CN104508561A - 曝光装置的除尘装置和除尘方法 - Google Patents

曝光装置的除尘装置和除尘方法 Download PDF

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Abstract

得到一种曝光装置的除尘装置和除尘方法，该曝光装置的除尘装置和除尘方法使得在除尘中暂时附着于除尘辊而被去除的灰尘、污物或异物等不会再次附着到除尘对象物上。一种曝光装置的除尘装置，所述曝光装置在感光性基板上曝光出图案，其特征在于，所述曝光装置的除尘装置具有：除尘辊，其能够通过周面与所述曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触/分离；以及移动机构，其以在使所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面接触的同时使所述除尘辊旋转的方式，使所述除尘辊与除尘对象物相对移动，所述除尘辊的周长被设定为比由所述移动机构控制的、所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面的接触移动距离长。

Description

曝光装置的除尘装置和除尘方法
技术领域
本发明涉及在感光性基板上曝光出图案的曝光装置，特别涉及其除尘装置以及除尘方法。
背景技术
在印刷基板、半导体基板等各种基板的制造中，使用了如下光刻技术的曝光装置被广泛使用：在涂敷了光致抗蚀剂(感光材料)的工件(感光性基板)上曝光成规定的图案并进行烘焙，然后，通过蚀刻工序在工件上形成图案。在这样的曝光装置中，公知有使掩模与工件贴紧而进行曝光的接触曝光方式、掩模与工件不接触的接近间隙(proximity gap)方式和投影(projection)方式、不具有掩模的直接曝光方式等各种方式。此外，还公知有对工件的两个面进行曝光的两面曝光方式以及只在单面进行曝光的单面曝光方式。
在任意方式的曝光装置中，当将在外部环境中被灰尘、污物或者异物等(以下，适当将它们统称为“灰尘”)污染的工件放入曝光装置内时，被污染的工件自身会产生曝光缺陷、显影缺陷。此外，在载置工件的曝光台和使用掩模的装置中，灰尘有可能会被转印在掩模上而同样成为引起曝光缺陷、显影缺陷的原因。此外，来自工件的光致抗蚀剂的起尘也会产生相同的问题。
现有专利文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-162749号公报
专利文献2：日本特开2007-25436号公报
专利文献3：日本特开2009-157249号公报
发明内容
发明要解决的课题
专利文献1、2、3提出了如下除尘装置：为了对这样的曝光装置的除尘对象物(工件、曝光台或掩模)进行除尘，使在周面上具有粘着材料的除尘辊(粘着辊)在除尘对象物表面上滚动。
然而，在专利文献1的除尘装置中，当除尘辊在掩模与曝光台上滚动时，暂时附着于除尘辊的灰尘有可能会再次移动(再次附着)到掩模或曝光台上。在专利文献2的除尘装置中，分别设置掩模除尘用的除尘辊与曝光台除尘用的除尘辊，但是同样地，暂时附着于除尘辊的灰尘有可能再次移动(再次附着)到掩模或曝光台上。在专利文献3的除尘装置中，由于在1个清洁单元上设置有分别对工件、曝光台和掩模进行除尘的除尘辊，因此会使装置大型化、高重量化。此外，与专利文献1、2的除尘装置不同，存在无法实现与工件的输送装置之间的兼用化的问题。
本发明的目的在于，基于意识到与现有装置有关的以上问题，得到一种曝光装置的除尘装置和除尘方法，该曝光装置的除尘装置和除尘方法使得在除尘中暂时附着于除尘辊而被去除的灰尘、污物或异物等不会再次附着到除尘对象物上。
用于解决课题的手段
