JP2009157249A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】第１の露光部内のステージ上で発生した塵芥によるワークの移送経路上における汚染を防止し、各露光部内においてマスクを清浄に保ったままワークの各面に対する露光を行うことができる露光装置を、提供する。
【解決手段】第１露光部２内に備えられたクリーニングユニット１２は、そのステージ８の上面及びマスク１０の表面を除塵する。反転部３内に備えられたクリーニングユニット１３は、反転装置９による反転後のワークＷの第２面を除塵する。第２露光部４内に備えられたクリーニングユニット１２は、そのステージ８の上面及びマスク１０の表面を除塵する。
【選択図】図１

Description

本発明は、電子回路基板、液晶素子用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス素子基板等の両面にフォトレジスト層が形成されてなる平面基材（ワーク）に、パターンを露光させる露光装置に関する。

電子回路基板（プリント回路基板）は、例えば、携帯電話，各種モバイル，パーソナルコンピュータ等の電子機器に搭載されるが、基板上に多数の回路部品を実装する必要等があるので、表裏両面にパターンを形成した基板が必要とされている。かかる表裏両面にパターンが形成された基板を製造するために用いられる露光装置としては、処理効率の向上のため、ワークを一方向に移動させて順次表裏各面の露光を行えるように、ワークの第１面用の露光部と第２面用の露光部とを別個独立に備え、両露光装置の間にワークを表裏反転させる反転装置を設置するものが、一般的である。なお、各露光部における露光の方式の一つとして、ワークの露光対象面に対してマスクを重ね、このマスク越しの光でワークに塗布された感光剤層を露光させるコンタクト方式がある。本願発明は、かかるコンタクト方式の露光装置に関するものである。

かかるコンタクト方式の露光装置では、外部環境において塵芥に汚染されたワークが一旦搬入されると、当該ワークの各面に付着していた塵芥が当該ワークに接触することによって、当該ワークに転写されて汚染されてしまう。このようにしてマスクが汚染されてしまうと、当該汚染されたワークを露光する場合は勿論のこと、その後に清浄なワークを搬入して露光する場合にも、マスクの透光部に付着していた塵芥が光を遮蔽して、ワークのフォトレジスト層にその影を映り込ませるので、現像処理後においてパターンの欠け等の欠陥を生じさせてしまう。

かかる汚染を防止するには、各露光部において、夫々、マスクの表面（ワークに接触する面）又は導入されたワークの露光対象面（マスクに接触する面）に対する除塵を行うための除塵装置を設けることが、考えられる。

例えば、特許文献１に記載の露光装置では、その図２に示すように、ワーク（基板）をステージ（露光テーブル１８）上に搬入する搬入キャリア１４の先端に除塵ローラ１６を上下揺動可能に設けておき、ワーク（基板）をステージ（露光テーブル１８）上に搬入する動作に伴って当該除塵ローラ１６によってマスク（原版１２）の表面を除塵するとともに、ステージ（露光テーブル１８）上から退避する動作に伴ってワーク（基板）の露光対象面を除塵する構成が、採用されている。

また、特許文献２に記載の露光装置では、その第１図に記載されているように、ワーク（基板１）をステージ（基板露光ステージＣ）上に搬入するトラバーサＥにマスク（原版フィルム２）の表面を除塵するローラ（除塵手段７）を設けるとともに、ステージの直前に、トラバーサＥによって移送されているワーク（基板１）の露光対象面を除塵するローラ（除塵手段８）を固定した構成が、採用されている。

また、特許文献３に記載の露光装置では、ステージ（露光ステージ７）の直前及び直後に、夫々、搬入ハンド３によってステージ（露光ステージ７）上へ移送されているワーク（基板Ｂ）の露光対象面を除塵する除塵装置（クリーニングヘッド１，２）を固定した構成が、採用されている。

以上の公知の除塵装置を、露光装置における各面の露光用の露光部に夫々組み込めば、当該各露光部において露光を行う直前に、マスクの表面及びワークの露光対象面を夫々除塵することが可能となる。

特許第３５３３８０号公報 特許第２８４７８０８号公報 特開２００７−２５４３６号公報

しかしながら、露光装置に搬入されるワークの汚染については、外部環境を改善することにより、かなりの程度抑えることができるものの、露光装置を構成する各露光部内では、真空吸引手段等の固定手段によってステージ表面にワークを強固に固定しなければならないので、この固定手段の作用に起因して、ワーク自体からフォトレジスト材料，基材片等が不可避的に剥落してしまう。このようにしてステージ上で発生した塵芥は、その後に当該ステージ上に固定されたワークの裏面を汚染してしまうことになるので、これに対する対策が重要となる。特に、ワークの第１面を露光する第１の露光部内のステージ上で発生した塵芥は、第２の露光部によって露光されることになる各ワークの第２面を汚染してしまう。そのため、第２の露光部に備えられた除塵装置によっては、第１の露光部内で汚染されたワークの第２面に対する除塵を十分に行えない可能性がある。また、第１の露光部内でステージ上に残存する塵芥によって次々に汚染された多数のワークが第１露光部から第２露光部へ移送されることにより、その移送経路中に存在する反転装置を含む装置に、塵芥をまき散らして汚染してしまう可能性がある。このような問題は、各露光部においてマスクの表面とワークの露光対象面を除塵するだけの上記公知技術では、解決することができなかった。

そこで、本願発明の課題は、ワークの第１面を露光するための第１露光部と第２面を露光するための第２露光部との間に反転装置が設置され、ワークを第１露光部，反転装置，第２露光部の順に移送することによって当該ワークの両面に対して露光を行う露光装置において、第１の露光部内のステージ上で発生した塵芥によるワークの移送経路上における汚染を防止し、各露光部内においてマスクを清浄に保ったままワークの各面に対する露光を行うことができる露光装置を、提供することである。

