KR101300853B1 - 기판 반송 시스템, 기판 반송 장치 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판반송시스템, 기판반송장치 및 기판처리장치에 관한 것으로서, 유리 기판상의 도포막에 얼룩이 생기지 않도록 기판을 반송하는 것을 목적으로 하고 있다.
레지스트도포처리 유니트의 스테이지의 전후에, 제1의 반송체와 2의 반송체가 설치된다. 제2의 반송체는 Y방향으로 나열된 복수의 롤러와 롤러를 지지하는 핸드, 핸드가 장착된 레일 플레이트를 가진다. 핸드에는 롤러를 회전시키는 회전구동부와 핸드를 Y방향으로 진퇴 시키는 수평 구동부가 설치된다. 스테이지에는 서로 독립하여 승강 자유로운 승강핀군이 설치된다. 유리 기판이 승강핀군에 의해 상승된 상태로 유리 기판의 아래쪽에 롤러가 진입해, 이 롤러에 유리 기판이 수수된다. 롤러는 회전해 유리 기판을 후방으로 저속도로 보내면서 후퇴하는 기술을 제공한다.

Description

기판 반송 시스템, 기판 반송 장치 및 기판 처리 장치{SUBSTRATE CONVEYING SYSTEM, SUBSTRATE CONVEYING DEVICE AND SUBSTRATE TREATMENT DEVICE}
도 1은 본 실시의 형태에 있어서의 도포 현상 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도 2는 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다.
도 3은 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도 4는 노즐의 설명도이다.
도 5는 제1의 반송체와 제2의 반송체의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 6은 제1의 반송체의 롤러상에 유리 기판이 지지를 받은 상태를 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 7은 제1의 반송체에 의해 스테이지상에 유리 기판이 반송된 상태를 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 8은 제1의 반송체의 롤러가 후퇴하는 모습을 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 9는 승강핀에 유리 기판이 지지를 받은 상태를 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 10은 제2의 반송체가 유리 기판의 하면 측에 진입하는 모습을 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 11은 제2의 반송체의 롤러상에 유리 기판이 지지를 받은 상태를 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 12는 제2의 반송체의 롤러가 후퇴해 유리 기판을 후방에 반송하는 모습을 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 13은 제2의 반송체로부터 하류 롤러에 유리 기판을 수수하는 상태를 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 14는 승강핀을 유리 기판의 양단부에만 설치한 경우의 레지스트 도포 처리 유니트의 평면도이다.
도 15는 제1의 반송체와 제2의 반송체에 벨트를 사용한 경우의 레지스트 도포 처리 유니트의 종단면의 설명도이다.
도 16은 제1의 반송체의 벨트가 후퇴하는 모습을 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 17은 제2의 반송체의 벨트가 유리 기판의 하면 측에 진입하는 모습을 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 18은 제2의 반송체의 벨트가 후퇴해 유리 기판을 후방에 반송하는 모습을 나타내는 레지스트 도포 처리 유니트내의 설명도이다.
도 19는 본 발명이 적용 가능한 도포 현상 처리 장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 20은 실시 형태의 도포 현상 처리 장치에 있어서의 처리의 순서를 나타내는 플로차트이다.
도 21은 실시 형태의 도포 현상 처리 장치에 있어서의 레지스트 도포 처리 유니트의 전체 구성을 나타내는 대략의 평면도이다.
도 22는 실시 형태의 레지스트 도포 처리 유니트에 있어서의 도포 처리부의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 23은 실시 형태에 있어서의 레지스트 도포 처리의 모습을 나타내는 대략의 사시도이다.
도 24는 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 25는 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 26은 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 평면도이다.
도 27은 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 28은 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 29는 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 30은 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 31은 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 32는 실시 형태에 있어서의 작용의 일단계를 나타내는 대략의 측면도이다.
도 33은 실시 형태에 있어서의 가동 반송 기구의 구성예를 나타내는 사시도이다.
도 34는 실시 형태에 있어서의 가동 반송 기구의 롤러 반송 구동부의 전체 구성을 나타내는 대략의 평면도이다.
도 35는 도 34의 A-A선에 대한 단면도이다.
도 36은 실시 형태에 있어서의 가동 반송 기구의 캔틸레버부내의 롤러 반송 구동부의 구성을 나타내는 댁략의 측면도이다.
도 37은 실시 형태에 있어서의 가동 반송 기구의 수평 이동 구동부의 구성을 나타내는 대략의 측면도이다.
도 38은 실시 형태에 있어서의 가동 반송 기구(특히 반송 브릿지)의 하나의 변형예의 구성을 나타내는 대략의 평면도이다.
도 39는 실시 형태에 있어서의 가동 반송 기구의 다른 변형예를 나타내는 대략의 측면도이다.
*주요부위를 나타내는 도면부호의 설명*
1 도포 현상 처리 장치
24 레지스트 도포 처리 유니트
70 스테이지
80a~80e 승강핀군
90 노즐
100 제1의 반송체
101 제2의 반송체
110, 120 롤러
111, 121 핸드
232 제1의 수평 반송로
232A 반입측의 고정 반송로
232B 반출측의 고정 반송로
244 레지스트 도포 처리 유니트(CT)
280 스테이지
282 도포 처리부
284 인 스테이지(IN)
286 아웃 스테이지(OUT)
288 노즐
302 리프트 핀
320, 320A, 320B 가동 반송 기구
322, 322A, 322B 가이드 레일
324, 324A, 324B 베이스부
326, 326A, 326B 반송 브릿지
328 승강 본체
330, 330A, 30B 캔틸레버부
332, 332A, 332B 롤러
344 에어 실린더
345 슬라이드 샤프트
350 전기 모터
366 타이밍 벨트
380 구동 벨트
382 전기 모터
A 반송 라인
R 롤러
G 유리 기판
본 발명은 기판에 도포액을 도포하는 도포 처리부에 기판을 반송하는 기판 반송 시스템, 기판 반송 장치 및 기판 처리 장치에 관한다.
예를 들면, 액정 디스플레이의 제조 프로세스의 포트리소그래피공정에서는, 유리 기판상에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 처리를 하고 있다.
상술의 레지스트 도포 처리는 예를 들면 유리 기판의 반송 경로상에 있는 레지스트 도포 처리부에 있어서 행해지고 있다. 통상, 유리 기판은, 반송 경로상의 반입 스테이지에 일단 재치되고 그 반입 스테이지로부터 레지스트 도포 처리부에 반입된다. 또, 레지스트 도포 처리가 종료한 유리 기판은 레지스트 도포 처리부로부터 반출 스테이지에 반출된다. 이 반입 스테이지로부터 레지스트 도포 처리부에의 유리 기판의 반송과 레지스트 도포 처리부로부터 반출 스테이지로의 유리 기판의 반송은 통상 반송 아암을 가지는 수직 반송 유니트에 의해 행해지고 있다(일본특개 2005-142372호 공보 참조). 이 반송 아암에는 유리 기판이 휘어지지 않도록 유리 기판의 하면의 복수 지점을 지지하는 포크 형상의 것이 이용되고 있다(일본 특개평 11-26550호 공보 참조).
또 최근의 FPD용 레지스트 도포 장치는 기판의 대형화에 대처하기 위해서 스테이지상의 기판에 대해서 긴형의 노즐에 레지스트액을 띠형상으로 토출시키면서 상대적인 이동 또는 주사를 실시하게 하는 것으로, 기판 회전운동을 필요로 하는 경우 없이 기판상에 원하는 막두께로 레지스트액을 도포하도록 한 스핀레스 방식을 채용하고 있다. 스핀레스 도포법에 의하면 노즐을 기판의 일단으로부터 타단까지 상대적으로 l회 이동시키는 것만으로, 레지스트액을 밖에 떨어뜨리지 않고 기판상에 레지스트 도포막을 형성할 수가 있다.
그런데 상술한 바와 같이 포크형상의 반송아암을 이용한 경우, 그 반송아암 으로부터의 열적인 영향에 의해, 반송아암과 접촉한 부분과 비접촉 부분의 사이에서 유리기판에 온도편차가 발생한 경우가 있었다. 이 온도편차에 의해 유리기판상의 레지스트액에 도포반점을 발생시키는 경우가 있었다. 도포얼룩이 생기면 그 후의 포트리소그래피 공정이 적절히 행해지지 않는다.
또 상기와 같은 스핀레스 도포법에 있어서, 기판상에 레지스트액을 원하는 또한 균일한 막두께로 도포함에는 노즐과 기판의 사이로 설정되는 작은 도포 갭을 도포 주사의 사이 일정값(예를 들어 1OOμm)으로 유지하지 않으면 안 된다. 그런데 종래는 레지스트 도포 장치의 옆에서 반송 로보트가 다른 처리 장치 또는 유니트에 대한 액세스나 기판의 반입, 반출 동작을 실시할 때에 생기는 기계 진동이 바닥을 지나 도포 처리중의 스테이지에 그리고, 그 진동의 영향으로 도포 갭이 변동해, 기판상에서 레지스트 도포막의 막두께 이변이나 도포 얼룩짐이 발생한다고 하는 문제가 있었다. 또 반송 로보트의 오동작에 의한 선회 연동이나 아암 진퇴 운동이 메인터넌스 작업원등의 안전면에서 문제가 되고 있다. 또, 기판의 대형화에 의해 반송아암의 굴곡이 증가하고 있는 것도 문제가 되고 있다.
본 발명은, 상기 점에 비추어 이루어진 것이고, 유리 기판등의 기판상에 도포되는 도포액의 도포얼룩이 억제되도록 레지스트 도포 처리부등의 도포 처리부에 기판을 반송하는 것을 그 목적으로 한다. 또한 본 발명은 처리부에 대해서 기판을 반입·반출하는 기구의 안전성 및 효율성을 개선함과 동시에 처리 실행중의 처리부에 기계 진동등의 영향을 주지 않도록 한 기판 반송 장치 및 기판 처리 장치를 제 공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 기판에 도포액을 도포하는 도포 처리부에 대해 기판을 반송하는 기판 반송 시스템이다. 그리고 기판을 지지 가능으로 수평 방향으로 나열된 복수의 롤러와 상기 복수의 롤러를 일체적으로 지지하는 지지 부재와 상기 지지 부재를 이동시켜 상기 복수의 롤러를 도포 처리부에 대해서 진퇴 시키는 이동 기구와 상기 복수의 롤러를 회전시키는 회전 구동부를 가지는 반송체를 구비하고 있다. 그리고 본 발명은 상기 도포 처리부의 기판을 승강시키는 승강기구를 구비하고 있다.
본 발명에, 예를 들면 복수의 롤러상에 기판을 지지해 그 롤러를 회전시켜 롤러와 기판의 접촉 위치를 움직이면서 기판을 반송할 수 있다. 이렇게 하는 것에 의해 기판에 국소적으로 열이 전해져 기판에 온도편차가 생기는 경우가 없고 기판상에 도포되는 도포의 도포얼룩을 억제할 수 있다.
상기 복수의 롤러는 상기 도포 처리부측의 전방의 롤러로부터 차례로 상기 도포 처리부의 기판의 하면에 접촉해 나가도록 상기 도포 처리부의 기판의 하측에 진입해 기판을 지지해 상기 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부로부터 후퇴해도 괜찮다.
상기 복수의 롤러는 상기 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부에 진입해도 괜찮다.
상기 복수의 롤러는 지지한 기판을 회전에 의해 후방 측에 보내면서 상기 도포 처리부로부터 후퇴해도 괜찮다.
상기 승강기구는 기판의 하면을 지지해 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고 상기 복수의 승강 부재는 상기 복수의 롤러의 진입에 맞추어 상기 롤러와 접촉하지 않게 상기 롤러의 진입측의 승강 부재로부터 차례로 하강해, 기판을 롤러에 수수하도록 해도 괜찮다.
기판을 지지 가능으로 수평 방향으로 나열된 복수의 다른 롤러와 상기 복수의 다른 롤러를 일체적으로 지지하는 다른 지지 부재와 상기 다른 지지 부재를 이동시켜 상기 복수의 다른 롤러를 도포 처리부에 대해서 진퇴 시키는 다른 이동 기구와 상기 복수의 다른 롤러를 회전시키는 다른 회전 구동부를 가지는 다른 반송체를 구비하고 있어도 괜찮다. 이 경우, 상기 복수의 다른 롤러는 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부에 진입해 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부로부터 후퇴하는 것이다.
상기 승강기구는 기판의 하면을 지지해 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고 상기 복수의 승강 부재는 상기 복수의 다른 롤러의 후퇴에 맞추어 상기 롤러와 접촉하지 않게 상기 다른 롤러의 진입 방향 전방 측에 있는 승강 부재로부터 차례로 상승해, 기판을 지지하도록 해도 괜찮다.
다른 관점에 의한 본 발명은 기판을 지지 가능으로 회전 가능한 회전 벨트와 상기 회전 벨트를 지지하는 지지 부재와 상기 지지 부재를 이동시켜, 상기 회전 벨트를 도포 처리부에 대해서 진퇴 시키는 이동 기구와 상기 회전 벨트를 회전시키는 회전 구동부를 가지는 반송체를 가지고 있다. 그리고 본 발명은 상기 도포 처리부의 기판을 승강하는 승강기구를 구비하고 있다.
상기 회전 벨트는 상기 도포 처리부측의 전방으로부터 차례로 상기 도포 처리부의 기판의 하면을 접촉해 나가도록 상기 도포 처리부의 기판의 하측에 진입해 기판을 지지해, 상기 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부로부터 후퇴하도록 해도 괜찮다.