本发明的曝光装置的除尘装置，所述曝光装置在感光性基板上曝光出图案，其特征在于，所述曝光装置的除尘装置具有：除尘辊，其能够通过周面与所述曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触/分离；以及移动机构，其以在使所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面接触的同时使所述除尘辊旋转的方式，使所述除尘辊与除尘对象物相对移动，所述除尘辊的周长被设定为比由所述移动机构控制的、所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面的接触移动距离长。
作为所述除尘辊，可以设置多个除尘辊，这多个除尘辊在将单一的除尘对象物的除尘表面分割成多个部分而得到的分割除尘表面上滚动，各除尘辊的周长被设定为比各除尘辊的周面与各分割除尘表面的接触移动距离长。
作为所述除尘辊，可以设置第1、第2除尘辊，该第1、第2除尘辊在将单一的除尘对象物的除尘表面分割成2部分而得到的第1、第2分割除尘表面上滚动，将所述第1除尘辊的周长设定为比所述第1除尘辊的周面与所述第1分割除尘表面的接触移动距离长，将所述第2除尘辊的周长设定为比所述第2除尘辊的周面与所述第2分割除尘表面的接触移动距离长。
优选的是，本发明的曝光装置的除尘装置还具有控制部，该控制部交替进行所述第1除尘辊在所述第1分割除尘表面上的滚动和所述第2除尘辊在所述第2分割除尘表面上的滚动。
所述除尘辊也可以由在单一的除尘对象物的整个除尘表面上滚动的单一辊构成。
所述移动机构还可以兼用作保持感光性基板并使其移动的工件移动机构。
所述除尘对象物可以包含感光性基板、曝光台以及掩模中的1个以上。
优选的是，本发明的曝光装置的除尘装置还具有集尘装置，该集尘装置对附着于所述除尘辊的灰尘进行集尘。
本发明的曝光装置的除尘方法的特征在于，交替执行如下工序：除尘工序，在使除尘辊的周面与曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触的同时使除尘辊滚动，来进行除尘；以及清扫工序，对除尘工序结束后的所述除尘辊的周面进行清扫，其中，在1次除尘工序中，以不使所述除尘辊的周面上的同一部分与所述除尘对象物的除尘表面接触两次的方式来进行除尘(除尘辊通过小于一周的滚动来进行除尘)。
发明效果
根据本发明，除尘辊在除尘中，其同一部分不会与除尘对象物的除尘表面接触两次(除尘辊通过小于一周的滚动来进行除尘)。因此，在除尘中暂时附着于除尘辊而被去除的灰尘、污物或异物等不会再次附着到除尘对象物上，能够将因再次附着而引起的曝光缺陷和显影缺陷防患于未然。
附图说明
图1是示出本发明的一个实施方式的曝光装置的除尘装置的概略结构的侧面透视图。
图2是示出除尘装置(清洁单元)的详细结构的俯视图。
图3是示出除尘装置(清洁单元)的详细结构的侧视图。
图4是示出除尘辊与转印辊之间的位置关系的双面图。
图5是示出第1除尘辊和第2除尘辊的周长(有效直径)与作为除尘对象物的工件的除尘表面之间的关系的图。
图6是示出第1除尘辊和第2除尘辊的周长(有效直径)与作为除尘对象物的曝光台的除尘表面之间的关系的图。
图7是示出第1除尘辊和第2除尘辊的周长(有效直径)与作为除尘对象物的掩模的除尘表面之间的关系的图。
图8是示出曝光装置的除尘装置的动作的第1工序图。
图9是示出曝光装置的除尘装置的动作的第2工序图。
图10是示出曝光装置的除尘装置的动作的第3工序图。
图11是示出曝光装置的除尘装置的动作的第4工序图。
图12是示出曝光装置的除尘装置的动作的第5工序图。
图13是示出曝光装置的除尘装置的动作的第6工序图。
图14是示出曝光装置的除尘装置的动作的第7工序图。
具体实施方式
下面，参照图1至图14，对本发明的曝光装置的除尘装置的一个实施方式进行说明。在本实施方式中，在曝光装置EX中应用了本发明，曝光装置EX是通过使掩模与工件贴紧而进行曝光的接触曝光方式来在工件的两个面上进行曝光的类型。以下的说明中的x、y、z的各方向是以图中描述的箭头方向为基准。
