KR20240070544A - 표시 장치용 적층체 및 표시 장치 - Google Patents
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Abstract
본 개시는, 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며, 상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.
Description
본 개시는, 표시 장치용 적층체 및 표시 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 표시를 목적으로 하는 디스플레이 등의 표시 장치는, 태양광 및 형광등 등의 외광의 표시 화면에의 반사 비침을 방지하거나, 문자나 화상의 시인성 개선을 위해서, 표면의 저반사율화가 요구되고 있다. 또한, 표시 장치에는, 흠집이 생기기 어렵도록 내마모성이 요구된다.
특허문헌 1에는, 수지 필름과, 하드 코트층과, 무기 산화물층을 적어도 갖는 반사 방지 적층체이며, 적층체의 연필 경도가 4H 이상이고 강성이 8.0N·mm 이상이고 누프 경도가 150 내지 300mN/㎟인 반사 방지 적층체가 개시되어 있으며, 디스플레이 표면에 접합함으로써, 디스플레이 표면의 반사 비침을 효과적으로 억제하면서 충분한 내찰상성을 부여할 수 있는 것이 기재되어 있다.
최근에는, 폴더블 디스플레이, 롤러블 디스플레이, 벤더블 디스플레이 등의 플렉시블 표시 장치가 주목받고 있어, 플렉시블 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체의 개발이 활발하게 진행되고 있다.
상술한 바와 같이, 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체에는, 높은 내마모성이 요구된다. 그러나, 적층체의 경도를 높게 하면 흠집은 생기기 어려워지지만, 굽힘에 대해서 취약해져, 적층체의 제조 시나 반송 시에, 균열(크랙)이 생기는 경우가 있다. 특히, 플렉시블 표시 장치에는, 반복해서 굴곡시켜도 표시 불량이 발생하지 않을 것이 요구되며, 플렉시블 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체에는, 반복해서 굴곡시켰을 때 크랙이나 박리가 생기지 않는 굴곡 내성이 요구된다. 한편, 표시 장치용 적층체를 저경도화하면, 내마모성이 악화하는 경우가 있다.
이와 같이, 표시 장치용 적층체에는, 저반사성을 유지한 상태에서, 굴곡 내성과 내마모성을 양립시킬 수 없다는 문제가 있다.
본 개시는, 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 저반사성을 가지며, 또한 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖는 표시 장치용 적층체를 제공하는 것을 주 목적으로 한다.
본 개시의 일 실시 형태는, 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며, 상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.
본 개시의 일 실시 형태는, 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 불소 원자의 함유 비율이 6.5원자％ 이하이며, 상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.
본 개시의 일 실시 형태는, 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며, 상기 제1 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 고굴절률 분산층을 갖고, 상기 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가 0.10 이상 0.70 이하이며, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.
본 개시의 다른 실시 형태는, 표시 패널과, 상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, 상술한 표시 장치용 적층체를 구비하는, 표시 장치를 제공한다.
본 개시는, 저반사성을 가지며, 또한, 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖는 표시 장치용 적층체를 제공할 수 있다.
도 1은 본 개시에서의 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 본 개시에서의 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 본 개시에서의 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 4는 제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율의 차이를 설명하는 제1 무기 화합물층 및 불소 함유층의 단면 모식도이다.
도 5는 본 개시에서의 제3 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 6은 본 개시의 표시 장치의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 7은 동적 굴곡 시험의 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 개시에서의 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 본 개시에서의 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 4는 제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율의 차이를 설명하는 제1 무기 화합물층 및 불소 함유층의 단면 모식도이다.
도 5는 본 개시에서의 제3 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 6은 본 개시의 표시 장치의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 7은 동적 굴곡 시험의 방법을 설명하기 위한 도면이다.
하기에, 도면 등을 참조하면서 본 개시의 실시 형태를 설명한다. 단, 본 개시는 많은 다른 양태로 실시하는 것이 가능하며, 하기에 예시하는 실시 형태의 기재 내용에 한정해서 해석되는 것은 아니다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위해서, 실제의 형태에 비해, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대해서 모식적으로 표현되는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 개시의 해석을 한정하는 것은 아니다. 또한, 본 명세서와 각 도면에 있어서, 기출 도면에 관해서 상술한 것과 마찬가지의 요소에는, 동일한 부호를 부여하고, 상세한 설명을 적절하게 생략하는 경우가 있다.
본 명세서에서, 어떤 부재 상에 다른 부재를 배치하는 양태를 표현함에 있어서, 단순히 「상에」, 혹은 「하에」라고 표기하는 경우, 특별히 정함이 없는 한은, 어떤 부재에 접하도록, 바로 위, 혹은 바로 아래에 다른 부재를 배치하는 경우와, 어떤 부재의 상방, 혹은 하방에, 또 다른 부재를 개재시켜 다른 부재를 배치하는 경우의 양쪽을 포함하는 것으로 한다. 또한, 본 명세서에서, 어떤 부재의 면에 다른 부재를 배치하는 양태를 표현함에 있어서, 단순히 「면측에」 또는 「면에」라고 표기하는 경우, 특별히 정함이 없는 한은, 어떤 부재에 접하도록, 바로 위, 혹은 바로 아래에 다른 부재를 배치하는 경우와, 어떤 부재의 상방, 혹은 하방에, 또 다른 부재를 개재시켜 다른 부재를 배치하는 경우의 양쪽을 포함하는 것으로 한다.
본 발명자들은, 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체에 있어서, 저반사성을 발현하는 무기 화합물층의 굴곡 내성이 낮은 경우가 있는 것을 알아냈다. 그래서, 무기 화합물층의 응력 변화에 대한 내성에 대해서 검토를 거듭한 결과, 무기 화합물층의 상대 막 밀도를 파라미터로서 사용함으로써, 재료마다, 응력 변화에 대한 내성을 어느 정도 갖는지를 판단하는 것이 가능한 것을 알아냈다. 구체적으로는, 무기 화합물층의 막 밀도의 실측값이 문헌값에 가까운(즉, 상대 막 밀도가 약 1인) 경우에는, 재료의 차이에 의한 굴곡 내성의 차는 거의 없는 것을 알아냈다. 또한, 막 밀도의 문헌값이 높은 재료이어도, 막 밀도가 문헌값에 대해서 낮은 경우(즉, 상대 막 밀도가 낮은)에는, 무기 화합물층의 굴곡 내성이 향상되는 것을 알아냈다.
이와 같이 상대 막 밀도가 낮은 경우에, 무기 화합물층의 굴곡 내성이 향상되는 것은, 상대 막 밀도가 낮은 경우는, 각 원소의 주위에 어느 정도의 공극이 존재하여, 굴곡되었을 때 각 원소의 이동 자유도가 높아지는 것이 원인인 것으로 추정된다.
그래서, 본 발명자들은, 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체에 대해서, 저반사성을 유지하면서, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시키기 위해서 검토를 거듭한 결과, 이하의 제1 실시 형태, 제2 실시 형태 및 제3 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 구성이라면, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시킬 수 있는 것을 알아냈다.
A. 표시 장치용 적층체
I. 제1 실시 형태
본 발명자들은, 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체에 대해서, 저반사성을 유지하면서, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시키기 위해서 검토를 거듭한 결과, 적층체의 저반사율화를 실현하는 저굴절률층과 고굴절률층에, 각각 소정의 상대 막 밀도를 갖는 무기 화합물층을 사용하고, 또한, 표시 장치용 적층체의 한쪽 면에 불소 원자를 함유하는 불소 함유층을 배치함으로써, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시킬 수 있는 것을 알아냈다.
구체적으로는, 표시 장치용 적층체의 한쪽 면에 상기 불소 함유층을 배치하고, 또한, 상기 불소 함유층 측의 무기 화합물층인 제1 무기 화합물층(저굴절률층)의 상대 막 밀도를 소정의 범위로 함으로써, 내마모성이 얻어지는 것을 알아냈다. 또한, 제2 무기 화합물층(고굴절률층)의 상대 막 밀도를 소정의 낮은 범위로 함으로써, 응력 변화에 대한 내성이 강하여, 굴곡 내성이 양호한 표시 장치용 적층체로 되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다. 이하, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체에 대해서 상세하게 설명한다.
도 1은 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1a)는, 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 제2 무기 화합물층(4)과, 기재층(5)을 이 순으로 갖는다. 본 실시 형태에 있어서, 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 포함하고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이다. 또한, 제2 무기 화합물층은, 제1 무기 화합물보다 굴절률이 높은 제2 무기 화합물을 포함하고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이다. 또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체(1a)는, 불소 함유층(2) 측의 면(1A)에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하이다.
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 한쪽 표면에 불소 함유층을 갖고, 또한, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1이 소정의 범위임으로써, 우수한 내마모성을 갖는 것이 된다. 또한, 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2가 소정의 낮은 범위임으로써, 우수한 굴곡 내성을 갖는 것이 된다. 또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 저굴절률층인 제1 무기 화합물층과 고굴절률층인 제2 무기 화합물층을 포함함으로써, 소정의 시감 반사율을 갖는 것이 된다.
따라서, 저반사성을 갖고, 또한, 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖는 표시 장치용 적층체가 된다. 이하, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체에서의 각 구성에 대해서 상세하게 설명한다.
1. 제1 무기 화합물층
(1) 제1 무기 화합물
제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물로 구성된다. 본 명세서에서, 무기 화합물층이란, 무기 화합물을 주체로 하는 층이며, 바인더 수지에 무기 화합물 입자가 분산된 층 등과는 구별된다. 제1 무기 화합물층을 구성하는 제1 무기 화합물로서는, 제2 무기 화합물층을 구성하는 제2 무기 화합물보다 굴절률이 낮은 무기 화합물이라면 특별히 한정되지는 않지만, 바람직하게는 규소 산화물, 갈륨 산화물 등의 무기 산화물, 불화마그네슘, 불화리튬, 불화칼슘, 불화바륨 등을 들 수 있다. 본 실시 형태에서는, 그 중에서도, 규소 산화물이 굴절률이나 범용성의 관점에서 바람직하다.
또한, 무기 산화물의 평균 조성은, 예를 들어 MOx(단, 식 중, M은 금속 원소를 나타내고, x의 값은, 금속 원소에 따라 각각 범위가 다름)로 표시된다. 예를 들어 규소 산화물의 평균 조성은 SiOx로 표시되고, 식 중, x는, 0<x≤2를 취할 수 있으며, 1≤x≤2가 바람직하고, 보다 바람직하게는, SiO2가 된다. 본 실시 형태에서는, 무기 산화물의 평균 조성은, 상술한 바와 같이 화학양론적으로 최적인 것에 한정되는 것은 아니다.
본 실시 형태에 있어서, 제1 무기 화합물층은, 증착막인 것이 바람직하다. 특히, 규소 산화물(실리카) 증착막인 것이 바람직하다.
또한, 제1 무기 화합물층 중에 포함되는 무기 화합물은 1종류가 바람직하지만, 복수 종류의 무기 화합물이 포함되어 있어도 된다.
또한, 이와 같이 복수 종류의 무기 화합물이 포함되는 경우에는, 후술하는 막 밀도(문헌값)로서는, 복수 종류의 무기 화합물의 함유 비율에 따라서 계산된 막 밀도가 채용된다.
(2) 굴절률
제1 무기 화합물층의 굴절률은, 1.60 이하인 것이 바람직하고, 1.50 이하인 것이 보다 바람직하다. 한편, 예를 들어 1.30 이상이며, 1.40 이상이어도 된다.
또한, 본 명세서에서, 각 층의 굴절률이란, 파장 550nm의 광에 대한 굴절률을 말한다. 굴절률의 측정 방법은, 엘립소미터를 사용하여 측정하는 방법을 들 수 있다. 엘립소미터로서는, 예를 들어 조빈 이본사제 「UVSEL」이나 테크노·시너지사제 「DF1030R」 등을 들 수 있다.
(3) 상대 막 밀도 D1
본 실시 형태에서는, 저굴절률층인 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1은, 0.70 이상 1.20 이하이다. 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1은, 바람직하게는 0.75 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.80 이상이다. 한편, 바람직하게는 1.17 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.15 이하이다. 상대 막 밀도 D1이 지나치게 높으면, 굴곡 내성이 떨어져, 제1 무기 화합물층에 크랙이 발생하는 경우가 있다. 상대 막 밀도 D1이 지나치게 낮으면, 내마모성이 떨어지는 경우가 있다.
본 명세서에서, 무기 화합물층의 상대 막 밀도는, 이하의 식에 의해 산출된다.
상대 막 밀도=막 밀도(실측값)/막 밀도(문헌값)
막 밀도의 실측값은, 하기 측정 장치 및 하기 측정 조건에서 러더포드 후방 산란 분석(RBS: Rutherford Backscattering Spectrometry)에 의해 측정한 면 밀도 및 투과형 전자 현미경(TEM)에 의해 측정한 막 두께로부터 구할 수 있다. 러더포드 후방 산란 분석은, 헬륨(He) 등의 경원소 이온을 높은 에너지로 시료에 조사했을 때, 후방으로 산란되는 경원소 이온의 에너지값을 검출함으로써, 시료 중에 포함되는 원소의 종류나 존재량을 측정하는 방법이다.
RBS 분석으로부터 얻어진 면 밀도(atoms/㎠)와 투과형 전자 현미경(TEM) 등에 의해 측정한 막 두께(cm)로부터, 원자수 밀도(atoms/㎤)를 산출하고, RBS으로 결정한 조성 정보에 기초하여 환산함으로써, 무기 화합물층의 밀도(g/㎤)를 산출한다.
·측정 장치: 고분해능 RBS 분석 장치(Pelletron 3SDH(National Electrostatics Corporation제))
·측정 조건
입사 에너지: 2300keV
입사 이온: He++
입사각: 측정면의 법선으로부터 75°
검출 이온: 산란 He
산란각: 160°
무기 화합물층의 막 밀도(문헌값)는, 이론 막 밀도이며, 대표적인 무기 화합물층의 막 밀도의 값으로서는, 이하와 같다.
