TWI603159B - Dust removing device and dust removing method of exposure device - Google Patents

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TWI603159B
TWI603159B TW102123760A TW102123760A TWI603159B TW I603159 B TWI603159 B TW I603159B TW 102123760 A TW102123760 A TW 102123760A TW 102123760 A TW102123760 A TW 102123760A TW I603159 B TWI603159 B TW I603159B
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Masaaki Matsuda
Akira Morita
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Orc Manufacturing Co Ltd
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description

曝光裝置之除塵裝置及除塵方法
本發明係有關於一種將圖樣曝光至感光性基板的曝光裝置，且特別有關於其除塵裝置及除塵方法。
印刷基板、半導體基板等的各種基板的製造中廣泛地使用曝光裝置，利用光微影技術，在塗布光阻(感光材料)的工件(感光性基板)上曝光既定的圖樣，之後再透過蝕刻步驟在工件上形成圖樣。這種曝光裝置有各種廣為人知的曝光方式，包括緊密接觸光罩與工件後曝光的接觸式曝光、光罩與工件不接觸的接近式曝光與投影式曝光、沒有光罩的直接曝光等。另外也有在工件的兩面進行曝光的兩面曝光、僅在單面進行曝光的單面曝光等曝光方式。
不管是使用哪一種曝光方式的曝光裝置，當在外部環境下被塵埃、碎屑或異物(以下將這些東西簡稱為「塵埃」)等污染的工件進入曝光裝置時，污染的工件本身會發生曝光缺陷、顯像缺陷。另外，在載置工件的曝光桌或使用光罩的裝置中，塵埃也會轉移於光罩上，同樣可能成為曝光缺陷或顯像缺陷的原因。再者，來自工件的光阻的塵埃也會產生同樣的問題。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]特開2002-162749號公報
[專利文獻2]特開2007-25436號公報
[專利文獻3]特開2009-157249號公報
為了對上述的曝光裝置的除塵對象物(工件、曝光桌或光罩)進行除塵，專利文獻1、2、3提出了一種除塵裝置，使用周面具有黏著材料的除塵滾輪(黏著滾輪)在除塵對象物表面轉動。
然而，專利文獻1的除塵裝置在除塵滾輪於光罩與曝光桌上轉動時，一時附著於除塵滾輪上的塵埃可能再次移動(再附著)回光罩或曝光桌。專利文獻2的除塵裝置分別設置了光罩除塵用的除塵滾輪與曝光桌除塵用的除塵滾輪，但同樣地，一時附著於除塵滾輪上的塵埃可能再次移動(再附著)回光罩或曝光桌。專利文獻3的除塵滾輪因為將分別對工件、曝光桌及光罩除塵的除塵滾輪設置於1個清潔單元上，所以會造成裝置變大、變重。另外，與專利文獻1、2的除塵裝置不同地，會有無法與工件的搬運裝置兼用的問題。
本發明基於習知裝置以上的問題，提出一種曝光裝置的除塵裝置及除塵方法，在除塵時附著於除塵滾輪的被除去的塵埃、碎屑或異物等不會再附著於除塵對象物上。
本發明的曝光裝置的除塵裝置，用於曝光圖樣於 感光性基板的曝光裝置中，包括：除塵滾輪，其周面可接近或遠離該曝光裝置內的除塵對象物的除塵表面；以及移動機構，一邊使該除塵轉輪的周面接觸該除塵對象物的除塵表面，一邊使該除塵滾輪與該除塵對象物產生相對移動，來轉動除塵滾輪。該除塵滾輪的週長設定在比該除塵滾輪的周面與該除塵對象物的除塵表面之間因為該移動機構而相對移動時的接觸移動距離來得長。
