KR20230095924A - 눈 추적 장치를 이용하는 장치를 위한 시력 교정을 제공하는 광학 물품 - Google Patents

눈 추적 장치를 이용하는 장치를 위한 시력 교정을 제공하는 광학 물품 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전방 주 면 및 후방 주 면을 갖는 투명 기판을 포함하는 광학 물품에 관한 것으로서, 상기 주 면의 적어도 하나는 다층형 간섭 코팅으로 코팅되고, 상기 다층형 간섭 코팅은 1.55 이상의 굴절률을 갖는 적어도 하나의 고굴절률 층(HI) 및 1.55 미만의 굴절률 층을 갖는 적어도 하나의 저굴절률 층(LI)의 스택을 포함하고, 상기 다층형 간섭 코팅은: * 적어도 35° 이하의 입사각에서 2.5% 이하인, Rv로 표시되는, 가시광선 영역 내의 평균 광 반사 인자; * 20° 이하의 입사각에서 1.5% 이하인, Rm ET (800-900)으로 표시되는, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자를 가지며: * 상기 다층형 간섭 코팅은 20° 이하의 입사각에서 11.5 % 이상의, Rm NIR로 표시된, 900 nm 내지 2000 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역 내의 평균 반사 인자를 가지고/가지거나, 상기 투명 기판은, 900 nm 내지 2000 nm 범위의 파장의 근적외선 영역 내에서 흡수하는 적어도 하나의 흡수 염료를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

눈 추적 장치를 이용하는 장치를 위한 시력 교정을 제공하는 광학 물품
본 발명은 다층형 간섭 코팅, 그리고 특히 가시광선 영역(즉, 380 내지 780 nm) 및 특히 약 900 내지 2000 nm 범위의 파장의 근적외선(NIR) 영역 모두에서 반사를 강력하게 감소시키는 한편, 동시에 적외선 파장에서 작업하는 눈 추적기(ET) 시스템과 양립될 수 있는 반사방지 코팅을 포함하는 광학 물품에 관한 것이다. 광학 물품은 특히 안과용 렌즈, 예를 들어 안경 렌즈일 수 있다.
또한, 본 발명은 특히 상기 광학 물품을 포함하고, 예를 들어 증강 현실 장치, 가상 현실 장치 또는 눈 추적 장치를 형성하는 데 적합할 수 있는 광학 장치에 관한 것이다.
NIR 범위는 일반적으로 시선 추적 목적으로 눈을 조명하는 광에 흔히 사용되며, 그 이유는 NIR 광을 사용자가 볼 수 없고, 동시에 동공에서 매우 우수한 콘트라스트를 허용하여, 시선 방향 또는 눈 움직임 측정, 또는 동공 크기와 위치, 각막 면 상의 눈 반사, 눈 수정체 표면, 눈꺼풀 등과 관련된 다른 임의의 측정을 높은 정확도 및 높은 신뢰도로 얻을 수 있게 하기 때문이다.
그러한 측정은, 안과용 렌즈 외에도, 짙은 적색 및 NIR 광 공급원 및 비디오 카메라를 포함하는 특정 광학 장치를 통해 이루어질 수 있다.
그러나, 짙은 적색 및 NIR 광 공급원이 그러한 장비를 착용하는 사용자의 눈을 향하여 발광하면, 안과용 렌즈의 면에 다중 반사가 발생한다. 그러한 다중 반사는 카메라 감지기에 노이즈를 생성하여, 동공의 위치를 제대로 파악할 수 없게 할 것이다.
예를 들어, 문헌 US 2018/003961에는 프로젝션 시스템이 기술되어 있다(이 문헌의 도 4 참조). 프로젝션 시스템은 프로젝션 표면(예를 들어, 렌즈), 적외선(IR) 광 빔 방출기(IR 공급원), 및 사용자의 눈으로부터 오는 IR 광을 수용하기 위한 적외선 광 빔 수용기를 포함한다. 프로젝션 표면에 통합된 홀로그래픽 광학 요소(HOE)는 눈에 대한 또는 눈으로 오는 광을 반사시킨다. 따라서, 이 문헌에는, 눈을 추적하기 위한 반사 해결책이 제안되어 있다. 사용자는 프로젝션 표면을 통해서 실제 세계를 볼 수 있고, 또한 가상 이미지가 홀로그래픽 광학 요소 및 가시광선 부가 광 공급원을 통해서 디스플레이될 수 있다. 그러나, 이러한 프로젝션 시스템에서, 프로젝션 표면에 반사 방지 코팅을 제공할 필요가 있다. 사실상, 이러한 프로젝션 표면으로부터 오는 반사는 이미지 품질을 저하시킬 가능성이 있고(유령 이미지 형성) 눈 추적(ET) 성능을 제한할 가능성이 있다.
본원에서 사용되고 도 1에 도시된 바와 같이, 유령 이미지(3)는 렌즈(1) 내의 내부 반사의 물리적 현상이다. 이는 디옵터 굴절력 또는 프리즘을 갖는 렌즈에서만 보일 수 있는데, 이는 그러한 렌즈가 유령 이미지(3)를 광 공급원(2)의 이미지로부터 분리하기 때문이다. 유령 이미지(3)는 렌즈(1)를 통해서 광 공급원을 볼 때 보일 수 있다. 그 컬러 및 세기에 따라, 이는 착용자의 불편함을 야기할 수 있다.
문헌 US 2018/113508에는 가상의 그리고 혼합된 또는 증강된(VR/AR) 머리-장착형 디스플레이(HMD)를 위한 눈 추적 시스템이 기술되어 있다. 특히, 눈 추적 시스템은, 웨어러블 하우징에 장착된, 이미지를 디스플레이하기 위한 디스플레이 및 2개의 접안 렌즈를 포함할 수 있다. 이러한 디스플레이는 투명할 수 있고, 그에 따라 사용자가 실제 세계를 또한 볼 수 있게 한다. 사용자는 접안 렌즈를 통해서 디스플레이를 본다. 접안 렌즈는, 일반적으로 접안 렌즈의 광학적 무한대에 근접하는 설계 거리에서 디스플레이되는 콘텐츠의 가상 이미지를 형성한다. IR 카메라가 접안 렌즈를 통해서 사용자 안면을 캡쳐한다. 그러나, 이러한 문헌에서, 렌즈 표면에서의 반사로 인해서, 유령 이미지가 또한 생성될 수 있다.
따라서, HMD의 착용자/사용자의 교정 굴절을 가능하게 하는, 가상의 그리고 혼합된 또는 증강된(VR/AR) 머리-장착형 디스플레이(HMD)를 위한 광학 물품을 제공할 필요가 있다. 특히, IR 파장에서 작동하는 ET 시스템의 사용자의 유령 이미지를 제한할 수 있는 한편, 그(반사 또는 투과 ET 시스템)와 양립 가능한 광학 물품, 즉, ET 조명 시스템에 필요한 전력 소비를 제한하기 위해서, ET에 의해서 이용되는 IR 파장에 대해서 충분히 투명한 광학 물품을 제공할 필요가 있다.
또한, 사용자의 눈에 도달할 수 있고 (이하에서 "외측 IR"로 지칭되는) HMD의 외부 환경으로부터 오는 IR 광을 제한하는 VR/AR HMD을 위한 광학 물품을 제공할 필요가 있다. 사실상, 알려진 바와 같이, IR 광은, 백내장 위험 증가, 안구 건조증, 눈물막 변화 등과 같은 시각적 문제를 초래할 수 있다. 또한, 환경으로부터 오는 IR 광, 특히 근적외선(NIR)의 감소는 또한, 눈으로 오는 전체 NIR 광이 변화하지 않고 유지되거나 또는 개선되도록(즉; 눈 추적기를 사용할 때에도 전반적으로 감소되도록), ET 시스템에서 제공하는 부가적인 NIR 광의 균형을 맞추는 방법이다.
사실상, 외부 IR로부터 눈을 보호하기 위한 통상적인 해결책의 이용은 IR 파장을 이용하는 ET 시스템의 성능 저하를 초래할 수 있거나, 역으로 효율적인 ET 시스템의 이용은 외부 IR로부터 눈을 잘 보호하지 못하는 해결책을 초래할 수 있다. 사실상, 예를 들어, 외부 IR을 줄이도록 설계된 임의의 입수 가능한 NIR 반사 스택은, 이들이 정확하게 설계되지 않은 경우에, ET 시스템에서 매우 방해가 되는 유령 이미지를 생성할 수 있는 반면, 눈 추적에서 사용되는 IR 범위에서 반사를 제한하도록 설계된 임의의 입수 가능한 NIR 반사 스택은, 정확하게 설계되지 않은 경우에, 외부 IR을 제거하지 못할 수 있다. 다른 해결책은 흡수 염료를 렌즈에 부가하는 것으로 구성된다. 그러나, 눈 추적기가 렌즈를 통해서 눈을 조명하거나 이미지화하는 경우에, 임의의 입수 가능한 흡수 염료는 투과 ET 시스템에서 양호하지 못한 투명도를 초래할 수 있고, 그에 따라 IR 공급원으로 눈을 조명하기 위해서 더 높은 레벨의 전력을 필요로 할 수 있다.
또한, 광학 물품 착용자의 편안함을 위해서 380 nm 내지 780 nm 범위의 가시광선 영역에서 반사를 제한하는 것이 또한 중요하다.
따라서, 전술한 문제 중 적어도 하나 그리고 바람직하게는 전부를 충족시키는 증강 현실 장치, 가상 현실 장치 또는 눈 추적 장치에서 사용되도록 의도된 광학 물품을 위한 새로운 간섭 코팅을 제공할 필요가 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 적어도 간섭 코팅, 즉 그러한 반사 방지 코팅을 포함하는 무기 또는 유기 유리 중의 기판을 포함하는 투명한 광학 물품, 특히 안경 렌즈와 같은 안과용 렌즈의 개발을 모색함으로써 상기 단점들을 해결하기 위한 것이며, 상기 반사 방지 코팅은 그 제조의 경제적 및/또는 산업적 실행가능성을 손상시키지 않으면서 가시광선 영역에서 매우 우수한 반사 방지 성능을 지니는 한편, NIR 영역에서도 매우 특정한 반사를 또한 갖는다.
그에 따라, 본 발명은 전방 주 면 및 후방 주 면을 갖는 투명 기판을 포함하는 광학 물품, 바람직하게는 안과용 렌즈에 관한 것으로, 주 면의 적어도 하나는 다층형 간섭 코팅으로 코팅되고, 다층형 간섭 코팅은 1.55 이상의 굴절률을 갖는 적어도 하나의 고굴절률 층(HI) 및 1.55 미만의 굴절률 층을 갖는 적어도 하나의 저굴절률 층(LI)의 스택(stack)을 포함하고, 상기 다층형 간섭 코팅은:
* 적어도 35° 이하의 입사각에서 2.5% 이하인, Rv로 표시되는, 가시광선 영역 내의 평균 광 반사 인자;
* 20° 이하의 입사각에서 1.5% 이하인, Rm ET (800-900)으로 표시되는, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자
를 갖거나 이를 광학 물품에 부여하고,
* 상기 다층형 간섭 코팅은 20° 이하의 입사각에서 12% 이상의, Rm NIR로 표시된, 900 nm 내지 2000 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역 내의 평균 반사 인자를 가지고/가지거나, 상기 투명 기판은, 900 nm 내지 2000 nm 범위의 파장의 근적외선 영역 내에서 흡수하는 적어도 하나의 흡수 염료를 포함하는 것을 특징으로 한다.
그에 따라, 본 발명에 따른 광학 물품은 가시광선 영역 내에서의 매우 작은 반사, 통상적인 눈 추적기에서 사용되는 NIR 범위, 즉, (이하에서, Rm ET (800-900)으로 지칭되는) 800 내지 900 nm에서의 매우 작은 반사, 및 특히 광학 물품 착용자/사용자의 외부 환경으로부터 올 수 있는 900 내지 2000 nm 범위의 NIR 영역 내의 큰 반사를 갖는 고효율의 다층형 간섭 코팅을 포함한다.