·SiO2(2.2g/㎤)
·ZrO2(5.9g/㎤)
·Nb2O5(4.6g/㎤)
·Al2O3(4.0g/㎤)
·TiO2(4.3g/㎤)
·ZnO(5.5g/㎤)
·SnO2(6.9g/㎤)
그 밖의 무기 화합물층의 막 밀도(문헌값)는, 필러 데이터 활용북(저자: 소우마 이사무) 등의 문헌이나 ChemicalBook 등의 리소스 플랫폼에 기재된 값을 채용할 수 있다.
또한, 실제의 무기 화합물층의 조성이, 예를 들어 SiOx(0<x<2)인 경우라도, 문헌값으로서는, x가 2인 화학량론 조성인 SiO2의 막 밀도(문헌값)를 채용한다.
제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도를 상술한 범위로 조정하는 방법으로서는, 예를 들어, 제1 무기 화합물층의 성막 속도를 조정하는 방법을 들 수 있다. 성막 속도를 높임으로써, 상대 막 밀도를 낮출 수 있다. 또한, 제1 무기 화합물층의 조성을 변경하는 방법도 들 수 있다.
제1 무기 화합물층은, 불소 함유층에서 유래하는 불소 원자를 함유하고 있어도 된다. 한편, 제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율은 낮은 편이 바람직하다. 불소 원자의 함유 비율이 낮음으로써, 제2 실시 형태에서 상세하게 설명하는 이유에 의해, 제1 무기 화합물층의 연화를 억제할 수 있어, 내마모성이 향상되기 때문이다. 제1 무기 화합물층에서의 불소 원자의 함유 비율은, 후술하는 제2 실시 형태에 기재된 값과 마찬가지의 값으로 할 수 있다.
(4) 두께
제1 무기 화합물층의 두께로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 30nm 이상, 200nm 이하인 것이 바람직하고, 50nm 이상, 150nm 이하인 것이 보다 바람직하다.
여기서, 본 명세서에서, 각 층의 두께는, 투과형 전자 현미경(TEM), 주사형 전자 현미경(SEM) 또는 주사 투과형 전자 현미경(STEM)에 의해 관찰되는 표시 장치용 적층체의 두께 방향의 단면으로부터 측정해서 얻어진 임의의 10개소의 두께의 평균값으로 할 수 있다.
(5) 형성 방법
제1 무기 화합물층은, 예를 들어 저굴절률 입자 중에서 원하는 굴절률을 갖는 입자를 선택하여, 진공 증착법, 스퍼터링법 및 이온 플레이팅법 등의 물리 기상 성장법(Physical Vapor Deposition법, PVD법) 등에 의해 형성할 수 있다. 이들 중에서도, 생산성(증착 속도)의 관점에서 진공 증착법이 바람직하다.
제1 무기 화합물층은, 불소 함유층과 직접 접하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 제1 무기 화합물층은, 제2 무기 화합물층과 직접 접하고 있는 것이 바람직하다.
2. 제2 무기 화합물층
(1) 제2 무기 화합물
제2 무기 화합물층은, 제1 무기 화합물보다 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물로 구성된다. 제2 무기 화합물층을 구성하는 제2 무기 화합물로서는, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물, 탄탈 산화물, 세륨 산화물, 티타늄산 화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 마그네슘 산화물, 이트륨 산화물, 니오븀 산화물 등의 무기 산화물, 불화란탄, 불화세륨 등을 들 수 있다.
알루미늄 산화물의 평균 조성은 AlOx로 표시되고, 식 중, x는, 0<x≤1.5를 취할 수 있으며, 바람직하게는 Al2O3이다. 지르코늄 산화물의 평균 조성은 ZrOx로 표시되고, 식 중, x는, 0<x≤2를 취할 수 있으며, 바람직하게는 ZrO2이다. 니오븀 산화물의 평균 조성은 NbOx로 표시되고, 식 중, x는, 0<x≤2.5를 취할 수 있으며, 바람직하게는 Nb2O5이다.
제2 무기 화합물층은, 증착막인 것이 바람직하다. 특히, 알루미늄 산화물(알루미나) 증착막, 지르코늄 산화물 증착막, 티타늄 산화물 증착막, 아연 산화물 증착막, 주석 산화물 증착막 및 니오븀 산화물 증착막의 어느 것인 것이 바람직하다.
또한, 제2 무기 화합물층 중에 포함되는 무기 화합물은 1종류가 바람직하지만, 복수 종류의 무기 화합물이 포함되어 있어도 된다.
(2) 굴절률
제2 무기 화합물층의 굴절률은, 1.60 이상인 것이 바람직하고, 1.80 이상인 것이 보다 바람직하다. 한편, 예를 들어 3.00 이하이며, 2.50 이하이어도 된다.
(3) 상대 막 밀도 D2
고굴절률층인 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2는, 0.50 이상 1.00 미만이다. 본 실시 형태에서의 상대 막 밀도 D2는, 바람직하게는 0.60 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.70 이상이다. 한편, 바람직하게는 0.95 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.90 이하이다.
상대 막 밀도 D2가 지나치게 높으면, 굴곡 내성이 떨어져서, 제2 무기 화합물층에 크랙이 발생하는 경우가 있다. 상대 막 밀도 D2가 지나치게 낮으면, 굴곡 후에 제2 무기 화합물층에 박리가 발생하는 경우가 있어, 시인성이 악화하는 경우가 있다. 이것은, 제2 무기 화합물층의 밀착성이 불충분해서 굴곡 시에 걸리는 응력을 견딜 수 없게 되기 때문이다.
제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도를 상술한 범위로 조정하는 방법으로서는, 예를 들어, 제2 무기 화합물층의 성막 속도를 조정하는 방법을 들 수 있다. 성막 속도를 높임으로써, 상대 막 밀도를 낮출 수 있다. 또한, 제2 무기 화합물층의 조성을 변경하는 방법도 들 수 있다. 이 경우, 무기 화합물층 중의 무기 화합물의 원소비(무기 화합물층 중의 무기 산화물의 원소비)를, 화학양론적으로 최적인 비율로부터 어긋나게 함으로써, 상대 막 밀도를 낮출 수 있다.
(4) 두께
제2 무기 화합물층의 두께로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 10nm 이상, 200nm 이하인 것이 바람직하고, 20nm 이상, 170nm 이하인 것이 보다 바람직하다.
(5) 형성 방법
제2 무기 화합물층은, 예를 들어 고굴절률 입자 중에서 원하는 굴절률을 갖는 입자를 선택하여, 진공 증착법, 스퍼터링법 및 이온 플레이팅법 등의 물리 기상 성장법(Physical Vapor Deposition법, PVD법) 등에 의해 형성할 수 있다. 이들 중에서도, 생산성(증착 속도)의 관점에서 진공 증착법이 바람직하다.
제2 무기 화합물층은, 제1 무기 화합물층과 직접 접하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 제2 무기 화합물층은, 후술하는 기재층, 하드 코트층, 및 개재층, 제3 무기 화합물층의 어느 것과 직접 접하고 있는 것이 바람직하다.
3. 불소 함유층
본 실시 형태에서의 불소 함유층은, 제1 무기 화합물층의 제2 무기 화합물층 측의 면과는 반대의 면측에 배치되고, 그 중에서도, 표시 장치용 적층체에 있어서, 불소 함유층이 최표면에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 불소 함유층은, 불소 원자를 함유하는 것이면 되며, 불소 원자를 함유함으로써, 표시 장치용 적층체에 내마모성을 부여할 수 있다. 구체적으로는, 표시 장치용 적층체의 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수를 소정의 범위로 할 수 있다. 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수는, 0.01 이상 0.30 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.03 이상 0.20 이하이다. 운동 마찰 계수가 상기 값 이하이면 표면의 미끄럼성이 향상되어, 내마모성이 보다 우수한 것으로 된다.
운동 마찰 계수는 JIS K7125:1999(마찰 계수 시험 방법)에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 운동 마찰 계수의 측정 방법은, 예를 들어 하중 변동형 마찰 마모 시험 시스템(신토 가가쿠(주)사제 HEIDON Type HHS2000)을 사용하고, 2cm×2cm의 캐시미어 펠트를 사용하여, 하중 200g, 속도 5mm/sec의 조건에서 측정할 수 있다. 운동 마찰 계수의 값은, 표시 장치용 적층체의 불소 함유층 측의 표면에 있어서, 다른 위치에서 5점 측정하여, 당해 측정값의 평균값으로 한다.
또한, 본 실시 형태에 있어서, 불소 함유층의 두께는 비교적 얇으므로, 박막 간섭에는 영향을 미치지 않는 것으로 추측된다. 불소 함유층의 두께는, 예를 들어 1nm 이상 30nm 이하인 것이 바람직하고, 2nm 이상 20nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 3nm 이상 10nm 이하인 것이 더욱 바람직하다.
불소 함유층으로서는, 불소 원자를 함유하는 것이면 특별히 한정되지는 않는다. 불소 함유층은, 예를 들어 불소 화합물을 함유하고 있어도 되고, 불소 화합물 및 수지를 함유하고 있어도 되고, 불소 수지를 함유하고 있어도 된다. 불소 화합물로서는, 예를 들어 불소계 방오제, 불소계 레벨링제, 불소계 계면 활성제 등으로서 알려져 있는 것을 사용할 수 있다. 불소 화합물로서는, 예를 들어 유기 불소 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는, 퍼플루오로 화합물을 들 수 있다. 퍼플루오로 화합물로서는, 예를 들어 퍼플루오로폴리에테르기, 퍼플루오로알킬렌기, 퍼플루오로알킬기 등을 갖는 퍼플루오로 화합물을 들 수 있다. 퍼플루오로알킬렌기 및 퍼플루오로알킬기는, 직쇄이어도 분지쇄이어도 된다. 불소 화합물은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합해서 사용해도 된다.
또한, 불소 화합물은, 수지 성분과 결합하고 있는 것이 바람직하다. 불소 화합물이 수지 성분과 결합하고 있음으로써, 불소 화합물의 블리드 아웃을 억제할 수 있어, 내마모성이나 방오성을 장기에 걸쳐서 지속시킬 수 있다.
불소 화합물로서는, 수지 성분과 결합하고 있는 것이 바람직하므로, 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물이 바람직하게 사용된다. 즉, 불소 함유층은, 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물과 후술하는 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물을 함유하는 것이 바람직하다. 반응성 관능기로서는, 예를 들어 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화 결합기나, 에폭시기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다.
불소 화합물이 갖는 반응성 관능기의 수는, 1 이상이면 되고, 바람직하게는 2 이상이다. 2 이상의 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물을 사용함으로써, 내마모성을 높일 수 있다.
또한, 불소 화합물은, 규소를 포함하고 있어도 된다. 즉, 불소 함유층은, 불소 및 규소를 함유하고 있어도 된다. 규소를 포함하는 불소 화합물로서는, 예를 들어 분자 내에 실록산 결합을 갖는 불소 화합물을 들 수 있다. 실록산 결합을 갖는 불소 화합물을 사용함으로써, 미끄럼성을 향상시킬 수 있고, 내마모성을 높일 수 있다.
불소 화합물은, 예를 들어 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물이나, 반응성 관능기 및 규소를 포함하는 불소 화합물인 것이 바람직하다.
반응성 관능기를 갖는 불소 화합물로서는, 예를 들어 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 불소 함유 모노머, 주쇄에 플루오로알킬렌기를 갖는 불소 함유 폴리머 혹은 올리고머, 주쇄 및 측쇄에 플루오로알킬렌기 혹은 플루오로알킬기를 갖는 불소 함유 폴리머 혹은 올리고머 등을 들 수 있다. 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2017-19247호 공보를 참조할 수 있다.
반응성 관능기 및 규소를 포함하는 불소 화합물로서는, 예를 들어 상기한 반응성 관능기를 갖는 불소 화합물에, 반응성 관능기를 분자 중에 갖는 유기 실리콘을 반응시킨 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체 등을 들 수 있다.
또한, 반응성 관능기 및 규소를 포함하는 불소 화합물로서는, 예를 들어 반응 관능기 및 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 불소 화합물, 그 중에서 반응성 관능기를 갖는 실란 단위, 및 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 실란 단위를 포함하는 불소 화합물도 바람직하게 사용된다. 이러한 불소 화합물에 대해서는, 예를 들어 국제 공개 제2012/157682호를 참조할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 상기 불소 함유층은, 불소 화합물 및 수지를 함유하는 층이어도 된다. 불소 함유층이 불소 화합물 및 수지를 함유하는 경우, 수지로서는, 예를 들어 중합성 화합물의 경화물을 들 수 있다. 중합성 화합물의 경화물은, 중합성 화합물을, 필요에 따라 중합 개시제를 사용하여, 공지의 방법으로 중합 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 중합성 화합물은, 분자 내에 중합성 관능기를 적어도 하나 갖는 것이다. 중합성 화합물로서는, 예를 들어 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물 중 적어도 1종을 사용할 수 있다.
또한, 불소 함유층이 불소 수지를 함유하는 경우, 불소 수지로서는, 예를 들어 불소를 함유하는 중합성 화합물의 경화물을 들 수 있다. 불소를 함유하는 중합성 화합물의 경화물은, 불소를 함유하는 중합성 화합물을, 필요에 따라 중합 개시제를 사용하여, 공지의 방법으로 중합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
불소를 함유하는 중합성 화합물은, 분자 내에 중합성 관능기를 적어도 하나 갖는 것이다. 불소를 함유하는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물 중 적어도 1종을 사용할 수 있다. 또한, 불소를 함유하는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 불소 함유 모노머, 올리고머, 폴리머 중 어느 것도 사용할 수 있다.
불소 함유층은, 필요에 따라, 예를 들어 무기 입자, 유기 입자, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 광 안정제, 방현제, 레벨링제, 계면 활성제, 이활제, 각종 증감제, 난연제, 접착 부여제, 중합 금지제, 표면 개질제 등의 첨가제를 함유할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 불소 함유층은, 단층이어도 되고, 다층이어도 된다.
또한, 불소 함유층의 형성 방법으로서는, 재료에 따라 적절하게 선택되며, 예를 들어 진공 증착법, 스퍼터링법, 상기 제1 무기 화합물층 상에 불소 함유층용 조성물을 도포하여 경화시키는 방법 등을 들 수 있다.
