JP6811015B2 - ロールツーロール両面露光装置 - Google Patents

ロールツーロール両面露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6811015B2
JP6811015B2 JP2016018399A JP2016018399A JP6811015B2 JP 6811015 B2 JP6811015 B2 JP 6811015B2 JP 2016018399 A JP2016018399 A JP 2016018399A JP 2016018399 A JP2016018399 A JP 2016018399A JP 6811015 B2 JP6811015 B2 JP 6811015B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
cleaning
roll
sheet
roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016018399A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017138415A (ja
Inventor
正利 浅見
正利 浅見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adtec Engineering Co Ltd
Original Assignee
Adtec Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Adtec Engineering Co Ltd filed Critical Adtec Engineering Co Ltd
Priority to JP2016018399A priority Critical patent/JP6811015B2/ja
Priority to TW106101566A priority patent/TWI672564B/zh
Priority to CN201710059526.0A priority patent/CN107024836B/zh
Priority to KR1020170014435A priority patent/KR102324021B1/ko
Publication of JP2017138415A publication Critical patent/JP2017138415A/ja
Priority to KR1020200107903A priority patent/KR102443971B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of JP6811015B2 publication Critical patent/JP6811015B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G03F7/2032—Simultaneous exposure of the front side and the backside
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2059—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
    • G03F7/2063—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam for the production of exposure masks or reticles
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7096—Arrangement, mounting, housing, environment, cleaning or maintenance of apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Body Structure For Vehicles (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)