該除塵滾輪可以有複數個，分別在將單一除塵對象物的除塵表面分割為複數個的分割除塵表面上轉動，其中各除塵滾輪的週長設定在比各除塵滾輪的周面與各分割除塵表面的接觸移動距離來得長。
該除塵滾輪可具備第1、第2除塵滾輪，分別在將單一除塵對象物的除塵表面分割為2個的第1、第2分割除塵表面上轉動，其中該第1除塵滾輪的週長設定在比該第1除塵滾輪的周面與該第1分割除塵表面的接觸移動距離來得長，該第2除塵滾輪的週長設定在比該第2除塵滾輪的周面與該第2分割除塵表面的接觸移動距離來得長。
本發明的曝光裝置的除塵裝置可更包括：控制部，交互地進行該第1除塵滾輪在第1分割除塵表面上的轉動以及該第2除塵滾輪在第2分割除塵表面上的轉動。
該除塵滾輪可由在單一除塵對象物的全除塵表面上轉動的單一滾輪所組成。
該移動機構可兼具保持該感光性基板並移動的工件移動機構的功能。
該除塵對象物可包括感光性基板、曝光桌及光罩中的一者以上。
本發明的曝光裝置的除塵裝置可更包括：集塵裝置，收集附著於該除塵滾輪上的塵埃。
本發明的曝光裝置的除塵方法，包括：將除塵滾輪的周面接觸於曝光裝置內的除塵對象物的表面並使該除塵滾輪轉動而除塵的除塵步驟；以及清掃除塵步驟後的該除塵滾輪的周面的清掃步驟，其中該除塵步驟與該清掃步驟交替進行，且在1次除塵步驟中以該除塵滾輪的周面上的同一部分不會接觸該除塵對象物的除塵表面2次的方式除塵(除塵滾輪以不轉動完一圈的方式除塵)。
根據本發明，在除塵中除塵滾輪的同一部分不會接觸除塵對象物的除塵表面兩次(除塵滾輪以不轉動完一圈的方式除塵)。因此，除塵時附著於除塵滾輪的被除去的塵埃、碎屑或異物等不會再附著於除塵對象物上，能夠預先防止起因於再附著的曝光缺陷、或顯像缺陷。
EX‧‧‧曝光裝置
W‧‧‧工件(感光性基板、除塵對象物)
WS‧‧‧除塵表面
WS1‧‧‧第1除塵表面(分割除塵表面)
WS2‧‧‧第2除塵表面(分割除塵表面)
P‧‧‧吸附墊
1‧‧‧投入部
1a‧‧‧平台
2‧‧‧第1曝光部
3‧‧‧反轉部
4‧‧‧第2曝光部
5‧‧‧排出部
5a‧‧‧平台
6‧‧‧第1搬運機(工件移動機構)
6a‧‧‧搬入搬運機
6b‧‧‧搬出搬運機
7‧‧‧第2搬運機(工件移動機構)
7a‧‧‧搬入搬運機
7b‧‧‧搬出搬運機
8‧‧‧曝光桌(除塵對象物)
8S‧‧‧除塵表面
8S1‧‧‧第1除塵表面(分割除塵表面)
8S2‧‧‧第2除塵表面(分割除塵表面)
9‧‧‧反轉裝置
10‧‧‧光罩(除塵對象物)
10S‧‧‧除塵表面
10S1‧‧‧第1除塵表面(分割除塵表面)
10S2‧‧‧第2除塵表面(分割除塵表面)
12‧‧‧除塵裝置(清潔單元)
12a‧‧‧第1除塵裝置
12b‧‧‧第2除塵裝置
14‧‧‧光源
16a‧‧‧第1除塵滾輪
16ar‧‧‧第1除塵滾輪的週長(有效徑)
16b‧‧‧第2除塵滾輪
16br‧‧‧第2除塵滾輪的週長(有效徑)
16c‧‧‧控制部
17‧‧‧框架
18‧‧‧轉印滾輪(集塵裝置)
19‧‧‧導引軌道
20‧‧‧搬運框架(移動機構、工件移動機構)
21‧‧‧導引軌道
22‧‧‧y方向移動桌
23‧‧‧接續框架
24‧‧‧導引軌道
25‧‧‧z方向移動桌
26‧‧‧支柱
27‧‧‧驅動馬達
28‧‧‧除電器
第1圖係本發明一實施例的曝光裝置的除塵裝置的概略構造之側面透視圖。
第2圖係除塵裝置(清潔單元)的詳細構造的平面圖。
第3圖係除塵裝置(清潔單元)的詳細構造的側面圖。
第4圖係顯示除塵滾輪與轉印滾輪之間的位置關係的兩面 圖。
第5圖係顯示第1除塵滾輪與第2除塵滾輪的週長(有效徑)與做為除塵對象物的工件的除塵表面之間的關係。
第6圖係顯示第1除塵滾輪與第2除塵滾輪的週長(有效徑)與做為除塵對象物的曝光桌的除塵表面之間的關係。
第7圖係顯示第1除塵滾輪與第2除塵滾輪的週長(有效徑)與做為除塵對象物的光罩的除塵表面之間的關係。
