BR112019009297A2 - precursor de chapa para impressão litográfica, método de produção do mesmo, laminado de precursor de chapa para impressão litográfica e método de impressão litográfica - Google Patents

precursor de chapa para impressão litográfica, método de produção do mesmo, laminado de precursor de chapa para impressão litográfica e método de impressão litográfica Download PDF

Info

Publication number
BR112019009297A2
BR112019009297A2 BR112019009297A BR112019009297A BR112019009297A2 BR 112019009297 A2 BR112019009297 A2 BR 112019009297A2 BR 112019009297 A BR112019009297 A BR 112019009297A BR 112019009297 A BR112019009297 A BR 112019009297A BR 112019009297 A2 BR112019009297 A2 BR 112019009297A2
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
lithographic printing
group
image recording
plate precursor
recording layer
Prior art date
Application number
BR112019009297A
Other languages
English (en)
Inventor
Oshima Atsushi
Shimanaka Shuji
Watanabe Shumpei
Ikeyama Yusuke
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of BR112019009297A2 publication Critical patent/BR112019009297A2/pt

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • B41N1/14—Lithographic printing foils
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F1/00—Platen presses, i.e. presses in which printing is effected by at least one essentially-flat pressure-applying member co-operating with a flat type-bed
    • B41F1/18—Platen presses, i.e. presses in which printing is effected by at least one essentially-flat pressure-applying member co-operating with a flat type-bed for lithography
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/06—Backcoats; Back layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/10—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/06—Lithographic printing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

são proporcionados um precursor de chapa para impressão litográfica que inclui: um suporte de alumínio hidrofilizado e uma camada de gravação de imagem negativa solúvel em água ou dispersível em água provida no suporte de alumínio, no qual uma altura média aritmética sa de uma superfície de uma camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida, se encontra em uma faixa de 0,3 µm a 20 µm; um método para a produção do precursor de chapa para impressão litográfica; um laminado de precursor de chapa para impressão litográfica formado pelo precursor de chapa para impressão litográfica; e um método de impressão litográfica.

Description

“PRECURSOR DE CHAPA PARA IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, MÉTODO DE PRODUÇÃO DO MESMO, LAMINADO DE PRECURSOR DE CHAPA PARA IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E MÉTODO DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA”
ANTECEDENTES DA INVENÇÃO
CAMPO DA INVENÇÃO [001] A presente invenção refere-se a um precursor de chapa para impressão litográfica, um método de produção do mesmo, um laminado de precursor de chapa para impressão litográfica e um método de impressão litográfica.
[002] Um precursor de chapa para impressão litográfica é frequentemente armazenado e transportado como um laminado formado pela laminação de uma pluralidade de folhas do mesmo. Neste laminado, o papel intercalado/para intercalar é tipicamente inserido no espaço entre os precursores de chapa para impressão litográfica com a finalidade de prevenir o deslocamento durante o empilhamento dos precursores de chapa para impressão litográfica, prevenir a aderência entre os precursores de chapa para impressão litográfica, e prevenir riscos sobre uma superfície de um precursor de chapa para impressão litográfica em um lado da camada de gravação de imagem. No entanto, em um caso em que se utiliza o papel intercalado, problemas de aumento de custos, tratamento de descarte e afins podem ocorrer e, assim, o papel intercalado tem de ser removido antes de uma etapa de exposição. Portanto, isso também pode incorrer no risco de ocorrência de uma carga em uma etapa de fabricação de chapas e ocorrência de falhas na retirada ou desprendimento (peeling) do papel intercalado. Além disso, no momento da remoção do papel intercalado, é necessário considerar que a superfície do precursor de chapa para impressão litográfica no lado da camada de gravação não está danificada. Por conseguinte,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 10/252
2/224 foi necessário o desenvolvimento de um precursor de chapa para impressão litográfica que permita a laminação sem o papel intercalado.
[003] Exemplos de precursores de chapas para impressão litográfica do estado da arte relacionado incluem os descritos nos documentos JP2008249851 A, JP2008-503365A, WO 2014/202519A e JP2007-093814A.
[004] O documento JP2008-249851A descreve um precursor de chapa para impressão litográfica que inclui uma camada fotossensível contendo (A) agente absorvente de infravermelho, (B) composto de borate, (C) iniciador de polimerização via radical, (D) composto polimerizável tendo uma ligação etilênica dupla insaturada, (E) polímero ligante e (F) partículas finas de polímero em uma superfície de um suporte de alumínio rugose e inclui uma camada de revestimento traseiro contendo um composto polimérico orgânico em uma superfície não formada da camada fotossensível do suporte de alumínio rugoso.
[005]O documento JP2008-503365A descreve um elemento de formação de imagem que inclui um substrato litográfico; e um ligante polimérico contendo (a) componente polimerizável via radical, (b) sistema iniciador capaz de gerar radicais suficientes para iniciar uma reação de polimerização quando exposto à radiação para formar uma imagem, (c) cadeia principal hidrofóbica, e ambas de (i) unidade constituinte que contém um grupo ciano pendente diretamente ligado à cadeia principal hidrofóbica e (ii) unidade constituinte que contém um grupo pendente tendo um segmento de poli (óxido de alquileno) hidrofílico.
[006] O documento WO 2014/202519A descreve um método de produção de um precursor de chapa para impressão litográfica, incluindo processos de preparar um suporte que tem uma superfície frontal e uma superfície traseira na forma de teia, revestir a superfície frontal do suporte com uma camada de gravação de imagem, e aderir uma camada traseira descontínua
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 11/252
3/224 na superfície traseira do suporte de acordo com uma imagem que tenha sido definida antecipadamente.
[007] O documento JP2007-093814A descreve um precursor de chapa para impressão litográfica fotossensível a infravermelho incluindo uma camada de gravação que contém uma resina insolúvel em água e alcalino-solúvel e um agente absorvente de infravermelho e é capaz de formar uma imagem por irradiação com raios infravermelho em uma superfície de um suporte; uma camada polimérica orgânica sobre uma superfície do suporte no lado oposto da superfície onde a camada de gravação é provida; e uma esteira em pelo menos uma da superfície da camada de gravação ou da superfície da camada polimérica orgânica.
SUMÁRIO DA INVENÇÃO [008] Um precursor de chapa para impressão litográfica (simplesmente referido, daqui por diante, também como “precursor”) é tipicamente usado pela laminação de precursores em um estado que interpõe papel intercalado entre os precursores com a finalidade de prevenir o deslocamento durante o empilhamento dos precursores no momento da produção dos precursores, prevenir a aderência entre os precursores, prevenir que múltiplos precursores sejam alimentados em uma etapa da fabricação de chapa que retira o precursor da pilha, um por um, prevenir riscos no momento da produção e empilhamento dos precursores, realizar o transporte e em uma série de etapas realizadas no momento de criação da chapa pelo usuário e antes da impressão. No entanto, um aspecto em que não se utiliza o papel intercalado (também conhecido como “eliminação de papel intercalado”) é empregado em alguns casos com a finalidade de se evitar falhas no desprendimento do papel intercalado no momento da fabricação da chapa pelo usuário, de melhorar a velocidade de fabricação da chapa e reduzir o custo.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 12/252
4/224 [009] No precursor de chapa para impressão litográfica descrito no documento JP2008-249851A ou JP2008-503365A, em urn case em que uma camada externa sobre a superfície onde a camada de gravação de imagem é provida e uma camada externa sobre a superfície do lado oposto da mesma são laminadas por estarem diretamente em contato umas com as outras, os precursores laminados são adsorvidos uns aos outros em alguns casos.
[010] Os documentos WO 2014/202519A e JP2007-093814A descrevem, respectivamente, um método de preparação de uma forma descontínua na superfície traseira de um precursor e um método de formação de uma camada polimérica orgânica na superfície traseira de um precursor e também descrevem métodos de substituir as funções do papel intercalado utilizando esses métodos.
[011] Estas técnicas são conseguidas utilizando-se uma chapa para impressão litográfica (daqui em diante, referida como uma chapa tratada) a ser revelada por um líquido de tratamento alcalino. No entanto, existe um problema no qual uma camada de gravação de imagem é danificada no caso em que uma chapa para impressão litográfica (referida, daqui por diante, como “chapa não tratada”) é revelada (referida, daqui por diante, como “revelação na prensa”) em uma prensa de impressão, pois uma camada protetora é uma película fina ou não está presente e a camada de gravação de imagem é projetada para ser quebradiça de forma que confira propriedades de desprendimento e capacidade de revelação obtidas utilizando o poder de aderência de uma tinta.
[012] Além disso, mesmo em um caso em que a revelação é realizada utilizando-se um revelador e um dispositivo de tratamento de revelação automática, o dano à camada de gravação de imagem pode se tornar um problema quando não existe uma camada protetora ou uma camada protetora é uma camada fina ou depende da composição de uma camada protetora.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 13/252
5/224 [013] Particularmente na chapa não tratada descrita no documento JP2008-249851A ou JP2008-503365A, em um caso em que uma forma descontínua ou uma camada polimérica descrita no documento WO2014202519A ou JP2007-093814A é formada e laminada na superfície traseira de um precursor, a camada de gravação de imagem (camada fotossensível) é danificada devido à concentração de uma pressão sobre um local da camada de gravação de imagem a ser colocada em contato com projeções da forma descontínua ou da camada polimérica.
[014] Em um caso em que um tratamento de revelação (um tratamento de revelação na prensa ou um tratamento de revelação realizado utilizando um revelador) é realizado utilizando-se um precursor de chapa para impressão, tal como uma chapa não tratada tendo uma camada de gravação de imagem danificada, ocorre um atraso parcial da revelação e, então, o papel desperdiçado (o material impresso gerado até que a qualidade desejada do papel seja obtida) no estágio inicial da impressão aumenta.
[015] Na presente descrição, o atraso parcial da revelação na revelação na prensa é referido também como atraso da revelação na prensa.
[016] Um objetivo das formas de realização da presente invenção para resolução dos problemas, consiste em proporcionar um precursor de chapa para impressão litográfica com uma excelente resistência ao atraso da revelação e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado; um método de produção do mesmo; um laminado de precursor de chapa para impressão litográfica formado pelo precursor de chapa para impressão litográfica; e um método de impressão litográfica.
[017] Os meios para resolver os problemas descritos acima incluem os seguintes aspectos.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 14/252
6/224 <1> Um precursor de chapa para impressão litográfica compreendendo: um suporte de alumínio hidrofilizado; e uma camada de gravação de imagem negativa solúvel em água ou dispersível em água no suporte de alumínio, em que uma altura média aritmética Sa de uma superfície de uma camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
<2> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <1>, em que a camada de gravação de imagem contém um agente absorvente de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável, e um composto polimérico tendo um formato particulado (ou de partículas).
<3> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <2>, em que o composto polimérico tendo um formato particulado, o qual está contido na camada de gravação de imagem, é obtido pela reação de um composto de isocianato polivalente, que é um aduto de um composto fenólico poliídrico contendo dois ou mais grupos hidroxi em uma molécula e diisocianato de isoforona, com um composto contendo um átomo de hidrogênio ativo.
<4> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <2>, em que o composto polimérico tendo um formato particulado, o qual está contido na camada de gravação de imagem, tem uma cadeia principal hidrofóbica e ambas de (i) unidade constituinte contendo um grupo ciano pendente diretamente ligado à cadeia principal hidrofóbica e (ii) unidade constituinte contendo um grupo pendente com um segmento de óxido de polialquileno.
<5> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <1>, em que a camada de gravação de imagem contém um agente absorvente de infravermelho e uma partícula polimérica termoplástica.
<6> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <5>, em que uma lisura por Bekk da superfície da camada mais externa
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 15/252
7/224 no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida é de 1000 segundos ou menos.
<7> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <6>, em que uma camada de resina que contém pelo menos um tipo de partículas tendo um diâmetro médio de partícula de 0,5 pm a 20 μιτι é fornecida como a camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
<8> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <7>, em que uma espessura da película da camada de resina se encontra em uma faixa de 0,6 pm a 2 pm.
<9> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <8> que satisfaz a expressão (A).
0,2 < (a espessura da película da camada de resina/o diâmetro médio de partícula das partículas contidas na camada de resina) < 0,5 ··· Expressão (A) <10> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <7> a <9>, em que a densidade das partículas se encontra em uma faixa de 500 pcs/m2 a 500.000 pcs/m2.
<11 > O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <7> a <10>, no qual a camada de resina contém um ligante, e uma diferença no parâmetro de solubilidade entre as partículas e o ligante é 4 MPa1/2 ou menor.
<12> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <11 >, em que as partículas e o ligante contêm, cada um, pelo menos um selecionado do grupo constituído por poliuretano, uma resina acrílica, poliestireno e polietileno.
<13> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <7> a <12>, em que uma dureza de 10% das partículas é de 80 MPa ou menos.
<14> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <6>, em que uma pluralidade de protrusões é proporcionada sobre a
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 16/252
8/224 superfície da camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
<15> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1 > a <6>, em que uma camada de resina é proporcionada como a camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida, e uma pluralidade de protrusões contendo um composto polimérico é proporcionada sobre a camada de resina.
<16> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <14> ou <15>, em que uma altura média das protrusões se encontra em uma faixa de 0,5 pm a 20 μητ <17> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <14> e <16>, em que uma densidade das protrusões se encontra em uma faixa de 500 pcs/m2 a 500.000 pcs/m2.
<18> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer de <1> a <17>, em que uma altura média aritmética Sa de uma superfície de uma camada mais externa no lado onde a camada de gravação de imagem é provida é menor que a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
<19> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <1 9>, que satisfaz a Expressão (1) e Expressão (2) em um caso onde uma lisura por Bekk de uma superfície de uma camada mais externa no lado onde a camada de gravação de imagem é provida é definida como a segundos e uma lisura por Bekk da superfície da camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida é definida como b segundos.
a< 1000 (1)
1/a+ 1/b > 0,002 (2)
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 17/252
9/224 <20> 0 precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <19>, em que o suporte de alumínio inclui uma chapa de alumínio e uma película anodizada de alumínio disposta na chapa de alumínio, a película anodizada é posicionada mais perto da camada de gravação de imagem do que da chapa de alumínio, a película anodizada tem microporos que se estendem em uma direção de profundidade a partir da superfície do lado da camada de gravação de imagem, e o diâmetro médio dos microporos na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 7 nm a 150 nm.
<21 > O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <20>, em que o diâmetro médio dos microporos na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 10 nm a 100 nm.
<22> O precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com <20> ou <21 >, no qual os microporos são formados por poros de grande diâmetro que se estendem até uma posição a uma profundidade de 10 nm a 1000 nm da superfície da película anodizada e poros de pequeno diâmetro que se comunicam com uma parte inferior dos poros de grande diâmetro e se estendem até uma posição a uma profundidade de 20 nm a 2000 nm de uma posição de comunicação, o diâmetro médio dos poros de grande diâmetro na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 15 nm a 150 nm, e o diâmetro médio dos poros de pequeno diâmetro na posição de comunicação é de 13 nm ou menos.
<23> Um laminado de precursor de chapa para impressão litográfica que é obtido pela laminação de uma pluralidade dos precursores de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <22>, em que uma camada mais externa no lado onde a camada de gravação de imagem é provida e a camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida são laminadas ao entrarem diretamente em contato umas com as outras.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 18/252
10/224 <24> Um método de produção do precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com qualquer um de <1> a <22>, compreendendo: uma etapa de formação da camada de gravação de imagem no suporte de alumínio após um ou mais dias de um tratamento de anodização realizado no mesmo <25> Um método de impressão litográfica compreendendo: uma etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem, definida em qualquer um de <1> a <22>; uma etapa de fornecer pelo menos qualquer tinta de impressão ou água de umedecimento e remover uma porção não exposta de uma camada de gravação de imagem em uma prensa de impressão para preparar uma chapa para impressão litográfica; e uma etapa de realizar a impressão usando a chapa para impressão litográfica obtida.
<26> Um método de impressão litográfica compreendendo: uma etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem, definida em qualquer um de <1> a <22>; uma etapa de revelação que fornece um revelador com um pH de 2 a 14 e remoção de uma porção não exposta; e uma etapa de realização da impressão usando a chapa para impressão litográfica obtida.
[018] De acordo com a forma de realização da presente invenção, é possível proporcionar um precursor de chapa para impressão litográfica com excelente resistência ao atraso da revelação e uma excelente propriedade de alimentação de chapa de retirar um precursor a partir de um laminado; um método de produção do mesmo; um laminado de precursor de chapa para impressão litográfica formado pelo precursor de chapa para impressão litográfica; e um método de impressão litográfica.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS [019] A Fig. 1 é uma vista esquemática transversal que ilustra uma forma de realização de um suporte de alumínio.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 19/252
11/224 [020] A Fig. 2 é uma vista esquemática transversal que ilustra outra forma de realização de um suporte de alumínio.