上記の課題を解決するために案出された本発明の露光装置は、ワークの第１面を露光する第１露光部と第２面を露光する第２露光部との間に移送手段を備えてなる露光装置であって、前記第１露光部は、マスクと、当該マスク側に第１面を向けた状態でワークが固定される固定面を有するステージと、前記マスク及び前記ステージを相対的に接近させることによって前記マスクと前記ワークの第１面とを接触させる移動機構と、前記マスク越しに前記ワークの第１面に対して光を照射する光源と、前記マスクの前記ワーク側の面及び前記ステージの固定面を除塵する第１の除塵装置とを備え、前記第２露光部は、マスクと、当該マスク側に第２面を向けた状態でワークが固定される固定面を有するステージと、前記マスク及び前記ステージを相対的に接近させることによって前記マスクと前記ワークの第２面とを接触させる移動機構と、前記マスク越しに前記ワークの第２面に対して光を照射する光源と、前記マスクの前記ワーク側の面を除塵する第２の除塵装置とを備え、前記移送手段は、前記第１露光部によって第１面に対する露光がなされたワークを反転させる反転装置と、前記ワークを前記第１露光部のステージ上から前記反転装置を経由して前記第２露光部のステージ上まで移送する移送機構と、前記反転装置から前記第２露光部のステージまでの前記移送機構によるワークの移送経路上に設置されて前記ワークの第２面を除塵する第３の除塵装置とを備えることを、特徴とする。

このように構成されると、第１の除塵装置は、第１露光部のマスクにおけるワークと接触する面を、第２の除塵装置は、第２露光部のマスクにおけるワークと接触する面を、夫々除塵する。更に、第１の除塵装置は、第１露光部のステージにおけるワークを固定する固定面を除塵する。従って、当該ステージがワークを固定することによって塵芥を発生させてしまった場合、当該塵芥が第２面に付着した当該ワーク自体が移送機構によって第２露光部のステージまで移送されても、当該第２露光部での露光対象面となる当該ワークの第２面は、反転装置による反転後に第３の除塵装置によって除塵されるので、第２面に付着した塵芥による悪影響をある程度抑えることができる。仮に第２面に塵芥が残っておりこれがワークに転写されたとしても、その後第２の除塵装置が除塵を行うことにより、以後のワークに対する露光時には、その影響を更に抑止することができる。また、第１露光部のステージの固定面上に発生した塵芥は、第１除塵装置が当該固定面を除塵することにより排除されるので、以後に搬送されるワークを汚染することがないので、移送機構内の汚染の進行を止めることができる。なお、塵芥の発生原因となったワークが移送されることにより移動機構内が１回だけ汚染されるが、それによって移送機構内に散らばった塵芥が、以後に移送されるワークの第２面に付着しても、第３の除塵装置が除塵するので、それによる悪影響は最小限に抑えられる。

以上のように構成された本発明の露光装置によると、ワークの第１面を露光するための第１露光部と第２面を露光するための第２露光部との間に反転装置が設置され、ワークを第１露光部，反転装置，第２露光部の順に移送することによって当該ワークの両面に対して露光を行う露光装置において、第１の露光部内のステージ上で発生した塵芥によるワークの移送経路上における汚染を防止し、各露光部内においてマスクを 清浄に保ったままワークの各面に対する露光を行うことができる。

以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。

＜露光装置の全体構成＞
本実施形態による露光装置は、露光及びエッチング処理後に回路配線として残る金属膜とフォトレジスト層とを両面に夫々積層してなる平面基材をワークＷとし、このワークＷの各面のフォトレジスト層に対して夫々コンタクト方式によってパターンを露光するものである。従って、反転部３内に、反転装置９によって反転された後のワークＷの第２面を除塵するための除塵装置（クリーニングユニット１３）を組み込む他、ワークＷの各面を夫々露光する各露光部２，４内に、マスク１０の下面（ワークＷに接触する面）の除塵をするための除塵装置を組み込むことが必要となる。マスク１０の透光部に塵芥が付着していると上述した描画の欠陥が生じるし、遮光部に塵芥が付着している場合であっても、マスク１０がワークに接触することによってその塵芥がワークＷに転写されてしまい、これが下流の装置を汚染してしまうからある。また、反転部３の除塵装置１によるワークＷの第２面に対する除塵を確実にするためには、この除塵装置１より前に当該第２面に接触する第１面用の露光部（第１露光部２）内のテーブル８の上面を、除塵する必要がある。この除塵は、マスク１０用と同じ除塵装置によって行えるように、工夫してある。

図１は、本実施形態による露光装置の概略構成を示す側面透視図である。この図１に示されるように、この露光装置は、水平方向に（図１の左側から右側に向けて）、投入部１，第１露光部２，反転部３，第２露光部４，排出部５を配置することによって、構成されている。

投入部１は、作業者若しくは図示せぬロボットが、未露光のワークＷを第１ハンドラ６に拾い上げさせるべく載置するためのステージ１ａを有する。

この第１ハンドラ６は、図１の左右方向に延びた腕を有し、この腕の両端に夫々、ワークＷを着脱自在に吸着するパッドを、昇降可能に備えている。そして、第１ハンドラ６全体を図示せぬリニアスライドによって図１の左右方向に移動することにより、図中左端のパッドによって吸着したワークＷを投入部１から第１露光部２まで移送してそのステージ８上に置き去り、図中右端のパッドによって吸着したワークＷを第１露光部２から反転部３まで移送して、その反転装置９内に置き去る。