Description

本願の発明は、フレキシブルプリント基板等の製造用に使用されるロールツーロール両面露光装置に関するものである。
所定のパターンの光を対象物に照射して露光する露光装置は、フォトリソグラフィの中核的な要素技術として各種の用途に使用されている。このうち、フレキシブルプリント基板のような柔らかな基板（以下、シート状基板という）を露光する露光装置については、ロールツーロールでシート状基板を搬送しながら露光を行う装置が知られている。この種の装置の中には、シート状基板の両面に同時に露光を行うタイプのものがあり、両面に回路形成がされるフレキシブルプリント基板用の露光装置は、その一例である。
両面露光を行うロールツーロールの露光装置は、ある設定された領域に対して両側から所定のパターンの光が照射されるよう構成される。そして、ロール状のシート状基板を引き出して当該領域に逐次停止させるようにし、停止中に両側から露光を行うようにする。ある設定された領域は、シート状基板の厚みの分を考慮すると、平行な二つの平面（露光面）を有する領域ということになる（以下、露光領域という）。
特開２００７−２５４３６号公報 特開２０１５−４９３５６号公報
上記のような露光装置において、形状欠陥の無い良質なパターン転写を行うためには、マスクを定期的にクリーニングすることが必要になっている。マスクに塵や埃などの異物が付着すると、照射される光のパターンの欠陥となり、最終的な製品不良の原因になり易い。露光装置においては、例えばシート状基板の縁の僅かなバリが剥がれたり、シート状基板に塗布されたレジストが一部剥離したりして異物となり、マスクに付着し得る。このため、マスクを定期的にクリーニングすることが必要になる。
特許文献１や特許文献２には、このような露光装置においてマスクのクリーニングを行う技術が開示されている。このうち、特許文献１には、枚葉式の露光装置において、マスクを粘着ローラで除塵する技術が開示されている。また、特許文献２には、ロールツーロール方式の露光装置において、マスクをクリーニングローラで除塵する技術が開示されている。
これら特許文献に開示されたマスクの除塵技術は、いずれも片面方式の露光装置におけるものである。両面露光装置の場合には、シート状基板に対して両側にマスクが配置されるから、その双方をクリーニングする必要があるが、これら特許文献は片面露光方式におけるものであるため、これらを参照しても実用的な構造は想到され得ない。
例えば特許文献１では、クリーニングローラはシート状基板の搬出を行う搬出ハンドに取り付けられていて、シート状基板の搬出動作に同期して移動してマスクの除塵を行う。しかしながら、ロールツーロールの装置では、枚葉式の装置のような基板の搬入搬出動作やそのための機構は存在しないので、参考にならない。また、特許文献２では、シート状基板を挟んでマスクとは反対側に駆動機構が設けられていて、この駆動機構によってクリーニングローラを移動させることでマスクの除塵がされるよう説明されているが、両面露光装置の場合、反対側にも同様にマスクが配置されており、このような機構を配置することは難しい。
本願発明は、このような従来技術の状況に鑑みて為されたものであり、ロールツーロール方式であって且つ両面露光を行う露光装置において、マスクのクリーニングが行える実用的な構成を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本願の請求項１記載の発明は、ロール状のシート状基板を引き出して当該シート状基板の両側の露光面に所定のパターンの光を照射して露光するロールツーロール両面露光装置であって、
ロール状のシート状基板を引き出して露光領域を通して搬送する搬送系と、
露光領域を挟んで配置された一対のマスクと、
一対のマスクをクリーニングするマスククリーニング機構と
を備えており、
マスククリーニング機構は、
表面に粘着層を有する一対のクリーニングローラと、
各クリーニングローラを各マスク上で転動させながら移動させることで各マスクから異物を除去するローラ移動機構とを備えており、
前記ローラ移動機構は、間にシート状基板が存在する状態で各クリーニングローラを各マスクの一方の側から他方の側に同時期に移動させる機構であり、
各クリーニングローラを移動させる前記ローラ移動機構は、露光領域におけるシート状基板に対して一方のクリーニングローラがクリーニングする一方のマスクと同じ側に配置されており、前記ローラ移動機構において一方のクリーニングローラを保持する部分は、露光領域においてシート状基板の両側の露光面が位置する二つの平面を貫いておらず、他方のクリーニングローラを保持する部分は、露光領域においてシート状基板の両側の露光面が位置する二つの平面を貫いており、
前記一対のクリーニングローラにそれぞれ接触可能な一対の移着ローラが設けられていて、前記搬送系は一対の移着ローラの間を通してシート状基板を搬送する系であり、
各移着ローラは、前記各クリーニングローラの粘着層よりも高い粘着力の粘着層を表面に有しているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項２記載の発明は、前記請求項１の構成において、前記ローラ移動機構は、前記各クリーニングローラを一体に移動させる機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項３記載の発明は、前記請求項１又は２の構成において、前記各クリーニングローラは、前記各マスクに接触した際に弾性を作用させてマスクへの押圧力を高める弾性体を備えているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項４記載の発明は、前記請求項１又は２の構成に
おいて、前記シート状基板に向けて前記各マスクを移動させるととともに前記シート状基板から前記各マスクを遠ざけるよう移動させるマスク移動機構が設けられており、
前記各クリーニングローラは、前記各マスクよりも前記シート状基板に近い側に位置しており、
マスク移動機構は、前記各マスクを前記シート状基板に向けて移動させて前記各クリーニングローラに接触させることができる機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項５記載の発明は、前記請求項４の構成において、前記各クリーニングローラは弾性体を備えており、
前記マスク移動機構は、前記各マスクを前記各クリーニングローラに接触させた際、弾性体を圧縮して前記各クリーニングローラの前記各マスクへの押圧力を高める位置に前記各マスクを位置させること可能な機構であり、前記各マスクの位置を調節して弾性体の圧縮量を調節することが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項６記載の発明は、前記請求項１又は２の構成において、前記シート状基板に向けて前記各マスクを移動させるととともに前記シート状基板から前記各マスクを遠ざけるよう移動させるマスク移動機構が設けられており、
前記各クリーニングローラは、前記各マスクよりも前記シート状基板に近い側に位置しており、
前記一対のクリーニングローラは、フレームによって互いに連結されており、
前記マスク移動機構は、前記一対のマスクの一方を前記シート状基板に近づく向きに移動させて前記一対のクリーニングローラの一方に接触させるとともに、当該一方のマスク及び一方のクリーニングローラを介して他方のクリーニングローラを移動させることで他方のクリーニングローラを他方のマスクに接触させることが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項７記載の発明は、前記請求項６の構成において、前記一対のクリーニングローラは、弾性体を介して連結されており、