第8圖係顯示曝光裝置的除塵裝置的動作的第1步驟圖。
第9圖係顯示曝光裝置的除塵裝置的動作的第2步驟圖。
第10圖係顯示曝光裝置的除塵裝置的動作的第3步驟圖。
第11圖係顯示曝光裝置的除塵裝置的動作的第4步驟圖。
第12圖係顯示曝光裝置的除塵裝置的動作的第5步驟圖。
第13圖係顯示曝光裝置的除塵裝置的動作的第6步驟圖。
第14圖係顯示曝光裝置的除塵裝置的動作的第7步驟圖。
以下，參照第1至14圖，說明本發明的曝光裝置的除塵裝置的一實施例。本實施例適用於以將光罩與工件緊密接觸而進行曝光的接觸式曝光方式來對工件兩面曝光的曝光裝置EX。以下說明的的x、y、z的各方向以圖中所示的箭頭方向為準。
本實施例使用的工件(感光性基板、除塵對象物)W由平面基材所組成，其兩面分別積層了通過曝光及蝕刻處理後所殘留的做為電路配線的金屬膜以及光阻層。
<曝光裝置的全體構造>
如第1圖所示，曝光裝置EX由第1圖的左側至右側依序具備投入部1、第1曝光部2、反轉部3、第2曝光部4、及排出部5。
投入部1是將未曝光的工件(感光性基板、除塵對象物)W從曝光裝置EX的外部搬入內部的搬入口。投入部1設置有平台1a，用來載置作業者或搬運裝置(未圖示)搬入的工件W。
第1曝光部2是用來對未曝光的工件W的第1面(上面)曝光的曝光裝置。第1曝光部2具備載置工件W的曝光桌(除塵對象物)8、位於曝光桌8上方並描繪有既定圖樣的光罩(除塵對象物)10、位於光罩10上方的光源14。第1曝光部2具備升降機構(未圖示)，使曝光桌8相對光罩10升降。當曝光桌8藉由此升降機構朝光罩10上升時，載置於曝光桌8的工件W的第1面(上面)會與光罩10緊密接觸。在工件W與光罩10緊密接觸的狀態下，光源14照射會使工件W的光阻層感光的波長帶的光(例如紫外光)，使描繪於光罩10的既定圖樣曝光至工件W的第1面(上面)的光阻層。另外，曝光桌8的上面形成有多個吸引口(未圖示)，透過此吸引口抽氣，使工件W吸附固定於曝光桌8的表面。
反轉部3具備反轉裝置9，將第1面(上面)被第1曝光部2曝光的工件W上下反轉。藉由反轉部3(反轉裝置9)反轉工件W的上下面，使已曝光的工件W的第1面朝下，未曝光的工件W的第2面朝上。
第2曝光部4是用來對第1面(下面)已曝光的工件 W的第2面(上面)曝光的曝光裝置。第2曝光裝置4的構造與第1曝光部2的構造相同，因此標記相同符號並省略說明。
排出部5是將兩面被第1曝光部2與第2曝光部4曝光的工件W從曝光裝置EX的內部搬出外部的搬出口。排出部5設置有平台5a，用以載置已曝光的工件W，平台5a載置的工件W被作業者或搬運裝置(未圖示)搬出。
曝光裝置EX具備第1搬運機(工件移動機構)6，保持工件W並將其依序從投入部1移動至第1曝光部2與反轉部3。第1搬運機6具備兩個獨立的構成元件：搬入搬運機6a，將工件W從投入部1A移動至第1曝光部2的曝光桌8；以及搬出搬運機6b，將工件W從第1曝光部2的曝光桌8移動至反轉部3的反轉裝置9。搬入搬運機6a與搬出搬運機6b具有吸附墊P(第2、3圖)，可自由地吸附或脫離工件W。搬入搬運機6a與搬出搬運機6b可藉由後述的搬運框架20各自獨立地朝第1圖中的左右方向移動。
曝光裝置EX具備第2搬運機(工件移動機構)7，保持工件W並將其依序從反轉部3移動至第2曝光部4與排出部5。第2搬運機7具備兩個獨立的構成元件：搬入搬運機7a，將工件W從反轉部3的反轉裝置9移動至第2曝光部4的曝光桌8；以及搬出搬運機7b，將工件W從第2曝光部4的曝光桌8移動至排出部5的平台5a。搬入搬運機7a與搬出搬運機7b具有吸附墊P(第2、3圖)，可自由地吸附或脫離工件W。搬入搬運機7a與搬出搬運機7b可藉由後述的搬運框架20各自獨立地朝第1圖中的左右方向移動。
<除塵裝置的構造>
第1曝光部2及第2曝光部4分別設有相同結構的除塵裝置(清潔單元)12。第2、3圖中，僅畫出設置於第1曝光部2的除塵裝置12，對應第2曝光部4的構成元件的符號表示於括號內。