在本实施方式中使用的工件(感光性基板、除尘对象物)W由平面基材构成，该平面基材在曝光和蚀刻处理后，在两个面上分别层叠有作为电路配线而保留的金属膜与光致抗蚀剂层。
(曝光装置的整体结构)
如图1所示，从图1中的左侧朝向右侧，曝光装置EX依次具有投入部1、第1曝光部2、反转部3、第2曝光部4以及排出部5。
投入部1是用于将未曝光的工件(感光性基板、除尘对象物)W从曝光装置EX的外部送入内部的送入口。投入部1设置有台架1a，该台架1a用于载置由操作员或输送装置(未图示)送入的工件W。
第1曝光部2是用于对未曝光的工件W的第1面(上表面)进行曝光的曝光装置。第1曝光部2具有：曝光台(除尘对象物)8，其载置工件W；掩模(除尘对象物)10，其位于该曝光台8的上方且描绘有规定的图案；以及光源14，其位于该掩模10的上方。第1曝光部2具有使曝光台8相对于掩模10升降的升降机构(未图示)，在通过该升降机构使曝光台8朝向掩模10上升时，掩模10与载置在曝光台8上的工件W的第1面(上表面)贴紧。在使工件W与掩模10贴紧的状态下利用光源14照射使工件W的光致抗蚀剂层感光的波段的光(例如紫外光)时，掩模10上描绘的规定的图案被曝光到工件W的第1面(上表面)的光致抗蚀剂层上。另外，在曝光台8的上表面上形成有多个吸引口(未图示)，通过该吸引口抽吸空气，将工件W吸附固定于曝光台8的表面。
反转部3具有反转装置9，该反转装置9使第1面(上表面)被第1曝光部2曝光后的工件W的上下表面反转。在利用反转部3(反转装置9)使工件W的上下表面反转后，工件W的曝光完成的第1面朝向下面，工件W的未曝光的第2面朝向上面。
第2曝光部4是用于对第1面(下表面)曝光完成的工件W的第2面(上表面)进行曝光的曝光装置。第2曝光部4的结构与第1曝光部2的结构相同，因此，标注相同的标号并省略其说明。
排出部5是用于将两个面已经被第1曝光部2和第4曝光部4曝光后的工件W从曝光装置EX的内部向外部送出的送出口。排出部5中设置有用于载置曝光完成的工件W的台架5a，载置于台架5a上的工件W由操作员或输送装置(未图示)送出。
曝光装置EX具有第1处理机(工件移动机构)6，该第1处理机6保持工件W并使工件W从投入部1向第1曝光部2移动，接着向反转部3移动。第1处理机6具有送入处理机6a和送出处理机6b作为独立的构成要素，其中，送入处理机6a使工件W从投入部1的台架1a移动到第1曝光部2的曝光台8，送出处理机6b使工件W从第1曝光部2的曝光台8移动到反转部3的反转装置9。送入处理机6a与送出处理机6b具有装卸自如地吸附工件W的吸附盘P(图2、图3)。送入处理机6a和送出处理机6b能够通过后述的输送框架20而在图1中的左右方向上独立地移动。
曝光装置EX具有第2处理机(工件移动机构)7，该第2处理机7保持工件W并使工件W从反转部3向第2曝光部4移动，接着向排出部5移动。第2处理机7具有送入处理机7a和送出处理机7b作为独立的构成要素，其中，送入处理机7a使工件W从反转部3的反转装置9移动到第2曝光部4的曝光台8，送出处理机7b使工件W从第2曝光部4的曝光台8移动到排出部5的台架5a。送入处理机7a和送出处理机7b具有装卸自如地吸附工件W的吸附盘P(图2、图3)。送入处理机7a和送出处理机7b能够通过后述的输送框架20而在图1中的左右方向上独立地移动。
(除尘装置的结构)
在第1曝光部2和第2曝光部4中分别设置有相同结构的除尘装置(清洁单元)12。在图2、图3中，仅描述了设置在第1曝光部2中的除尘装置12，利用括弧来表示与第2曝光部4的构成要素对应的标号。
如图2、图3所示，除尘装置12具有彼此对置的第1除尘装置12a和第2除尘装置12b。
