JP2007025436A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板BとフォトマスクM及びプラテン5の除塵を効率的に行うことにより、歩留まりの高い露光を実現する。
【解決手段】
第1クリーニングヘッド1は搬入ハンド3の露光部10側に装着され、昇降装置14により上下方向移動可能になっており、搬入ハンド3の搬入と退避動作の際に、所定位置で第1クリーニングヘッド1が下降してプラテン5の上面に接触或いは近接し、搬入ハンド3の移動に伴ってプラテン5上を移動しつつ除塵を行う。その後搬入ハンド3が搬入部30に退避する際には、第1クリーニングヘッド1は基板Bの上面に接触或いは近接し、搬入ハンド3の移動に伴って基板B上を移動しつつ除塵を行う。
第2クリーニングヘッド2は搬出ハンド4の露光部10側に装着され、昇降装置14により上下方向移動可能になっており、搬出ハンド4の露光部10への移動と搬出動作の際に、2回フォトマスクMの除塵を行う。
【選択図】 図1
【解決手段】
第1クリーニングヘッド1は搬入ハンド3の露光部10側に装着され、昇降装置14により上下方向移動可能になっており、搬入ハンド3の搬入と退避動作の際に、所定位置で第1クリーニングヘッド1が下降してプラテン5の上面に接触或いは近接し、搬入ハンド3の移動に伴ってプラテン5上を移動しつつ除塵を行う。その後搬入ハンド3が搬入部30に退避する際には、第1クリーニングヘッド1は基板Bの上面に接触或いは近接し、搬入ハンド3の移動に伴って基板B上を移動しつつ除塵を行う。
第2クリーニングヘッド2は搬出ハンド4の露光部10側に装着され、昇降装置14により上下方向移動可能になっており、搬出ハンド4の露光部10への移動と搬出動作の際に、2回フォトマスクMの除塵を行う。
【選択図】 図1
Description
この発明は、露光装置に関する。
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板等も近年露光装置を用いて製造されている。
プリント配線基板の露光装置において、フォトマスクと基板との間に塵埃が存在すると、その部分が未露光となり製品不良となる問題がある。
この塵埃には、例えば銅箔のようにそれ自体が粘着性を持たない塵埃と、ドライフィルムフォトレジストやソルダーレジストのようにそれ自体が粘着性を持った塵埃とがあり、このような塵埃を除去するために露光装置に除塵装置を設ける提案が種々なされている。
プリント配線基板の露光装置において、フォトマスクと基板との間に塵埃が存在すると、その部分が未露光となり製品不良となる問題がある。
この塵埃には、例えば銅箔のようにそれ自体が粘着性を持たない塵埃と、ドライフィルムフォトレジストやソルダーレジストのようにそれ自体が粘着性を持った塵埃とがあり、このような塵埃を除去するために露光装置に除塵装置を設ける提案が種々なされている。
しかし、例えば特許文献1に示すものは、基板搬入側にある1台の除塵装置によりフォトマスクと基板の除塵をそれぞれ1回行うのみであり、プラテンの除塵はできない上、フォトマスクについて1回のみの除塵では十分な除塵ができないことが予想される。特許文献2の構成もまたフォトマスクと基板の除塵を1回のみ行うものであり、特許文献1と同じ問題がある。
本発明は上記従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、基板とフォトマスク及びプラテンを除塵できる露光装置を提供することを目的とする。
本発明は上記従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、基板とフォトマスク及びプラテンを除塵できる露光装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、前記基板搬入装置に連動して移動し、前記基板搬入時に前記プラテンを除塵し、基板搬入後の退避時に、前記プラテン上に載置された基板を除塵する第1の除塵装置と、前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第2の除塵装置と、を備えたことを特徴とする。
第1及び第2の除塵装置は、好適実施例においては、それぞれ基板搬入装置と基板搬出装置に取り付けられており、これらの移動と共に移動しつつ除塵を行うように構成されている。
基板搬入装置は、基板を保持しつつ露光部のプラテン上まで基板を搬送する。搬送中に第1除塵装置はプラテンを除塵する。そして、搬送装置が除塵後のプラテン上に基板を載置し、元の位置に退避する際に、第1除塵装置は基板の上面を除塵しつつ退避する。
以上の基板搬入装置の出入りの動作中にプラテンと基板の両方の除塵が完了する。
基板の露光が終了すると、基板搬出装置がプラテン上まで移動する。この時、第2除塵装置は、フォトマスクを除塵する。そして、基板搬出装置が基板を保持して、露光部外へ基板を搬出する際にも再びフォトマスクの除塵を行う。したがって、フォトマスクは1回の露光につき2回の除塵が行われる。