상기 회전 벨트는 상기 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부에 진입하도록 해도 괜찮다.
상기 회전 벨트는 지지한 기판을 회전에 의해 후방 측에 보내면서, 상기 도포 처리부로부터 후퇴하도록 해도 괜찮다.
상기 승강기구는 기판의 하면을 지지해 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고 상기 복수의 승강 부재는, 상기 회전 벨트의 진입에 맞추어 상기 회전 벨트와 접촉하지 않게, 상기 회전 벨트의 진입측의 승강 부재로부터 차례로 하강해, 기판을 회전 벨트에 수수하도록 해도 괜찮다.
기판을 지지 가능으로 수평 방향으로 나열된 다른 회전 벨트와, 상기 다른 회전 벨트를 지지하는 다른 지지 부재와, 상기 다른 지지 부재를 이동시켜 상기 다른 회전 벨트를 도포 처리부에 대해서 진퇴시키는 다른 이동 기구와, 상기 다른 회전 벨트를 회전시키는 다른 회전 구동부를 가지는 다른 반송체를 상기 기판 반송 시스템은 더 구비하고 상기 다른 회전 벨트는 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부에 진입해 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부로부터 후퇴하도록 해도 괜찮다.
상기 승강기구는 기판의 하면을 지지해 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고 상기 복수의 승강 부재는, 상기 다른 회전 벨트의 후퇴에 맞추어 상기 다른 회전 벨트와 접촉하지 않게 상기 다른 회전 벨트의 진입 방향 전방 측에 있는 승강 부재로부터 차례로 상승해, 기판을 지지하도록 해도 괜찮다.
또한 별도의 관점에 의하면, 본 발명의 기판 반송 장치는, 스테이지 상에서 기판에 소정의 처리를 가하는 처리부에 대해서 처리전의 상기 기판을 반입하고 처리완료의 상기 기판을 반출하기 위한 기판 반송 장치로서, 상기 기판을 평류로 반송하기 위한 제 1의 반송체를 부설하고 수평인 제1의 방향에 있어서 상기 스테이지의 한쪽의 사이드에 종단을 가지는 제1의 고정 반송로와 상기 기판을 평류로 반송하기 위한 제 2의 반송체를 부설하고, 상기 제 1의 방향에 있어서 상기 스테이지의 다른쪽의 사이드에 시단을 가지는 제2의 고정 반송로와 상기 기판을 평류로 반송하기 위한 제 3의 반송체를 장착하고, 상기 스테이지에 상기 기판을 반입하고, 또는 상기 스테이지로부터 상기 기판을 반출하기 위한 상기 제1의 고정 반송로의 종단 또는 상기 제2의 고정 반송로의 시단과 접속해 상기 스테이지의 윗쪽에 가설되는 브릿지 주행위치와 상기 스테이지에 있어서의 기판 처리시에 퇴피하기 위한 상기 제 1 또는 제2의 고정 반송로 잠기는 브릿지 역주행위치의 사이에 이동 가능하게 구성된 가동 반송 브릿지를 갖고, 상기 스테이지에 상기 기판을 반입하기 위해서 상기 제1의 반송체와 상기 제3의 반송체를 연동시켜 구동해, 상기 스테이지로부터 상기 기판을 반출하기 위해서 상기 제2의 반송체와 상기 제3의 반송체를 연동시켜 구동한다.
또, 본 발명의 기판 처리 장치는 스테이지상에서 기판을 거의 수평으로 지지해 소정의 처리를 가하는 처리부와 이 처리부에 대해서 처리전의 상기 기판을 반입해, 처리완료의 상기 기판을 반출하기 위한 본 발명의 기판 반송 장치를 가진다.
본 발명에 있어서는 처리부에서 기판 처리를 하고 있는 동안은 가동 반송 브릿지를 브릿지 역주행위치에서 정지 내지 대기하게 한다. 처리부에서 기판 처리가 종료했기 때문에 가동 반송 브릿지를 브릿지 주행위치에 이동시킨다. 브릿지 주행 위치에 있어서, 가동 반송 브릿지는 제1의 고정 반송로의 종단과 접속해 처리부의 윗쪽에 가설된 상태로 제1의 고정 반송로의 제1의 반송체와 연동해 제3의 반송체를 구동하는 것으로써 처리부로 기판을 반입하고 제2의 고정 반송로의 시단과 접속해 처리부의 윗쪽에 가설된 상태로 제2의 고정 반송로의 제2의 반송체와 연동해 제3의 반송체를 구동하는 것으로써 처리부로부터 기판을 반출할 수가 있다.
본 발명의 기판 반송 장치는, 매우 적합한 한 형태로서 가동 반송 브릿지를 탑재하는 가동의 베이스와 제 1의 방향에 있어서 베이스를 브릿지 역주행위치에 대응하는 베이스 역주행위치와 브릿지주행위치에 대응하는 베이스 주행위치의 사이에서 이동시키는 베이스 이동부와 베이스상에서 가동 반송 브릿지를 승강 이동시키는 브릿지 승강부를 가진다. 이 경우, 베이스 이동부가 베이스 역주행위치와 베이스주행위치의 사이에 베이스를 수평 이동시켜 브릿지 승강부가 베이스주행위치에서 베이스상의 반송 브릿지를 승강 이동시키는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 매우 적합한 한 종류에 의하면 가동 반송 브릿지가 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지와 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지로 2 분할되어 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지가 제1의 고정 반송로의 종단과 접속하고 스테이지의 윗쪽에 가설되는 제1의 브릿지 주행위치와 제1의 고정 반송로 아래에 잠기는 제1의 브릿지 역주행위치의 사이에서 이동 가능하게 구성되어 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지가 제2의 고정 반송로의 시단과 접속해 스테이지의 윗쪽에 가설되는 제2의 브릿지 주행위치와 제2의 고정 반송로 아래에 잠기는 제2의 브릿지 역주행위치의 사이에서 이동 가능하게 구성된다. 관련된 구성에 의하면 제1 및 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지는 기판의 하중을 각각 1/2 씩 분담하면 좋기 때문에 기판이 대형화해도 무리없이 대응할 수가 있다.
또한 본 발명의 기판 반송 장치에는 매우 적합한 한 가지 형태로서 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지를 탑재하는 가동의 제1의 베이스와 제1의 방향에 있어서 제1의 베이스를 제1의 브릿지 역주행위치에 대응하는 제 1 베이스 역주행위치와 제 1의 브릿지 주행위치에 대응하는 제 1 베이스 주행위치의 사이에서 이동시키는 제1의 베이스 이동부와 제 1의 베이스상에서 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지를 승강 이동시키는 제 1의 브릿지 승강부가 설치된다. 또 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지를 탑재하는 가동의 제2의 베이스와 제 1의 방향에 있어서 제2의 베이스를 제2의 브릿지 역주행위치에 대응하는 제2의 베이스 역주행위치와 제2의 브릿지주행위치에 대응하는 제 2 베이스 주행위치의 사이에서 이동시키는 제2의 베이스 이동부와 제 2 베이스 상에서 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지를 승강 이동시키는 제2의 브릿지 승강부가 설치된다.
여기서 제1 및/또는 제2의 베이스 이동부는 제1 및/또는 제2의 베이스 역주행위치와 제1 및/또는 제2의 베이스주행위치의 사이에서 제1 및/또는 제2의 베이스를 수평 이동시켜 좋고 제1 및/또는 제2의 브릿지 승강부는 제1 및/또는 제2의 베이스주행위치에서 제1 및/또는 제2의 베이스상의 제1 및/또는 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지를 승강 이동시켜도 좋다.
또 바람직한 한 형태에 의하면 제1 및/또는 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지가 제1 및/또는 제 2 베이스상에 승강 가능하게 지지를 받는 제1 및/또는 제2의 승강 본체와 이 제1 및/또는 제2의 승강 본체로부터 스테이지 측에 돌출하여 연장하는 복수 라인의 캔틸레버부와 각각의 캔틸레버부에 제3의 반송체로서 회전 가능하게 장착되는 복수의 제1 및/또는 제2의 롤러와 이들의 제1 및/또는 제2의 롤러를 회전 구동하는 힘을 발생하기 위해서 제1 및/또는 제2의 브릿지 본체에 설치되는 제1 및/또는 제2의 롤러 구동부와 이 제1 및/또는 제2의 롤러 구동부에서 발생되는 회전 구동력을 일부 또는 전부의 상기 제1 및/또는 제2의 롤러에 전하기 위한 제1 및/또는 제2의 전동부를 가진다.
더 바람직한 한 종류로 일부 또는 전부의 캔틸레버부에 있어서 복수개의 제1 및/또는 제2의 롤러가 제1의 방향과 직교하는 수평인 제2의 방향으로 소정의 피치로 오프셋 해 배열된다. 관련되는 구성에 있어서는 기판이 제 1 및/또는 제2의 롤러와 일직선상에서 접촉하는 비율이 적게 되므로 처리 후의 기판으로부터 롤러로의 열흡인하여 발생하는 품질 열화를 효과적으로 방지할 수가 있다.
상기 한 처리부에는 스테이지상에 기판을 로딩해, 스테이지로부터 기판을 언로딩하고 또는 스테이지의 윗쪽에서 가동 반송 브릿지와 기판의 수수를 실시하기 때문에 스테이지를 관통해 상하 이동 가능하게 구성된 복수 라인의 리프트 핀이 설치되어 좋다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시의 형태에 대해서 설명한다. 도 1은, 본 실시의 형태에 관련되는 기판 반송 시스템이 탑재된 도포 현상 처리 장치 (1)의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.
도포 현상 처리 장치 (1)은 도 1에 나타나는 바와 같이 예를 들면 복수의 유리 기판 (G)를 카셋트 단위로 외부에 대해서 반입출하기 위한 카셋트 스테이션 (2)와 포트리소그래피공정 중에서 매엽식으로 소정의 처리를 가하는 각종 처리 유니트가 배치된 처리 스테이션 (3)과 처리 스테이션 (3)에 인접해 설치되어 처리 스테이션 (3)과 노광 장치 (4)의 사이에 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 인터페이스 스테이션 (5)를 일체로 접속한 구성을 가지고 있다.
카셋트 스테이션 (2)에는 카셋트 재치대 (10)이 설치되고 상기 카셋트 재치대 (10)은 복수의 카셋트 (C)를 X방향(도 1중의 상하 방향)으로 일렬로 재치 자유롭게 되어 있다. 카셋트 스테이션 (2)에는, 반송로 (11)상을 X방향을 향해 이동 가능한 기판 반송체 (12)가 설치되고 있다. 기판 반송체 (12)는 카셋트 (C)에 수용된 유리 기판 (G)의 배열 방향(Z방향;수직 방향)으로도 이동 자유롭고, X방향으로 배열된 각 카셋트 (C)내의 유리 기판 (C)에 대해서 선택적으로 액세스 할 수 있다.
기판 반송체 (12)는, Z축주위의 θ방향으로 회전 가능하고, 후술하는 처리 스테이션 (3)측의 엑시머 UV조사 유니트 (20)이나 냉각 처리 유니트 (33)에 대해서도 액세스 할 수 있다.
처리 스테이션 (3)은 예를 들면 Y방향(도 1의 좌우 방향)으로 연장하는 2열의 반송 라인 (A,b)를 구비하고 있다. 이 반송 라인 (A,b)는 롤러 컨베이어에 의한 롤러 반송에 의해 유리 기판 (G)를 수평 방향으로 직선적으로 반송할 수 있다. 처리 스테이션 (3)의 정면측(X방향 부방향측(도 1의 하측)에 있는 기판 반송로인 반송 라인 (A)에는, 카셋트 스테이션 (2)측으로부터 인터페이스 스테이션 (5) 측에 향하여 차례로 예를 들면 유리 기판 (G)상의 유기물을 제거하는 엑시머 UV조사 유니트 (20), 유리 기판 (G)를 세정하는 스크러버 세정 유니트 (21), 유리 기판 (G)를 가열 처리하는 가열 처리 유니트 (22), 유리 기판 (G)를 냉각 처리하는 냉각 처리 유니트 (23), 유리 기판 (G)에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 처리 유니트 (24), 유리 기판 (C)를 감압 건조하는 감압 건조 유니트 (25), 가열 처리 유니트 (26), 냉각 처리 유니트 (27) 및 유리 기판 (G)를 일시적으로 대기시키는 아웃 스테이지 (28)이 직선적으로 일렬로 배치되고 있다.
처리 스테이션 (3)의 배후측(X방향 정방향측(도 1의 윗쪽측)의 반송 라인 (B)에는, 인터페이스 스테이션 (5)측으로부터 카셋트 스테이션 (2) 측에 향하여 차례로, 예를 들면 유리 기판 (C)를 현상 처리하는 현상 처리 유니트 (30), 유리 기판 (G)의 탈색 처리를 실시하는 i선 UV조사 유니트 (31), 가열 처리 유니트 (32)및 냉각 처리 유니트 (33)이 직선형상으로 일렬로 배치되고 있다.
반송 라인 (A)의 아웃 스테이지 (28)과 반송 라인 (B)의 현상 처리 유니트 (30)의 사이에는 이 사이의 유리 기판 (C)의 반송을 실시하는 반송체 (40)이 설치되고 있다. 이 반송체 (40)은 후술 하는 인터페이스 스테이션 (5)의 익스텐션·쿨링 유니트 (60)에 대해서도 유리 기판 (C)를 반송할 수 있다.