따라서, 본 발명의 다층형 간섭 코팅은, 유령 이미지 및 ET 조명 시스템의 큰-전력 소비를 보존하기 위해서 눈 추적기(ET) 시스템에서 사용되는 NIR 광에 대한 양호한 성능(차단하지 않음)을 제공하면서, 눈 보호를 위해서 광학 물품 착용자/사용자의 환경으로부터 오는 잠재적으로 유해한 IR 광을 차단할 수 있다.
또한, 본 발명은, 예를 들어 전술한 광학 물품 및 짙은 적색 및 근적외선 영역에서 방출하는 광 공급원을 포함하는, 증강 현실 장치, 가상 현실 장치, 및 눈 추적 장치일 수 있는 광학 장치를 제공한다.
본 발명의 내용에 포함됨.
본원에 제공되는 설명 및 그 장점의 보다 완전한 이해를 위해서, 이제, 유사한 참조 번호들이 유사한 부분들을 나타내는 첨부 도면 및 상세한 설명과 함께 이루어지는, 이하의 간단한 설명을 참조할 것이다.
도 1은 직접적인 이미지(2)(광 공급원의 이미지)의 경로 및 렌즈(1)를 통한 유령 이미지(3)의 경로를 보여 주는 렌즈(1)의 개략도이다.
도 2는 제1 실시형태에 따른 본 발명에 따른 눈 추적 장치의 개략도이다.
도 3은 가시광선 영역(400 내지 780 nm) 및 대략적인 NIR 영역(780 내지 2000 nm) 내의 파장의 함수로서 15°의 입사각에서 실시예 2 내지 6에서 제조된 본 발명에 따른 렌즈(2 내지 6)의 전방 표면 상의 반사의 변동(R, %)을 각각 도시한다.
도 4는 가시광선 영역(380 내지 780 nm) 및 대략적인 NIR 영역(780 내지 1500 nm) 내의 파장의 함수로서 15°의 입사각에서 실시예 2, 실시예 10, 및 실시예 11에서 제조된 본 발명에 따른 렌즈(2, 10, 및 11)의 투과율의 변동(T, %)을 각각 도시한다.
도 5는 가시광선 영역(380 내지 780 nm) 및 대략적인 NIR 영역(780 내지 1500 nm) 내의 파장의 함수로서 15°의 입사각에서 실시예 2, 실시예 12, 및 실시예 13에서 제조된 본 발명에 따른 렌즈(6, 12, 및 13)의 투과율의 변동(T, %)을 각각 도시한다.
이하의 설명에서, 도면은 반드시 실제 축척일 필요는 없으며, 특정 특징부가 명확성과 간결함을 위해 또는 정보 목적을 위해 일반화되거나 개략적인 형태로 도시될 수 있다. 또한, 본원에서 논의되는 실시형태들은 단지 대표적인 것일 뿐이며 본 발명의 범위를 제한하지는 않는다.
1. 정의
"포함한다"(그리고 "포함하는" 및 "포함하고 있는"과 같은 문법적 변형), "가지고 있다"(그리고 "가지는" 및 "가지고 있는"과 같은 문법적 변형), "포괄한다"(그리고 "포괄하는" 및 "포괄하고 있는"과 같은 문법적 변형), 및 "함유한다"(그리고 "함유하는" 및 "함유하고 있는"과 같은 문법적 변형)는 개방형 연결 동사이다. 이들 용어는, 언급된 특징부, 정수, 단계, 또는 구성요소, 또는 이들의 그룹의 존재를 특정하는 데 사용되지만, 하나 이상의 다른 특징부, 정수, 단계, 또는 구성요소, 또는 이들의 그룹의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 결과적으로, 하나 이상의 단계 또는 요소를 "포함하는", "가지는", "포괄하는", 또는 "함유하는" 방법, 또는 방법의 단계는 그러한 하나 이상의 단계 또는 요소를 보유하나, 이러한 하나 이상의 단계 또는 요소만을 보유하는 것으로 제한되지 않는다.
달리 명시되지 않는 한, 본원에 사용된 성분의 양, 반응 조건 등을 언급하는 모든 숫자 또는 표현은 모든 경우에 용어 "약"에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다.
또한, 달리 명시되지 않는 한, 본 발명에 따른 ≪X로부터 Y까지≫ 또는 "X 내지 Y" 값들의 간격의 표시는 X 및 Y의 값을 포함함을 의미한다. 또한, 달리 명시되지 않는 한, 값들의 간격에 대해서, 표현 "X 미만" 또는 "Y 초과"는 X 또는 Y 값을 포함하지 않는다.
본원에서, 광학 물품이 이의 표면 상에 하나 이상의 코팅을 포함하는 경우, 표현 "물품 상으로 층 또는 코팅을 증착하기 위한"은 물품의 외측 코팅(즉, 기판으로부터 가장 멀리 떨어져 있는 이의 코팅)의 외부(노출) 표면 상으로 층 또는 코팅이 증착됨을 의미하는 것으로 의도된다.
기판 "상에" 있거나 기판 "상으로" 증착된다고 언급되는 코팅은, (i) 기판 위에 위치되고, (ii) 기판과 반드시 접촉될 필요는 없으며(즉, 하나 이상의 중간 코팅이 기판과 해당 코팅 사이에 배치될 수 있음), (iii) 반드시 기판을 완전히 커버할 필요는 없는, 코팅으로 정의된다.
바람직한 실시형태에서, 기판 상의 코팅, 또는 기판 상으로 증착된 코팅은, 이러한 기판과 직접 접촉된다.
"층 1이 층 2 아래에 놓인다"의 경우, 층 2는 층 1보다 기판으로부터 더 멀리 있음을 의미하도록 의도된다.
하기에 기재된 실시형태에 따라, 다층형 간섭 코팅은 바람직하게는 다층형 반사 방지 코팅이다. 따라서, 본 명세서의 나머지에서, 이들 두 용어는 유사하다.
다층형 반사 방지 코팅의 최외측 층이란, 기판으로부터 가장 먼 반사 방지(AR) 코팅의 층을 의미한다.
다층형 반사 방지 코팅의 최내측 층이란, 기판에 가장 가까운 반사 방지 코팅의 층을 의미한다.
다층형 반사 방지 코팅의 내측 층이란, 상기 AR 코팅의 최외측 층을 제외한 반사 방지 코팅의 임의의 층을 의미한다.
또한, 달리 언급되지 않는 한, 본 출원에 개시된 모든 두께는 물리적 두께에 관한 것이다.
용어 다층형 반사 방지 코팅 또는 AR 코팅 및 AR 스택은 동일한 의미를 갖는다.
달리 명시되지 않는 한, 본 출원에서 언급되는 굴절률은 550 nm의 파장으로 25℃에서 표현된다.
본 발명에 따른 다층형 반사 방지 코팅은, 베어(bare) 기판, 즉 코팅되지 않은 기판의 주 면 중 적어도 하나 상에 형성될 수 있거나, 하나 이상의 기능성 코팅, 예컨대 마모 방지 코팅으로 미리 코팅된 기판의 주 면 중 적어도 하나 상에 형성될 수 있다.
본원에서 사용되는 바와 같이, 기판의 후방 면(또는 내측 면 또는 오목 면 또는 CC 면)은, 물품을 사용할 때 착용자의 눈으로부터 가장 가까운 면을 의미하도록 의도된다. 이는 일반적으로 오목 면이다. 대조적으로, 기판의 전방 면(또는 볼록 면 또는 CX 면)은, 물품을 사용할 때 착용자의 눈으로부터 가장 멀리 있는 면이다. 이는 일반적으로 볼록 면이다.
또한, 본원에서 사용되는 바와 같이, "투명한 기판"은 콘트라스트의 상당한 손실 없이 상기 기판을 통한 이미지의 관찰이 지각될 때, 즉 이미지 품질에 악영향을 주지 않으면서 상기 기판을 통한 이미지의 형성이 얻어질 때 투명한 것으로 이해된다.
용어 "미용적 외관"은 투과 시에 육안으로 평가되고 바람직하게는 아크 램프 하에 측정되는 미용적 결함이 시간이 경과함에 따라 없거나, 거의 없음을 의미한다.
본 발명에서 안과용 렌즈와 같은 광학 물품의 용어 "견고성"은 그 제조 과정에 의해 유발되는 변화에도 불구하고 변화에 저항하는 상기 렌즈의 능력으로서 정의된다. 이러한 변화는, 예를 들어 사용되는 기판의 유형, 제조 기계의 설정(온도 계획, 적절한 시간, 전자 총의 설정 등) 및/또는 이의 사용 모드, 상기 제조 기계를 다른 것으로 대체함에 좌우된다.
실제로, 다층형 반사 방지 코팅이 산업적 규모로 제조될 때, 일반적으로 각각의 층에 대해 약간의 두께 변화가 발생한다. 이러한 변화는 반사 성능을 상이하게 하고, 특히 다층형 반사 방지 코팅의 지각된 잔류 반사 색을 상이하게 한다. 2개의 렌즈의 반사 방지 코팅의 지각된 잔류 반사 색이 상이한 경우, 이러한 렌즈는 상이하게 보이며, 쌍으로 연결할 수 없을 것이다.
본 발명에 따라, "입사각(기호 θ)"은, 안과용 렌즈 표면 상에 입사되는 광선과 입사 지점의 표면에 대한 법선에 의해 형성된 각도이다. 예를 들어, 광선은 국제 비색계 CIE L*a*b*(1976)에 정의된 바와 같은 발광 광 공급원, 예컨대 표준 광 공급원 D65이다. 대체로, 입사각은 0°(수직 입사) 내지 90°(그레이징 입사(grazing incidence))로 변화된다. 입사각의 일반적인 범위는 0° 내지 75°이다.
시스템의 "발광 투과율(luminous transmission)"로도 지칭되는 Tv 인자는 ISO 8980-3 : 2013 표준에서 정의된 것과 같고, 범위의 각각의 파장에서의 눈의 민감도에 따라 가중되고 D65 조명 조건(일광)에서 측정되는 380~780 nm 파장 범위에서의 평균에 관한 것이다.
본 명세서에서, 달리 명시되지 않는 한, 투과도/투과율은, 0° 내지 15° 범위, 바람직하게는 0°의 입사각에서, 0.7 내지 2 mm, 바람직하게는 0.8 내지 1.5 mm 범위의 두께에 대하여 광학 물품의 중심에서 측정된다. 본원에서 사용되는 바와 같이, 투과된 광은 광학 물품의 전방 주 표면 상에 도달하여 렌즈를 통과한 광을 지칭한다.
Tm으로 축약되는 평균 투과율은 ISO 13666:1998 표준에 정의된 바와 같고 (일반적으로 17° 미만, 전형적으로 15°의 입사각에서) ISO 8980-4 표준에 따라 측정되며, 즉 이는 380 nm 내지 780 nm의 전체 광 스펙트럼 내에서의 스펙트럼 투과율 (비가중) 평균을 나타낸다.
마찬가지로, 시스템의 "발광 투과율"로도 불리는 평균 투과율 인자는 800 nm 내지 900 nm에서 규정되며, "Tm ET (800-900)"로 축약되고, 이는 800 nm 내지 900 nm의 파장 범위 내에서의 스펙트럼 투과율(비가중) 평균에 상응한다.
또한, 마찬가지로, 시스템의 "발광 투과율"로도 불리는 평균 투과율 인자는 900 nm 내지 1500 nm에서 규정되며, "Tm(900-1500)"로 축약되고, 이는 900 nm 내지 1500 nm의 파장 범위 내에서의 스펙트럼 투과율(비가중) 평균에 상응한다.
