JP2004079614A - ワークの処理方法及びその処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても効率よく処理することができるワークの処理方法を提供する。
【解決手段】搬送装置3によって搬送される複数の矩形平板状のワーク2に対して所定の処理を行うための処理方法において、搬送装置3の搬送経路外に処理を行う作業装置4を複数配置する。搬送装置3から複数のワーク2を順次取り出して作業待ちの状態にある作業装置4に受け渡す。作業が完了した作業装置4から搬送装置3へワーク2を戻す。
【選択図】 図1
【解決手段】搬送装置3によって搬送される複数の矩形平板状のワーク2に対して所定の処理を行うための処理方法において、搬送装置3の搬送経路外に処理を行う作業装置4を複数配置する。搬送装置3から複数のワーク2を順次取り出して作業待ちの状態にある作業装置4に受け渡す。作業が完了した作業装置4から搬送装置3へワーク2を戻す。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルタの基板の端部の洗浄等を行うワークの処理方法及び処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ等の表示装置に使用されるカラーフィルタのガラス製基板にフォトリソグラフィプロセスを利用してパターンを形成する場合、基板側へのパターンの転写に先立って基板上にはレジスト膜が形成される。レジスト膜は本来均一な厚さに形成されるべきであるが、レジスト剤の塗布方法による制約から、基板上の特定部分の膜厚が他の部分に比べて厚くなることがある。例えば、基板を回転させてレジスト剤を塗布するスピンコート法を利用した場合には、回転に伴う遠心力の影響で基板の周辺部の膜厚が増加する。ダイコータを利用して塗布した場合には塗布開始位置と終了位置においてレジスト剤が多めに供給されてそれらの部分の膜厚が増加する。ところが、露光後の現像工程では正常な膜厚を基準として処理時間等が定められているので、上記のように膜厚が大きい特定部分ではレジスト膜が除去し切れない。しかし、残留した一部のレジスト膜を放置すると、その後に形成されるレジスト膜の均一性に影響が生じたり、残留したレジスト膜がその後の工程で剥離し、これが異物となって欠陥が引き起こされる。
【0003】
そこで、パターンの現像に先立って膜厚の大きい特定部分に予め現像液を塗布してその部分のレジスト膜に現像液を十分に膨潤させ、その後のパターンの現像により、特定部分のレジスト膜も確実に除去するようにした基板の洗浄方法及びそのための洗浄装置が提案されている。例えば、特開平7−27917号公報に記載された洗浄装置では、基板をその一辺と平行な方向に搬送するラインの途中で基板を一時的に停止させ、その停止した基板の搬送方向と直交する二辺に現像液塗布ローラを接触させ、このローラを搬送方向と直交する方向に移動させて上記二辺に現像液を塗布している。その後、基板を停止位置から下流側へ搬送し、その搬送途中で基板の搬送方向と平行な二辺に別の現像液塗布ローラを接触させて残りの二辺にも現像液を塗布している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上述した公報記載の洗浄装置では、搬送方向と直交する方向の基板の辺に現像液を塗布する際、搬送ラインのローラでは基板を定位置に保持することができないため、基板をステージで持ち上げて支持している。しかしながら、搬送ラインのローラとの干渉を避ける必要からステージによる基板の支持位置は制限される。このため、基板のサイズによっては適切な位置で基板を支持することができず、何らかの不都合が生じることがある。例えば基板の端部を支持できない場合には、現像液塗布ローラの押し付け力によってガラス製の基板が破損するおそれがある。
【0005】
カラーフィルタが組み込まれる表示装置の大型化により、カラーフィルタのガラス基板も一辺が1mを大きく超えるほど大型化し、その反面、軽量化の要請から基板の厚さは減少している。ライン上でガラス基板が破損すればその破片が広範囲に散乱し、後始末に極めて多大な手間がかかる。従って、基板の支持には細心の注意が必要とされ、基板に歪みを生じさせる所作は極力排除されねばならない。
【0006】
また、上記公報記載の装置では、少なくとも二辺に現像液を塗布する間は搬送ラインを停止させる必要がある。このような生産ライン上における基板の停止は生産効率を低下させる大きな要因となる。基板を停止させた状態で塗布後のローラを元の位置に復帰させ、それが終わるのを待って基板の移動を再開させる場合には、ラインの停止に伴う効率の低下はさらに深刻である。
【0007】
そこで、本発明は、搬送装置の定位置でワークを支持しつつ処理を行う必要をなくして大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても効率よく処理することができるワークの処理方法及び装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【0009】