인터페이스 스테이션 (5)에는 예를 들면 냉각 기능을 갖고 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 익스텐션 · 쿨링 유니트 (60)과 유리 기판 (G)를 일시적으로 수용하는 버퍼 카셋트 (61)과 외부 장치 블럭 (62)가 설치되고 있다. 외부 장치 블럭 (62)에는, 유리 기판 (G)에 생산관리용의 코드를 노광하는 타일틀러(TITLER)와 유 리 기판 (G)의 주변부를 노광하는 주변 노광 장치가 설치되고 있다. 인터페이스 스테이션 (5)에는 상기 익스텐션·쿨링 유니트 (60), 버퍼 카셋트 (61), 외부 장치 블럭 (62) 및 노광 장치 (4)에 대해서 유리 기판 (G)를 반송 가능한 기판 반송체 (63)이 설치되고 있다.
다음에, 본 실시의 형태에 기판 반송 시스템을 구비한 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 구성에 대해서 설명한다.
예를 들면 도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 중앙부에는 유리 기판 (G)를 재치하는 도포 처리부로서의 스테이지 (70)이 설치되고 있다. 스테이지 (70)은 반송 라인 (A)상에 배치되고 있다.
스테이지 (70)은, 예를 들면 두께가 있는 사방형 기반 형상으로 형성되고 있다. 스테이지 (70)의 내부에는, 도 2에 나타나는 바와 같이 수직 방향으로 관통하는 복수의 관통구멍 (70a)가 형성되고 있고 그 각 관통구멍 (70a)내에 승강 부재로서의 승강핀이 배치되고 있다. 관통구멍 (70a)는 예를 들면 스테이지 (70)의 Y방향을 따라 5 곳, X방향을 따라 4 곳으로 형성되고 있고 본 실시의 형태에 있어서는, 복수의 관통구멍 (70a)내의 승강핀을, X방향으로 나열한 4개의 승강핀을 1조로 하여 구별하고, Y방향 부방향 측에 있는 것으로부터 Y방향 정방향측에 향하여 차례로 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)로 한다.
각 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)에는 각각 실린더 등의 승강 구동부 (81)이 장착되고 있다. 각 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)는 서로 독립해 승강해 스테이지 (70)의 윗쪽에 돌출 할 수 있다. 또한 본 실시의 형태에 있어서는 예를 들면 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)와 승강 구동부 (81)에 의해, 승강기구가 구성되고 있다.
스테이지 (70)상에는 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 노즐 (90)이 설치되어 있다. 노즐 (90)은, 예를 들면 도 4에 나타나는 바와 같이 Y방향을 향해 긴 약간 직방체 형상으로 형성되고 있다. 노즐 (90)은 예를 들면 유리 기판 (C)의 Y방향의 폭보다 길게 형성되고 있다. 노즐 (90)의 하단부에는 슬릿 형상의 토출구 (90a)가 형성되고 있다. 노즐 (90)의 상부에는, 레지스트액 공급원 (91)에 통하는 레지스트액 공급관 (92)가 접속되고 있다.
예를 들면 노즐 (90)에는 노즐 (90)을 X방향으로 이동시키는 구동 기구 (93)이 장착되고 있고 노즐 (90)을 스테이지 (70)상의 유리 기판 (G)의 양단부간에 걸쳐서 왕복 이동시킬 수가 있다. 구동 기구 (93)에는 승강 기능도 설치되고 있어 노즐 (90)을 하강시켜, 스테이지 (70)상의 유리 기판 (G)에 접근할 수가 있다. 노즐 (90)이 유리 기판 (G)에 근접된 상태로 레지스트액을 토출하면서, 유리 기판 (G)의 일단부로부터 타단부까지 이동하는 것으로써, 유리 기판 (G)의 상면에 레지스트액을 도포할 수 있다.
스테이지 (70)의 Y방향의 양 이웃에는 스테이지 (70)과의 사이의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (100, 101)이 설치되고 있다. 반송 라인 (A)의 상류측(Y방향 부방향측)에 있는 다른 반송체로서의 제1의 반송체 (100)은, Y방향의 수평 방향으로 나열된 복수의 롤러 (110)과 상기 롤러 (110)을 일체적으로 유지하는 보지 부재로서의 핸드 (111)과 그 핸드 (111)이 장착된 레일 플레이트 (112)를 가 지고 있다.
핸드 (111)은, 도 5에 나타나는 바와 같이 롤러 (110)의 양측으로 설치된 한 쌍의 L형부 (111a)에 의해 구성되고 있다. L형부 (111a), Y방향의 수평 방향을 향해 긴 수평부 (111b)와 그 수평부 (111b)의 Y방향 부방향측의 단부로부터 아래방향으로 향해 형성된 수직부 (111c)로 구성되고 있다. 수평부 (111b)에는, 각 롤러 (110)의 단부가 회전 자유롭게 지지된다. 수직부 (111c)는, 레일 플레이트 (112)에 장착되고 있다. L형부 (111a)에는, 각 롤러 (110)을 회전시키기 위한 모터등의 회전 구동부 (113)이 장착되고 있다.
레일 플레이트 (112)에는 Y방향을 따른 레일 (112a)가 형성되고, 핸드 (111)은, 그 레일 (112a)를 따라 이동 자유롭게 되어 있다. 핸드 (111)는, 모터등의 수평 구동부 (114)에 의해, 레일 (112a)상을 이동할 수 있다. 제1의 반송체 (100)은, 핸드 (111)을 Y방향으로 이동시키는 것에 의해 복수의 롤러 (110)을 상류측으로부터 스테이지 (70)상에 진퇴 시킬 수가 있다.
반송 라인 (A)의 하류측(Y방향 정방향측)에 있는 반송체로서의 제2의 반송체 (101)은, 제1의 반송체 (100)과 동일한 구성을 가지고 있다. 제2의 반송체 (101)은 복수의 롤러 (120)과 핸드 (121)과 레일 플레이트 (122)를 가지고 있다. 핸드 (121)은 한 쌍의 L형부 (121a)에 의해 구성되고 L형부 (121a)는, 복수의 롤러 (120)의 단부를 회전 자유롭게 지지하는 수평부 (121b)와 그 수평부 (121b)의 Y방향 정방향측의 단부로부터 아래방향으로 향해 형성되어 레일 플레이트 (122)에 장착된 수직부 (121c)로 구성되고 있다. L형부 (121a)에는 각 롤러 (120)을 회전시키 는 모터등의 회전 구동부 (123)이 설치되고 있다.
레일 플레이트 (122)에는 Y방향을 따른 레일 (122a)가 형성되고, 핸드 (121)은 수평 구동부 (124)에 의해, 레일 (122a)상을 이동할 수 있다. 제2의 반송체 (10 1)은 핸드 (121)을 Y방향으로 이동시키는 것에 의해, 복수의 롤러 (120)을 하류측으로부터 스테이지 (70)상에 진퇴 시킬 수가 있다. 또한 본 실시의 형태에 있어서는, 레일 플레이트 (122) 및 수평 구동부 (124)에 의해 이동 기구가 구성되고 있다.
상술의 제1의 반송체 (100)의 회전 구동부 (113) 및 수평 구동부 (114), 제2의 반송체 (101)의 회전 구동부 (123) 및 수평 구동부 (124), 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)의 승강 구동부 (81), 노즐 (90)의 구동 기구 (93)등의 구동계의 동작은, 예를 들면 도 1에 나타내는 제어부 (130)에 의해 제어되고 있다. 제어부 (130)은 이들의 구동계의 동작을 제어하고 후술 하는 레지스트 도포 처리 유니트 (24)에 있어서의 도포 처리 프로세스를 실현할 수 있다.
또한 본 실시의 형태에 있어서는, 예를 들면 제1의 반송체 (100), 제2의 반송체 (101), 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e) 및 승강 구동부 (81)에 의해 기판 반송 시스템이 구성되고 있다.
도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이, 제1의 반송체 (100)의 Y방향 부방향 측에는 롤러 반송을 위한 복수의 상류 롤러 (R1)이 Y방향을 따라 나열하여 설치되고 있고 상류측의 냉각 처리 유니트 (23)에 통하는 기판 반송로가 형성되고 있다. 제2의 반송체 (101)의 Y방향 정방향측에는, 복수의 하류 롤러 (R2)가 Y방향으로 나열 하여 설치되고 있어 하류측의 감압 건조 유니트 (25)에 통하는 기판 반송로가 형성되고 있다.
다음에, 이상과 같이 구성된 레지스트 도포 처리 유니트 (24)에 있어서의 도포 처리 프로세스를 도포 현상 처리 장치 (1)로 행해지는 포트리소그래피 공정의 프로세스와 함께 설명한다.
먼저, 카셋트 스테이션 (2)의 카셋트 (C)내의 복수의 유리 기판 (G)가 기판 반송체 (12)에 의해 차례로 처리 스테이션 (3)의 엑시머 UV조사 유니트 (20)에 반송된다. 유리 기판 (G)는 직선적인 반송 라인 (A)를 따라 롤러 반송에 의해 엑시머 UV조사 유니트 (20), 스크러버 세정 유니트 (21), 가열 처리 유니트 (22), 냉각 처리 유니트 (23), 레지스트 도포 처리 유니트 (24), 감압 건조 유니트 (25), 가열 처리 유니트 (26) 및 냉각 처리 유니트 (27)에 차례로 반송되어 각 처리 유니트에 있어서 소정의 처리가 실시된다. 냉각 처리가 종료한 유리 기판 (G)는, 아웃 스테이지 (28)에 반송된다. 그 후, 유리 기판 (G)는 반송체 (40)에 의해 인터페이스 스테이션 (5)에 반송되어 기판 반송체 (63)에 의해 노광 장치 (4)에 반송된다.
노광 장치 (4)에 있어서 노광 처리가 종료한 유리 기판 (G)는 기판 반송체 (63)에 의해 인터페이스 스테이션 (5)에 되돌려져 반송체 (40)에 의해 처리 스테이션 (3)의 현상 처리 유니트 (30)에 반송된다. 유리 기판 (G)는 직선적인 반송 라인 (B)를 따라 롤러 반송에 의해 현상 처리 유니트 (30), i선 UV조사유니트 (31), 가열 처리 유니트 (32) 및 냉각 처리 유니트 (33)에 차례로 반송되어 각 처리 유니트에 있어서 소정의 처리가 실시된다. 냉각 처리 유니트 (33)에 있어서 냉각 처리가 종료한 유리 기판 (G), 기판 반송체 (12)에 의해 카셋트 스테이션 (2)의 카셋트 (C)에 되돌려져, 일련의 포트리소그래피 공정이 종료한다.
다음에, 레지스트 도포 처리 유니트 (24)에 있어서의 도포 처리 프로세스에 대해서 설명한다.
먼저, 제1의 반송체 (100)의 롤러 (110)은 도 6에 나타나는 바와 같이 스테이지 (70)의 앞의 대기 위치에 대기하고 있고, 상류 롤러 (R1)과 롤러 (110)이 연속하고 있다. 냉각 처리 유니트 (23)으로 냉각 처리가 종료한 유리 기판 (C)는 상류 롤러 (R1)상을 지나 제 1의 반송체 (100)의 롤러 (110)상까지 반송된다.
이어서 도 7에 나타나는 바와 같이 제1의 반송체 (100)의 핸드 (111)이 Y방향 정방향측에 이동해, 롤러 (110)이 스테이지 (70)의 윗쪽까지 진입한다. 이것에 의해, 롤러 (110)에 지지되어 있는 유리 기판 (G)가 스테이지 (70)의 윗쪽에 반송된다. 그 후, 도 8에 나타나는 바와 같이 스테이지 (70)에 대한 유리 기판 (G)의 위치가 이동하지 않도록 롤러 (110)이 도 8에 있어서의 우회전으로 회전하면서, 핸드 (111)에 의해 Y방향 부방향 측에 후퇴한다. 이것에 맞추어, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)는 롤러 (110)에 충돌하지 않게 Y방향 정방향측의 승강핀군으로부터 차례로 즉 승강핀군 (80e, 80d, 80c, 80b, 80a)의 차례로 상승해, 유리 기판 (G)를 지지해 나간다. 제1의 반송체 (100)이 원래의 대기 위치까지 되돌려지면, 도 9에 나타나는 바와 같이 유리 기판 (G)는 스테이지 (70)의 윗쪽에서 모든 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)에 의해 수평으로 지지를 수취한다.
그 후, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)가 동시에 하강해, 도 2에 나타 나는 바와 같이 유리 기판 (G)가 스테이지 (70)상에 재치된다. 유리 기판 (G)가 스테이지 (70)상에 재치되면, 노즐 (90)이 레지스트액을 토출하면서, 유리 기판 (G)상을 X방향으로 이동해, 유리 기판 (G)의 표면의 전면에 레지스트액이 도포된다.
레지스트액의 도포가 종료하면 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)가 다시 상승해, 유리 기판 (G)가 스테이지 (70)의 윗쪽에 들어올려진다. 그 후, 도 10에 나타나는 바와 같이 제2의 반송체 (101)의 핸드 (121)이 Y방향 부방향 측에 이동해, 롤러 (120)이 유리 기판 (G)의 아래쪽에 진입한다. 이 때, 복수의 롤러 (120)은 전방의 롤러로부터 차례로 유리 기판 (G)의 하면에 접촉해 나가 유리 기판 (G)를 지지해 나간다. 또, 이 때, 스테이지 (70)에 대한 유리 기판 (G)의 위치가 어긋나지 않게 각 롤러 (120)은 도 10에 있어서의 우회전으로 회전한다. 또한 이 때, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)는, 진입해온 롤러 (120)과 충돌하지 않게, Y방향 정방향측의 것으로부터 차례로, 즉 승강핀군 (80e, 80d, 80c, 80b, 80a)의 순서로 하강해, 유리 기판 (G)를 롤러 (120)에 수수한다. 전방의 롤러 (120)이 유리 기판 (C)의 Y방향 부방향측의 단부까지 도달하면, 도 11에 나타나는 바와 같이 유리 기판 (G)는 완전하게 롤러 (120)에 지지를 수취한다.