第1除尘装置12a和第2除尘装置12b由配置于第1曝光部2(第2曝光部4)内的输送框架20保持。输送框架20具有：一对导轨21，它们为在y方向(工件输送方向)上延伸的固定部件；一对y方向移动台22，它们在y方向(工件输送方向)上被这一对导轨21滑动自如地支承；沿x方向延伸的连接框架23，其以跨越一对导轨21的方式架设于y方向移动台22；一对z方向移动台25，它们在z方向(重力方向)上被这一对y方向移动台22滑动自如地支承；以及一对支架26，它们从该一对z方向移动台25起，以彼此接近的方式朝y方向突出形成。一对z方向移动台25滑动自如地支承于作为沿z方向(重力方向)延伸的固定部件的一对导轨24。y方向移动台22和z方向移动台25通过未图示的致动器而相对于导轨21和导轨24滑动地进行定位。
第1除尘装置12a具有旋转轴朝向x方向的第1除尘辊16a。该第1除尘辊16a旋转自如地支承于一对支架26中的一方的前端部。第2除尘装置12b具有旋转轴朝向x方向的第2除尘辊16b。该第2除尘辊16b旋转自如地支承于一对支架26中的另一方的前端部。在第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的外周面上形成有粘着材料层。第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的材质可以根据除尘对象而适当选择，一般而言，选择硅橡胶类的材质。
输送框架20构成如下移动机构：使第1除尘辊16a和第2除尘辊16b相对于作为除尘对象物的工件W、曝光台8或掩模10的除尘表面进行接触/分离移动，并且，在使第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的周面与除尘对象物的除尘表面接触的同时进行旋转驱动，使第1除尘辊16a和第2除尘辊16b与除尘对象物相对移动。当第1除尘辊16a和第2除尘辊16b从动于输送框架20的移动而在除尘对象物的除尘表面上旋转移动时，通过第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的外周面的粘着材料的粘着力，能够捕获附着于除尘对象物的除尘表面上的灰尘。
曝光装置EX具有控制部16c，该控制部16c控制输送框架(移动机构)20对第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的驱动。控制部16c交替进行第1除尘辊16a在除尘对象物上的滚动与第2除尘辊16b在除尘对象物上的滚动。即，控制部16c对输送框架20进行控制，使得第1除尘辊16a与第2除尘辊16b不会同时在除尘对象物上滚动。由此，能够防止第1除尘辊16a与第2除尘辊16b在除尘对象物上发生干涉。
如图2、图3所示，在输送框架20的一对连接框架23中的一方与另一方上分别固定有第1处理机6的送入处理机6a和送出处理机6b(第2处理机7的送入处理机7a和送出处理机7b)，第1除尘辊16a和送入处理机6a(送入处理机7a)以及第2除尘辊16b和送出处理机6b(送出处理机7b)一体地移动。即，输送框架20构成使第1除尘辊16a和第2除尘辊16b移动的移动机构，并且，构成与第1处理机6和第2处理机7协作地使工件W移动的工件移动机构(兼用作移动机构和工件移动机构)。
如图1、图3、图4所示，曝光装置EX具有转印辊(集尘装置)18，该转印辊18对附着于第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的外周面上的灰尘进行集尘并清扫外周面。转印辊18由设置在第1曝光部2和第2曝光部4中的框架17(与输送框架20独立)支承。转印辊18经由链条和齿轮等公知的传递装置，由驱动电机27旋转驱动，在其外周面上卷绕有具有比第1除尘辊16a和第2除尘辊16b更强的粘着力的胶带。第1除尘辊16a和第2除尘辊16b在其清扫位置处与转印辊18接触，并借助转印辊18的旋转而从动地旋转。其结果是，附着于第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的外周面上的灰尘被转印到转印辊18的表面上而被回收。这样地由转印辊18回收的灰尘通过从转印辊18的外周面剥取一圈粘着带而被丢弃。此外，为了便于剥取和更换转印辊18，在框架17的基部上设置有导轨19，通过拆下未图示的止动件，能够在操作员侧拉出转印辊18。此外，在框架17上设置有除电器28，该除电器28用于在第1除尘辊16a和第2除尘辊16b位于清扫位置时，去除第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的静电。