불소 함유층은, 제1 무기 화합물층과 직접 접하고 있는 것이 바람직하다.
4. 기재층
본 실시 형태에서의 기재층은, 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층 및 불소 함유층을 지지하는 부재이다. 기재층으로서는, 투명성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것이 아니며, 예를 들어 수지 기재, 유리 기재 등을 들 수 있다.
(1) 수지 기재
수지 기재를 구성하는 수지로서는, 투명성을 갖는 수지 기재를 얻을 수 있는 것이면 특별히 한정되는 것이 아니며, 예를 들어 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 폴리이미드계 수지로서는, 예를 들어 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에스테르이미드 등을 들 수 있다. 폴리에스테르계 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등을 들 수 있다.
(2) 유리 기재
유리 기재를 구성하는 유리로서는, 투명성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것이 아니며, 예를 들어 규산염 유리, 실리카 유리 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 붕규산 유리, 알루미노규산염 유리, 알루미노붕규산 유리가 바람직하고, 무알칼리 유리가 보다 바람직하다. 유리 기재의 시판품으로서는, 예를 들어 닛폰 덴키 가라스사의 초박판 유리 G-Leaf나, 마쯔나미 가라스 고교사의 극박막 유리 등을 들 수 있다.
또한, 유리 기재를 구성하는 유리는, 화학 강화 유리인 것도 바람직하다. 화학 강화 유리는 기계적 강도가 우수하여, 그만큼 얇게 할 수 있는 점에서 바람직하다. 화학 강화 유리는, 전형적으로는, 유리의 표면 근방에 대해서, 나트륨을 칼륨으로 바꾸는 등, 이온종을 일부 교환함으로써, 화학적인 방법에 의해 기계적 물성을 강화한 유리이며, 표면에 압축 응력층을 갖는다.
화학 강화 유리 기재를 구성하는 유리로서는, 예를 들어 알루미노규산염 유리, 소다석회 유리, 붕규산 유리, 납 유리, 알칼리바륨 유리, 알루미노붕규산 유리 등을 들 수 있다.
화학 강화 유리 기재의 시판품으로서는, 예를 들어 코닝사의 Gorilla Glass(고릴라 글래스), AGC사의 Dragontrail(드래곤 트레일), 쇼트사의 화학 강화 유리 등을 들 수 있다.
(3) 기재층의 구성
기재층의 두께로서는, 유연성을 갖는 것이 가능한 두께라면 특별히 한정되는 것이 아니며, 기재층의 종류 등에 따라서 적절하게 선택된다.
수지 기재의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상, 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 25㎛ 이상, 80㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 수지 기재의 두께가 상기 범위 내임으로써, 양호한 유연성을 얻을 수 있음과 함께, 충분한 경도를 얻을 수 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 컬을 억제할 수도 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 경량화 면에서 바람직하다.
유리 기재의 두께는, 예를 들어 200㎛ 이하인 것이 바람직하고, 15㎛ 이상, 100㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 20㎛ 이상, 90㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 25㎛ 이상, 80㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 유리 기재의 두께가 상기 범위 내임으로써, 양호한 유연성을 얻을 수 있음과 함께, 충분한 경도를 얻을 수 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 컬을 억제할 수도 있다. 또한, 표시 장치용 적층체의 경량화 면에서 바람직하다.
5. 표시 장치용 적층체
(1) 시감 반사율
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 불소 함유층 측으로부터, 불소 함유층의 표면에 대해서 수직으로 입사하는 광의 입사각을 0°로 하고, 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때, 이 입사광의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하이다. 바람직하게는 1.7％ 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.5％ 이하이다. 시감 반사율이 지나치게 높으면, 표시 영역에 관찰자 자신이 반사되어 비치는 것을 억제할 수 없다.
여기서, 시감 반사율은, JIS Z8722:2009에 준거해서 구할 수 있다. 시감 반사율은, 표시 장치용 적층체의 불소 함유층 측의 면에, 380nm 이상 780nm 이하의 파장 범위의 광을 입사시켜 얻어진 반사 스펙트럼으로부터, 표준의 광 C에서의 2도 시야에 있어서, XYZ 표색계에서의 3자극값 X, Y, Z를 구하고, 그 Y의 값이 시감 반사율로 된다. 즉, 시감 반사율은, CIE1931 표준 표색계의 Y값을 말한다. 시감 반사율의 측정에 있어서는, 하기 조건으로 할 수 있다.
(측정 조건)
·시야: 2°
·일루미넌트: C
·광원: 텅스텐 할로겐 램프
·측정 파장: 380nm 이상 780nm 이하의 범위를 0.5nm 간격
·스캔 속도: 고속
·슬릿 폭: 5.0nm
·S/R 전환: 표준
·오토 제로: 베이스 라인의 스캔 후 550nm에서 실시
또한, 표시 장치용 적층체의 시감 반사율의 측정 시에는, 이면 반사를 방지하기 위해서, 측정 스폿 면적보다 큰 폭의 흑색 비닐 테이프(예를 들어, 제품명 「야마토 비닐 테이프 NO200-19-21」, 야마토사제, 19mm 폭)를 표시 장치용 적층체의 기재층 측의 면에 첩부하고 나서 측정하는 것으로 한다. 시감 반사율의 측정 장치로서는, 예를 들어 분광 광도계를 사용할 수 있고, 구체적으로는 시마즈 세이사쿠쇼사제의 분광 광도계 「UV-2600」을 사용할 수 있다.
(2) 동적 굴곡 내성
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 굴곡 내성을 갖는다. 구체적으로는, 표시 장치용 적층체에 대해서, 하기에 설명하는 동적 굴곡 시험을 행한 경우에, 표시 장치용 적층체에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.
동적 굴곡 시험은, 이하와 같이 해서 행해진다. 먼저, 20mm×100mm의 크기의 표시 장치용 적층체를 준비한다. 그리고 동적 굴곡 시험에서는, 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같이, 표시 장치용 적층체(1)의 짧은 변부(1C)와, 짧은 변부(1C)와 대향하는 짧은 변부(1D)를, 평행하게 배치된 고정부(51)로 각각 고정한다. 또한, 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같이, 고정부(51)는 수평 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 되어 있다. 다음으로, 도 7의 (b)에 도시하는 바와 같이, 고정부(51)를 서로 근접하도록 이동시킴으로써, 표시 장치용 적층체(1)를 접듯이 변형시키고, 또한, 도 7의 (c)에 도시하는 바와 같이, 표시 장치용 적층체(1)의 고정부(51)로 고정된 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 소정의 값으로 되는 위치까지 고정부(51)를 이동시킨 후, 고정부(51)를 역방향으로 이동시켜 표시 장치용 적층체(1)의 변형을 해소시킨다. 도 7의 (a) 내지 (c)에 도시하는 바와 같이 고정부(51)를 이동시킴으로써, 표시 장치용 적층체(1)를 180° 접을 수 있다. 또한, 표시 장치용 적층체(1)의 굴곡부(1E)가 고정부(51)의 하단으로부터 비어져 나오지 않도록 동적 굴곡 시험을 행하고, 또한 고정부(51)가 최접근했을 때의 간격을 제어함으로써, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d를 소정의 값으로 할 수 있다. 예를 들어, 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 10mm일 경우, 굴곡부(1E)의 외경을 10mm로 간주한다.
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체에서는, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 10mm로 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을 20만회 반복해서 행한 경우에, 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하고, 50만회 반복해서 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 보다 바람직하다. 그 중에서도, 표시 장치용 적층체의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 6mm로 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을 20만회 반복해서 행한 경우에, 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다. 동적 굴곡 시험에서는, 불소 함유층이 외측으로 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되고, 혹은, 불소 함유층이 내측으로 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되지만, 어느 경우든, 표시 장치용 적층체에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.
(3) 전광선 투과율 및 헤이즈
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 전광선 투과율이, 예를 들어 85％ 이상인 것이 바람직하고, 88％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 90％ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이 전광선 투과율이 높음으로써, 투명성이 양호한 표시 장치용 적층체로 할 수 있다.
여기서, 표시 장치용 적층체의 전광선 투과율은, JIS K7361-1:1999에 준거해서 측정할 수 있으며, 예를 들어 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐죠제의 헤이즈 미터 HM150에 의해 측정할 수 있다.
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 헤이즈는, 예를 들어 5％ 이하인 것이 바람직하고, 2％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 1％ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이 헤이즈가 낮음으로써, 투명성이 양호한 표시 장치용 적층체로 할 수 있다.
여기서, 표시 장치용 적층체의 헤이즈는, JIS K-7136:2000에 준거해서 측정할 수 있으며, 예를 들어 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐죠제의 헤이즈 미터 HM150에 의해 측정할 수 있다.
6. 기타 구성
도 2는 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1a)는, 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 제2 무기 화합물층(4)과, 기재층(5)에 더하여, 또한, 다른 무기 화합물층(6)(예를 들어 제3 무기 화합물층)과, 하드 코트층(7)을 갖는 것이 바람직하다.
도 3은 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 바람직한 형태의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 3에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1a)는, 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 제2 무기 화합물층(4)과, 기재층(5)에 더하여, 제2 무기 화합물층(4)과 기재층(5)의 사이에, 상대 막 밀도 D3이 0.10 이상 0.70 이하인 개재층(9)을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 도 3에 도시한 바와 같이, 기재층(5)과 개재층(9)의 사이에, 하드 코트층(7)을 갖는 것이 바람직하다.
(1) 다른 무기 화합물층
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 제2 무기 화합물층과 기재층의 사이에, 1개 또는 복수의 다른 무기 화합물층을 가질 수 있다. 다른 무기 화합물층을 배치함으로써, 더 낮은 반사율이 얻어진다. 다른 무기 화합물층은, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체가 하드 코트층을 갖는 경우에는, 제2 무기 화합물층과 하드 코트층의 사이에 배치된다. 본 명세서에서는, 다른 무기 화합물층을, 제2 무기 화합물층 측부터, 제3 무기 화합물층, 제4 무기 화합물층 등이라고 칭한다.
다른 무기 화합물층을 배치함으로써, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 굴절률이 다른 다층막을 갖는 것이 되며, 이 다층막의 층 구성으로서는, 기재층 측으로부터 불소 함유층 측을 향해서, 고굴절률층(제4 무기 화합물층)/중굴절률층(제3 무기 화합물층)/고굴절률층(제2 무기 화합물층)/저굴절률층(제1 무기 화합물층)의 구조를 채용할 수 있다.
이 경우에 있어서, 제3 무기 화합물층의 굴절률은, 예를 들어 1.40 이상 2.50 이하이며, 제4 무기 화합물층의 굴절률은, 예를 들어 1.60 이상 3.00 이하이다.
또한, 다층막의 다른 층 구성으로서는, 기재층 측으로부터 불소 함유층 측을 향해서, 중굴절률층(제3 무기 화합물층)/고굴절률층(제2 무기 화합물층)/저굴절률층(제1 무기 화합물층) 등의 구조를 채용할 수 있다. 이 경우에 있어서, 제3 무기 화합물층의 굴절률은, 예를 들어 1.40 이상 2.50 이하이다.
다른 무기 화합물층에 포함되는 무기 화합물로서는, 규소 산화물, 갈륨 산화물, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물, 탄탈 산화물, 세륨 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 마그네슘 산화물, 이트륨 산화물, 니오븀 산화물, 불화마그네슘, 불화리튬, 불화칼슘, 불화바륨, 불화란탄 및 불화세륨 등을 들 수 있다.
1개의 다른 무기 화합물층의 두께로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 10nm 이상 200nm 이하인 것이 바람직하고, 20nm 이상 170nm 이하인 것이 보다 바람직하다.
또한, 본 실시 형태에서는, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체에 포함되는 모든 무기 화합물층의 합계 두께가, 500nm 이하인 것이 바람직하고, 400nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 예를 들어 50nm 이상이어도 되고, 80nm 이상이어도 된다. 합계 두께가 지나치게 두꺼우면, 표시 장치용 적층체의 굴곡 내성이 악화하는 경우가 있다.
(2) 하드 코트층
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 제2 무기 화합물층과, 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖고 있어도 된다. 하드 코트층이 배치되어 있음으로써, 무기 화합물층의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 하드 코트층이 배치되어 있음으로써, 내마모성을 향상시킬 수 있다. 특히, 상기 기재층이 수지 기재일 경우에는, 하드 코트층이 배치되어 있음으로써, 내마모성을 효과적으로 향상시킬 수 있다.
하드 코트층의 재료로서는, 예를 들어 유기 재료, 무기 재료, 유기 무기 복합 재료 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 하드 코트층의 재료는 유기 재료인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 하드 코트층은, 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물을 포함하는 것이 바람직하다. 중합성 화합물을 포함하는 수지 조성물의 경화물은, 중합성 화합물을, 필요에 따라 중합 개시제를 사용하여, 공지의 방법으로 중합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
또한, 중합성 화합물은, 분자 내에 중합성 관능기를 적어도 하나 갖는 것이다. 중합성 화합물로서는, 예를 들어 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물 중 적어도 1종을 사용할 수 있다.
라디칼 중합성 화합물이란, 라디칼 중합성기를 갖는 화합물이다. 라디칼 중합성 화합물이 갖는 라디칼 중합성기로서는, 라디칼 중합 반응을 생기게 할 수 있는 관능기이면 되며, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 포함하는 기 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 비닐기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 또한, 라디칼 중합성 화합물이 2개 이상의 라디칼 중합성기를 갖는 경우, 이들 라디칼 중합성기는 각각 동일하여도 되고, 다르게 되어 있어도 된다.
라디칼 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 라디칼 중합성기의 수는, 하드 코트층의 표면 경도가 높아져 내찰상성이 향상되는 점에서, 2개 이상인 것이 바람직하고, 또한 3개 이상인 것이 바람직하다.