前記除塵装置としては、種々の構成が可能であるが、好適実施例では粘着性ローラと吸引集塵手段とを備える。前記した粘着性を持った塵埃については、粘着性を有するローラによる除塵手段が有効であり、粘着性を持たない塵埃に対しては吸引による除塵手段が有効であるためである。このように両除塵手段を併せ持つことにより塵埃の除去率を向上させることができる。
また、導電性のブラシ等の除電装置を備えることも可能である。これにより除塵前及び/又は除塵後において、除塵する部位が帯びている静電気を除去することができ、除塵前では除塵効率を向上させ、除塵後では塵埃の再付着を防止することが可能になる。
第1及び第2の除塵装置は、好適実施例においては、それぞれ基板搬入装置と基板搬出装置に取り付けられており、これらの移動と共に移動しつつ除塵を行うように構成されている。
基板搬入装置は、基板を保持しつつ露光部のプラテン上まで基板を搬送する。搬送中に第1除塵装置はプラテンを除塵する。そして、搬送装置が除塵後のプラテン上に基板を載置し、元の位置に退避する際に、第1除塵装置は基板の上面を除塵しつつ退避する。
以上の基板搬入装置の出入りの動作中にプラテンと基板の両方の除塵が完了する。
基板の露光が終了すると、基板搬出装置がプラテン上まで移動する。この時、第2除塵装置は、フォトマスクを除塵する。そして、基板搬出装置が基板を保持して、露光部外へ基板を搬出する際にも再びフォトマスクの除塵を行う。したがって、フォトマスクは1回の露光につき2回の除塵が行われる。
前記除塵装置としては、種々の構成が可能であるが、好適実施例では粘着性ローラと吸引集塵手段とを備える。前記した粘着性を持った塵埃については、粘着性を有するローラによる除塵手段が有効であり、粘着性を持たない塵埃に対しては吸引による除塵手段が有効であるためである。このように両除塵手段を併せ持つことにより塵埃の除去率を向上させることができる。
また、導電性のブラシ等の除電装置を備えることも可能である。これにより除塵前及び/又は除塵後において、除塵する部位が帯びている静電気を除去することができ、除塵前では除塵効率を向上させ、除塵後では塵埃の再付着を防止することが可能になる。
本発明の露光装置によれば、効率的に除塵が行われるから、歩留まりの高い露光を実現できる効果がある。
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施されたプリント配線基板Bはプラテン5上に載置され、露光ステージ7によりXYZ及びθ方向に移動可能になっている。露光部10において、基板Bの上方にはマスクフォルダ6に装着されたフォトマスクMが配置されており、更にその上に光源9が設けられている。光源9からの露光光はフォトマスクMに描かれたパターンを基板Bに露光するようになっている。
図1はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施されたプリント配線基板Bはプラテン5上に載置され、露光ステージ7によりXYZ及びθ方向に移動可能になっている。露光部10において、基板Bの上方にはマスクフォルダ6に装着されたフォトマスクMが配置されており、更にその上に光源9が設けられている。光源9からの露光光はフォトマスクMに描かれたパターンを基板Bに露光するようになっている。
上記露光部10の一方側には搬入部30が設けられ、ここに前工程から基板Bが搬送されてくる。搬入部30には搬入ハンド3が設けられており、この搬入ハンド3により基板Bを吸着固定し、基板Bをプラテン5上まで運搬するようになっている。
露光部10の他方側には搬出部40が設けられており、露光部10で露光された基板Bがここに搬送され、後工程に送られるように構成されている。搬出部40には搬出ハンド4が設けられており、搬出ハンド4がプラテン5上の基板Bの位置まで移動し、基板Bを吸着固定して搬出部40まで移送するように構成されている。
前記搬入ハンド3には第1クリーニングヘッド1が装着されている。第1クリーニングヘッド1は搬入ハンド3の露光部10側に装着され、昇降装置14により上下方向移動可能になっており、搬入ハンド3の搬入と退避動作の際に、プラテン5と基板B上面の除塵を行うようになっている。即ち、搬入ハンド3が露光部10方向に移動する際に、所定位置で第1クリーニングヘッド1が下降してプラテン5の上面に接触或いは近接し、搬入ハンド3の移動に伴ってプラテン5上を移動しつつ除塵を行う。搬入ハンド3がプラテン5上に達すると、プラテン5が上昇して基板Bを受け取り、吸着固定して下降する。その後搬入ハンド3は搬入部30に退避するが、この退避の際にも第1クリーニングヘッド1は下降し、基板Bの上面に接触或いは近接し、搬入ハンド3の移動に伴って基板B上を移動しつつ除塵を行う。
以上の動作により、第1クリーニングヘッド1によりプラテン5と基板Bの除塵を行うように構成されている。
以上の動作により、第1クリーニングヘッド1によりプラテン5と基板Bの除塵を行うように構成されている。
図2と図3に第1クリーニングヘッド1の構成を示す。後述する第2クリーニングヘッド2も同一の構成になっている。