前記マスク移動機構は、前記一方のマスク及び前記一方のクリーニングローラを介して前記他方のクリーニングローラを移動させることで他方のクリーニングローラを前記他方のマスクに接触させた際、弾性体を圧縮して前記各クリーニングローラの前記各マスクへの押圧力を高める位置に前記一方のマスクを位置させること可能な機構であり、前記一方のマスクの位置を調節して弾性体の圧縮量を調節することが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項８記載の発明は、前記請求項４乃至７いずれかの構成において、前記マスク移動機構は、前記各マスクを前記シート状基板に接触させるか又は所定の間隙を持って対向させる機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項９記載の発明は、前記請求項１乃至８いずれかの構成において、前記各クリーニングローラが前記各マスクに接触するのに先立って前記各マスクの表面を除電する除電器が設けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項１０記載の発明は、前記請求項９の構成において、前記除電器は、前記各マスクの表面にイオンを供給して除電するイオナイザーであり、
イオナイザーは、前記各クリーニングローラに対して、前記ローラ移動機構による移動の向きの前方に配置されており、
前記ローラ移動機構は、イオナイザーを前記各クリーニングローラと一体に移動させる機構であるという構成を有する。
以下に説明する通り、本願の請求項１記載の発明によれば、間にシート状基板が存在している状態で一対のクリーニングローラが一対のマスク上で転動しながら同時期に移動することでクリーニングが行われるので、生産性を阻害することなくクリーニングが行える実用的な構成が提供される。
また、請求項２記載の発明によれば、上記効果に加え、一対のクリーニングローラが一体に移動するので、移動のための機構が簡略化される。
また、請求項３記載の発明によれば、上記効果に加え、各クリーニングローラの各マスクへの押圧力が高められるので、よりクリーニングの効果が高くなる。
また、請求項４記載の発明によれば、上記効果に加え、各クリーニングローラを各マスクに接触させるのにマスク移動機構が兼用されているので、この点で機構が簡略化される。
また、請求項５記載の発明によれば、上記効果に加え、マスク移動機構によって弾性体の圧縮量が調節されるので、クリーニングが不十分になったりマスクを傷つけたりする恐れがなくなる。
また、請求項６記載の発明によれば、上記効果に加え、各クリーニングローラを各マスクに接触させるのにマスク移動機構が兼用されているので、この点で機構が簡略化される。
また、請求項７記載の発明によれば、上記効果に加え、マスク移動機構によって弾性体の圧縮量が調節されるので、クリーニングが不十分になったりマスクを傷つけたりする恐れがなくなる。また、弾性体が一つで済むので、この点で機構的に簡略化される。
また、請求項８記載の発明によれば、コンタクト方式又はプロキシミティ方式の露光を行いつつ、上記各効果を得ることができる。
また、請求項９記載の発明によれば、上記効果に加え、クリーニングに先立って各マスクの表面を除電する除電器が設けられているので、クリーニングの効果をより高めることができる。
また、請求項１０記載の発明によれば、上記効果に加え、除電器であるイオナイザーの移動についてローラ移動機構が兼用されるので、この点で機構が簡略化される。
第一の実施形態のロールツーロール両面露光装置の正面断面概略図である。 第一の実施形態におけるマスククリーニング機構の斜視概略図である。 第一の実施形態のロールツーロール両面露光装置の動作を示した正面断面概略図である。 第二の実施形態のロールツーロール両面露光装置の主要部を示した斜視概略図である。 第二の実施形態のロールツーロール両面露光装置の動作を示した正面断面概略図である。 第三の実施形態のロールツーロール両面露光装置の主要部の斜視概略図である。
次に、本願発明を実施するための形態（以下、実施形態）について説明する。
図１は、第一の実施形態のロールツーロール両面露光装置の正面断面概略図である。図１に示す装置は、ロール状のシート状基板Ｓを引き出して搬送する搬送系１と、光源２と、引き出されたシート状基板Ｓのうち露光領域に位置する部分に光源２からの光を照射して露光する光学系３と、光学系３と露光領域の間に配置されるマスク４１，４２とを備えている。
搬送系１は、ロール状に巻かれたシート状基板Ｓを引き出すピンチローラ１１や、露光されたシート状基板Ｓを巻き取る巻き取りローラ１２等から構成されている。装置は不図示の制御部を備えており、搬送系１は制御部によって制御される。
露光領域は水平な露光面を有する領域であり、シート状基板Ｓは水平な姿勢で露光領域に搬送される。搬送の際にシート状基板Ｓが通る面（以下、搬送面という）は水平であり、光学系３の光軸は搬送面に対して垂直である。
搬送系１によるシート状基板Ｓの搬送は間欠的であり、所定のストロークだけシート状基板Ｓを送って停止させる動作（逐次搬送動作）が繰り返される。所定のストロークは、露光領域の大きさに応じたものである。露光は、シート状基板Ｓの停止中に行われ、露光領域の大きさのパターンの光が照射される。したがって、逐次搬送動作のストローク（以下、搬送ストロークという）は、搬送方向における露光領域の長さにほぼ相当している。
この実施形態の装置は、両面露光を行うものであるため、光源２、光学系３及びマスク４１，４２は、露光領域を挟んで両側（この実施形態では上側と下側）に一組ずつ配置されている。以下、説明の都合上、一対のマスク４１，４２を上側マスク４１、下側マスク４２と呼ぶ。
光源２及び光学系３は、種々のものから任意に選択し得るが、例えばショートアーク型の紫外線ランプを光源２とし、インテクグレータレンズで均一な強度分布の光束とした後、コリメータレンズで平行光としてマスク４１，４２に照射する構成が採用され得る。尚、各光学系３は、不図示のシャッタを含んでおり、各シャッタは不図示の制御部によって制御される。
また、この実施形態の装置は、いわゆるコンタクト露光を行うものとなっている。したがって、シート状基板Ｓに密着したりシート状基板Ｓから離れたりするための移動をマスク４１，４２に行わせるマスク移動機構５１，５２が設けられている。この実施形態では、露光領域におけるシート状基板Ｓは水平な姿勢であるので、マスク移動機構５１，５２はマスク４１，４２を上下方向に移動させる機構となっている。以下、上側マスク４１を昇降させる機構５１を上側昇降機構と呼び、下側マスク４２を昇降させる機構５２を下側昇降機構と呼ぶ。
各マスク４１，４２は、水平な姿勢の板状である。各マスク４１，４２の背後には、マスク台座４１１、４２１が設けられている。各マスク台座４１１，４２１は、前面に各マスク４１，４２を搭載している。各昇降機構５１，５２は、各マスク台座４１１，４２１を昇降することで各マスク４１，４２をシート状基板Ｓに密着させたりシート状基板Ｓから離したりする機構となっている。
具体的には、各昇降機構５１，５２は、各マスク４１，４２をシート状基板Ｓに向けて移動させてシート状基板Ｓに密着させるとともに、露光終了後のシート状基板Ｓの搬送の際には各マスク４１，４２をシート状基板Ｓから遠ざける向きに移動させる機構である。各昇降機構５１，５２には、任意の直動機構を採用し得るが、この実施形態では、各マスク４１，４２の停止位置の自由度を大きくするため、サーボモータとボールネジの組み合わせを採用している。図１では詳細が省略されているが、各昇降機構５１，５２は、左右に上下の駆動軸を備えており、上下方向のリニアガイドに沿って各マスク台座４１１，４２１を昇降させる機構となっている。
尚、説明の都合上、垂直方向をＺ方向とし、シート状基板Ｓの搬送方向をＸ方向、Ｘ方向に垂直な水平方向をＹ方向とする。各マスク４１，４２は、ＸＹ方向を各辺とする方形の板状である。
このような実施形態のロールツーロール両面露光装置は、各マスク４１，４２に付着した異物を除去するマスククリーニング機構６を備えている。以下、マスククリーニング機構６について、図１及び図２を参照して説明する。図２は、第一の実施形態におけるマスククリーニング機構の斜視概略図である。
マスククリーニング機構６は、一対のマスク４１，４２を同時にクリーニングする実用的な構成を有している。具体的には、マスククリーニング機構６は、表面に粘着層を有する一対のクリーニングローラ６１，６２と、各マスク４１，４２に当接した状態で各クリーニングローラ６１，６２を移動させることでクリーニングを行うローラ移動機構６３とを備えている。
各クリーニングローラ６１，６２において、表面の粘着層は、マスク４１，４２に付着した異物を粘着力によりマスク４１，４２から除去できるよう十分な粘着力を有する。図２に示すように、各クリーニングローラ６１，６２は円筒状であり、円柱状の心棒（符号省略）が挿通されることで心棒に保持されている。各クリーニングローラ６１，６２は、Ｙ方向に沿って配置されている。