本発明のワークの処理方法は、搬送装置(3)によって搬送される複数の矩形平板状のワーク(2)に対して所定の処理を行うための処理方法であって、前記搬送装置の搬送経路外に前記処理を行う作業装置(4)を複数配置し、前記搬送装置から前記複数のワークを順次取り出して作業待ちの状態にある作業装置に受け渡し、前記作業が完了した作業装置から前記搬送装置へ前記ワークを戻すことを特徴とする。
【0010】
この発明によれば、搬送装置の搬送経路外にワークを取り出して作業装置による処理を行うようにしたので、処理中のワークの支持に関して搬送装置の制約を受けない。従って、各種のサイズのワークをそれぞれ適切な条件で支持して処理を行うことができ、支持位置の不良からワークに好ましくない歪みが生じるおそれを排除することができる。搬送装置外に設けた複数の作業装置のいずれかで処理を行うので、ワークを処理する毎にその処理が終わるまで搬送装置を停止させる必要がなく、生産効率が向上する。複数の作業装置が用意されているので、一部の作業装置が故障や保守により使用不能となったときでも他の作業装置を利用して処理を継続させることができ、作業装置が復旧するまで搬送装置を停止させる必要がない。
【0011】
本発明の処理方法において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であってもよい。この場合、前記作業装置により前記ワークの周辺部(2a)に前記レジスト膜の現像液を塗布してもよい。レジスト膜がポジ型であるときは、前記作業装置により、前記ワークの周辺部に前記レジスト膜に対する露光を行ってもよい。これらの態様によれば、ワークの周辺部に対する露光や現像液の塗布を効率よく行うことができ、かつその処理時、支持位置の不良からワークが破損するおそれもない。
【0012】
本発明のワークの処理装置(1)は、矩形平板状のワーク(2)の搬送装置(3)と、前記搬送装置の搬送経路外に並べて配置され、前記基板に対してそれぞれ同一の処理を行う複数の作業装置(4)と、前記搬送装置の各作業装置との間で基板を移送する移送装置(5)とを備えたことを特徴とする。
【0013】
この処理装置によれば、搬送装置にて搬送されるワークを移送装置によって作業待ち状態の作業装置に移送し、作業が終了した作業装置から搬送装置へワークを戻すことにより本発明の処理方法を実現することができる。
【0014】
なお、本発明の処理装置において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であってもよく、前記作業装置として、前記ワークの周辺部に前記レジスト膜の現像液を塗布する現像液塗布装置が配置されてもよい。レジスト膜がポジ型の場合には、前記作業装置として、基板の周辺部に前記レジスト膜に対する露光を行う露光装置が配置されてもよい。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の一実施形態に係るワークの処理装置の一例を示している。この処理装置1は、液晶ディスプレイ表示装置に組み込まれるガラス製のカラーフィルタ用の基板(ワーク)2の周辺部の露光及び洗浄を行うためのものであって、搬送装置3と、作業装置4…4と、移送装置5と、各装置の動作を制御する制御装置6とを備えている。搬送装置3は基板2を直線的に搬送するものであり、例えば搬送ローラ10によって基板2を下から支えつつ搬送するローラコンベアが搬送装置3として使用される。
【0016】
搬送装置3の特定位置Pには基板2を昇降させる昇降装置7が取り付けられる。図2に示すように、昇降装置7は搬送ローラ10…10の隙間から複数のピン11…11を出没させて基板2を昇降させる。図1には示していないが、昇降装置7よりも搬送方向の上流側(図1の上側)には、基板2にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置、及びそのレジスト膜に所定のパターンを転写するパターン露光装置が設置され、昇降装置7にはパターンが露光された後の基板2が導かれる。
【0017】
作業装置4はすべて同一の構成を有している。一例として、作業装置4は基板2の周辺部2aに対してレジスト膜の露光を行う処理と、周辺部2aに対して現像液を塗布する処理とを行う構成を備えている。周辺部2aへの露光は、例えば図3(a)に示すように基板2を上下方向に挟み込むように配置された一対の照射部12,12を周辺部2aに沿って基板2の回りに一周させ、その間に照射部12から紫外線を照射することにより行われる。また、周辺部2aに対する現像液の塗布は、図3(b)に示すように、レジスト膜に対する現像液が含まれた一対の現像液塗布ローラ13,13によって基板2の周辺部2aを上下方向に挟み込み、それらのローラ13を周辺部2aに沿って基板2の回りに一周させることにより行われる。
【0018】
なお、周辺部2aの露光は、基板2上のレジスト膜がポジ型レジストによって構成されているときに必要とされるものである。ポジ型レジストが使用された場合には露光部分が後の現像処理で除去されるので、基板2の周辺部2aに対しては、特にパターンが形成されない限りは十分な露光を行う必要がある。しかし、基板2の大型化等の理由から、現実には基板2の周辺部に十分な露光を行うことができない露光機が少なからず存在している。こうした露光機が使用される場合には、露光機によるパターン転写とは別に基板2の端部に紫外線を照射する必要がある。従って、ネガ型レジストが使用される場合には作業装置4において露光に必要な構成を省略してよい。
