JP2004077592A

JP2004077592A - ワークの処理方法、ワークの処理装置、及びガラス基板の搬送装置

Info

Publication number: JP2004077592A
Application number: JP2002234638A
Authority: JP
Inventors: Kensaku Suzuki; 鈴木　謙作
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-08-12
Filing date: 2002-08-12
Publication date: 2004-03-11

Abstract

【課題】矩形平板状のワークに対してその各辺に沿った方向に関する処理を効率よく行うことができ、しかもワークに歪みを生じさせる要因を排除して、大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても確実に処理する。
【解決手段】矩形平板状の基板２をその一辺２ａと平行な第１の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第１の作業装置４により搬送途中の基板２の第１の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第１の作業工程と、第１の処理を受けた基板２の搬送方向を前記一辺と直交する他の一辺２ｂと平行な第２の方向に切り替える方向切替工程と、基板２を第２の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第２の作業装置５により搬送途中の基板２の第２の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第２の作業工程とを備える。
【選択図】　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルタの基板の端部の洗浄等を行うワークの処理装置及び処理方法、並びにこれらに好適なガラス基板の搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ等の表示装置に使用されるカラーフィルタのガラス製基板にフォトリソグラフィプロセスを利用してパターンを形成する場合、基板側へのパターンの転写に先立って基板上にはレジスト膜が形成される。レジスト膜は本来均一な厚さに形成されるべきであるが、レジスト剤の塗布方法による制約から、基板上の特定部分の膜厚が他の部分に比べて厚くなることがある。例えば、基板を回転させてレジスト剤を塗布するスピンコート法を利用した場合には、回転に伴う遠心力の影響で基板の周辺部の膜厚が増加する。ダイコータを利用して塗布した場合には塗布開始位置と終了位置においてレジスト剤が多めに供給されてそれらの部分の膜厚が増加する。ところが、露光後の現像工程では正常な膜厚を基準として処理時間等が定められているので、上記のように膜厚が大きい特定部分ではレジスト膜が除去し切れない。しかし、残留した一部のレジスト膜を放置すると、その後に形成されるレジスト膜の均一性に影響が生じたり、残留したレジスト膜がその後の工程で剥離し、これが異物となって欠陥が引き起こされる。
【０００３】
そこで、パターンの現像に先立って膜厚の大きい特定部分に予め現像液を塗布してその部分のレジスト膜に現像液を十分に膨潤させ、その後のパターンの現像により、特定部分のレジスト膜も確実に除去するようにした基板の洗浄方法及びそのための洗浄装置が提案されている。例えば、特開平７−２７９１７号公報に記載された洗浄装置では、基板をその一辺と平行な方向に搬送するラインの途中で基板を一時的に停止させ、その停止した基板の搬送方向と直交する二辺に現像液塗布ローラを接触させ、このローラを搬送方向と直交する方向に移動させて上記二辺に現像液を塗布している。その後、基板を停止位置から下流側へ搬送し、その搬送途中で基板の搬送方向と平行な二辺に別の現像液塗布ローラを接触させて残りの二辺にも現像液を塗布している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述した公報記載の洗浄装置では、搬送方向と直交する方向の基板の辺に現像液を塗布する際、搬送ラインのローラでは基板を定位置に保持することができないため、基板をステージで持ち上げて支持している。しかしながら、搬送ラインのローラとの干渉を避ける必要からステージによる基板の支持位置は制限される。このため、基板のサイズによっては適切な位置で基板を支持することができず、何らかの不都合が生じることがある。例えば基板の端部を支持できない場合には、現像液塗布ローラの押し付け力によってガラス製の基板が破損するおそれがある。