ローラ移動機構６３は、一対のクリーニングローラ６１，６２を保持したフレーム６４と、フレーム６４に取り付けられた一対のスライダ６５と、Ｘ方向に互いに平行に延びる一対のリニアガイド６６と、各スライダ６５を各リニアガイド６６に沿って移動させる直線駆動源６７等から構成されている。フレーム６４は、直線駆動源６７によって可動であるので、以下、可動フレームという。
可動フレーム６４は、各クリーニングローラ６１，６２を支持した一対の支柱部（以下、除塵支柱部）６４１を有している。各除塵支柱部６４１は、各クリーニングローラ６１，６２の心棒の両端をベアリング（符号省略）を介して支持している。したがって、各クリーニングローラ６１，６２は、Ｙ方向に延びる中心軸の回りに従動回転可能となっている。図２に示すように、除塵支柱部６４１により保持された一対のクリーニングローラ６１，６２は、Ｚ方向に離間しており、その間にシート状基板Ｓの搬送面が設定されている。したがって、装置の動作状態では間にシート状基板Ｓが位置している。
直線駆動源６７としては、サーボモータとボールネジの組み合わせ又はリニアモータ等が使用される。直線駆動源６７によるスライダ６５の移動ストロークは、Ｘ方向のマスク４１，４２の長さよりも少し長い程度である。
また、マスククリーニング機構６は、移着ローラ６８を備えている。移着ローラ６８は、クリーニングローラ６１，６２に付着した異物を移着させ、クリーニングローラ６１，６２のメンテナンス頻度を低くする目的で設けられている。
各移着ローラ６８は、クリーニングローラ６１，６２と同様、表面に粘着層を有する粘着ローラである。各移着ローラ６８は、家庭用のゴミ取り用粘着ローラと同様、粘着テープ（粘着紙）が巻かれた構造であり、移着ローラ６８への異物の付着量が多くなった場合、表面の一枚の粘着テープを剥がすことで付着力が再生するものである。但し、各移着ローラ６８の粘着力は、クリーニングローラ６１，６２よりも相当程度高いものとなっている。
図２に示すように、各移着ローラ６８は、クリーニングローラ６１，６２を支持した可動フレーム６４とは別のフレーム（以下、固定フレームという）６８１によって保持されている。固定フレーム６８１は、一対の支柱部（以下、移着支柱部）６８２を有している。各移着ローラ６８も心棒を有しており、心棒の両端は、ベアリング（符号省略）を介して各移着支柱部６８２に支持されている。
各移着ローラ６８には、回転駆動源６８３が設けられており、中心軸の回りに回転するようになっている。図２に示すように、上側の移着ローラ６８が支持されている高さは、上側のクリーニングローラ６１，６２とほぼ同じ高さであり、下側の移着ローラ６８が支持されている高さは、下側のクリーニングローラ６１，６２とほぼ同じ高さである。したがって、各クリーニングローラ６１，６２が移動することで各移着ローラ６８は各クリーニングローラ６１，６２に接触し得る。
このような第一の実施形態のロールツーロール両面露光装置の動作について、図３を参照して説明する。図３は、第一の実施形態のロールツーロール両面露光装置の動作を示した正面断面概略図である。
不図示の制御部は、搬送系１に制御信号を送り、シート状基板Ｓを搬送ストロークの距離だけ搬送して停止させる。その後、各光源２及び各光学系３により露光が行われる。即ち、制御部は、各昇降機構５１，５２を動作させ、図３（１）に示すように、各マスク４１，４２をシート状基板Ｓに密着させる。この状態で、制御部は、各光学系３内のシャッタを開き、各光源２からの光Ｌが各光学系３により各マスク４１，４２を通してシート状基板Ｓの両面に照射されるようにして両面を同時に露光する。尚、露光の際、各クリーニングローラ６１，６２は、待機位置に位置している。待機位置は、各マスク４１，４２に対して、Ｘ方向の一方の側（例えば図３に示すように左側）に設定されている。
所定時間の露光が終了すると、制御部は、各昇降機構５１，５２を動作させ、図３（２）に示すように各マスク４１，４２をシート状基板Ｓから離間させる。
次に、制御部は、マスククリーニング機構６により各マスク４１，４２のクリーニング動作を行う。制御部は、まず、直線駆動源６７を動作させ、可動フレーム６４をＸ方向に移動させる。この際の移動距離は、一対のクリーニングローラ６１，６２が各マスク４１，４２の前を通り、クリーニング開始位置に達するのに必要な移動距離である。この実施形態では、クリーニングは、各マスク４１，４２のうち露光すべきパターンが形成された領域（以下、パターン領域といい、図１にＲで示す）に対して行われるので、クリーニング開始位置は、他方の側（各マスク４１，４２から見て待機位置とは反対側）のパターン領域Ｒの端の少し外側を臨む位置である。一対のクリーニングローラ６１，６２は、図３（３）に示すように、このクリーニング開始位置に達すると、停止する。
次に、制御部は、各昇降機構５１，５２に制御信号を送り、各マスク４１，４２が互いに接近する向きに移動させる。この際の移動距離は、上側昇降機構５１については上側マスク４１の下面が上側クリーニングローラ６１に接触する距離であり、下側昇降機構５２については、下側マスク４２の上面が下側クリーニングローラ６２に接触する距離である。
移動によって、図３（４）に示すように、各マスク４１，４２が各クリーニングローラ６１，６２に接触した状態となる。この状態で、制御部は、ローラ移動機構６３の直線駆動源６７に制御信号を送り、可動フレーム６４を逆向きに所定のストロークだけ直線移動させる。所定のストロークとは、各マスク４１，４２におけるパターン領域ＲのＸ方向の長さより少し長い距離に相当するストロークである。この結果、各クリーニングローラ６１，６２は、図３（５）に示すように、各マスク４１，４２のパターン領域Ｒの一方の側の端の少し外側に達する。この直線移動の際、各クリーニングローラ６１，６２は各マスク４１，４２に接触しながら可動フレーム６４と一体に直線移動する。この際、各クリーニングローラ６１，６２と各マスク４１，４２との間の摩擦力により各クリーニングローラ６１，６２は従動回転する。従動回転する各クリーニングローラ６１，６２は、マスク４１，４２に異物が付着している場合、粘着力により自身に付着させ、マスク４１，４２から除去する。
尚、図３（２）に示す状態から図３（５）に示す状態になるまでの間の時間帯において、制御部は搬送系１に制御信号を送り、各クリーニングローラ６１，６２の一体移動と並行して、搬送ストロークでのシート状基板Ｓの搬送を行わせる。この結果、シート状基板Ｓのうち次にパターンの転写を行うべき領域が露光領域に位置した状態となる。尚、逐次搬送に要する時間は、通常、クリーニングに要する時間よりも短く、図３（５）の状態では逐次搬送は終了している。
図３（５）の状態から、制御部は、上側昇降機構５１に制御信号を送って上側マスク４１を上昇させ、下側昇降機構５２に制御信号を送って下側マスク４２を下降させる。この結果、図３（６）に示すように、各マスク４１，４２は当初の待機位置の高さに戻る。
その後、制御部は、可動フレーム６４を固定フレーム６８１の側にさらに直線移動させる。この際の移動距離は、図３（６）に示すように、各クリーニングローラ６１，６２が各移着ローラ６８に接触する状態となる距離である。この状態で、制御部は、各移着ローラ６８の回転駆動源６８３を動作させ、各移着ローラ６８を回転させる。各移着ローラ６８と各クリーニングローラ６１，６２との間には大きな摩擦力が存在しているため、各移着ローラ６８の回転により、各クリーニングローラ６１，６２は従動回転する。この際、移着ローラ６８の表面の粘着層の粘着力は、クリーニングローラ６１，６２のそれより高いため、クリーニングローラ６１，６２に付着していた異物は移着ローラ６８の方に移って付着する。
その後、制御部は、各クリーニングローラ６１，６２が各移着ローラ６８から離れる向きに可動フレーム６４を移動させ、可動フレーム６４を当初の待機位置に戻す。一方、各クリーニングローラ６１，６２による各マスク４１，４２のクリーニングが終了した直後に、制御部は、マスク４１，４２をシート状基板Ｓに密着させ、各光学系３のシャッタに制御信号を送ってシャッタを開き、次の露光動作を行わせる。したがって、各移着ローラ６８による各クリーニングローラ６１，６２からの異物の移着は、次の露光動作の最中に行われる。次の露光動作の終了時までには移着動作は終了しており、可動フレーム６４は当初の位置に戻っている。そして、図３（２）〜図３（６）に示す動作が同様に繰り返される。