【0019】
また、図3の例では照射部12及び現像液塗布ローラ13をいずれも基板2の上下に配置したが、基板2の下面にレジスト膜が回り込むおそれがないときは下面側の照射部12及び現像液塗布ローラ13は省略可能である。但し、現像液塗布ローラ13を基板2の上面側のみに設ける場合には、現像液塗布ローラ13の接触位置にて基板2を下面側から支持することが望ましい。例えば、図3(b)において、基板2の下面側に配置される現像液塗布ローラ13に代え、基板2を支持するローラ等の支持部材を配置すればよい。
【0020】
図3の例では基板2の各辺を順に処理したが、複数の照射部12や現像液塗布ローラ13にて二辺又はそれ以上の辺を併行に処理してもよい。照射部12や現像液塗布ローラ13を定位置に設置し、基板2を移動させて周辺部2aの露光や現像液の塗布を行ってもよい。さらに、作業装置4にて行われる処理は上記に限らず種々の処理を作業装置4で行ってよい。
【0021】
図1に示すように、移送装置5は、一対の互いに平行なアーム15,15を備えたロボットハンドとして構成されている。アーム15の長手方向への進退動作と、ベース部16に対するアーム15の上下方向への運動と、ベース部16を中心としたアーム15の水平方向への旋回運動とを適宜に組み合わせることにより、移送装置5は基板2を特定位置Pと各作業装置4との間で移送可能である。
【0022】
次に、処理装置1の全体の動作を説明する。
【0023】
レジスト膜に対するパターン露光が終了した基板2は搬送装置3により特定位置Pまで搬送される。このときピン11は図2(a)に示すように搬送ローラ10よりも下方に待機する。特定位置Pへの基板2の搬入がセンサ18(図1)にて検出されると制御装置6は昇降装置7に対してピン11の上昇を指示し、それによりピン11が図2(b)に示すように上昇して基板2が搬送ローラ10から持ち上げられる。この後、制御装置10が移送装置5に対して基板2の搬出を指示する。これを受けて移送装置5は、図2(c)に示すように、ピン11によって持ち上げられた基板2の下面側にアーム15,15を挿入し、その後にアーム15を上昇させてピン11から基板2を受け取る。そして、受け取った基板2を作業待ち状態のいずれかの作業装置4へ受け渡す。
【0024】
制御装置6は各作業装置4の作業状況を監視しており、いずれかの作業装置4にて基板2に対する作業が終了していると、制御装置6はその作業終了の作業装置4を移送装置5に指示する。これを受けて移送装置5は指示された作業装置4から基板2を受け取り、その基板2を搬送装置3のピン11の上方まで移動させる。その後、移送装置5はアーム15を下降させてピン11に基板2を受け渡し、その後にアーム15を基板2の下方から引き抜いて基板2の搬入完了を制御装置6に通知する。その後、制御装置6は昇降装置7に対してピン11の下降を指示し、これを受けて昇降装置7は図2(d)に示すようにピン11を下降させる。これにより、周辺部2aの露光及び現像液の塗布が完了した基板2が搬送装置3に戻される。その基板2は搬送装置3により下流側(図1の下側)に配置されたパターンの現像機まで搬送される。一方、特定位置Pの下流側への基板2の搬送に伴って特定位置Pには次の基板2が搬送される。以下、同様にして特定位置Pに基板2が搬送される毎に、その基板2が作業待ち状態の作業装置4へ移送される。そして、作業装置4によって処理された基板2は、作業装置4側に新たに移送される基板2と交替するようにして搬送装置3に戻される。このような処理の繰り返しによって搬送装置3を流れる基板2は逐次作業装置4で処理されてパターンの現像機へ送られる。
【0025】
以上の説明から明らかなように、本実施形態の処理装置1によれば、搬送装置3から基板2を一旦取り出して作業装置4にて周辺部2aの露光や現像液の塗布を行っているので、これらの処理を行う際の基板2の支持条件に関して搬送装置3の制約を受けることがない。従って、各種のサイズの基板2をそれぞれに適した条件で適切に支持して各種の処理を行うことができ、支持位置の不良から基板2に好ましくない歪みが生じるおそれを排除することができる。搬送装置3外に設けた複数の作業装置4のいずれかで処理を行うので、基板2を処理する毎にその処理が終わるまで搬送装置3を停止させる必要がなく、作業効率が向上する。
【0026】
搬送装置3と移送装置5との間で基板2を受け渡す間に搬送装置3を停止させる必要があったとしても、それに必要な時間は各基板2に露光と現像液の塗布とを行う作業時間と比較して遙かに短く、搬送装置3の停止時間が短縮されて生産効率は大幅に改善される。作業装置4における処理時間が長くても、作業装置4の個数を十分に用意しておけば、一つの基板2が搬送装置3から作業装置4に移送される際に少なくともいずれか一つの作業装置4では作業が終了している関係を成立させることができ、そのような関係を維持している限りは搬送装置3では処理前の基板2の取り出しと処理済の基板2の復帰とが絶えず繰り返されるようになり、搬送装置3の停止による損失は最小限で済む。さらに、複数の作業装置4が用意されているので、一部の作業装置4が故障や保守により使用不能となったときでも他の作業装置4を利用して処理そのものは継続させることができ、作業装置4が復旧するまで搬送装置3を停止させる必要もない。