【０００５】
カラーフィルタが組み込まれる表示装置の大型化により、カラーフィルタのガラス基板も一辺が１ｍを大きく超えるほど大型化し、その反面、軽量化の要請から基板の厚さは減少している。ライン上でガラス基板が破損すればその破片が広範囲に散乱し、後始末に極めて多大な手間がかかる。従って、基板の支持には細心の注意が必要とされ、基板に歪みを生じさせる所作は極力排除されねばならない。
【０００６】
また、上記公報記載の装置では、少なくとも二辺に現像液を塗布する間は搬送ラインを停止させる必要がある。このような生産ライン上における基板の停止は生産効率を低下させる大きな要因となる。基板を停止させた状態で塗布後のローラを元の位置に復帰させ、それが終わるのを待って基板の移動を再開させる場合には、ラインの停止に伴う効率の低下はさらに深刻である。
【０００７】
さらに、上記公報記載の装置では、ガラス基板上を現像液塗布ローラを含んだ可動機構が往復するため、可動部分からの発塵や現像液のたれにより、基板上に異物が付着し、後工程で欠陥が生じる原因となることもある。
【０００８】
そこで、本発明は、矩形平板状のワークに対してその各辺に沿った方向に関する処理を効率よく行うことができ、しかもワークに歪みを生じさせる要因を排除して、大型のガラス基板のような破損し易いワークであっても確実に処理することができるワークの処理方法及び装置、並びにガラス基板の搬送に好適な搬送装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【００１０】
本発明のワークの処理方法は、矩形平板状のワーク（２）をその一辺（２ａ）と平行な第１の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第１の作業手段（４）により前記搬送途中のワークの前記第１の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第１の作業工程と、前記第１の処理を受けたワークの搬送方向を前記一辺と直交する他の一辺（２ｂ）と平行な第２の方向に切り替える方向切替工程と、前記ワークを前記第２の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第２の作業手段（５）により前記搬送途中のワークの前記第２の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第２の作業工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
この発明によれば、ワークを搬送しながら第１の作業手段及び第２の作業手段にて所定の処理を行うようにしたので、これらの作業手段を定位置に置いたままで第１の方向及び第２の方向にそれぞれ沿った領域に対して所定の処理を行うことができる。作業手段によってワークを処理する際にワークを搬送経路上で停止させる必要がないので生産効率の向上に有利である。また、処理中のワークの保持のためにワークを搬送経路から持ち上げて支持する必要がないから、不自然な支持位置でワークを支持して処理を行うことによってワークに危険な歪みを生じさせるおそれがなく、ワークのサイズに拘わりなく安全確実に処理を行える。作業手段をワーク上で移動させる必要もないから、可動部分からの発塵や可動部分からの異物等の落下によりワークが汚されるおそれもない。作業手段が作業前の状態に復帰するのを待ってからワークの搬送を再開するような待ち時間も生じず、生産効率を一層向上させることができる。
【００１２】
本発明の処理方法において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第１の作業工程及び前記第２の作業工程では、前記搬送経路上に配置された現像液塗布ローラ（３５）を前記ワークと接触させて当該レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布してもよい。前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成されている場合において、前記前記第１の作業工程及び前記第２の作業工程では、前記搬送経路上に配置された露光装置（３１）から前記ワークの前記レジスト膜に対して露光を行ってもよい。これらの場合にはカラーフィルタの基板に対する端部洗浄や端部露光において本発明の作用効果を発揮させて基板の破損の回避やレジスト膜の除去処理の信頼性の向上等を達成することができる。
【００１３】