第1クリーニングヘッド1と第2クリーニングヘッド2は粘着ローラ11と吸引集塵機12及び除電ブラシ13を備えている。粘着ローラ11は粘着性を有するローラであり、主としてレジストのような粘着性を有する塵埃をこの粘着ローラにより捕集する。吸引集塵機12は主として粘着性を持たない塵埃を吸引して除塵するようになっている。このように、粘着ローラ11と吸引集塵機12の両方を備えることにより粘着性塵埃と粘着性のない塵埃を両方とも効果的に除塵することができる。
搬入部30の露光部10側には粘着テープロール部19が昇降可能に設けられおり、搬入ハンド3が搬入部30に戻ると粘着テープロール部19が上昇し粘着ローラ11に接触し、粘着テープロール部19が回転して粘着ローラ11に付着している塵埃を粘着テープロール部19に転写するように構成されている。
第1クリーニングヘッド1と第2クリーニングヘッド2は粘着ローラ11と吸引集塵機12及び除電ブラシ13を備えている。粘着ローラ11は粘着性を有するローラであり、主としてレジストのような粘着性を有する塵埃をこの粘着ローラにより捕集する。吸引集塵機12は主として粘着性を持たない塵埃を吸引して除塵するようになっている。このように、粘着ローラ11と吸引集塵機12の両方を備えることにより粘着性塵埃と粘着性のない塵埃を両方とも効果的に除塵することができる。
搬入部30の露光部10側には粘着テープロール部19が昇降可能に設けられおり、搬入ハンド3が搬入部30に戻ると粘着テープロール部19が上昇し粘着ローラ11に接触し、粘着テープロール部19が回転して粘着ローラ11に付着している塵埃を粘着テープロール部19に転写するように構成されている。
この実施形態では、更に2つの除電ブラシ13を備えており、プラテン5表面又は基板B表面(第2クリーニングヘッド2においてはフォトマスクM)の静電気を除去するようになっている。除電ブラシ13は粘着ローラ11と吸引集塵機12の前後に設けられており、一方は除塵前に静電気を除去して除塵効率を向上させる。また他方の除電ブラシ13は除塵後に静電気を除去し、除塵後に塵埃の再付着を防止する機能を有している。
次に搬出ハンド4について説明する。搬出ハンド4には第2クリーニングヘッド2が装着されている。第2クリーニングヘッド2は搬出ハンド4の露光部10側に装着され、昇降装置14により上下方向移動可能になっており、搬出ハンド4の露光部10への移動と搬出動作の際に、フォトマスクMの除塵を行うようになっている。即ち、搬出ハンド4が露光部10方向に移動する際に、所定位置で第2クリーニングヘッド2が上昇してフォトマスクMに接触或いは近接し、搬出ハンド4の移動に伴ってフォトマスクM上を移動しつつ除塵を行う。搬出ハンド4が基板B上に達すると、搬出ハンド4が基板Bを吸着固定し、プラテン5が下降する。その後搬出ハンド4は搬出部40に移動して基板Bを搬出するが、この搬出の際にも第2クリーニングヘッド2は上昇し、フォトマスクMに接触或いは近接し、搬出ハンド4の移動に伴ってフォトマスクM上を移動しつつ除塵を行う。
以上の動作により、第2クリーニングヘッド2によりフォトマスクMの除塵を2回行うことができる。
なお、搬出ハンド4は上向きに装着されていることを除いて第1クリーニングヘッド1と全く同一の構成であり、図2と図3に示す構成を備えている。また粘着テープロール部19を備えており、同じく露光部10の塵埃を粘着テープロール部19に転写する。
以上の動作により、第2クリーニングヘッド2によりフォトマスクMの除塵を2回行うことができる。
なお、搬出ハンド4は上向きに装着されていることを除いて第1クリーニングヘッド1と全く同一の構成であり、図2と図3に示す構成を備えている。また粘着テープロール部19を備えており、同じく露光部10の塵埃を粘着テープロール部19に転写する。
以上の構成における動作を説明する。
最初に第1クリーニングヘッド1の動作を説明する。まず、前工程から基板Bが搬入部30に搬入される。搬入部30に待機している搬入ハンド3が基板Bをチャッキング(吸着固定)し、このまま搬入ハンド3がプラテン5上の基板受け渡し位置まで移動(往路)する。搬入ハンド3移動中の所定位置で、第1クリーニングヘッド1が下降し、粘着ローラ11がプラテン5の上面に接触する。搬入ハンド3は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ11は回転し、プラテン5に付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機12による集塵と除電ブラシ13による除電を行う。搬入ハンド3が基板受け渡し位置に到達したら、プラテン5が上昇し基板Bを受け取る。この時、粘着ローラ11はプラテン5の外位置にありプラテン5とは接触はしない。
最初に第1クリーニングヘッド1の動作を説明する。まず、前工程から基板Bが搬入部30に搬入される。搬入部30に待機している搬入ハンド3が基板Bをチャッキング(吸着固定)し、このまま搬入ハンド3がプラテン5上の基板受け渡し位置まで移動(往路)する。搬入ハンド3移動中の所定位置で、第1クリーニングヘッド1が下降し、粘着ローラ11がプラテン5の上面に接触する。搬入ハンド3は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ11は回転し、プラテン5に付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機12による集塵と除電ブラシ13による除電を行う。搬入ハンド3が基板受け渡し位置に到達したら、プラテン5が上昇し基板Bを受け取る。この時、粘着ローラ11はプラテン5の外位置にありプラテン5とは接触はしない。