본원에서, Rv로 표시된 "발광 반사도"는 ISO 13666:1998 표준에서 정의된 바와 같고, ISO 8980-4에 따라 측정되고 즉, 380 내지 780 nm의 전체 가시광선 스펙트럼에 걸친 가중된 스펙트럼 반사 평균이다. Rv는 보통 17° 미만, 전형적으로는 15°의 입사각에 대해 측정되지만, 임의의 입사각에 대해 평가될 수 있다.
본원에서, Rm(X-Y)로 표시되는 "평균 반사 인자"는 ISO 13666:1998 표준에서 정의된 바와 같고, ISO 8980-4 표준에 따라 측정되며, 즉 이는 "X" 내지 "Y" nm 파장의 전자기 스펙트럼에 걸친 (비가중) 스펙트럼 반사 평균이다. 본 발명에 따라, Rm은 여러 입사각에 대해 측정된다.
예를 들어, Rm ET (800-900)으로 표시되는, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 특징적인 평균 반사 인자는 이하의 식에 의해서 규정되고, 1 nm의 측정 단계를 가정하고:
Figure pct00001
여기서, R(λ)는 파장(λ)에서의 반사율을 나타낸다.
Rm ET (800-900)은 동일한 입사각에서 측정된 R(λ)을 기초로, 임의의 입사각(θ)에 대해 측정될 수 있다. 바람직하게는, 입사각은 0°내지 20°의 범위이고, 0°이다.
동일한 것이, Rm ET (800-950)로 표시된, 800 nm 내지 950 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자에도 적용된다.
여기에서, 근적외선(NIR) 영역 내의 특징적인 평균 반사 인자(Rm NIR (900-2000))는 이하의 식에 의해서 규정되고:
Figure pct00002
여기에서 R(λ)는 파장(λ)에서의 반사 인자를 나타낸다. Rm NIR은 동일한 입사각에서 측정된 R(λ)을 기초로, 임의의 입사각(θ)에 대해 측정될 수 있다. 바람직하게는, 입사각은 0°내지 20°의 범위이고, 0°이다.
마찬가지로, 근적외선(NIR) 영역 내의 특징적인 평균 반사 인자(Rm NIR (900-1500))는 이하의 식에 의해서 규정되고:
Figure pct00003
여기에서 R(λ)는 파장(λ)에서의 반사 인자를 나타낸다. Rm NIR은 동일한 입사각에서 측정된 R(λ)을 기초로, 임의의 입사각(θ)에 대해 측정될 수 있다. 바람직하게는, 입사각은 0°내지 20°의 범위이고, 0°이다.
동일한 것이, 이하에서 Rm NIR (950-1500)로 표시된, 950 nm 내지 1500 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역 내의 평균 반사 인자에도 적용된다.
2. 광학 물품
본 발명에 따른 광학 물품은 투명 광학 물품, 바람직하게는 렌즈 또는 렌즈 블랭크이고, 더 바람직하게는 안과용 렌즈 또는 렌즈 블랭크이다. 광학 물품은 볼록 주 면(전방 측면), 오목 주 면(후방 측면), 또는 양 측면에서 본 발명의 다층형 반사 방지 코팅으로 코팅될 수 있다.
바람직하게는, 본 발명의 다층형 간섭 코팅은 광학 물품의 전방 주 측면 및 후방 주 측면 상에 코팅된다.
A°) 기판
일반적으로, 반사 방지 코팅(이하에서 AR 코팅으로 지칭됨)일 수 있는 본 발명에 따른 광학 물품의 다층형 간섭 코팅은 임의의 기판, 바람직하게는 유기 렌즈 기판, 예를 들어 열가소성 또는 열경화성 플라스틱 재료 상으로 증착될 수 있다.
열가소성체는, 예를 들어, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리술폰, 폴리카보네이트 및 이들의 공중합체, 폴리(에틸렌 테레프탈레이트) 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로부터 선택될 수 있다.
열경화성 재료는, 예를 들어, 에틸렌/노르보르넨 또는 에틸렌/시클로펜타디엔 코폴리머와 같은 시클로올레핀 코폴리머; 디에틸렌 글리콜 비스(알릴 카보네이트)(CR 39®)의 호모폴리머와 같은, 선형 또는 분기형 지방족 또는 방향족 폴리올의 알릴 카보네이트의 호모폴리머 및 코폴리머; 비스페놀 A로부터 유도될 수 있는, (메트)아크릴산 및 이의 에스테르의 호모폴리머 및 코폴리머; 티오(메트)아크릴산 및 이의 에스테르의 폴리머 및 코폴리머, 비스페놀 A 또는 프탈산 및 스티렌과 같은 알릴 방향족으로부터 유도될 수 있는 알릴 에스테르의 폴리머 및 코폴리머, 우레탄 및 티오우레탄의 폴리머 및 코폴리머, 에폭시의 폴리머 및 코폴리머, 및 설파이드, 디설파이드 및 에피설파이드의 폴리머 및 코폴리머, 및 이들의 조합물로부터 선택될 수 있다.
본원에 사용된 바와 같은 (코)폴리머는, 코폴리머 또는 폴리머를 의미하는 것으로 의도된다. 본원에 사용된 바와 같은 (메트)아크릴레이트는, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미하는 것으로 의도된다. 본원에서 사용되는 바와 같이, 폴리카보네이트(PC)는 호모폴리카보네이트 또는 코폴리카보네이트 및 블록 코폴리카보네이트를 의미하는 것으로 의도된다.
디에틸렌 글리콜 비스(알릴 카보네이트)(CR 39®)의 단일중합체, 1.54 내지 1.58의 굴절률을 갖는, 알릴 및 (메트)아크릴 공중합체, 티오우레탄의 중합체 및 공중합체, 폴리카보네이트가 바람직하다.
기판은 본 발명의 반사 방지 코팅을 증착하기 전에 하나 이상의 기능성 코팅으로 코팅될 수 있다. 광학계에 통상적으로 사용되는 이러한 기능성 코팅은, 제한 없이, 내충격성 프라이머 층, 내마모성 코팅 및/또는 내스크래치성 코팅, 편광 코팅, 광변색 코팅 또는 착색 코팅일 수 있다. 이하에서, 기판은 베어 기판 또는 그러한 코팅된 기판을 의미한다.
바람직하게는, 기판 및 상기 기판 상으로 일반적으로 코팅되는 선택적인 내마모성 코팅 및/또는 내스크래치성 코팅은 프린지(fringe) 또는 미용적 결함을 방지하도록 유사하거나/근접한 굴절률을 갖는다.
반사 방지 코팅을 증착하기 전에, 상기 기판의 표면은 보통 반사 방지 코팅의 접착력을 강화하도록 물리적 또는 화학적 표면 활성화 처리된다. 이러한 전처리는 일반적으로 진공상태에서 수행된다. 이는 활성 종 및/또는 반응성 종을 통한, 예를 들어 이온빔을 통한("이온 전세정(Ion Pre-Cleaning)" 또는 "IPC") 또는 전자빔을 통한 충격, 코로나 방전 처리, 이온 파쇄 처리, 자외선 처리, 또는 일반적으로 산소 또는 아르곤 플라즈마를 사용하는, 진공상태에서의 플라즈마 매개 처리일 수 있다. 또한, 이는 산 또는 염기 처리, 및/또는 용매 기반 처리(물, 과산화수소 또는 임의의 유기 용매)일 수 있다.
B°) 다층형 반사 방지 코팅
본 발명의 다층형 반사 방지 코팅이 이제 후술될 것이다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 다층형 간섭 코팅(AR 코팅)은 특정 반사 스펙트럼을 갖는다.
사실상, 첫 번째로, 이는 380 nm 내지 900 nm 범위 그리고 심지어 380 nm 내지 950 nm 범위의 파장에 대하여 작은 반사를 갖거나 광학 물품에 부여하고, 즉, 이러한 범위는 그에 따라 380 nm 내지 780 nm 범위의 가시광선 영역, 그러나 또한 780 nm 내지 900 nm 또는 780 nm 내지 950 nm 범위의 NIR 영역의 일부를 포함한다.
따라서, 본 발명의 제1 특성에 따라, AR 코팅은, 적어도 35° 이하의 그리고 바람직하게는 35°의 입사각에 대해서 2.5% 이하인, Rv로 표시된, 가시광선 영역(380 내지 780 nm) 내의 평균 광 반사 인자를 갖거나 이를 광학 물품에 부여한다.
본 발명에 따라, "2.5% 이하인, Rv로 표시된, 가시광선 영역(380 내지 780 nm) 내의 평균 광 반사 인자"는 이하의 값 및/또는 이러한 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 2.5; 2.4; 2.3; 2.3; 2.2; 2.1; 2.0; 1.9; 1.8; 1.7; 1.6; 1.5; 1.4; 1.3; 1.2;1.1; 1.0; 0.95; 0.90; 0.85; 0.80; 0.75; 0.70; 0.65; 0.60; 0.55; 0.50; 0.45; 등.
바람직하게는, 가시광선 영역 내의 평균 광 반사 인자(Rv)는 35° 이하의 입사각에서 2.0% 이하, 바람직하게는 1.5% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하, 그리고 일반적으로 0.9% 이하이다.
일반적으로, 가시광선 영역 내의 평균 광 반사 인자(Rv)는 35° 이하의 입사각에서 0.8% 이하, 바람직하게는 0.7% 이하, 더 바람직하게는 0.65% 이하, 일반적으로 0.60% 이하, 예를 들어 0.55% 이하이다.
또한, 발광 투과율(투명도) 즉, 380 내지 780 nm 범위의 파장에서 측정된 Tv 인자는 82% 이상이다.
실시형태에 따라, Tv는 20° 이하의 입사각에서 83% 이상, 바람직하게는 84% 이상, 특히 85% 이상이다.
다른 실시형태에 따라, Tv는 20° 이하의 입사각에서 86% 이상, 바람직하게는 87% 이상, 특히 90% 이상, 예를 들어 95%이다.
본 발명의 AR 코팅의 이러한 특성(즉, 작은 Rv및 큰 Tv)은, 가상 및 혼합 또는 증강 현실(VR/AR) 머리-장착형 디스플레이(HMD)와 같은 ET 장치에서 사용되도록 의도된 광학 물품의 시력 교정을 개선할 수 있고, 특히 광학 물품의 투명도 및 착용자의 시각적 편안함 모두를 개선할 수 있다.
또한, 본 발명의 제2 특성에 따라, AR 코팅은 ET 시스템에서 사용되는 NIR 범위의 일부에서, 즉 800 내지 900 nm의 범위 그리고 심지어 800 내지 950 nm 또는 800 내지 1000 nm의 범위에서 작은 반사를 갖거나 이를 광학 물품에 부여한다.
따라서, 본 발명의 AR 코팅의, Rm ET (800-900)로 표시된, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자는 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각 그리고 일반적으로 0°의 입사각에서 1.5% 이하이다.
본 발명에 따라, "1.5% 이하인, Rm ET (800-900)로 표시된, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자"는 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 1.5; 1.4; 1.3; 1.2;1.1; 1.0; 0.95; 0.90; 0.85; 0.80; 0.75; 0.70; 0.65; 0.60; 0.55; 0.50; 0.45; 0.40; 0.35; 0.30; 0.25; 0.20; 등.
바람직하게는, 평균 반사 인자(Rm ET (800-900))는 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각 그리고 일반적으로 0°의 입사각에서, 1% 이하, 바람직하게는 0.9% 이하, 일반적으로 0.8% 이하, 그리고 특히 0.7% 이하, 예를 들어 0.65% 이하이다.
일반적으로, 본 발명의 AR 코팅의, Rm ET (800-950)로 표시된, 800 nm 내지 950 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자는 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각 그리고 일반적으로 0°의 입사각에서 1.5% 이하일 수 있다.
본 발명에 따라, "1.5% 이하인, "Rm ET (800-900)로 표시된, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자"는 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 1.5; 1.4; 1.3; 1.2;1.1; 1.0; 0.95; 0.90; 0.85; 0.80; 등.