本発明のワークの処理装置は、矩形平板状のワーク（２）をその一辺（２ａ）と平行な第１の方向に搬送する第１の搬送手段（１１）と、前記第１の搬送手段によって搬送されるワークの搬送方向を、当該ワークの前記一辺と直交する他の辺（２ｂ）と平行な第２の方向に切り替える方向切替手段（１４）と、前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたワークを前記第２の方向に搬送する第２の搬送手段（１２）と、前記第１の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第１の作業手段（４）と、前記第２の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第２の作業手段（５）と、を備えたことを特徴とする。
【００１４】
この処理装置によれば、第１の搬送手段上では第１の作業手段とワークとの間に第１の方向への相対的な運動が生じているので、第１の搬送経路上の定位置に配置された第１の作業手段により、ワークの第１の方向に沿った領域に対して所定の処理を施すことができる。また、第２の搬送手段上では第２の作業手段とワークとの間に第２の方向への相対的な運動が生じているので、第２の搬送経路上の定位置に配置された第２の作業手段により、ワークの第２の方向に沿った領域に対して所定の処理を施すことができる。このようにして本発明の処理装置によれば本発明の処理方法を実現して上述した通りの作用効果を奏することができる。
【００１５】
本発明の処理装置において、前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段は前記レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布する現像液塗布ローラ（３５）を備えてもよい。前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成され、前記前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段は、前記ワークの各辺に沿った領域に前記ポジ型レジストを反応させる光を照射する照射部（３３）を含んでもよい。これらによれば、端部洗浄や端部露光を対象として本発明の処理方法を実施可能な処理装置を提供することができる。
【００１６】
前記第１及び前記第２の搬送手段には前記ワークを支持しつつ回転する搬送ローラ（１６）が設けられ、前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段の少なくともいずれか一方の現像液塗布ローラが前記搬送ローラと対向して配置されてもよい。この場合には現像液塗布ローラを基板に押し付ける力を搬送ローラで受けて基板の歪みの発生を防止することができる。
【００１７】
前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段の少なくともいずれか一方の作業手段では、前記現像液塗布ローラが前記ワークを挟み込むようにして上下に対向させて複数設けられてもよい。この場合には一方の側の現像液塗布ローラが基板を押す力を他方の現像液塗布ローラで受けて基板の歪みの発生を防止することができる。
【００１８】
なお、前記現像液塗布ローラは前記ワークの互いに平行な二辺に対応して一対設けられてもよい。この場合には二辺に対して同時に現像液を塗布でき、第１の作業手段及び第２の作業手段の通過によりワークの四辺に現像液を塗布できる。
【００１９】
さらに、本発明のガラス基板の搬送装置（３）は、矩形平板状のガラス基板（２）をその一辺（２ａ）と平行な第１の方向に搬送する第１の搬送手段（１１）と、前記第１の搬送手段によって搬送されるガラス基板の搬送方向を、当該ガラス基板の前記一辺と直交する他の辺と平行な第２の方向に切り替える方向切替手段（１４）と、前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたガラス基板を前記第２の方向に搬送する第２の搬送手段（１２）とを備えたことを特徴とする。この搬送装置によれば、本発明の処理方法及び処理装置を容易に実現することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の一実施形態の端部洗浄装置を示している。この端部洗浄装置１は、液晶ディスプレイ表示装置に組み込まれるガラス製のカラーフィルタ用の基板（ワーク）２の周辺部を洗浄するためのものであって、搬送装置３と、第１の作業装置４と、第２の作業装置５と、各装置の動作を制御する制御装置６とを備えている。搬送装置３は、基板２を直線的に搬送する第１搬送部１１、第２搬送部１２、及び第３搬送部１３と、第１搬送部１１と第２搬送部１２との間で基板２の搬送方向を切り替える方向切替部１４と、第２搬送部１２と第３搬送部１３との間で基板２の搬送方向を切り替える方向切替部１５とを備えている。搬送部１１〜１３は搬送ローラ１６によって基板２を下から支えつつ搬送するローラコンベアであり、それらの詳細は周知のローラコンベアと同様でよい。