라디칼 중합성 화합물로서는, 반응성이 높은 점에서, 그 중에서도 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하며, 예를 들어 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 멜라민(메트)아크릴레이트, 폴리플루오로알킬(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트 등이라고 칭해지는 분자 내에 수개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 분자량이 수백 내지 수천의 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 및 올리고머를 바람직하게 사용할 수 있고, 또한 아크릴레이트 폴리머의 측쇄에 (메트)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 폴리머도 바람직하게 사용할 수 있다. 그 중에서도, 1분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 바람직하게 사용할 수 있다. 하드 코트층이, 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 경화물을 포함함으로써, 하드 코트층의 표면 경도를 높일 수 있어, 내찰상성을 향상시킬 수 있다. 또한 밀착성을 향상시킬 수도 있다. 또한, 1분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 폴리머도 바람직하게 사용할 수 있다. 하드 코트층이, 다관능 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 폴리머의 경화물을 포함함으로써, 하드 코트층의 표면 경도를 높일 수 있어, 내찰상성을 향상시킬 수 있다. 또한 굴곡 내성 및 밀착성을 향상시킬 수도 있다.
또한, 본 명세서에서, (메트)아크릴로일이란, 아크릴로일 및 메타크릴로일 각각을 나타내고, (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 각각을 나타낸다.
다관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2019-132930호 공보에 기재된 것을 들 수 있다. 그 중에서도, 반응성이 높고, 하드 코트층의 표면 경도가 높아져 내찰상성이 향상되는 점에서, 1분자 중에 3개 이상 6개 이하의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하다. 이러한 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 예를 들어 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA), 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA), 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(PETTA), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(DPPA), 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨데카(메트)아크릴레이트 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하다.
또한, 라디칼 중합성 화합물을 사용하는 경우, 분자 구조 내의 유연성기에 의해 내찰상성이 저하되는 경우가 있다. 그 때문에, 유연성 성분(소프트 세그먼트)에 의한 내찰상성의 저하를 억제하기 위해서, 라디칼 중합성 화합물은, 분자 구조에 유연성기가 도입되어 있지 않은 것을 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, EO 또는 PO 변성되어 있지 않은 라디칼 중합성 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 라디칼 중합성 화합물을 사용함으로써, 가교점을 증가시켜, 내찰상성을 향상시킬 수 있다.
하드 코트층은, 경도나 점도 조정, 밀착성의 향상 등을 위해서, 라디칼 중합성 화합물로서, 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 포함하고 있어도 된다. 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2019-132930호 공보에 기재된 것을 들 수 있다.
양이온 중합성 화합물이란, 양이온 중합성기를 갖는 화합물이다. 양이온 중합성 화합물이 갖는 양이온 중합성기로서는, 양이온 중합 반응을 생기게 할 수 있는 관능기이면 되며, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 에폭시기, 옥세타닐기, 비닐에테르기 등을 들 수 있다. 또한, 양이온 중합성 화합물이 2개 이상의 양이온 중합성기를 갖는 경우, 이들 양이온 중합성기는 각각 동일하여도 되고, 다르게 되어 있어도 된다.
양이온 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 양이온 중합성기의 수는, 하드 코트층의 표면 경도가 높아져 내찰상성이 향상되는 점에서, 2개 이상인 것이 바람직하고, 또한 3개 이상인 것이 바람직하다.
또한, 양이온 중합성 화합물로서는, 그 중에서도, 양이온 중합성기로서 에폭시기 및 옥세타닐기 중 적어도 1종을 갖는 화합물이 바람직하고, 에폭시기 및 옥세타닐기 중 적어도 1종을 1분자 중에 2개 이상 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 에폭시기, 옥세타닐기 등의 환상 에테르기는, 중합 반응에 수반되는 수축이 작다는 점에서 바람직하다. 또한, 환상 에테르기 중 에폭시기를 갖는 화합물은 다양한 구조의 화합물을 입수하기 쉬우며, 얻어진 하드 코트층의 내구성에 악영향을 주지 않고, 라디칼 중합성 화합물과의 상용성도 컨트롤하기 쉽다는 이점이 있다. 또한, 환상 에테르기 중 옥세타닐기는, 에폭시기와 비교해서 중합도가 높고, 저독성이며, 얻어진 하드 코트층을, 에폭시기를 갖는 화합물과 조합했을 때 도막 중에서의 양이온 중합성 화합물로부터 얻어지는 네트워크 형성 속도를 빠르게 하여, 라디칼 중합성 화합물과 혼재하는 영역에서도 미반응 모노머를 막 중에 남기지 않고 독립된 네트워크를 형성하는 등의 이점이 있다.
에폭시기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 예를 들어 지환족환을 갖는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르, 또는 시클로헥센환, 시클로펜텐환 함유 화합물을, 과산화수소, 과산 등의 적당한 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는 지환족 에폭시 수지를 들 수 있다. 또한, 지방족 다가 알코올, 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 호모 폴리머, 코폴리머 등의 지방족 에폭시 수지를 들 수 있다. 또한, 비스페놀 A, 비스페놀 F나 수소 첨가 비스페놀 A 등의 비스페놀류, 또는 그들의 알킬렌옥사이드 부가체, 카프로락톤 부가체 등의 유도체와, 에피클로로히드린과의 반응에 의해 제조되는 글리시딜에테르 및 노볼락에폭시 수지 등이며 비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.
지환족 에폭시 수지, 글리시딜에테르형 에폭시 수지, 및 옥세타닐기를 갖는 양이온 중합성 화합물의 구체예에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2018-104682호 공보에 기재된 것을 들 수 있다.
하드 코트층은, 필요에 따라 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다.
또한, 하드 코트층은, 대전 방지제를 함유하고 있어도 된다. 표시 장치용 적층체에 대전 방지성을 부여할 수 있다. 하드 코트층은, 필요에 따라, 첨가제를 더 함유할 수 있다. 첨가제로서는, 하드 코트층에 부여하는 기능에 따라서 적절하게 선택되며, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 무기 입자, 유기 입자, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 방오제, 방현제, 레벨링제, 계면 활성제, 이활제, 각종 증감제, 난연제, 접착 부여제, 중합 금지제, 산화 방지제, 광안정화제, 표면 개질제 등을 들 수 있다.
또한, 본 실시 형태에서는, 하드 코트층의 재료로서는, 보다 우수한 굴곡 내성을 얻기 위해서, 우레탄(메트)아크릴레이트와 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 중 적어도 하나를 갖는 라디칼 중합성 화합물과, 라디칼 중합성 화합물과 공유 결합이 형성 가능한 반응성 관능기를 갖는 반응성 무기 입자를 병용한 유기 무기 재료가 바람직하고, 첨가제로서 접착 부여제를 병용하는 것이 더욱 바람직하다. 반응성 무기 입자로서는, 반응성 관능기를 갖는 실리카 등을 들 수 있다. 또한, 반응성 관능기로서는, 비닐기, (메트)아크릴로일기, 알릴기, 에폭시기 및 실라놀기 등을 들 수 있다.
하드 코트층의 두께는, 하드 코트층이 갖는 기능 및 표시 장치용 적층체의 용도에 따라 적절하게 선택되면 된다. 하드 코트층의 두께는, 예를 들어 0.5㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1.0㎛ 이상 40㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.5㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 2.0㎛ 이상 20㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 하드 코트층의 두께가 상기 범위 내이면, 하드 코트층으로서 충분한 경도를 얻을 수 있다.
하드 코트층의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 상기 기재층 상에 상기 중합성 화합물 등을 포함하는 하드 코트층용 수지 조성물을 도포하여, 경화시키는 방법을 들 수 있다.
(3) 첩부용 접착층
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 기재층의 제2 무기 화합물층과는 반대 측의 면에 첩부용 접착층을 가질 수 있다. 첩부용 접착층을 개재시켜, 표시 장치용 적층체를 예를 들어 표시 패널 등에 접합할 수 있다.
첩부용 접착층에 사용되는 접착제로서는, 투명성을 갖고, 표시 장치용 적층체를 표시 패널 등에 접착하는 것이 가능한 접착제라면 특별히 한정되는 것이 아니며, 예를 들어 열경화형 접착제, 자외선 경화형 접착제, 2액 경화형 접착제, 열용융형 접착제, 감압 접착제(소위 점착제) 등을 들 수 있다.
첩부용 접착층의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 25㎛ 이상 80㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 40㎛ 이상 60㎛ 이하로 할 수 있다. 첩부용 접착층의 두께가 지나치게 얇으면, 표시 장치용 적층체와 표시 패널 등을 충분히 접착할 수 없을 우려가 있다. 한편, 첩부용 접착층의 두께가 지나치게 두꺼우면, 플렉시블성이 손상되는 경우가 있다.
첩부용 접착층으로서는, 예를 들어 접착 필름을 사용해도 된다. 또한, 예를 들어 지지체 또는 기재층 등의 위에 접착제 조성물을 도포하여, 첩부용 접착층을 형성해도 된다.
첩부용 접착층은, 표시 장치의 표시 패널과 접합한 후에 박리가 가능한 정도의 밀착성을 갖는 층이어도 되고, 박리를 목적으로 하지 않고 높은 밀착성을 갖는 층이어도 된다.
(4) 층간 접착층
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체에서는, 각 층의 사이에 층간 접착층이 배치되어 있어도 된다. 층간 접착층에 사용되는 접착제로서는, 상기 첩부용 접착층에 사용되는 접착제와 마찬가지로 할 수 있다.
(5) 개재층
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 제2 무기 화합물층(4)과 기재층(5)의 사이에, 상대 막 밀도 D3이 0.10 이상 0.70 이하인 개재층(9)을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 개재층을 배치함으로써, 굴곡 내성이 더욱 향상된다.
본 실시 형태에 있어서, 개재층을 배치한 표시 장치용 적층체는, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 5mm로 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을, 20만회 반복해서 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하고, 50만회 반복해서 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 보다 바람직하다. 그 중에서도, 표시 장치용 적층체의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 4mm로 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을 20만회 반복해서 행한 경우에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다. 동적 굴곡 시험에서는, 불소 함유층이 외측으로 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되고, 혹은, 불소 함유층이 내측으로 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되지만, 어느 경우든, 표시 장치용 적층체에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.
(i) 상대 막 밀도
본 실시 형태에서의 개재층은, 상대 막 밀도 D3이 0.10 이상 0.70 이하이며, 바람직하게는 0.20 이상 0.60 이하이다.
개재층은, 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 분산층인 것이 바람직하다. 상대 막 밀도를 상기 범위로 하기 쉽기 때문이다. 또한, 개재층은, 제1 무기 화합물층 및 제2 무기 화합물층 이외의, 다른 무기 화합물층이어도 된다.
또한, 개재층이 분산층일 경우, 상대 막 밀도는, 이하의 식에 의해 산출된다.
분산층의 상대 막 밀도=분산층의 막 밀도(실측값)/막 밀도(문헌값)
개재층의 상대 막 밀도를 산출하기 위한 상기 막 밀도(문헌값)로서는, 무기 화합물 입자에 포함되는 무기 화합물을 주체로 하는 무기 화합물층의 막 밀도(문헌값)를 채용한다.
본 형태에서는, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1, 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2 및 개재층의 상대 막 밀도 D3이, D3<D2<D1의 관계를 충족하는 것이 바람직하다. 상기 관계를 충족함으로써, 인접하는 각 층의 상대 막 밀도의 차를 작게 할 수 있어, 응력 집중을 억제할 수 있다. 그 때문에, 굴곡 내성이 보다 향상되어, 크랙이나 박리를 억제할 수 있다.
또한, 본 형태에서는, 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2 및 개재층의 상대 막 밀도 D3이, 1.0≤D2/D3≤7.0을 충족하는 것이 바람직하다. D2/D3이 1.0 이상이면 굴곡 시험에서 제1 무기 화합물층 및 제2 무기 화합물층의 계면에서의 박리를 효과적으로 억제할 수 있다. 한편, D2/D3이 7.0 이하이면, 굴곡 시험에서, 개재층 및 제2 무기 화합물층의 계면에서의 박리를 효과적으로 억제할 수 있다.
또한, 본 형태에서는, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1 및 개재층의 상대 막 밀도 D3이, 1.0≤D1/D3≤12.0을 충족하는 것이 바람직하다. D1/D3이 1.0 이상이면 내마모성이 보다 향상되는 경향이 있다. 한편, D1/D3이 12.0 이하이면, 굴곡 내성이 보다 향상되어, 분산층에의 크랙의 발생을 억제할 수 있다.
(ii) 구성
(ii-1) 분산층
상술한 바와 같이, 개재층은, 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 분산층인 것이 바람직하다. 분산층은, 무기 화합물 입자 및 바인더 수지를 함유한다.
(a) 무기 화합물 입자
무기 화합물 입자로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 규소 산화물, 갈륨 산화물, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물, 탄탈 산화물, 세륨 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 마그네슘 산화물, 이트륨 산화물, 니오븀 산화물, 불화마그네슘, 불화리튬, 불화칼슘, 불화바륨, 불화란탄 및 불화세륨 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 제1 무기 화합물보다 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자가 바람직하다. 이러한 무기 화합물 입자로서는, 구체적으로는, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 니오븀 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 티타늄 산화물 등을 들 수 있다. 분산층에서의 무기 화합물 입자의 함유량으로서는, 개재층의 상대 막 밀도 D3이 상기 값으로 되는 양이라면 특별히 한정되지는 않는다.
(b) 바인더 수지
바인더 수지로서는, 중합성 화합물의 경화물인 것이 바람직하다. 중합성 화합물에 대해서는, 제1 실시 형태의 표시 장치용 적층체의 하드 코트층의 항에 기재한 것과 마찬가지로 할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.
(c) 굴절률
분산층의 굴절률은, 1.60 이상이 바람직하고, 1.65 이상이 보다 바람직하다. 한편, 예를 들어 2.00 이하이며, 1.80 이하이어도 된다.
(d) 두께
분산층의 두께로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 10nm 이상, 500nm 이하가 바람직하고, 30nm 이상, 300nm 이하가 보다 바람직하다.
(e) 형성 방법
분산층의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 기재층 또는 후술하는 하드 코트층 상에 무기 화합물 입자 및 중합성 화합물을 포함하는 분산층용 수지 조성물을 도포하여, 경화시키는 방법을 들 수 있다.
(ii-2) 무기 화합물층
상술한 바와 같이, 개재층은, 다른 무기 화합물층이어도 된다.