바람직하게는, 평균 반사 인자(Rm ET (800-950))는 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각 그리고 일반적으로 0°의 입사각에서, 1.5% 이하, 바람직하게는 1.3% 이하, 더 바람직하게는 1.2% 이하 그리고 일반적으로 1.0% 이하일 수 있다.
또한, 본 발명의 AR 코팅의, Rm ET (800-1000)로 표시된, 800 nm 내지 1000 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자는 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각 그리고 일반적으로 0°의 입사각에서 1.5% 이하일 수 있다.
본 발명에 따라, "1.5% 이하인, "Rm ET (800-1000)로 표시된, 800 nm 내지 1000 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자"는 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 1.5; 1.4; 1.3; 1.2;1.1; 1.0; 0.95; 0.90; 0.85; 0.80; 등.
바람직하게는, 평균 반사 인자(Rm ET (800-1000))는 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각 그리고 일반적으로 0°의 입사각에서, 1.5% 이하, 바람직하게는 1.3% 이하, 더 바람직하게는 1.2% 이하 그리고 일반적으로 1.0% 이하일 수 있다.
본 발명의 AR 코팅의 이러한 특성(즉, 작은 Rm ET (800-900)또는 작은 Rm ET (800-950)그리고 심지어 작은 Rm ET (800-1000))은, 본 발명의 광학 물품이 VR/AR 머리-장착형 디스플레이 또는 ET 시스템에서 사용될 때, 교란 반사 또는 유령 이미지를 방지할 수 있게 한다.
본 발명의 특성에 따라, AR 코팅은, 0° 내지 20° 범위의 입사각에서 0.65% 이하인 작은 Rv및 0.65% 이하인 더 작은 Rm ET (800-900)를 갖거나 이를 광학 물품에 부여한다.
또한, AR 코팅은 800 내지 900 nm 범위(즉, ET 시스템에서 사용되는 NIR 범위)의 파장에서 큰 투과율 인자를 갖거나 이를 광학 물품에 부여한다.
사실상, 광학 물품은 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각에서 60% 이상, 바람직하게는 70% 이상, 그리고 특히 75% 이상인, Tm ET (800-900)로 표시된, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 투과율 인자를 갖는다.
실시형태에 따라, 평균 투과율 인자(Tm ET (800-900))는 20° 이하의 입사각에서 80% 이상, 바람직하게는 83% 이상, 특히 84% 이상이다.
다른 실시형태에 따라, 평균 투과율 인자(Tm ET (800-900))는 20° 이하의 입사각에서 86% 이상, 바람직하게는 88% 이상, 특히 90% 이상. 예를 들어 95%이다.
ET 시스템에서 사용되는 NIR의 일부에서의 이러한 큰 투과율(즉, 큰 Tm ET (800-900))은 전력 소비를 제한할 수 있게 하고, 이는 ET 조명 시스템에서 유용하다.
이어서, 본 발명의 제3 특성에 따라, AR 코팅 또는 광학 물품은 900 또는 950 nm 이상의 즉, 900 내지 1500 nm 범위 및/또는 심지어 900 내지 2000 nm 범위 및/또는 950 내지 1000 nm 및/또는 950 내지 1500 nm 범위의 NIR 영역의 파장에 대한 큰 반사를 갖는다. 사실상, 이러한 NIR 차단은, ET 시스템의 외부 환경 또는 VR/AR 머리-장착형 디스플레이로부터 오는 IR 광으로부터 광학 물품 착용자의 눈을 보호할 수 있게 한다.
이러한 특성에 도달하기 위해서, 2개의 특성이 본 발명에 의해서 제안된다.
제1 구성(A)(반사)에 따라, 다층형 간섭 코팅은 또한, 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각에서, 11.5% 이상인, Rm NIR로 표시된, 900 nm 내지 2000 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역에서의 평균 반사 인자를 가질 수 있다.
바람직하게는, AR 코팅은 20° 이하의 입사각에서 12% 이상, 바람직하게는 13% 이상, 더 바람직하게는 15% 이상, 일반적으로 20% 이상 그리고 특히 30% 이상, 예를 들어 40% 이상인 근적외선 내의 평균 반사 인자(Rm NIR)를 갖는다.
본원에서 사용된 바와 같이, 11.5% 이상인 900 nm 내지 2000 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역 내의 평균 반사 인자(Rm NIR)는 이하의 값 및/또는 이들 값들(한계 포함) 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 11.5; 12; 12.5; 13; 13.5; 14; 14.5; 15; 15.5; 16,5; 17; 17.5; 18; 18.5; 19; 19.5; 20; 21; 22; 23; 24; 25; 26; 27; 28; 29; 30; 31; 32; 33; 34; 35; 36; 37; 38; 39; 40, 등.
특히 이러한 구성(A)에 따라, 다층형 간섭 코팅은 또한, 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각에서, 11.5% 이상인, Rm NIR (950-1500)로 표시된, 950 nm 내지 1500 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역에서의 평균 반사 인자를 가질 수 있다.
예를 들어, Rm NIR (950-1500)은 20° 이하의 입사각에서 12% 이상, 바람직하게는 13% 이상, 더 바람직하게는 15% 이상, 일반적으로 20% 이상, 그리고 특히 25% 이상일 수 있다.
본원에서 사용된 바와 같이, 11.5% 이상인 Rm NIR (950-1500)는 이하의 값 및/또는 이들 값들(한계 포함) 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 11.5; 12; 12.5; 13; 13.5; 14; 14.5; 15; 15.5; 16,5; 17; 17.5; 18; 18.5; 19; 19.5; 20; 21; 22; 23; 24; 25; 등.
또한, 이러한 구성(A)에 따라, 다층형 간섭 코팅은 또한, 20° 이하, 바람직하게는 0° 내지 20° 범위의 입사각에서, 11.5% 이상인, Rm NIR (950-1000)로 표시된, 950 nm 내지 1000 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역에서의 평균 반사 인자를 가질 수 있다.
예를 들어, Rm NIR (950-1000)은 20° 이하의 입사각에서 12% 이상, 바람직하게는 13% 이상, 더 바람직하게는 15% 이상, 일반적으로 20% 이상, 그리고 특히 25% 이상일 수 있다.
본원에서 사용된 바와 같이, 11.5% 이상인 Rm NIR (950-1000)는 이하의 값 및/또는 이들 값들(한계 포함) 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 11.5; 12; 12.5; 13; 13.5; 14; 14.5; 15; 15.5; 16,5; 17; 17.5; 18; 18.5; 19; 19.5; 20; 21; 22; 23; 24; 25; 등.
제2 구성(B)(흡수)에 따라, 투명 기판은, 900 내지 2000 nm 범위의 파장의 근적외선을 흡수하는 적어도 하나의 흡수 염료를 포함할 수 있다.
본 발명에 따라, "투명 기판이 적어도 하나의 흡수 염료를 포함할 수 있다"는 표현은, 흡수 염료가 기판에 직접 포함될 수 있다는 것 및/또는 투명 기판의 표면에 직접 증착된 하나의 코팅에 포함될 수 있다는 것을 의미한다. 기판 내에 또는 상에 염료를 포함시키는 방법은 유럽 특허 EP 3327488A1에서 당업자에게 잘 알려져 있고, 그에 따라 이하에서 구체적으로 설명하지 않을 것이다. 이러한 특허는 염료를 광학 물품 또는 임의의 다른 기판의 표면 상에 증착된 에폭시 코팅에 포함시키는 다양한 방법을 설명한다.
일반적으로, 상기 적어도 하나의 흡수 염료는 적어도 기판의 주 면 중 하나에 도달하는 800 내지 900 nm 범위, 바람직하게는 700 내지 1000 nm 범위의 파장을 갖는 광의 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 60%를 투과시킬 수 있고, 적어도 기판의 주 면 중 하나에 도달하는 1000 내지 1500 nm 범위의 파장을 갖는 광의 적어도 30%, 바람직하게는 40%를 차단한다.
따라서, 본 발명에 따른 흡수 염료는, 가장 작은 컬러 값 및 큰 NIR 흡수를 갖도록 특히 NIR 영역에서 흡수하는 선택적인 염료이다.
유리하게, 적어도 하나의 흡수 염료는 가시광선 영역(380 내지 780 nm)에서 최소 흡수를 갖는다.
일반적으로, 적어도 하나의 염료는 이하의 성분의 군 중에서 선택될 수 있다: 펄렌, 폴리메틴(예를 들어, 시아닌, 스쿠아라인, 크로코나인) 디이모늄, 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌, 디티올렌 및 기타 금속 착물, 보다 새로운 구조의 퀘터린 디이미드 및 이들의 혼합물.
게다가, 이러한 유기 물질에는, 란타늄 헥사보라이드, 인듐 주석 산화물, 나노 입자 형태의 안티몬 주석 산화물, 및 코팅된 운모 재료와 같은 다른 무기 물질이 있다. 그러나, 유기 재료가 NIR 영역에서 더 선택적이다.
바람직하게는, 본 발명에 적합한 적어도 하나의 염료는 시아닌 화학물질을 포함한다. 예를 들어, Few Chemicals GmbH에 의해 상표명 S2007로 상용화된 염료가 본 발명에 적합하다.
물론, 이러한 2개의 구성(A 및 B)이 조합될 수 있다(큰 Rm NIR의 AR 코팅과 900 내지 2000 nm 범위의 파장의 근적외선 영역에서 흡수하는 특정 염료를 포함하는 투명 기판의 조합).
또한, 본 발명의 광학 물품은 이하의 특성을 포함할 수 있다.
본 발명의 특성에 따라, 광학 물품은 20° 이하의 입사각에서 80 % 이하, 바람직하게는 75% 이하, 그리고 일반적으로 65% 이하인, Tm(900-1500)로 표시된, 900 nm 내지 1500 nm 범위의 파장에 대한 평균 투과율 인자를 가질 수 있다.
본 발명의 특성에 따라, 광학 물품은 20° 이하의 입사각에서 50 % 이하, 바람직하게는 45% 이하, 그리고 일반적으로 35% 이하인 Tm(900-1500)을 가질 수 있다.
본원에서 사용된 바와 같이, 80 % 이하인 Tm(900-1500)은 이하의 값 및/또는 이들 값들(한계 포함) 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 80; 79; 78; 77; 76; 75; 74; 73; 72; 71; 70; 69; 68; 67; 66; 65; 64; 63; 62; 61; 60; 59; 58; 57; 56; 55; 54; 53; 52; 51; 50; 49; 48; 47; 46; 45; 44; 43; 42; 41; 40; 39; 38; 37; 36; 35; 등.
따라서, 본 발명에 의해서 제안된 해결책은 (ET 시스템에서 사용되는 NIR의 일부에서의 큰 투과율 즉, 큰 Tm ET (800-900)로 인해서) ET 조명 시스템에서 유용한 것으로서 전력 소비를 제한하는 한편, 이러한 NIR의 부분(작은 Rm ET (800-900))내에서 유령 이미지를 또한 제한하고 동시에 사용자/착용자의 눈에 유해할 수 있는 사용자/착용자의 외부 환경으로부터 오는 NIR 광(900 내지 1500 nm 또는 900 내지 2000 nm)을 억제하거나 감소시킬 수 있다.
이러한 목적을 위해서, 출원인은 놀랍게도, 본 발명에 따른 AR 코팅이 가시광선 영역 및 ET 시스템에서 사용되는 NIR 범위의 일부(즉, 800 내지 900 nm)에서 작은 반사도를 획득할 수 있게 하면서도, 동시에 착용자의 눈에 잠재적으로 유해한 NIR 영역(즉 900 내지 1500 nm 또는 900 내지 1500 nm)에서 큰 반사를 가질 수 있게 하거나 이를 광학 물품에 부여할 수 있다는 것을 발견하였다. 대안적으로 또는 조합적으로, 광학 물품은 이러한 파장 범위(즉, 900 내지 2000 nm) 내에서 흡수할 수 있는 염료를 포함할 수 있다.