如第2、3圖所示，除塵裝置12具備彼此相對的第1除塵裝置12a與第2除塵裝置12b。
第1除塵裝置12a與第2除塵裝置12b被配置於第1曝光部2(第2曝光部4)內的搬運框架20所保持。搬運框架20具備：一對導引軌道21，是沿著y方向(工件搬運方向)延伸的固定構件；一對y方向移動桌22，被上述一對導引軌道21所支持並可自由地在y方向(工件搬運方向)滑動；接續框架23，以跨過上述一對導引軌道21的方式架設於y方向移動桌22上並且沿著x方向延伸；一對z方向移動桌25，被上述一對y方向移動桌22所支持並可自由地在z方向(重力方向)滑動；以及一對支柱26，以從上述一對z方向移動桌25朝y方向彼此靠近的方式突出形成。一對z方向移動桌25被延伸於z方向(重力方向)的一對導引軌道24(固定構件)所支持並可自由地滑動。y方向移動桌22與z方向移動桌25根據未圖示的制動器相對於導引軌道21與導引軌道24滑動來決定位置。
第1除塵裝置12a具備第1除塵滾輪16a，其旋轉軸朝向x方向。此第1除塵滾輪16a被一對支柱26中一者的前端部所支持並可自由旋轉。第2除塵裝置12b具備第2除塵滾輪16b，其旋轉軸朝向x方向。此第2除塵滾輪16b被一對支柱26中另一者 的前端部所支持並可自由旋轉。第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b的外周面形成有黏著材料層。第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b的材質能夠配合除塵對象而適當地選擇，一般選擇矽膠類的材質。
搬運框架20構成一種移動機構，使第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b靠近或遠離除塵對象物的工件W、曝光桌8或光罩10的除塵表面，同時使第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b的周面接觸於除塵對象物的除塵表面的方式下旋轉驅動第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b，並且讓第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b與除塵對象物相對移動。跟隨著搬運框架20的移動，第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b在除塵對象物的除塵表面上旋轉移動，因此藉由第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b的外周面上黏著材料的黏著力，能夠清除除塵對象物的除塵表面上附著的塵埃。
曝光裝置EX具備控制部16c，用來控制搬運框架(移動機構)20對第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b的驅動。控制部16c使第1除塵滾輪16a在除塵對象物上的轉動與第2除塵滾輪16b在除塵對象物上的轉動交互進行。也就是說，控制部16c控制搬運框架20，不讓第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b同時在除塵對象物上轉動。藉此，能夠防止第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b在除塵對象物上互相干涉。
如第2、3圖所示，搬運框架20的一對接續框架23的一者與另一者分別固定著第1搬運機6的搬入搬運機6a與搬出搬運機6b(第2搬運機7的搬入搬運機7a與搬出搬運機7b)， 第1除塵滾輪16a與搬入搬運機6a(搬入搬運機7a)一體地移動，第2除塵滾輪16b與搬入搬運機6b(搬出搬運機7b)一體地移動。也就是說，搬運框架20構成移動第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b的移動機構，以及與第1搬運機6及第2搬運機7協動來移動工件W的工件移動機構(兼具移動機構與工件移動機構的功能)。