第１露光部２は、投入部１から移送されたワークＷの第１面にマスク１０を重ね、フォトレジスト層を感光させる波長帯域の光（例えば紫外光）をこのマスク１０越しに照射することによってマスク１０の透光部として描かれたパターンを第１面上のフォトレジスト層に露光する装置である。そのため、この第１露光部２は、第１ハンドラ６によってワークＷが載置されるとステージ８と、このワークＷをマスク１０に向けて接近させて接触させ、また、離反させるようにステージ８を昇降させる上昇機構５５（図５参照，移動機構に相当）と、マスク１０を保持するホルダ１１と、フォトレジスト層を感光させるための光を発する光源１４とから、構成されている。なお、ステージ８の上面には、図示せぬ吸引ポンプに連通する多数の吸引口が開けられており、これら吸引口を通じて空気が吸引されることによって、このステージ８表面にワークＷが吸着固定される（即ち、当該上面が固定面として機能する）。なお、図１においては、ハンドラ６がマスク１０の直下に在るように描かれているが、マスク１０は、第１ハンドラ６に対して紙面に直行する方向にずれた位置に配置されていても良い。この場合には、ステージ８には、昇降する機能の他、紙面に直行する方向に水平移動する機能が備わっている必要がある。かかる構成が採用されると、テーブル８の昇降に際して第１ハンドラ６を退避させる必要がなくなり、また、光源１４から漏れ光の遮光が容易となる。なお、投入部１と第１露光部２との間に設けられ、第１露光部２のマスク１０下面とステージ８上面とを除塵するための第１の除塵装置に相当するクリーニングユニット１２については、後で詳しく説明する。

反転部３は、第１ハンドラ６によって第１露光部２から移送された第１面が露光済みのワークＷを反転するための反転装置９及び、この反転装置９によって反転されたワークＷの第２面を除塵するための第３の除塵装置としてのクリーニングユニット１３を、内蔵している。これら反転装置９及びクリーニングユニット１３の詳細な構成については、後で詳しく説明する。

第２露光部４は、第１露光部２と同一の構成を有している。従って、図１において、第１露光部２と共通する第２露光部４の部品には、第１露光部２のものと同じ番号を付し、個々の説明を省略する。なお、第２露光部４に含まれるクリーニングユニット１２は、第２の除塵装置に相当する。

第２ハンドラ７は、図１の左右方向に延びた腕を有し、この腕の両端に夫々、ワークＷを着脱自在に吸着するパッドを、昇降可能に備えている。そして、第２ハンドラ７全体を図示せぬリニアスライドによって図１の左右方向に移動することにより、図中左端のパッドによって吸着したワークＷを反転部３から第２露光部４まで移送してそのステージ８上に置き去り、図中右端のパッドによって吸着したワークＷを第２露光部４から排出部５まで移送して、排出部５のステージ５ａ上に置き去る。このようにして排出部５のステージ５ａ上に置かれた露光済みのワークＷは、作業者若しくは図示せぬロボットによって取り出されて、次の処理工程に移動される。なお、第２露光部４と排出部５との間に設けられ、第２露光部４のマスク１０下面とステージ８上面とを除塵するためのクリーニングユニット１２については、後で詳しく説明する。

なお、第１ハンドラ６，反転部３及び第２ハンドラ７が、移送手段に相当し、そのうちの第１ハンドラ６及び第２ハンドラ７が、移送機構に相当する。

＜反転部の反転装置＞
図２は、初期状態にある反転装置９を、図１における左上に視点を置いて示す斜視図であり、図３は、反転動作を行った後における反転装置９の状態を、図１における右上に視点を置いて示す斜視図である。

これら各図に示されるように、この反転装置９は、各ハンドラ６，７と平行に反転部３内の図示せぬフレームに敷設された一対のガイドレール２０，２０と、各ガイドレール２０，２０によって長手方向にスライドのみ可能にガイドされた一対のリニアスライド２３，２３と、各リニアスライド２３，２３の間に、その長手方向を各レール２０の方向（便宜上、以下「ｚ方向」と称する）及び鉛直方向（便宜上、以下「ｙ方向」と称する）に夫々直交する方向（便宜上、以下「ｘ方向」と称する）に向けて掛け渡されて固定され、且つその両端（支柱部２４ａ，２４ａ）がｙ方向上向きに直角に折り曲げられたのと等価な形状を有する支柱部材２４と、各支柱部２４ａ，２４ａの上端近傍にｘ方向に向けて設けられた回転軸（ワークＷの移動方向に直交する方向に設けられた回転軸）を中心に、夫々回動自在に支柱部材２４の内側に保持された板状部材からなる一対の回転板２５，２５と、各回転板２５，２５の内側面上にその長手方向を初期状態におけるｙ方向に向けて固定された角材形状を有する昇降テーブル２６，２６と、各昇降テーブル２６をそのｚ方向両側から挟むように配置され、各昇降テーブル２６に対して初期状態におけるｙ方向にスライドのみ自在に保持される２個一組（計４個）の角柱状のスライダ２７，２７と、各組のスライダ２７，２７の一端面（初期状態における下端面）同士の間に掛け渡されるとともに内側（反転装置９の中心寄り）に張り出すように固定されたシリンダ台座２８と、各組のスライダ２７，２７とシリンダ台座２８とがなす角に内接するように固定された開閉ベースブラケット２９と、ｚ方向を向いた軸によって各開閉ブラケット２９，２９に対して夫々枢支されている一対の開閉ベース２１，２２と、両昇降テーブル２６，２６の内面同士の間に固定されている吸着ベース３０と、反転部３の図示せぬフレームにおける下流側（図１における右側）に固定され、その一端が支柱部材２４の中心に連結された状態でｚ方向に向けられたシャフト３２を出没させる反転装置移動シリンダ３３と、一方の支柱部２４ａの外面に固定され、回転軸を介して回転板２５を回転駆動する回転駆動モータ（サーボモータ）３４と、各シリンダ台座２８の表面（初期状態における下面）に固定され、その一端が各シリンダ台座２８を貫通して昇降テーブル２６に連結されたシャフト３６を出没させる昇降用シリンダ３５，３５と、各開閉ベースブラケット２９，２９に固定されて各開閉ベース２１，２２を各開閉ベースブラケット２９，２９に対して回動させる開閉モータ３７，３７とから、構成されている。