现在，参照图5、图6、图7，来关注第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的周长(有效直径)。图5示出将载置在曝光台8上的工件W作为除尘对象物的情况，图6示出将曝光台8作为除尘对象物的情况，图7示出将掩模10作为除尘对象物的情况。
如图5所示，作为除尘对象物的工件W的除尘表面WS被均等地分割成第1除尘表面(分割除尘表面)WS1和第2除尘表面(分割除尘表面)WS2，第1除尘辊16a在第1除尘表面WS1上滚动，第2除尘辊16b在第2除尘表面WS2上滚动。此外，将第1除尘辊16a的周长16ar设定为比第1除尘辊16a的周面与第1除尘表面WS1的接触移动距离(图5中的第1除尘表面WS1的宽度)长，将第2除尘辊16b的周长16br设定为比第2除尘辊16b的周面与第2除尘表面WS2的接触移动距离(图5中的第2除尘表面WS2的宽度)长。
如图6所示，作为除尘对象物的曝光台8的除尘表面8S被均等地分割成第1除尘表面(分割除尘表面)8S1和第2除尘表面(分割除尘表面)8S2，第1除尘辊16a在第1除尘表面8S1上滚动，第2除尘辊16b在第2除尘表面8S2上滚动。此外，将第1除尘辊16a的周长16ar设定为比第1除尘辊16a的周面与第1除尘表面8S1的接触移动距离(图6中的第1除尘表面8S1的宽度)长，将第2除尘辊16b的周长16br设定为比第2除尘辊16b的周面与第2除尘表面8S2的接触移动距离(图6中的第2除尘表面8S2的宽度)长。
如图7所示，作为除尘对象物的掩模10的除尘表面10S被均等地分割成第1除尘表面(分割除尘表面)10S1和第2除尘表面(分割除尘表面)10S2，第1除尘辊16a在第1除尘表面10S1上滚动，第2除尘辊16b在第2除尘表面10S2上滚动。此外，将第1除尘辊16a的周长16ar设定为比第1除尘辊16a的周面与第1除尘表面10S1的接触移动距离(图7中的第1除尘表面10S1的宽度)长，将第2除尘辊16b的周长16br设定为比第2除尘辊16b的周面与第2除尘表面10S2的接触移动距离(图7中的第2除尘表面10S2的宽度)长。
因此，当第1除尘辊16a和第2除尘辊16b在除尘对象物的除尘表面上滚动而进行除尘时，第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的周面上的同一部分不会与除尘对象物的除尘表面接触两次(第1除尘辊16a和第2除尘辊16b通过小于一周的滚动来进行除尘)。因此，在除尘中暂时附着于第1除尘辊16a和第2除尘辊16b而被去除的灰尘不会再次附着到除尘对象物上，能够将因再次附着而引起的曝光缺陷和显影缺陷防患于未然。
(曝光装置的除尘装置的动作)
参照图8至图14，对本实施方式的曝光装置EX的除尘装置12的动作进行说明。这里，例示出如下情况来进行说明：将第1曝光部2的掩模10和曝光台8作为除尘对象物，在对掩模10进行除尘后对曝光台8进行除尘。