[021] A Fig. 3 é um gráfico que ilustra um diagrama de forma de onda da corrente de forma de onda alternada utilizado para um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade de acordo com um método de produção de um suporte de alumínio.
[022] A Fig. 4 é uma vista lateral que ilustra um exemplo de uma célula do tipo radial no tratamento eletroquímico de formação de rugosidade realizado utilizando a corrente alternada de acordo com o método de produção de um suporte de alumínio.
[023] A Fig. 5 é uma vista lateral que ilustra um exemplo de uma célula do tipo radial no tratamento eletroquímico de formação de rugosidade realizado utilizando a corrente alternada de acordo com o método de produção de um suporte de alumínio tendo uma película anodizada.
[024] A Fig. 6 é uma vista lateral que ilustra o conceito de uma etapa de granulação por escova (brush graining) usada para um tratamento mecânico de formação de rugosidade realizado de acordo com o método de produção de um suporte de alumínio tendo uma película anodizada.
[025] A Fig. 7 é uma vista de configuração que ilustra o esboço de um dispositivo de revelação automática utilizado nos exemplos do presente pedido.
DESCRIÇÃO DAS FORMAS DE REALIZAÇÃO PREFERENCIAIS [026] A seguir, o conteúdo da presente invenção será descrito em detalhe. A descrição dos elementos constituintes abaixo é realizada com base nas formas de realização representativas da presente invenção em alguns casos, mas a presente invenção não está limitada a tais formas de realização.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 20/252
12/224 [027] Além disso, as faixas numéricas mostradas no presente relatório descritivo que utilizam a indicam intervalos que incluem os valores numéricos descritos antes e após a como os limites inferiores e os limites superiores.
[028] No presente relatório descritivo, em um caso em que a substituição ou não substituição não é mencionada em relação à citação de um “grupo” (grupo atômico) no presente relatório descritivo, o “grupo” inclui não apenas um grupo não tendo um substituinte, mas também um grupo tendo um substituinte. Por exemplo, o conceito de um “grupo alquila” inclui não apenas um grupo alquila que não possui um substituinte (grupo alquila não-substituído), mas também um grupo alquila com um substituinte (grupo alquila substituído).
[029] No presente relatório descritivo, o conceito de “(met)acrila” inclui tanto a acrila quanto a metacrila, e o conceito de “(met)acriloíla” inclui tanto a acriloíla quanto a metacriloíla.
[030] Além disso, o termo etapa no presente relatório descritivo indica não apenas uma etapa independente, mas também uma etapa que não pode ser claramente distinguida de outras etapas, desde que o propósito pretendido da etapa seja alcançado. Além disso, na presente descrição,% em massa tem a mesma definição que a de % em peso, e parte em massa tem a mesma definição que de parte em peso.
[031] Além disso, na presente descrição, uma combinação de dois ou mais aspectos preferenciais é um aspecto mais preferencial.
[032] Além disso, o peso molecular ponderai médio (Mw) e o peso molecular numérico médio (Mn) na presente descrição são pesos moleculares em termos de poliestireno usado como uma substância padrão, que são detectados utilizando um solvente tetra-hidrofurano (THF), um refratômetro diferencial, e um analisador de cromatografia de permeação em gel (GPC) utilizando TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL e TSKgel G2000HxL (todos os
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 21/252
13/224 nomes comerciais, fabricados pela Tosoh Corporation) como colunas, salvo indicação em contrário.
[033] No presente relatório descritivo, o termo “precursor de chapa para impressão litográfica” inclui não apenas um precursor de chapa para impressão litográfica, mas também um precursor de chapa principal. Além disso, o termo “chapa para impressão litográfica” inclui não apenas uma chapa para impressão litográfica preparada por meio de operações, como exposição e revelação em um precursor de chapa para impressão litográfica, quando necessário, mas também uma chapa principal. No caso de um precursor de chapa principal, as operações de exposição, revelação e similares não são essencialmente necessárias. Além disso, uma chapa principal é um precursor de chapa para impressão litográfica para fixação a um cilindro de chapa que não é utilizado em um caso em que a impressão é realizada em uma parte de uma superfície de papel com uma ou duas cores em impressão de jornal colorido.
[034] A seguir, a presente invenção será descrita em detalhe.
[035] (Precursor da chapa para impressão litográfica) [036] Um precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclui um suporte de alumínio hidrofilizado (referido simplesmente como um “suporte”); e uma camada de gravação de imagem negativa, solúvel em água ou dispersível em água (simplesmente referida como uma “camada de gravação de imagem”) proporcionada no suporte de alumínio, em que uma altura média aritmética Sa de uma superfície de uma camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
[037] Em outras palavras, o precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclui um suporte e uma camada de gravação de imagem formada sobre o suporte, e a altura média aritmética Sa
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 22/252
14/224 da superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
[038] Na presente descrição, o lado do precursor de chapa para impressão litográfica oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida indica um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida utilizando o suporte como referência.
[039] Daqui em diante, na presente descrição, a superfície da camada mais externa de um lado do precursor de chapa para impressão litográfica onde a camada de gravação de imagem é provida é também referida como uma “superfície frontal” e a superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida é também referida como uma superfície traseira.
[040] Como resultado do exame intensivo que foi conduzido pelos presentes inventores, verificou-se que uma chapa para impressão litográfica com excelente resistência ao atraso da revelação e uma excelente propriedade de alimentação de chapa de retirar de um precursor a partir de um laminado pode ser proporcionada em um caso onde o precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, apresenta a configuração descrita acima.
[041] O mecanismo pelo qual os excelentes efeitos descritos acima são obtidos não está claro, mas pode-se admitir o seguinte.
[042] Os presentes inventores descobriram que existe um problema no fato de ocorrer atraso parcial da revelação e, então, o papel desperdiçado (o material impresso gerado até que a qualidade desejada do papel seja obtida) no estágio inicial da impressão aumenta em um caso onde os precursores de chapa para impressão litográfica são usados e os precursores são laminados,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 23/252
15/224 simplesmente conferindo irregularidade a cada superfície traseira de forma a eliminar o papel intercalado.
[043] Considera-se que a razão para isso é que uma pressão seja parcialmente concentrada na superfície frontal e isso resulta em danos à camada de gravação de imagem nesta parte.
[044] Como resultado do exame intensivo realizado pela presentes inventores, verificou-se que o atraso da revelação descrito acima pode ser eliminado ou reduzido de forma que a resistência ao atraso da revelação tornase excelente ajustando-se a altura média aritmética Sa da superfície traseira para estar em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
[045] Além disso, particularmente em um caso em que o precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é um precursor de chapa para impressão litográfica do tipo de revelação na prensa, o precursor de chapa para impressão litográfica tem excelente resistência ao atraso da revelação na prensa e também tem resistência ao atraso de revelação durante a revelação com um revelador.
[046] Considera-se que a resistência ao atraso da revelação é excelente, como descrito acima, pois é improvável que grandes projeções se formem na superfície traseira, a concentração da pressão em uma parte da superfície frontal é suprimida e os danos na camada de gravação de imagem são reduzidos ajustando-se a altura média aritmética Sa da superfície traseira para estar em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
[047] Além disso, os presentes inventores verificaram que a alimentação de múltiplos precursores é suprimida devido à irregularidade na superfície da camada mais externa e a propriedade de alimentação da chapa é excelente em um caso em que os precursores de chapa para impressão litográfica são retirados do laminado de precursor de chapa para impressão litográfica, um por
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 24/252
16/224 um, ajustando-se a altura média aritmética Sa da superfície traseira para estar em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
[048] Considera-se que isso seja devido também a qualquer ou a ambas as diminuições da área de contato do ponto de vista microscópico da superfície traseira e da superfície frontal e do ar que passa facilmente no momento do desprendimento (também chamado de “propriedade de liberação de ar”) em um caso em que os precursores são laminados pelo uso de papel intercalado ajustando-se a altura média aritmética Sa da superfície traseira para estar em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
[049] O precursor de chapa para impressão litográfica na presente descrição inclui um suporte e uma camada de gravação de imagem negativa solúvel em água ou dispersível em água no suporte.
[050] O precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, pode ser um precursor de chapa para impressão litográfica utilizado para a revelação na prensa ou um precursor de chapa para impressão litográfica utilizado para a revelação realizada com um revelador.
[051] Além disso, o precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com a presente invenção pode incluir uma camada base entre o suporte e a camada de gravação de imagem, pode incluir uma camada protetora sobre a camada de gravação de imagem, ou pode incluir uma camada de resina (camada de revestimento traseiro) em um lado do suporte oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
[052] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 25/252
17/224 [053] A superfície da camada mais externa é uma superfície da camada de resina em um caso em que o precursor de chapa para impressão litográfica tem a camada de resina descrita acima e é uma superfície do suporte em um caso em que a chapa para impressão litográfica não tem uma camada sobre o suporte.
[054] Por exemplo, em um caso em que as protrusões descritas abaixo são formadas, a camada de resina do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é uma camada mais externa e uma pluralidade de protrusões que contêm um composto polimérico pode ser proporcionada sobre a camada de resina. Além disso, o suporte do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é uma camada mais externa e uma pluralidade de protrusões que contêm um composto polimérico pode ser proporcionada sobre o suporte.
<Altura média aritmética Sa>
[Superfície traseira] [055] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, a altura média aritmética da superfície (superfície posterior) da camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida é preferencialmente de 0,5 pm ou maior e menor do que 20 pm, mais preferencialmente, de 0,5 pm ou maior e menor do que 15 pm, e ainda mais preferencialmente, de 0,5 pm a 10 pm do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso do papel intercalado.
[056] Na presente descrição, a altura média aritmética Sa é medida de acordo com o método de medição descrito na ISO 25178. Especificamente, a
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 26/252
18/224 altura média aritmética Sa é obtida selecionando-se três ou mais locais da mesma amostra, realizando a medição utilizando MICROMAP MM3200-M100 (fabricado pela Mitsubishi Chemical Systems, Inc.), e calculando a média dos valores obtidos. Em relação à região de medição, mede-se uma região com um tamanho de 1 cm x 1 cm que foi selecionada aleatoriamente a partir de uma superfície da amostra.
[Superfície frontal] [057] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos, e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem usar papel intercalado, a altura média aritmética Sa da superfície frontal encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm, mais preferencialmente, de 0,5 pm ou maior e menor do que 10 pm, ainda mais preferencialmente, de 0,5 pm ou maior e menor do que 7 pm, e de modo particularmente preferencial, de 0,5 pm ou maior e menor do que 3 pm.
[058] Além disso, é preferível que a altura média aritmética Sa da superfície frontal seja menor do que a altura média aritmética Sa da superfície traseira.
[059] Como a superfície frontal, uma superfície da camada de gravação de imagem ou uma superfície de uma camada protetora é exemplificada em um caso em que uma camada protetora é proporcionada na camada de gravação de imagem.
[Valor total] [060] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 27/252
19/224 da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos, e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso do papel intercalado, o valor total da altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa na superfície onde a camada de gravação de imagem é provida e a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa de um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida é preferencialmente, maior do que 0,3 pm e 20 pm ou menos, mais preferencialmente, maior do que 0,5 pm e menor do que 15 pm, e de modo particularmente preferencial, maior do que 0,5 pm e menor do que 10 pm.
cLisura por Bekk>
[Superfície traseira] [061] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, do ponto de vista da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso do papel intercalado, uma lisura por Bekk b da superfície traseira é, preferencialmente, de 1000 segundos ou menor, mais preferencialmente, de 500 segundos ou menor, e ainda mais preferencialmente, de 300 segundos ou menor.
[Superfície frontal] [062] Além disso, no precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, do ponto de vista da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso de papel intercalado, uma lisura por Bekk a da superfície frontal é, preferencialmente, de 1000 segundos ou menor, mais preferencialmente, de 300 segundos ou menor, e ainda mais preferencialmente, de 100 segundos ou menor.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 28/252
20/224 [063] Além disso, no precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos, e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso de papel intercalado, em um caso em que a lisura por Bekk da superfície (superfície frontal) da camada mais externa na superfície onde a camada de gravação de imagem é provida é definida como a segundos e a lisura por Bekk da superfície (superfície traseira) da camada mais externa na superfície oposta à superfície onde a camada de gravação de imagem é provida é definida como b segundos, é preferível que pelo menos uma da Expressão (1) ou Expressão (2) seja satisfeita e, mais preferível, que ambas Expressão (1) e Expressão (2) sejam satisfeitas.
a< 1000 (1)
1/a + 1/b > 0,002 (2) [064] Além disso, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso de papel intercalado, o valor de 1/a + 1/b é, mais preferencialmente, de 0,004 s_1 e ainda mais preferencialmente, de 0,01 s’1.
<Aspecto preferencial da superfície traseira>
[065] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, um aspecto para alcançar a altura média aritmética Sa da superfície traseira não está particularmente limitado e exemplos preferenciais incluem aspectos no (Aspecto A1) e (Aspecto A2) descritos abaixo.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 29/252
21/224 [066] (Aspecto A1): O precursor de chapa para impressão litográfica inclui uma camada de resina que contém, pelo menos, um tipo de partículas tendo um diâmetro médio de partícula de 0,5 pm a 20 pm como a camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
[067] (Aspecto A2): O precursor de chapa para impressão litográfica tem uma pluralidade de protrusões que contém um composto polimérico na superfície (superfície posterior) da camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
[068] Exemplos preferenciais do método de obtenção do precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com o (Aspecto A1) incluem um método de adição de partículas a uma composição para formar uma camada de resina.
[069] Exemplos preferenciais do método de obtenção do precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com o (Aspecto A2) incluem um método de revestimento da superfície da camada mais externa com uma composição contendo pelo menos um selecionado do grupo constituído por partículas e um composto polimérico para formar protrusões.
[070] No (Aspecto A2), é preferível que o precursor de chapa para impressão litográfica inclua uma camada de resina como a camada mais externa em um lado do suporte oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida e tenha a pluralidade de protrusões na camada de resina.
[Camada de resina] [071] A espessura da película da camada de resina encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,5 pm a 3 pm, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,6 pm a 2 pm, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 0,8 pm a 1,5 pm.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 30/252
22/224 [072] É preferível que a camada de resina no (Aspecto A1) descrita acima contenha partículas e um ligante.
[073] É preferível que a camada de resina no (Aspecto A2) descrita acima contenha um ligante.
[074] Na camada de resina no (Aspecto A1), do ponto de vista da resistência de atraso da revelação, da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso de papel intercalado, a densidade das partículas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 500 pcs/m2 a 500.000 pcs/m2, mais preferencialmente, de 1000 pcs/m2 a 100000 pcs/m2, e ainda mais preferencialmente, de 5000 pcs/m2 a 50000 pcs/m2.
[075] Na camada de resina no (Aspecto A2), do ponto de vista da resistência de atraso da revelação, da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso de papel intercalado, a densidade das protrusões encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 500 pcs/m2 a 500.000 pcs/m2, mais preferencialmente, de 1000 pcs/m2 a 100000 pcs/m2, e ainda mais preferencialmente, de 5000 pcs/m2 a 50000 pcs/m2.
Partículas [076] As partículas contidas na camada de resina de acordo com o (Aspecto A1) e as partículas usadas para atingir o (Aspecto A2) não estão particularmente limitadas, mas pelo menos um tipo de partículas selecionado do grupo constituído por partículas de resina orgânica e partículas inorgânicas é preferível do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação.
«Partículas de resina orgânica»
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 31/252
23/224 [077] Exemplos preferenciais de partículas de resina orgânica incluem as poliolefinas, tais como ésteres de ácido poli (met) acrílico, poliestireno e seus derivados, poliamidas, poliimidas, polietileno de baixa densidade, polietileno de alta densidade e polipropileno; partículas formadas por resinas sintéticas, tais como poliuretanos, poliureias e poliésteres; e partículas formadas por polímeros naturais, tais como quitina, quitosana, celulose, amido reticulado e celulose reticulada.
[078] Entre estes, as partículas de resina de síntese apresentam a vantagem de que o tamanho de partícula pode ser facilmente controlado e as características de superfície desejadas podem ser facilmente controladas pela modificação da superfície.
[079] Quanto a um método para produzir tais partículas de resina orgânica, a atomização pode ser realizada também utilizando-se um método de esmagamento no caso de uma resina relativamente dura, como o polimetilmetacrilato (PMMA), mas um método para sintetizar partículas usando um método de polimerização em suspensão e emulsão é preferencialmente utilizado do ponto de vista da facilidade do controle do diâmetro das partículas e da precisão.