(전술한 실시형태가 어떠하든 간에) 본 발명의 다층형 간섭 코팅의 상이한 구조들을 이제 설명할 것이다.
상기 언급한 바와 같이, 본 발명의 다층형 반사 방지 코팅은 고 굴절률(HI) 및 저 굴절률(LI)을 갖는 유전체 재료로 제조된 적어도 2개의 층의 스택을 포함한다.
바람직하게는, 반사 방지 코팅은 저 굴절률(LI)을 갖는 적어도 2개의 층, 특히 적어도 3개의 층, 및 고 굴절률(HI)을 갖는 적어도 2개의 층, 특히 적어도 3개의 층을 포함한다. 이는, 여기에서, 반사 방지 코팅의 전체 층 수가 4개 이상, 그리고 일반적으로 14개 이하이므로, 단순한 스택이다.
본 발명의 특성에 따라, 반사 방지 코팅의 전체 층 수는 4개 이상, 더 바람직하게는 5개 이상, 일반적으로 6개 이상이다.
본 발명의 다른 특성에 따라, 반사 방지 코팅의 전체 층 수는 14개 이하, 더 바람직하게는 12개 이하, 보다 더 바람직하게는 10개 이하이다.
본원에서 사용되는 바와 같이, 반사 방지 코팅의 층은 두께가 1 nm 이상인 것으로 규정된다. 따라서, 반사 방지 코팅의 층 수를 계산할 때, 두께가 1 nm 미만인 임의의 층은 고려되지 않을 것이다. 반사 방지 코팅의 층 수를 계산할 때 하기 기재되는 바와 같은 서브-층 또한 고려되지 않는다.
HI 층 및 LI 층은, 본 발명의 일 실시형태에 따라 서로 교번적일 수 있으나, 그래야 하는 것은 아니다. 2개(또는 그 초과)의 HI 층이 서로의 위에 증착될 수 있을 뿐만 아니라, 2개(또는 그 초과)의 LI 층이 서로의 위에 증착될 수 있다.
일반적으로, HI 층 및 LI 층은 본 발명에 따른 AR 코팅의 스택에서 서로 교번적이다.
유리하게는, AR 코팅은 HI 층 및 LI 층을 교번적으로 포함하고, 4개 이상, 바람직하게는 5개 이상, 그리고 특히 6개 이상의 층의 수를 갖는다.
바람직하게는, 반사 방지 코팅의 총 두께는 450 nm 이하, 더 바람직하게는 400 nm 이하, 보다 더 바람직하게는 370 nm 이하이다. 반사 방지 코팅의 총 두께는 일반적으로 250 nm 초과, 바람직하게는 300 nm 이상이다. 일반적으로, 상기 반사 방지 코팅의 물리적 두께는 300 내지 370 nm 범위이다.
본원에서 사용된 바와 같이, 450 nm 이하의 간격은 이하의 값 및/또는 이들 값들(한계 포함) 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 450; 440; 430; 420; 410; 400; 390; 380; 370; 360; 350; 340; 330; 320; 310; 300, 290; 280; 270; 260; 250; 등.
달리 언급되지 않는 한, 본 출원에 개시된 모든 두께는 물리적 두께에 관한 것이다.
본 발명의 제1 양태에 따라, AR 코팅은, 적어도, 상기 기판으로부터 멀어지는 방향으로 이하를 포함한다:
- 8 nm 내지 25 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 20 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
- 15 nm 내지 50 nm, 바람직하게는 20 nm 내지 40 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
- 110 nm 내지 200 nm, 바람직하게는 150 nm 내지 175 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
- 80 nm 내지 130 nm, 바람직하게는 90 nm 내지 125 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층.
본 발명의 제2 양태에 따라, AR 코팅은, 적어도, 상기 기판으로부터 멀어지는 방향으로 이하를 포함한다:
- 8 nm 내지 25 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 20 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
- 20 nm 내지 60 nm, 바람직하게는 30 nm 내지 50 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
- 50 nm 내지 95 nm, 바람직하게는 65 nm 내지 85 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
- 1 nm 내지 15 nm, 바람직하게는 3 nm 내지 8 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
- 50 nm 내지 90 nm, 바람직하게는 60 nm 내지 80 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
- 80 nm 내지 130 nm, 바람직하게는 90 nm 내지 125 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층.
본 발명의 제3 양태에 따라, AR 코팅은 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 바륨(Ba), 붕소(B), 카드뮴(Cd), 세륨(Ce), 코발트(Co), 크롬(Cr), 구리(Cu), 철(Fe), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 인듐(In), 이리듐(Ir), 칼륨(K), 란탄(La), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 니오븀(Nb), 납(Pb), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 레늄(Re), 안티몬(Sb), 셀레늄(Se), 규소(Si), 주석(Sn), 스트론튬(Sr), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti), 텔루륨(Te), 탈륨(Tl), 바나듐(V), 텅스텐(N), 아연(Zn) 또는 지르코늄(Zr); 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 금속으로 이루어진 적어도 하나의 연속 금속 층을 더 포함하고, 바람직하게는 금(Au)이다.
일반적으로, 이러한 연속적인 금속 층은 1 nm 내지 10 nm, 바람직하게는 1.5 nm 내지 8 nm 범위의 물리적 두께를 갖는다.
특히, 이러한 양태에 따라, AR 코팅은, 적어도, 상기 기판으로부터 멀어지는 방향으로 이하를 포함한다:
- 8 nm 내지 40 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 30 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
- 8 nm 내지 60 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 45 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
- 170 nm 내지 240 nm, 바람직하게는 180 nm 내지 225 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
- 1 nm 내지 10 nm, 바람직하게는 1.5 nm 내지 8 nm의 물리적 두께를 갖는 적어도 하나의 연속적인 금속 층;
- 8 nm 내지 40 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 30 nm의 물리적 두께를 갖는 선택적인 HI 층;
- 50 nm 내지 110 nm, 바람직하게는 55 nm 내지 100 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층.
본 발명에 따라, "8 nm 내지 40 nm의 물리적 두께를 갖는 HI 층"은 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 8; 9; 10; 11; 12; 13; 14; 15; 16; 17; 18; 19; 20; 21; 22; 23; 24; 25; 26; 27; 28; 29; 30; 31; 32; 33; 34; 35; 36; 37; 38; 39; 40.
본 발명에 따라, "8 nm 내지 60 nm의 물리적 두께를 갖는 LI 층"은 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 8; 9; 10; 11; 12; 13; 14; 15; 16; 17; 18; 19; 20; 21; 22; 23; 24; 25; 26; 27; 28; 29; 30; 31; 32; 33; 34; 35; 36; 37; 38; 39; 40; 41; 42; 43; 44; 45; 46; 47; 48; 49; 50; 51; 52; 53; 54; 55; 56; 57; 58; 59; 60.
본 발명에 따라, "170 nm 내지 240 nm의 물리적 두께를 갖는 HI 층"은 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 186, 187, 188, 189, 190, 191, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 201; 202; 203; 204; 205; 206; 207; 208; 209; 210; 211; 212; 213; 214; 215; 216; 217; 218; 219; 220; 221; 222; 223; 224; 225; 226; 227; 228; 229; 230; 231; 232; 233; 234; 235; 236; 237; 238; 239; 240.
본 발명에 따라, "1 nm 내지 10 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 연속적인 금속 층"은 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 1; 2; 3; 4; 5; 6; 7; 8; 9; 10.
본 발명에 따라, "50 nm 내지 110 nm의 물리적 두께를 갖는 LI 층"은 이하의 값 및/또는 이들 값들 사이에 포함되는 간격을 포함한다: 50; 51; 52; 53; 54; 55; 56; 57; 58; 59; 60; 61; 62; 63; 64; 65; 66; 67; 68; 69; 70; 71; 72; 73; 74; 75; 76; 77; 78; 79; 80; 81; 82; 83; 84; 85; 86; 87; 88; 89; 90; 91; 92; 93; 94; 95; 96; 97; 98; 99; 100; 101; 102; 103; 104; 105; 106; 107; 108; 109; 110.
본 발명의 다른 특성에 따라, AR 코팅은 하기 기재된 바와 같은 정전기 방지 층(또한 전기 전도성 층으로서 명명됨)을 포함할 수 있다. 일반적으로, 이러한 정전기 방지 층은 기판으로부터 멀리 이동하는 방향으로 그리고 바람직하게는 "LI 외부 층"(즉, 기판으로부터 가장 먼 Li 층) 바로 아래에 배치된다.
본 발명에 따라, HI 층은 당업계에 잘 알려진 통상적인 고 굴절률 층이다. 이는 일반적으로 제한 없이, 지르코니아(ZrO2),알루미나(Al2O3),오산화탄탈럼(Ta2O5),산화프라세오디뮴(Pr2O3),티탄산프라세오디뮴(PrTiO3),산화란탄(La2O3),산화이트륨(Y2O3),산화니오븀(Nb2O5),이산화티타늄(TiO2)및 이들의 혼합물과 같은 하나 이상의 금속 산화물을 포함한다. 바람직한 재료에는 지르코니아(ZrO2),오산화탄탈럼(Ta2O5)이 포함된다. 본 발명의 특징에 따라, HI 층은 지르코니아(ZrO2)(1.997의 굴절률)이다. 선택적으로, HI 층은 실리카 또는 저 굴절률을 갖는 다른 재료를 추가로 함유할 수 있되, 단 이들은 본원에서 상기 나타낸 바와 같이 1.55 이상, 바람직하게는 1.6 이상의 굴절률을 가져야 한다.
또한, LI 층은 잘 알려져 있으며, 제한 없이, MgF2,SiO2,실리카와 알루미나의 혼합물, 특히 알루미나로 도핑된 실리카(후자는 반사 방지 코팅 내열성을 증가시키는 데 기여함), 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. LI 층은 층의 총 중량에 대해, 바람직하게는 적어도 80 중량%의 실리카, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%의 실리카를 포함하는 층이며, 보다 더 바람직하게는 실리카 층(SiO2)(1.473의 굴절률)으로 이루어진다. 선택적으로, LI 층은, 높은 굴절률 또는 매우 높은 굴절률을 갖는 재료를 추가로 함유할 수 있되, 단 생성된 층의 굴절률은 1.55 미만이어야 한다.
SiO2와 Al2O3의 혼합물을 포함하는 LI 층이 사용되는 경우, LI 층은 그러한 층 중의 SiO2+Al2O3총 중량에 대해 바람직하게는 1 내지 10 중량%, 보다 바람직하게는 1 내지 8 중량%, 보다 더 바람직하게는 1 내지 5 중량%의 Al2O3을 포함한다.
예를 들어, 4 중량% 이하의 Al2O3으로 도핑된 SiO2,또는 8%의 Al2O3으로 도핑된 SiO2가 사용될 수 있다. Umicore Materials AG 사에서 판매하는 LIMA®(550nm에서 굴절률 n = 1.48 내지 1.50), 또는 Merck KGaA 사에서 판매하는 L5®(500nm에서 굴절률 n = 1.48)와 같은 시중에서 입수 가능한 SiO2/Al2O3혼합물이 사용될 수 있다.
상기 언급된 바와 같이, 본 발명의 안과용 렌즈는 적어도 하나의 전기 전도성 층을 물품의 표면 상에 존재하는 스택에 포함시킴으로써 정전기 방지로 제조될 수 있고, 즉 상당한 정전하를 유지 및/또는 발생시키지 않도록 제조될 수 있다.