首先，将由操作员或输送装置(未图示)送入的未曝光的工件W载置于投入部1的台架1a上。接着，通过第1处理机6的送入处理机6a将工件W从投入部1的台架1a移动到第1曝光部2的曝光台8。移动到曝光台8的工件W由形成于曝光台8的上表面的吸引口(未图示)吸附固定。接着，通过升降机构(未图示)使曝光台8朝向掩模10上升，使掩模10与载置在曝光台8上的工件W的第1面(上表面)贴紧。接着，在该贴紧状态下，通过由光源14照射使工件W的光致抗蚀剂层感光的波段的光(例如紫外光)，而将掩模10上描绘的规定的图案曝光形成到工件W的第1面(上表面)的光致抗蚀剂层上。接着，通过升降机构(未图示)使曝光台8下降至其上表面与路径的水平面为同一面(图1)，并且，解除曝光台8的吸引口(未图示)对工件W的吸附。然后，通过第1处理机6的送出处理机6b，使工件W从第1曝光部2的曝光台8移动到反转部3的反转装置9。
在工件W移动到反转部3的反转装置9后，执行除尘装置12对第1曝光部2的掩模10与曝光台8的除尘作业。
首先，如图8所示，在使第1除尘装置12a和第2除尘装置12b移动到初始位置后，由输送框架20驱动第1除尘装置12a的第1除尘辊16a，由此使第1除尘辊16a在第1除尘表面10S1上滚动，来对掩模10的第1除尘表面10S1进行除尘。
接着，如图9所示，输送框架20使第1除尘辊16a移动到与转印辊18接触的清扫位置，使转印辊18旋转，由此开始第1除尘辊16a的清扫。同时，通过输送框架20驱动第2除尘装置12b的第2除尘辊16b，而使第2除尘辊16b在第2除尘表面10S2上滚动，从而对掩模10的第2除尘表面10S2进行除尘。
接着，如图10所示，输送框架20使第2除尘辊16b移动到与转印辊18接触的清扫位置，使转印辊18旋转，由此开始第2除尘辊16b的清扫。
如图11所示，当第1除尘辊16a的清扫结束时，继续进行第2除尘辊16b的清扫，并由输送框架20驱动第1除尘装置12a的第1除尘辊16a，由此使第1除尘辊16a在第1除尘表面8S1上滚动，来对曝光台8的第1除尘表面8S1进行除尘。在对曝光台8的第1除尘表面8S1进行除尘的期间，第2除尘辊16b的清扫结束。
接着，如图12所示，输送框架20使第1除尘辊16a移动到与转印辊18接触的清扫位置，使转印辊18旋转，由此开始第1除尘辊16a的清扫。同时，由输送框架20驱动第2除尘装置12b的第2除尘辊16b，由此使第2除尘辊16b在第2除尘表面8S2上滚动，来对曝光台8的第2除尘表面8S2进行除尘。
接着，如图13所示，输送框架20使第2除尘辊16b移动到与转印辊18接触的清扫位置，使转印辊18旋转，由此开始第2除尘辊16b的清扫。
最后，如图14所示，第1除尘辊16a的清扫结束而使第1除尘装置12a移动到初始位置，之后，第2除尘辊16b的清扫结束而使第2除尘装置12b移动到初始位置。
如以上所说明的那样，在本实施方式的曝光装置EX的除尘方法中，交替执行以下工序：第1除尘辊16a和第2除尘辊16b对除尘对象物的除尘工序；以及通过转印辊18对除尘工序结束后的第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的周面进行清扫的清扫工序。
这里，对第1曝光部2中的除尘动作进行了说明，不过，在第2曝光部4中也进行完全相同的除尘动作。关于在第1曝光部2和第2曝光部4中进行除尘的时机，只要是在曝光台8与掩模10之间能够形成空间的时机即可，可以是如下方式：在预先规定的曝光周期中开始除尘；或者在完成任意的曝光而已经排出了工件W的时机开始除尘。
并且，在第1曝光部2和第2曝光部4中进行除尘的顺序只是一例，并不限于此。例如，也可以先由第2除尘装置12b(第2除尘辊16b)进行除尘，而后由第1除尘装置12a(第1除尘辊16a)进行除尘。此外，也可以先进行曝光台8的除尘，而后进行掩模10的除尘。此外，也可以使第1除尘装置12a(第1除尘辊16a)和第2除尘装置12b(第2除尘辊16b)同时开始除尘动作。