[080] O método de produção de partículas de resina orgânica é descrito em detalhes em “Ultrafine Particle as Materials” editada pela Materials Science Society do Japão, publicada pela SHOKABO Co., Ltd., 1993 e “Manufacturing & Application of Microspheres & Powders” supervisionada por Haruma Kawaguchi., publicado pela CMC Publishing, 2005.
[081] Os exemplos de produtos de partículas de resina orgânica comercialmente disponíveis incluem as resinas acrílicas reticuladas MX-40T, MX-80H3wT, MX-150, MX-180TA, MX-300, MX-500, MX-1000, MX-1500H, MR2HG, MR-7HG, MR-10HG, MR-3GSN, MR-5GSN, MR-7G, MR-10G, MR-5C e
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 32/252
24/224
MR-7GC, e SX-350H e SX-500H à base de resina de estiril fabricado por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.), resinas acrílicas MBX-5, MBX-8, MBX-12, MBX-15, MBX-20, MB20X-5, MB30X-5, MB30X-8, MB30X-20 SBX-6, SBX-8, SBX-12 e SBX-17 (fabricado pela Sekisui Plastics Co., Ltd.), resinas de poliolefinas e CHEMIPEARL W100, W200, W300, W308, W310, W400, W401, W405, W410, W500, WF640, W700, W800, W900, W950 e WP100 (fabricado por Mitsui Chemicals, Inc.).
«Partículas inorgânicas» [082] Exemplos de partículas inorgânicas incluem silica, alumina, zircônia, titânio, negro de fumo, grafite, BaSCU, ZnS, MgCOs, CaCOs, ZnO, CaO, WS2, M0S2, MgO, SnO2, a-Fe2O3, a-FeOOH, SIC, CeO2, BN, SIN, MoC, BC, WC, carboneto de titânio, corindo, diamante artificial, pedra de petróleo, granada, silica, tripolite, terra de diatomáceas e dolomita.
[083] Quanto as partículas descritas acima, é preferível uma partícula que tenha uma superfície hidrofílica. Exemplos da partícula contendo uma superfície hidrofílica incluem uma partícula de resina orgânica contendo uma superfície hidrofílica e uma partícula inorgânica contendo uma superfície hidrofílica.
[084] Como partícula de resina orgânica contendo uma superfície hidrofílica, uma partícula de resina orgânica revestida com pelo menos um composto inorgânico selecionado do grupo constituído por silica, alumina, titânio e zircônia é preferível e uma partícula de resina orgânica revestida com silica é particularmente preferível.
[085] É preferível que uma resina orgânica que constitui uma partícula de resina orgânica contendo uma superfície hidrofílica seja pelo menos uma resina selecionada do grupo constituído por uma resina poliacrílica, uma resina à base de poliuretano, uma resina à base de poliestireno, uma resina à base de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 33/252
25/224 poliéster, uma resina à base de epoxi, uma resina fenólica e uma resina de melamina.
[086] A seguir, a partícula de resina orgânica contendo uma superfície hidrofílica será descrita em detalhes usando uma partícula de resina orgânica revestida com silica (referida, daqui por diante, também como uma “partícula de resina orgânica revestida de silica”) como um exemplo, e a partícula de resina contendo uma superfície hidrofílica na presente descrição não está limitada a mesma.
[087] A partícula de resina orgânica revestida de silica é uma partícula obtida por revestimento da superfície da partícula formada por uma resina orgânica com silica. É preferível que a partícula de resina orgânica que constitui o núcleo não seja amolecida ou não se torne viscosa devido à umidade do ar ou à sua temperatura.
[088] Exemplos da resina orgânica que constitui a partícula de resina orgânica nas partículas de resina orgânica revestidas de silica incluem uma resina poliacrílica, uma resina à base de poliuretano, uma resina à base de poliestireno, uma resina à base de poliéster, uma resina à base de epoxi, uma resina fenólica e uma resina de melamina.
[089] Como material que forma a camada de gel que cobre a superfície da partícula de resina orgânica revestida de silica, um composto contendo um grupo alcoxisilil, tal como um condensado de um composto à base alcoxissiloxano, particularmente, um material à base de siloxano, e especificamente, partículas de silica, tais como silica sol, silica coloidal e nanopartículas de silica são preferencialmente exemplificados.
[090] A configuração da partícula de resina orgânica revestida de silica pode ser uma configuração na qual uma partícula de silica adere à superfície de uma partícula de resina orgânica como um componente sólido ou uma
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 34/252
26/224 configuração na qual uma camada de composto à base de siloxane é formada na superfície de uma partícula de resina orgânica realizando-se uma reação de condensação em um composto à base de alcoxissiloxano.
[091] A silica não cobre necessariamente toda a superfície da partícula de resina orgânica e é preferível que a sua superfície seja revestida com pelo menos 0,5% em massa ou mais de silica pelo menos em relação à massa total das partículas de resina orgânica. Em outras palavras, em um caso em que a silica está presente em pelo menos uma parte da superfície da partícula de resina orgânica, consegue-se uma melhora da afinidade para um polímero solúvel em água coexistente, tal como o álcool polivinílico (PVA), evita-se a queda a partir da partícula mesmo em um caso em que se aplica uma tensão externa à mesma, e uma excelente resistência a riscos e facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso do papel intercalado podem ser mantidas. Adequadamente, a expressão “coberta com silica” na presente descrição inclui um estado no qual a silica está presente em pelo menos uma parte da superfície da partícula de resina orgânica como descrito acima.
[092] O estado da superfície a ser revestida de silica pode ser confirmado por observação morfológica utilizando-se um microscópio eletrônico de varredura (SEM) ou semelhante. Além disso, a quantidade de revestimento de silica pode ser confirmada por meio da detecção de átomos de Si através de análise elementar, tal como a análise de raios X fluorescentes e cálculo da quantidade de silica nela presente.
[093] Um método de produção de partículas de resina orgânica revestida de silica não está particularmente limitado, e exemplos incluem um método de formação de uma camada de revestimento de superfície de silica simultaneamente com a formação de partículas de resina orgânica, permitindo
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 35/252
27/224 que partículas de silica ou um composto precursor de silica coexistam com um componente monomérico que se torna a matéria-prima das partículas de resina orgânica; e um método de formação de partículas de resina orgânica, partículas de silica fisicamente aderentes a cada superfície das partículas de resina orgânica e fixação das partículas de silica.
[094] A seguir, será descrito um exemplo do método de produção de partículas de resina orgânica revestidas de silica. Primeiramente, a silica e uma matéria-prima resinosa (mais especificamente, uma matéria-prima resinosa como um monômero capaz de polimerizar em suspensão, um pré-polímero capaz de reticular em suspensão ou um liquido resinoso, que constitui a resina orgânica descrita acima) são adicionadas a água contendo um estabilizador de suspensão apropriadamente selecionado de um polímero solúvel em água, tal como álcool polivinílico, metilcelulose ou ácido poliacrílico e um agente de suspensão inorgânico, tal como fosfato de cálcio ou carbonato de cálcio, e agitadas e misturadas com a água para preparar uma suspensão, na qual a silica e uma matéria-prima resinosa estão dispersas. Neste momento, uma suspensão com um diâmetro de partícula alvo pode ser formada ajustando-se o tipo, a concentração e a velocidade de rotação da agitação do estabilizador de suspensão. Em seguida, a suspensão é aquecida para iniciar a reação, e as partículas de resina são geradas pela realização da polimerização em suspensão ou reticulação em suspensão na matéria-prima resinosa. Neste momento, a silica coexistente é fixada na partícula de resina curada/endurecida pela reação de polimerização ou reticulação, particularmente, pela proximidade da superfície da partícula de resina devido a suas propriedades físicas. Em seguida, a suspensão é submetida a separação sólido-líquido, o estabilizador de suspensão aderente às partículas é removido por lavagem e as partículas são secas. Desta maneira, as partículas de resina orgânica revestidas de silica, às
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 36/252
28/224 quais a silica é fixada e que têm um diâmetro de partícula desejado e uma forma substancialmente esférica, podem ser obtidas.
[095] Como descrito acima, as partículas de resina orgânica revestidas de silica tendo um diâmetro de partícula desejado podem ser obtidas pelo controle das condições durante a polimerização em suspensão ou a reticulação em suspensão ou as partículas de resina orgânica revestidas de silica são geradas sem o controle rigoroso das condições e, assim, partículas orgânicas revestidas de silica com um tamanho desejado podem ser obtidas por um método de filtração em malha ou semelhante.
[096] No que diz respeito à quantidade de matéria-prima a ser adicionada à mistura durante a produção das partículas orgânicas revestidas de silica, de acordo com o método descrito acima, no caso em que a quantidade total de matéria-prima resinosa e silica é 100 partes em massa, exemplifica-se, preferencialmente, um aspecto em que 0,1 partes em massa a 20 partes em massa do estabilizador de suspensão é primeiramente adicionado a 200 partes em massa a 800 partes em massa de água que serve como um meio de dispersão, e suficientemente dissolvido ou disperso na mesma, 100 partes em massa de uma mistura da matéria-prima resinosa e a silica são colocadas na solução, a solução é agitada enquanto a velocidade de agitação é ajustada de tal modo que as partículas dispersas tenham um tamanho de partícula predeterminado e a temperatura da solução seja aumentada para 30°C a 90°C após o ajuste do tamanho das partículas levando a uma reação por 1 hora a 8 horas.
[097] O método descrito acima é meramente um exemplo do método de produção de partículas de resina orgânica revestidas de silica e partículas de resina orgânica revestidas de silica obtidas pelos métodos especificamente descritos nos documentos JP2002-327036A, JP2002-173410A, JP2004
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 37/252
29/224
307837A, JP2006-038246A e semelhantes, podem ser adequadamente utilizados também na presente descrição.
[098] Além disso, as partículas de resina orgânica revestidas de silica também estão disponíveis como produtos comercialmente disponíveis e exemplos específicos de partículas de composto de sílica-melamina incluem OPTBEADS 2000M, OPTBEADS 3500M, OPTBEADS 6500M, OPTBEADS 10500M, OPTBEADS 3500S e OPTBEADS 6500S (todas fabricadas pela Nissan Chemical Industries, Ltd.). Exemplos específicos de partículas de composto de sílica-acrílico incluem ART PEARL G-200 transparente, ART PEARL G-400 transparente, ART PEARL G-800 transparente, ART PEARL GR-400 transparente, ART PEARL GR-600 transparente, ART PEARL GR-800 transparente e ART PEARL J-7P (todos fabricados por Negami Chemical Industrial Co., Ltd.). Exemplos específicos de partículas de composto de sílicauretano incluem ART PEARL C-400 transparente, C-800 transparente, P-800T, U-600T, U-800T, CF-600T e CF800T (todos fabricados pela Negami Chemical Industrial Co., Ltd.) e DYNAMIC BEADS CN5070D e DANPLACOAT THU (ambas fabricadas por Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd.).
[099] Aqui, as partículas de resina orgânica utilizadas na presente descrição foram descritas usando as partículas de resina orgânica revestidas de silica como um exemplo, mas o mesmo se aplica às partículas de resina orgânica revestidas de alumina, titânio ou zircônia usando alumina, titânio ou zircônia no lugar da silica.
«Forma» [0100] Quanto à forma das partículas, é preferível uma forma perfeitamente esférica, e uma forma de chapa plana ou a forma de fuso na qual uma vista de projeção está em uma forma elíptica pode ser utilizada.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 38/252
30/224 [0101] Do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, o diâmetro médio de partícula das partículas utilizadas para a formação de irregularidade na superfície traseira é preferencialmente de 0,1 pm ou maior, mais preferencialmente, de 0,3 pm ou maior, ainda mais preferencialmente, de 0,5 pm ou superior, e de modo particularmente preferencial, de 0,7 pm ou maior. Além disso, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, o diâmetro médio de partícula da mesma é, preferencialmente, de 20 pm ou menor, mais preferencialmente, de 10 pm ou menor, e ainda mais preferencialmente, de 7 pm ou menor.
[0102] Além disso, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso do papel intercalado, é preferível que a camada de resina de acordo com o (Aspecto A1) satisfaça a expressão (A).
[0103] 0,2 < (a espessura da película da camada de resina/o diâmetro médio das partículas contidas na camada de resina) < 0,5 Expressão (A) [0104] O valor (da espessura da película da camada de resina/o diâmetro médio de partícula das partículas contidas na camada de resina) é, preferencialmente, 0,2 ou maior, mais preferencialmente, 0,22 ou maior, e ainda mais preferencialmente, 0,25 ou maior. Além disso, o seu valor é preferencialmente de 0,5 ou menor, mais preferencialmente, de 0,45 ou menor, e ainda mais preferencialmente, de 0,4 ou menor.
[0105] O valor representado (pela espessura da película da camada de resina/o diâmetro médio de partícula das partículas contidas na camada de resina) também é referido como uma taxa de incorporação de partículas.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 39/252
31/224 [0106] Do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação, o diâmetro médio de partícula das partículas utilizadas para formação de irregularidade na superfície frontal descrita abaixo encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,1 pm a 20 pm, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,3 pm a 10 pm, ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 0,5 pm a 7 pm, e de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 0,5 pm a 5 pm.
[0107] O diâmetro médio de partícula das partículas na presente descrição indica o diâmetro médio de partículas volumétrico, e o diâmetro médio das partículas volumétrico pode ser medido utilizando-se um medidor de difração a laser e de distribuição do tamanho de partícula do tipo de dispersão. Exemplos do dispositivo de medição incluem um dispositivo de medição de distribuição do tamanho de partícula Microtrac MT-3300II (fabricado por Nikkiso Co., Ltd.).
[0108] Além disso, na presente descrição, o diâmetro médio de partícula de outras partículas é configurado para ser medido de acordo com o método de medição descrito acima, salvo indicação em contrário.
Dureza [0109] A dureza de 10% das partículas é, preferencialmente, de 80 MPa ou menos, mais preferencialmente, de 50 MPa ou menos, e ainda mais preferencialmente, de 40 MPa ou menos. Além disso, a dureza de 10% das mesmas é, preferencialmente, de 1 MPa ou mais e mais preferencialmente, de 10 MPa ou mais.
[0110] A dureza de 10% das partículas indica a dureza obtida em um caso em que 10% das partículas são empurradas para dentro e é medida utilizando um teste de microcompressão da série MCT (fabricada pela Shimadzu Corporation). Especificamente, as partículas são interpostas até o seu diâmetro atingir 90% do comprimento e a pressão no momento seja medida.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 40/252
32/224 «Quantidade de adição» [Superfície traseira] [0111] Em um caso em que as partículas são adicionadas a uma composição para formar uma camada de resina a fim de formar irregularidades na superfície traseira, a quantidade de partículas a serem adicionadas à camada mais externa é ajustada de tal modo que a quantidade das partículas, que estão presentes na camada de resina, encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 500 pcs/m2 a 500.000 pcs/m2, mais preferencialmente, em uma faixa de 1000 pcs/m2 a 100000 pcs/m2, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 5000 pcs/m2 a 50000 pcs/m2. Em um caso em que a quantidade de partículas a ser adicionada encontra-se em uma faixa descrita acima, a altura média aritmética Sa é facilmente ajustada para estar na faixa descrita acima e a dessorção das partículas é evitada de modo a que a falha não seja causada.
[Superfície frontal] [0112] De acordo com o seguinte aspecto, em um caso em que as partículas são adicionadas a uma composição para formar uma camada mais externa a fim de formar irregularidades na superfície frontal, a massa das partículas a serem adicionadas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,5% em massa a 50% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 1,0% em massa a 20% em massa, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 2,5% em massa a 10% em massa em relação a 100% em massa da massa total da camada mais externa. Em um caso onde a massa das partículas a ser adicionada encontra-se em uma faixa descrita acima, a propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, a eliminação da queda de partículas, a resistência a riscos e a facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso de papel intercalado tornam-se excelentes.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 41/252
33/224 [0113] Do ponto de vista da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, da resistência a riscos, e da facilidade de desprendimento no momento da laminação sem o uso do papel intercalado, a camada de gravação de imagem contém pelo menos um tipo de partículas tendo um diâmetro médio de partícula de 0,5 pm a 20 pm e é preferível que a camada de gravação de imagem contenha dois ou mais tipos de partículas que possuam diferentes diâmetros médios de partículas.
[0114] É preferível que as partículas apresentando um diâmetro médio de partícula de 0,5 pm a 20 pm sejam as partículas para formação de irregularidade, e exemplos de outras partículas incluem um composto polimérico apresentando um formato particulado e as partículas poliméricas termoplásticas descritas abaixo.