このような構成及び動作である実施形態によれば、ロールツーロール方式の両面露光装置において、各マスク４１，４２が洗浄な状態に保たれる実用的な構成が提供される。即ち、間にシート状基板Ｓが存在している状態で各クリーニングローラ６１，６２が各マスク４１，４２に当接して転がり、異物を除去する。特許文献１や特許文献２の構造をそのまま採用すると、シート状基板Ｓが邪魔になるので、いったんシート状基板Ｓを巻き取ってからクリーニングを行わざるを得ない。この構成では、クリーニングの開始までに非常に手間がかかるのに加え、クリーニングの頻度は非常に低いものにならざるを得ない。良質な処理のためにクリーニングの頻度を高くすると、生産性を大きく阻害することになる。一方、実施形態の構成によれば、搬送面上にシート状基板Ｓが位置している状態で各マスク４１，４２がクリーニングされるので、各露光の合間（逐次搬送の際）にクリーニングを行うことができ、上記のような問題はない。
また、一方のマスク４１をクリーニングした後に他方のクリーニング４２をクリーニングする構成であると、クリーニングに要する全体の時間が長くなり、生産性に与える影響は無視できなくなる。しかしながら、実施形態の装置では、一対のクリーニングローラ６１、６２が同時期に移動してクリーニングが行われるので、このような問題はない。
尚、この実施形態では、一対のクリーニングローラ６１，６２を一体に移動させることで同時期のクリーニングを実現しているが、これは必ずしも必須ではない。一対のクリーニングローラ６１，６２が別々に移動するものの、その移動が同時期に行われれば、生産性阻害の問題は回避される。但し、上記説明から解る通り、一体に移動する場合には一つの機構で双方のクリーニングローラ６１，６２を移動させることができるので、機構が簡略化されるメリットがある。
また、上記説明では、シート状基板Ｓに対する毎回の露光の合間にクリーニングが行われるように説明したが、各マスク４１，４２に対する異物の付着状況に応じてクリーニングの頻度は調節される。数回〜数十回の露光のたびに１回のクリーニングが行われることもある。
尚、各マスク４１，４２に対して各クリーニングローラ６１，６２を接触させるのに、マスク移動機構としての昇降機構が兼用されている。この点も、装置を機構的に簡略化するのに貢献している。各クリーニングローラ６１，６２を各マスク４１，４２に接触させるのに、昇降機構とは別の機構を採用することも可能であるが、このようにすると機構が複雑になり、コストも上昇する。実施形態では、このような問題はない。
さらに、この実施形態では、各クリーニングローラ６１，６２に対して移着ローラ６８が設けられており、各クリーニングローラ６１，６２に付着した異物が移着ローラ６８に移着されるので、各クリーニングローラ６１，６２のメンテナンス周期が長くなる。各クリーニングローラ６１，６２は、多くの異物が付着して異物の除去能力が低下した場合、取り外されて水で洗浄して能力が回復される。この実施形態では、各クリーニングローラ６１，６２は定期的に移着ローラ６８に接触して異物の移着が行われる。移着ローラ６８への異物の付着量が多くなった場合、表面の一枚の粘着テープを剥がすだけのメンテナンスで良い。このため、各クリーニングローラ６１，６２の水洗浄の頻度は低く、生産性に与える影響が非常に小さくなっている。
次に、第二の実施形態のロールツーロール両面露光装置について説明する。
図４は、第二の実施形態のロールツーロール両面露光装置の主要部を示した斜視概略図である。この第二の実施形態の装置は、各クリーニングローラ６１，６２の取り付け構造及び各マスク４１，４２に対して接触するための構造が第一の実施形態と異なっている。
具体的に説明すると、第二の実施形態でも、一対のクリーニングローラ６１，６２は、心棒の端部が除塵支柱部６４１によって支持されている。除塵支柱部６４１は、第一の実施形態と異なり、弾性体としてのコイルスプリング７を間に介在させた状態で一対のクリーニングローラ６１，６２を支持している。即ち、一対のクリーニングローラ６１，６２は、コイルスプリング７を介して連結されている。尚、図４において、各移着ローラやそれを支持した固定フレーム等の図示は省略されている。
各除塵支柱部６４１には、上下に一対のブラケット（以下、上側ブラケット、下側ブラケットという）７１，７２が設けられており、一対のブラケット７１、７２をつないだ状態でコイルスプリング７が設けられている。図５に示すように、一対のブラケット７１，７２は除塵支柱部６４１からＸ方向に突出した状態で設けられており、Ｙ方向に延びる心棒を両端を掴んで保持している。
また、各除塵支柱部６４１において、一対のブラケット７１，７２が突出した側の側面はガイドレールとなっている。各ブラケット７１，７２はこのガイドレールに沿って上下方向に滑動可能となっている。尚、各除塵支柱部６４１は、下端部に受け板（符号省略）を有しており、待機状態では、受け板の上に下側ブラケット７２が乗り、それに対してコイルスプリング７により上側ブラケット７１が連結された構造となっている。上側ブラケット７１及び支持した上側クリーニングローラ６１の重量によりコイルスプリング７は少し圧縮された状態ではあるものの、ほぼ自由長の長さとなっている。
尚、各除塵支柱部６４１の上端には、限度以上に下側マスク４２が上昇しないようにするため、ストッパ７５が設けられている。
上記以外の構造については、第二の実施形態の装置は、第一の実施形態と基本的に同様である。一対のクリーニングローラ６１，６２は可動フレーム６４と一体に移動可能であり、また固定フレーム６８１上には、一対の移着ローラ６８が設けられている。
このような第二の実施形態のロールツーロール両面露光装置の動作について、図５を参照して説明する。図５は、第二の実施形態のロールツーロール両面露光装置の動作を示した正面断面概略図である。
第二の実施形態においても、図５（１）に示すように、各マスク４１，４２をシート状基板Ｓに密着させ、各光源２からの光Ｌを各光学系３により各マスク４１，４２を通して照射して両面露光が行われる。この一回の露光の後、図５（２）に示すように、各マスク４１，４２は、シート状基板Ｓから離間した待機位置に戻される。その後、マスククリーニングの準備作業が行われる。
即ち、図５（２）に示すように、ローラ移動機構６３は、可動フレーム６４をＸ方向に移動させて一対のクリーニングローラ６１，６２をマスク４１，４２の反対側に位置させる。この位置は、Ｘ方向で見た場合、各マスク４１，４２においてクリーニングすべき領域の端の位置である。
この状態で、制御部は、下側昇降機構５２に制御信号を送り、下側マスク４２を所定距離上昇させる。この際、まず、図５（３）に示すように、下側マスク４２が下側クリーニングローラ６２に接触する。下側昇降機構５２は、さらに下側マスク４２を上昇させる。この際、下側マスク４２が既に下側クリーニングローラ６２に接触しており、下側クリーニングローラ６２は可動フレーム６４により上側クリーニングローラ６１に連結されているので、下側昇降機構５２は、下側マスク４２に乗った下側クリーニングローラ６２及び上側クリーニングローラ６１を一体に上昇させる状態となる。尚、この際、下側ブラケット７２は、受け板から離れて上昇する。
そして、図５（４）に示すように上側クリーニングローラ６１が上側マスク４１に当接し、その後少し上昇すると、下側昇降機構５２は下側マスク４２の上昇を停止させる。上側マスク４１の位置は上側昇降機構５１によって固定されているので、上側マスク４１に上側クリーニングローラ６１が当接した後の上昇は、コイルスプリング７の弾性に抗したものとなる。つまり、上側マスク４１に上側クリーニングローラ６１を当ててコイルスプリング７を少し圧縮しながら下側昇降機構５２は下側マスク４２を少し上昇させることになる。
図５（４）に示す状態では、コイルスプリング７の弾性によって、下側クリーニングローラ６２は下側マスク４２に押し付けられるとともに、上側クリーニングローラ６１は上側マスク４１に押し付けられた状態となる。この状態で、制御部は、ローラ移動機構６３に制御信号を送り、可動フレーム６４をＸ方向に逆向きに所定距離移動させる。この際の移動距離は、各クリーニングローラ６１，６２が各マスク４１，４２のパターン領域Ｒを過ぎるのに必要な距離である。図５（５）に示すように、この距離を移動が完了すると、制御部はローラ移動機構６３に制御信号を送って移動を停止させる。ここまでの移動の際、各クリーニングローラ６１，６２が各マスク４１，４２上で従動回転し、各マスク４１，４２に付着している異物を除去する。