【0027】
本発明は上記の実施形態に限定されることなく、種々の形態にて実施してよい。例えば、ワークはガラス製基板に限らず、薄くてその歪みの発生を避ける必要があるものならば本発明により好適に処理することができる。ワークに対する処理はレジスト膜に対する露光や現像液の塗布に限らず、各種の処理を本発明の作業装置にて実施してよい。処理位置はワークの周辺部に限らない。作業装置は全て同一の構成である必要はない。少なくとも一種類の処理に関してこれを実行可能な作業装置が複数存在していれば本発明の範囲に含まれる。
【0028】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、搬送装置の搬送経路外にワークを取り出して作業装置による処理を行うようにしたので、処理中のワークの支持に関して搬送装置の制約を受けない。従って、各種のサイズのワークをそれぞれ適切な条件で支持して処理を行うことができ、支持位置の不良からワークに好ましくない歪みが生じるおそれを排除することができる。搬送装置外に設けた複数の作業装置のいずれかで処理を行うので、ワークを処理する毎にその処理が終わるまで搬送装置を停止させる必要がなく、生産効率が向上する。従って、大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても効率よく処理することが可能である。
【0029】
複数の作業装置が用意されているので、一部の作業装置が故障や保守により使用不能となったときでも他の作業装置を利用して処理を継続させることができ、作業装置が復旧するまで搬送装置を停止させる必要がないという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る基板の処理装置を示す平面図。
【図2】搬送装置に対して基板を昇降させる部分の斜視図。
【図3】作業装置による処理の概要を示す図。
【符号の説明】
1 処理装置
2 基板(ワーク)
2a 周辺部
3 搬送装置
4 作業装置
5 移送装置
6 制御装置
10 搬送ローラ
11 ピン
12 照射部
13 現像液塗布ローラ
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルタの基板の端部の洗浄等を行うワークの処理方法及び処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ等の表示装置に使用されるカラーフィルタのガラス製基板にフォトリソグラフィプロセスを利用してパターンを形成する場合、基板側へのパターンの転写に先立って基板上にはレジスト膜が形成される。レジスト膜は本来均一な厚さに形成されるべきであるが、レジスト剤の塗布方法による制約から、基板上の特定部分の膜厚が他の部分に比べて厚くなることがある。例えば、基板を回転させてレジスト剤を塗布するスピンコート法を利用した場合には、回転に伴う遠心力の影響で基板の周辺部の膜厚が増加する。ダイコータを利用して塗布した場合には塗布開始位置と終了位置においてレジスト剤が多めに供給されてそれらの部分の膜厚が増加する。ところが、露光後の現像工程では正常な膜厚を基準として処理時間等が定められているので、上記のように膜厚が大きい特定部分ではレジスト膜が除去し切れない。しかし、残留した一部のレジスト膜を放置すると、その後に形成されるレジスト膜の均一性に影響が生じたり、残留したレジスト膜がその後の工程で剥離し、これが異物となって欠陥が引き起こされる。
【0003】
そこで、パターンの現像に先立って膜厚の大きい特定部分に予め現像液を塗布してその部分のレジスト膜に現像液を十分に膨潤させ、その後のパターンの現像により、特定部分のレジスト膜も確実に除去するようにした基板の洗浄方法及びそのための洗浄装置が提案されている。例えば、特開平7−27917号公報に記載された洗浄装置では、基板をその一辺と平行な方向に搬送するラインの途中で基板を一時的に停止させ、その停止した基板の搬送方向と直交する二辺に現像液塗布ローラを接触させ、このローラを搬送方向と直交する方向に移動させて上記二辺に現像液を塗布している。その後、基板を停止位置から下流側へ搬送し、その搬送途中で基板の搬送方向と平行な二辺に別の現像液塗布ローラを接触させて残りの二辺にも現像液を塗布している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上述した公報記載の洗浄装置では、搬送方向と直交する方向の基板の辺に現像液を塗布する際、搬送ラインのローラでは基板を定位置に保持することができないため、基板をステージで持ち上げて支持している。しかしながら、搬送ラインのローラとの干渉を避ける必要からステージによる基板の支持位置は制限される。このため、基板のサイズによっては適切な位置で基板を支持することができず、何らかの不都合が生じることがある。例えば基板の端部を支持できない場合には、現像液塗布ローラの押し付け力によってガラス製の基板が破損するおそれがある。