吸着ベース３０は、矩形の平面形状を有しており、初期状態において下流側に位置する側面が一方のスライダ２７と面一となるように、両昇降スライダ２６，２６の間に挟まれて固定されている。この吸着ベース３０の内面（両開閉ベース２１，２２に対向する面）は、Ｘ方向における両側縁に沿って形成されたリブ３０ａ，３０ａを残して、断面矩形となるように凹んでいる。この凹みが、ワークＷを収容する収容凹部３０ｂである。この収容凹部３０ｂの表面には、真空吸着手段としての吸引ポンプ４４（図５参照）に連通する多数の吸引口（図示略）が開けられており、この吸引口に連通する真空排気用配管を通じて空気が吸引されることにより、この収容凹部３０ｂ内に収容されたワークＷが真空吸着される。

開閉ベースブラケット２９，２９は、吸引ベース３０の外縁と重なる外縁を有する矩形枠から、Ｘ方向における中央部分を切除したのと等価な形状を、有している。これら両開閉ベースブラケット２９，２９の内縁の内側に、若干のクリアランスを空けて、両開閉ベース２１，２２がＸ方向に並べて収容されている。そして、各開閉ベース２１，２２は、各開閉ベースブラケット２９のｚ方向における両端の鈎状に折れ曲がった部分同士の間にｚ方向を向けて掛け渡された回転軸により軸支され、当該軸を中心に開閉される。上述したクリアランスは、かかる回転途中における各開閉ベース２１，２２と各開閉ベースブラケットとの干渉を回避するために設けられている。そして、各開閉ブラケット２９は、ｚ方向における両端面とｘ方向における側面が夫々吸着ベース３０と面一となり且つ各リブ３０ａと平行となるように、一対のスライダ２７，２７及びシリンダ台座２８に固定されている。

各開閉モータ３７は、初期状態において下流側に位置する各開閉ベースブラケット２９の端面に固定され、上記回転軸を通じて各開閉ベース２１，２２を回転駆動する。

各開閉ベース２１，２２は、矩形の２枚の板であり、その内側面（吸着ベース３０に対向する面）における各開閉モータ３７，３７の近傍には、ｚ方向における位置が互いに一致するように、同一形状の位置決めピン２１ａ，２２ａ（図６参照）が、夫々突出形成されている。なお、これら位置決めピン２１ａ，２２ａの高さは、吸着ベース３０の収容凹部３０ａの深さ及びワークＷの厚さよりも低い。

以上の構成により、反転装置移動シリンダ３３がシャフト３２を繰り込むことにより、スライダ２３上に構築されている装置全体，とりわけ吸引ベース３０及び開閉ベース２１，２２が、ガイドレール２０に沿って、ｚ方向下流側（図１の右側）へ向かって移動する。

また、回転駆動モータ３４が回転板２５を回転駆動することにより、両支柱部２４ａ，２４ａ同士の間に構築されている装置全体，とりわけ吸引ベース３０及び開閉ベース２１，２２が、回転軸に沿って反転し、当該回転駆動モータ３４自体のフリクションによってその姿勢が保持される。

また、両昇降シリンダ３５がシャフト３６を繰り込むと、各スライダ２７が昇降テーブル２６に沿ってスライドし、これに固定されている両開閉ベースブラケット２９，２９及び開閉ベース２１，２２が吸引ベース３０に接近し、各開閉ベースブラケット２９，２９が吸引ベース３０の各リブ３０ａ，３０ａに接触した位置にて停止する。逆に、両昇降シリンダ３５がシャフト３６を繰り出すと、各スライダ２７が昇降テーブル２６に沿ってスライドし、これに固定されている両開閉ベースブラケット２９，２９及び開閉ベース２１，２２が吸引ベース３０から離反し、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０が反転する前においては、各開閉ベース２１，２２の内面が各露光部２，４におけるテーブル８表面の降下位置（図１にて一点鎖線で示すパスレベル）と面一となる位置にて停止する。

また、両開閉モータ３７，３７が両開閉ベース２１，２２を回転駆動すると、両開閉ベース２１，２２が、吸引ベース３３と平行な状態から、図１３に示すように吸引ベース３３に対して垂直となる状態まで回転し、これによって、吸引ベース３３の収容凹部３０ｂが、外部に露出される。

＜反転部のクリーニングユニット＞
図４は、クリーニングユニット１３の全体を、図２と同じ方向から示す斜視図である。この図４に示されるように、クリーニングユニット１３は、移動テーブルとしてのＹ−Ｚテーブル４０によって、反転部３内に保持されている。このＺ−Ｙテーブル４０は、ｙ方向に向けて反転部３の図示せぬフレームに固定された一対のガイドレール４１，４１と、各ガイドレール４１によって夫々ｙ方向にスライド自在に保持された一対のｙテーブル４２，４２と、ｚ方向に向けて両ｙテーブル４２，４２の間に掛け渡されたガイドレール４３と、このガイドレールによってｚ方向にスライド自在に保持されたｚテーブル４４と、ｘ方向に向けてｚテーブル４４から突出するように固定されたステー４５とから、構成される。なお、各ｙテーブル４２，４２及びｚテーブル４４は、夫々、内蔵するアクチュエータによって各ガイドレール４１，４３に対してスライドし且つ位置決めされる。