그 후, 핸드 (121)은, 도 12에 나타나는 바와 같이 롤러 (120)상에 유리 기판 (G)를 지지한 상태로, Y방향 정방향측에 이동해, 제2의 반송체 (101)이 원래의 대기 위치까지 후퇴한다. 이것에 의해, 유리 기판 (G)가 스테이지 (70)상으로부터 반출된다. 이 때, 롤러 (120)은, 저속으로 도 12에 있어서의 우회전으로 회전되고 유리 기판 (G)는, 롤러 (120)상에 있어서도 Y방향 정방향측에 이동된다. 이 때의 유리 기판 (G)의 롤러 (120)에 대한 상대속도는, 핸드 (121)이 대기 위치로 돌아가기까지 유리 기판 (G)가 롤러 (120)상으로부터 낙하하지 않는 정도의 속도로 조정된다.
롤러 (120)와 핸드 (121)가 대기 위치에 되돌려지면 도 13에 나타나는 바와 같이 유리 기판 (G)는 롤러 (120)로부터 하류 롤러 (R2)로 수수되고 그 하류 롤러 (R2)에 의해 다음의 감압 건조 유니트 (25)에 반송된다.
이상의 실시의 형태에 의하면, 스테이지 (70)의 하류 측에 제 2의 반송체 (101)이 설치되었으므로 도포가 종료한 유리 기판 (G)를 롤러 (120)에 의해 지지해, 롤러 (120)상에서 움직이면서 하류측의 감압 건조 유니트 (25)에 반송할 수 있다. 이 경우, 반송중에 유리 기판 (G)의 하면에 롤러 (120)이 균등하게 접촉하므로 유리 기판 (G)에 온도편차가 생기는 경우가 없고, 레지스트액의 도포얼룩을 억제할 수 있다. 또, 제2의 반송체 (101)은 스테이지 (70)상의 유리 기판 (G)를 롤러 (120)상으로 수취하고, 상기 롤러 (120)에 의해 그대로 하류 롤러 (R2)에 송출할 수가 있다. 이 때문에, 스테이지 (70)으로부터 하류측으로의 유리 기판 (G)의 반송이 원활히 단시간에 행해져 이 점으로부터도 유리 기판 (C)의 온도편차가 저감되어 도포얼룩이 저감된다.
승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)가 서로 독립해 승강 자유로우므로 롤러 (120)이 유리 기판 (G)의 하면에 진입해 유리 기판 (C)를 지지함과 동시에, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)를 Y방향 정방향측으로부터 차례로 하강시킬 수가 있다. 이것에 의해, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)와 롤러 (120)이 서로 충돌 하지 않게, 적정하게 유리 기판 (G)의 수수를 실시할 수가 있다.
복수의 롤러 (120)은 전방의 롤러로부터 차례로 유리 기판 (G)의 하면에 접촉하면서, 유리 기판 (G)의 위치가 어긋나지 않게 회전해, 유리 기판 (G)의 하면 측에 진입하므로, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)로부터 롤러 (120)으로의 유리 기판 (G)의 수수를 적정하게 실시할 수가 있다.
스테이지 (70)의 상류 측에 제2의 반송체 (101)와 같은 제1의 반송체 (100)을 설치했으므로, 상류 롤러 (R1)상을 반송하는 유리 기판 (G)를 그대로 롤러 (110)상에 실어, 상기 롤러 (110)으로부터 스테이지 (70)에 수수할 수가 있다. 이 결과, 스테이지 (70)으로의 유리 기판 (G)의 반입도 원활하고 단시간에 행해진다. 또, 직선적인 반송 라인 (A)상에 스테이지 (70)에 대한 반송계를 거둘 수가 있으므로 바닥 점유 면적도 저감 할 수 있다.
제1의 반송체 (100)의 복수의 롤러 (110)은 유리 기판 (G)를 지지한 상태로 스테이지 (70)상에 진입해 그 후 스테이지 (70)상의 유리 기판 (G)의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 스테이지 (70)상으로부터 후퇴한다. 또, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)는 복수의 롤러 (110)의 후퇴에 맞추어 Y방향 정방향측의 것으로부터 차례로 상승해, 유리 기판 (G)를 지지한다. 이렇게 하는 것으로, 롤러 (110)로부터 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)으로의 유리 기판 (G)의 수수를 적정하게 실시할 수가 있다.
이상의 실시의 형태에서는 스테이지 (70)상에서 유리 기판 (G)를 수취한 핸드 (121)이 대기 위치에 되돌려질 때에, 롤러 (120)이 회전해 유리 기판 (G)를 하 류 측에 보내고 있지만, 롤러 (120)을 정반전시켜 유리 기판 (G)를 전후에 이동시켜도 괜찮다. 또, 전방의 유리 기판이 감압 건조 유니트 (25)내에 있어, 도포 처리가 종료한 유리 기판 (C)를 즉시 감압 건조 유니트 (25) 측에 반송할 수 없는 경우에는, 예를 들면 유리 기판 (C)를 롤러 (120)상에서 전후로 움직여 대기시키도록해도 괜찮다. 이렇게 하는 것에 의해, 대기중에 유리 기판 (G)에 온도편차가 생기는 경우가 없고 유리 기판 (G)상의 레지스트액의 도포얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또, 유리 기판 (G)를 수취한 핸드 (121)가 대기 위치에 되돌려질 때에, 롤러 (120)을 정지시켜도 좋다. 이 경우에 있어서도, 종래의 수직 반송 유니트에 의한 유리 기판 (C)의 반송에 비해, 유리 기판 (G)의 반송을 단시간에 실시할 수가 있으므로, 유리 기판 (G)의 온도 변동에 의한 도포얼룩을 저감 할 수 있다.
이상의 실시의 형태에서는, 스테이지 (70)상의 유리 기판 (C)의 전체를 균등하게 지지하도록 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)가 배치되고 있지만, 도 14에 나타나는 바와 같이 유리 기판 (G)의 X방향의 양단부만을 지지하도록 승강핀 (140)이 설치되고 있어도 괜찮다. 이 경우, 제1의 반송체 (100)의 핸드 (111)과 제2의 반송체 (101)의 핸드 (121)을 평면으로부터 볼때 X방향 양측의 승강핀 (140)의 사이에 삽입할 수 있도록 형성해도 좋다. 이렇게 하는 것에 의해, 각 승강핀 (140)을 개별적으로 승강시키지 않아도, 롤러 (110, 120)을, 승강핀 (140)과 간섭하는 경우 없이 스테이지 (70)상에 진입시킬 수가 있다.
이상의 실시의 형태에서는, 복수의 롤러 (110, 120)에 의해 유리 기판 (G)를 지지하고 있지만, 롤러에 대신해 회전 벨트에 의해 유리 기판 (G)를 지지해도 괜찮 다.
관련되는 경우, 예를 들면 도 15에 나타나는 바와 같이 제 1의 반송체 (100)에 있어서, 복수의 롤러 (110) 대신에 핸드 (111)의 선단부와 후단부에 풀리 (150, 151)이 장착되어 그 풀리 (150, 151)간에 무단의 벨트 (152)를 걸 수 있다. 벨트 (152)는, 회전 구동부 (113)에 의해 풀리 (151)을 회전시키는 것에 의해 Y방향으로 회전할 수 있다. 제2의 반송체 (101)에 있어서는, 제1의 반송체 (100)과 동일하게 핸드 (121)의 선단부와 후단부에 풀리 (160, 161)이 장착되어 그 풀리 (160, 161)간에 무단의 벨트 (162)가 걸려진다. 벨트 (162)는 회전 구동부 (123)에 의해 풀리 (161)을 회전시키는 것에 의해 Y방향으로 회전할 수 있다. 또한 다른 구성에 대해서는, 상기 실시의 형태와 동일하므로 설명을 생략 한다.
그리고, 스테이지 (70)에 유리 기판 (C)를 반입할 때에는, 먼저 상류 롤러 (R1)로부터 제 1의 반송체 (100)의 벨트 (152)상에 유리 기판 (G)가 반송된다. 벨트 (152)상에 유리 기판 (C)가 반송되면, 핸드 (111)가 Y방향 정방향측에 이동하고 벨트 (152)가 스테이지 (70)의 윗쪽까지 이동해, 유리 기판 (G)가 스테이지 (70)의 윗쪽에 반송된다. 그 후, 도 16에 나타나는 바와 같이 스테이지 (70)에 대한 유리 기판 (G)의 위치가 이동하지 않도록 벨트 (152)가 도 16에 있어서의 우회전으로 회전하면서, 핸드 (111)과 벨트 (152)가 후퇴해 원래의 대기 위치까지 되돌려진다. 이것과 동시에, 승강핀군 (80e, 80d, 80c, 80b, 80a)가 이 차례로 상승해, 유리 기판 (G)를 지지한다.
그 후, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)가 하강해, 유리 기판 (G)가 스 테이지 (70)상에 재치되고 노즐 (90)에 의해 유리 기판 (G)에 레지스트액이 도포된다.
스테이지 (70)으로부터 유리 기판 (C)가 반출될 때에는, 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)에 의해 유리 기판 (G)를 들어 올릴 수 있어 그 유리 기판 (G)의 하면에 제2의 반송체 (101)의 벨트 (162)가 진입한다. 이 때, 도 17에 나타나는 바와 같이 벨트 (162)는 전방측으로부터 차례로 유리 기판 (G)의 하면에 접촉해 나가 유리 기판 (G)를 지지해 나간다. 또 벨트 (162)는, 유리 기판 (G)의 위치가 이동하지 않도록 도 17에 있어서의 우회전으로 회전한다. 또 승강핀군 (80a, 80b, 80c, 80d, 80e)는, 벨트 (162)와 접촉하지 않게 Y방향 정방향측으로부터 차례로 하강한다. 벨트 (162)가 스테이지 (70)상까지 이동하면, 유리 기판 (C)는, 완전하게 벨트 (162)상에 지지를 수취한다.
그 후, 핸드 (121)은 도 18에 나타나는 바와 같이 벨트 (162)상에 유리 기판 (G)를 지지한 상태로, Y방향 정방향측에 이동하고, 벨트 (162)는, 원래의 대기 위치까지 후퇴한다. 이것에 의해 유리 기판 (G)는, 스테이지 (70)상으로부터 반출된다. 이 때 벨트 (162)는 저속으로 도 18에 있어서의 우회전으로 회전되고 유리 기판 (G)는 벨트 (162)상에 있어서도 Y방향 정방향측에 이동된다. 핸드 (121)과 벨트 (162)가 원래의 대기 위치까지 되돌려지면 유리 기판 (C)는 벨트 (162)로부터 하류 롤러 (R2)에 수수된다.
이 실시의 형태에 있어서도 스테이지 (70)의 유리 기판 (C)가 벨트 (162)에 의해 원활하고 단시간에 반송되므로 유리 기판 (G)의 온도 변동에 의한 레지스트액 의 도포얼룩을 억제할 수 있다. 또, 반송중에 유리 기판 (G)를 벨트 (162)상에서 이동시킬 수가 있으므로, 유리 기판 (G)의 온도편차를 더 줄여 도포얼룩도 저감 할 수 있다.
이 실시의 형태에 있어서, 유리 기판 (C)를 지지한 벨트 (162)가 우회전으로 회전해 유리 기판 (G)를 Y방향 정방향측에 이동시키고 있지만, 벨트 (162)를 정반전시켜, 유리 기판 (G)를 전후에 이동시켜도 괜찮다. 또, 벨트 (162)를 회전시키지 않고 유리 기판 (C)를 정지시켜도 괜찮다.
또 이상의 실시의 형태에서는, 스테이지 (70)의 전후에 제1의 반송체 (100)과 제2의 반송체 (101)이 설치되고 있지만, 제2의 반송체 (101)만이 설치되고 있어도 괜찮다. 또, 스테이지 (70)의 상류측과 하류측의 유리 기판 (G)의 반송은, 롤러 (R1, R2)에 의한 롤러 반송이지만, 벨트 컨베이어에 의한 반송으로서도 좋다. 상기 실시의 형태는, 레지스트액을 도포하는 스테이지 (70)에 대해서 유리 기판 (G)를 반송하는 예지만, 현상액 등의 다른 도포액의 도포 처리부에 유리 기판 (G)를 반송하는 경우에도 본 발명은 적용할 수 있다.
다음에 다른 실시의 형태에 대해서 설명한다.
도 19에는, 본 발명의 기판 반송 장치 및 기판 처리 장치를 적용할 수 있는 하나의 구성예로서의 도포 현상 처리 장치를 나타낸다. 이 도포 현상 처리 장치 (210)은 클린 룸내에 설치되어 예를 들어 LCD용의 유리 기판을 기판으로 해, LCD 제조 프로세스에 있어서 포트리소그래피 공정안의 세정, 레지스트 도포, 풀리베이크, 현상 및 포스트 베이크 등의 각 처리를 실시하는 것이다. 노광 처리는, 이 시 스템에 인접해 설치되는 외부의 노광 장치 (212)로 행해진다.