如第1、3、4圖所示，曝光裝置EX具備轉印滾輪(集塵裝置)18，收集第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b的外周面上附著的塵埃並清掃外周面。轉印滾輪18被設置在第1曝光部2與第2曝光部4的框架17(是獨立設置的，而不是與搬運框架20設置在一起的)所支持。轉印滾輪18透過鏈條或齒輪等常見的傳遞裝置，被驅動馬達27旋轉驅動，在其外周面纏繞著具有比第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b更強的黏著力的膠帶。第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b在其清掃位置與轉印滾輪18接觸，由於轉印滾輪18的旋轉而被跟著轉動。結果，附著於第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b的外周面的塵埃轉移至轉印滾輪18的表面而被回收。以這樣的方式被轉印滾輪18回收的塵埃可藉由從轉印滾輪18外周面剝掉一圈黏著膠帶而廢棄。為了剝除或轉印滾輪更換的便利性，框架17的基部設置有導引軌道19，藉由拔除未圖示的卡榫能夠將轉印滾輪18拉出至作業者側。框架17又設置有除電器28，用以當第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b位於清掃位置時除去第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b的靜電。
現在參照第5、6、7圖，關注第1除塵滾輪16a與第 2除塵滾輪16b的週長(有效徑)。第5圖顯示載置於曝光桌8的工件W為除塵對象物的情況，第6圖顯示曝光桌8為除塵對象物的情況，第7圖顯示光罩10為除塵對象物的情況。
如第5圖所示，做為除塵對象物的工件W的除塵表面WS均等地分割為第1除塵表面(分割除塵表面)WS1與第2除塵表面(分割除塵表面)WS2，第1除塵滾輪16a在第1除塵表面WS1上轉動，第2除塵滾輪16b在第2除塵表面WS2上轉動。第1除塵滾輪16a的週長16ar設定在比第1除塵滾輪16a的周面與第1除塵表面WS1接觸移動距離(第5圖中的第1除塵表面WS1的寬度)來得長。第2除塵滾輪16b的週長16br設定在比第2除塵滾輪16b的周面與第2除塵表面WS2接觸移動距離(第5圖中的第2除塵表面WS2的寬度)來得長。
如第6圖所示，做為除塵對象物的曝光桌8的除塵表面8S均等地分割為第1除塵表面(分割除塵表面)8S1與第2除塵表面(分割除塵表面)8S2，第1除塵滾輪16a在第1除塵表面8S1上轉動，第2除塵滾輪16b在第2除塵表面8S2上轉動。第1除塵滾輪16a的週長16ar設定在比第1除塵滾輪16a的周面與第1除塵表面8S1接觸移動距離(第6圖中的第1除塵表面8S1的寬度)來得長。第2除塵滾輪16b的週長16br設定在比第2除塵滾輪16b的周面與第2除塵表面8S2接觸移動距離(第6圖中的第2除塵表面8S2的寬度)來得長。
如第7圖所示，做為除塵對象物的光罩10的除塵表面10S均等地分割為第1除塵表面(分割除塵表面)10S1與第2除塵表面(分割除塵表面)10S2，第1除塵滾輪16a在第1除塵 表面10S1上轉動，第2除塵滾輪16b在第2除塵表面10S2上轉動。第1除塵滾輪16a的週長16ar設定在比第1除塵滾輪16a的周面與第1除塵表面10S1接觸移動距離(第7圖中的第1除塵表面10S1的寬度)來得長。第2除塵滾輪16b的週長16br設定在比第2除塵滾輪16b的周面與第2除塵表面10S2接觸移動距離(第7圖中的第2除塵表面10S2的寬度)來得長。