クリーニングユニット１３は、図４に示すような箱形のフレームに収容されており、その上流側（図１における左側）の下縁が切り欠かれ、これによって形成された開口に、回転軸をｘ方向に向けた粘着ローラ４６が、回転自在に取り付けられている。このクリーニングユニット１３のＹ−Ｚ平面に沿った縦断面を図１に示す。この縦断面に示されるように、粘着ローラ４６は、これと平行な回転軸を介して回転自在に保持された転写ローラ４７（図12）に接触し、この転写ローラ４７が回転することによって従動し、除塵対象面上を転がる。この粘着ローラ４６の外周面には粘着剤の層が形成されているので、この粘着剤の粘着力により除塵対象面上に付着していた塵芥を絡め取る。一方、転写ローラ４７は、チェーンやギヤ等の公知の伝達装置を介して、駆動モータ４８によって回転駆動され、その外周面には、粘着ローラ４６よりも強い粘着力を有するテープが、その粘着面を外側に向けて巻かれている。その結果、粘着ローラ４６の外周面に付着していた塵芥は、転写ローラ４７の表面に転写されて回収される。このように転写ローラ４７によって回収された塵芥は、転写ローラ４７の外周面から粘着テープを一巻分剥ぎ取られることによって、廃棄される。

＜反転部の制御系＞
上述した吸引ポンプ４４，反転装置移動シリンダ３３，回転駆動モータ３４，昇降シリンダ３５，３５，回転モータ３７，３７，ｙテーブル４２，４２，ｚテーブル４３，及び駆動モータ４８は、夫々、図５に示すように、反転部３全体の動作を制御する制御装置である反転部コントローラ４９に接続され、この反転部コントローラ４９から制御信号及び駆動電力を供給されて、所定のシーケンスに従った動作を行う。なお、この反転部コントローラ４９自体は、露光装置全体の動作を制御する制御装置である全体コントローラ５０に接続され、この全体コントローラ５０によって動作タイミング等を制御される。以下、反転部コントローラ４９が反転部各部を制御するシーケンスを、図６乃至図２０に基づいて、説明する。なお、図６乃至図１１によって示す動作が行われている間、クリーニングユニット１３は停止したままであるので、その図示が省略されている。

図６は、初期状態にある反転装置９を示している。この初期状態においては、両開閉ベース２１，２２が吸引ベース３０と平行となっており、両開閉ベースブラケット２９，２９が吸引ベース３０のリブ３０ａ，３０ａから離間しており、支柱部材２４が最も下流側（図中右側）に移動しており、吸引ベース３０が各開閉ベース２１，２２の上方に位置し且つ水平方向を向く回転位置に保持されている。図６に示す初期状態においては、上述したように、両開閉ベース２１，２２の内面は、パスレベル（図６における一点鎖線）と面一となっている。この状態において、全体コントローラ５０の制御の下、上述した第１ハンドラ６は、第１露光部２にて第１面の露光を完了したワークＷを、両開閉ベース２１，２２と吸引ベース３０との隙間に挿入し、両開閉ベース２１，２２の内面上における位置決めピン２１ａ，２２ａに当接する位置に載置する。この状態を、図７に示す。

次に、反転部コントローラ４９は、両開閉ベースブラケット２９，２９が上昇して吸引ベース３０のリブ３０ａ，３０ａに接触する位置で停止するように各昇降シリンダ３５，３５を制御する。この位置においては、ワークＷの第１面が吸引ベース３０の収容凹部３０ａの内面に接触する。但し、この時点では、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４を作動させない。この状態を、図８に示す。

次に、反転部コントローラ４９は、回転駆動モータ３４及び反転部移動シリンダ３３を同期させ、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０を図中時計方向に回転させるとともに、支柱部材２４を上流側へ移動させる。この制御により、反転装置９の状態は、図９、図１０、図１１の順に変化する。

なお、図９に示すように両開閉ベース２１，２２が傾斜しだすと、この時点においては吸着ベース３０による真空吸着はなされていないので、ワークＷ自体の重量により、ワークＷが両位置決めピン２１ａ，２２ａに完全に突き当たる状態を確保できるので、その姿勢及び位置が正される。そこに至り、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４を作動させて、ワークＷを吸引ベース３０の収容凹部３０ａの内面に吸着させる。その結果として、ワークＷのアライメントが自動的に完了してしまうので、第２露光部４前に特別なプリアライメント機構を設ける必要がなくなる。

図１１の状態においては、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０は水平となり、支柱部材２４は最も上流側の位置に移動している。この図１１に示す状態から、反転部コントローラ４９は、更に回転駆動モータ３４を制御し、両開閉ベース２１，２２及び吸引ベース３０を更に回転させて、吸引ベース３０の収容凹部３０ａが上方を向き且つその先端が水平方向から下方へ傾斜した状態にて停止させる（図１２参照）。この角度は、例えば、水平方向から３０度である。