【0005】
カラーフィルタが組み込まれる表示装置の大型化により、カラーフィルタのガラス基板も一辺が1mを大きく超えるほど大型化し、その反面、軽量化の要請から基板の厚さは減少している。ライン上でガラス基板が破損すればその破片が広範囲に散乱し、後始末に極めて多大な手間がかかる。従って、基板の支持には細心の注意が必要とされ、基板に歪みを生じさせる所作は極力排除されねばならない。
【0006】
また、上記公報記載の装置では、少なくとも二辺に現像液を塗布する間は搬送ラインを停止させる必要がある。このような生産ライン上における基板の停止は生産効率を低下させる大きな要因となる。基板を停止させた状態で塗布後のローラを元の位置に復帰させ、それが終わるのを待って基板の移動を再開させる場合には、ラインの停止に伴う効率の低下はさらに深刻である。
【0007】
そこで、本発明は、搬送装置の定位置でワークを支持しつつ処理を行う必要をなくして大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても効率よく処理することができるワークの処理方法及び装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【0009】
本発明のワークの処理方法は、搬送装置(3)によって搬送される複数の矩形平板状のワーク(2)に対して所定の処理を行うための処理方法であって、前記搬送装置の搬送経路外に前記処理を行う作業装置(4)を複数配置し、前記搬送装置から前記複数のワークを順次取り出して作業待ちの状態にある作業装置に受け渡し、前記作業が完了した作業装置から前記搬送装置へ前記ワークを戻すことを特徴とする。
【0010】
この発明によれば、搬送装置の搬送経路外にワークを取り出して作業装置による処理を行うようにしたので、処理中のワークの支持に関して搬送装置の制約を受けない。従って、各種のサイズのワークをそれぞれ適切な条件で支持して処理を行うことができ、支持位置の不良からワークに好ましくない歪みが生じるおそれを排除することができる。搬送装置外に設けた複数の作業装置のいずれかで処理を行うので、ワークを処理する毎にその処理が終わるまで搬送装置を停止させる必要がなく、生産効率が向上する。複数の作業装置が用意されているので、一部の作業装置が故障や保守により使用不能となったときでも他の作業装置を利用して処理を継続させることができ、作業装置が復旧するまで搬送装置を停止させる必要がない。
【0011】
本発明の処理方法において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であってもよい。この場合、前記作業装置により前記ワークの周辺部(2a)に前記レジスト膜の現像液を塗布してもよい。レジスト膜がポジ型であるときは、前記作業装置により、前記ワークの周辺部に前記レジスト膜に対する露光を行ってもよい。これらの態様によれば、ワークの周辺部に対する露光や現像液の塗布を効率よく行うことができ、かつその処理時、支持位置の不良からワークが破損するおそれもない。
【0012】
本発明のワークの処理装置(1)は、矩形平板状のワーク(2)の搬送装置(3)と、前記搬送装置の搬送経路外に並べて配置され、前記基板に対してそれぞれ同一の処理を行う複数の作業装置(4)と、前記搬送装置の各作業装置との間で基板を移送する移送装置(5)とを備えたことを特徴とする。
【0013】
この処理装置によれば、搬送装置にて搬送されるワークを移送装置によって作業待ち状態の作業装置に移送し、作業が終了した作業装置から搬送装置へワークを戻すことにより本発明の処理方法を実現することができる。
【0014】
なお、本発明の処理装置において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であってもよく、前記作業装置として、前記ワークの周辺部に前記レジスト膜の現像液を塗布する現像液塗布装置が配置されてもよい。レジスト膜がポジ型の場合には、前記作業装置として、基板の周辺部に前記レジスト膜に対する露光を行う露光装置が配置されてもよい。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の一実施形態に係るワークの処理装置の一例を示している。この処理装置1は、液晶ディスプレイ表示装置に組み込まれるガラス製のカラーフィルタ用の基板(ワーク)2の周辺部の露光及び洗浄を行うためのものであって、搬送装置3と、作業装置4…4と、移送装置5と、各装置の動作を制御する制御装置6とを備えている。搬送装置3は基板2を直線的に搬送するものであり、例えば搬送ローラ10によって基板2を下から支えつつ搬送するローラコンベアが搬送装置3として使用される。
【0016】
搬送装置3の特定位置Pには基板2を昇降させる昇降装置7が取り付けられる。図2に示すように、昇降装置7は搬送ローラ10…10の隙間から複数のピン11…11を出没させて基板2を昇降させる。図1には示していないが、昇降装置7よりも搬送方向の上流側(図1の上側)には、基板2にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置、及びそのレジスト膜に所定のパターンを転写するパターン露光装置が設置され、昇降装置7にはパターンが露光された後の基板2が導かれる。