因此，第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b在除塵對象物的除塵表面轉動除塵時，第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b的周面上的同一部分不會接觸除塵對象物的除塵表面2次(第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b轉動除塵時不會轉滿一圈)。因此，除塵中一旦附著於第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b上的被除去的塵埃不會附著回去，能夠防止因為再附著而造成的曝光缺陷或顯像缺陷。
<曝光裝置的除塵裝置的動作>
參照第8至14圖說明本實施例的曝光裝置EX的除塵裝置12的動作。在此，第1曝光部2的光罩10與曝光桌8為除塵對象物，以對光罩10除塵後再對曝光桌8除塵的狀況為例子來說明。
首先，被作業者或搬運裝置(未圖示)搬入的未曝光的工件W載置於投入部1的平台1a。接著，工件W被第1搬運機6的搬入搬運機6a從投入部1的平台1a移動到第1曝光部2的曝光桌8。移動到曝光桌8的工件W被形成於曝光桌8上面的吸引口(未圖示)所吸附固定。接著，藉由升降機構(未圖示)，將曝光桌8朝光罩10上升，使載置於曝光桌8的工件W的第1面 (上面)與光罩10緊密接觸。接著，在此緊密接觸狀態，藉由光源14照射出讓工件W的光阻層感光的波長帶域的光(例如紫外光)，將描繪於光罩10的既定圖樣曝光於工件W的第1面(上面)的光阻層。接著，藉由升降機構(未圖示)將曝光桌8下降到其上表面與傳遞路徑的高度同一高度(第1圖)，並且解除曝光桌8的吸引口(未圖示)對工件W的吸附。然後藉由第1搬運機6的搬出搬運機6b將工件W從第1曝光部2的曝光桌8移動至反轉部3的反轉裝置9。
工件W移動到反轉部3的反轉裝置9後，除塵裝置12進行對第1曝光部2的光罩10與曝光桌8的除塵作業。
首先，如第8圖所示，將第1除塵裝置12a及第2除塵裝置12b移動到初始位置後，以搬運框架20驅動第1除塵裝置12a的第1除塵滾輪16a，使第1除塵滾輪16a在第1除塵表面10S1上轉動，對光罩10的第1除塵表面10S1除塵。
接著，如第9圖所示，以搬運框架20將第1除塵滾輪16a移動到與轉印滾輪18接觸的清掃位置，使轉印滾輪18旋轉，開始清掃第1除塵滾輪16a。同時，以搬運框架20驅動第2除塵裝置12b的第2除塵滾輪16b，使第2除塵滾輪16b在第2除塵表面10S2上轉動，對光罩10的第2除塵表面10S2除塵。
接著，如第10圖所示，以搬運框架20將第2除塵滾輪16b移動到與轉印滾輪18接觸的清掃位置，使轉印滾輪18旋轉，開始清掃第2除塵滾輪16b。
如第11圖所示，第1除塵滾輪16a的清掃結束後，第2除塵滾輪16b繼續清掃的狀態下，以搬運框架20驅動第1除 塵裝置12a的第1除塵滾輪16a，使第1除塵滾輪16a在第1除塵表面8S1上轉動，對曝光桌8的第1除塵表面8S1除塵。對曝光桌8的第1除塵表面8S1除塵期間，第2除塵滾輪16b的清掃結束。
接著，如第12圖所示，以搬運框架20將第1除塵滾輪16a移動到與轉印滾輪18接觸的清掃位置，使轉印滾輪18旋轉，開始清掃第1除塵滾輪16a。同時，以搬運框架20驅動第2除塵裝置12b的第2除塵滾輪16b，使第2除塵滾輪16b在第2除塵表面8S2上轉動，對曝光桌8的第2除塵表面8S2除塵。
接著，如第13圖所示，以搬運框架20將第2除塵滾輪16b移動到與轉印滾輪18接觸的清掃位置，使轉印滾輪18旋轉，開始清掃第2除塵滾輪16b。
最後，如第14圖所示，在第1除塵滾輪16a的清掃結束後將第1除塵裝置12a移動到初始位置，之後，在第2除塵滾輪16b的清掃結束後將第2除塵裝置12b移動到初始位置。