천 조각으로 문지르거나 임의의 다른 절차를 사용하여 정전하(코로나 등에 의해 인가된 전하)를 발생시킨 후 얻어진 정전하를 제거하는 유리의 능력은 상기 전하가 소멸하는 데 걸리는 시간을 측정하여 정량화될 수 있다. 따라서, 정전기 방지 유리는 약 수백 밀리초, 바람직하게는 500 ms 이하의 방전 시간을 갖는 반면, 정전기 유리의 경우 방전 시간은 약 수십 초이다. 본원에서, 방전 시간은 프랑스 특허 출원 FR 2 943 798에 개시된 방법에 따라 측정된다.
본원에서 사용되는 바와 같이, "전기 전도성 층" 또는 "정전기 방지 층"은 비정전기 방지 기판(즉, 500 ms 초과의 방전 시간을 가짐)의 표면 상에 존재하여, 정전하가 표면 상에 인가된 후 500 ms 이하의 방전 시간을 가지게 할 수 있는 층을 의미하는 것으로 의도된다.
전기 전도성 층은 스택의 다양한 위치에, 일반적으로는 반사 방지 코팅 내에 또는 반사 방지 코팅과 접촉하여 위치할 수 있되, 단 이의 반사 방지 특성은 영향을 받지 않아야 한다. 이는 바람직하게는 반사 방지 코팅의 두 층 사이에 위치하고/하거나, 그러한 반사 방지 코팅의 고 굴절률을 갖는 층에 인접한다. 바람직하게는, 전기 전도성 층은 반사 방지 코팅의 저 굴절률을 갖는 층 바로 아래에 위치하고, 가장 바람직하게는 반사 방지 코팅의 실리카 기반의 외부 층, 예를 들어 "LI 외부 층" 바로 아래에 위치함으로써 반사 방지 코팅의 끝에서 두 번째 층이다.
전기 전도성 층은 반사 방지 코팅의 투명도를 변경하지 않을 정도로 충분히 얇아야 한다. 전기 전도성 층은 바람직하게는 전기 전도성의 매우 투명한 재료, 일반적으로는 선택적으로 도핑된 금속 산화물로 제조된다. 이 경우, 이의 두께는 바람직하게는 1 내지 15 nm, 보다 바람직하게는 1 내지 10 nm로 다양하다. 바람직하게는, 전기 전도성 층은 인듐, 주석, 아연 산화물, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는, 선택적으로 도핑된 금속 산화물을 포함한다. 주석-인듐 산화물(In2O3:Sn,주석 도핑된 인듐 산화물), 알루미늄 도핑된 아연 산화물(ZnO:Al), 산화인듐(In2O3),및 산화주석(SnO2)이 바람직하다. 가장 바람직한 실시형태에서, 전기 전도성의 광학적으로 투명한 층은 ITO 층으로 표시되는 주석-인듐 산화물 층 또는 산화주석 층이다.
C°) 서브-층
본 발명의 일 실시형태에서, 반사 방지 코팅은 서브-층 상으로 증착될 수 있다. 그러한 서브-층은 반사 방지 코팅에 속하지 않음에 유의해야 한다.
본원에서 사용되는 바와 같이, 서브-층 또는 접착 층은, 상기 코팅의 내마모성 및/또는 내스크래치성과 같은 기계적 특성을 개선하기 위해, 및/또는 기판 또는 하부 코팅에 대한 이의 접착력을 강화하기 위해 사용되는, 비교적 두꺼운 코팅을 의미하는 것으로 의도된다.
비교적 큰 두께로 인해, 서브-층은 특히 하부 기판(일반적으로 마모 방지 및 스크래치 방지 코팅 또는 베어 기판임)의 굴절률에 가까운 굴절률을 갖는 경우, 일반적으로 반사 방지 광학 활동에 관여하지 않는다.
서브-층은, 반사 방지 코팅의 마모 방지를 촉진시키기에 충분하지만, 바람직하게는, 서브-층 특성에 따라, 상대 투과율(τv)을 크게 감소시킬 수 있는 광 흡수가 유발될 수 있는 정도까지는 아닌 두께를 가져야 한다. 이의 두께는 대체로 300 nm 미만, 보다 바람직하게는 200 nm 미만이고, 대체로 90 nm 초과, 보다 바람직하게는 100 nm 초과이다.
바람직하게는, 서브-층은 SiO2기반의 층을 포함하며, 이러한 층은, 층의 총 중량에 대해, 바람직하게는 적어도 80 중량%의 실리카, 보다 바람직하게는 적어도 90 중량%의 실리카를 포함하고, 보다 더 바람직하게는 실리카 층으로 이루어진다. 이러한 실리카계 층의 두께는 대체로 300 nm 미만, 보다 바람직하게는 200 nm 미만이고, 대체로 90 nm 초과, 보다 바람직하게는 100 nm 초과이다.
특정 실시형태에서, 서브-층은 SiO2층으로 이루어진다.
실시형태에 따라, 반사 방지 코팅은 전술한 바와 같은 서브-층 상으로 증착되지 않는다.
D°) 프로세스
반사 방지 코팅의 여러 층 및 선택적인 서브-층은 바람직하게는 i) 선택적으로 이온-빔 보조 증발에 의한 방법; ii) 이온-빔 스퍼터링에 의한 방법; iii) 캐소드 스퍼터링에 의한 방법; iv) 플라즈마-보조 화학증착에 의한 방법 중 어느 하나에 따라, 진공 하에서 화학 증착에 의해서 증착된다. 이러한 다양한 방법은 이하의 참조 문헌 ["Thin Film Processes"] 및 ["Thin Film Processes II," Vossen & Kern, Ed., Academic Press, 1978 and 1991]의 각각에서 설명된다. 특히 권장되는 방법은 진공 하의 증발이다.
바람직하게는, 반사 방지 코팅의 각각의 층 및 선택적인 서브-층의 증착은, 진공상태에서의 증발에 의해 수행된다.
E°) 다른 기능성 층
일반적으로, 반사 방지 코팅이 증착될 기판의 전방 및/또는 후방 주 면은, 내충격성 프라이머 층, 마모 방지 및/또는 스크래치 방지 코팅으로 코팅되거나, 마모 방지 및/또는 스크래치 방지 코팅으로 코팅된 내충격성 프라이머 층으로 코팅된다.
본 발명의 반사 방지 코팅은 바람직하게는 마모 방지 및/또는 스크래치 방지 코팅 상으로 증착된다. 마모 방지 및/또는 내스크래치성 코팅은, 안과용 렌즈 분야에서 마모 방지 및/또는 스크래치 방지 코팅으로 통상적으로 사용되는 임의의 층일 수 있다.
바람직하게는, 마모 방지 및/또는 내스크래치성 코팅은, 폴리(메트)아크릴레이트 또는 실란을 기반으로 하는 하드 코팅이며, 일반적으로, 경화될 때 코팅의 경도 및/또는 굴절률을 증가시키도록 의도된 하나 이상의 무기 충전제를 포함한다.
바람직하게는, 마모 방지 및/또는 내스크래치성 하드 코팅은, 예를 들어 염산 용액을 사용한 가수 분해 및 선택적으로 축합 및/또는 경화 촉매를 통해 수득되는, 적어도 하나의 알콕시실란 및/또는 이의 가수분해물을 포함하는 조성물로부터 제조된다.
본 발명에 권장되는 적합한 코팅은, FR 2 702 486(EP 0 614 957), US 4,211,823 및 US 5,015,523 특허에 기재된 것과 같은 에폭시실란 가수분해물을 기초로 하는 코팅을 포함한다.
마모 방지 및/또는 내스크래치성 코팅 조성물은, 딥-코팅 또는 스핀-코팅에 의해 기판의 주 면 상으로 증착될 수 있다. 그 다음, 이는 적합한 방법으로(바람직하게는 열 또는 자외선 방사를 사용하여) 경화된다.
마모 방지 및/또는 내스크래치성 코팅의 두께는 일반적으로 2 내지 10 ㎛, 바람직하게는 3 내지 5 ㎛로 다양하다.
내마모성 코팅 및/또는 내스크래치성 코팅을 증착하기 전에, 최종 제품에서 후속 층의 접착력 및/또는 내충격성을 개선하기 위한 프라이머 코팅을 기판 상으로 도포하는 것이 가능하다. 이러한 코팅은, 안과용 렌즈와 같은 투명 중합체 재료의 물품에 통상적으로 사용되는 임의의 내충격성 프라이머 층일 수 있다.
바람직한 프라이머 조성물은, 폴리우레탄을 기반으로 한 조성물, 및 라텍스, 특히 폴리에스테르 단위를 선택적으로 함유하는 폴리우레탄 유형 라텍스를 기반으로 한 조성물이다.
그러한 프라이머 조성물은 딥-코팅 또는 스핀-코팅에 의해 물품 면 상으로 증착될 수 있으며, 그 후에, 적어도 70℃ 그리고 100℃ 이하, 바람직하게는 약 90℃의 온도에서, 2분 내지 2시간 범위, 일반적으로 약 15분 동안 건조됨으로써, 경화 후에, 0.2 내지 2.5 ㎛, 바람직하게는 0.5 내지 1.5 ㎛의 두께를 갖는 프라이머 층이 형성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 안과용 렌즈는, 반사 방지 코팅 상에 형성되어 이의 표면 특성을 변경할 수 있는 코팅(예를 들어, 소수성 및/또는 소유성(oleophobic) 코팅(오염 방지 탑 코트))을 포함할 수 있다. 이들 코팅은 바람직하게는 반사 방지 코팅의 외부 층 상으로 증착된다. 대체로, 이들의 두께는 10 nm 이하이고, 바람직하게는 1 내지 10 nm의 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 5 nm의 범위이다.
소수성 코팅 대신에, 김서림 방지 특성을 제공하는 친수성 코팅, 또는 계면활성제와 결합될 때 김서림 방지 특성을 제공하는 김서림 방지 전구체 코팅이 사용될 수 있다. 이러한 김서림 방지 전구체 코팅의 실시예는 WO 2011/080472 특허 출원에 기재되어 있다.
전형적으로, 본 발명에 따른 안과용 렌즈는, 그 후방 면 상에, 내충격성 프라이머 층, 마모 방지 및 내스크래치성 층, UV 방지, 반사 방지 코팅으로, 그리고 소수성 및/또는 소유성 코팅으로, 또는 김서림 방지 특성을 제공하는 친수성 코팅, 또는 김서림 방지 전구체 코팅으로 연속적으로 코팅되는 기판을 포함한다.
안과용 렌즈의 기판의 전면은 내충격성 프라이머 층, 내마모성 층 및/또는 내스크래치성 층, 본 발명에 따른 반사 방지 코팅으로, 그리고 소수성 및/또는 소유성 코팅으로 연속적으로 코팅될 수 있다.
본 발명에 따른 광학 물품은 바람직하게는 안과용 렌즈, 예컨대 안경 렌즈, 또는 안경 렌즈용 블랭크이다. 렌즈는 편광 렌즈, 광변색 렌즈 또는 태양광 렌즈일 수 있고, 이들은 착색되거나 되지 않을 수 있고, 교정되거나 교정되지 않을 수 있다.
따라서, 본 발명은 층들로 제조된 비교적 얇은 스택을 포함하는 개선된 고안의 반사 방지 코팅을 제공하며, 이의 두께 및 재료는 만족스러운 반사 방지 성능을 얻고, 견고성 및 우수한 미용적 외관을 가지면서도, NIR 영역 및 가시광선 영역에서 동시에 매우 낮은 반사를 가짐을 우수하게 절충하도록 선택된다.
3. 광학 장치
본 발명은 또한 후술될 광학 장치에 관한 것이다.
특히, 광학 장치는 적어도 짙은 적색 및 근적외선 영역에서 방출되는 광 공급원 및 상기 정의된 바와 같은 광학 물품(즉, 구성(들) A 및 B를 갖는 실시형태 1 또는 실시형태 2)을 포함한다.
일반적으로, 광학 물품은 안과용 렌즈이고, 본 발명에 따른 광학 물품에 대해 상기 기재된 모든 특징들을 조합하거나 조합하지 않고 포함한다. 일반적으로, 이러한 광학 물품은 시선 추적 장치, 증강 현실 장치 또는 가상 현실 장치이거나, 그에 포함된다.