次に、反転部コントローラ４９は、両回転モータ３７，３７を制御して、両開閉ベース２１，２２を開放させる。この状態を図１３に示す。なお、図１３に描かれた破線は、Ｙ−Ｚテーブル４０を制御するために予め反転部コントローラに設定されているクリーニングユニット１３の移動軌跡である（図においては、粘着ローラ４６の中心の移動軌跡として示した）。即ち、反転部コントローラ４９は、この破線に示す移動軌跡に沿ってクリーニングユニットを移動させるように、両ｙテーブル４２及びｚテーブル４３を制御するのである。

具体的には、クリーニングユニット１３は、先ず、図１３に示す位置から図１４に示す位置まで下降し、吸着ベース３０の収容部３０ａ内に固定されているワークＷの第２面の表面と粘着ローラ４６の接面とを一致させる。次に、クリーニングユニット１３は、駆動モータ４８によって転写ローラ４７を介して粘着ローラ４６を同期回転させつつ、吸着ベース３０と平行に、下流側へ向けて斜めに下降するように移動する。この移動の途中において、粘着ローラ４６は、ワークＷの第２面上を加圧しつつ転がり、この第２面を除塵する（図１５参照）。そして、クリーニングユニット１３は、粘着ローラ４６が収容部３０ａの端部に至ると（図１６参照）、一旦吸着ベース３０に対して垂直に離間した後に（図１７参照）、吸着ベース３０と平行に、上流側へ向けて斜めに上昇するように移動する（図１８参照）。そして、クリーニングユニット１３は、粘着ローラ４６が収容部３０ａの端部に至ると、鉛直に上昇して、図１３に示す初期位置に復帰する。

次に、反転部コントローラ４９は、回転駆動モータ３４を逆転させて、吸引ベース３０が水平となる回転位置に戻す（図１９参照）。このとき、吸引ベース３０の収容凹部３０ａの内面は、パスレベルと面一となっている。そこで、反転部コントローラ４９は、吸引ポンプ４４による吸引を停止させる。すると、全体コントローラ５０の制御の下、上述したハンドラ７がワークＷを取り上げて第２露光部４へ移動させる（図２０参照）。

次に、反転部コントローラ４９は、両回転モータ３７を制御することによって、両開閉ベース２１，２２を閉じて、吸引ベース３０と平行となる位置に復帰させる。また、両開閉ベースブラケット２９，２９が吸引ベース３０のリブ３０ａ，３０ａから離間するように各昇降シリンダ３５，３５を制御する。上述した図３は、この状態を示すものである。

次に、反転部コントローラ４９は、支柱部材２４が最も下流側（図中右側）に移動するよう反転装置移動シリンダ３３を制御しつつ、吸引ベース３０が各開閉ベース２１，２２の上方に位置し且つ水平方向を向くように回転駆動モータ３４を制御することにより、図６に示す初期状態に復帰させる。

＜各露光部のクリーニングユニット＞
各露光部２，４のクリーニングユニット（第１の除塵装置，第２の除塵装置）１２，１２も、反転部３のクリーニングユニット１３と同様に、図４に示したものと全く同じ構造を有するＹ−Ｚテーブルによって支持されており、Ｙ−Ｚ面内で、予め設定された軌跡に沿って移動する。図１には、これらクリーニングユニット１２，１２のＹ−Ｚ面内での縦断面も示されている。

各クリーニングユニット１２は、箱形のケーシングに収容されている。但し、図４と異なり、その上流側（図１における左側）の下縁及び上縁が切り欠かれ、それによって形成された各開口に、回転軸をｘ方向に向けた粘着ローラ５７，５７が、夫々、回転自在に取り付けられている。図２１は、各クリーニングユニット１３を上流側から見た状態を示す透視図である。この図２１及び図１に示されるように、両粘着ローラ５７，５７は、これと平行な回転軸を介して回転自在に保持された転写ローラ５８に接触し、この転写ローラ５８が回転することによって従動し、除塵対象面上を転がり、除塵対象面上に付着していた塵芥を絡め取り、より強い粘着力を有する転写ローラ５８の表面に、当該塵芥を転写させる。これら各ローラ５７，５８の構成及び機能は、上述した反転部３のクリーニングユニット１３のものと全く同じである。但し、転写ローラ５８は、ケーシングの外側に固定された駆動モータ５３によって回転駆動される。

＜各露光部の制御＞
図５に示すように、全体コントローラ５０は、更に、第１露出部２を制御するための第１露出部コントローラ５６及び第２露出部４を制御するための第２露出部コントローラ５１に対して、制御信号を供給している。そして、各露出部コントローラ５１，５５には、夫々、Ｙ−Ｚテーブル５２，駆動モータ５３，ステージ８の上昇機構５５，ステージ８の吸引ポンプ５４，光源１４が接続されており、各露出部コントローラ５１，５５から、夫々、制御信号及び駆動電力を供給されている（図５においては、第２露光部コントローラ５１に接続されているもののみを図示し、第１露光部コントローラ５６に接続されているものの図示を省略した。）。以下、各露光部コントローラ５１，５６が各露光部２，４のクリーニングユニット１２を制御するシーケンスを、図２２乃至図２７に基づいて、説明する。なお、第１露光部コントローラ５１が行う制御と第２露光部コントローラ５６が行う制御とは、動作タイミング及びクリーニングユニット１２の退避位置（第１露光部２のクリーニングユニット１２は搬入部１内，第２露光部４のクリーニングユニット１２は排出部５内）が異なるのみで、それ以外は全く同じである。そこで、第２露光部コントローラ５１を例にとって、以下の説明を行う。