【００２１】
第１搬送部１１は基板２をその一辺２ａと平行な第１の方向（矢印Ａ方向）に搬送し、第２搬送部１２は基板２を第１の方向と直交しかつ他の一辺２ｂと平行な第２の方向（矢印Ｂ方向）に搬送する。第３搬送部１３は第１の方向に基板２を搬送する。これにより、搬送装置３は全体としてクランク状に屈曲した搬送経路を備えている。搬送部１１〜１３はいずれも基板２を水平に保持しつつ搬送するが、その搬送高さは第１搬送部１１が最も低く、第３搬送部１３が最も高い。つまり、第１搬送部１１から第３搬送部１３に向かって段階的に基板２の高さが増している。
【００２２】
図２にも示したように、方向切替部１４は第１搬送部１１から基板２を受け取り、第１の方向及び第２の方向と基板２の辺２ａ、２ｂとの関係を維持したまま、その基板２を第２搬送部１２へ送り出す。従って、第２搬送部１２においても基板２の一辺２ａは第１の方向と平行に維持される。つまり、方向切替部１４は基板２を水平面上で回転させることなく、第１搬送部１１から受け取ったままの姿勢でその搬送方向を第２搬送部１２の搬送方向へと切り替えるものである。このような基板２の搬送方向の切替は様々な構成により実現することができるが、図２の方向切替部１４では、一例として、第１搬送部１１の搬送方向に基板２を搬送する第１のローラ１７…１７と、第２搬送部１２の搬送方向に基板２を搬送する第２のローラ１８…１８とを設け、第２のローラ１８を第１のローラ１７よりも低い位置（図２（ａ））と高い位置（図２（ｂ））との間で切り替えられるようにして搬送方向の切替を実現する。
【００２３】
すなわち、第１搬送部１１から基板２を受け取る際には、図２（ａ）に示したように第２のローラ１８を下降させ、その状態で第１のローラ１７を回転させて基板２を取り込む。この後、図２（ｂ）に示すように第２のローラ１８を第１のローラ１７よりも上昇させ、第２のローラ１８の回転により基板２を第２搬送部１２に送り出す。こうした第２のローラ１８の上下動の繰り返しによって基板２を第１搬送部１１から第２搬送部１２へと移し替える。なお、第１のローラ１７が基板２を支持する高さは第１搬送部１１のそれと等しく、第２のローラ１８が基板２を支持する高さは第２搬送部１２のそれと等しい。
【００２４】
第１のローラ１７及び第２のローラ１８をそれぞれ回転させる機構及び第２のローラ１８を昇降させる機構については適宜に構成してよいが、その一例を図３に示す。
【００２５】
図３の例では、同軸上に並ぶ全ての第１のローラ１７…１７を共通のローラ軸２０に取り付け、そのローラ軸２０を搬送装置３のフレーム等の構造物２１に回転可能に装着する（装着部分は不図示）。そして、各ローラ軸２０をチェーンやベルト等の動力伝達部材を介してモータ等の回転駆動源と連結して第１のローラ１７を回転駆動可能とする。一方、第２のローラ１８についてはローラ軸２０との干渉を避ける必要から、同軸上の第２のローラ１８を共通のローラ軸で連結することができない。従って、ローラ１７，１８の下方にローラ１８の支持部材２２を配置し、その支持部材２２には第１のローラ１７の隙間に向かってローラ支持部２２ａを設け、そのローラ支持部２２ａに各ローラ１８を個別に（つまりローラ１８毎に）回転可能に取り付ける。支持部材２２は昇降ガイド２３，２３を利用して構造物２１に昇降可能に取り付け、構造物２１には支持部材２２を昇降駆動するエアシリンダ等のアクチュエータ２４を設ける。さらに、ローラ軸２０の方向に並ぶ第２のローラ１８をベルト等の動力伝達部材２５を介して不図示のモータ等の回転駆動源と連結する。動力伝達部材２５は第１のローラ１７と干渉しないように第１のローラ１７の下方に離し、アイドラ２６等を利用して第２のローラ１８の取付位置で動力伝達部材２５を上方に引き込むようにする。
【００２６】
以上の構成によれば、第１のローラ１７及び第２のローラ１８をそれぞれ別々に回転駆動でき、かつ第１のローラ１７のローラ軸２０との干渉を避けながら第２のローラ１８を昇降させることができる。なお、このようなローラ１８の昇降動作の制御は、例えば方向切替部１４への基板２の搬入及び搬出をセンサ５０，５１で検出し、その検出信号に基づいて制御装置６がアクチュエータ２４の動作を支持することにより実現することができる。
【００２７】
上記の例は方向切替部１４を実施するための一例として示すものであり、本発明はこのような実施形態に限定されない。なお、第２搬送部１２と第３搬送部１３との間に配置された方向切替部１５については、方向切替部１４と同様の構成でよく、動作制御に関しても同様でよい。それらの詳細は説明を省略する。
【００２８】