이 도포 현상 처리 장치 (210)은, 중심부에 횡길이의 프로세스 스테이션(P/S, 216)을 배치하고, 그 긴 방향(X방향) 양단부에 카셋트 스테이션(C/S, 214)와 인터페이스 스테이션(I/F, 218)을 배치하고 있다.
카셋트 스테이션(C/S, 214)는 도포 현상 처리 장치 (210)의 카셋트 반입출포트이고, 유리 기판 (G)를 다단으로 겹쳐 쌓도록 해 복수매 수용가능한 카세트 (C)를 수평인 한방향(Y방향)에 4개까지 나열하여 재치 가능한 카셋트 스테이지 (220)과 이 스테이지 (220)상의 카셋트 (C)에 대해서 유리 기판 (G)의 출입을 실시하는 반송 기구 (222)를 구비하고 있다. 반송 기구 (222)는, 유리 기판 (G)를 보지할 수 있는 반송 아암 (222a)를 갖고, X, Y, Z, θ의 4축으로 동작 가능하고, 인접하는 프로세스 스테이션(P/S, 216)측과 유리 기판 (G)의 수수를 실시할 수 있게 되어 있다.
프로세스 스테이션(P/S, 216)은, 수평인 시스템 긴 방향(X방향)으로 연장하는 평행 또한 역방향의 한 쌍의 라인 (A,b)에 각 처리부를 프로세스 플로우 또는 공정의 차례로 배치하고 있다.
더욱 상세하게는, 카셋트 스테이션(C/S, 214)측으로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 218)측에 향하는 상류부의 프로세스 라인 (A)에는 세정 프로세스부 (224), 제1의 열적 처리부 (226), 도포 프로세스부 (228) 및 제2의 열적 처리부 (230)을 제1의 수평 반송로 (232)를 따라 상류측으로부터 상기 순서로 일렬로 배치하고 있다. 더욱 상세하게는, 세정 프로세스부 (224)내에서는, 제1의 수평 반송로 (232)를 따라 상류측으로부터 차례로 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 234) 및 스크러버 세정 유니트(SCR, 236)을 설치하고 있다. 제1의 열적 처리부 (226)내에서는 제 1의 수평 반송로 (232)를 따라 상류측으로부터 차례로 탈수 베이크 유니트(DHP, 238), 애드히젼유니트(AD, 240) 및 냉각 처리 유니트(COL, 242)를 설치하고 있다. 도포 프로세스부 (228)은 제1의 수평 반송로 (232)를 따라 상류측으로부터 차례로 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244) 및 감압 건조 유니트(VD, 246)을 설치하고 있다. 제2의 열적 처리부 (230)은 제1의 수평 반송로 (232)를 따라 상류측으로부터 차례로 풀리베이크 유니트(PREBAKE, 250)및 냉각 처리 유니트(COL, 252)를 설치하고 있다.
한편 인터페이스 스테이션 (I/F, 218) 측으로부터 카셋트스테이션 (C/S, 214)측에 향하는 하류부의 프로세스 라인 (B)에는 현상 유니트(DEV, 254), i선 UV조사 유니트(i-UV, 256), 포스트베이크 유니트(POBAKE, 258), 냉각 처리 유니트 (260) 및 검사 유니트(AP, 262)를 제2의 수평 반송로 (264)를 따라 상류측으로부터 상기 순서로 일렬로 배치하고 있다. 또한 포스트베이크 유니트(POBAKE, 258) 및 냉각 처리 유니트 (260)은 제3의 열적 처리부 (259)를 구성한다.
양프로세스 라인 (A,b)의 사이에는 보조 반송 공간 (266)이 설치되고 있고 유리 기판 (G)를 1매 단위로 수평으로 재치 가능한 셔틀 (268)이 도시하지 않는 구동 기구에 의해 프로세스 라인 방향(X방향)으로 쌍방향으로 이동할 수 있게 되어 있다.
인터페이스 스테이션(I/F, 218)은, 상기 제 1 및 제2의 수평 반송로 (232), (264)와 유리 기판 (G)의 교환을 행하기 위한 반송 장치 (270)과 인접하는 노광 장 치 (212)와 유리 기판 (G)의 교환을 행하기 위한 반송 장치 (272)를 갖고, 상기 주위에 버퍼·스테이지(BUF, 274), 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 276) 및 주변장치 (278)을 배치하고 있다. 버퍼·스테이지(BUF, 274)에는 정치형의 버퍼 카셋트(도시하지 않음)가 재치된다. 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 276)은 냉각 기능을 구비한 기판 수수용의 스테이지이고, 양반송 장치 (270, 272)의 사이에 유리 기판 (G)를 교환할 때에 이용된다. 주변장치 (278)은 예를 들어 타일틀러(TITLER)와 주변 노광 장치(EE)를 상하로 겹쳐 쌓은 구성으로서 좋다. 각 반송 장치 (270, 272)는 유리 기판 (G)를 보지할 수 있는 반송 아암 (270a, 272a)를 갖고, 유리 기판 (G)의 수수를 위해서 인접하는 각부에 액세스 할 수 있게 되어 있다.
도 20에, 이 도포 현상 처리 장치에 있어서의 1매의 유리 기판 (G)에 대한 처리의 순서를 나타낸다. 먼저, 카셋트 스테이션(C/S, 214)에 있어서, 반송 기구 (222)가, 스테이지 (220)상의 어느쪽 1개의 카셋트 (C)로부터 유리 기판 (G)를 한 장 꺼내 상기 꺼낸 유리 기판 (G)를 프로세스 스테이션 (P/S, 216)의 프로세스 라인 (A)측의 반입부 즉 제1의 수평 반송로 (232)의 시점에 위로 향한 자세(기판의 피처리면을 위로 해)로 반입한다(스텝 S1).
이렇게 해 유리 기판 (G)는 제1의 수평 반송로 (232)상을 위로 향한 자세로 프로세스 라인 (A)의 하류측에 향하여 반송된다. 초단의 세정 프로세스부 (224)에 있어서, 유리 기판 (G)는, 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 234) 및 스크러버 세정 유니트(SCR, 236)에 의해 자외선 세정 처리 및 스크러빙 세정 처리를 차례로 실시시 킨다(스텝 S2, S3). 스크러버 세정 유니트(SCR, 236)에서는, 수평 반송로 (232)상을 이동하는 유리 기판 (C)에 대해서, 브러싱 세정이나 블로우 세정을 실시하는 것으로 기판 표면으로부터 입자 형상의 더러움을 제거하고 그 후에 린스 처리를 가해, 마지막에 에어 나이프 등을 이용해 유리 기판 (G)를 건조시킨다. 스크러버 세정 유니트(SCR, 236)에 있어서의 일련의 세정 처리를 끝내면, 유리 기판 (C)는 그대로 제 1의 수평 반송로 (232)를 내려 제 1의 열적 처리부 (226)을 통과한다.
제1의 열적 처리부 (226)에 있어서,유리 기판 (G)는, 최초로 탈수 베이크 유니트(DHP, 238)로 가열의 탈수 처리를 받아 수분을 제거시킨다(스텝 S4). 다음에 유리 기판 (G)는, 애드히젼유니트(AD, 240)으로 증기 형상의 HMDS를 이용하는 애드히젼 처리가 가해져 피처리면을 소수화된다(스텝 S5). 이 애드히젼 처리가 종료후에, 유리 기판 (G)는 냉각 처리 유니트(COL, 242)로 소정의 기판 온도까지 냉각된다(스텝 S6). 이 후도, 유리 기판 (G)는 제1의 수평 반송로 (232)를 내려 도포 프로세스부 (228)에 반입된다.
도포 프로세스부 (228)에 있어서, 유리 기판 (G)는 최초로 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244)로 예를 들어 스핀레스법에 의해 슬릿 노즐을 이용해 기판 상면(피처리면)에 레지스트액을 도포시키고 직후에 하류측 근처의 감압 건조 유니트(VD, 246)으로 감압에 의한 건조 처리를 수취한다(스텝 S7). 또한 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244)에서는, 후술하는 바와 같이 유리 기판 (G)는 일단 제 1의 수평 반송로 (232)로부터 스테이지 (280, 도 21)에 로딩되어 스테이지 (280)상에서 레지스트 도포 처리를 받은 후에 스테이지 (280)로부터 언로딩되어 제1의 수평 반 송로 (232)에 되돌려지게 되어 있다.
도포 프로세스부 (228)을 나온 유리 기판 (G)는 제 1의 수평 반송로 (232)를 내려 제2의 열적 처리부 (230)을 통과한다. 제2의 열적 처리부 (230)에 있어서, 유리 기판 (G)는, 최초로 풀리베이크 유니트(PREBAKE, 250)으로 레지스트 도포 후의 열처리 또는 노광전의 열처리로서 풀리 베이킹을 수취한다(스텝 S8). 이 풀리 베이킹에 의해, 유리 기판 (G)상의 레지스트 막안에 잔류하고 있던 용제가 증발 제거되어 기판에 대한 레지스트막의 밀착성도 강화된다. 다음에 유리 기판 (G)는 냉각 처리 유니트(COL, 252)로 소정의 기판 온도까지 냉각된다(스텝 S9). 그 후, 유리 기판 (G)는, 제1의 수평 반송로 (232)의 종점(반출부)으로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 218)의 반송 장치 (270)에 인수된다.
인터페이스 스테이션(I/F, 218)에 있어서, 유리 기판 (G)는 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 276)으로부터 주변장치 (278)의 주변 노광 장치(EE)에 반입되어 거기서 유리 기판 (G)의 주변부에 부착하는 레지스트를 현상시에 제거하기 위한 노광을 받은 후에, 근처의 노광 장치 (12)로 보내진다(스텝 S10).
노광 장치 (212)에서는 유리 기판 (G)상의 레지스트에 소정의 회로 패턴이 노광된다. 그리고, 패턴 노광을 끝낸 유리 기판 (G)는 노광 장치 (212)로부터 인터페이스 스테이션(1/F, 218)에 되돌려지면(스텝 S10) 먼저 주변장치 (278)의 타일틀러(TITLER)에 반입되어 거기서 기판상의 소정의 부위에 소정의 정보가 기록된다(스텝 S11). 그 후, 유리 기판 (G)는 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 276)에 되돌려진다. 인터페이스 스테이션(I/F, 218)에 있어서의 유리 기판 (G)의 반송 및 노광 장치 (212)의 유리 기판 (G)의 교환은 반송 장치 (270, 272)에 의해 행해진다. 마지막에, 유리 기판 (G)는 반송 장치 (270)에 의해 프로세스 스테이션(P/S, 216)의 프로세스 라인 (B)측에 부설되고 있는 제2의 수평 반송로 (264)의 시점(반입부)에 반입된다.
이렇게 해 유리 기판 (G)는, 이번은 제2의 수평 반송로 (264)상을 위로 향한 자세로 프로세스 라인 (B)의 하류 측에 향하여 반송된다. 최초의 현상 유니트(DEV, 254)에 있어서, 유리 기판 (G)는 수평 상태로 반송되는 동안에 현상, 린스, 건조의 일련의 현상 처리가 가해진다(스텝 S12).
현상 유니트(DEV, 254)로 일련의 현상 처리를 끝낸 유리 기판 (G)는 그대로 제 2의 수평 반송로 (264)에 실린 채로 하류측 근처의 i선 조사 유니트(i-UV, 256)을 통과해, 거기서 i선 조사에 의한 탈색 처리를 수취한다(스텝 S13). 그 후도, 유리 기판 (G)는 제2의 수평 반송로 (264)에 실린 채로 제3의 열적 처리부 (259) 및 검사 유니트(AP, 262)를 차례로 통과한다. 제3의 열적 처리부 (259)에 있어서, 유리 기판 (G)는 최초로 포스트베이크 유니트(POBAKE, 258)으로 현상 처리 후의 열처리로서 포스트베이킹을 수취한다(스텝 S14). 이 포스트베이킹에 의해, 유리 기판 (G)상의 레지스트막에 잔류하고 있던 현상액이나 세정액이 증발 제거되어 기판에 대한 레지스트 패턴의 밀착성도 강화된다. 다음에, 유리 기판 (G)는 냉각 처리 유니트(COL, 260)으로 소정의 기판 온도에 냉각된다(스텝 S15). 검사 유니트(AP, 262)에서는, 유리 기판 (G)상의 레지스트 패턴에 대해서 비접촉의 선폭 검사나 막질·막두께 검사등을 한다(스텝 S16).
카셋트 스테이션(C/S, 214)측에서는 반송 기구 (222)가, 제2의 수평 반송로 (264)의 종점(반출부)으로부터 도포 현상 처리의 전공정을 끝낸 유리 기판 (G)를 받아, 받은 유리 기판 (C)를 어느쪽이든 1개의 카셋트 (C, 통상은 원래의 카셋트)에 수용한다(스텝 S1)
상기 도포 현상 처리 장치 (210)에 있어서는 도포 프로세스부 (228)의 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244) 및 이 유니트내의 기판 반송 기구에 본 발명을 적용할 수가 있다.
이하 도 21~도 39에 대해, 본 발명의 매우 적합한 실시 형태에 있어서의 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244) 및 상기 유니트내의 기판 반송 기구의 구성 및 작용을 상세하게 설명한다.
도 21에, 본 실시 형태에 있어서의 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244)의 주요부의 구성을 나타낸다. 도시와 같이, 이 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244)는, 유니트 중심부에 도포 처리용의 스테이지 (280) 및 도포 처리부 (282)가 설치되고 그 양측으로 기판 반입용의 반송 스테이지 또는 인 스테이지(IN, 284)와 기판 반출용의 반송 스테이지 또는 아웃 스테이지(OUT, 286)을 가지고 있다.