図２２は、第２露光部４において、ステージ８上に吸引ポンプ５４によって吸着されたワークＷを、当該ステージ８を上昇機構５５によって上昇させることによって、マスク１０に当接させた状態を示している。この状態において、第２露光部コントローラ５１は、光源１４を発光させることにより、マスク１０越にワークＷの第２面を露光して、マスク１０に描かれたパターンを露光する。この際、クリーニングユニット１２は、第２露光部コントローラ５１によって制御されたＹ−Ｚテーブル５２によって、排出部５内に退避されている。

次に、第２露光部コントローラ５１は、上昇機構５５を制御することにより、ステージ８を、その上面がパスレベルと面一となるまで下降させるとともに、吸引ポンプ５４を停止させる。この状態においてハンドラ７がステージ８上のワークＷを把持し（図２３参照）、排出部５に移動させる（図１参照）。

次に、第２露光部コントローラ５１は、Ｙ−Ｚテーブル５２を制御することにより、クリーニングユニット１２を図２４に示す初期位置，即ち、上側の粘着ローラ５７がマスク１０の下面における一端に当接した位置に、移動させる。なお、図２４に描かれた破線は、Ｙ−Ｚテーブル５２を制御するために予め第２露光部コントローラ５１に設定されているクリーニングユニット１２の移動軌跡である（図においては、上側の粘着ローラ５７の中心の移動軌跡として示した）。即ち、第２露光部コントローラ５１は、この破線に示す移動軌跡に沿ってクリーニングユニット１２を移動させるように、Ｙ−Ｚテーブル５２を制御するのである。

具体的には、クリーニングユニット１２は、先ず、図２４に示す位置から図２５に示す位置までｚ方向に水平移動する。この間、第２露光部コントローラ５１は、駆動モータ５３を回転させることにより、クリーニングユニット１２自体の移動速度に同期させて、上側の粘着ローラ５７を図中反時計方向に回転させる。これによって、マスク１０の下面を粘着ローラ５７が加圧しつつ転がり、マスク１０の下面が除塵される。

次に、ステージ８が若干量上昇するとともに、クリーニングユニット１２が図２５に示す位置から図２６に示す位置まで下降して、その下側の粘着ローラ５７をステージ８の上面に接触させる。

次に、クリーニングユニット１２は、図２６に示す位置から図２７に示す位置までｚ方向に水平移動する。この間、駆動モータ５３が同方向に回転し続けているので、クリーニングユニット１２自体の移動速度に同期して、下側の粘着ローラ５７が図中反時計方向に回転している。これによって、ステージ８の上面を粘着ローラ５７が転がり、ステージ８の上面が除塵される。

なお、図２８は、第１露光部２においてはマスク１０の下面の除塵がなされ、反転部３においてはワークＷの第２面の除塵がなされ、第２露光部４においてはステージ８の上面の除塵がなされている状態を示している。

なお、各露光部２，４において除塵をするタイミングは、ステージ８とマスク１０との間に空間ができるタイミングであれば良く、予め一定の露光サイクルで除塵が開始されても良いし、任意の露光が完了して、ワークＷが排出したタイミングで除塵が開始されても良い。

＜本実施形態による利点＞
１．反転部３における反転装置９の上方に、ワークＷの第２面を除塵するクリーニングユニット１３を設けたことによる利点

本実施形態によると、ワークＷの第２面を除塵するクリーニングユニット１３を、反転部３における反転装置９の上方に設置している。従って、反転装置９と第２露光部４との間に除塵装置の設置スペースを確保する必要がないので、露光装置全体のｚ方向（ワークＷが移動する方向）におけるサイズを抑えることができる。

２．反転部３においてワークＷの第２面を除塵する他、各露光部２，４において夫々マスク１０の下面とステージ８の上面を除塵することによるメリット

上述したように反転装置９から第２露光部４のステージまでの途中にクリーニングユニット１３によるワークＷの第２面に対する除塵がなされれば、第１露光部において第２面に付着した塵芥に起因して第２面に形成されたパターンに欠陥が生じるという問題を、解消することはできる。しかし、第１露光部２にて付着した塵芥が多すぎる場合には、当該クリーニングユニット１３による除塵が十分になされない可能性もある。従って、そもそも第１露光部２においてワークＷの第２面に塵芥が付着しないように除塵することが、上記欠陥を完全に防ぐためには望ましい。そのため、本実施形態においては、第１露光部２に上記クリーニングユニット１２を設け、ワークＷの第２面と接触するステージ８の上面に 対する除塵を行っているのである。

また、第２露光部４のステージ８上にワークＷを固定する前に、クリーニングユニット１３によってワークＷの第２面を除塵したとしても、第２露光部４のマスク１０下面（特に、その透光部）に塵芥が付着していると、やはり、上記欠陥が生じてしまう。そのため、本実施形態においては、第２露光部４に上記クリーニングユニット１２を設け、マスク１０の下面の上面の除塵を行っているのである。

更に、マスク１０の下面に塵芥が付着していることに起因するパターンの欠陥は、第１露光部２におけるワークＷの第１面に対する露光の際にも、当該第１面に対して発生し得る。そのため、本実施形態では、第１露光部２のクリーニングユニット１２により、そのマスク１０の下面をも除塵しているのである。

更に、本実施形態では、第２露光部４のクリーニングユニット１２により、ステージ８の上面に対する除塵も行っている。当該ステージ８の上面にて発生した塵芥は、対流又は静電力に因ってマスク１０の下面に移転しない限り、ワークＷの各面に対する露光に影響を及ぼすことはないので、当該ステージ８の上面に対する除塵の必要性は、相対的に低い。しかし、かかる移転の可能性も多少なりともあり、また、塵芥が露光済の第１面に移転することによって後の処理において悪影響を及ぼす可能性もあるので、本実施形態では、第２露光部４のクリーニングユニット１２により、当該ステージ８の上面をも除塵している。