次に、作業装置４，５について説明する。図１に示すように、第１搬送部１１に設けられた第１の作業装置４は露光装置３１と、現像液塗布装置３２とを含んでいる。図４（ａ）に示したように、露光装置３１は一つの照射部３３，３３から基板２に対して紫外線を照射するものであり、各照射部３３からの紫外線の照射範囲は、基板２の第１の方向（図１の矢印Ａの方向）と平行な辺２ａ、２ｂに沿った所定幅に設定されている。こうした端部の露光処理は、基板２上のレジスト膜４０がポジ型レジストによって構成されているときに必要とされることがある。ポジ型レジストが使用された場合には露光部分が後の現像処理で除去されるので、基板２の周辺部に対しては、特にパターンが形成されない限りは十分な露光を行う必要がある。しかし、基板２の大型化等の理由から、現実には基板２の周辺部に十分な露光を行うことができない露光機が少なからず存在している。こうした露光機が使用される場合には、露光機によるパターン転写とは別に基板２の端部に紫外線を照射する必要がある。図４（ａ）の露光装置３１はこうした目的で設置されている。
【００２９】
また、図４（ｂ）に示したように、現像液塗布装置３２は基板２の辺２ａ、２ｃに沿った端部とそれぞれ対向して設置された一対の現像液塗布ローラ３５，３５を含んでいる。ローラ３５，３５は共通の回転軸３６に連結される。回転軸３６は搬送装置３のフレーム等に支持されてその軸線の回りに回転自在である。ローラ３５はスポンジのように大量の液体を含浸し得る材料にて構成される。図５（ａ）から明らかなように、ローラ３５の外周面には現像液供給管３７（図５参照）からレジスト膜４０に対する現像液が供給される。また、第１の方向に関してローラ３５は第１搬送部１１の搬送ローラ１６と位置を合わせて配置され、基板２をローラ３５，１６の間で挟み込むことが可能である。
【００３０】
一方、第２の作業装置５は第１の作業装置４と同様に露光装置３１及び現像液塗布装置３２を含むものである。但し、露光装置３１の照射部３３，３３、及び現像液塗布装置３２の現像液塗布ローラ３５，３５は、基板２の辺２ｂ、２ｄに沿った端部に紫外線を照射し、又は現像液を塗布するようにそれぞれの位置が調整されている。現像液塗布ローラ３５が第２搬送部１２の搬送ローラ１６と位置を合わせて設けられている点も同じである。
【００３１】
次に、一枚の基板２に対する端部洗浄装置１の処理を説明する。
【００３２】
まず、第１搬送部１１においては、レジスト膜４０が形成されて必要なパターン転写が行われた後の基板２がその一辺２ａと平行にして搬送される。図５（ｂ）に示すように、基板２が露光装置３１を通過する際にその基板２の辺２ａ、２ｃに沿った端部に照射部３３から紫外線が照射され、当該部分のレジスト膜４０が露光される。続いて、基板２は現像液塗布装置３２を通過し、そのとき基板２の辺２ａ、２ｃが現像液塗布ローラ３５と第１搬送部１１の搬送ローラ１６との間に挟み込まれる。これによりローラ３５に含まれた現像液が辺２ａ、２ｃに沿って形成されたレジスト膜の盛り上がり部４１に塗布される。
【００３３】
この後、基板２は方向切替部１４に移動し、そこでは第２のローラ１８の上昇により基板２が第２搬送部１２の搬送高さまで持ち上げられ、第２のローラ１８の回転により基板２が第２搬送部１２へ搬出される。第２搬送部１２に移動した基板２は搬送ローラ１６によって第２の方向に搬送される。その基板２が第２の作業装置５の露光装置３１を通過する際に基板２の辺２ｂ、２ｄに沿った端部に紫外線が照射され、続いて基板２が現像液塗布装置３２を通過する際に辺２ｂ、２ｄに沿って形成されたレジスト膜の盛り上がり部に現像液塗布ローラ３５から現像液が塗布される。
【００３４】
第２の作業装置５を通過した基板２は方向切替部１５に導かれ、その第２のローラ１８の上昇と回転により基板２は第３搬送部１３に送り出されて再び第１の方向に搬送される。この第３搬送部１３は基板２をパターン現像工程へと搬送する。
【００３５】
以上の端部洗浄装置１によれば、基板２の各辺２ａ〜２ｄを対象とした露光及び現像液の塗布がいずれも基板２を移動させながら行われる。方向切替部１４においても紫外線の照射や現像液の塗布等の作業が完了するまで基板２を停止させる必要がなく、第１の方向に沿って基板２が搬入される毎に逐次基板２を第２の方向に送り出すだけでよい。従って、端部露光や端部洗浄のために生産ライン上で基板２を暫く停止させる必要がない。また、基板２の移動を利用して露光位置や現像液の塗布位置を各辺２ａ〜２ｄに沿って変化させる構成であり、照射部３３や現像液塗布ローラ３５が作業後の位置から作業前の位置に復帰するまで基板２の搬送再開を待つ必要もない。従って、生産効率を向上させることができる。さらに、照射部３３や現像液塗布ローラ３５を移動させる必要がないため、これらの可動機構からの発塵や移動途中の液だれによって基板２が汚されるおそれもない。