次に、制御部は、下側昇降機構５２に制御信号を送り、図５（６）に示すように下側マスク４２を当初の高さまで下降させる。この結果、上側クリーニングローラ６１は上側マスク４１から離れ、下側クリーニングローラ６２は、下側マスク４２から離れる。また、下側ブラケット７２は受け板に乗った状態となり、コイルスプリング７はほぼ自由長となる。
その後、制御部は、第一の実施形態と同様、可動フレーム６４をさらにＸ方向に移動させ、図５（６）に示すように各クリーニングローラ６１，６２を各移着ローラ６８に接触させる。そして、各移着ローラ６８の回転駆動源６８３を動作させ、各クリーニングローラ６１，６２上の異物を各移着ローラ６８に移着させる。その後、制御部は、可動フレーム６４を当初の待機位置に戻す。そして、次の回の露光が終了すると、同様のクリーニング動作が繰り返される。尚、上記クリーニング動作は、第一の実施形態と同様、毎回の露光の合間のシート状基板Ｓの搬送と時間的に重なって行われる。
このような構成及び動作に係る第二の実施形態のロールツーロール両面露光装置によれば、クリーニングの際、各マスク４１，４２に対する各クリーニングローラ６１，６２の押し付け圧力がコイルスプリング７により適宜調節される。即ち、上側クリーニングローラ６１が上側マスク４１に当接した後の下側マスク４２の上昇は、コイルスプリング７の弾性に抗した形になるので、この上昇距離を適宜調節することで、コイルスプリング７の弾性力が調節され、各クリーニングローラ６１，６２の各マスク４１，４２への当接圧力が調節される。このため、圧力が不足して異物の除去が十分にできなくなったり、過剰な圧力でマスク４１，４２を傷つけたりすることはない。
第一の実施形態においても、各クリーニングローラ６１，６２を弾性体を介して除塵支柱部６４１に保持させた構造とすることで同様の効果を得ることができる。但し、第一の実施形態と比べると、第二の実施形態は、下側昇降機構５２で下側マスク４２を上昇させるだけで各クリーニングローラ６１，６２が各マスク４１，４２に当接する構造であり、コイルスプリング７は１個のみで足りている。このため、構造的に簡略になっている。
次に、第三の実施形態について説明する。
図８は、第三の実施形態のロールツーロール両面露光装置の主要部の斜視概略図である。第三の実施形態の装置は、マスククリーニング機構６が除電器８１，８２を備えている点で、第一第二の実施形態と異なっている。除電器８１，８２は、クリーニングに先立って各マスク４１，４２の表面の静電気を除去する器具である。この実施形態では、除電器８１，８２はイオナイザーとなっている。イオナイザーは、マスク４１，４２にイオンを照射して電荷を中和させて除電するものである。イオナイザーには、各種の方式のものがあり、適宜選定して使用し得るが、例えばＤＣ又はＡＣ放電により空気をイオン化して放出するタイプのものが採用され得る。
図８に示すように、除電器８１，８２は、全体としては棒状の部材であり、イオンを放出する複数のノズル８３が長さ方向に沿って設けられている。この実施形態では、上側マスク４１用に上側除電器８１が設けられ、下側マスク４２用に下側除電器８２が設けられている。上側除電器８１は各ノズル８３を上側に向けた姿勢で配置され、下側除電器８２は各ノズル８３を下側に向けた姿勢で設けられている。一対の除電器８１，８２は、同様に可動フレーム６４によって支持されており、可動フレーム６４の移動に伴って一体に移動可能となっている。尚、一対の除電器８１，８２は、間に搬送面が位置する高さに設けられている。したがって、装置の動作時には一対の除電器８１，８２の間にシート状基板Ｓが存在する状態となる。
第三の実施形態においても、各回の露光の合間にマスククリーニング機構６が動作する。制御部は、各クリーニングローラ６１，６２が各マスク４１，４２に当接した状態で可動フレーム６４をＸ方向に移動させて各クリーニングローラ６１，６２を従動回転させることでクリーニングを行う。この際、制御部は、各除電器８１，８２を動作させる。図８から解るように、各除電器８１，８２は、移動方向前方に設けられているので、各クリーニングローラ６１，６２よりも先に各除電器８１，８２が各マスク４１，４２の前を通過することになる。即ち、各クリーニングローラ６１，６２によるクリーニングに先立って各除電器８１，８２により各マスク４１，４２の表面が除電される。このため、各クリーニングローラ６１，６２によるクリーニング効果がより高くなる。
より具体的に説明すると、マスク４１，４２は石英ガラスのようなガラス製であり、帯電し得る。したがって、誘電体より成る異物がマスク４１，４２に静電吸着している場合があり、帯電した塵のような異物が吸着している場合もある。このような異物の場合、マスク４１，４２への付着力が強いので、単にクリーニングローラ６１，６２を転がしただけでは除去できない場合があり得る。この実施形態では、予め除電器８１，８２がマスク４１，４２の表面の除電を行うので、異物の静電的な吸着は解除されるか、又は非常に小さい吸着力とされる。このため、クリーニングローラ６１，６２の粘着力によって確実に除去される。
尚、第一の実施形態と同様、第三の実施形態においても、可動フレーム６４は、各クリーニングローラ６１，６２が各マスク４１，４２のパターン領域Ｒの一方の端の少し外側を臨む位置まで移動（往路移動）した後、反転後退（復路移動）する際に各マスク４１，４２に接触してクリーニングを行う。したがって、往路移動の際に各除電器８１，８２を動作させても良く、往路移動と復路移動との双方で動作させても良い。
いずれにしても、第三の実施形態では、除塵器８１，８２の移動にローラ移動機構６３が兼用されているので、この点で機構が簡略化されている。
上述した各実施形態において、各クリーニングローラ６１，６２の粘着層を有する部分の長さ（Ｙ方向の長さ）は各マスク４１，４２のパターン領域ＲのＹ方向の長さに相当しており、パターン領域Ｒについてのみクリーニングが行われたが、各クリーニングローラ６１，６２を長くし、移動距離を長くすることで、パターン領域Ｒより広い領域についてクリーニングを行っても良い。
尚、復路移動のみならず往路移動においても各クリーニングローラ６１，６２を各マスク４１，４２に接触させてクリーニングを行っても良い。但し、クリーニング開始位置まで単に移動する場合に比べると、クリーニングの際には各クリーニングローラ６１，６２は遅い速度で移動することになる。このため、往復の移動でクリーニングを行うと、タクトタイムが長くなる。したがって、生産性を考慮すると、必要がない場合には、往路のみ又は復路のみでのクリーニングとしておくことが好ましい。
また、本願発明において、各マスク４１，４２とシート状基板Ｓの間を真空引きした密着状態で露光を行うコンタクト方式であっても良い。真空引きするコンタクト方式の場合、周囲の異物を引き寄せてしまい易いので、各実施形態のようなマスククリーニング機構６を備えることの意義は大きい。尚、各マスク４１，４２とシート状基板Ｓとの間に所定の小さな隙間を形成しながら露光を行うプロキシミティ方式の露光を行う装置についても、本願発明は同様に実施することができる。
尚、上記各実施形態では、各クリーニングローラ６１，６２は従動回転するものであったが、回転駆動源を備えていて能動回転するものであっても良い。この場合、そのような能動回転の回転駆動によって各マスク４１，４２との摩擦力によって移動していく構成も考えられる。但し、能動回転させる場合には、各マスクに大きな反動や摩擦力が加わり易くなり、各マスクの損傷等が生じ易くなるため、従動回転の方が好ましい。尚、各クリーニングローラ６１，６２が回転駆動源を備えている場合、各移着ローラ６８との接触において、各移着ローラ６８が従動ローラとされることもある。
１ 搬送系
２ 光源
３ 光学系
４１ 上側マスク
４２ 下側マスク
５１ 上側昇降機構
５２ 下側昇降機構
６ マスククリーニング機構
６１ 上側クリーニングローラ
６２ 下側クリーニングローラ
６３ ローラ移動機構
６４ 可動フレーム
７ 弾性体としてのコイルスプリング
８１ 上側除電器
８２ 下側除電器