[0115] Na presente descrição, “a camada de gravação de imagem contém dois ou mais tipos de partículas com diferentes diâmetros médios de partícula” é confirmada verificando se dois ou mais picos estão presentes na distribuição do tamanho de partícula. A distribuição do tamanho de partícula é medida da mesma maneira que para o diâmetro médio de partícula das partículas ou adquirida por imagens provenientes de uma micrografia eletrônica de partículas, medindo o número total de 5.000 diâmetros de partículas das partículas na fotografia, dividindo a faixa do valor máximo do valor medido obtido do diâmetro da partícula até 0 na escala logarítmica de 50, e construir o gráfico da frequência de aparecimento de cada diâmetro de partícula. Além disso, o diâmetro de partícula de uma partícula esférica com a mesma área de partícula que a área de partícula na fotografia foi ajustada pelo diâmetro da partícula, como partículas não esféricas.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 42/252
34/224 [0116] Além disso, os dois ou mais picos descritos acima são preferencialmente picos separados entre si por 10 nm ou mais, e mais preferencialmente, picos separados entre si por 100 nm ou mais.
Ligante [0117] É preferível que o ligante de acordo com o (Aspecto A1) contenha, pelo menos, um selecionado a partir do grupo constituído por uma resina novolac, tal como uma resina de fenol-formaldeído, uma resina de m-cresol formaldeído, uma resina de p-cresol formaldeído, uma resina mista de m-/p-cresol formaldeído, ou uma resina mista de (qualquer um da mistura de m-, p- e m-/p-) fenol/cresol formaldeído, uma resina resol, pirogalol, uma resina de acetona, uma resina epoxi, uma resina de copolímero de poliéster saturado, uma resina fenoxi, uma resina de polivinil acetal, uma resina de copolímero de cloreto de vinilideno, polibuteno, polibutadieno, poliamida, uma resina de copolímero de poliéster insaturado, poliuretano, poliureia, poliimida, polissiloxano, policarbonato, polietileno dorado, uma resina de condensação aldeído de alquilfenol, cloreto de polivinila, cloreto de polivinilideno, poliestireno, poliacrilato, polímero carboxivinílico, uma resina de copolímero de resina acrílica, hidroxicelulose, hidroximetilcelulose, álcool polivinílico, polivinilpirrolidona, acetato de celulose, metilcelulose e carboximetilcelulose. Entre estes, é preferível uma resina insolúvel em água, a fim de evitar a dissolução em água de umedecimento no momento da revelação.
[0118] Além disso, é preferível que o ligante contenha pelo menos um selecionado do grupo constituído por poliuretano, uma resina acrílica, poliestireno e polietileno.
[0119] De acordo com o (Aspecto A1), é preferível que as partículas e o ligante contenham, respectivamente, pelo menos um selecionado do grupo constituído por poliuretano, uma resina acrílica, poliestireno e polietileno.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 43/252
35/224 [0120] Como ligante contido na camada de resina de acordo com ο (Aspecto Α2), exemplificam-se os compostos poliméricos que são os mesmos que os compostos poliméricos contidos nas protrusões descritas abaixo, e o mesmo se aplica ao seu aspecto preferencial.
[0121] Além disso, de acordo com o (Aspecto A2), do ponto de vista da prevenção da dessorção das protrusões, é preferível que o ligante contido na camada de resina e o composto de polímero contido nas protrusões contenham, respectivamente, a mesma resina.
[0122] Na presente descrição, a expressão “as resinas são iguais umas às outras” significa que as resinas são do mesmo tipo, como poliuretano, uma resina acrílica, poliestireno e polietileno, e não é necessário que todas as unidades constituintes nas resinas sejam iguais umas às outras.
«Valor de SP» [0123] De acordo com o (aspecto A1), uma diferença no parâmetro de solubilidade (valor de SP) entre as partículas e o ligante é, preferencialmente, de 4 MPa1/2 ou menos e, mais preferencialmente, de 2 MPa1/2 ou menos.
[0124] Na presente descrição, o parâmetro de solubilidade (valor de SP) é um valor [unidade: MPa1/2] adquirido usando um método de Okitsu. O método de Okitsu é um dos métodos conhecidos para calcular o valor de SP e está descrito no Journal of the Adhesion Society of Japan Vol. 29, No. 6 (1993), p. 249 a 259.
- Outros componentes [0125] A camada de resina da presente descrição pode conter componentes além das partículas e do ligante.
[0126] Exemplos de outros componentes incluem aditivos conhecidos, tais como tensoativos.
[Protrusões]
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 44/252
36/224 [0127] É preferível que as protrusões de acordo com o (aspecto A2) contenham um composto polimérico como componente principal. Na presente descrição, o componente principal indica um componente cuja razão de teor (% em massa) é a mais alta.
- Composto polimérico [0128] Do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação e da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, da eliminação da queda de partículas, o composto polimérico usado para as protrusões pode conter, pelo menos, um selecionado do grupo constituído por uma resina novolac, tal como uma resina de fenol-formaldeído, uma resina de m-cresol formaldeído, uma resina de p-cresol formaldeído, uma resina mista de m-/p-cresol formaldeído, ou uma resina mista de (qualquer um da mistura de m-, p- e m-/p-) fenol/cresol formaldeído, uma resina resol, pirogalol, uma resina de acetona, uma resina epoxi, uma resina de copolímero de poliéster saturado, uma resina fenoxi, uma resina de polivinil acetal, uma resina de copolímero de cloreto de vinilideno, polibuteno, polibutadieno, poliamida, uma resina de copolímero de poliéster insaturado, poliuretano, poliureia, poliimida, polissiloxano, policarbonato, polietileno dorado, uma resina de condensação aldeído de alquilfenol, cloreto de polivinila, cloreto de polivinilideno, poliestireno, poliacrilato, polímero carboxivinílico, uma resina de copolímero de resina acrílica, hidroxicelulose, hidroximetilcelulose, álcool polivinílico, polivinilpirrolidona, acetato de celulose, metilcelulose e carboximetilcelulose.
[0129] Entre estes, do ponto de vista de a capacidade de revelação ser excelente mesmo em um caso em que as protrusões dessorvidas são movidas para a camada de gravação de imagem, um polímero solúvel em água é mais preferível. Exemplos específicos destes incluem poliacrilato, um polímero carboxivinílico, uma resina de copolímero de resina acrílica, hidroxicelulose,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 45/252
37/224 hidroximetilcelulose, álcool polivinílico, álcool polivinílico modificado, polivinilpirrolidona, acetato de celulose, metilcelulose e carboximetilcelulose.
[0130] Como o álcool polivinílico modificado, utiliza-se, preferencialmente, álcool polivinílico modificado por ácido contendo um grupo carboxi ou um grupo sulfo. Especificamente, o álcool polivinílico modificado descrito no documento JP2005-250216A ou JP2006-259137A é o adequado.
[0131] A forma e a altura das protrusões não estão particularmente limitadas, desde que a altura média aritmética Sa esteja em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm, e a altura média esteja, preferencialmente, em uma faixa de 0,5 pm a 20 pm.
[0132] Um método para formar protrusões do tipo tira (película revestida por tira) não está particularmente limitado, e as protrusões podem ser facilmente formadas aplicando-se uma composição que contenha, pelo menos, um selecionado do grupo constituído por partículas e resinas de acordo com, pelo menos, um sistema selecionado do grupo constituído por um sistema de revestimento com barra, um sistema de impressão por jato de tinta, um sistema de impressão de gravura, um sistema de serigrafia, um sistema de revestimento por pulverização e um sistema de revestimento slot-die.
[0133] Um método de formação de protrusões do tipo ponto (película revestida por pontos) não está particularmente limitado, e as protrusões podem ser facilmente formadas aplicando-se uma composição que contenha, pelo menos, um selecionado do grupo constituído por partículas e resinas de acordo com, pelo menos, um sistema selecionado do grupo constituído por um sistema de revestimento por pulverização, um sistema de impressão por jato de tinta e um sistema de serigrafia.
[0134] Um método de formação de protrusões do tipo linha tracejada (película revestido por linha tracejada) não está particularmente limitado, e as
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 46/252
38/224 protrusões podem ser facilmente formadas aplicando-se uma composição que contenha, pelo menos, um selecionado do grupo constituído por partículas e resinas de acordo com, pelo menos, um sistema selecionado do grupo constituído por um sistema de impressão por jato de tinta e um sistema de serigrafia.
<Aspecto preferencial da superfície frontal>
[0135] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, um aspecto para alcançar a altura média aritmética Sa da superfície frontal não está particularmente limitado, e exemplos preferenciais dos mesmos incluem os aspectos em (Aspecto B1) a (Aspecto B4) descrito abaixo.
[0136] (Aspecto B1): A camada de gravação de imagem é a camada mais externa, contém pelo menos um tipo de partículas que possui um diâmetro médio de partícula de 0,5 pm a 20 pm e contém dois ou mais tipos de partículas com diferentes diâmetros médios de partícula.
[0137] (Aspecto B2): Uma camada protetora é proporcionada sobre a camada de gravação de imagem como a camada mais externa, e a camada protetora contém pelo menos um tipo de partícula que possui um diâmetro médio de partícula de 0,5 pm a 20 pm.
[0138] (Aspecto B3): A camada de gravação de imagem é a camada mais externa, e uma pluralidade de protrusões contendo um composto polimérico como um componente principal é proporcionada na camada de gravação de imagem.
[0139] (Aspecto B4): Uma camada protetora é proporcionada na camada de gravação de imagem como a camada mais externa, e uma pluralidade de protrusões contendo um composto polimérico como componente principal é proporcionada na camada protetora.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 47/252
39/224 [0140] Exemplos preferenciais do método de obtenção do precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com o (Aspecto B1) incluem um método de adição de partículas a uma composição para formar uma camada de gravação de imagem.
[0141] Exemplos preferenciais do método de obtenção do precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com (Aspecto B2) incluem um método de adição de partículas a uma composição para formar uma camada protetora.
[0142] Exemplos preferenciais do método de obtenção do precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com o (Aspecto B3) ou (Aspecto B4) incluem um método de revestimento da superfície da camada mais externa com uma composição contendo pelo menos um selecionado do grupo constituído por partículas e um composto polimérico para formar protrusões.
[0143] Exemplos das partículas usadas no (Aspecto B1) ao (Aspecto B4) incluem as partículas usadas no (Aspecto A1) e (Aspecto A2) descritas acima.
[0144] Exemplos do composto polimérico utilizado no (Aspecto B3) ou (Aspecto B4) incluem o composto polimérico utilizado no (Aspecto A2) descrito acima.
<Suporte>
[0145] O precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclui um suporte de alumínio hidrofilizado.
[0146] Como suporte utilizado no precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é utilizado um suporte conhecido. Entre os exemplos, é preferível uma chapa de alumínio que tenha sido submetida a um tratamento de anodização e é preferível uma chapa de alumínio que tenha sido submetida a um tratamento de formação de rugosidade (roughening treatment) e a um tratamento de anodização.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 48/252
40/224 [0147] O tratamento de formação de rugosidade e o tratamento de anodização podem ser realizados de acordo com um método conhecido.
[0148] A chapa de alumínio pode ser submetida a um tratamento apropriadamente selecionado de um tratamento de expansão ou um tratamento de vedação de microporos de uma película anodizada descrito no documento JP2001-253181A ou JP2001-322365A ou um tratamento de hidrofilização de superfície utilizando silicato de metal alcalino descrito nos documentos US2714066A, US3181461A, US3280734A. e US3902734A ou ácido polivinilfosfônico descrito nos documentos US3276868A, US4153461A e US4689272A, quando necessário.
[0149] A rugosidade média da linha central Ra do suporte encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,10 pm a 1,2 pm.
[Aspecto preferencial do suporte] [0150] De acordo com um aspecto preferencial, por exemplo, o suporte de alumínio (um suporte de alumínio de acordo com o presente exemplo será referido também como um “suporte A”) utilizado na presente descrição é um suporte de alumínio incluindo uma chapa de alumínio e uma película de alumínio anodizada disposta na chapa de alumínio, a película anodizada é posicionada mais perto da camada de gravação de imagem do que da chapa de alumínio, a película anodizada tem microporos que se estendem em uma direção de profundidade a partir da superfície do lado da camada de gravação de imagem e o diâmetro médio dos microporos na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 7 nm a 150 nm.
[0151] A Fig. 1 é uma vista transversal esquemática que ilustra uma forma de realização de um suporte de alumínio 12a. O suporte de alumínio 12a tem uma estrutura laminada na qual uma chapa de alumínio 18 e uma película de alumínio anodizada 20a (referida, daqui em diante, também como película
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 49/252
41/224 anodizada 20a) são laminadas nesta ordem. Além disso, a película anodizada 20a no suporte de alumínio 12a está posicionada mais perto de um lado da camada de gravação de imagem 16 do que da chapa de alumínio 18. Em outras palavras, é preferível que o precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclua, pelo menos, a chapa de alumínio, a película anodizada e a camada de gravação de imagem nesta ordem.
- Película anodizada [0152] Um aspecto preferencial da película anodizada 20a será descrito a seguir.
[0153] A película anodizada 20a é uma película a ser preparada em uma superfície da chapa de alumínio 18 pela realização de um tratamento de anodização, e este película é substancialmente perpendicular à superfície da película e tem microporos extremamente finos 22a uniformemente distribuídos. Os microporos 22a prolongam-se ao longo da direção da espessura (o lado da chapa de alumínio 18) a partir da superfície (a superfície da película anodizada 20a em um lado oposto a um lado onde (está) o lado da chapa de alumínio 18) da película anodizada 20a no lado da camada de gravação de imagem 16.
[0154] O diâmetro médio (diâmetro médio de abertura) dos microporos 22a na superfície da película anodizada 20a encontra-se, preferencialmente, na faixa de 7 nm a 150 nm. Do ponto de vista do equilíbrio entre a durabilidade da impressão, resistência a manchas e visibilidade da imagem, o seu diâmetro médio encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 10 nm a 100 nm, mais preferencialmente, em uma faixa de 15 nm a 60 nm, ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 20 nm a 50 nm e, de um modo particularmente preferencial, em uma faixa de 25 nm a 40 nm. O diâmetro dentro do poro pode ser mais largo ou mais estreito que a camada da superfície.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 50/252
42/224 [0155] Em um caso em que o diâmetro médio é de 7 nm ou superior, a durabilidade da impressão e a visibilidade da imagem são ainda melhores. Além disso, em um caso em que o seu diâmetro médio é de 150 nm ou menos, a durabilidade da impressão é ainda melhor.
[0156] O diâmetro médio dos microporos 22a é calculado como um valor médio aritmético obtido pela observação de 4 folhas (N = 4) das superfícies da película anodizada 20a utilizando um microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo (FE-SEM) com uma ampliação de 150.000, pela medição dos diâmetros de 50 locais de microporos presentes em uma faixa de 400 x 600 nm2 nas quatro folhas de imagens obtidas, e pelo cálculo da média dos valores.
[0157] Além disso, em um caso em que a forma dos microporos 22a não é circular, um diâmetro de círculo equivalente é utilizado. O diâmetro de círculo equivalente é um diâmetro de um círculo obtido assumindo a forma de uma porção de abertura de um microporo na superfície da película anodizada como um círculo tendo a mesma área projetada que a área projetada da porção de abertura.
[0158] A profundidade dos microporos 22a não está particularmente limitada, mas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 10 nm a 3000 nm, mais preferencialmente, em uma faixa de 50 nm a 2000 nm, e ainda mais preferencialmente, 300 nm a 1600 nm.
[0159] Além disso, a sua profundidade é um valor obtido pela captura (150.000 vezes) de uma imagem de uma secção transversal da película anodizada 20a, pela medição da profundidade 25 ou mais microporos 22a, e pelo cálculo da média dos valores obtidos.
[0160] A forma dos microporos 22a não está particularmente limitada, e sua forma na Fig. 2 pode apresentar uma forma tubular substancialmente reta, mas pode apresentar uma forma cônica cujo diâmetro diminui em direção à
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 51/252
43/224 direção da profundidade (direção da espessura). Além disso, a forma da parte inferior dos microporos 22a não está particularmente limitada, mas pode apresentar uma forma curva (projeção) ou uma forma plana.
[0161] O valor do brilho L* no sistema de cor L*a*b* da superfície do suporte de alumínio 12a em um lado da camada de gravação de imagem 16 (a superfície da película anodizada 20a em um lado da camada de gravação de imagem 16) encontra-se na faixa de 70 a 100. Neste documento, do ponto de vista que o equilíbrio entre a durabilidade da impressão e a visibilidade da imagem são ainda melhores, o seu valor encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 75 a 100 e mais preferencialmente, em uma faixa de 75 a 90.
[0162] O brilho L* é medido usando um medidor de diferença de cores Spectro Eye (fabricado pela X-Rite Inc.).