次に、プラテン5は基板Bを吸着固定し下降退避する。そして、搬入ハンド3は搬入部30まで戻り(復路)、この時粘着ローラ11はプラテン5に吸着固定された基板Bの上面の塵埃を除去する。同時に吸引集塵機12による集塵と除電ブラシ13による除電を行う。そして、搬入ハンド3移動中の所定位置で、第1クリーニングヘッド1は上昇し原点位置に戻る。搬入ハンド3が搬入部30に戻ると粘着テープロール部19が上昇し粘着ローラ11に接触し、粘着テープロール部19が回転して粘着ローラ11は連れ回り、粘着ローラ11に付着している塵埃が粘着テープロール部19に転写される。
この間にプラテン5が上昇し、基板BとフォトマスクMとが密着し光源9が点灯し露光が行われる。
この間にプラテン5が上昇し、基板BとフォトマスクMとが密着し光源9が点灯し露光が行われる。
次に第2クリーニングヘッド2の動作を説明する。
基板Bの露光が完了すると、プラテン5と基板Bが下降し、搬出ハンド4が搬出部40からプラテン5上の基板受け渡し位置まで移動(往路)する。搬出ハンド4移動中の所定位置で、第2クリーニングヘッド2が上昇し、粘着ローラ11がフォトマスクMに接触し、搬出ハンド4は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ11は回転し、フォトマスクMに付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機12による集塵と除電ブラシ13による除電を行う。搬出ハンド4が基板受け渡し位置に到達したら、露光ステージ7とプラテン5が上昇し、プラテン5上の露光済み基板Bを搬出ハンド4がチャキング(吸着固定)する。そして、プラテン5が下降退避し、搬出ハンド4が搬出部40に移動(復路)する。この時も往路と同様に粘着ローラ11と吸引集塵機12によるフォトマスクMの除塵集塵と除電ブラシ13による除電を行う。
基板Bの露光が完了すると、プラテン5と基板Bが下降し、搬出ハンド4が搬出部40からプラテン5上の基板受け渡し位置まで移動(往路)する。搬出ハンド4移動中の所定位置で、第2クリーニングヘッド2が上昇し、粘着ローラ11がフォトマスクMに接触し、搬出ハンド4は移動を続け、移動による連れ回りで粘着ローラ11は回転し、フォトマスクMに付着した塵埃を除去する。同時に吸引集塵機12による集塵と除電ブラシ13による除電を行う。搬出ハンド4が基板受け渡し位置に到達したら、露光ステージ7とプラテン5が上昇し、プラテン5上の露光済み基板Bを搬出ハンド4がチャキング(吸着固定)する。そして、プラテン5が下降退避し、搬出ハンド4が搬出部40に移動(復路)する。この時も往路と同様に粘着ローラ11と吸引集塵機12によるフォトマスクMの除塵集塵と除電ブラシ13による除電を行う。
以上説明した構成によれば、基板Bとプラテン5の除塵が行え、またフォトマスクMについては1回の露光につき2回の除塵が行える。特にプラテン5の除塵により基板Bの露光面の反対面にドライフィルムフォトレジストやソルダレジストなどの付着を防止できる効果がある。また粘着ローラ11と吸引集塵機12の両方を備えているため、粘着性の塵埃と粘着性のない塵埃を効果的に除去でき、確実な除塵が可能である。更に除電ブラシ13により静電気が除去されるので、除塵効率が上がり、また除塵後の塵埃の付着が防止できる。
また、第1クリーニングヘッド1と第2クリーニングヘッド2は搬入ハンド3と搬出ハンド4に装着されているため、新たな駆動機構などを設ける必要がない等の効果がある。
また、第1クリーニングヘッド1と第2クリーニングヘッド2は搬入ハンド3と搬出ハンド4に装着されているため、新たな駆動機構などを設ける必要がない等の効果がある。
1:第1クリーニングヘッド、2:第2クリーニングヘッド、3:搬入ハンド、4:搬出ハンド、5:プラテン、6:マスクフォルダ、7:露光ステージ、9:光源、10:露光部、11:粘着ローラ、12:吸引集塵機、13:除電ブラシ、14:昇降装置、19:粘着テープロール部、30:搬入部、40:搬出部。
Claims (4)
- 露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、
前記基板搬入装置に連動して移動し、前記基板搬入時に前記プラテンを除塵し、基板搬入後の退避時に、前記プラテン上に載置された基板を除塵する第1の除塵装置と、
前記基板搬出装置に連動して移動し、前記フォトマスクを除塵する第2の除塵装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記第2の除塵装置は、前記基板搬出装置が基板位置まで移動する際にフォトマスクを除塵し、前記基板搬出装置が基板を搬出する際にフォトマスクを再度除塵する、
請求項1に記載の露光装置。 - 前記除塵装置が、
粘着性ローラと吸引集塵手段とを備える、
請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記除塵装置が除電装置を備える、