３．各露光部２，４のクリーニングユニット１２が、上下に粘着ローラ５７，５７を備えていることによるメリット

本実施例において各露光部２，４のクリーニングユニット１２は、上下に粘着ローラ５７，５７を備えており、夫々、同一の転写ローラ５８に接触している。かかる構成を採用することにより、本実施形態によれば、一台のクリーニングユニット１２をｚ方向に往復させる間に、一往復する間にマスク１０の下面とステージ８の上面とを除塵することができる。このような効果は、粘着ローラが一本しかないクリーニングユニットによっても、可能ではある。しかし、それを実現するには、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにしたり、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成したり、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるといった工夫が必要となる。しかしながら、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにするならば、転写ローラの寿命が短くなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成するには機構が複雑化してコストや重量が大きなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるならば、除塵途中で粘着ローラの粘着力が落ちてしまうという問題が生じる。本実施形態では、クリーニングユニット１２は、マスク下面用として転写ローラ５８よりも高い位置に設置した粘着ローラ５７と、ステージ上面用として転写ローラ５８よりも低い位置に設置した粘着ローラ５７とを予め備えているので、かかる問題が一切生じないというメリットがある。

＜変形例＞
本実施形態では、反転装置９上に除塵装置としてのクリーニングユニット１３を配置し、反転装置９の吸着ベース３０に吸着されている状態にあるワークＷの第２面に対して、除塵を行っているが、本発明を達成する構成はこれに限定されず、反転装置９から第２露光部４のステージ８へ移送される間の位置に、除塵装置が配置されていても良い。その場合、Ｚ−Ｙテーブル４０によってクリーニングユニット１３を移動させるという構成は必ずしも必要ではなく、例えば、除塵装置を構成する粘着ローラと、これに対向したローラとの間に、第２面を粘着ローラ側に向けてワークＷが繰り込まれる構成であっても良い。

また、本実施形態では、各露光部２，４内においては、一つのクリーニングユニット１２によってステージ１８の上面及びワーク１０の下面の双方が除塵されているが、これらは、別々の除塵装置によって除塵されても良い。なお、第２露光部４内では、マスク１０の下面に対する除塵のみが行われるように構成されても良い。

本発明の実施形態である露光装置の概略側面透視図 初期状態にある反転装置の斜視図 反転後の反転装置の斜視図 クリーニングユニット及びＹ−Ｚテーブルの斜視図 露光装置の制御系の回路構成を示すブロック図 反転装置の動作説明図 反転装置の動作説明図 反転装置の動作説明図 反転装置の動作説明図 反転装置の動作説明図 反転装置の動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 反転装置及びクリーニングユニットの動作説明図 各露光部のクリーニングユニットの正面透視図 各露光部のクリーニングユニットの動作説明図 各露光部のクリーニングユニットの動作説明図 各露光部のクリーニングユニットの動作説明図 各露光部のクリーニングユニットの動作説明図 各露光部のクリーニングユニットの動作説明図 各露光部のクリーニングユニットの動作説明図 各クリーニングユニットが夫々除塵を行っている状態を示す図

符号の説明

２ 第１露光部
３ 反転部
４ 第２露光部
８ ステージ
９ 反転装置
１０ マスク
１２ クリーニングユニット
１３ クリーニングユニット
１４ 光源
４９ 反転部コントローラ
５０ 全体コントローラ
５１ 第２露光部コントローラ
５２ Ｙ−Ｚテーブル
５３ 駆動モータ
５５ 昇降機構
５６ 第１露光部コントローラ

Claims (4)

1. ワークの第１面を露光する第１露光部と第２面を露光する第２露光部との間に移送手段を備えてなる露光装置であって、
   前記第１露光部は、マスクと、当該マスク側に第１面を向けた状態でワークが固定される固定面を有するステージと、前記マスク及び前記ステージを相対的に接近させることによって前記マスクと前記ワークの第１面とを接触させる移動機構と、前記マスク越しに前記ワークの第１面に対して光を照射する光源と、前記マスクの前記ワーク側の面及び前記ステージの固定面を除塵する第１の除塵装置とを備え、
   前記第２露光部は、マスクと、当該マスク側に第２面を向けた状態でワークが固定される固定面を有するステージと、前記マスク及び前記ステージを相対的に接近させることによって前記マスクと前記ワークの第２面とを接触させる移動機構と、前記マスク越しに前記ワークの第２面に対して光を照射する光源と、前記マスクの前記ワーク側の面を除塵する第２の除塵装置とを備え、
   前記移送手段は、前記第１露光部によって第１面に対する露光がなされたワークを反転させる反転装置と、前記ワークを前記第１露光部のステージ上から前記反転装置を経由して前記第２露光部のステージ上まで移送する移送機構と、前記反転装置から前記第２露光部のステージまでの前記移送機構によるワークの移送経路上に設置されて前記ワークの第２面を除塵する第３の除塵装置とを備える
   ことを特徴とする露光装置。
2. 前記各除塵装置は、外周面に粘着層を有し除塵対象面に接触して転がる粘着ローラと、当該粘着ローラを回転自在に保持するフレームと、当該フレームごと前記粘着ローラを移動させることによって前記粘着ローラを除塵対象面に接触させて当該面上で転がさせる移動テーブルとを有する
   ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 前記第１及び第３の除塵装置は、前記マスクの前記ワーク側の面に接触する第１の粘着ローラ及び前記ステージの固定面に接触する第２の粘着ローラを有する
   ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
4. 前記第２の除塵装置は、反転した後の前記ワークの第2面に接触する粘着ローラを有する
   ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。