[0163] A faixa de uma inclinação a45 que representa a razão de área de uma porção tendo um grau de inclinação de 45° ou mais obtida pela extração de um componente com um comprimento de onda de 0,2 pm a 2 pm na superfície da película anodizada 20a em um lado da camada de gravação de imagem 16 não está particularmente limitada, mas é preferencialmente 25% ou menos, mais preferencialmente, 20% ou menos, e ainda mais preferencialmente, 18% ou menos do ponto de vista da resistência à mancha e da capacidade de eliminação de tinta no momento em que é deixada em repouso. O limite inferior não está particularmente limitado, mas é de 5% ou mais em muitos casos.
[0164] A inclinação a45 é um fator que representa a forma da superfície e é um valor adquirido de acordo com os seguintes procedimentos (1) a (3).
(1) A forma da superfície é medida para adquirir dados tridimensionais.
[0165] A forma da superfície do suporte de alumínio 12a no lado da película anodizada 20a é medida utilizando-se um microscópio de força atômica (AFM) para adquirir os dados tridimensionais.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 52/252
44/224 [0166] A medição é realizada sob as seguintes condições. Especificamente, o suporte de alumínio 12a é cortado em um tamanho de 1 cm2 e fixado sobre um suporte de amostra horizontal que é fornecido em um scanner piezoelétrico, um braço de suporte se aproxima da superfície da amostra, o escaneamento é realizado na direção XY ao chegar a uma região onde a força atômica funciona, e o desnível da amostra é capturado pelo deslocamento do piezo na direção Z. Um scanner piezoelétrico capaz de realizar o escaneamento de uma distância de 150 pm na direção XY e uma distância de 10 pm na direção Z é usado como o scanner piezoelétrico. Um braço de suporte com uma frequência de ressonância de 120 kHz a 150 kHz e uma frequência de sprint de 12 N/m a 20 N/m (SI-DF20, fabricado pela Nanoprobes Inc.) é usado em um modo de força dinâmica (DFM) como o braço de suporte. Além disso, realizando a aproximação dos quadrados mínimos dos dados tridimensionais adquiridos, a ligeira inclinação da amostra é corrigida para adquirir uma superfície de referência.
[0167] Durante a medição, 512 x 512 pontos em uma área com um tamanho de 25 pm x 25 pm na superfície são medidos. A resolução na direção XY é de 1,9 pm, a resolução na direção Z é de 1 nm e a velocidade de varredura é de 60 pm/s.
(2) A correção é executada.
[0168] No cálculo da inclinação a45, um componente que tem um comprimento de onda de 0,2 pm a 2 pm é selecionado dentre os dados tridimensionais que foram adquiridos em (1) descrito acima e é corrigido. Devido a esta correção, em um caso em que uma superfície de um suporte de alumínio ou semelhante utilizada no precursor de chapa para impressão litográfica, que apresenta um desnível significativo, é escaneada utilizando uma sonda de um AFM, pode-se eliminar um ruído que ocorre em um caso em que a sonda atinge
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 53/252
45/224 uma extremidade de uma projeção e se move (springs), fazendo com que uma porção diferente da extremidade pontiaguda da sonda seja colocada em contato com uma superfície da parede de uma depressão profunda.
[0169] A correção é executada realizando-se a transformada de Fourier rápida nos dados tridimensionais adquiridos em (1) descrito acima de forma a adquirir a distribuição de frequência, selecionando-se um componente que tenha um comprimento de onda de 0,2 pm a 2 pm, e realizando-se a transformada inversa de Fourier.
(3) A inclinação a45 é calculada.
[0170] Três pontos adjacentes entre si são extraídos usando os dados tridimensionais (f(x,y)) obtidos pela realização da correção em (2) descrito acima, um ângulo entre um pequeno triângulo formado desses três pontos e a superfície de referência é calculado para todos os conjuntos de dados para adquirir a curva de distribuição dos graus de inclinação. Além disso, a soma da área do pequeno triângulo é adquirida e essa área é definida como a área real. Com base na curva de distribuição dos graus de inclinação, calcula-se a inclinação a45 (unidade: %) que é uma relação entre a área de uma porção com um grau de inclinação de 45° ou mais e a área real.
[0171] A faixa de uma área de superfície específica AS, que é um valor adquirido pela seguinte Equação (i) com base em uma área de medição geométrica S0 e uma área real Sx adquirida de acordo com um método de três pontos de aproximação a partir dos três dados dimensionais a serem obtidos pela medição de 512 x 512 pontos em uma área com um tamanho de 25 pm x 25 pm na superfície da película anodizada 20a no lado da camada de gravação de imagem 16 utilizando um microscópio de força atômica, não está particularmente limitada, e é 15% ou maior em muitos casos. Do ponto de vista da excelente resistência a manchas, capacidade de eliminação de tinta no
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 54/252
46/224 momento em que é deixada em repouso e da visibilidade de imagem, a área de superfície específica AS é preferencialmente 20% ou maior, mais preferencialmente, encontra-se em uma faixa de 20% a 40%, e ainda mais preferencialmente, de 25% a 35%.
AS = (Sx - S0)/S0 x 100 (%) (i) [0172] Na medição de AS descrito acima, os dados tridimensionais (f(x,y)) são obtidos de acordo com os mesmos processos como em (1) que devem ser executados no momento do cálculo da inclinação a45.
[0173] Em seguida, três pontos adjacentes entre si são extraídos utilizando-se os dados tridimensionais (f(x, y)) obtidos da maneira descrita acima, a soma da área do pequeno triângulo formado destes três pontos é adquirida, e esta área é definida como uma área real Sx. A área de superfície específica AS é adquirida pela Equação (i) descrita acima com base na área real Sx e na área de medição geométrica S0.
[0174] No suporte A, um aspecto (daqui em diante, o suporte de acordo com o aspecto descrito acima é referido também como um suporte B) em que os microporos são formados por poros de grande diâmetro que se estendem até uma posição a uma profundidade de 10 nm a 1000 nm da superfície da película anodizada e poros de pequeno diâmetro que se comunicam com uma parte inferior dos poros de grande diâmetro e se estendem de uma posição a uma profundidade de 20 nm a 2000 nm de uma posição de comunicação, o diâmetro médio dos poros de grande diâmetro na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 15 nm a 150 nm, e o diâmetro médio dos poros de pequeno diâmetro na posição de comunicação é de 13 nm ou menos é preferencialmente exemplificado.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 55/252
47/224 [0175] A Fig. 2 é uma vista transversal esquemática que ilustra outra forma de realização do suporte de alumínio 12a diferente do suporte ilustrado na Fig. 1. O suporte B é um aspecto do suporte de alumínio 12a ilustrado na Fig. 2.
[0176] Na Fig. 2, o suporte de alumínio 12b inclui uma chapa de alumínio 18 e uma película anodizada 20b tendo microporos 22b formados por poros de grande diâmetro 24 e poros de pequeno diâmetro 26.
[0177] Os microporos 22b na película anodizada 20b são formados por poros de grande diâmetro 24 que se estendem até uma posição a uma profundidade (profundidade D: vide Fig. 2) de 10 nm a 1000 nm da superfície da película anodizada e poros de pequeno diâmetro 26 que se comunicam com uma parte inferior dos poros de grande diâmetro 24 e se estendem de uma posição a uma profundidade de 20 nm a 2000 nm da posição de comunicação.
[0178] Os poros de grande diâmetro 24 e os poros de pequeno diâmetro 26 serão descritos em detalhe a seguir.
[0179] O diâmetro médio dos poros de grande diâmetro 24 na superfície da película anodizada 20b é maior que 10 nm a 100 nm, que é o mesmo que o diâmetro médio dos microporos 22a na superfície da película anodizada 20a. descrito acima, e a faixa preferencial é a mesma descrita acima.
[0180] O método para a medição do diâmetro médio dos poros de grande diâmetro 24 na superfície da película anodizada 20b é igual ao método para a medição do diâmetro médio dos microporos 22a na superfície da película anodizada 20a.
[0181 ] A parte inferior dos poros de grande diâmetro 24 está posicionada a uma profundidade de 10 nm a 1000 nm (referida, daqui em diante, também como uma profundidade D) a partir da superfície da película anodizada. Em outras palavras, os poros de grande diâmetro 24 são poros que se prolongam da superfície da película anodizada até uma posição a uma profundidade de 10 nm
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 56/252
48/224 a 1000 nm na direção da profundidade (direção da espessura). A profundidade encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 10 nm a 200 nm.
[0182] Além disso, a sua profundidade é um valor obtido pela captura (150.000 vezes) de uma imagem de uma secção transversal da película anodizada 20b, pela medição da profundidade de 25 ou mais poros de grande diâmetro 24, e pelo cálculo da média dos valores obtidos.
[0183] A forma dos poros de grande diâmetro 24 não está particularmente limitada, e os seus exemplos incluem uma forma tubular substancialmente reta (forma substancialmente cilíndrica) e uma forma cônica, cujo diâmetro diminui em direção à direção da profundidade (direção da espessura). Entre estes, é preferível uma forma tubular substancialmente reta.
[0184] Os poros de pequeno diâmetro 26, como ilustrado na Fig. 2, são poros que se comunicam com a parte inferior dos poros de grande diâmetro 24 e que se estendem da posição de comunicação até a direção de profundidade (direção da espessura).
[0185] O diâmetro médio dos poros de diâmetro pequeno 26 na posição de comunicação é, preferencialmente, de 13 nm ou menos. Além disso, o diâmetro médio do mesmo é, preferencialmente, de 11 nm ou menos e mais preferencialmente, de 10 nm ou menos. O limite inferior dos mesmos não está particularmente limitado, mas é de 5 nm ou maior em muitos casos.
[0186] O diâmetro médio dos poros de pequeno diâmetro 26 é calculado como um valor médio aritmético obtido pela observação de 4 folhas (N = 4) das superfícies da película anodizada 20a usando um microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo (FE-SEM) em uma ampliação de 150.000, pela medição dos diâmetros dos microporos (poros de pequeno diâmetro) presentes em uma faixa de 400 nm x 600 nm nas quatro folhas de imagens obtidas, e pelo cálculo da média dos valores. Em um caso onde a profundidade dos poros de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 57/252
49/224 grande diâmetro é grande, o diâmetro médio dos poros de pequeno diâmetro pode ser adquirido cortando (por exemplo, cortando a porção superior usando gás argônio) a porção superior (uma região onde os poros de grande diâmetro estão presentes) da película anodizada 20b, quando necessário, e observando a superfície da película anodizada 20b utilizando a FE-SEM descrita acima.
[0187] Além disso, em um caso em que a forma dos poros de pequeno diâmetro 26 não é circular, é utilizado um diâmetro de círculo equivalente é utilizado. O diâmetro de círculo equivalente é um diâmetro de um círculo obtido assumindo a forma de uma porção de abertura de um microporo como um círculo tendo a mesma área projetada que a área projetada da porção de abertura.
[0188] A porção inferior do pequeno diâmetro dos poros 26 se encontra em uma posição que se estende a partir da posição de comunicação com os poros de grande diâmetro 24 a uma direção a uma profundidade de 20 nm a 2000 nm. Em outras palavras, os poros de pequeno diâmetro 26 são poros que se estendem desde a posição de comunicação com os poros de grande diâmetro 24 à direção de profundidade (direção da espessura) e a profundidade dos poros de pequeno diâmetro 26 se encontra em uma faixa de 20 nm a 2000 nm. Além disso, a profundidade encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 500 nm a 1500 nm.
[0189] Além disso, a sua profundidade é um valor obtido pela captura (50000 vezes) de uma imagem de uma secção transversal da película anodizada 20b, pela medição da profundidade de 25 ou mais poros de pequeno diâmetro, e pelo cálculo da média dos valores obtidos.
[0190] A forma dos poros de pequeno diâmetro 26 não está particularmente limitada, e os exemplos incluem uma forma tubular substancialmente reta (forma substancialmente cilíndrica) e uma forma cônica,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 58/252
50/224 cujo diâmetro diminui em direção à direção da profundidade. Entre estes, é preferível uma forma tubular substancialmente reta.
[Método de produção do suporte de alumínio] [0191] Como método de produção de um suporte de alumínio incluído no precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, por exemplo, é preferível um método de produção que realiza sequencialmente as seguintes etapas.
[0192] (Etapa de tratamento de formação de rugosidade) Uma etapa para realizar um tratamento de formação de rugosidade em uma chapa de alumínio;
[0193] (Etapa de tratamento de anodização) Uma etapa de anodização da chapa de alumínio que foi submetida ao tratamento de formação de rugosidade;
[0194] (Etapa de tratamento de alargamento de poros) Uma etapa de alargamento do diâmetro dos microporos na película anodizada, colocando a chapa de alumínio tendo a película anodizada obtida na etapa de tratamento de anodização em contato com uma solução ácida aquosa ou uma solução aquosa alcalina.
[0195] A seguir, os procedimentos de cada etapa serão descritos em detalhe.
- Etapa de tratamento de formação de rugosidade [0196] A etapa de tratamento de formação de rugosidade é uma etapa da realização de um tratamento de formação de rugosidade, incluindo um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade em uma superfície de uma chapa de alumínio. É preferível que a presente etapa seja realizada antes da etapa de tratamento de anodização descrita abaixo, mas não pode ser realizada
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 59/252
51/224 no caso em que a superfície da chapa de alumínio já tenha uma forma de superfície preferida.
[0197] O tratamento de formação de rugosidade pode ser realizado pela execução de apenas um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade, mas pode ser realizado combinando um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade e um tratamento mecânico de formação de rugosidade e/ou um tratamento químico de formação de rugosidade.
[0198] Em um caso em que o tratamento mecânico de formação de rugosidade é combinado com o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade, é preferível que o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade seja realizado após o tratamento mecânico de formação de rugosidade.
[0199] É preferível que o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade seja realizado em uma solução aquosa contendo principalmente ácido nítrico ou ácido clorídrico usando a corrente contínua ou a corrente alternada.
[0200] O método para a realização do tratamento mecânico de formação de rugosidade não está particularmente limitado, e os métodos descritos no documento JP1975-040047B (JP-S50-040047B) são exemplificados.
[0201] O tratamento de formação de rugosidade químico também não está particularmente limitado e os métodos conhecidos são exemplificados.
[0202] É preferível que um tratamento de ataque químico (ou decapagem) descrito abaixo seja realizado após o tratamento mecânico de formação de rugosidade.
[0203] O tratamento de ataque químico a ser realizado após o tratamento mecânico de formação de rugosidade é realizado para suavizar uma parte da borda da forma irregular da superfície da chapa de alumínio, evitar que a tinta
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 60/252
52/224 seja capturada durante a impressão, melhorar a resistência à mancha da chapa para impressão e remover o material desnecessário, como partículas de material abrasivo que permaneceram na superfície.
[0204] Exemplos do tratamento de ataque químico incluem a decapagem realizada utilizando um ácido e a decapagem realizada utilizando um álcali, e um tratamento de ataque químico (referido, daqui em diante, também como um tratamento de ataque alcalino) utilizando uma solução aquosa alcalina é exemplificado como um método particularmente excelente em termos de eficiência de decapagem.
[0205] Um agente alcalino utilizado para a solução aquosa alcalina não está particularmente limitado, e os seus exemplos incluem soda cáustica, potassa cáustica, metassilicato de sódio, carbonato de sódio, aluminato de sódio e gluconato de sódio.
[0206] A solução aquosa alcalina pode conter íons alumínio.
[0207] A concentração do agente alcalino na solução aquosa alcalina é, preferencialmente, de 0,01 % em massa ou mais, mais preferencialmente, de 3% em massa ou mais e, preferencialmente, de 30% em massa ou menos.
[0208] Em um caso em que o tratamento de ataque alcalino é realizado, é preferível que o tratamento de ataque químico (referido, daqui em diante, também como um tratamento desmutting ou ataque ácido) seja realizado usando uma solução ácida aquosa a uma temperatura baixa, a fim de remover um produto gerado devido ao tratamento de ataque alcalino.
[0209] O ácido utilizado para a solução ácida aquosa não está particularmente limitado e os seus exemplos incluem ácido sulfúrico, ácido nítrico e ácido clorídrico. Além disso, a temperatura da solução ácida aquosa encontrase, preferencialmente, em uma faixa de 20°C a 80°C.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 61/252
53/224 [0210] É preferível que a etapa de tratamento de formação de rugosidade seja realizada de acordo com um método de realização dos tratamentos mostrados em um aspecto A ou um aspecto B na ordem descrita abaixo.