(a) 무기 화합물
개재층으로서의 무기 화합물층에 포함되는 무기 화합물로서는, 규소 산화물, 갈륨 산화물, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물, 탄탈 산화물, 세륨 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 마그네슘 산화물, 이트륨 산화물, 니오븀 산화물, 불화마그네슘, 불화리튬, 불화칼슘, 불화바륨, 불화란탄 및 불화세륨 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 제1 무기 화합물보다 고굴절률 재료인 것이 바람직하다. 이러한 무기 화합물로서는, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물, 탄탈 산화물, 세륨 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 마그네슘 산화물, 이트륨 산화물, 니오븀 산화물 등의 무기 산화물, 불화란탄, 불화세륨 등을 들 수 있다.
(b) 굴절률
개재층으로서의 무기 화합물층의 굴절률은, 1.60 이상이 바람직하고, 1.65 이상이 보다 바람직하다. 한편, 예를 들어 2.00 이하이며, 1.80 이하이어도 된다.
(c) 두께
개재층으로서의 무기 화합물층의 두께로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 10nm 이상, 500nm 이하가 바람직하고, 30nm 이상, 300nm 이하가 보다 바람직하다.
(d) 형성 방법
개재층으로서의 무기 화합물층의 형성 방법으로서는, 상술한 제1 무기 화합물층 및 제2 무기 화합물층의 형성 방법과 마찬가지의 방법을 사용할 수 있다.
7. 용도
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 표시 장치에 있어서, 표시 패널보다 관찰자 측에 배치되는 전방면판으로서 사용할 수 있다. 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖기 때문에, 폴더블 디스플레이, 롤러블 디스플레이, 벤더블 디스플레이 등의 플렉시블 표시 장치에서의 전방면판에 적합하게 사용할 수 있다. 특히, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 굴곡 내성을 향상시킬 수 있으므로, 폴더블 디스플레이에서의 전방면판에 적합하게 사용할 수 있다.
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상 500㎛ 이하인 것이 바람직하고, 20㎛ 이상 400㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 30㎛ 이상 300㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 표시 장치용 적층체의 두께가 상기 범위라면, 플렉시블성을 높일 수 있다.
또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 예를 들어 스마트폰, 태블릿 단말기, 웨어러블 단말기, 퍼스널 컴퓨터, 텔레비전, 디지털 사이니지, 퍼블릭 인포메이션 디스플레이(PID), 차량 탑재 디스플레이 등의 표시 장치에서의 전방면판에 사용할 수 있다.
II. 제2 실시 형태
본 발명자들은, 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체에 대해서, 저반사성을 유지하면서, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시키기 위해서 검토를 거듭한 결과, 표시 장치용 적층체의 한쪽 면에 불소 원자를 함유하는 불소 함유층을 배치하고, 적층체의 저반사율화를 실현하는 저굴절률층에는 소정의 불소 함유 비율을 갖는 무기 화합물층을 사용하고, 적층체의 저반사율화를 실현하는 고굴절률층에는 소정의 상대 막 밀도를 갖는 무기 화합물층을 사용함으로써, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시킬 수 있는 것을 알아냈다.
구체적으로는, 표시 장치용 적층체의 한쪽 면에 상기 불소 함유층을 배치하고, 또한, 상기 불소 함유층 측의 무기 화합물층인 제1 무기 화합물층(저굴절률층)의 불소 함유 비율을 소정의 범위로 함으로써, 내마모성이 얻어지는 것을 알아냈다. 또한, 제2 무기 화합물층(고굴절률층)의 상대 막 밀도를 소정의 낮은 범위로 함으로써, 응력 변화에 대한 내성이 강하여, 굴곡 내성이 양호한 표시 장치용 적층체로 되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 실시 형태는, 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 불소 원자의 함유 비율이 6.5원자％ 이하이며, 상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.
이하, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체에 대해서 상세하게 설명한다.
도 1은 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1b)는, 불소 원자를 함유하는 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 제2 무기 화합물층(4)과, 기재층(5)을 이 순으로 갖는다. 본 실시 형태에서, 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 포함하고, 불소 원자의 함유 비율이 6.5원자％ 이하이다. 또한, 제2 무기 화합물층은, 제1 무기 화합물보다 굴절률이 높은 제2 무기 화합물을 포함하고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이다. 또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체(1b)는, 불소 함유층(2) 측의 면(1A)에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하이다.
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 한쪽의 표면에 불소 함유층을 갖고, 또한, 제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율이 소정의 범위임으로써, 우수한 내마모성을 갖는 것이 된다. 이것은, 이하의 이유에 의한 것으로 추정된다. 도 4의 (a)에, 제1 무기 화합물층(3)의 불소 원자 함유 비율이 낮은 경우, 도 4의 (b)에, 제1 무기 화합물층(3)의 불소 원자 함유 비율이 높은 경우의 제1 무기 화합물층(3) 및 불소 함유층(2)의 단면 모식도를 나타낸다. 도 4의 (b)에 도시하는 바와 같이, 제1 무기 화합물층(3)의 불소 원자 함유 비율이 높은 경우, 제1 무기 화합물층(3) 상에 불소 함유층(2)을 형성할 때, 불소 원자(불소 화합물)가 제1 무기 화합물층(3) 중에 혼입된 것으로 추측된다. 그 때문에, 제1 무기 화합물층(3)이 연화되어, 내마모성이 악화한다. 한편, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 제1 무기 화합물층(3)의 불소 원자 함유 비율이 낮은 경우, 제1 무기 화합물층(3) 상에 불소 함유층(2)을 형성할 때, 불소 원자(불소 화합물)의 제1 무기 화합물층(3) 중으로의 혼입이 억제된 것으로 추측된다. 그 때문에, 제1 무기 화합물층의 연화가 억제되어, 내마모성이 우수한 것으로 된다.
또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2가 소정의 낮은 범위임으로써, 우수한 굴곡 내성을 갖는 것이 된다. 또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 저굴절률층인 제1 무기 화합물층과 고굴절률층인 제2 무기 화합물층을 포함함으로써, 소정의 시감 반사율을 갖는 것이 된다.
따라서, 저반사성을 갖고, 또한, 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖는 표시 장치용 적층체가 된다. 이하, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체에서의 각 구성에 대해서 상세하게 설명한다.
1. 제1 무기 화합물층
(1) 제1 무기 화합물
본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물로 구성된다. 본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층을 구성하는 제1 무기 화합물로서는, 제1 실시 형태에서의 제1 무기 화합물과 마찬가지의 것을 들 수 있다. 본 실시 형태에서는, 그 중에서도, 규소 산화물이 굴절률이나 범용성의 관점에서 바람직하다. 또한, 제1 무기 화합물층 중에 포함되는 무기 화합물은 1종류가 바람직하지만, 복수 종류의 무기 화합물이 포함되어 있어도 된다.
본 실시 형태에서, 제1 무기 화합물층은, 증착막인 것이 바람직하다. 특히, 규소 산화물(실리카) 증착막인 것이 바람직하다.
(2) 불소 원자의 함유 비율
본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층은, 불소 원자의 함유 비율이 6.5원자％ 이하이다. 불소 원자의 함유 비율은, 6.3원자％ 이하가 바람직하고, 5.0원자％ 이하가 보다 바람직하다. 불소 원자의 함유 비율이 상기 범위라면, 우수한 내마모성을 갖는 것이 된다. 본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층은, 불소 원자 비율이 낮은 편이 바람직하다. 즉, 제1 무기 화합물층은, 불소 원자를 포함하지 않아도 되며, 불소 원자의 함유 비율의 하한은 0％이다.
제1 무기 화합물층에서의 불소 원자의 함유 비율은, 상술한 측정 장치 및 측정 조건에서 러더포드 후방 산란 분석(RBS: Rutherford Backscattering Spectrometry)에 의해, 제1 무기 화합물층을 측정해서 얻어지는 전체 원소(예를 들어, 규소 등의 무기 원소, 산소, 불소 등)의 합계량을 100원자％로 했을 때의 불소 원자의 비율이다.
제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율을 상술한 범위로 조정하는 방법으로서는, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1을, 후술하는 범위로 조정하는 방법을 들 수 있다.
(3) 굴절률
본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층의 굴절률은, 제1 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층의 굴절률과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
(4) 상대 막 밀도 D1
본 실시 형태에서는, 저굴절률층인 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1은, 0.70 이상 1.20 이하인 것이 바람직하다. 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1은, 보다 바람직하게는 0.75 이상이며, 특히 바람직하게는 0.80 이상이다. 상대 막 밀도 D1이 지나치게 낮으면, 불소 함유 비율이 높아져서, 내마모성이 떨어지는 경우가 있다. 한편, 보다 바람직하게는 1.17 이하이며, 특히 바람직하게는 1.15 이하이다. 상대 막 밀도 D1이 지나치게 높으면, 굴곡 내성이 떨어져서, 제1 무기 화합물층에 크랙이 발생하는 경우가 있다.
무기 화합물층의 상대 막 밀도의 산출 방법은, 제1 실시 형태에서 기재한 방법과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
또한, 본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층이 불소 원자를 함유하는 경우에도, 후술하는 막 밀도(문헌값)로서는, 제1 무기 화합물로 구성되는 무기 화합물층의 이론 막 밀도를 채용한다.
제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도를 상술한 범위로 조정하는 방법으로서는, 제1 실시 형태에서 기재한 방법과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
(5) 두께
본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층의 두께로서는, 제1 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층의 두께와 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
(6) 형성 방법
본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층의 형성 방법으로서는, 제1 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층의 형성 방법과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
2. 제2 무기 화합물층
본 실시 형태에서의 제2 무기 화합물층으로서는, 제1 실시 형태에서의 제2 무기 화합물층의 내용과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
3. 불소 함유층
본 실시 형태에서의 불소 함유층으로서는, 제1 실시 형태에서의 불소 함유층의 내용과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
4. 기재층
본 실시 형태에서의 기재층으로서는, 제1 실시 형태에서의 기재층의 내용과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
5. 표시 장치용 적층체
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 시감 반사율, 동적 굴곡 내성, 전광선 투과율 및 헤이즈에 대해서는, 제1 실시 형태의 내용과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
6. 기타 구성
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 상술한, 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 제2 무기 화합물층(4)과, 기재층(5)에 더하여, 다른 층을 갖고 있어도 된다.
다른 층으로서는, 다른 무기 화합물층, 개재층, 하드 코트층, 첩부용 접착층 및 층간 접착층을 들 수 있다.
도 2는 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1b)는, 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 제2 무기 화합물층(4)과, 기재층(5)에 더하여, 또한, 다른 무기 화합물층(6)(예를 들어 제3 무기 화합물층)과, 하드 코트층(7)을 갖는 것이 바람직하다.
도 3은 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 바람직한 양태의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 3에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1b)는, 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 제2 무기 화합물층(4)과, 기재층(5)에 더하여, 제2 무기 화합물층(4)과 기재층(5)의 사이에, 상대 막 밀도 D3이 0.10 이상 0.70 이하인 개재층(9)을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 도 3에 도시한 바와 같이, 기재층(5)과 개재층(9)의 사이에, 하드 코트층(7)을 갖는 것이 바람직하다.
다른 무기 화합물층, 개재층, 하드 코트층, 첩부용 접착층 및 층간 접착층으로서는, 제1 실시 형태에 기재한 것과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
7. 용도
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 용도로서는, 제1 실시 형태에 기재한 내용과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
III. 제3 실시 형태
본 발명자들은, 표시 장치의 표면에 배치되는 적층체에 대해서, 저반사성을 유지하면서, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시키기 위해서 검토를 거듭한 결과, 표시 장치용 적층체의 한쪽 면에 불소 원자를 함유하는 불소 함유층을 배치하고, 적층체의 저반사율화를 실현하는 저굴절률층에는, 소정의 상대 막 밀도를 갖는 무기 화합물층을 사용하고, 적층체의 저반사율화를 실현하는 고굴절률층에는, 소정의 상대 막 밀도를 갖고, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자의 분산층(고굴절률 분산층)을 사용함으로써, 굴곡 내성과 내마모성을 향상시킬 수 있는 것을 알아냈다.
구체적으로는, 표시 장치용 적층체의 한쪽 면에 상기 불소 함유층을 배치하고, 또한, 제1 무기 화합물층(저굴절률층)의 상대 막 밀도를 소정의 범위로 함으로써, 내마모성이 얻어지는 것을 알아냈다. 또한, 기재층과 제1 무기 화합물층의 사이에, 상대 막 밀도가 소정의 낮은 범위인, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자의 분산층(고굴절률 분산층)을 배치함으로써, 응력 변화에 대한 내성이 강하고, 굴곡 내성이 양호한 표시 장치용 적층체로 되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 실시 형태는, 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며, 상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며, 상기 제1 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 고굴절률 분산층을 갖고, 상기 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가 0.10 이상 0.70 이하이며, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체를 제공한다.
이하, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체에 대해서 상세하게 설명한다.
도 5는 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1c)는, 불소 원자를 함유하는 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 고굴절률 분산층(10)과, 기재층(5)을 이 순으로 갖는다. 본 실시 형태에서, 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 포함하고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이다. 또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 기재층과 제1 무기 화합물층의 사이에, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 고굴절률 분산층이 배치되어 있고, 이 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가 0.10 이상 0.70 이하이다. 또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체(1c)는, 불소 함유층(2) 측의 면(1A)에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하이다.
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 한쪽의 표면에 불소 함유층을 갖고, 또한, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1이 소정의 범위임으로써, 우수한 내마모성을 갖는 것이 된다. 또한, 기재층과 제1 무기 화합물층의 사이에, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 고굴절률 분산층이 배치되어 있고, 이 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가 소정의 낮은 범위임으로써, 우수한 굴곡 내성을 갖는 것이 된다. 또한, 고굴절률 분산층은, 무기 화합물층과는 달리, 바인더 수지를 포함하기 때문에 유연성이 높다. 그 때문에, 제1 실시 형태나 제2 실시 형태에서의 제2 무기 화합물층보다 낮은 상대 막 밀도의 범위에서도, 우수한 굴곡 내성을 갖는다고 추정된다.