【0017】
作業装置4はすべて同一の構成を有している。一例として、作業装置4は基板2の周辺部2aに対してレジスト膜の露光を行う処理と、周辺部2aに対して現像液を塗布する処理とを行う構成を備えている。周辺部2aへの露光は、例えば図3(a)に示すように基板2を上下方向に挟み込むように配置された一対の照射部12,12を周辺部2aに沿って基板2の回りに一周させ、その間に照射部12から紫外線を照射することにより行われる。また、周辺部2aに対する現像液の塗布は、図3(b)に示すように、レジスト膜に対する現像液が含まれた一対の現像液塗布ローラ13,13によって基板2の周辺部2aを上下方向に挟み込み、それらのローラ13を周辺部2aに沿って基板2の回りに一周させることにより行われる。
【0018】
なお、周辺部2aの露光は、基板2上のレジスト膜がポジ型レジストによって構成されているときに必要とされるものである。ポジ型レジストが使用された場合には露光部分が後の現像処理で除去されるので、基板2の周辺部2aに対しては、特にパターンが形成されない限りは十分な露光を行う必要がある。しかし、基板2の大型化等の理由から、現実には基板2の周辺部に十分な露光を行うことができない露光機が少なからず存在している。こうした露光機が使用される場合には、露光機によるパターン転写とは別に基板2の端部に紫外線を照射する必要がある。従って、ネガ型レジストが使用される場合には作業装置4において露光に必要な構成を省略してよい。
【0019】
また、図3の例では照射部12及び現像液塗布ローラ13をいずれも基板2の上下に配置したが、基板2の下面にレジスト膜が回り込むおそれがないときは下面側の照射部12及び現像液塗布ローラ13は省略可能である。但し、現像液塗布ローラ13を基板2の上面側のみに設ける場合には、現像液塗布ローラ13の接触位置にて基板2を下面側から支持することが望ましい。例えば、図3(b)において、基板2の下面側に配置される現像液塗布ローラ13に代え、基板2を支持するローラ等の支持部材を配置すればよい。
【0020】
図3の例では基板2の各辺を順に処理したが、複数の照射部12や現像液塗布ローラ13にて二辺又はそれ以上の辺を併行に処理してもよい。照射部12や現像液塗布ローラ13を定位置に設置し、基板2を移動させて周辺部2aの露光や現像液の塗布を行ってもよい。さらに、作業装置4にて行われる処理は上記に限らず種々の処理を作業装置4で行ってよい。
【0021】
図1に示すように、移送装置5は、一対の互いに平行なアーム15,15を備えたロボットハンドとして構成されている。アーム15の長手方向への進退動作と、ベース部16に対するアーム15の上下方向への運動と、ベース部16を中心としたアーム15の水平方向への旋回運動とを適宜に組み合わせることにより、移送装置5は基板2を特定位置Pと各作業装置4との間で移送可能である。
【0022】
次に、処理装置1の全体の動作を説明する。
【0023】
レジスト膜に対するパターン露光が終了した基板2は搬送装置3により特定位置Pまで搬送される。このときピン11は図2(a)に示すように搬送ローラ10よりも下方に待機する。特定位置Pへの基板2の搬入がセンサ18(図1)にて検出されると制御装置6は昇降装置7に対してピン11の上昇を指示し、それによりピン11が図2(b)に示すように上昇して基板2が搬送ローラ10から持ち上げられる。この後、制御装置10が移送装置5に対して基板2の搬出を指示する。これを受けて移送装置5は、図2(c)に示すように、ピン11によって持ち上げられた基板2の下面側にアーム15,15を挿入し、その後にアーム15を上昇させてピン11から基板2を受け取る。そして、受け取った基板2を作業待ち状態のいずれかの作業装置4へ受け渡す。
【0024】
制御装置6は各作業装置4の作業状況を監視しており、いずれかの作業装置4にて基板2に対する作業が終了していると、制御装置6はその作業終了の作業装置4を移送装置5に指示する。これを受けて移送装置5は指示された作業装置4から基板2を受け取り、その基板2を搬送装置3のピン11の上方まで移動させる。その後、移送装置5はアーム15を下降させてピン11に基板2を受け渡し、その後にアーム15を基板2の下方から引き抜いて基板2の搬入完了を制御装置6に通知する。その後、制御装置6は昇降装置7に対してピン11の下降を指示し、これを受けて昇降装置7は図2(d)に示すようにピン11を下降させる。これにより、周辺部2aの露光及び現像液の塗布が完了した基板2が搬送装置3に戻される。その基板2は搬送装置3により下流側(図1の下側)に配置されたパターンの現像機まで搬送される。一方、特定位置Pの下流側への基板2の搬送に伴って特定位置Pには次の基板2が搬送される。以下、同様にして特定位置Pに基板2が搬送される毎に、その基板2が作業待ち状態の作業装置4へ移送される。そして、作業装置4によって処理された基板2は、作業装置4側に新たに移送される基板2と交替するようにして搬送装置3に戻される。このような処理の繰り返しによって搬送装置3を流れる基板2は逐次作業装置4で処理されてパターンの現像機へ送られる。