請求項1又は2又は3に記載の露光装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008216433A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP2008298870A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置 |
JP2010199506A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Sharp Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2011040707A (ja) * | 2009-08-13 | 2011-02-24 | Samsung Mobile Display Co Ltd | ストッカー |
JP2013003436A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 異物除去方法 |
KR20130037897A (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 이송 장치 및 그를 이용한 박막증착 장치 |
CN104395833A (zh) * | 2013-06-18 | 2015-03-04 | 倍科有限公司 | 曝光装置 |
KR20150056526A (ko) | 2012-09-19 | 2015-05-26 | 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 | 노광 장치의 제진장치 및 제진방법 |
JP2017138415A (ja) * | 2016-02-02 | 2017-08-10 | ウシオ電機株式会社 | ロールツーロール両面露光装置 |
KR20180109045A (ko) * | 2017-03-26 | 2018-10-05 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 노광 장치 |
JP2020034949A (ja) * | 2019-11-25 | 2020-03-05 | 株式会社アドテックエンジニアリング | ロールツーロール両面露光装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9857680B2 (en) | 2014-01-14 | 2018-01-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Cleaning module, cleaning apparatus and method of cleaning photomask |
KR102171068B1 (ko) * | 2020-07-07 | 2020-10-29 | 엔엠시스코(주) | 새도 마스크의 표면 이물질 제거장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03132759A (ja) * | 1989-10-19 | 1991-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | 基板自動露光機の除塵装置 |
JP2002100567A (ja) * | 2001-09-25 | 2002-04-05 | Canon Inc | 露光装置およびデバイスの製造方法 |
JP2002162749A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-06-07 | Seiichiro Toyoda | 露光機の除塵装置及び除塵方法 |
-
2005
- 2005-07-20 JP JP2005209691A patent/JP2007025436A/ja active Pending
- 2005-12-23 KR KR1020050128680A patent/KR20070011052A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-12-27 TW TW094146636A patent/TW200705108A/zh unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03132759A (ja) * | 1989-10-19 | 1991-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | 基板自動露光機の除塵装置 |
JP2002162749A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-06-07 | Seiichiro Toyoda | 露光機の除塵装置及び除塵方法 |