스테이지 (280)은 중공 또는 프레임체형의 베이스 (285)를 개재하여 바닥(도시하지 않음)에 고정되고 있어 예를 들어 진공 흡착력에 의해 유리 기판 (G)를 거의 수평으로 유지할 수 있게 되어 있다. 도포 처리부 (282)는 긴형의 노즐 (288)을 이용해 스테이지 (280)상의 유리 기판 (G)에 레지스트액을 스핀레스법으로 도포하도록 구성되어 있다.
도 22에 대해, 도포 처리부 (282)의 구체적인 구성예 그 작용을 설명한다. 상기 도포 처리부 (282)는 레지스트를 공급하는 노즐 (288)을 포함한 레지스트액 공급 기구 (290)과 도포 처리시에 노즐 (288)을 스테이지 (280) 윗쪽에서 소정의 수평 방향(Y방향)으로 이동 또는 주사시키는 노즐 이동 기구 (292)를 가진다. 레지스트액 공급 기구 (290)에 있어서, 노즐 (288)은 스테이지 (280)상의 유리 기판 (G)를 일단으로부터 타단까지 커버 할 수 있는 길이로 X방향으로 연장하는 슬릿 형상의 토출구를 가지고 있어 레지스트액 공급원(도시하지 않음)으로부터의 레지스트액 공급관 (294)에 접속되고 있다. 노즐 이동 기구 (292)는 노즐 (288)을 대들보 형상의 노즐 지지체 (295)를 개재하여 수평으로 지지하는 역채널 형상 또는 문형의 프레임 (296)과 이 문형 프레임 (296)을 Y방향으로 쌍방향으로 직진 이동시키는 직진 구동부 (298)을 가진다. 이 직진 구동부 (298)은 예를 들어 가이드 첨부의 리니어 모터 기구 또는 볼나사 기구로 구성되어도 좋다. 또 노즐 (288)의 높이 위치를 변경 또는 조절하기 위한 예를 들어 가이드 첨부의 볼 나사 기구로 이루어지는 승강기구 (300)이, 문형 프레임 (296)과 노즐 지지체 (295)의 사이에 설치되고 있다.
도포 처리에 있어서는 노즐 (288)의 하단(토출구)과 유리 기판 (G)의 사이에 예를 들어 l00μm의 도포 갭 (d)가 형성되도록 노즐 (288)을 스테이지 (280)에 접근한다. 그리고, 그 노즐 높이 위치에서 스테이지 (280) 윗쪽을 Y방향으로 종단 하도록 노즐 (288)을 노즐 이동 기구 (292)에 의해 일정 속도로 수평으로 이동시키면서, 레지스트액 공급 기구 (290)에 있어서 노즐 (288)의 슬릿 형상 토출구보다 X방향으로 퍼지는 띠형상의 토출류로 레지스트액을 유리 기판 (G)상에 공급한다. 이러 한 노즐 (288)의 도포 주사에 의해, 도 23에 나타나는 바와 같이, 유리 기판 (G)상에는 노즐 (288)이 뒤를 따르도록 해 유리 기판 (G)의 일단으로부터 타단으로 향하여 레지스트액의 도포막 (RM)이 형성되어 간다.
본 실시 형태에 있어서는 도포 주사의 한중간에 스테이지 (280)의 부근에서 기계 진동을 일으키도록 반송 로보트류는 일절 설치되어 있지 않기 때문에, 스테이지 (280)상의 유리 기판 (G)에 외부로부터 진동이 전해지는 경우는 없고, 도포 처리부 (282)는 설정 그대로의 도포 갭을 유지한 채로 기판의 구석으로부터 구석까지 안정된 도포 처리를 실시할 수가 있다. 이것에 의해, 유리 기판 (G)상에 균일한 막두께로 레지스트액의 도포막 (RM)를 형성할 수가 있다.
또한 스테이지 (280)상에 유리 기판 (G)를 로딩 해, 스테이지 (280)으로부터 유리 기판 (G)를 언로딩하고, 혹은 스테이지 (280)의 윗쪽에서 후술하는 가동 반송 브릿지(320A, 320B)의 유리 기판 (G)의 수수를 실시하기 위해서 스테이지 (280)을 관통해 상하 이동 가능하게 구성된 복수 라인의 리프트 핀 (302)가 설치되어 있다 (도 21). 베이스 (285)안에는 이들의 리프트 핀 (302)를 상하 이동시키는 리프트 핀 승강기구(도시하지 않음)가 설치되고 있다.
또한 도 21에 있어서, 인 스테이지(IN, 284) 및 아웃 스테이지(OUT, 286)에는 스테이지 (280)상의 도포 주사 방향(Y방향)과 직교하는 수평 방향(X방향)으로 고정식의 수평 반송로 (232A, 232B)가 각각 설치되어 있다. 이들의 고정 반송로 (232A, 232B)는 제1의 수평 반송로 (232, 도 19)의 1구간을 각각 구성하는 것이고, 반입측의 고정 반송로 (232A)는 상류측 근처의 냉각 처리 유니트(COL, 242, 도 19) 로부터의 연장으로서 인 스테이지(IN, 284)내로 인입되고 있고 반출측의 고정 반송로 (232B)는 아웃 스테이지(OUT, 286)을 재기점으로서 하류측 근처의 감압 건조 유니트(VD, 46, 도 19)에 연장하고 있다. 양고정 반송로 (232A, 232B)는 스테이지 (280)의 윗쪽 공간을 사이에 두어 분리하고 또한 서로 대향 하고 있다.
각 고정 반송로 (232A, 232B)는 유리 기판 (G)를 위로 향한 자세(피처리면을 위로 향한 자세)로 반송하기 위한 롤러 (304A, 304B)를 반송 방향(X방향)으로 일정 간격으로 부설하여 이루어진다. 각 롤러 (304B, 304B)는 각각 일정한 굵기(지름)를 가지는 강체(예를 들어 SUS제)의 샤프트를 가지고 있다. 각 롤러 (304A, 304B)의 양단은, 프레임 (306)에 고정된 좌우 한 쌍의 베어링 (308A, 308B)에 수평 자세로 회전 가능하게 지지된다. 프레임 (306)은 바닥에 고정되고 있다. 각 롤러 (304A, 304B)를 각각 구동하기 위한 반송 구동부 (310A, 310B)는, 구동원의 전기 모터 (312A, 312B)와 상기 전기 모터 (312A, 312B)의 회전 구동력을 각 롤러 (304A, 304B)에 전하기 위한 전동 기구를 가진다. 이 전동 기구는, 전기 모터 (312A, 312B)의 회전축에 무단 벨트 (314A, 314B)를 개재하여 접속된 반송 방향(X방향)으로 연장하는 회전 구동 샤프트 (316A, 316B)와 이 회전 구동 샤프트 (316A, 316B)와 각 롤러 (304A, 304B)를 작동 결합하는 교차축형의 기어 (318A, 318B)로 구성되고 있다.
또한 고정 반송로 (232A, 232B)의 도시의 구성은 일례이고, 여러 가지의 변형이 가능하다. 예를 들어 롤러 (304A, 304B)를 1개의 샤프트로 구성하는 대신에 일렬로 배치한 복수개의 고정 롤러로 구성하는 것도 가능하다. 혹은 롤러 반송 방 식으로 대신해 벨트 반송 방식으로 하는 것도 가능하다.
또한 인 스테이지(IN, 284) 및 아웃 스테이지(OUT, 286)에는, 고정 반송로 (232A, 232B) 아래에 가동식의 평류 반송 기구 (320A, 320B)가 각각 설치되고 있다. 도 24에 나타나는 바와 같이, 가동 반송 기구 (320A, 320B)는, 고정 반송로 (232A, 232B)와 평행하게 부설된 가이드 레일 (322A, 322B)를 따라 수평 방향(X방향)으로 이동 가능하게 구성된 베이스부 (324A, 324B)와 이 베이스부 (324A, 324B)에 승강 가능하게 탑재된 캔틸레버형의 반송 브릿지 (326A, 326B)를 가지고 있다.
각 반송 브릿지 (326A, 326B)는 승강 본체 (328A, 328B)와 이 승강 본체 (328A, 328B)로부터 스테이지 (280) 측에 돌출하여 연장하는 복수 라인(도시의 예는 4개)의 캔틸레버부 (330A, 330B)와 각각의 캔틸레버부 (330A, 330B)에 일정한 간격을 두고 장착된 복수개의 롤러 (332A, 332B)를 가지고 있고 후술 하는 바와 같이 소정의 베이스주행위치에서 승강 본체 (328A, 328B) 및 캔틸레버부 (330A, 330B)를 베이스부 (324A, 324B)에 대해서 승강 이동시켜, 소정의 브릿지 주행 위치에서 롤러 (332A, 332B)를 회전운동 시키도록 구성되고 있다.
여기서, 도 24~도 32에 따라 스테이지 (280)상에서 처리완료의 유리 기판 (Gi)를 처리전의 다음의 유리 기판 (Gi+1)으로 교체하기 위한 일련의 동작을 설명한다.
스테이지 (280)상에서 유리 기판 (Gi)에 대한 레지스트 도포 처리를 하고 있는 동안은, 도 24에 나타나는 바와 같이, 인 스테이지(IN, 284) 및 아웃 스테이지(OUT, 286)에 있어서 가동 반송 기구 (320A, 320B)가 고정 반송로 (232A, 232B) 의 바로 밑으로 설정된 역주행위치에서 정지 또는 대기하고 있다. 이 역주행위치에서 각 반송 브릿지 (326A, 326B)는 각 고정 반송로 (232A, 232B) 아래에 잠겨 있다. 롤러 (332A, 332B)도 정지 상태를 유지하고 있다.
상기 레지스트 도포 처리가 종료하면 도 25에 나타나는바와 같이 리프트 핀 (302)가 스테이지 (280)중에서 윗쪽으로 돌출하고 유리 기판 (Gi)를 수평 상태인 채 고정 반송로 (232A, 232B)의 높이를 넘는 소정의 높이 위치까지 들어 올린다(언로딩). 이 직후에, 인 스테이지(IN, 284) 및 아웃 스테이지(OUT, 280)에 있어서는 반송 기구 (320A, 320B)가 스테이지 (280) 근방으로 설정된 주행위치까지 주행한다. 도 25 및 도 26에 나타나는 바와 같이 상기 주행위치에서, 쌍방의 반송 브릿지 는 고정 반송로 (232A, 232B)아래를 스테이지 (280)측으로 빠져 나가는 것과 동시에, 반송 방향(X방향)에 있어서의 스테이지 (280)의 중심 위치에서 서로 선단이 맞춰지도록 좌우 양측으로부터 스테이지 (280) 윗쪽에 걸친다. 또한 도 26에 나타나는 바와 같이, 각 반송 브릿지 (326A, 326B)은, 스테이지 (280)상에 돌출하고 있는 리프트 핀 (302)와는 맞지 않게 되어 있다.
다음에 도 27에 나타나는 바와 같이 양가동 반송 기구 (320A, 320B)에 있어서 반송 브릿지 (326A, 326B)가 수평 자세인 채 주행 위치까지 상승해 고정 반송로 (232A, 232B)와 면하나가 된다. 이 주행위치에서, 반입측의 고정 반송로 (232A)의 종단에 상류측 반송 브릿지 (326A)가 접속되어 반출측의 고정 반송로 (232B)의 시단에 하류측 반송 브릿지 (326B)가 접속되어 양반송 브릿지 (326A, 326B)가 서로 선단을 맞추도록 해 접속된다. 즉, 양반송 브릿지 (326A, 326B)를 개재하여 반입측 의 고정 반송로 (232A)와 반출측의 고정 반송로 (232B)가 연결되어 일시적으로 제1의 수평 반송로 (232)가 형성된다. 한편, 처리전의 다음의 유리 기판 (Gi+1)이 상류측 근처의 냉각 처리 유니트(COL,242,도 19)로부터 인 스테이지(IN, 284)에 소정의 타이밍으로 반입되어 반입측의 고정 반송로 (232A)상에서 일단 정지한다.
다음에, 도 28에 나타나는 바와 같이 리프트 핀 (302)가 소정의 높이 위치(예를 들어 스테이지 (280)내의 퇴피 위치)까지 하강 이동해, 그 하강 도중에서 유리 기판 (Gi)가 리프트 핀 (302)에서 양반송 브릿지 (326A, 326B) 위에 이재된다.
이 후 도 29에 나타나는 바와 같이 양반송 브릿지 (326A, 326B)가 롤러 (332A, 332B)의 회전 연동을 동시에 개시해 유리 기판 (Gi)를 아웃 스테이지(OUT) (286)측으로 송출하는 것과 동시에, 반출측의 고정 반송로 (232B)도 롤러 (304B)가 회전해 유리 기판 (Gi)를 수취한다. 여기서, 롤러 (332A, 332B, 304B)는, 동일한 롤러 반송 속도로 유리 기판 (Gi)를 반송하도록 각각 소정의 회전 속도로 회전한다. 한편, 반입측의 고정 반송로 (232A)나 롤러 (304A)가 회전해 다음의 유리 기판 (G+1)을 스테이지 (280)측에 송출한다. 여기에서도, 동일한 롤러 반송 속도로 유리 기판 (Gi+1)을 반송하도록 롤러 (304A, 332A, 332B)의 회전 속도가 설정된다.