[Aspecto A] (2) Um tratamento de ataque químico realizado usando uma solução aquosa alcalina (primeiro tratamento de ataque alcalino) (3) Um tratamento de ataque químico realizado usando uma solução ácida aquosa (primeiro tratamento de ataque ácido) (4) Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade realizado usando uma solução aquosa que contém principalmente ácido nítrico (primeiro tratamento eletroquímico de formação de rugosidade) (5) Um tratamento de ataque químico realizado usando uma solução aquosa alcalina (segundo tratamento de ataque alcalino) (6) Um tratamento de ataque químico realizado utilizando uma solução ácida aquosa (segundo tratamento de ataque ácido) (7) Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade realizado em uma solução aquosa que contém principalmente ácido clorídrico (segundo tratamento eletroquímico de formação de rugosidade) (8) Um tratamento de ataque químico realizado utilizando uma solução aquosa alcalina (terceiro tratamento de ataque alcalino) (9) Um tratamento de ataque químico realizado utilizando uma solução ácida aquosa (terceiro tratamento de ataque ácido) (Aspecto B) (10) Um tratamento de ataque químico realizado utilizando uma solução aquosa alcalina (quarto tratamento de ataque alcalino)
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 62/252
54/224 (11) Um tratamento de ataque químico realizado utilizando uma solução ácida aquosa (quarto tratamento de ataque ácido) (12) Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade realizado utilizando uma solução aquosa que contém principalmente ácido clorídrico (terceiro tratamento eletroquímico de formação de rugosidade) (13) Um tratamento de ataque químico realizado utilizando uma solução aquosa alcalina (quinto tratamento de ataque alcalino) (14) Um tratamento de ataque químico realizado utilizando uma solução ácida aquosa (quinto tratamento de ataque ácido) [0211] O tratamento mecânico de formação de rugosidade (1) pode ser realizado antes do tratamento (2) do aspecto A descrito acima ou antes do tratamento (10) do aspecto B descrito acima, quando necessário.
[0212] A quantidade da chapa de alumínio a ser dissolvida no primeiro tratamento de ataque químico alcalino e o quarto tratamento de ataque químico alcalino encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,5 a 30 g/m2 e mais preferencialmente, em uma faixa de 1,0 a 20 g/m2.
[0213] Como a solução aquosa que contém principalmente ácido nítrico utilizada para o primeiro tratamento eletroquímico de formação de rugosidade, de acordo com o aspecto A, é exemplificada uma solução aquosa utilizada para um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade realizado utilizando a corrente contínua ou a corrente alternada. Por exemplo, exemplifica-se uma solução aquosa obtida pela adição de nitrato de alumínio, nitrato de sódio ou nitrato de amônio a 1 a 100 g/L de uma solução aquosa de ácido nítrico.
[0214] Como a solução aquosa que contém principalmente ácido clorídrico usada para o segundo tratamento eletroquímico de formação de rugosidade, de acordo com o aspecto A, e o terceiro tratamento eletroquímico de formação de rugosidade, de acordo com o aspecto B, é exemplificada uma
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 63/252
55/224 solução aquosa típica usada para um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade usando a corrente contínua ou a corrente alternada. Por exemplo, exemplifica-se uma solução aquosa obtida pela adição de 0 g/L a 30 g/L de ácido sulfúrico a uma solução aquosa de ácido clorídrico a 1 g/L a 100 g/L. Além disso, íons nitrato, como nitrato de alumínio, nitrato de sódio e nitrato de amônio; e os íons cloridrato, tais como cloreto de alumínio, cloreto de sódio e cloreto de amônio, podem ser adicionados a esta solução.
[0215] A forma de onda da fonte de energia de AC do tratamento eletroquímico de formação de rugosidade pode usar uma onda senoidal, uma onda quadrada, uma onda trapezoidal e uma onda triangular. A frequência encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,1 Hz a 250 Hz.
[0216] A Fig. 3 é um gráfico que ilustra um exemplo de um diagrama de forma de onda de corrente de forma de onda alternada utilizado para o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade.
[0217] Na Fig. 3, ta representa um tempo de reação anódica, tc representa um tempo de reação catódica, tp representa um tempo para a corrente atingir o pico de 0, Ia representa a corrente máxima em um lado do ciclo anódico e Ic representa o pico corrente no lado do ciclo catódico. Na onda trapezoidal, o tempo necessário para a corrente atingir o pico a partir de 0 situase, preferencialmente, em uma faixa de 1 a 10 ms. Como as condições preferíveis para um ciclo da corrente alternada usada para a rugosidade eletroquímica, uma razão tc/ta entre o tempo de reação catódica tc e o tempo de reação anóadica ta da chapa de alumínio se encontra em uma faixa de 1 a 20, uma razão Qc/Qa entre uma quantidade elétrica Qc no momento em que a chapa de alumínio serve como um catodo e uma quantidade elétrica Qa no momento em que a chapa de alumínio serve como um anodo se encontra em uma faixa de 0,3 a 20, e o tempo de reação anódica ta se encontra em uma faixa de 5 ms
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 64/252
56/224 a 1000 ms. A densidade de corrente encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 10 A/dm a 200 A/dm2, tanto em um lado de ciclo anódico la quanto em um lado do ciclo catódico lc da corrente, em termos do valor de pico da onda trapezoidal. O valor de Ic/la situa-se preferencialmente, na faixa de 0,3 a 20. A quantidade total de eletricidade usada para a reação anódica da chapa de alumínio no momento em que a formação de rugosidade eletroquimica é concluída encontra-se, preferencialmente, na faixa de 25 C/dm2 a 1000 C/dm2.
[0218] Um dispositivo ilustrado na Fig. 4 pode ser usado para a formação de rugosidade eletroquimica realizada utilizando a corrente alternada.
[0219] A Fig. 4 é uma vista lateral que ilustra um exemplo de uma célula do tipo radial no tratamento eletroquímico de formação de rugosidade realizado utilizando a corrente alternada.
[0220] Na Fig. 4, o número de referência 50 representa uma célula eletrolítica principal, o numeral de referência 51 representa uma fonte de energia AC, o numeral de referência 52 representa um rolo/cilindro de tambor radial, os números de referência 53a e 53b representam um polo principal, o numeral de referência 54 representa uma porta de alimentação de solução eletrolítica, o numeral de referência 55 representa uma solução eletrolítica, o numeral de referência 56 representa uma fenda, o numeral de referência 57 representa uma passagem de solução eletrolítica, o numeral de referência 58 representa um anodo auxiliar, o numeral de referência 60 representa um célula anódica auxiliar, e o símbolo W representa uma chapa de alumínio. Em um caso em que duas ou mais células eletrolíticas são usadas, as condições de eletrólise podem ser as mesmas ou diferentes entre si.
[0221 ] A chapa de alumínio W é enrolada em torno do cilindro de tambor radial 52 colocado por imersão na célula eletrolítica principal 50 e é eletrolisada pelos pelos principais 53a e 53b ligados à fonte de energia AC 51 no processo
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 65/252
57/224 de transporte. A solução eletrolítica 55 é fornecida à passagem de solução eletrolítica 57 disposta entre o cilindro de tambor radial 52 e o polo principal 53a e entre o cilindro de tambor radial 52 e o polo principal 53b através da fenda 56 a partir da porta de alimentação de solução eletrolítica 54. A chapa de alumínio W que foi tratada na célula eletrolítica principal 50 é eletrolisada na célula anódica auxiliar 60. O anodo auxiliar 58 está disposto na célula anódica auxiliar 60 de modo a ficar de frente para a chapa de alumínio W e a solução eletrolítica 55 é fornecida de modo a fluir através do espaço entre o anodo auxiliar 58 e a chapa de alumínio W.
[0222] Do ponto de vista de produzir facilmente um precursor de chapa para impressão predeterminada, a quantidade da chapa de alumínio a ser dissolvida no segundo tratamento de gravação alcalina é preferencialmente 1,0 g/m2 ou superior e mais preferencialmente, em uma faixa de 2,0 g/m2 a 10 g/m2.
[0223] Do ponto de vista de produzir facilmente um precursor de chapa para impressão predeterminada, a quantidade da chapa de alumínio a ser dissolvida no terceiro tratamento de ataque alcalino e o quarto tratamento de ataque alcalino é, preferencialmente, de 0,01 a 0,8 g/m2 e encontra-se, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,05 a 0,3 g/m2.
[0224] Nos tratamentos de ataque químico (primeiro ao quinto tratamentos de ataque ácido) realizados com uma solução ácida aquosa, utilizase, adequadamente, uma solução ácida aquosa contendo ácido fosfórico, ácido nítrico, ácido sulfúrico, ácido crômico, ácido clorídrico ou ácidos mistos obtidos pela mistura de dois ou mais destes ácidos.
[0225] A concentração da solução ácida aquosa encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,5% a 60% em massa.
- Etapa de tratamento de anodização Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 66/252
58/224 [0226] Os procedimentos da etapa de tratamento de anodização não estão particularmente limitados desde que os microporos descritos acima sejam obtidos e os métodos conhecidos sejam exemplificados.
[0227] Na etapa de tratamento de anodização, uma solução aquosa contendo ácido sulfúrico, ácido fosfórico, ácido oxálico e semelhantes pode ser utilizada como uma célula eletrolítica. Por exemplo, a concentração do ácido sulfúrico se encontra em uma faixa de 100 a 300 g/L.
[0228] As condições para o tratamento de anodização são adequadamente definidas dependendo da solução eletrolítica. Como um exemplo das condições, a temperatura do líquido se encontra em uma faixa de 5°C a 70°C (preferencialmente, em uma faixa de 10°C a 60°C), a densidade de corrente se encontra em uma faixa de 0,5 a 60 A/dm2 (preferencialmente, na faixa de 5 a 60 A/dm2), a voltagem se encontra em uma faixa de 1 a 100 V (preferencialmente, na faixa de 5 a 50 V), o tempo de eletrólise se encontra em uma faixa de 1 a de 100 segundos (preferencialmente, em uma faixa de 5 a 60 segundos), e a quantidade de revestimento se encontra em uma faixa de 0,1 a 5 g/m2 (preferencialmente, em uma faixa de 0,2 a 3 g/m2).
- Tratamento de alargamento de poros [0229] O Tratamento de alargamento de poros é um tratamento (tratamento de alargamento do diâmetro dos poros) de alargamento do diâmetro (diâmetro dos poros) dos microporos presentes na película anodizada formada pela etapa de tratamento de anodização descrita acima.
[0230] O Tratamento de alargamento de poros pode ser realizado colocando a chapa de alumínio obtida na etapa de tratamento de anodização em contato com uma solução ácida aquosa ou uma solução aquosa alcalina. O método de colocar a chapa de alumínio em contato com a solução não está
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 67/252
59/224 particularmente limitado, e os seus exemplos incluem um método de imersão e um método de pulverização.
cCamada de gravação de imagem>
[0231] O precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclui uma camada de gravação de imagem negativa solúvel em água ou dispersível em água sobre o suporte.
[0232] Na presente descrição, o termo “solúvel em água” significa que 0,5 g ou mais de uma substância é dissolvida em 100 g de água a 20°C, e a camada solúvel em água pode ser uma camada que se dissolve em uma quantidade de 0,5 g ou mais em 100 g de água a 20°C. Além disso, na presente descrição, o termo “dispersível em água” significa que uma substância é dispersa uniformemente em água a 20°C, e a camada dispersível em água indica um camada que pode ser dispersa uniformemente em água a 20°C.
[0233] É preferível que a camada de gravação de imagem na presente descrição seja uma camada de gravação de imagem de acordo com qualquer um dos aspectos 1 a 5 seguintes.
[0234] Primeiro aspecto: Um agente absorvente de infravermelho, um composto polimerizável e um iniciador de polimerização estão contidos.
[0235] Segundo aspecto: Um agente absorvente de infravermelho e partículas poliméricas termoplásticas estão contidos.
[0236] Terceiro aspecto: No primeiro aspecto, partículas poliméricas ou um microgel está contido também.
[0237] Quarto aspecto: No primeiro aspecto, as partículas poliméricas termoplásticas estão contidas também.
[0238] Quinto aspecto: No quarto aspecto, um microgel está contido também.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 68/252
60/224 [0239] De acordo com o primeiro aspecto ou com o segundo aspecto, é possível obter um precursor de chapa para impressão litográfica com excelente durabilidade de impressão de uma chapa para impressão litográfica a ser obtida.
[0240] De acordo com o terceiro aspecto, é possível obter um precursor de chapa para impressão litográfica tendo excelente capacidade de revelação (particularmente, capacidade de revelação na prensa).
[0241] De acordo com o quarto aspecto, é possível obter um precursor de chapa para impressão litográfica com excelente durabilidade de impressão.
[0242] De acordo com o quinto aspecto, é possível obter um precursor de chapa para impressão litográfica com excelente durabilidade de impressão.
[0243] De acordo com um aspecto preferencial do precursor de chapa para impressão litográfica da presente descrição, a camada de gravação de imagem é uma camada de gravação de imagem (referida, daqui em diante, também como uma camada de gravação de imagem A) contendo um agente absorvente de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável e um polímero ligante.
[0244] De acordo com um outro aspecto preferencial do precursor de chapa para impressão litográfica da presente descrição, a camada de gravação de imagem é uma camada de gravação de imagem (referida, daqui em diante, também como uma “camada de gravação de imagem B”) contendo um agente absorvente de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável e um composto polimérico tendo um formato particulado.
[0245] De acordo com ainda outro aspecto preferencial do precursor de chapa para impressão litográfica da presente descrição, a camada de gravação de imagem é uma camada de gravação de imagem (referida, daqui em diante, também como uma “camada de gravação de imagem C”) contendo um agente absorvente de infravermelho e partículas poliméricas termoplásticas.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 69/252
61/224 [Camada de gravação de imagem A] [0246] A camada de gravação de imagem A contém um agente absorvente de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável e um polímero ligante. A seguir, os componentes constituintes da camada de gravação de imagem A serão descritos.
- Agente absorvente de infravermelho [0247] Um agente absorvente de infravermelho tem a função de converter raios infravermelho absorvidos em calor, uma função de transferência de elétrons para um iniciador de polimerização descrito abaixo através da excitação por raios infravermelho, e/ou uma função de transferência de energia. Como o agente absorvente de infravermelho utilizado na presente descrição, um agente corante ou um pigmento com absorção máxima em um comprimento de onda de 760 nm a 1.200 nm é preferível e um agente corante com absorção máxima em um comprimento de onda de 760 a 1.200 nm é mais preferível.
[0248] Como agente corante, podem ser utilizados agentes corantes descritos nos parágrafos 0082 a 0088 do documento JP2014-104631 A.
[0249] O diâmetro médio de partícula do pigmento encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,01 pm a 1 pm e mais preferencialmente, em uma faixa de 0,01 pm a 0,5 pm. Uma técnica de dispersão conhecida usada para produzir tintas ou toners pode ser usada para dispersão do pigmento. Os detalhes estão descritos em “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing Co., Ltd., 1986) e similares.
[0250] O agente absorvente de infravermelho pode ser usado isoladamente ou como uma combinação de dois ou mais tipos do mesmo.
[0251] O teor do agente absorvente de infravermelho encontra-se, preferencialmente, na faixa de 0,05% em massa a 30% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,1% em massa a 20% em massa, e de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 70/252
62/224 modo particularmente preferencial, em uma faixa de 0,2% em massa a 10% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
- Iniciador de polimerização - [0252] O iniciador de polimerização indica um composto que inicia e promove a polimerização de um composto polimerizável. Como iniciador de polimerização, pode ser utilizado um iniciador de polimerização térmica conhecido, um composto possuindo uma ligação com uma energia de dissociação de ligação pequena ou um iniciador de fotopolimerização. Especificamente, os iniciadores de polimerização via radical descritos nos parágrafos 0092 a 0106 do documento JP2014-104631A podem ser usados.
[0253] Exemplos preferenciais de compostos nos iniciadores de polimerização incluem sais de ônio. Entre estes, os sais de iodônio e os sais de sulfônio são particularmente preferenciais. Exemplos específicos preferenciais dos compostos em cada um dos sais são os compostos descritos nos parágrafos 0104 a 0106 do documento JP2014-104631 A.
[0254] O teor do iniciador de polimerização encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,1% em massa a 50% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,5% em massa a 30% em massa, e de modo particularmente preferencial em uma faixa de 0,8% em massa a 20% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem. Quando o seu teor se encontra em uma faixa descrita acima, obtém-se uma melhor sensibilidade e melhor resistência a manchas de uma área sem imagem no momento da impressão.
- Composto polimerizável - [0255] Um composto polimerizável é um composto polimerizável de adição tendo pelo menos uma ligação etilenicamente insaturada e é selecionado a partir de compostos tendo preferencialmente, pelo menos uma e mais
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 71/252
63/224 preferencialmente, duas ou mais ligações etilenicamente insaturadas terminais. Estes apresentam formas químicas, tais como um monômero, um pré-polímero, isto é, um dímero, um trímero, um oligômero e uma mistura destes. Especificamente, os compostos polimerizáveis descritos nos parágrafos 0109 a 0113 do documento JP2014-104631A podem ser usados.