또한, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 저굴절률층인 제1 무기 화합물층과 고굴절률 입자인 무기 화합물 입자가 분산된 고굴절률 분산층을 포함함으로써, 소정의 시감 반사율을 갖는 것이 된다.
따라서, 저반사성을 갖고, 또한, 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖는 표시 장치용 적층체가 된다. 이하, 본 실시 형태의 표시 장치용 적층체에서의 각 구성에 대해서 상세하게 설명한다.
1. 제1 무기 화합물층
본 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층으로서는, 제1 실시 형태에서의 제1 무기 화합물층의 내용과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
2. 고굴절률 분산층
본 실시 형태에서, 고굴절률 분산층은, 제1 무기 화합물층과 기재층의 사이에 배치되고, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자 및 바인더 수지를 함유한다.
(1) 무기 화합물 입자 및 바인더 수지
상기 무기 화합물 입자 및 바인더 수지에 대해서는, 제1 실시 형태에서의 「개재층」의 항의 「(a) 무기 화합물 입자」 및 「(b) 바인더 수지」에서 설명한 것과 마찬가지이므로, 여기서의 설명은 생략한다.
(2) 상대 막 밀도
고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4는, 0.10 이상 0.70 이하이며, 바람직하게는 0.20 이상 0.60 이하이다.
고굴절률 분산층의 상대 막 밀도의 산출 방법으로서는, 상술한 제1 실시 형태에서의 분산층의 상대 막 밀도와 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
본 실시 형태에서는, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1 및 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가, 1.0≤D1/D4≤12.0을 충족하는 것이 바람직하다. D1/D4가 1.0 이상이면 내마모성이 향상되는 경향이 있다. 한편, D1/D4가 12.0 이하이면 굴곡 내성이 보다 향상되어, 고굴절률 분산층에의 크랙의 발생을 억제할 수 있다.
(3) 굴절률
본 실시 형태에서의 고굴절률 분산층의 굴절률은, 1.60 이상이 바람직하고, 1.65 이상이 보다 바람직하다. 한편, 예를 들어 2.00 이하이며, 1.80 이하이어도 된다.
(4) 두께
고굴절률 분산층의 두께로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 10nm 이상, 500nm 이하가 바람직하고, 30nm 이상, 300nm 이하가 보다 바람직하다.
(5) 형성 방법
본 실시 형태에서의 고굴절률 분산층의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 기재층 또는 후술하는 하드 코트층 상에, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자 및 중합성 화합물을 포함하는 고굴절률 분산층용 수지 조성물을 도포하여, 경화시키는 방법을 들 수 있다.
3. 불소 함유층
본 실시 형태에서의 불소 함유층으로서는, 제1 실시 형태에서의 불소 함유층의 내용과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
4. 기재층
본 실시 형태에서의 기재층으로서는, 제1 실시 형태에서의 기재층의 내용과 마찬가지이기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
5. 표시 장치용 적층체
(1) 시감 반사율
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 불소 함유층 측으로부터, 불소 함유층의 표면에 대해서 수직으로 입사하는 광의 입사각을 0°로 하고, 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때, 이 입사광의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하이다. 바람직하게는 1.7％ 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.5％ 이하이다. 시감 반사율이 지나치게 높으면, 표시 영역에 관찰자 자신이 반사되어 비치는 것을 억제할 수 없다.
여기서, 상기 시감 반사율은, 제1 실시 형태에 기재한 측정 방법에 의해 측정된 값이다.
(2) 동적 굴곡 내성
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 굴곡 내성을 갖는다. 구체적으로는, 표시 장치용 적층체에 대해서, 제1 실시 형태에서 설명한 동적 굴곡 시험을 행한 경우에, 표시 장치용 적층체에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체에서는, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 5mm로 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을 20만회 반복해서 행한 경우에, 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하고, 50만회 반복해서 행한 경우에, 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 보다 바람직하다. 그 중에서도, 표시 장치용 적층체의 대향하는 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 4mm로 되도록 180° 접는 동적 굴곡 시험을 20만회 반복해서 행한 경우에, 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다. 동적 굴곡 시험에서는, 불소 함유층이 외측으로 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되고, 혹은, 불소 함유층이 내측으로 되도록 표시 장치용 적층체를 접어도 되지만, 어느 경우든, 표시 장치용 적층체에 균열 또는 파단이 생기지 않는 것이 바람직하다.
(3) 전광선 투과율 및 헤이즈
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 전광선 투과율이, 예를 들어 85％ 이상인 것이 바람직하고, 88％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 90％ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이 전광선 투과율이 높음으로써, 투명성이 양호한 표시 장치용 적층체로 할 수 있다. 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 헤이즈는, 예를 들어 5％ 이하인 것이 바람직하고, 2％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 1％ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이 헤이즈가 낮음으로써, 투명성이 양호한 표시 장치용 적층체로 할 수 있다.
여기서, 표시 장치용 적층체의 전광선 투과율 및 헤이즈는, 제1 실시 형태에서 설명한 측정 방법에 의해 측정된 값이다.
6. 기타 구성
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 상술한, 불소 함유층(2)과, 제1 무기 화합물층(3)과, 고굴절률 분산층(10)과, 기재층(5)에 더하여, 다른 층을 갖고 있어도 된다.
다른 층으로서는, 하드 코트층, 첩부용 접착층 및 층간 접착층을 들 수 있다. 구체적으로는, 본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체는, 고굴절률 분산층과 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 기재층의 고굴절률 분산층 측의 면과는 반대의 면측에, 첩부용 접착층을 갖는 것이 바람직하다.
하드 코트층, 첩부용 접착층 및 층간 접착층으로서는, 제1 실시 형태에 기재한 것과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
7. 용도
본 실시 형태에서의 표시 장치용 적층체의 용도로서는, 제1 실시 형태에 기재한 내용과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
B. 표시 장치
본 개시에서의 표시 장치는, 표시 패널과, 상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, 상술한 제1 실시 형태, 제2 실시 형태 및 제3 실시 형태 중 어느 것의 표시 장치용 적층체를 구비한다.
도 6은 본 개시에서의 표시 장치의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 6의 (a) 및 도 6의 (b)에 도시하는 바와 같이, 표시 장치(20a 내지 20c)는, 표시 패널(21)과, 표시 패널(21)의 관찰자 측에 배치된 제1 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1a), 제2 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1b) 또는 제3 실시 형태의 표시 장치용 적층체(1c)를 구비한다. 표시 장치(20a 내지 20c)에서는, 표시 장치용 적층체(1a, 1b, 1c)와 표시 패널(21)은, 예를 들어 표시 장치용 적층체(1)의 첩부용 접착층(8)을 개재시켜 접합할 수 있다.
본 개시에서의 플렉시블 표시 장치는, 저반사성을 갖는 표시 장치용 적층체를 구비하기 때문에, 시인성이 향상한 것이 된다. 또한, 표시 장치용 적층체가 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖기 때문에, 흠집이 생기기 어려워, 반복 굴곡시켜도 표시 불량이 억제된 것이 된다.
본 개시에서의 표시 장치용 적층체를 표시 장치의 표면에 배치하는 경우에는, 불소 함유층이 외측, 기재층이 내측으로 되도록 배치된다.
본 개시에서의 표시 장치용 적층체를 표시 장치의 표면에 배치하는 방법으로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 접착층을 개재시키는 방법 등을 들 수 있다.
본 개시에서의 표시 패널로서는, 예를 들어 유기 EL 표시 장치, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 사용되는 표시 패널을 들 수 있다.
본 개시에서의 표시 장치는, 표시 패널과 표시 장치용 적층체의 사이에 터치 패널 부재를 가질 수 있다.
본 개시에서의 표시 장치는, 그 중에서도, 폴더블 디스플레이, 롤러블 디스플레이, 벤더블 디스플레이 등의 플렉시블 표시 장치인 것이 바람직하다.
또한, 본 개시에서의 표시 장치는, 폴딩 가능한 것이 바람직하다. 즉, 본 개시에서의 표시 장치는, 폴더블 디스플레이인 것이 바람직하다.
실시예
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 개시를 더욱 상세하게 설명한다.
<제1 실시 형태>
(실시예 1-1 내지 1-11, 비교예 1-3 내지 1-10)
먼저, 하기에 나타내는 조성이 되도록 각 성분을 배합하여, 하드 코트층용 수지 조성물을 얻었다.
(하드 코트층용 수지 조성물의 조성)
·펜타에리트리톨아크릴레이트(제품명 「A-9550」, 신나카무라 가가쿠사제): 87질량부
·펜타에리트리톨아크릴레이트(제품명 「A-TMM-3L」, 신나카무라 가가쿠사제): 13질량부
·중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부
·실리카 입자(평균 1차 입자경 12nm, 닛산 가가쿠 고교사제): 40질량부(고형분 100％ 환산값)
·메틸이소부틸케톤: 210질량부
(하드 코트층의 형성)
이어서, 기재층으로서, 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름(제품명 「CPI」, 콜롱사제)을 사용해서, 기재층 상에 바 코터로 상기 하드 코트층용 수지 조성물을 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고 이 도막에 대해서, 80℃, 1분간 가열함으로써 도막 중의 용제를 증발시키고, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템즈 재팬사제, 광원 H 벌브)를 사용하여, 자외선을 산소 농도가 100ppm 이하에서 적산 광량이 300mJ/㎠가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜, 두께 3.5㎛의 하드 코트층을 형성하였다.
(무기 화합물층의 형성)
이어서, 하드 코트층 상에 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층을 이 순으로 형성하였다. 또한, 제1 무기 화합물층 및 제2 무기 화합물층은, 표 1에 나타내는 구성 재료를 사용하여, 표 1에 나타내는 성막 속도로 진공 증착법에 의해 형성하였다. 제1 무기 화합물층 및 제2 무기 화합물층의 구성 재료, 두께, 성막 속도 및 굴절률을 표 1, 표 2에 나타낸다.
(불소 함유층의 형성)
이어서, 제1 무기 화합물층 상에 출력 100W로 40초간 플라스마 처리를 하고, 불소 화합물(다이킨 고교사제, 제품명 「옵툴 UD120」)을 성막 속도 0.1nm/초로 진공 증착함으로써, 두께 7nm의 불소 함유층을 형성하였다. 이와 같이 하여 기재층, 하드 코트층, 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층, 불소 함유층을 이 순으로 갖는 적층체를 얻었다.
(실시예 1-12 내지 1-16, 비교예 1-11 내지 1-14)
기재층 상에 하드 코트층, 제3 무기 화합물층, 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층 및 불소 함유층(두께 7nm)을 이 순으로 형성하였다. 제1 무기 화합물층 내지 제3 무기 화합물층의 구성 재료, 두께, 성막 속도 및 굴절률을 표 1, 표 2에 나타낸다. 또한, 사용한 기재층, 하드 코트층 및 불소 함유층의 형성 방법은, 상기 실시예 1-1과 마찬가지이다.
(실시예 1-17 내지 1-19, 비교예 1-15 내지 1-16)
기재층 상에 하드 코트층, 제4 무기 화합물층, 제3 무기 화합물층, 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층 및 불소 함유층(두께 7nm)을 이 순으로 형성하였다. 제1 무기 화합물층 내지 제4 무기 화합물층의 구성 재료, 두께, 성막 속도 및 굴절률을 표 1, 표 2에 나타낸다. 또한, 사용한 기재층, 하드 코트층 및 불소 함유층의 형성 방법은, 실시예 1-1과 마찬가지이다.
(비교예 1-1)
기재층 상에 하드 코트층, 제1 무기 화합물층 및 불소 함유층(두께 7nm)을 이 순으로 형성하였다. 제1 무기 화합물층의 구성 재료, 두께, 성막 속도 및 굴절률을 표 2에 나타낸다. 또한, 사용한 기재층, 하드 코트층 및 불소 함유층의 형성 방법은, 실시예 1-1과 마찬가지이다.
(비교예 1-2)
기재층 상에 하드 코트층, 제2 무기 화합물층 및 불소 함유층(두께 7nm)을 이 순으로 형성하였다. 제2 무기 화합물층의 구성 재료, 두께, 성막 속도 및 굴절률을 표 2에 나타낸다. 또한, 사용한 기재층, 하드 코트층 및 불소 함유층의 형성 방법은, 실시예 1-1과 마찬가지이다.
[상대 막 밀도]
실시예 1-1 내지 1-19 및 비교예 1-1 내지 1-16에서 얻어진 표시 장치용 적층체의 제1 무기 화합물층과 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도를, 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 1. 제1 무기 화합물층 (3) 상대 막 밀도 D1」에 기재된 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.
[평가]
(운동 마찰 계수)
실시예 1-1 내지 1-19 및 비교예 1-1 내지 1-16에서 얻어진 표시 장치용 적층체의 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수를, 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 3. 불소 함유층」에 기재된 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.
(내마모성 평가)
실시예 1-1 내지 1-19 및 비교예 1-1 내지 1-16에서 얻어진 표시 장치용 적층체의 내마모성을, 이하의 평가 방법 및 평가 기준에 의해 평가하였다.
·평가 방법
테스터 산교사제의 학진형 마찰 견뢰도 시험기 AB-301을 사용하여, 5cm×10cm의 크기의 적층체를, 유리판 상에 접힘이나 주름이 없도록 셀로판 테이프(등록 상표)로 고정하였다. 이어서, #0000의 스틸 울(닛폰 스틸울사제의 본스타 #0000)을 사용하여, 스틸 울을 1cm×1cm의 지그에 고정하고, 하중 750g/㎠, 이동 속도 100mm/초, 이동 거리 50mm의 조건에서, 표시 장치용 적층체의 방오층(불소 함유층) 측의 면을 100왕복 문질렀다. 그리고 내마모 시험을 행한 적층체에 있어서, 이동 속도가 불안정한 양단 10mm의 범위를 제외한 중심 30mm의 범위에서의 표면을 형광등 하에서 투과 관찰하여, 흠짐의 유무와 상태를 평가하였다.
·평가 기준
A: 합격(흠집이 생기지 않음)
B: 합격(길이 5mm 이하의 흠집이 5개 미만)
C: 불합격(상기 A, B 이외)
(동적 굴곡성 평가)
실시예 1-1 내지 1-19 및 비교예 1-1 내지 1-16에서 얻어진 표시 장치용 적층체의 굴곡성에 대해서, 동적 굴곡 시험을 행하여, 하기 평가 기준에 의해 평가하였다.