이와 같이, 일직선에 연결된 반입측의 고정 반송로 (232A), 반송 브릿지 (326A, 326B) 및 반출측의 고정 반송로 (232B)상에서 처리완료의 유리 기판 (Gi)와 처리전의 다음의 유리 기판 (Gi+1)의 교체가 인덱스 이송 동시에 행해진다. 그리고, 유리 기판 (Gi+1)이 스테이지 (280) 바로 윗쪽의 설정 위치까지 오면 그 시점에서 양반송 브릿지 (326A, 326B)의 롤러 (304A, 304B)의 회전운동이 동시에 정지 해, 양반송 브릿지 (326A, 326B) 위에서 유리 기판 (Gi+1)가 위치 결정된다. 한편, 처리완료의 유리 기판 (Gi)는 반출측의 고정 반송로 (232B)를 내려 하류측 근처의 감압 건조 유니트(VD, 246,도 19) 로 반입된다.
다음에, 스테이지 (280)상에서는 도 30에 나타나는 바와 같이 리프트 핀 (302)가 다시 주행위치까지 상승 이동해 양반송 브릿지 (326A, 326B)로부터 유리 기판 (Gi+1)를 수평 상태인 채 수취한다.
그 다음에, 도 31에 나타나는 바와 같이 양가동 반송 기구 (320A, 320B)가 스테이지 (280)상에서 반송 브릿지 (326A, 326B)를 역주행의 높이 위치까지 내린다.
그 후 도 32에 나타나는 바와 같이 양가동 반송 기구 (320A, 320B)가 역주행위치까지 후퇴 또는 대피해, 그 직후에 리프트 핀 (302)가 역주행 위치까지 하강 이동해, 유리 기판 (Gi+1)이 수평 자세로 스테이지 (280)상에 로딩된다.
상기와 같이, 본 실시 형태의 레지스트 도포 처리 유니트(CT, 244)에 있어서는 스테이지 (280)에 대한 처리전의 유리 기판 (Gi+1)의 반입 및 처리완료의 유리 기판 (Gi)의 반출이 평류의 롤러 반송에 의해 동시에 행해지므로, 단시간에 효율적인 기판의 교체를 실현할 수가 있다. 이것에 의해, 이 유니트(CT, 244)가 속하는 프로세스 라인 (A)상의 제1의 수평 반송로 (232)에 있어서의 반송 수율이 향상해, 나아가서는 시스템 전체의 반송 수율 내지 생산 효율도 향상한다.
또, 스테이지 (280)의 부근에는 바닥 위에서 선회 및 승강 연동을 실시하도록 반송 로보트는 일절 설치되고 있지 않기 때문에, 스테이지 (280)에 주위로부터 유해한 기계 진동이 미칠 우려는 없다. 고정 반송로 (232A, 232B)상의 롤러 반송은 반송 로보트의 반송 동작에 비교해 현격히 조용하다. 가동 반송 기구 (320A, 320B)나 스테이지 (280)상에서 도포 처리를 하고 있는 동안은 고정 반송로 (232A, 232B)아래에서 정지하고 있어 진동을 발휘하는 경우는 없다. 또, 선회 연동을 실시하지 않기 때문에, 오동작시의 안전면에서도 우수하다.
다음에, 도 33~도 34에 대해 상기 실시 형태에 있어서의 가동 반송 기구 (320A, 320B)의 구체적 구성예를 설명한다. 양가동 반송 기구 (320A, 320B)는, 좌우 대상으로 동작하므로, 통상은 동일한 구성을 가지고 있다.
도 33에, 한 실시예에 의한 가동 반송 기구 (320, 320A, 320B)의 전체 구성을 나타낸다. 페이스부 (324)는 수평판으로 이루어지고, 평행한 한 쌍의 가이드 레일 (322상)에 슬라이더부 (340)을 개재하여 슬라이딩 가능하게 지지를 받고 있다. 승강 본체 (328)도 수평판으로 이루어지고, 브릿지 승강부 (342)를 개재하여 베이스부 (324)에 승강 가능하게 장착되고 있다. 여기서, 브릿지 승강부 (342)는, 비록 페이스부 (324)에 고정된 에어 실린더 (344) 및 리니어베어링 (346)과 승강 본체 (328)에 고정된 슬라이드 샤프트 (345)를 갖고, 에어 실린더 (344)의 피스톤 로드 (344a)를 승강 본체 (328)에 결합해, 슬라이드 샤프트 (345)를 리니어 베어링 (346)에 수직 방향으로 슬라이딩 가능하게 지지시키고 있다.
반송 브릿지 (326)에 있어서, 각 캔틸레버부 (330)은 중공의 각봉으로 구성되어 그 내부 및 기단측의 프레임체 (348) 내부에는 롤러 (332)를 회전 구동하기 위한 롤러 구동부가 내장되고 있고 프레임체 (348)의 한측면으로 구동원의 전기 모 터 (350)이 장착되고 있다.
도 34~도 36에 롤러 구동부의 구성을 나타낸다. 도 34에 나타나는 바와 같이 프레임체 (348)안에는, 외부부착의 전기 모터 (350)의 회전축에 결합되고 또한 베어링 (354)에 회전 가능하게 지지를 받고 있는 회전 구동 샤프트 (352)가 설치되고이 회전 구동 샤프트 (352)에는 각 캔틸레버부 (330)과 교차하는 곳에 구동 풀리 (356)이 장착되고 있다. 각 구동 풀리 (356)은, 각 캔틸레버부 (330)내에 연장하는 벨트식의 전동 기구 (358)에 의해 각 롤러 (332)와 작동 결합하도록 되어 있다. 또, 프레임체 (348)내 캔틸레버부 (330)내의 끼여있는 먼지를 배출하기 위한 배기관 (355)가 프레임체 (348)의 한측면으로 접속되고 있다.
도 35에 나타나는 바와 같이 캔틸레버부 (330)의 내부에서, 롤러 (332)는 베어링 (360)에 의해 지지를 받고 있는 회전 구동축 (362)를 개재하여 톱니바퀴 풀리 (364)와 일체로 결합되고 있고 톱니바퀴 풀리 (364)에는 구동 풀리 (356)에 통하는 타이밍 벨트 (366)이 감겨 걸려 있도록 되어 있다. 롤러 (332)의 상부는, 캔틸레버부 (330)의 상면에 형성된 통로 (368)으로부터 돌출하고 있어 그 정면에 유리 기판 (G)를 실어 반송하도록 되어 있다.
도 36에 나타나는 바와 같이 타이밍 벨트 (366)은, 단체 (348)내에 배치되고 있는 구동 풀리 (356)과 각 캔틸레버부 (330)의 선단부에 배치되고 있는 종동 풀리 (370)의 사이에 걸려 전해지고 있어 도중에서 각 톱니바퀴 풀리 (364)의 외주면에 부분적으로 감을 수 있다. 각 톱니바퀴 풀리 (364)의 근방에는 아이들러 풀리 (372)가 배치되고 있어 아이들러 풀리 (372)를 실선의 온 위치로부터 쇄선으로 나 타내는 오프 위치 (372)로 변위시키는 것으로 아이들링도 가능해지고 있다.
가이드 레일 (322)상에서 가동 반송 기구 (320, 특히 베이스부 (324)을 수평 이동시키기 위해서 도 37에 나타나는 바와 같이 예를 들어 벨트식의 구동 수단을 이용할 수가 있다. 역주행위치측의 구동 풀리 (376)과 주행위치측의 종동풀리 (378)의 사이에 무단 형상의 구동 벨트 (380)이 걸려져 이 구동 벨트 (380)에 페이스부 (324)가 고정되고 있다. 구동 풀리 (376)은 전기 모터 (382)에 의해 회전 구동되어 예를 들어 전기 모터 (382)의 정회전에 의해 가동 반송 기구 (320)이 전진 연동해, 전기 모터 (382)의 역회전에 의해 가동 반송 기구 (320)이 후퇴 연동하도록 되어 있다.
도 38에, 반송 브릿지 (326A, 326B)의 일변형 예의 구성을 나타낸다. 도시와 같이 각 반송 브릿지 (326A, 326B)에 있어서의 복수 라인(예를 들어 4개)의 캔틸레버부 (330A, 330B) 가운데, 양단의 캔틸레버부 (330AE, 330BE)를 반송 방향(X방향)으로 평행하게 하고, 그 내측의 캔틸레버부 (330AC, 330BC)를 반송 방향(X방향)에 대해서 적당한 경사각으로 비스듬하게 한다. 이것에 의해, 안쪽의 캔틸레버부 (330AC,330BC)에 장착되는 복수개의 롤러 (332A, 332B)는 반송 방향(X방향)과 직교 하는 수평 방향(Y방향)으로 소정의 피치로 오프셋 해 일렬에 배치된다.
관련된 구성에 의하면, 도포 처리완료의 유리 기판 (G)가 반송 브릿지 (326A, 326B)상에서 반송될 때, 캔틸레버부 (330AE, 330BE)상의 양측 단부를 제외하는 안쪽 기판 영역(제품 영역)은 반송 방향(X방향) 에 있어서 롤러 (332A, 332B)와 일직선상에서 접촉하는 비율이 적게 되므로, 기판으로부터 롤러로의 열흡인에 의해 발생하는 레지스트 도포막 (RM)의 열화(줄 얼룩)를 효과적으로 방지할 수가 있다. 또한 양측단의 캔틸레버부 (330AE,330BE)의 롤러 (332A, 332B)만으로 롤러 반송의 구동을 실시하고, 내측의 캔틸레버부 (330AC, 330BC)의 롤러 (332A, 332B)는 자유 회전 가능한 비구동의 구성으로서 좋다. 양측단의 캔틸레버부 (330AE, 330BE)는, 유리 기판 (G)의 측주변부(예를 들어 엣지로부터 15 mm 이내)를 지지하는 것이 바람직하다.
또, 롤러 (332A, 332B)의 재질은, 상기와 같은 기판으로부터 롤러로의 열흡인이 적을 뿐만 아니라, 정전기 내성이나 내마모성이 뛰어난 것이 바람직하고, 예를 들어 도전성의 초고분자량 폴리에틸렌(약칭 :UHMW-PE)을 매우 적합하게 이용할 수가 있다.
상기한 실시 형태에서는, 스테이지 (280)의 양측으로 좌우 대칭인 가동 반송 기구 (320A, 320B)를 배치해, 각각의 반송 브릿지 (326A, 326B)를 스테이지 (280) 위에서 맞추어 주행시키는 것으로, 유리 기판 (G)를 1/2 씩의 부담으로 스테이지 (280)에 반입·반출하는 구성이고, 기판의 대형화에 유리하다. 그렇지만, 스테이지 (280) 및 유리 기판 (G)의 사이즈가 그만큼 크면 도 39에 나타나는 바와 같이 한쪽 편(예를 들어 좌측)의 가동 반송 기구 (320A)만으로 유리 기판 (G)의 반입·반출을 실시하는 구성으로 하는 것도 가능하다.
스테이지 (280)의 구성도 여러 가지 변형이 가능하고, 예를 들어 스테이지 (280)상에서 유리 기판 (G)를 공중으로 부상시켜, 부상 상태의 유리 기판 (G)와 노즐의 사이에 도포 주사를 실시하는 스핀레스 도포법도 가능하다. 또, 스테이지 (280)상에서 유리 기판 (G)를 스핀 회전시키는 스핀 도포법에도 본 발명은 적용 가능하고, 또 도포 장치에 한정하지 않고 스테이지상에서 기판 처리를 실시하는 임의의 기판 처리 장치에 본 발명은 적용 가능하다. 따라서, 본 발명에 있어서의 처리액으로서는 레지스트피 이외로도, 예를 들어 층간 절연 재료, 유전체 재료, 배선 재료 등의 도포액도 가능하고, 현상액이나 린스액 등도 가능하다. 또한 본 발명은, 스테이지에 한정하지 않고 소정 위치에서 기판 처리를 실시하는 임의의 처리부에 대해서 기판의 반입·반출을 실시하는 기판 반송 장치에 적용 가능하다.
이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 매우 적합한 실시의 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 관련된 예로 한정되지 않는다. 당업자라면 특허 청구의 범위에 기재된 사상의 범위내에 있어서, 각종의 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 확실하고, 그들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다.
또, 본 발명은, 유리 기판 (G) 이외 외의 FPD(플랫 패널 디스플레이)나 포토마스크용의 마스크레티클, 반도체 웨이퍼, CD기판, 프린트 기판등의 다른 기판을 반송하는 경우에도 적용할 수 있다.
본 발명은 기판상의 도포액에 도포얼룩을 할 수 없도록 기판을 반송할 때 유용하다.
본 발명에, 기판상에 도포되는 도포액의 도포얼룩이 억제되므로, 예를 들면 보다 정밀도가 높은 포트리소그래피공정이 실시되어 양질의 기판 제품을 제조할 수 있다. 또 처리부에 대해서 기판을 반입·반출하는 기구의 안전성 및 효율성(수율)을 개선할 수 있는 것과 동시에, 처리 실행중의 처리부에 기계 진동등의 영향을 주지 않게 할 수가 있다.