【0025】
以上の説明から明らかなように、本実施形態の処理装置1によれば、搬送装置3から基板2を一旦取り出して作業装置4にて周辺部2aの露光や現像液の塗布を行っているので、これらの処理を行う際の基板2の支持条件に関して搬送装置3の制約を受けることがない。従って、各種のサイズの基板2をそれぞれに適した条件で適切に支持して各種の処理を行うことができ、支持位置の不良から基板2に好ましくない歪みが生じるおそれを排除することができる。搬送装置3外に設けた複数の作業装置4のいずれかで処理を行うので、基板2を処理する毎にその処理が終わるまで搬送装置3を停止させる必要がなく、作業効率が向上する。
【0026】
搬送装置3と移送装置5との間で基板2を受け渡す間に搬送装置3を停止させる必要があったとしても、それに必要な時間は各基板2に露光と現像液の塗布とを行う作業時間と比較して遙かに短く、搬送装置3の停止時間が短縮されて生産効率は大幅に改善される。作業装置4における処理時間が長くても、作業装置4の個数を十分に用意しておけば、一つの基板2が搬送装置3から作業装置4に移送される際に少なくともいずれか一つの作業装置4では作業が終了している関係を成立させることができ、そのような関係を維持している限りは搬送装置3では処理前の基板2の取り出しと処理済の基板2の復帰とが絶えず繰り返されるようになり、搬送装置3の停止による損失は最小限で済む。さらに、複数の作業装置4が用意されているので、一部の作業装置4が故障や保守により使用不能となったときでも他の作業装置4を利用して処理そのものは継続させることができ、作業装置4が復旧するまで搬送装置3を停止させる必要もない。
【0027】
本発明は上記の実施形態に限定されることなく、種々の形態にて実施してよい。例えば、ワークはガラス製基板に限らず、薄くてその歪みの発生を避ける必要があるものならば本発明により好適に処理することができる。ワークに対する処理はレジスト膜に対する露光や現像液の塗布に限らず、各種の処理を本発明の作業装置にて実施してよい。処理位置はワークの周辺部に限らない。作業装置は全て同一の構成である必要はない。少なくとも一種類の処理に関してこれを実行可能な作業装置が複数存在していれば本発明の範囲に含まれる。
【0028】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、搬送装置の搬送経路外にワークを取り出して作業装置による処理を行うようにしたので、処理中のワークの支持に関して搬送装置の制約を受けない。従って、各種のサイズのワークをそれぞれ適切な条件で支持して処理を行うことができ、支持位置の不良からワークに好ましくない歪みが生じるおそれを排除することができる。搬送装置外に設けた複数の作業装置のいずれかで処理を行うので、ワークを処理する毎にその処理が終わるまで搬送装置を停止させる必要がなく、生産効率が向上する。従って、大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても効率よく処理することが可能である。
【0029】
複数の作業装置が用意されているので、一部の作業装置が故障や保守により使用不能となったときでも他の作業装置を利用して処理を継続させることができ、作業装置が復旧するまで搬送装置を停止させる必要がないという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る基板の処理装置を示す平面図。
【図2】搬送装置に対して基板を昇降させる部分の斜視図。
【図3】作業装置による処理の概要を示す図。
【符号の説明】
1 処理装置
2 基板(ワーク)
2a 周辺部
3 搬送装置
4 作業装置
5 移送装置
6 制御装置
10 搬送ローラ
11 ピン
12 照射部
13 現像液塗布ローラ
Claims (6)
- 搬送装置によって搬送される複数の矩形平板状のワークに対して所定の処理を行うための処理方法であって、
前記搬送装置の搬送経路外に前記処理を行う作業装置を複数配置し、
前記搬送装置から前記複数のワークを順次取り出して作業待ちの状態にある作業装置に受け渡し、前記作業が完了した作業装置から前記搬送装置へ前記ワークを戻すことを特徴とするワークの処理方法。 - 前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記作業装置により前記ワークの周辺部に前記レジスト膜の現像液を塗布することを特徴とする請求項1に記載の基板の処理方法。
- 前記ワークはポジ型のレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記作業装置により、前記ワークの周辺部に前記レジスト膜に対する露光を行うことを特徴とする請求項1に記載のワークの処理方法。
- 矩形平板状のワークの搬送装置と、
前記搬送装置の搬送経路外に並べて配置され、前記基板に対してそれぞれ同一の処理を行う複数の作業装置と、
前記搬送装置の各作業装置との間で基板を移送する移送装置と、