这样，根据本实施方式，将第1除尘辊16a的周长16ar设定为比第1除尘辊16a的周面与除尘对象物的第1除尘表面(WS1、8S1、10S1)的接触移动距离长，将第2除尘辊16b的周长16br设定为比第2除尘辊16b的周面与除尘对象物的第2除尘表面(WS2、8S2、10S2)的接触移动距离长。因此，在1次除尘工序中，在使第1除尘辊16a和第2除尘辊16b在除尘对象物的除尘表面上滚动而进行除尘时，第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的周面上的同一部分不会与除尘对象物的除尘表面接触两次(第1除尘辊16a和第2除尘辊16b通过小于一周的滚动来进行除尘)。因此，在除尘中暂时附着于第1除尘辊16a和第2除尘辊16b而被去除的灰尘不会再次附着到除尘对象物上，能够将因再次附着而引起的曝光缺陷和显影缺陷防患于未然。
在以上的实施方式中，例示出设置有第1除尘辊16a和第2除尘辊16b这2个除尘辊的情况而进行了说明，但是，也可以是设置有在单一的除尘对象物的整个除尘表面上滚动的单一除尘辊的方式。在该情况下，将单一除尘辊的周长(有效直径)设定为比单一除尘辊的周面与除尘对象物的除尘表面的接触移动距离长。
在以上的实施方式中，例示出设置有第1除尘辊16a和第2除尘辊16b这2个除尘辊的情况而进行了说明，但是，也可以是设置3个以上的除尘辊的方式。在该情况下，使各除尘辊的周长(有效直径)比各除尘辊的周面与除尘对象物的各分割除尘表面的接触移动距离长。
在以上的实施方式中，例示出通过使掩模与工件(感光性基板)贴紧来进行曝光的接触曝光方式在工件的两个面上依次进行曝光这一类型的曝光装置EX而进行了说明，但是，本发明的应用对象并不限于此。例如，本发明除了可以应用于接触曝光方式之外，还可以应用于掩模与工件接近并且为非接触的接近间隙方式、不具有掩模而一边调光一边扫描并直接描绘出图案的直接曝光方式、以及在掩模与基板之间设置投影光学***的投影方式等各种方式的曝光装置。此外，本发明可以应用于同时对工件的两个面进行曝光的双面同时曝光方式以及仅在工件的单面进行曝光的单面曝光方式的曝光装置。
在以上的实施方式中，例示出一边沿水平方向输送工件一边进行曝光的横式曝光装置而进行了说明，但是，也可以将本发明应用于一边沿铅直方向输送工件一边进行曝光的纵式曝光装置。
在以上的实施方式中，例示出将工件(感光性基板)、曝光台或掩模作为除尘对象物的情况而进行了说明，但是，可以将在曝光装置的内部中可能附着灰尘的任何部件作为除尘对象物。
在以上的实施方式中，例示出使用了对附着于第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的灰尘进行集尘的转印辊(集尘装置)18的情况而进行了说明。但是，也可以是如下方式：省略转印辊(集尘装置)18，在第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的除尘动作结束时，从第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的外周面剥取一圈粘着材料(粘着带)。在该方式中，由于每次从第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的外周面剥取粘着材料(粘着带)，其周长就变小，因此以粘着材料(粘着带)的卷绕量最少的状态为基准来设定第1除尘辊16a和第2除尘辊16b的周长。
产业上的可利用性
本发明的曝光装置的除尘装置和除尘方法适合应用于例如在感光性基板上曝光出图案的曝光装置的除尘装置和除尘方法。
标号说明