Claims (23)

  1. 기판에 도포액을 도포하는 도포 처리부에 대해서 기판을 반송하는 기판 반송 시스템으로서,
    기판을 지지 가능으로 수평 방향으로 나열된 복수의 롤러와 상기 복수의 롤러를 일체적으로 지지하는 지지 부재와 상기 지지 부재를 이동시켜 상기 복수의 롤러를 도포 처리부에 대해서 진퇴 시키는 이동 기구와 상기 복수의 롤러를 회전시키는 회전 구동부를 가지는 반송체와,
    상기 도포 처리부의 기판을 승강시키는 승강기구를 구비하며,
    상기 복수의 롤러는, 상기 도포 처리부측의 전방의 롤러로부터 차례로 상기 도포 처리부의 기판의 하면에 접촉해 나가도록 상기 도포 처리부의 기판의 하측에 진입해 기판을 지지하고, 상기 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부로부터 후퇴하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 복수의 롤러는 상기 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부에 진입하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 복수의 롤러는, 지지한 기판을 회전에 의해 후방 측에 보내면서, 상기 도포 처리부로부터 후퇴하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 승강기구는 기판의 하면을 지지해 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고,
    상기 복수의 승강 부재는, 상기 복수의 롤러의 진입에 맞추어 상기 롤러와 접촉하지 않게, 상기 롤러의 진입측의 승강 부재로부터 차례로 하강해, 기판을 롤러에 수수하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 기판을 지지 가능으로 수평 방향으로 나열된 복수의 다른 롤러와, 상기 복수의 다른 롤러를 일체적으로 지지하는 다른 지지 부재와, 상기 다른 지지 부재를 이동시켜 상기 복수의 다른 롤러를 도포 처리부에 대해서 진퇴 시키는 다른 이동 기구와, 상기 복수의 다른 롤러를 회전시키는 다른 회전 구동부를 가지는 다른 반송체를 구비하고,
    상기 복수의 다른 롤러는 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부에 진입하고 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부로부터 후퇴하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  6. 제5항에 있어서, 상기 승강기구는 기판의 하면을 지지해 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고,
    상기 복수의 승강 부재는, 상기 복수의 다른 롤러의 후퇴에 맞추어 상기 롤러와 접촉하지 않도록, 상기 다른 롤러의 진입 방향 전방 측에 있는 승강 부재로부터 차례로 상승해 기판을 지지하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  7. 기판에 도포액을 도포하는 도포 처리부에 대해서 기판을 반송하는 기판 반송 시스템으로서,
    기판을 지지 가능으로 또한 회전 가능한 회전 벨트와 상기 회전 벨트를 지지하는 지지 부재와 상기 지지 부재를 이동시켜 상기 회전 벨트를 도포 처리부에 대해서 진퇴 시키는 이동 기구와 상기 회전 벨트를 회전시키는 회전 구동부를 가지는 반송체와 상기 도포 처리부의 기판을 승강하는 승강기구를 구비하며,
    상기 회전 벨트는 상기 도포 처리부측의 전방으로부터 차례로 상기 도포 처리부의 기판의 하면을 접촉해 나가도록, 상기 도포 처리부의 기판의 하측에 진입해 기판을 지지하고 상기 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부로부터 후퇴하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 회전 벨트는, 상기 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부에 진입하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  9. 제7항에 있어서, 상기 회전 벨트는 지지한 기판을 회전에 의해 후방 측에 보내면서 상기 도포 처리부로부터 후퇴하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  10. 제7항에 있어서, 상기 승강기구는 기판의 하면을 지지하여 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고,
    상기 복수의 승강 부재는 상기 회전 벨트의 진입에 맞추어 상기 회전 벨트와 접촉하지 않도록 상기 회전 벨트의 진입측의 승강 부재로부터 차례로 하강하고, 기판을 회전 벨트에 수수하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  11. 제7항 내지 10항 중 어느 한 항에 있어서, 기판을 지지 가능으로 수평 방향으로 나열된 다른 회전 벨트와, 상기 다른 회전 벨트를 지지하는 다른 지지 부재와, 상기 다른 지지 부재를 이동시켜 상기 다른 회전 벨트를 도포 처리부에 대해서 진퇴 시키는 다른 이동 기구와, 상기 다른 회전 벨트를 회전시키는 다른 회전 구동부를 가지는 다른 반송체를 구비하고,
    상기 다른 회전 벨트는, 기판을 지지한 상태로 상기 도포 처리부에 진입해, 도포 처리부의 기판의 위치가 어긋나지 않게 회전하면서 상기 도포 처리부로부터 후퇴하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  12. 제11항에 있어서, 상기 승강기구는, 기판의 하면을 지지해 승강하는 복수의 승강 부재를 구비하고,
    상기 복수의 승강 부재는 상기 다른 회전 벨트의 후퇴에 맞추어 상기 다른 회전 벨트와 접촉하지 않도록, 상기 다른 회전 벨트의 진입 방향 전방 측에 있는 승강 부재로부터 차례로 상승해 기판을 지지하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 시스템.
  13. 스테이지 상에서 기판에 소정의 처리를 가하는 처리부에 대해서, 처리전의 상기 기판을 반입해, 처리완료의 상기 기판을 반출하기 위한 기판 반송 장치로서,
    상기 기판을 수평 상태로 반송하기 위한 제1의 반송체를 부설하고, 수평인 제1의 방향에 있어서 상기 스테이지의 한편의 사이드에 종단을 가지는 제1의 고정 반송로와,
    상기 기판을 수평 상태로 반송하기 위한 제2의 반송체를 부설하고, 상기 제1의 방향에 있어서 상기 스테이지의 다른쪽의 사이드에 시단을 가지는 제2의 고정 반송로와,
    상기 기판을 수평 상태로 반송하기 위한 제3의 반송체를 장착하고, 상기 스테이지에 상기 기판을 반입하고, 또는 상기 스테이지로부터 상기 기판을 반출하기 위한 상기 제1의 고정반주로의 종단 또는 상기 제2의 고정반주로의 시단과 접속해 상기 스테이지의 윗쪽에 가설되는 브릿지 주행 위치와 상기 스테이지에 있어서의 기판 처리 시에 퇴피하기 위한 상기 제1 또는 제2의 고정 반송로 아래에 잠기는 브릿지 역주행 위치와의 사이에서 이동 가능하게 구성된 가동 반송 브릿지를 갖고,
    상기 스테이지에 상기 기판을 반입하기 위해서 상기 제1의 반송체와 상기 제3의 반송체를 연동시켜 구동하고 상기 스테이지로부터 상기 기판을 반출하기 위해서 상기 제2의 반송체와 상기 제3의 반송체가 연동해 구동하는 기판 반송 장치에 있어서,
    상기 가동 반송 브릿지를 탑재하여 가동하는 베이스와,
    상기 제1의 방향에 있어서 상기 베이스를 상기 브릿지 역주행 위치에 대응하는 베이스 역주행 위치와 상기 브릿지 주행 위치에 대응하는 베이스 주행 위치의 사이에서 이동시키는 베이스 이동부와,
    상기 베이스상에서 상기 가동 반송 브릿지를 승강 이동시키는 브릿지 승강부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 가동 반송 브릿지가 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지와 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지로 2 분할되고,
    상기 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지가, 상기 제1의 고정 반송로의 종단과 접속하여 상기 스테이지의 윗쪽에 가설되는 제1의 브릿지 주행 위치와 상기 제1의 고정 반송로 아래에 잠기는 제1의 브릿지 역주행 위치의 사이에서 이동 가능하게 구성되고,
    상기 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지가, 상기 제2의 고정 반송로의 시단과 접속하여 상기 스테이지의 윗쪽에 가설되는 제2의 브릿지 주행 위치와 상기 제2의 고정 반송로 아래에 잠기는 제2의 브릿지 역주행 위치의 사이에서 이동 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지를 탑재하는 가동의 제1의 베이스와,
    상기 제1의 방향에 있어서 상기 제1의 베이스를 상기 제1의 브릿지 역주행 위치에 대응하는 제1의 베이스 역주행 위치와 상기 제1의 브릿지 주행 위치에 대응하는 제1의 베이스 주행 위치의 사이에서 이동시키는 제1의 베이스 이동부와,
    상기 제1의 베이스상에서 상기 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지를 승강 이동시키는 제1의 브릿지 승강부와,
    상기 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지를 탑재하여 가동하는 제2의 베이스와,
    상기 제2의 방향에 있어서 상기 제2의 베이스를 상기 제2의 브릿지 역주행 위치에 대응하는 제2의 베이스 역주행 위치와 상기 제2의 브릿지 주행 위치에 대응하는 제2의 베이스 주행 위치의 사이에서 이동시키는 제2의 베이스 이동부와,
    상기 제2의 베이스상에서 상기 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지를 승강 이동시키는 제2의 브릿지 승강부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기 제1의 베이스 이동부가, 상기 제1의 베이스 역주행 위치와 상기 제1의 베이스 주행 위치의 사이에서 상기 제1의 베이스를 수평 이동시키고,
    상기 제1의 브릿지 승강부가 상기 제1의 베이스 주행 위치에서 상기 제1의 베이스상의 상기 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지를 승강 이동시키고,
    상기 제2의 베이스 이동부가 상기 제2의 베이스 역주행 위치와 상기 제2의 베이스 주행 위치의 사이에서 상기 제2의 베이스를 수평 이동시키고,
    상기 제2의 브릿지 승강부가 상기 제2의 베이스 주행 위치에서 상기 제2의 베이스상의 상기 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지를 승강 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  17. 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지는,
    상기 제1의 베이스에 승강 가능하게 지지되는 제1의 승강 본체와,
    상기 제1의 승강 본체로부터 상기 스테이지 측에 돌출하여 연장하는 복수개의 캔틸레버부와,
    각각의 상기 캔틸레버부에 상기 제3의 반송체로서 회전 가능하게 장착되는 복수개의 제1의 롤러와,
    상기 제1의 롤러를 회전구동하는 힘을 발생하기 위해서 상기 제1의 브릿지 본체에 설치되는 제1의 롤러 구동부와,
    상기 제1의 롤러 구동부에서 발생되는 회전 구동력을 일부 또는 전부의 상기 제1의 롤러에 전하기 위한 제1의 전동부를 갖고,
    상기 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지는,
    상기 제2의 베이스에 승강 가능하게 지지를 받는 제2의 승강 본체와,
    상기 제2의 승강 본체로부터 상기 스테이지 측에 돌출하여 연장하는 복수 라인의 캔틸레버부와,
    각각의 상기 캔틸레버부에 상기 제3의 반송체로서 회전 가능하게 장착되는 복수개의 제2의 롤러와,
    상기 제2의 롤러를 회전 구동하는 힘을 발생하기 위해서 상기 제2의 브릿지 본체에 설치되는 제2의 롤러 구동부와,
    상기 제2의 롤러 구동부에서 발생되는 회전 구동력을 일부 또는 전부의 상기 제2의 롤러에 전하기 위한 제2의 전동부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  18. 제17항에 있어서, 일부 또는 전부의 상기 캔틸레버부에 있어서 상기 복수개의 제1의 롤러가, 상기 제1의 방향과 직교하는 수평인 제2의 방향으로 소정의 피치로 오프셋하여 배열되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  19. 스테이지 상에서 기판을 수평으로 지지해 소정의 처리를 가하는 처리부와,
    상기 스테이지에 대해서 처리전의 상기 기판을 반입하고, 처리완료의 상기 기판을 반출하기 위한 하기의 기판 반송 장치를 가지는 기판 처리 장치로서,
    상기 기판 반송 장치는,
    상기 기판을 수평 상태로 반송하기 위한 제1의 반송체를 부설하고, 수평인 제1의 방향에 있어서 상기 스테이지의 한쪽의 사이드에 종단을 가지는 제1의 고정 반송로와,
    상기 기판을 수평 상태로 반송하기 위한 제2의 반송체를 부설하고 상기 제1의 방향에 있어서 상기 스테이지의 다른쪽의 사이드에 시단을 가지는 제2의 고정 반송로와,
    상기 기판을 수평 상태로 반송하기 위한 제3의 반송체를 장착하고, 상기 스테이지에 상기 기판을 반입하고 또는 상기 스테이지로부터 상기 기판을 반출하기 위한 상기 제1의 고정반주로의 종단 또는 상기 제2의 고정반주로의 시단과 접속해 상기 스테이지의 윗쪽에 가설되는 브릿지 주행 위치와, 상기 스테이지에 있어서의 기판 처리 시에 퇴피하기 위한 상기 제1 또는 제2의 고정 반송로 아래에 잠기는 브릿지 역주행 위치의 사이에서 이동 가능하게 구성된 가동 반송 브릿지를 갖고,
    상기 스테이지에 상기 기판을 반입하기 위해서 상기 제1의 반송체와 상기 제3의 반송체를 연동시켜 구동하고 상기 스테이지로부터 상기 기판을 반출하기 위해서 상기 제2의 반송체와 상기 제3의 반송체가 연동해 구동하며,
    상기 가동 반송 브릿지가 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지와 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지로 2 분할되고,
    상기 제1의 캔틸레버형 반송 브릿지가, 상기 제1의 고정 반송로의 종단과 접속하여 상기 스테이지의 윗쪽에 가설되는 제1의 브릿지 주행 위치와 상기 제1의 고정 반송로 아래에 잠기는 제1의 브릿지 역주행 위치의 사이에서 이동 가능하게 구성되고,
    상기 제2의 캔틸레버형 반송 브릿지가, 상기 제2의 고정 반송로의 시단과 접속하여 상기 스테이지의 윗쪽에 가설되는 제2의 브릿지 주행 위치와 상기 제2의 고정 반송로 아래에 잠기는 제2의 브릿지 역주행 위치의 사이에서 이동 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 처리부가 상기 스테이지상에 상기 기판을 로딩하고 상기 스테이지로부터 상기 기판을 언로딩하고, 또는 상기 스테이지의 윗쪽에서 상기 가동 반송 브릿지와 상기 기판의 수수를 실시하기 위해서, 상기 스테이지를 관통해 상하 이동 가능하게 구성된 복수 라인의 리프트 핀을 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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