JP2002100567A (ja) * | 2001-09-25 | 2002-04-05 | Canon Inc | 露光装置およびデバイスの製造方法 |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008216433A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP2008298870A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置 |
JP2010199506A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-09 | Sharp Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2011040707A (ja) * | 2009-08-13 | 2011-02-24 | Samsung Mobile Display Co Ltd | ストッカー |
US8683643B2 (en) | 2009-08-13 | 2014-04-01 | Samsung Display Co., Ltd. | Stocker |
JP2013003436A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 異物除去方法 |
KR20130037897A (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 이송 장치 및 그를 이용한 박막증착 장치 |
KR101870162B1 (ko) * | 2011-10-07 | 2018-06-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 이송 장치 및 그를 이용한 박막증착 장치 |
KR20150056526A (ko) | 2012-09-19 | 2015-05-26 | 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 | 노광 장치의 제진장치 및 제진방법 |
CN104395833A (zh) * | 2013-06-18 | 2015-03-04 | 倍科有限公司 | 曝光装置 |
KR20170092119A (ko) | 2016-02-02 | 2017-08-10 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 롤투롤 양면 노광 장치 |
JP2017138415A (ja) * | 2016-02-02 | 2017-08-10 | ウシオ電機株式会社 | ロールツーロール両面露光装置 |
KR20200103606A (ko) | 2016-02-02 | 2020-09-02 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 롤투롤 양면 노광 장치 |
KR20180109045A (ko) * | 2017-03-26 | 2018-10-05 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 노광 장치 |
CN108628106A (zh) * | 2017-03-26 | 2018-10-09 | 株式会社阿迪泰克工程 | 曝光装置 |
JP2018163272A (ja) * | 2017-03-26 | 2018-10-18 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光装置 |
JP2021113985A (ja) * | 2017-03-26 | 2021-08-05 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光方法 |
CN108628106B (zh) * | 2017-03-26 | 2021-12-21 | 株式会社阿迪泰克工程 | 曝光装置 |
TWI779014B (zh) * | 2017-03-26 | 2022-10-01 | 日商亞多特克工程股份有限公司 | 曝光裝置 |
JP7196222B2 (ja) | 2017-03-26 | 2022-12-26 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光方法 |
KR102531997B1 (ko) * | 2017-03-26 | 2023-05-12 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 노광 장치 |
TWI830349B (zh) * | 2017-03-26 | 2024-01-21 | 日商亞多特克工程股份有限公司 | 曝光方法 |
JP2020034949A (ja) * | 2019-11-25 | 2020-03-05 | 株式会社アドテックエンジニアリング | ロールツーロール両面露光装置 |
Also Published As
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