이하, 동적 굴곡 시험의 방법에 대해서, 도 7을 참조하여 설명한다.
적층체에 대해서, 하기 동적 굴곡 시험을 행하여, 굴곡 내성을 평가하였다. 먼저, 20mm×100mm의 크기의 적층체를 준비하고, 내구 시험기(제품명 「DLDMLH-FS」, 유아사 시스템 기키사제)에 대해서, 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같이, 표시 장치용 적층체(1)의 짧은 변부(1C)와, 짧은 변부(1C)와 대향하는 짧은 변부(1D)를, 평행하게 배치된 고정부(51)로 각각 고정하였다. 이어서, 도 7의 (b)에 도시하는 바와 같이, 고정부(51)를 서로 근접하도록 이동시킴으로써, 표시 장치용 적층체(1)를 접듯이 변형시키고, 또한, 도 7의 (c)에 도시하는 바와 같이, 표시 장치용 적층체(1)의 고정부(51)로 고정된 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d가 소정의 값으로 되는 위치까지 고정부(51)를 이동시킨 후, 고정부(51)를 역방향으로 이동시켜 표시 장치용 적층체(1)의 변형을 해소시켰다. 도 7의 (a) 내지 (c)에 도시하는 바와 같이 고정부(51)를 이동시킴으로써, 표시 장치용 적층체(1)를 180° 접는 동작을 반복해서 행하였다. 이때, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d는 6mm(φ6mm 동적 굴곡 시험), 또는 10mm(φ10mm 동적 굴곡 시험)로 하였다. 또한, 적층체는, 불소 함유층이 외측으로 되도록 굴곡시켰다. 동적 굴곡 시험의 결과는, 하기 기준으로 평가하였다.
·평가 기준
A: 합격(적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 φ6mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복해도 파단되지 않고, 또한 크랙이 생기지 않음)
B: 합격(적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 φ10mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복해도 파단되지 않고, 또한 크랙이 생기지 않음)
C: 불합격(적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 φ10mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복하는 동안에, 파단되거나, 또는 크랙이 생김)
(굴곡 시험 후의 굴곡부의 시인성)
상기 동적 굴곡 시험 실시 후의 표시 장치용 적층체를, 화면 표시시킨 태블릿 디스플레이에 접합하여, 형광등 하에서 굴곡부의 시인성을 확인하고, 이하의 평가 기준에 의해 평가하였다.
·평가 기준
A: 합격(10명 중 10명이 문제없이 시인할 수 있었음)
B: 합격(10명 중 7 내지 9명이 문제없이 시인할 수 있었음)
C: 불합격(10명 중 4 내지 6명이 문제없이 시인할 수 있었음)
D: 불합격(10명 중, 문제없이 시인할 수 있었던 것은 4명 미만이었음)
(시감 반사율)
실시예 1-1 내지 1-19 및 비교예 1-1 내지 1-16에서 얻어진 표시 장치용 적층체의 시감 반사율을, 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 5. 표시 장치용 적층체 (1) 시감 반사율」에 기재된 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.
표 3 및 표 4로부터, 실시예 1-1 내지 1-19의 표시 장치용 적층체는, 저반사성을 유지하면서, 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖는 것이 확인되었다. 한편, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도가 0.70 미만인 경우에는(비교예 1-3 및 비교예 1-7), 내마모성이 떨어지는 것이 확인되었다. 또한, 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도가 1.20보다 큰 경우에는(비교예 1-4 및 비교예 1-8), 굴곡 내성이 떨어지는 것이 확인되었다. 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도가 0.50 미만인 경우(비교예 1-5, 비교예 1-9, 비교예 1-11 내지 비교예 1-12 및 비교예 1-15) 및 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도가 1.0 이상인 경우(비교예 1-6, 1-10, 1-13, 1-14 및 비교예 1-16)에는, 굴곡 내성이 떨어지는 것이 확인되었다. 또한, 비교예 1-1 및 비교예 1-2는, 무기 화합물층이 1층만이며, 시감 반사율이 높은 것이 확인되었다.
(실시예 2-1 내지 2-24, 비교예 2-1 내지 2-8)
실시예 1-1과 마찬가지의 방법으로, 기재층 상에 하드 코트층을 형성하였다.
이어서, 하기 조성으로, 무기 화합물 입자 및 중합성 화합물(지방족 우레탄아크릴레이트)을 포함하는 분산층용 수지 조성물을 얻었다. 이때, 표 5 및 표 6에 나타내는 종류의 무기 화합물 입자를 사용하여, 무기 화합물 입자의 배합량을 바꾸었다.
(분산층용 수지 조성물의 조성)
·지방족 우레탄아크릴레이트(제품명 「EBECRYL225」, 다이셀 올넥스사제): 74질량부
·펜타에리트리톨(트리/테트라)아크릴레이트(제품명 「PETIA」, 다이셀 올넥스사제): 26질량부
·중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부
·무기 화합물 입자(평균 1차 입자경 10nm, 레진오칼라사제): 무기 화합물 입자의 종류와 배합량(질량부(고형분 100％ 환산값))은 표 5 및 표 6에 나타낸다.
·메틸이소부틸케톤: 300질량부
하드 코트층 상에 상기 분산층용 수지 조성물을 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고 이 도막을 건조, 경화시켜, 표 5 및 표 6에 나타내는 두께 및 굴절률의 분산층을 형성하였다.
이어서, 분산층 상에 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층을 이 순으로 형성하였다. 제2 무기 화합물층은, 표 5 및 표 6에 나타내는 구성 재료를 사용하여, 표 5 및 표 6에 나타내는 성막 속도로 진공 증착법에 의해 형성하였다. 제2 무기 화합물층의 두께 및 굴절률을 표 5 및 표 6에 나타낸다. 제1 무기 화합물층은, 표 5 및 표 6에 나타내는 구성 재료를 사용하여, 표 5 및 표 6에 나타내는 성막 속도로 진공 증착법에 의해 형성하였다. 제1 무기 화합물층의 두께 및 굴절률을 표 5 및 표 6에 나타낸다.
이어서, 실시예 1-1과 마찬가지의 방법으로, 제1 무기 화합물층 상에 두께 7nm의 불소 함유층을 형성하였다. 이와 같이 하여 기재층, 하드 코트층, 분산층, 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층, 불소 함유층을 이 순으로 갖는 적층체를 얻었다.
[상대 막 밀도]
얻어진 표시 장치용 적층체의 제1 무기 화합물층 D1, 제2 무기 화합물층 D2 및 분산층의 상대 막 밀도 D3을, 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 1. 제1 무기 화합물층 (3) 상대 막 밀도 D1」 및 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 6. 기타 구성 (5) 개재층 (i) 상대 막 밀도」에 기재된 방법에 의해 측정하였다.
(운동 마찰 계수 및 시감 반사율)
운동 마찰 계수 및 시감 반사율을 실시예 1-1과 마찬가지로 측정하였다.
(내마모성 평가)
표시 장치용 적층체의 내마모성을, 상술한 평가 방법 및 평가 기준에 의해 평가하였다.
(동적 굴곡성 평가)
상기 동적 굴곡 시험에서, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d를 3mm(φ3mm 동적 굴곡 시험), 또는 4mm(φ4mm 동적 굴곡 시험)로 하고, 적층체의 불소 함유층 측을 내측으로 해서 시험을 행하여, 하기 평가 기준에 의해 동적 굴곡성을 평가하였다. 또한, 표시 장치용 적층체(1)의 대향하는 2개의 짧은 변부(1C, 1D)의 간격 d를 4mm(φ4mm 동적 굴곡 시험), 또는 5mm(φ5mm 동적 굴곡 시험)로 하고, 적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 해서 시험을 행하여, 하기 평가 기준에 의해 동적 굴곡성을 평가하였다.
·평가 기준(적층체의 불소 함유층 측을 내측으로 한 시험)
A: 합격(적층체의 불소 함유층 측을 내측으로 한 φ3mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복해도 파단되지 않고, 또한 크랙이 생기지 않음)
B: 합격(적층체의 불소 함유층 측을 내측으로 한 φ4mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복해도 파단되지 않고, 또한 크랙이 생기지 않음)
C: 불합격(적층체의 불소 함유층 측을 내측으로 한 φ4mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복하는 동안에, 파단되거나, 또는 크랙이 생김)
·평가 기준(적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 시험)
A: 합격(적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 φ4mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복해도 파단되지 않고, 또한 크랙이 생기지 않음)
B: 합격(적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 φ5mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복해도 파단되지 않고, 또한 크랙이 생기지 않음)
C: 불합격(적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 φ5mm의 동적 굴곡 시험에서, 20만회 굴곡을 반복하는 동안에, 파단되거나, 또는 크랙이 생김)
(굴곡 시험 후의 굴곡부의 시인성)
상기 불소 함유층 측을 외측으로 한 동적 굴곡 시험 실시 후의 표시 장치용 적층체를, 화면 표시시킨 태블릿 디스플레이에 접합하여, 형광등 하에서 굴곡부의 시인성을 확인하고, 이하의 평가 기준에 의해 평가하였다.
·평가 기준
A: 합격(10명 중 10명이 문제없이 시인할 수 있었음)
B: 합격(10명 중 7 내지 9명이 문제없이 시인할 수 있었음)
C: 불합격(10명 중 4 내지 6명이 문제없이 시인할 수 있었음)
D: 불합격(10명 중, 문제없이 시인할 수 있었던 것은 4명 미만이었음)
표 7 및 표 8로부터, 실시예 2-1 내지 2-24의 표시 장치용 적층체는, 비교예 2-1 내지 비교예 2-8과 비교하여, 저반사성을 유지하면서, 우수한 굴곡 내성과 내마모성을 갖는 것이 확인되었다. 또한, 실시예 2-1 내지 2-24의 표시 장치용 적층체는, 실시예 1-12 내지 1-19 및 후술하는 실시예 3-1 내지 3-7보다 엄격한 평가 기준에서도, 우수한 굴곡성을 갖는 것이 확인되었다.
<제2 실시 형태>
(실시예 3-1 내지 3-6, 비교예 3-1)
실시예 1-1과 마찬가지의 방법으로, 기재층 상에 하드 코트층을 형성하였다. 이어서, 하드 코트층 상에 제3 무기 화합물층, 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층을 이 순으로 형성하였다.
제3 무기 화합물층은, 구성 재료로서 ZrO2를 사용하여, 성막 속도 0.26nm/초로 진공 증착법에 의해 형성하였다. 제3 무기 화합물층의 두께는 45nm, 굴절률은 2.00이었다. 제2 무기 화합물층은, 구성 재료로서 Nb2O5를 사용하여, 성막 속도 0.26nm/초로 진공 증착법에 의해 형성하였다. 제2 무기 화합물층의 두께는 75nm, 굴절률은 2.30이었다. 제1 무기 화합물층은, 구성 재료로서 SiO2를 사용하여, 표 9에 나타내는 성막 속도로 진공 증착법에 의해 형성하였다. 제1 무기 화합물층의 두께는 80nm, 굴절률은 1.47이었다.
이어서, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로, 제1 무기 화합물층 상에 두께 7nm의 불소 함유층을 형성하였다. 이와 같이 하여 기재층, 하드 코트층, 제3 무기 화합물층, 제2 무기 화합물층, 제1 무기 화합물층, 불소 함유층을 이 순으로 갖는 적층체를 얻었다.
(실시예 3-7, 비교예 3-2)
하드 코트층의 형성에, 하기 대전 방지제 함유 하드 코트층용 수지 조성물을 사용한 것 이외에는, 실시예 3-1과 마찬가지의 방법으로 적층체를 얻었다.
(대전 방지제 함유 하드 코트층용 수지 조성물의 조성)
·펜타에리트리톨아크릴레이트(제품명 「A-9550」, 신나카무라 가가쿠사제): 87질량부
·펜타에리트리톨아크릴레이트(제품명 「A-TMM-3L」, 신나카무라 가가쿠사제): 13질량부
·중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Omnirad184」, IGM Resins B.V.사제): 4질량부
·실리카 입자(평균 1차 입자경 12nm, 닛산 가가쿠 고교사제): 40질량부(고형분 100％ 환산값)
·메틸이소부틸케톤: 190질량부
·대전 방지제(제품명 「MT-2」, 아라까와 가가쿠 고교사제): 3질량부(고형분 100％ 환산값)
[상대 막 밀도 및 불소 원자 함유 비율]
얻어진 표시 장치용 적층체의 제1 무기 화합물층과 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도를, 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 1. 제1 무기 화합물층 (3) 상대 막 밀도 D1」에 기재된 방법에 의해 측정하였다. 또한, 제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율을, 「A. 표시 장치용 적층체 II. 제2 실시 형태 1. 제1 무기 화합물층 (2) 불소 원자의 함유 비율」에 기재된 방법에 의해 측정하였다. 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1 및 불소 원자의 함유 비율의 측정 결과를 표 9에 나타낸다. 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2는 0.58이었다.
[평가]
(크랙 신도)
먼저, 적층체를 3mm×100mm의 크기로 잘라내어, 시험편을 제작하였다. 이어서, 텐실론 만능 시험기(오리엔테크사제 「STA-1150」)를 사용하여, 클램프간 거리(파지구 사이 거리)를 50mm로 해서 상기 시험편을 휨이 없도록 설치하고, 온도 23±5℃, 습도 30％ RH 이상 70％ RH 이하에서, 10mm/min의 인장 속도로 적층체에 크랙이 생길 때까지 계속해서 잡아당겨, 적층체에 크랙이 생긴 시점에서의 인장 길이를 측정하였다. 크랙의 유무는, 시험편에 LED를 조사해서 눈으로 보아 판단하였다. 계속해서, 이하의 식에 의해 크랙 신도를 산출하였다.