【００３６】
現像液塗布ローラ３５が基板２の各辺２ａ〜２ｄに対して一箇所で接触し、その反対側からは搬送装置３の搬送ローラ１６によって基板２が支持されているから基板２を歪ませるような力が基板２に加わらず、現像液塗布ローラ３５による圧力で基板２が破損する心配がない。さらに、この効果は、現像液塗布ローラ３５と搬送ローラ１６とを搬送方向に位置合わせしている限り、基板２の長さや幅が変化してもそれに影響されることなく発揮される。従って、基板２のサイズ変更に対する装置１の許容度が高く、サイズ変更に伴う段取り換えも照射部３３や現像液塗布ローラ３５の位置調整だけで足りるのでこれを迅速に済ませることができる。なお、方向切替部１４，１５では基板２が持ち上げられるが、この部分では基板２が何ら押し下げられないので、支持位置の不良によって基板２に許容量を超える歪みが生じるおそれもない。
【００３７】
本発明は以上の実施形態に限定されず、種々の形態にて実施してよい。例えば、図５に示すようにレジスト膜４０が基板２の裏面側まで回り込む場合には、現像液塗布装置３２の現像液塗布ローラ３５，３５を基板２のそれぞれの辺２ａ〜２ｄに対して上下一対ずつ設け、現像液塗布ローラ３５，３５にて基板２を挟み込んでもよい。照射部３３についても同様に上下一対配置してもよい。特にポジ型レジストが使用される場合において図５のような裏面側へのレジスト膜４０の回り込みが見られる場合には裏面側にも端部露光が必要となり、現像液塗布ローラ３５と同様に照射部３３も上下一対設ける必要がある。
【００３８】
搬送装置３のレイアウトは図１の例に限らない。例えば図７（ａ）に示すように第３搬送部１３を第２搬送部１２に対して第１搬送部１１と同一の側に配置してもよい。第３搬送部１３は必須ではなく、図７（ｂ）に示すように第１搬送部１１と第２搬送部１２とでＬ字型の搬送装置３を構成してもよい。方向切替部１４は第１搬送部１１の終端に限定されず、図７（ｃ）に示すように第１搬送部１１の途中に一又は複数の方向切替部１４を配置し、第１搬送部１１の途中から方向切替部１４を経由して第２搬送部１２へと基板２を送り出せるようにしてもよい。
【００３９】
本発明において、搬送経路上に配置されるべき作業手段は、露光装置３１と現像液塗布装置３２とに限定されず、これらは適宜に変更してよい。例えば、ネガ型レジストが使用される場合には露光装置３１は不要である。上記の実施形態では基板２の各辺２ａ〜２ｄに沿った領域を作業手段にて処理したが、各辺２ａ〜２ｄと平行な方向に延びる領域であれば本発明によって処理可能であり、例えば基板の端部から内側に入り込んだ領域であっても本発明に従って処理してよい。搬送装置はローラコンベアを利用するものに限定されず、基板の搬送に使用可能な各種の搬送手段を使用して搬送装置を構成してよい。例えばリニアモータとステージとを組み合わせた搬送装置においても本発明は適用可能である。
【００４０】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、ワークを搬送しながら第１の作業手段及び第２の作業手段にて所定の処理を行うようにしたので、これらの作業手段を定位置に置いたままで第１の方向及び第２の方向にそれぞれ沿った領域に対して所定の処理を行うことができる。作業手段によってワークを処理する際にワークを搬送経路上で停止させる必要がないので生産効率の向上に有利である。また、処理中のワークの保持のためにワークを搬送経路から持ち上げて支持する必要がないから、不自然な支持位置でワークを支持して処理を行うことによってワークに危険な歪みを生じさせるおそれがなく、ワークのサイズに拘わりなく安全確実に処理を行える。作業手段をワーク上で移動させる必要もないから、可動部分からの発塵や可動部分からの異物等の落下によりワークが汚されるおそれもない。作業手段が作業前の状態に復帰するのを待ってからワークの搬送を再開するような待ち時間も生じず、生産効率を一層向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るワークの処理装置を示す平面図。
【図２】方向切替部の概略を示す斜視図。
【図３】方向切替部の駆動機構の一例を示す図。
【図４】図１の露光装置及び現像液塗布装置を同図のＩＶａ−ＩＶａ線及びＩＶｂ−ＩＶｂ線に沿った断面にて示す図。
【図５】図１の露光装置及び現像液塗布装置による処理を説明するための図。
【図６】基板の裏面側にも現像液を塗布する例を示す図。
【図７】搬送装置のレイアウトについての変形例を示す図。
【符号の説明】
１　端部処理装置
２　ガラス基板（ワーク）
２ａ　一辺
２ｂ　他の一辺
３　搬送装置
４　第１の作業装置（第１の作業手段）
５　第２の作業装置（第２の作業手段）
６　制御装置