[0256] Entre os exemplos descritos acima, do ponto de vista que o equilíbrio entre a hidrofilicidade associada à capacidade de revelação (particularmente, capacidade de revelação na prensa) e a capacidade de polimerização associada à durabilidade da impressão é excelente, acrilatos modificados com óxido de etileno e ácido isocianúrico, tais como tris (acriloiloxietil)) isocianurato e isocianurato de bis (acriloiloxietil) hidroxietila são particularmente preferenciais.
[0257] Os detalhes das estruturas destes compostos polimerizáveis, quer sejam utilizados sozinhos ou em combinação, e o método de utilização, tal como a quantidade de adição, podem ser arbitrariamente definidos de acordo com o desenho de desempenho final de um precursor de chapa para impressão litográfica. O teor do composto polimerizável descrito acima a ser utilizado encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 5% em massa a 75% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 10% em massa a 70% em massa, e de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 15% em massa a 60% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
- Polímero ligante [0258] Um polímero ligante pode ser usado principalmente para melhorar a dureza da película da camada de gravação de imagem. Como polímero ligante, podem ser utilizados polímeros conhecidos no estado da arte relacionado e polímeros com propriedades de película revestida são preferíveis.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 72/252
64/224
Dentre os exemplos do mesmo, uma resina acrílica, uma resina de polivinilacetal e uma resina de poliuretano são preferíveis.
[0259] Exemplos preferenciais de polímeros ligantes incluem polímeros que possuem um grupo funcional de reticulação na cadeia principal ou lateral, preferencialmente, na cadeia lateral, para melhorar a resistência da película revestida de uma área de imagem como descrito no documento JP2008195018A. A reticulação ocorre entre moléculas de polímero por um grupo de reticulação, de modo que a cura/endurecimento é promovida.
[0260] Exemplos preferenciais do grupo funcional de reticulação incluem um grupo etilenicamente insaturado, tal como um grupo (met)acrila, um grupo vinila, um grupo alila, ou um grupo estirila e um grupo epoxi, e os grupos funcionais de reticulação podem ser introduzidos em um polímero por uma reação polimérica ou copolimerização. Por exemplo, pode ser utilizada uma reação entre um polímero acrílico com um grupo carboxila na cadeia lateral deste ou poliuretano e metacrilato de glicidila ou uma reação entre um polímero que possui um grupo epoxi e um ácido carboxílico contendo um grupo etilenicamente insaturado, tal como o ácido metacrílico.
[0261] O teor do grupo de reticulação no polímero ligante encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,1 mmol a 10,0 mmol, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,25 mmol a 7,0 mmol e, de um modo particularmente preferencial, em uma faixa de 0,5 mmol a 5,5 mmol relativamente a 1 g do polímero ligante.
[0262] Além disso, é preferível que o polímero ligante inclua um grupo hidrofílico. O grupo hidrofílico contribui para conferir capacidade de revelação (particularmente, capacidade de revelação na prensa) à camada de gravação de imagem. Particularmente, na coexistência de um grupo de reticulação e de um
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 73/252
65/224 grupo hidrofílico, tanto a durabilidade da impressão como a capacidade de revelação podem ser alcançadas.
[0263] Exemplos do grupo hidrofílico incluem um grupo hidroxi, um grupo carboxila, uma estrutura de óxido de alquileno, um grupo amino, um grupo amônio, um grupo amida, um grupo sulfo e um grupo ácido fosfórico. Entre estes, é preferível uma estrutura de óxido de alquileno com 1 a 9 unidades de óxido de alquileno tendo 2 ou 3 átomos de carbono. Um monômero possuindo um grupo hidrofílico pode ser copolimerizado de modo a proporcionar um grupo hidrofílico para um polímero ligante.
[0264] Para além disso, a fim de controlar a propriedade de impressão, um grupo lipofílico, tal como um grupo alquila, um grupo arila, um grupo aralquila ou um grupo alquenila, pode ser introduzido no polímero ligante. Por exemplo, um monômero contendo um grupo lipofílico, tal como o éster alquílico do ácido metacrílico, pode ser copolimerizado.
[0265] O peso molecular médio ponderado (Mw) do polímero ligante é preferencialmente 2.000 ou maior, mais preferencialmente, 5.000 ou maior, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 10.000 a 300.000.
[0266] O teor do polímero ligante encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 3% em massa a 90% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 5% em massa a 80% em massa, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 10% em massa a 70% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
[0267] Como um exemplo preferencial do polímero ligante, é exemplificado um composto polimérico tendo uma cadeia de polioxialquileno na cadeia lateral. Em um caso em que a camada de gravação de imagem contém um composto polimérico possuindo uma cadeia de polioxialquileno na cadeia lateral (referida, daqui em diante, também como um composto polimérico
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 74/252
66/224 contendo uma cadeia POA), a permeabilidade da água de umedecimento é promovida e a capacidade de revelação (particularmente, capacidade de revelação na prensa revelação) é melhorada.
[0268] Exemplos da resina que constitui a cadeia principal do composto polimérico contendo a cadeia POA incluem uma resina acrílica, uma resina de polivinil acetal, uma resina de poliuretano, uma resina de poliureia, uma resina de poliimida, uma resina de poliamida, uma resina epoxi, uma resina metacrílica, uma resina de poliestireno, uma resina fenólica do tipo novolac, uma resina de poliéster, borracha sintética e borracha natural. Entre estes, uma resina acrílica é particularmente preferencial.
[0269] Além disso, na presente descrição, uma cadeia principal indica relativamente a cadeia de ligação mais longa em uma molécula de um composto polimérico que constitui uma resina e uma cadeia lateral indica uma cadeia molecular ramificada a partir da cadeia principal.
[0270] O composto polimérico contendo a cadeia POA não contém substancialmente um grupo perfluoroalquila. A expressão “não contém substancialmente um grupo perfluoroalquila” significa que a razão de massa de um átomo de flúor presente como um grupo perfluoroalquila em um composto polimérico é inferior a 0,5% em massa, e é preferível que o composto polimérico não contenha átomo de flúor. A relação de massa do átomo de flúor é medida por um método de análise elementar.
[0271] Além disso, o “grupo perfluoroalquila” é um grupo no qual todos os átomos de hidrogênio do grupo alquila são substituídos por átomos de flúor.
[0272] Como óxido de alquileno (oxialquileno) em uma cadeia de polioxialquileno, é preferível o óxido de alquileno com 2 a 6 átomos de carbono, sendo o óxido de etileno (oxietileno) ou óxido de propileno (oxipropileno) o mais preferível e o óxido de etileno, o prioritário.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 75/252
67/224 [0273] O número de repetição do óxido de alquileno em uma cadeia de polioxialquileno, isto é, uma porção de óxido de polialquileno encontra-se, preferencialmente, na faixa de 2 a 50 e, mais preferencialmente, em uma faixa de 4 a 25.
[0274] Em um caso em que o número de número de repetição do óxido de alquileno é 2 ou maior, a permeabilidade da água de umedecimento é suficientemente melhorada. Além disso, do ponto de vista de que a durabilidade da impressão não é degradada devido à abrasão, é preferível que o seu número de repetição seja de 50 ou menos.
[0275] Como porção de óxido de polialquileno, as estruturas descritas nos parágrafos 0060 a 0062 do documento JP2014-104631A são preferenciais.
[0276] O composto polimérico contendo a cadeia POA pode ter propriedades de reticulação de modo a melhorar a resistência da película revestida de uma área de imagem. Exemplos dos compostos poliméricos contendo a cadeia POA com propriedades de reticulação estão descritos nos parágrafos 0063 a 0072 do documento JP2014-104631 A.
[0277] A proporção de unidades de repetição que têm uma porção poli (óxido de alquileno) nas unidades de repetição totais que constituem o composto polimérico contendo a cadeia POA não está particularmente limitada, mas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,5% em mol a 80% em mol e, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,5% em mol a 50% em mol. Exemplos específicos dos compostos poliméricos contendo a cadeia POA estão descritos nos parágrafos 0075 e 0076 do documento JP2014-104631 A.
[0278] Como o composto polimérico contendo a cadeia POA, os compostos macromoleculares hidrofílicos, como o ácido poliacrílico e o álcool polivinílico descritos no documento JP2008-195018A, podem ser utilizados em
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 76/252
68/224 combinação, quando necessário. Além disso, um composto polimérico lipofílico e um composto polimérico hidrofílico podem ser utilizados em combinação.
[0279] Além da presença do composto polimérico contendo a cadeia POA na camada de gravação de imagem como um ligante que desempenha um papel de conectar os componentes da camada de gravação de imagem entre si, o composto polimérico específico pode estar presente na forma de uma partícula. Em um caso em que o composto polimérico específico está presente na forma de uma partícula, o diâmetro médio das partículas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 10 nm a 1.000 nm, mais preferencialmente, em uma faixa de 20 nm a 300 nm, e de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 30 nm a 120 nm.
[0280] O teor do composto polimérico contendo a cadeia POA encontrase, preferencialmente, em uma faixa de 3% em massa a 90% em massa e, mais preferencialmente, em uma faixa de 5% em massa a 80% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem. Em um caso em que o teor do mesmo se encontra em uma faixa descrita acima, tanto a permeabilidade da água de umedecimento como a capacidade de formação de imagem podem ser alcançadas com segurança.
[0281] Outros exemplos preferenciais do polímero ligante incluem um composto polimérico (referido, daqui em diante, também como um “composto polimérico do tipo estrela”) que possui uma cadeia polimérica ligada a um núcleo através de uma ligação sulfeto por meio do uso de um polifuncional, em uma faixa de tiol hexa- a deca-funcional como núcleo e em que a cadeia polimérica tem um grupo polimerizável. Como composto polimérico do tipo estrela, por exemplo, os compostos descritos no documento JP2012-148555A podem ser preferencialmente utilizados.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 77/252
69/224 [0282] Exemplos do composto polimérico do tipo estrela incluem compostos tendo um grupo polimerizável, tal como uma ligação etilenicamente insaturada na cadeia principal ou na cadeia lateral, preferencialmente, na cadeia lateral, para melhorar a resistência da película revestida de uma área de imagem como descrito no documento JP2008-195018A. A reticulação ocorre entre as moléculas de polímero por um grupo polimerizável, de modo que o endurecimento é promovido.
[0283] Exemplos preferenciais do grupo polimerizável incluem um grupo etilenicamente insaturado, tal como um grupo (met)acrila, um grupo vinila, um grupo alila ou um grupo estirila e um grupo epoxi. Entre estes, do ponto de vista da reatividade de polimerização, é preferível um grupo (met)acrila, um grupo vinila, um grupo alila ou um grupo estirila, e é particularmente preferencial um grupo (met)acrila. Estes grupos podem ser introduzidos em um polímero por uma reação polimérica ou copolimerização. Por exemplo, pode-se utilizar uma reação entre um polímero com um grupo carboxila na sua cadeia lateral e metacrilato de glicidila ou uma reação entre um polímero que possui um grupo epoxi e um ácido carboxílico contendo um grupo etilenicamente insaturado, tal como o ácido metacrílico. Estes grupos podem ser usados em combinação.
[0284] O teor do grupo de reticulação no composto polimérico do tipo estrela encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,1 mmol a 10,0 mmol, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,25 mmol a 7,0 mmol, e de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 0,5 mmol a 5,5 mmol em relação a 1 g do composto polimérico do tipo estrela.
[0285] Além disso, é preferível que o composto polimérico do tipo estrela inclua adicionalmente um grupo hidrofílico. O grupo hidrofílico contribui para proporcionar capacidade de revelação (particularmente, capacidade de revelação na prensa) à camada de gravação de imagem. Particularmente, na
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 78/252
70/224 coexistência de um grupo polimerizável e de um grupo hidrofílico, tanto a durabilidade da impressão como a capacidade de revelação podem ser alcançadas.
[0286] Exemplos do grupo hidrofílico incluem -SO3M1, -OH, CONR1R2 (M1 representa um átomo de hidrogênio, um íon metálico, um íon amônio, ou um íon fosfônio, cada R1 e R2 representa, independentemente, um átomo de hidrogênio, um grupo alquila, um grupo alquenila, ou um grupo arila, e R1 e R2 podem ser ligados entre si para formar um anel), -N+R3R4R5X- (cada R3 a R5 representa, independentemente, um grupo alquila tendo 1 a 8 átomos de carbono e X - representa um contra-ânion), -(CH2CH2O)nR, e -(CsHeOjmR.
[0287] Nas fórmulas acima descritas, cada nem representa, independentemente, um número inteiro de 1 a 100 e cada um de R representa, independentemente, um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila tendo 1 a 18 átomos de carbono.
[0288] Neste documento, em um caso em que 0 composto polimérico do tipo estrela é um composto polimérico do tipo estrela com uma cadeia de polioxialquileno (por exemplo, -(CH2CH2O)nR, e -(CsHeOjmR) na cadeia lateral, tal composto polimérico do tipo estrela é um composto polimérico tendo a cadeia de polioxialquileno descrita acima na cadeia lateral.
[0289] Entre estes grupos hidrofílicos, -CONR1R2, -(CH2CH2O)nR, ou (CsHeOjmR é preferível, -CONR1R2 ou -(CH2CH2O)nR é mais preferível, e (CH2CH2O)nR é particularmente preferível. Em -(CH2CH2O)nR, n representa um número inteiro de 1 a 10, e de modo particularmente preferencial, 1 a 4. Além disso, R representa, mais preferencialmente, um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila com 1 a 4 átomos de carbono e, de modo particularmente preferencial, um átomo de hidrogênio ou um grupo metila. Estes grupos
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 79/252
71/224 hidrofílicos podem ser utilizados como uma combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0290] Além disso, é preferível que o composto polimérico do tipo estrela não inclua substancialmente um grupo ácido carboxílico, um grupo ácido fosfórico ou um grupo ácido fosfônico. Especificamente, a quantidade destes grupos ácidos é, preferencialmente, inferior a 0,1 mmol/g, mais preferencialmente, inferior a 0,05 mmol/g, e, de modo particularmente preferencial, 0,03 mmol/g ou inferior. Em um caso em que a quantidade destes grupos ácidos é inferior a 0,1 mmol/g, a capacidade de revelação é melhorada ainda mais.
[0291] Para controlar as propriedades de impressão, um grupo lipofílico pode ser introduzido, tal como um grupo alquila, um grupo arila, um grupo aralquila ou um grupo alquenila, no composto polimérico do tipo estrela. Especificamente, um monômero contendo um grupo lipofílico, tal como o éster alquílico do ácido metacrílico, pode ser copolimerizado.
[0292] Exemplos específicos do composto polimérico do tipo estrela incluem compostos descritos nos parágrafos 0153 a 0157 do documento JP2014-104631 A.
[0293] O composto polimérico do tipo estrela pode ser sintetizado, utilizando um método conhecido, realizando polimerização via radical nos monômeros descritos acima, constituindo uma cadeia polimérica na presença do composto tiol polifuncional descrito acima.
[0294] O peso molecular médio ponderado (Mw) do composto polimérico do tipo estrela encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 5.000 a 500.000, mais preferencialmente, em uma faixa de 10.000 a 250.000, e de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 20.000 a 150.000. Em um caso em que o seu peso molecular médio ponderado se encontra na faixa descrita
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 80/252
72/224 acima, a capacidade de revelação (particularmente, a capacidade de revelação na prensa) e a durabilidade da impressão são melhoradas.
[0295] O composto polimérico do tipo estrela pode ser usado isoladamente ou como uma combinação de dois ou mais tipos do mesmo. Além disso, o composto polimérico do tipo estrela pode ser utilizado em combinação com um polímero ligante linear típico.
[0296] O teor do composto polimérico do tipo estrela encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 5% em massa a 95% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 10% em massa a 90% em massa, e de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 15% em massa a 85% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
[0297] Do ponto de vista da promoção da permeabilidade da água de umedecimento e da melhoria da capacidade de revelação (particularmente, a capacidade de revelação na prensa), os compostos poliméricos do tipo estrela descritos no documento JP2012-148555A são particularmente preferíveis.
- Outros componentes [0298] A camada de gravação de imagem A pode conter outros componentes descritos abaixo.
(1) Composto hidrofílico de baixo peso molecular [0299] De modo a melhorar a capacidade de revelação (particularmente, a capacidade de revelação na prensa) sem prejudicar a durabilidade da impressão, a camada de gravação de imagem pode conter um composto hidrofílico de baixo peso molecular.