如以上說明，本實施例的曝光裝置EX的除塵方法中，第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b對除塵對象物除塵的步驟以及除塵步驟後用轉印滾輪18清掃第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b的清掃步驟會交替進行。
在此，雖說明了在第1曝光部2的除塵動作，但在第2曝光部4也可進行完全相同的除塵動作。在第1曝光部2及第2曝光部4中進行除塵的時間點只要是在曝光桌8與光罩10之間產生有空間的時間點即可，或以預定的曝光週期除塵，或是在任意的曝光結束後工件W排出的時間點開始除塵都是可行的。
而第1曝光部2與第2曝光部4中進行除塵的順序僅 為一例，本發明並不限定於此。例如，也可以先進行由第2除塵裝置12b(第2除塵滾輪16b)的除塵，再進行由第1除塵裝置12a(第1除塵滾輪16a)的除塵。或者是先進行對曝光桌8的除塵再進行對光罩10的除塵。也可以第1除塵裝置12a(第1除塵滾輪16a)與第2除塵裝置12b(第2除塵滾輪16b)同時開始除塵動作。
根據本實施例，將第1除塵滾輪16a的週長16ar設定在比第1除塵滾輪16a的周面與除塵對象物的第1除塵表面(WS1、8S1、10S1)的接觸距離來得長，將第2除塵滾輪16b的週長16br設定在比第2除塵滾輪16b的周面與除塵對象物的第2除塵表面(WS2、8S2、10S2)的接觸距離來得長。因此，在1次的除塵步驟中，第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b在除塵對象物的除塵表面轉動進行除塵時，第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b的周面上同一部分不會接觸除塵對象物的除塵表面兩次(第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b轉動除塵時不會轉滿1圈)。因此，除塵中一旦附著於第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b上的已被除去的塵埃不會附著回去到除塵對象物上，能夠防止因為再附著而造成的曝光缺陷或顯像缺陷。
以上實施例中，僅以設置第1除塵滾輪16a與第2除塵滾輪16b共2個除塵滾輪為例子來說明，但也可以設置單一的除塵滾輪在單一個除塵對象物的全除塵表面上轉動。在這個情況下，將單一除塵滾輪的週長(有效徑)設定在比單一除塵滾輪的周面與除塵對象物的除塵表面的接觸移動距離來得長。
以上實施例中，僅以設置第1除塵滾輪16a與第2除 塵滾輪16b共2個除塵滾輪為例子來說明，但也可以設置3個以上的除塵滾輪。在這個情況下，將各個除塵滾輪的週長(有效徑)設定在比各除塵滾輪的周面與除塵對象物的各分割除塵表面的接觸移動距離來得長。
以上實施例中，以緊密接觸光罩及工件(感光性基板)後曝光的接觸式曝光方式來對工件的兩面依序曝光的曝光裝置EX為例來說明，但本發明的適用對象並不限定於此。例如，除了接觸式曝光方式外，本發明也可以適用於採用各種曝光方式的曝光裝置，例如，使光罩與工件接近且不接觸的接近式曝光方式、不用光罩而用一邊調變光一邊掃描的方式來直接描繪圖樣的直接曝光方式、光罩與基板之間設置投影光學系統的投影曝光方式等。另外，本發明也適用於採用對工件的兩面同時進行曝光的兩面同時曝光方式或僅對單面進行曝光的單面曝光方式的曝光裝置。
以上實施例中，以邊搬運工件於水平方向邊進行曝光的橫型曝光裝置為例來說明，但本發明也可以適用於邊搬運工件於鉛直方向邊進行曝光的縱型曝光裝置。
以上實施例中，舉出以工件(感光性基板)、曝光桌、或光罩做為除塵對象物為例來說明，但也能夠將曝光裝置內部會附著灰塵的所有構件做為除塵對象物。