Claims (10)

  1. ロール状のシート状基板を引き出して当該シート状基板の両側の露光面に所定のパターンの光を照射して露光するロールツーロール両面露光装置であって、
    ロール状のシート状基板を引き出して露光領域を通して搬送する搬送系と、
    露光領域を挟んで配置された一対のマスクと、
    一対のマスクをクリーニングするマスククリーニング機構と
    を備えており、
    マスククリーニング機構は、
    表面に粘着層を有する一対のクリーニングローラと、
    各クリーニングローラを各マスク上で転動させながら移動させることで各マスクから異物を除去するローラ移動機構とを備えており、
    前記ローラ移動機構は、間にシート状基板が存在する状態で各クリーニングローラを各マスクの一方の側から他方の側に同時期に移動させる機構であり、
    各クリーニングローラを移動させる前記ローラ移動機構は、露光領域におけるシート状基板に対して一方のクリーニングローラがクリーニングする一方のマスクと同じ側に配置されており、前記ローラ移動機構において一方のクリーニングローラを保持する部分は、露光領域においてシート状基板の両側の露光面が位置する二つの平面を貫いておらず、他方のクリーニングローラを保持する部分は、露光領域においてシート状基板の両側の露光面が位置する二つの平面を貫いており、
    前記一対のクリーニングローラにそれぞれ接触可能な一対の移着ローラが設けられていて、前記搬送系は一対の移着ローラの間を通してシート状基板を搬送する系であり、
    各移着ローラは、前記各クリーニングローラの粘着層よりも高い粘着力の粘着層を表面に有していることを特徴とするロールツーロール両面露光装置。
  2. 前記ローラ移動機構は、前記各クリーニングローラを一体に移動させる機構であることを特徴とする請求項１記載のロールツーロール両面露光装置。
  3. 前記各クリーニングローラは、前記各マスクに接触した際に弾性を作用させてマスクへの押圧力を高める弾性体を備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載のロールツーロール両面露光装置。
  4. 前記シート状基板に向けて前記各マスクを移動させるととともに前記シート状基板から前記各マスクを遠ざけるよう移動させるマスク移動機構が設けられており、
    前記各クリーニングローラは、前記各マスクよりも前記シート状基板に近い側に位置しており、
    マスク移動機構は、前記各マスクを前記シート状基板に向けて移動させて前記各クリーニングローラに接触させることができる機構であることを特徴とする請求項１又は２記載のロールツーロール両面露光装置。
  5. 前記各クリーニングローラは弾性体を備えており、
    前記マスク移動機構は、前記各マスクを前記各クリーニングローラに接触させた際、弾性体を圧縮して前記各クリーニングローラの前記各マスクへの押圧力を高める位置に前記各マスクを位置させること可能な機構であり、前記各マスクの位置を調節して弾性体の圧縮量を調節することが可能な機構であることを特徴とする請求項４記載のロールツーロール両面露光装置。
  6. 前記シート状基板に向けて前記各マスクを移動させるととともに前記シート状基板から前記各マスクを遠ざけるよう移動させるマスク移動機構が設けられており、
    前記各クリーニングローラは、前記各マスクよりも前記シート状基板に近い側に位置しており、
    前記一対のクリーニングローラは、フレームによって互いに連結されており、
    前記マスク移動機構は、前記一対のマスクの一方を前記シート状基板に近づく向きに移動させて前記一対のクリーニングローラの一方に接触させるとともに、当該一方のマスク及び一方のクリーニングローラを介して他方のクリーニングローラを移動させることで他方のクリーニングローラを他方のマスクに接触させることが可能な機構であることを特徴とする請求項１又は２記載のロールツーロール両面露光装置。
  7. 前記一対のクリーニングローラは、弾性体を介して連結されており、
    前記マスク移動機構は、前記一方のマスク及び前記一方のクリーニングローラを介して前記他方のクリーニングローラを移動させることで他方のクリーニングローラを前記他方
    のマスクに接触させた際、弾性体を圧縮して前記各クリーニングローラの前記各マスクへの押圧力を高める位置に前記一方のマスクを位置させること可能な機構であり、前記一方のマスクの位置を調節して弾性体の圧縮量を調節することが可能な機構であることを特徴とする請求項６記載のロールツーロール両面露光装置。
  8. 前記マスク移動機構は、前記各マスクを前記シート状基板に接触させるか又は所定の間隙を持って対向させる機構であることを特徴とする請求項４乃至７いずれかに記載のロールツーロール両面露光装置。
  9. 前記各クリーニングローラが前記各マスクに接触するのに先立って前記各マスクの表面を除電する除電器が設けられていることを特徴とする請求項１乃至８いずれかに記載のロールツーロール両面露光装置。
  10. 前記除電器は、前記各マスクの表面にイオンを供給して除電するイオナイザーであり、
    イオナイザーは、前記各クリーニングローラに対して、前記ローラ移動機構による移動の向きの前方に配置されており、
    前記ローラ移動機構は、イオナイザーを前記各クリーニングローラと一体に移動させる機構であることを特徴とする請求項９記載のロールツーロール両面露光装置。
JP2016018399A 2016-02-02 2016-02-02 ロールツーロール両面露光装置 Active JP6811015B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016018399A JP6811015B2 (ja) 2016-02-02 2016-02-02 ロールツーロール両面露光装置
TW106101566A TWI672564B (zh) 2016-02-02 2017-01-17 輥對輥雙面曝光裝置
CN201710059526.0A CN107024836B (zh) 2016-02-02 2017-01-24 辊到辊两面曝光装置
KR1020170014435A KR102324021B1 (ko) 2016-02-02 2017-02-01 롤투롤 양면 노광 장치
KR1020200107903A KR102443971B1 (ko) 2016-02-02 2020-08-26 롤투롤 양면 노광 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016018399A JP6811015B2 (ja) 2016-02-02 2016-02-02 ロールツーロール両面露光装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019212334A Division JP6832412B2 (ja) 2019-11-25 2019-11-25 ロールツーロール両面露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017138415A JP2017138415A (ja) 2017-08-10
JP6811015B2 true JP6811015B2 (ja) 2021-01-13