예를 들어, 광학 장치는 특허 출원 PCT/EP2019/074697에 기재된 것에 상응할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 광학 장치는 안과용 렌즈(상기 기재된 바와 같음) 및 짙은 적색 및 근적외선 영역, 즉 700 nm 내지 2500 nm 범위의 파장에서 방출되는 광 공급원을 포함할 수 있다.
예를 들어, 광 공급원은 발광 다이오드(LED)일 수 있다.
해당 광 공급원으로부터 방출되는 광을 검출하기 위해, NIR 파장에 민감한 비디오 카메라, 예를 들어, 임의의 짙은 적색 및 NIR 필터가 없는 CCD(전하 결합 장치) 유형 또는 CMOS(상보적 금속 산화물 반도체) 유형의 카메라를 사용할 수 있다. 변형으로서, 카메라 대신에, 단일 짙은 적색 및 NIR 센서 또는 PSD(위치 감지 검출기) 센서 또는 다른 임의의 적절한 센서의 어레이를 사용할 수 있다.
예를 들어, 도 2는 본 발명에 따른 광학 장치를 포함하는 증강 현실 장치 또는 가상 현실 장치에서의 비제한적인 배열의 예를 나타낸다.
광학 장치는, 한편의 사용자의 눈(14)과 다른 한편의 광 광학 요소(12) 사이에 배치된 안과용 렌즈(10)를 포함한다. 광 광학 요소(12)는, 예를 들어, 광을 사용자의 눈(14)에 커플링하기 위한 커플링 수단 및 광을 사용자의 눈(14) 쪽으로 아웃커플링하기 위한 아웃커플링 수단을 갖는 도파관일 수 있어서, 사용자가 가상 이미지를 지각할 수 있다.
광 광학 요소(12)를 통과하고 안과용 렌즈(10)를 통과하는 수평 화살표(11)는 환경으로부터 나오는 광을 나타낸다.
짙은 적색 및 NIR 시선 추적기가 또한 증강 현실 장치 또는 가상 현실 장치에 포함된다. 짙은 적색 및 NIR 시선 추적기는 짙은 적색 및 NIR 카메라(16) 및 적어도 하나의 짙은 적색 및 NIR 광 공급원(18)을 포함하며, 광 공급원(18)은 본 발명에 따른 광학 장치에 포함된다.
도 2에 나타낸 실시형태에서, 광 공급원(18)은 광 광학 요소(12)와 안과용 렌즈(10) 사이에 배치되는 한편, 카메라(16)는 광 광학 요소(12) 앞에 배치된다.
변형으로서, 카메라(16) 및 광 공급원(18)은 광 광학 요소(12) 앞에 배치될 수 있다.
다른 변형으로서, 광 광학 요소(12)는 가상 이미지를 제공하고 광 조명을 제공하는 데 모두 사용될 수 있다. 이어서, 눈(14)에 의해 반사되는 광은 광 광학 요소(12)로 다시 돌아와 짙은 적색 및 NIR 광 센서로 재지향될 수 있다.
안과용 렌즈(10)는 사용자에게 광학 기능을 제공할 수 있다. 이는, 예를 들어, 교정 렌즈, 즉, 근시, 원시, 난시, 및/또는 노안을 치료하기 위한 굴절 이상이 있는 사용자를 위한 구면형, 원통형, 및/또는 추가 유형의 굴절력 렌즈일 수 있다. 렌즈(10)는, 일정한 굴절력을 가질 수 있어서, 단초점 렌즈처럼 굴절력을 제공하거나 가변 굴절력을 갖는 누진 렌즈일 수 있다.
이는 또한, 그 후방 주 면 및/또는 그 전방 주 면 상에서, 바람직하게는 그 후방 주 면 및 그 전방 주 면 모두 상에서, 가시광선 영역 및 ET 시스템에서 사용되는 NIR 영역의 일부(800 내지 900 nm) 모두에서 적어도 매우 작은 반사도를 갖는 전술한 AR 코팅을 포함한다.
사실상, 전술한 구성(A)에 따라, 안과용 렌즈(10)는 그 후방 주 면 및 그 전방 주 면 상에서 이하의 특성을 만족시키는 AR 코팅을 포함한다: 적어도 35° 이하의 입사각에서 2.5% 이하인 Rv,20°이하의 입사각에서 1.5% 이하의 Rm ET (800-900),및 20° 이하의 입사각에서 11.5% 이상, 바람직하게는 12% 이상인 Rm NIR.
대안적으로, 전술한 구성(B)에 따라, 안과용 렌즈(10)는 900 내지 2000 nm 범위의 근적외선 영역에서 흡수하는 하나의 흡수 염료, 그리고 그 후방 주 면 및 그 전방 주 면 상에서, 적어도 이하의 특성을 만족시키는 AR 코팅을 포함한다: 적어도 35° 이하의 입사각에서 2.5% 이하, 바람직하게는 0.65% 이하인 Rv,및 20° 이하의 입사각에서 1.5% 이하, 바람직하게는 0.65% 이하인 Rm ET (800-900).따라서, 이러한 구성에 따라, 900 내지 2000 nm 범위의 NIR 영역에서의 큰 반사는 투명 기판 내의 염료의 존재에 기인한다.
대안적으로, 구성(A)(AR 코팅으로부터 얻어진 NIR 제거)과 구성(B)(900 내지 2000 nm를 흡수하는 흡수 염료의 기판 내로의 통합)을 조합하여 900 내지 2000 nm 범위의 NIR 보호의 레벨을 또한 높일 수 있다.
어떠한 구성이든 간에, 본 발명에 따른 안과용 렌즈의 상이한 구성들은 (ET 시스템에서 사용되는 NIR의 일부에서의 큰 투과율 즉, 큰 Tm ET (800-900)로 인해서) ET 조명 시스템에서 유용한 것으로서 전력 소비를 제한하는 한편, 이러한 NIR의 부분(작은 Rm ET (800-900))내에서 유령 이미지를 또한 제한하고 동시에 사용자/착용자의 눈에 유해할 수 있는 사용자/착용자의 외부 환경으로부터 오는 NIR 광(900 내지 1500 nm 또는 900 내지 2000 nm)을 억제하거나 감소시킬 수 있다.
이하의 실시예는 본 발명을 더 구체적으로, 그러나 비제한적인 방식으로 설명한다.
4. 실시예
A°) 일반적인 절차
실시예에서 사용된 광학 물품은, 그 전방 면에 1.5의 굴절률을 갖는 3 μm 두께의 하드 코트(즉, Mithril 1.5)가 코팅된, 65 mm 직경, 1.60의 굴절률(MITSUI의 MR-8®렌즈) 및 -2.00 디옵터의 굴절력 및 1.2 mm의 중심 두께를 갖는 렌즈 기판을 포함한다.
본 발명에 따른 반사 방지 코팅의 층은, 기판을 가열하지 않고 진공 하의 증발(증발 공급원: 전자 총)에 의해서 테스트 렌즈의 전방 면 및 후방 면 모두에 증착되었다.
증착 프레임은, 산화물 및 금속을 증발시키기 위한 전자 총(ESV14(8 kV))이 장착되고, 예비 단계에서 아르곤 이온(IPC)을 사용하여 기판의 표면을 준비하기 위한 그리고 이온 보조 증착(IAD)으로 금속 층(Au)을 증발시키기 위한 이온 총(Commonwealth Mark II)이 구비된 Leybold 1104 기계이다.
특히, Ta2O5,ZrO2및 SiO2의 증착 단계는 통상적인 것이고 당업자에게 잘 알려져 있다.
층의 두께는 석영 마이크로저울(microbalance)에 의해 제어되었다. 스펙트럼 측정은, URA 부속품(Universal Reflectance Accessory)을 갖는 가변 입사-분광광도계 Perkin-Elmer Lambda 850을 사용하여 수행되었다.
B°) 테스트 절차
광학 물품/렌즈를 제조하는 방법은 마모 방지 및 내스크래치성 코팅으로 코팅된 기판을 진공 증착 챔버 내로 도입하는 단계, 고 진공이 될 때까지 펌핑하는 단계, 아르곤 이온 빔을 사용하여 기판의 전방 면을 활성화하는(애노드 전류: 1 A, 애노드 전압: 100 V, 중화 전류: 130 mA) 단계, 이온 조사를 중단하는 단계, 연속 증발에 의해 반사 방지 코팅의 다양한 층을 후방 면 상에 형성하는 단계, 및 최종 환기 단계를 포함한다.
* 구성(A)
특히, 렌즈(1 내지 6)의 투명 기판은 어떠한 흡수 염료도 포함하지 않는다(내부에 염료가 없는 블랭크 렌즈).
* 구성(B)
또한, 렌즈(10 내지 15)에 대해서, 문헌 EP 3 327 488에서 설명된 방법에 따라 염료(S2007)가 기판에 첨가된다. 사실상, S2007 시아닌 염료는 EP 3327488A1에서 언급된 에폭시 코팅 내에서 그리고 또한 Mithril 1.5 하드 코드 및 MR 8 기판에서 매우 양호한 용해도를 나타냈다.
렌즈(10, 12 및 14)의 기판은 3 ppm의 염료를 포함하고, 렌즈(11, 13 및 15)의 기판은 5 ppm의 염료를 포함한다.
C°) 결과
본 발명에 따른 실시예 1 내지 15에서 얻어진 안과용 렌즈(1 내지 15)의 구조적 특성 및 광학적 성능을 이하에서 구체적으로 설명한다.
이러한 렌즈(2 내지 6)의 400 내지 2000 nm의 반사 그래프가 15°의 입사각으로 도 3에 도시되어 있고, 렌즈(10 내지 13)(글로벌 렌즈)에 대한 300 내지 1500 nm의 투과율 그래프가 15°의 입사각으로 도 4 및 도 5에 도시되어 있다.
광학 값들은 전방 면의 광학 값들이다. 반사된 광의 인자 Rv(%),Tv(%),Rm ET (800-900),Tm ET (800-900),Rm NIR,Tm(900-1500)은 0°의 입사각, 표준 발광체 D65 및 표준 관찰자(각도 10°)에 대해서 제공되었다.
구조
본 발명에 따라 테스트된 렌즈(1 내지 9)는, 그 후방 주 면 및 전방 주 면에서, 실시예 1 내지 9에서 설명된 AR 코팅을 포함하고(양쪽 면에서 동일한 실시예), 기판("서브"는 기판을 의미한다)으로부터 멀어지는 방향으로 이하의 구조(nm - 물리적 두께)를 갖는다:
[표 1]
Figure pct00004
[표 2]
Figure pct00005
[표 3]
Figure pct00006
본 발명에 따른 테스트된 렌즈(10 내지 15)는, 그 후방 주 면 및 전방 주 면 상에서, 실시예 10 내지 13에서(양쪽 면에서 동일 실시예) 설명된 AR 코팅을 각각 포함하고, 기판으로부터 멀어지는 방향으로 이하의 구조(nm - 물리적 두께)를 갖는다:
- 렌즈(10 및 11)은 렌즈(2)와 동일한 구조를 가지나, 기판(MR8)은 3 또는 5 ppm을 각각 포함하고;
- 렌즈(12 및 13)은 렌즈(6)와 동일한 구조를 가지나, 기판(MR8)은 3 또는 5 ppm을 각각 포함하고;
- 렌즈(14 및 15)은 렌즈(1)와 동일한 구조를 가지나, 기판(MR8)은 3 또는 5 ppm을 각각 포함한다.