以上實施例中，以收集附著於第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b上的塵埃的轉印滾輪(集塵裝置)18為例來說明。然而，也可以省略轉印滾輪(集塵裝置)18，而在每次第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b除塵動作結束後，從第1除塵 滾輪16a及第2除塵滾輪16b的外周面剝下一圈黏著材料(黏著膠帶)。在這種清掃方式下，每次從第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b的外周面剝下黏著材料(黏著膠帶)就會縮小滾輪的週長，因此，需以黏著材料(黏著膠帶)的纏繞量最少的狀態為標準來設定第1除塵滾輪16a及第2除塵滾輪16b的週長。
W‧‧‧工件(感光性基板、除塵對象物)
WS‧‧‧除塵表面
WS1‧‧‧第1除塵表面(分割除塵表面)
WS2‧‧‧第2除塵表面(分割除塵表面)
8‧‧‧曝光桌(除塵對象物)
12a‧‧‧第1除塵裝置
12b‧‧‧第2除塵裝置
16a‧‧‧第1除塵滾輪
16ar‧‧‧週長(有效徑)
16b‧‧‧第2除塵滾輪
16br‧‧‧週長(有效徑)
18‧‧‧轉印滾輪(集塵裝置)

Claims (9)

  1. 一種曝光裝置的除塵裝置，用於曝光圖樣於感光性基板的曝光裝置中，包括：除塵滾輪，其周面可接近或遠離該曝光裝置內的除塵對象物的除塵表面；以及移動機構，一邊使該除塵轉輪的周面接觸該除塵對象物的除塵表面，一邊使該除塵滾輪與該除塵對象物產生相對移動，來轉動除塵滾輪，其中該除塵滾輪的週長設定在比該除塵滾輪的周面與該除塵對象物的除塵表面之間因為該移動機構而相對移動時的接觸移動距離來得長。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置的除塵裝置，其中該除塵滾輪有複數個，可分別在將單一除塵對象物的除塵表面分割為複數個的分割除塵表面上轉動，其中各除塵滾輪的週長設定在比各除塵滾輪的周面與各分割除塵表面的接觸移動距離來得長。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之曝光裝置的除塵裝置，其中該除塵滾輪具備第1、第2除塵滾輪，分別在將單一除塵對象物的除塵表面分割為2個的第1、第2分割除塵表面上轉動，其中該第1除塵滾輪的週長設定在比該第1除塵滾輪的周面與該第1分割除塵表面的接觸移動距離來得長，該第2除塵滾輪的週長設定在比該第2除塵滾輪的周面與該第2分割除塵表面的接觸移動距離來得長。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之曝光裝置的除塵裝置，更包 括：控制部，交互地控制該第1除塵滾輪在第1分割除塵表面上的轉動以及該第2除塵滾輪在第2分割除塵表面上的轉動。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置的除塵裝置，其中該除塵滾輪由在單一除塵對象物的全除塵表面上轉動的單一滾輪所組成。
  6. 如申請專利範圍第1至5項任一項所述之曝光裝置的除塵裝置，其中該移動機構兼具保持該感光性基板並移動的工件移動機構的功能。
  7. 如申請專利範圍第1至5項任一項所述之曝光裝置的除塵裝置，其中該除塵對象物包括感光性基板、曝光桌及光罩中的一者以上。
  8. 如申請專利範圍第1至5項任一項所述之曝光裝置的除塵裝置，更包括：集塵裝置，收集附著於該除塵滾輪上的塵埃。
  9. 一種曝光裝置的除塵方法，係採用如申請專利範圍第1至8項任一項所述之曝光裝置的除塵裝置進行除塵，該曝光裝置的除塵方法包括：將除塵滾輪的周面接觸於曝光裝置內的除塵對象物的除塵表面並使該除塵滾輪轉動而除塵的除塵步驟；以及清掃除塵步驟後的該除塵滾輪的周面的清掃步驟，其中該除塵步驟與該清掃步驟交替進行，且在1次除塵步驟中以該除塵滾輪的周面上的同一部分不會接觸該除塵對象物的除塵表面2次的方式除塵。
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