 방지 코팅된 유리 제품 | |
| EP3203274B1 (en) | Ophthalmic lens comprising a thin antireflective coating with a very low reflection in the visible | |
| JP2001249221A (ja) | 透明積層体とその製造方法およびプラズマデイスプレイパネル用フイルタ | |
| US6586101B2 (en) | Anti-reflection coating with transparent surface conductive layer | |
| JP5621184B2 (ja) | 透明電極 | |
| EP1027620B1 (en) | Multilayer electrically conductive anti-reflective coating | |
| US5858519A (en) | Absorbing anti-reflection coatings for computer displays | |
| WO2017094725A1 (ja) | 反射防止膜付きガラス板 | |
| US6532112B2 (en) | Anti-reflection conducting coating | |
| RU2685887C1 (ru) | Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него | |
| US20080226887A1 (en) | Low resistivity light attenuation anti-reflection coating with a transparent surface conductive layer | |
| CN104166285A (zh) | Ito导电玻璃及其制备方法 | |
| JP3577866B2 (ja) | 導電性反射防止フィルム | |
| JP2008268569A (ja) | 透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム | |
| US7662464B2 (en) | Anti-reflection coating with low resistivity function and transparent conductive coating as outermost layer | |
| KR970000382B1 (ko) | 저반사 코팅유리 및 그 제조방법 | |
| JP2002139603A (ja) | 低反射基板の製造方法、低反射基板、透明電極基板及び抵抗膜式透明タッチパネル | |
| US20220315483A1 (en) | Transparent substrate provided with multilayer film | |
| JP2848266B2 (ja) | 透明電磁波シールド基板 | |
| WO2022181371A1 (ja) | 多層膜付透明基体及び画像表示装置 | |
| KR100862782B1 (ko) | 저저항 기능이 부여된 투과 가능한 도전층을 최외층으로하는 항반사 도포층 | |
| JP2008250038A (ja) | 低抵抗機能付きの透過可能な導電層を最外層とする抗反射塗布層 | |
| JPH1073720A (ja) | ディスプレイ用光学フィルター |