EX：曝光装置；W：工件(感光性基板、除尘对象物)；WS：除尘表面；WS1：第1除尘表面(分割除尘表面)；WS2：第2除尘表面(分割除尘表面)；1：投入部；1a：台架；2：第1曝光部；3：反转部；4：第2曝光部；5：排出部；5a：台架；6：第1处理机(工件移动机构)；6a：送入处理机；6b：送出处理机；7：第2处理机(工件移动机构)；7a：送入处理机；7b：送出处理机；8：曝光台(除尘对象物)；8S：除尘表面；8S1：第1除尘表面(分割除尘表面)；8S2：第2除尘表面(分割除尘表面)；9：反转装置；10：掩模(除尘对象物)；10S：除尘表面；10S1：第1除尘表面(分割除尘表面)；10S2：第2除尘表面(分割除尘表面)；12：除尘装置(清洁单元)；12a：第1除尘装置；12b：第2除尘装置；14：光源；16a：第1除尘辊；16ar：第1除尘辊的周长(有效直径)；16b：第2除尘辊；16br：第2除尘辊的周长(有效直径)；16c：控制部；17：框架；18：转印辊(集尘装置)；19：导轨；20：输送框架(移动机构、工件移动机构)；21：导轨；22：y方向移动台；23：连接框架；24：导轨；25：z方向移动台；26：支架；27：驱动电机；28：除电器。

Claims (9)

1.一种曝光装置的除尘装置，所述曝光装置在感光性基板上曝光出图案，其特征在于，所述曝光装置的除尘装置具有：
除尘辊，其能够通过周面与所述曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触/分离；以及
移动机构，其以在使所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面接触的同时使所述除尘辊旋转的方式，使所述除尘辊与除尘对象物相对移动，
所述除尘辊的周长被设定为比由所述移动机构控制的所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面的接触移动距离长。
2.根据权利要求1所述的曝光装置的除尘装置，其中，
所述曝光装置的除尘装置具有多个所述除尘辊，多个所述除尘辊在将单一的除尘对象物的除尘表面分割成多个部分而得到的分割除尘表面上滚动，
各除尘辊的周长被设定为比各除尘辊的周面与各分割除尘表面的接触移动距离长。
3.根据权利要求2所述的曝光装置的除尘装置，其中，
所述除尘辊具有第1除尘辊和第2除尘辊，所述第1除尘辊和所述第2除尘辊在将单一的除尘对象物的除尘表面分割成2部分而得到的第1分割除尘表面和第2分割除尘表面上滚动，
所述第1除尘辊的周长被设定为比所述第1除尘辊的周面与所述第1分割除尘表面的接触移动距离长，
所述第2除尘辊的周长被设定为比所述第2除尘辊的周面与所述第2分割除尘表面的接触移动距离长。
4.根据权利要求3所述的曝光装置的除尘装置，其中，
所述曝光装置的除尘装置还具有控制部，该控制部交替进行所述第1除尘辊在所述第1分割除尘表面上的滚动以及所述第2除尘辊在所述第2分割除尘表面上的滚动。
5.根据权利要求1所述的曝光装置的除尘装置，其中，
所述除尘辊由在单一的除尘对象物的整个除尘表面上滚动的单一辊构成。
6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的曝光装置的除尘装置，其中，
所述移动机构兼用作工件移动机构，该工件移动机构保持感光性基板并使其移动。
7.根据权利要求1至6中的任意一项所述的曝光装置的除尘装置，其中，
所述除尘对象物包含感光性基板、曝光台以及掩模中的1个以上。
8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的曝光装置的除尘装置，其中，
所述曝光装置的除尘装置还具有集尘装置，该集尘装置对附着于所述除尘辊的灰尘进行集尘。
9.一种曝光装置的除尘方法，其特征在于，
该曝光装置的除尘方法交替执行如下工序：
除尘工序，在使除尘辊的周面与曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触的同时使除尘辊滚动，来进行除尘；以及
清扫工序，对除尘工序结束后的所述除尘辊的周面进行清扫，
其特征在于，在1次除尘工序中，以不使所述除尘辊的周面上的同一部分与所述除尘对象物的除尘表面接触两次的方式来进行除尘。
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