Family

ID=59526105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016018399A Active JP6811015B2 (ja) 2016-02-02 2016-02-02 ロールツーロール両面露光装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6811015B2 (ja)
KR (2) KR102324021B1 (ja)
CN (1) CN107024836B (ja)
TW (1) TWI672564B (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107561873A (zh) * 2017-08-23 2018-01-09 江西凯强实业有限公司 一种提升对位精度效率的油墨曝光工艺
CN107971261B (zh) * 2017-11-23 2021-03-02 Tcl华星光电技术有限公司 清洁装置
JP7196269B2 (ja) * 2017-12-05 2022-12-26 株式会社アドテックエンジニアリング マスクメンテナンスプログラム
KR101891570B1 (ko) * 2018-04-24 2018-08-27 정인택 마스크 제조용 롤 시트 가공장치 및 그를 구비하는 마스크 제조 시스템
JP7175150B2 (ja) * 2018-09-27 2022-11-18 株式会社オーク製作所 露光装置
CN109739071A (zh) * 2019-01-30 2019-05-10 广东华恒智能科技有限公司 一种卷对卷全自动曝光机
JP2021033018A (ja) * 2019-08-22 2021-03-01 大日本印刷株式会社 露光方法及び露光方法を備える蒸着マスク製造方法並びに露光装置
CN110769608A (zh) * 2019-11-11 2020-02-07 江苏上达电子有限公司 一种快速去除cof基板两端残铜的方法和设备
JP7004331B2 (ja) * 2019-12-10 2022-01-21 株式会社レヨーン工業 露光機の除塵装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2852332B2 (ja) * 1994-03-31 1999-02-03 セイコープレシジョン株式会社 露光焼枠用クリーナ
JP3533380B2 (ja) * 2000-09-12 2004-05-31 誠一郎 豊田 露光機の除塵装置及び除塵方法
JP2003149791A (ja) * 2001-11-09 2003-05-21 Orc Mfg Co Ltd 自動露光装置のマスク自動クリーニング装置
JP2003251248A (ja) * 2002-02-28 2003-09-09 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光層の形成方法及びその装置
JP2006102991A (ja) * 2004-09-30 2006-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置及び画像記録方法
JP2007025436A (ja) * 2005-07-20 2007-02-01 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
JP4880521B2 (ja) * 2007-05-29 2012-02-22 株式会社オーク製作所 描画装置
JP2015531890A (ja) * 2012-08-31 2015-11-05 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 粘着性の表面を用いたレチクルクリーニング
JP5893537B2 (ja) * 2012-09-19 2016-03-23 株式会社オーク製作所 露光装置の除塵装置及び除塵方法
JP2015034846A (ja) * 2013-08-07 2015-02-19 株式会社清和光学製作所 縦型フィルム露光装置
JP5631464B1 (ja) * 2013-08-30 2014-11-26 株式会社 ベアック 露光装置
JP6717191B2 (ja) * 2014-04-18 2020-07-01 株式会社ニコン 成膜装置、基板処理装置、および、デバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201740210A (zh) 2017-11-16
KR20200103606A (ko) 2020-09-02
JP2017138415A (ja) 2017-08-10
CN107024836A (zh) 2017-08-08
CN107024836B (zh) 2021-01-12
KR20170092119A (ko) 2017-08-10
KR102443971B1 (ko) 2022-09-16
TWI672564B (zh) 2019-09-21
KR102324021B1 (ko) 2021-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6811015B2 (ja) ロールツーロール両面露光装置
KR102062419B1 (ko) 노광 장치의 제진장치 및 제진방법
TW419716B (en) Processing apparatus
KR20070011052A (ko) 노광장치
JP5631464B1 (ja) 露光装置
JP2010098125A (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
JP6832412B2 (ja) ロールツーロール両面露光装置
JP2007212765A (ja) 近接露光装置の手動式クリーナ及びクリーナ装置
JP2004077592A (ja) ワークの処理方法、ワークの処理装置、及びガラス基板の搬送装置
KR101666802B1 (ko) 롤투롤 코팅 시스템
JPH07271049A (ja) 露光焼枠用クリーナ
CN111842257A (zh) 自动清洁底片装置
JP6215986B2 (ja) 除塵装置を備えた露光装置
TWI553424B (zh) Exposure device
KR101669746B1 (ko) 노광 장치
JP7091544B2 (ja) 露光装置におけるフィルムマスク交換方法
JP7475646B2 (ja) 微細構造転写装置及び微細構造転写方法
JP7343176B2 (ja) 微細構造転写装置
TW201617736A (zh) 曝光裝置
JP2006049440A (ja) Ｘｙステージと半導体装置の製造装置
JP2016018069A (ja) 露光方法および露光装置
KR101687298B1 (ko) 롤투롤 코팅 시스템
JP2016140850A (ja) 異物除去装置及び清掃システム
TWM623801U (zh) 光罩清洗設備
JP2024096849A (ja) 微細構造転写装置及び微細構造転写方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180911

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190619

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190625

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20190724

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190809

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190820

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190903

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191125

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20191125

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20191203

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20191210

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20200124

C211 Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211

Effective date: 20200128

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20200507

C13 Notice of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13

Effective date: 20200804

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201005

C23 Notice of termination of proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23

Effective date: 20201020

C03 Trial/appeal decision taken

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03

Effective date: 20201117

C30A Notification sent

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012

Effective date: 20201117

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201214

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6811015

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250