크랙 신도(％)=100×인장 길이(mm)/파지구 사이 거리(mm)
(내마모성 평가 및 동적 굴곡성 평가)
적층체의 내마모성 및 동적 굴곡성을, 상술한 실시예 1-1 내지 1-19 및 비교예 1-1 내지 1-16에서의 평가 방법 및 평가 기준에 의해 평가하였다. 또한, 적층체의 불소 함유층 측을 외측으로 한 φ6mm의 동적 굴곡 시험에서, 50만회 굴곡을 반복해도 파단되지 않고, 또한 크랙이 생기지 않았을 경우는, 평가 기준을 A': 합격으로 하였다.
(표면 저항값 측정)
먼저, 적층체를 100mm×100mm의 크기로 잘라내어, 시험편을 제작하였다. 이어서, 저항률계(제품명 「하이레스타 UX MCP-HT형」, 가부시키가이샤 미쓰비시 케미컬 애널리테크제)를 사용하여, JIS K6911:1995에 따라서, 인가 전압을 1000V로 함과 함께, 레지 테이블에 적층체의 불소 함유층 측과는 반대 측의 면을 접촉시켜 접힘이나 주름이 없도록 셀로판 테이프(등록 상표)로 고정하고, 저항률계의 URS 프로브를 적층체의 불소 함유층 측의 면에 접촉시킴으로써 표면 저항값을 측정하였다. 표면 저항값은, 적층체의 불소 함유층 측의 면의 표면 저항값을 랜덤하게 각각 10개소 측정하여, 측정한 10개소의 표면 저항값의 산술 평균값으로 하였다.
또한, 표 중의 표면 저항값의 「-」는, 장치 한계(상한)를 초과한 것을 의미한다.
표 9에 나타내는 바와 같이, 제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율이 6.5원자％ 이하일 경우(실시예 3-1 내지 실시예 3-6), 내마모성 및 굴곡 내성이 우수한 것이 확인되었다. 또한, 대전 방지제를 포함하는 하드 코트층 재료를 사용한 경우에도, 내마모성 및 굴곡 내성이 우수한 것이 확인되었다(실시예 3-7). 한편, 비교예 3-1 및 비교예 3-2는, 동적 굴곡성 및 크랙 신도가 양호하지만, 제1 무기 화합물층의 불소 원자의 함유 비율이 높기 때문에, 내마모성이 떨어지는 것이 확인되었다.
<제3 실시 형태>
(실시예 4-1 내지 4-3, 비교예 4-1)
실시예 1-1과 마찬가지의 방법으로, 기재층 상에 하드 코트층을 형성하였다.
이어서, 무기 화합물 입자 및 상기 중합성 화합물을 포함하는 분산층용 수지 조성물을 얻었다. 이때, 표 10에 나타내는 종류의 무기 화합물 입자를 사용하여, 무기 화합물 입자의 배합량을 바꾸었다.
하드 코트층 상에 상기 분산층용 수지 조성물을 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고 이 도막을 건조, 경화시켜, 두께 100nm의 분산층을 형성하였다.
이어서, 분산층 상에 제1 무기 화합물층을 형성하였다. 제1 무기 화합물층은, 표 10에 나타내는 구성 재료를 사용하여, 표 10에 나타내는 성막 속도로 진공 증착법에 의해 형성하였다. 제1 무기 화합물층의 두께 및 굴절률을 표 10에 나타낸다.
이어서, 실시예 1-1과 마찬가지의 방법으로, 제1 무기 화합물층 상에 두께 7nm의 불소 함유층을 형성하였다. 이와 같이 하여 기재층, 하드 코트층, 고굴절률 분산층, 제1 무기 화합물층, 불소 함유층을 이 순으로 갖는 적층체를 얻었다.
[상대 막 밀도]
얻어진 표시 장치용 적층체의 제1 무기 화합물층 D1 및 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4를, 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 1. 제1 무기 화합물층 (3) 상대 막 밀도 D1」 및 「A. 표시 장치용 적층체 I. 제1 실시 형태 6. 기타 구성 (5) 개재층 (i) 상대 막 밀도」에 기재된 방법에 의해 측정하였다.
(운동 마찰 계수 및 시감 반사율)
운동 마찰 계수 및 시감 반사율을 실시예 1-1과 마찬가지로 측정하였다.
(내마모성 평가, 동적 굴곡성 평가, 굴곡 시험 후의 굴곡부의 시인성)
표시 장치용 적층체의 내마모성, 동적 굴곡성 및 굴곡 시험 후의 굴곡부의 시인성을, 상술한 실시예 2-1 내지 2-24 및 비교예 2-1 내지 2-8에서의 평가 방법 및 평가 기준에 의해 평가하였다.
표 11로부터, 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가 0.10 이상 0.70 이하인 실시예 4-1 내지 4-3은, 비교예 4-1에 대해서, 내마모성 및 굴곡 내성이 우수한 것이 확인되었다.
즉, 본 개시에서는, 이하의 발명을 제공할 수 있다.
[1] 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며,
상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며,
상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체.
[2] 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수가, 0.01 이상 0.30 이하인, [1]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[3] 상기 제1 무기 화합물이, 규소 산화물인, [1] 또는 [2]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[4] 상기 제2 무기 화합물이, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 티타늄산 화물, 아연 산화물, 주석 산화물 및 니오븀 산화물 중 어느 것인, [1]부터 [3]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[5] 상기 제1 무기 화합물층의 두께가, 30nm 이상 200nm 이하인, [1]부터 [4]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[6] 상기 제2 무기 화합물층의 두께가, 10nm 이상 200nm 이하인, [1]부터 [5]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[7] 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 1개 또는 복수의 다른 무기 화합물층을 갖는, [1]부터 [6]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[8] 상기 표시 장치용 적층체에 포함되는 모든 무기 화합물층의 합계 두께가, 500nm 이하인, [1]부터 [7]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[9] 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 개재층을 갖고,
상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이 0.10 이상 0.70 이하인, [1]부터 [8]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[10] 상기 개재층이, 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 분산층인, [9]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[11] 상기 개재층이, 다른 무기 화합물층인, [9] 또는 [10]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[12] 상기 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1, 상기 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2 및 상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이, D3<D2<D1의 관계를 충족하는, [9]부터 [11]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[13] 상기 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2 및 상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이, 1.0≤D2/D3≤7.0을 충족하는, [9]부터 [12]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[14] 상기 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1 및 상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이, 1.0≤D1/D3≤12.0을 충족하는, [9]부터 [13]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[15] 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖는, [1]부터 [14]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[16] 상기 기재층의 상기 제2 무기 화합물층 측의 면과는 반대의 면측에, 첩부용 접착층을 갖는, [1]부터 [15]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[17] 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며,
상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 불소 원자의 함유 비율이 6.5원자％ 이하이며,
상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체.
[18] 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수가, 0.01 이상 0.30 이하인, [17]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[19] 상기 제1 무기 화합물이, 규소 산화물인, [17] 또는 [18]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[20] 상기 제2 무기 화합물이, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 티타늄산 화물, 아연 산화물, 주석 산화물 및 니오븀 산화물 중 어느 것인, [17]부터 [19]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[21] 상기 제1 무기 화합물층의 두께가, 30nm 이상 200nm 이하인, [17]부터 [20]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[22] 상기 제2 무기 화합물층의 두께가, 10nm 이상, 200nm 이하인, [17]부터 [21]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[23] 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 1개 또는 복수의 다른 무기 화합물층을 갖는, [17]부터 [22]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[24] 상기 표시 장치용 적층체에 포함되는 모든 무기 화합물층의 합계 두께가, 500nm 이하인, [17]부터 [23]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[25] 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖는, [17]부터 [24]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[26] 상기 기재층의 상기 제2 무기 화합물층 측의 면과는 반대의 면측에, 첩부용 접착층을 갖는, [17]부터 [25]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[27] 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며,
상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며,
상기 제1 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 고굴절률 분산층을 갖고,
상기 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가 0.10 이상 0.70 이하이며,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체.
[28] 상기 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1 및 상기 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가, 1.0≤D1/D4≤12.0을 충족하는, [27]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[29] 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수가, 0.01 이상 0.30 이하인, [27] 또는 [28]에 기재된 표시 장치용 적층체.
[30] 상기 제1 무기 화합물이, 규소 산화물인, [27]부터 [29]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[31] 상기 무기 화합물 입자가, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 니오븀 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물 및 티타늄 산화물 중 어느 것인, [27]부터 [30]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[32] 상기 고굴절률 분산층과 상기 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖는, [27]부터 [31]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[33] 상기 기재층의 상기 고굴절률 분산층 측의 면과는 반대의 면측에, 첩부용 접착층을 갖는, [27]부터 [32]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체.
[34] 표시 패널과,
상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, [1]부터 [33]까지의 어느 것에 기재된 표시 장치용 적층체를 구비하는, 표시 장치.
1a, 1b, 1c: 표시 장치용 적층체
2: 불소 함유층
3: 제1 무기 화합물층
4: 제2 무기 화합물층
5: 기재층
6: 제3 무기 화합물층
7: 하드 코트층
8: 첩부용 접착층
9: 개재층
10: 고굴절률 분산층
20a, 20b, 20c: 플렉시블 표시 장치
21: 표시 패널
2: 불소 함유층
3: 제1 무기 화합물층
4: 제2 무기 화합물층
5: 기재층
6: 제3 무기 화합물층
7: 하드 코트층
8: 첩부용 접착층
9: 개재층
10: 고굴절률 분산층
20a, 20b, 20c: 플렉시블 표시 장치
21: 표시 패널
Claims (34)
- 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며,
상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며,
상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체. - 제1항에 있어서, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수가, 0.01 이상 0.30 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물이, 규소 산화물인, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물이, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물 및 니오븀 산화물 중 어느 것인, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물층의 두께가, 30nm 이상 200nm 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층의 두께가, 10nm 이상 200nm 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 1개 또는 복수의 다른 무기 화합물층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 표시 장치용 적층체에 포함되는 모든 무기 화합물층의 합계 두께가, 500nm 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 개재층을 갖고,
상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이 0.10 이상 0.70 이하인, 표시 장치용 적층체. - 제9항에 있어서, 상기 개재층이, 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 분산층인, 표시 장치용 적층체.
- 제9항에 있어서, 상기 개재층이, 다른 무기 화합물층인, 표시 장치용 적층체.
- 제9항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1, 상기 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2 및 상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이, D3<D2<D1의 관계를 충족하는, 표시 장치용 적층체.
- 제9항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D2 및 상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이, 1.0≤D2/D3≤7.0을 충족하는, 표시 장치용 적층체.
- 제9항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1 및 상기 개재층의 상대 막 밀도 D3이, 1.0≤D1/D3≤12.0을 충족하는, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 기재층의 상기 제2 무기 화합물층 측의 면과는 반대의 면측에, 첩부용 접착층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 제2 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며,
상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 불소 원자의 함유 비율이 6.5원자％ 이하이며,
상기 제2 무기 화합물층은, 고굴절률 재료인 제2 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D2가 0.50 이상 1.00 미만이고,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체. - 제17항에 있어서, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수가, 0.01 이상 0.30 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물이, 규소 산화물인, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물이, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물 및 니오븀 산화물 중 어느 것인, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물층의 두께가, 30nm 이상 200nm 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층의 두께가, 10nm 이상, 200nm 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 1개 또는 복수의 다른 무기 화합물층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 표시 장치용 적층체에 포함되는 모든 무기 화합물층의 합계 두께가, 500nm 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제2 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 기재층의 상기 제2 무기 화합물층 측의 면과는 반대의 면측에, 첩부용 접착층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 불소 원자를 함유하는 불소 함유층과, 제1 무기 화합물층과, 기재층을 이 순으로 갖는 표시 장치용 적층체이며,
상기 제1 무기 화합물층은, 저굴절률 재료인 제1 무기 화합물을 갖고, 상대 막 밀도 D1이 0.70 이상 1.20 이하이며,
상기 제1 무기 화합물층과 상기 기재층의 사이에, 고굴절률을 갖는 무기 화합물 입자가 바인더 수지에 분산된 고굴절률 분산층을 갖고,
상기 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가 0.10 이상 0.70 이하이며,
상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 면에 입사각 5°로 광을 입사시켰을 때의 정반사광의 시감 반사율이 2.0％ 이하인, 표시 장치용 적층체. - 제27항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물층의 상대 막 밀도 D1 및 상기 고굴절률 분산층의 상대 막 밀도 D4가, 1.0≤D1/D4≤12.0을 충족하는, 표시 장치용 적층체.
- 제27항에 있어서, 상기 표시 장치용 적층체의 상기 불소 함유층 측의 표면의 운동 마찰 계수가, 0.01 이상 0.30 이하인, 표시 장치용 적층체.
- 제27항에 있어서, 상기 제1 무기 화합물이, 규소 산화물인, 표시 장치용 적층체.
- 제27항에 있어서, 상기 무기 화합물 입자가, 알루미늄 산화물, 지르코늄 산화물, 니오븀 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물 및 티타늄 산화물 중 어느 것인, 표시 장치용 적층체.
- 제27항에 있어서, 상기 고굴절률 분산층과 상기 기재층의 사이에 하드 코트층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 제27항에 있어서, 상기 기재층의 상기 고굴절률 분산층 측의 면과는 반대의 면측에, 첩부용 접착층을 갖는, 표시 장치용 적층체.
- 표시 패널과,
상기 표시 패널의 관찰자 측에 배치된, 제1항 내지 제33항 중 어느 한 항에 기재된 표시 장치용 적층체를 구비하는, 표시 장치.
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Family Cites Families (6)
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|---|---|---|---|---|
| JP2005017544A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、および画像表示装置 |
| JP2009139925A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-25 | Epson Toyocom Corp | 光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置 |
| FR2943798B1 (fr) * | 2009-03-27 | 2011-05-27 | Essilor Int | Article d'optique revetu d'un revetement antireflet ou reflechissant comprenant une couche electriquement conductrice a base d'oxyde d'etain et procede de fabrication |
| JP5758672B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-08-05 | グンゼ株式会社 | 光反射防止シートとその製造方法およびその光反射防止シートを用いたタッチパネルおよびディスプレイ |
| JP2023007511A (ja) * | 2019-12-03 | 2023-01-19 | コニカミノルタ株式会社 | 光学部材及びその製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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