１１　第１搬送部（第１の搬送手段）
１２　第２搬送部（第２の搬送手段）
１４，１５　方向切替部
１６　搬送ローラ
１７　第１のローラ
１８　第２のローラ
３１　露光装置
３２　現像液塗布装置
３３　照射部
３５　現像液塗布ローラ
３７　現像液供給管
４０　レジスト膜
４１　盛り上がり部
Ａ　第１の方向
Ｂ　第２の方向

Claims

矩形平板状のワークをその一辺と平行な第１の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第１の作業手段により前記搬送途中のワークの前記第１の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第１の作業工程と、
前記第１の処理を受けたワークの搬送方向を前記一辺と直交する他の一辺と平行な第２の方向に切り替える方向切替工程と、
前記ワークを前記第２の方向に搬送しつつ、その搬送経路上の定位置に配置した第２の作業手段により前記搬送途中のワークの前記第２の方向に沿った領域に対して所定の処理を行う第２の作業工程と、
を備えたことを特徴とするワークの処理方法。
前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第１の作業工程及び前記第２の作業工程では、前記搬送経路上に配置された現像液塗布ローラを前記ワークと接触させて当該レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布することを特徴とする請求項１に記載のワークの処理方法。
前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成され、前記前記第１の作業工程及び前記第２の作業工程では、前記搬送経路上に配置された露光装置から前記ワークの前記レジスト膜に対して露光を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載のワークの処理方法。
矩形平板状のワークをその一辺と平行な第１の方向に搬送する第１の搬送手段と、
前記第１の搬送手段によって搬送されるワークの搬送方向を、当該ワークの前記一辺と直交する他の辺と平行な第２の方向に切り替える方向切替手段と、
前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたワークを前記第２の方向に搬送する第２の搬送手段と、
前記第１の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第１の作業手段と、
前記第２の搬送手段の搬送経路上の定位置に配置され、搬送途中のワークに対して所定の処理を施す第２の作業手段と、
を備えたことを特徴とするワークの処理装置。
前記ワークはレジスト膜が形成されたカラーフィルタ用の基板であり、前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段は前記レジスト膜に対する現像液を前記ワークに塗布する現像液塗布ローラを備えていることを特徴とする請求項４に記載のワークの処理装置。
前記レジスト膜がポジ型レジスト剤から形成され、前記前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段は、前記ワークの各辺に沿った領域に前記ポジ型レジストを反応させる光を照射する照射部を含むことを特徴とする請求項５に記載のワークの処理装置。
前記第１及び前記第２の搬送手段には前記ワークを支持しつつ回転する搬送ローラが設けられ、前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段の少なくともいずれか一方の現像液塗布ローラが前記搬送ローラと対向して配置されていることを特徴とする請求項５又は６に記載のワークの処理装置。
前記第１の作業手段及び前記第２の作業手段の少なくともいずれか一方の作業手段では、前記現像液塗布ローラが前記ワークを挟み込むようにして上下に対向させて複数設けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載のワークの処理装置。
前記現像液塗布ローラが前記ワークの互いに平行な二辺に対応して一対設けられていることを特徴とする請求項５〜８のいずれか１項に記載のワークの処理装置。
矩形平板状のガラス基板をその一辺と平行な第１の方向に搬送する第１の搬送手段と、
前記第１の搬送手段によって搬送されるガラス基板の搬送方向を、当該ガラス基板の前記一辺と直交する他の辺と平行な第２の方向に切り替える方向切替手段と、
前記方向切替手段によって搬送方向が切り替えられたガラス基板を前記第２の方向に搬送する第２の搬送手段と、
を備えたことを特徴とするガラス基板の搬送装置。