を備えたことを特徴とするワークの処理装置。 - 前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記作業装置として、前記ワークの周辺部に前記レジスト膜の現像液を塗布する現像液塗布装置が配置されていることを特徴とする請求項4に記載の基板の処理装置。
- 前記ワークはポジ型のレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記作業装置として、基板の周辺部に前記レジスト膜に対する露光を行う露光装置が配置されていることを特徴とする請求項4に記載のワークの処理装置。
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Cited By (7)
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---|---|---|---|---|
JP2006194754A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | 基板検査装置及び基板検査方法 |
JP2006310471A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置システム |
CN100376936C (zh) * | 2004-05-28 | 2008-03-26 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 液晶显示器生产***及其控制方法 |
KR100965511B1 (ko) * | 2005-08-01 | 2010-06-24 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 기판 이송 시스템 |
KR100965413B1 (ko) * | 2008-04-18 | 2010-06-25 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 기판 처리용 클러스터 장치 및 클러스터 장치의 기판 처리방법 |
JP2010249936A (ja) * | 2009-04-13 | 2010-11-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 実装処理作業装置及び実装処理作業方法 |
KR101172764B1 (ko) | 2009-10-08 | 2012-08-09 | 로체 시스템즈(주) | 기판 처리장치 및 이를 운용하는 기판 이송방법 |
-
2002
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100376936C (zh) * | 2004-05-28 | 2008-03-26 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 液晶显示器生产***及其控制方法 |
JP2006194754A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | 基板検査装置及び基板検査方法 |
JP4626975B2 (ja) * | 2005-01-14 | 2011-02-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板検査装置及び基板検査方法 |
JP2006310471A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置システム |
KR100796052B1 (ko) * | 2005-04-27 | 2008-01-21 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 처리장치 시스템 |
CN100437963C (zh) * | 2005-04-27 | 2008-11-26 | 东京毅力科创株式会社 | 处理装置*** |
KR100965511B1 (ko) * | 2005-08-01 | 2010-06-24 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 기판 이송 시스템 |
KR100965413B1 (ko) * | 2008-04-18 | 2010-06-25 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 기판 처리용 클러스터 장치 및 클러스터 장치의 기판 처리방법 |
JP2010249936A (ja) * | 2009-04-13 | 2010-11-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 実装処理作業装置及び実装処理作業方法 |
KR101172764B1 (ko) | 2009-10-08 | 2012-08-09 | 로체 시스템즈(주) | 기판 처리장치 및 이를 운용하는 기판 이송방법 |
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