광학적 특성(도 3 내지 도 5)
* 구성(A): 렌즈(1 내지 9)
[표 4]
Figure pct00007
ND: 결정되지 않음
따라서, 표 4에 기재된 바와 같이, 본 발명에 따른 렌즈(1 내지 9)는 가시광선 영역 및 ET 시스템에서 사용되는 NIR 범위의 일부(즉, 800 내지 900 nm 및/또는 800 내지 950 nm 및/또는 800 내지 1000 nm) 모두에서 작은 반사도를 획득할 수 있게 하면서도, 동시에 착용자의 눈에 잠재적으로 유해한 NIR 영역(즉 900 내지 2000 nm 및/또는 950 내지 1500 nm 및/또는 950 내지 1000 nm)에서 큰 반사를 가질 수 있게 하거나 이를 광학 물품에 부여할 수 있다. 또한, ET 시스템에서 사용되는 NIR 범위의 일부(즉, 800 내지 900 nm)에서의 투과율이 최적화된다.
* 구성(B): (염료를 갖는) 렌즈(10 내지 15)
[표 5]
렌즈(2)-금속 층 없음(염료 없음), 렌즈(7)(염료 3 ppm), 및 렌즈(8)(염료 5 ppm)
Figure pct00008
[표 6]
렌즈(6)-금속 층 없음(염료 없음), 렌즈(12)(염료 3 ppm), 및 렌즈(13)(염료 5 ppm)
Figure pct00009
[표 7]
렌즈(1)-금속 층 없음(염료 없음), 렌즈(11)(염료 3 ppm), 및 렌즈(12)(염료 5 ppm)
Figure pct00010
이러한 표 5 및 7은, ET 시스템에서 사용되는 NIR 파장의 일부에서의 투과율은, ET 조명 시스템에서 사용되는 전력 소비를 제한할 수 있도록 큰 반면, (ET 시스템의 착용자의 외부 환경에 상응하는) 900 내지 1500 nm 범위의 NIR에서의 투과율은, 특히 염료가 사용될 때, 상대적으로 작다는 것을 보여 준다. 사실상, 렌즈(10 내지 15)의 기판 내의 염료의 존재는 특히, 염료가 없는 값(렌즈(2, 6 및 1)에 비해서, Tm(900-1500)의 값을 더 작게 할 수 있다.
이러한 특성은 착용자의 눈을 이러한 NIR 광으로부터 보호할 수 있게 한다.

Claims (15)

  1. 전방 주 면 및 후방 주 면을 갖는 투명 기판을 포함하는 광학 물품으로서, 상기 주 면의 적어도 하나는 다층형 간섭 코팅으로 코팅되고, 상기 다층형 간섭 코팅은 1.55 이상의 굴절률을 갖는 적어도 하나의 고굴절률 층(HI) 및 1.55 미만의 굴절률 층을 갖는 적어도 하나의 저굴절률 층(LI)의 스택을 포함하고, 상기 다층형 간섭 코팅은:
    * 적어도 35° 이하의 입사각에서 2.5% 이하인, Rv로 표시되는, 가시광선 영역 내의 평균 광 반사 인자;
    * 20° 이하의 입사각에서 1.5% 이하인, Rm ET (800-900)으로 표시되는, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 반사 인자를 가지며,
    * 상기 다층형 간섭 코팅은 20° 이하의 입사각에서 11.5 % 이상의, Rm NIR로 표시된, 900 nm 내지 2000 nm 범위의 근적외선(NIR) 영역 내의 평균 반사 인자를 가지고/가지거나, 상기 투명 기판은, 900 nm 내지 2000 nm 범위의 파장의 근적외선 영역 내에서 흡수하는 적어도 하나의 흡수 염료를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 물품.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은 20° 이하의 입사각에서 12% 이상, 바람직하게는 13% 이상, 더 바람직하게는 15% 이상, 일반적으로 20% 이상 그리고 특히 30% 이상, 예를 들어 40% 이상인 근적외선 내의 평균 반사 인자(Rm NIR)를 가지는, 광학 물품.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은, 20° 이하의 입사각에서 1% 이하, 바람직하게는 0.9% 이하, 일반적으로 0.8% 이하, 그리고 특히 0.7% 이하인 평균 반사 인자(Rm ET (800-900))를 가지는, 광학 물품.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은, 20° 이하의 입사각에서 1% 이하, 바람직하게는 0.9% 이하, 일반적으로 0.8% 이하인, 평균 반사 인자(Rm ET (800-950))및/또는 평균 반사 인자(Rm ET (800-1000))를 가지는, 광학 물품.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 물품은 20° 이하의 입사각에서 60% 이상, 바람직하게는 70% 이상, 그리고 특히 75% 이상인, Tm ET (800-900)로 표시된, 800 nm 내지 900 nm 범위의 파장에 대한 평균 투과율 인자를 가지는, 광학 물품.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 물품은 20° 이하의 입사각에서 80 % 이하, 바람직하게는 75% 이하, 그리고 일반적으로 65% 이하인, Tm(900-1500)로 표시된, 900 nm 내지 1500 nm 범위의 파장에 대한 평균 투과율 인자를 가지는, 광학 물품.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 흡수 염료는 적어도 상기 기판의 주 면 중 하나에 도달하는 800 내지 900 nm 범위, 바람직하게는 700 내지 1000 nm 범위의 파장을 갖는 광의 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 60%를 투과시킬 수 있고, 적어도 상기 기판의 주 면 중 하나에 도달하는 1000 내지 1500 nm 범위의 파장을 갖는 광의 적어도 30%, 바람직하게는 40%를 차단하는, 광학 물품.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은 HI 층 및 LI 층을 교번적으로 포함하고, 4 이상의 층의 수를 가지는, 광학 물품.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은, 적어도, 상기 기판으로부터 멀어지는 방향으로:
    - 8 nm 내지 25 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 20 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
    - 15 nm 내지 50 nm, 바람직하게는 20 nm 내지 40 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
    - 110 nm 내지 200 nm, 바람직하게는 150 nm 내지 175 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
    - 80 nm 내지 130 nm, 바람직하게는 90 nm 내지 125 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층을 포함하는, 광학 물품.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은, 적어도, 상기 기판으로부터 멀어지는 방향으로:
    - 8 nm 내지 25 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 20 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
    - 20 nm 내지 60 nm, 바람직하게는 30 nm 내지 50 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
    - 50 nm 내지 95 nm, 바람직하게는 65 nm 내지 85 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
    - 1 nm 내지 15 nm, 바람직하게는 3 nm 내지 8 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
    - 50 nm 내지 90 nm, 바람직하게는 60 nm 내지 80 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
    - 80 nm 내지 130 nm, 바람직하게는 90 nm 내지 125 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층을 포함하는, 광학 물품.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 바륨(Ba), 붕소(B), 카드뮴(Cd), 세륨(Ce), 코발트(Co), 크롬(Cr), 구리(Cu), 철(Fe), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 인듐(In), 이리듐(Ir), 칼륨(K), 란탄(La), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 니오븀(Nb), 납(Pb), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 레늄(Re), 안티몬(Sb), 셀레늄(Se), 규소(Si), 주석(Sn), 스트론튬(Sr), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti), 텔루륨(Te), 탈륨(Tl), 바나듐(V), 텅스텐(N), 아연(Zn) 또는 지르코늄(Zr); 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 금속으로 이루어진 적어도 하나의 연속 금속 층을 더 포함하고, 바람직하게는 금(Au)인, 광학 물품.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 다층형 간섭 코팅은, 적어도, 상기 기판으로부터 멀어지는 방향으로:
    - 8 nm 내지 40 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 30 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
    - 8 nm 내지 60 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 45 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층;
    - 170 nm 내지 240 nm, 바람직하게는 180 nm 내지 225 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 HI 층;
    - 1 nm 내지 10 nm, 바람직하게는 1.5 nm 내지 8 nm의 물리적 두께를 갖는 적어도 하나의 연속적인 금속 층;
    - 8 nm 내지 40 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 30 nm의 물리적 두께를 갖는 선택적인 HI 층;
    - 50 nm 내지 110 nm, 바람직하게는 55 nm 내지 100 nm의 물리적 두께를 갖는 하나의 LI 층을 포함하는, 광학 물품.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 물품의 2개의 주 면들이 상기 다층형 간섭 코팅으로 코팅되는, 광학 물품.
  14. 짙은 적색 및 근적외선 영역을 방출하는 광 공급원을 포함하는 광학 장치에 있어서, 제1항 내지 제13항에서 정의된 바와 같은 광학 물품을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 광학 장치가 증강 현실 장치, 가상 현실 장치, 또는 눈 추적 장치인 것을 특징으로 하는 광학 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53111336A (en) 1977-03-11 1978-09-28 Toray Ind Inc Coating composition
JPH0642002B2 (ja) 1983-07-29 1994-06-01 セイコーエプソン株式会社 プラスチックレンズ
JPS6032001A (ja) * 1983-08-01 1985-02-19 Minolta Camera Co Ltd 反射防止膜
FR2702486B1 (fr) 1993-03-08 1995-04-21 Essilor Int Compositions de revêtement antiabrasion à base d'hydrolysats de silanes et de composés de l'aluminium, et articles revêtus correspondants résistants à l'abrasion et aux chocs.
DE69620065T2 (de) * 1995-07-06 2002-11-14 Sony Corp Elektrisch leitender, Antireflektionsbelag
JPH1096801A (ja) * 1996-06-12 1998-04-14 Asahi Glass Co Ltd 光吸収性反射防止体およびその製造方法
EP1291331A3 (de) * 2001-09-10 2004-02-25 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Beschichtung mit photoinduzierter Hydrophilie
JP4190773B2 (ja) * 2002-02-26 2008-12-03 オリンパス株式会社 反射防止膜と光学レンズ及び光学レンズユニット
FR2858816B1 (fr) * 2003-08-13 2006-11-17 Saint Gobain Substrat transparent comportant un revetement antireflet
JP2007519037A (ja) * 2003-12-18 2007-07-12 エーエフジー インダストリーズ，インコーポレイテッド 腐食及び傷耐性を向上させた光学コーティングのため保護層
CN1657976A (zh) * 2004-02-16 2005-08-24 柯尼卡美能达精密光学株式会社 光学元件和光接收装置
FR2895522B1 (fr) * 2005-12-23 2008-04-11 Saint Gobain Substrat transparent comportant un revetement antireflet
JP4958594B2 (ja) * 2007-03-22 2012-06-20 富士フイルム株式会社 反射防止膜、光学素子および光学系
EP2128658A3 (en) * 2008-05-22 2011-05-11 Fujinon Corporation Reflection reducing film, optical member and optical system
FR2943798B1 (fr) 2009-03-27 2011-05-27 Essilor Int Article d'optique revetu d'un revetement antireflet ou reflechissant comprenant une couche electriquement conductrice a base d'oxyde d'etain et procede de fabrication
FR2954832A1 (fr) 2009-12-31 2011-07-01 Essilor Int Article d'optique comportant un revetement antibuee temporaire ayant une durabilite amelioree
JP5662982B2 (ja) * 2011-10-28 2015-02-04 Hoya株式会社 反射防止膜および光学素子
DE102012002927A1 (de) * 2012-02-14 2013-08-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gegenstand mit reflexionsmindernder Beschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
US10353117B2 (en) * 2016-01-25 2019-07-16 Canon Kabushiki Kaisha Optical element and method for producing the same
US20180003961A1 (en) 2016-07-01 2018-01-04 Intel Corporation Gaze detection in head worn display
US10877556B2 (en) 2016-10-21 2020-12-29 Apple Inc. Eye tracking system
EP3327488B1 (en) 2016-11-23 2021-01-06 Essilor International Optical article comprising a dye resistant to photo-degradation
WO2019151344A1 (ja) * 2018-02-05 2019-08-08 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
EP3627194A1 (en) * 2018-09-20 2020-03-25 Essilor International An optical device with reduced reflection in deep red, near infrared and visible ranges
EP3715920B1 (en) * 2019-03-25 2023-03-15 Essilor International Ophthalmic lens comprising mix of two or more nir dyes for broader nir cut and better aesthetic

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