[0300] Como composto hidrofílico de baixo peso molecular, exemplos de um composto orgânico solúvel em água incluem glicóis, tais como etilenoglicol, dietilenoglicol, trietilenoglicol, propilenoglicol, dipropilenoglicol e tripropilenoglicol e seus derivados éter ou éster; polis, tais como glicerina, pentaeritritol e tris (2
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 81/252
73/224 hidroxietil) isocianurato; aminas orgânicas, tais como trietanolamina, dietanolamina e monoetanolamina e seus sais; ácidos sulfônicos orgânicos, tais como ácido alquilsulfônico, ácido toluenossulfônico e ácido benzenossulfônico e seus sais; ácidos sulfâmicos orgânicos, tais como ácido alquil sulfâmico e seus sais; ácidos sulfúricos orgânicos, tais como ácido alquil sulfúrico e alquil éter de ácido sulfúrico e seus sais; ácidos fosfônicos orgânicos, tais como o ácido fenil fosfônico e os seus sais; ácidos carboxílicos orgânicos, tais como ácido tartárico, ácido oxálico, ácido cítrico, ácido málico, ácido láctico, ácido glucônico e aminoácidos e seus sais; e betaínas.
[0301] Entre estes, é preferível que a camada de gravação de imagem contenha pelo menos um selecionado do grupo constituído por polióis, sulfates orgânicos, sulfonatos orgânicos e betaínas.
[0302] Exemplos específicos dos compostos dos sulfonatos orgânicos incluem os compostos descritos nos parágrafos 0026 a 0031 do documento JP2007-276454A e nos parágrafos 0020 a 0047 do documento JP2009-154525A. O sal pode ser sal de potássio ou sal de lítio.
[0303] Exemplos do sulfato orgânico incluem compostos descritos nos parágrafos 0034 a 0038 do documento JP2007-276454A.
[0304] Como betaínas, compostos tendo 1 a 5 átomos de carbono de hidrocarboneto substituintes para átomos de nitrogênio são preferenciais. Exemplos específicos destes incluem acetato de trimetilamônio, acetato de dimetilpropilamônio, butirato de 3-hidroxi-4-trimetilamônio, 4-(1 -piridinio) butirato, 1-hidroxietil-1-imidazolioacetato, metanossulfonato de trimetilamônio, metanossulfonato de dimetilpropilamônio, sulfonate de 3-trimetilamônio-1propano e sulfonato de 3-(1 -piridinio)-1 -propano.
[0305] Uma vez que o composto hidrofílico de baixo peso molecular tem uma pequena estrutura de uma porção hidrofóbica, a hidrofobicidade ou
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 82/252
74/224 resistência da película revestida de uma área de imagem não é degradada pela água de umedecimento que permeia em uma porção exposta da camada de gravação de imagem (área da imagem) e a receptividade à tinta ou a durabilidade da impressão da camada de gravação de imagem pode ser mantida satisfatoriamente.
[0306] A quantidade de compostos hidrofílicos de baixo peso molecular a ser adicionado à camada de gravação de imagem encontra-se, preferencialmente, na faixa de 0,5% em massa a 20% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 1% em massa a 15% em massa, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 2% em massa a 10% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem. Em um caso em que a sua quantidade se encontra em uma faixa descrita acima, pode-se obter uma excelente capacidade de revelação (particularmente, a capacidade de revelação na prensa) e durabilidade de impressão.
[0307] Estes compostos hidrofílicos de baixo peso molecular podem ser utilizados isoladamente ou como uma combinação de dois ou mais tipos do mesmo.
(2) Agente de sensibilização a óleo [0308] De modo a melhorar a propriedade de impressão, um agente de sensibilização a óleo, tal como um composto fosfônico, um composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio ou um polímero contendo um grupo de amônio pode ser utilizado para a camada de gravação de imagem. Particularmente, em um caso em que uma camada protetora contém um composto inorgânico em camadas, os compostos descritos acima funcionam como um agente de revestimento de superfície do composto inorgânico em camadas e impedem uma degradação na propriedade de impressão devido ao composto inorgânico em camadas durante a impressão.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 83/252
75/224 [0309] O composto fosfônico, o composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio e o polímero contendo o grupo amônio são descritos detalhadamente nos parágrafos 0184 a 0190 do documento JP2014-104631A.
[0310] O teor do agente de sensibilização a óleo encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,01% em massa a 30,0% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,1 % em massa a 15,0% em massa, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 1% em massa a 10% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
(3) Outros componentes [0311] A camada de gravação de imagem pode conter ainda outros componentes, tais como um tensoativo, um agente corante, um agente de impressão, um inibidor de polimerização, um derivado de ácido graxo superior, um plastificante, partículas inorgânicas, um composto inorgânico em camadas, um cossensibilizador, e um agente de transferência de cadeia. Especificamente, os compostos e as quantidades de adição descritas nos parágrafos 0114 a 0159 do documento JP2008-284817A, parágrafos 0023 a 0027 do documento JP2006-091479A, e parágrafo 0060 do documento US 2008/0311520A podem ser preferencialmente utilizados.
- Formação da camada de gravação de imagem A [0312] A camada de gravação de imagem A é formada pela dispersão ou dissolução de cada um dos componentes requeridos descritos acima em um solvente conhecido para preparar uma solução de revestimento, revestimento de um suporte com a solução de revestimento diretamente ou através de uma camada de revestimento utilizando um método conhecido como um método de revestimento com barra aplicadora, e secagem do produto resultante, como descrito nos parágrafos 0142 e 0143 do documento JP2008-195018A. A quantidade de revestimento da camada de gravação de imagem (teor sólido)
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 84/252
76/224 sobre o suporte a ser obtida após o revestimento e a secagem varia, dependendo das aplicações da mesma, mas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,3 g/m2 a 3,0 g/m2. Em um caso em que a sua quantidade de revestimento se encontra em uma faixa descrita acima, obtém-se excelente sensibilidade e excelentes características de revestimento de película da camada de gravação de imagem.
[Camada de gravação de imagem B] [0313] A camada de gravação de imagem B contém um agente absorvente de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável e um composto polimérico tendo um formato particulado. Os componentes constituintes da camada de gravação de imagem B serão descritos abaixo.
[0314] De forma semelhante, o agente absorvente de infravermelho, o iniciador de polimerização e o composto polimerizável descrito na camada de gravação de imagem A podem ser usados como um agente absorvente de infravermelho, um iniciador de polimerização e um composto polimerizável na camada de gravação de imagem B.
- Composto polimérico com formato particulado [0315] É preferível que o composto polimérico tendo um formato particulado seja selecionado do grupo constituído por partículas poliméricas termoplásticas, partículas poliméricas termicamente reativas, partículas de polímero possuindo um grupo polimerizável, uma microcápsula encapsulando um composto hidrofóbico e um microgel (partícula de polímero reticulado). Entre estes, partículas de polímero com um grupo polimerizável e um microgel são preferíveis. De acordo com uma forma de realização particularmente preferencial, o composto polimérico tendo um formato particulado inclui pelo menos um grupo polimerizável etilenicamente insaturado. Devido à presença do composto
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 85/252
77/224 polimérico com um formato particulado, são obtidos efeitos de melhora da durabilidade da impressão de uma porção exposta e da capacidade de revelação (particularmente, a capacidade de revelação na prensa) de uma porção não exposta.
[0316] Além disso, é preferível que o composto polimérico com um formato particulado seja uma partícula polimérica termoplástica.
[0317] Exemplos preferenciais de partículas poliméricas termoplásticas incluem partículas poliméricas termoplásticas hidrofóbicas descritas em Research Disclosure No. 33303 de janeiro de 1992, JP1997-123387A (JP-H09123387A), JP1997-131850A (JP-H09-131850A), JP1997 -171249A (JP-H09171249A), JP1997-171250A (JP-H09-171250A) e EP931647B.
[0318] Exemplos específicos de um polímero que constitui as partículas poliméricas termoplásticas incluem homopolímeros ou copolímeros de monômeros, tais como acrilato ou metacrilato com estruturas de etileno, estireno, cloreto de vinila, acrilato de metila, acrilato de etila, metacrilato de metila, metacrilato de etila, cloreto de vinilideno, acrilonitrila, vinilcarbazol, e polialquileno e misturas dos mesmos. Entre estes, poliestireno, estireno, um copolímero contendo acrilonitrila e polimetilmetacrilato são mais preferenciais. O diâmetro médio de partícula das partículas poliméricas termoplásticas encontrase, preferencialmente, em uma faixa de 0,01 pm a 3,0 pm.
[0319] Exemplos das partículas poliméricas termicamente reativas incluem partículas de polímero com um grupo termicamente reativo. As partículas poliméricas termicamente reativas são reticuladas por uma reação térmica e possuem regiões hidrofóbicas formadas por uma mudança nos grupos funcionais durante a reticulação.
[0320] Como grupo termicamente reativo nas partículas poliméricas com um grupo funcional termicamente reativo, um grupo funcional que realiza
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 86/252
78/224 qualquer reação pode ser usado, desde que uma ligação química seja formada, mas um grupo polimerizável é preferível. Exemplos preferenciais do grupo polimerizável incluem um grupo etilenicamente insaturado que realiza uma reação de polimerização via radical (tal como um grupo acriloíla, um grupo metacriloíla, um grupo vinila ou um grupo alila); um grupo polimerizável catiônico (tal como um grupo vinila, um grupo viniloxi, um grupo epoxi, ou um grupo oxetanila); um grupo isocianato que realiza uma reação de adição ou um corpo de bloco do mesmo, um grupo epoxi, um grupo viniloxi e um grupo funcional tendo átomos de hidrogênio ativos como parceiros de reação dos mesmos (tal como um grupo amino, um grupo hidroxi ou um grupo carboxila); um grupo carboxila que realiza uma reação de condensação e um grupo hidroxi ou um grupo amino como um parceiro de reação do mesmo; e um anidrido de ácido que realiza uma reação de adição de abertura de anel e um grupo amino ou um grupo hidroxi como um parceiro de reação.
[0321] A microcápsula é uma microcápsula em que pelo menos uma parte dos componentes constituintes da camada de gravação de imagem é encapsulada como descrito nos documentos JP2001-277740A e JP2001277742A. Além disso, os componentes constituintes da camada de gravação de imagem podem estar contidos em uma parte que não seja a microcápsula. Além disso, uma forma de realização preferencial da camada de gravação de imagem contendo a microcápsula é uma forma de realização em que os componentes constituintes hidrofóbicos são encapsulados por uma microcápsula e os componentes constituintes hidrofóbicos estão contidos por uma porção que não seja a microcápsula.
[0322] O microgel (partículas de polímero reticulado) pode conter uma parte dos componentes constituintes da camada de gravação de imagem em pelo menos uma das superfícies ou dentro da mesma. Do ponto de vista da
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 87/252
79/22Asensibilidade de formação de imagem e da durabilidade de impressão, um microgel reativo tendo um grupo polimerizável via radical na sua superfície é particularmente preferível.
[0323] Os componentes constituintes da camada de gravação de imagem podem ser produzidos em microcápsulas ou partículas de microgel utilizando um método conhecido.
[0324] Do ponto de vista da durabilidade da impressão, da resistência a manchas e da estabilidade durante o armazenamento, é preferível que o composto polimérico com um formato particulado seja obtido pela reação de um composto de isocianato polivalente, que é um aduto de um composto de fenol poliídrico contendo dois ou mais grupos hidroxi em uma molécula e diisocianato de isoforona, com um composto contendo um átomo de hidrogênio ativo.
[0325] Como composto fenólico poliídrico, é preferível um composto que apresente uma pluralidade de anéis de benzeno contendo um grupo hidroxi fenólico.
[0326] Como composto que apresenta um composto contendo o átomo de hidrogênio ativo descrito acima, é preferível um composto de poliol ou um composto de poliamina, é preferível um composto de poliol e pelo menos um composto selecionado do grupo constituído por propilenoglicol, glicerina e trimetilolpropano é ainda mais preferível.
[0327] Como partículas de resina obtidas pela reação do composto contendo um átomo de hidrogênio ativo com o composto de isocianato polivalente, que é um aduto de um composto fenólico poliídrico contendo dois ou mais grupos hidroxi em uma molécula e diisocianato de isoforona, as partículas poliméricas descritas nos parágrafos 0032 a 0095 do documento JP2012206495A são preferencialmente exemplificadas.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 88/252
80/224 [0328] Além disso, do ponto de vista da durabilidade da impressão e da resistência ao solvente, é preferível que o composto polimérico tendo um formato particulado tenha uma cadeia principal hidrofóbica e ambas de (i) uma unidade constituinte que contém um grupo ciano pendente diretamente ligado à cadeia principal hidrofóbica e (ii) uma unidade constituinte que contém um grupo pendente que possui um segmento de óxido de polialquileno hidrofílico.
[0329] Como cadeia principal hidrofóbica, uma cadeia de resina acrílica é preferencialmente exemplificada.
[0330] Os exemplos preferenciais do grupo ciano pendente incluem [CH2CH(C=N)-] e -[CH2C(CH3)(C=N)-].
[0331] Além disso, a unidade constituinte que possui um grupo ciano pendente pode ser facilmente derivada de um monômero insaturado à base de etileno, tal como acrilonitrila ou metacrilonitrila ou uma combinação dos mesmos.
[0332] Além disso, como óxido de alquileno no segmento de óxido de polialquileno hidrofílico, o óxido de etileno ou óxido de propileno é preferível e o óxido de etileno é o mais preferível.
[0333] O número de repetição de estruturas de óxido de alquileno no segmento de óxido de polialquileno hidrofílico encontra-se, preferencialmente, na faixa de 10 a 100, mais preferencialmente, em uma faixa de 25 a 75 e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 40 a 50.
[0334] Como partículas de resina que têm uma cadeia principal hidrofóbica e ambas de (i) uma unidade constituinte contendo um grupo ciano pendente diretamente ligado à cadeia principal hidrofóbica e (ii) uma unidade constituinte contendo um grupo pendente tendo um segmento de óxido de polialquileno hidrofílico, aquelas descritos nos parágrafos 0039 a 0068 do documento JP2008-503365A são preferencialmente exemplificadas.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 89/252
81/224 [0335] O diâmetro médio das partículas do composto polimérico apresentando um formato particulado encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,01 pm a 3,0 pm, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,03 pm a 2,0 pm, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 0,10 pm a 1,0 pm. Em um caso em que o diâmetro médio de partícula do mesmo encontra-se em uma faixa descrita acima, obtém-se excelente resolução e estabilidade temporal.
[0336] O teor do composto polimérico tendo um formato particulado encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 5% em massa a 90% em massa em relação à massa da camada de gravação de imagem.
- Outros componentes - [0337] A camada de gravação de imagem B pode conter outros componentes descritos na camada de gravação de imagem A descrita acima, quando necessário.
- Formação da camada de gravação de imagem B - [0338] A camada de gravação de imagem B pode ser formada da mesma maneira que a camada de gravação de imagem A descrita acima.
[Camada de gravação de imagem C] [0339] A camada de gravação de imagem G contém um agente absorvente de infravermelho e partículas poliméricas termoplásticas. Os componentes constituintes da camada de gravação de imagem C serão descritos abaixo.
- Agente absorvente de infravermelho - [0340] Como agente absorvente de infravermelho contido na camada de gravação de imagem C, é preferível um corante ou um pigmento com absorção máxima em um comprimento de onda de 760 nm a 1.200 nm. Um corante é mais preferível.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 90/252
82/22A[0341] Como corante, corantes comercialmente disponíveis e corantes conhecidos descritos nas literaturas (por exemplo, “Dye Handbook” editado pela The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japão, publicado em 1970, “Near Infrared Absorbing Dyes” da “Chemical Industry”, p 45 a 51, publicado em male de 1986, e “Development and Market Trend of Functional Dyes in 1990's”, Seção 2.3 do Capítulo 2 (CMC Publishing Co., Ltd., 1990)) e nas patentes podem ser usadas. Os seus exemplos preferenciais específicos incluem corantes absorventes de infravermelho, tais como um corante azo, um corante azo de sal de complexo metálico, um corante azo pirazolona, um corante antraquinina, um corante ftalocianina, um corante de carbono, um corante imina quinona, um corante polimetina, e corante cianina.
[0342] Entre estes, os corantes absorventes de infravermelho que têm um grupo solúvel em água são particularmente preferíveis do ponto de vista de adição à camada de gravação de imagem C.
[0343] Exemplos específicos dos corantes absorventes de infravermelho são descritos abaixo, mas a presente descrição não está limitada aos mesmos.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 91/252
83/224 (1K4 )
Figure BR112019009297A2_D0001
Figure BR112019009297A2_D0002
(OM)
Figure BR112019009297A2_D0003
Figure BR112019009297A2_D0004
(IR-6 >
Figure BR112019009297A2_D0005
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 92/252
84/224
Figure BR112019009297A2_D0006
Figure BR112019009297A2_D0007
(IR-Π)
Figure BR112019009297A2_D0008
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 93/252
85/224 [0344] Como pigmentos, pigmentos disponíveis no mercado e pigmentos descritos no Color Index (C. I.) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (editado pela Japan Pigment Technology Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing Co., Ltd., 1986) e “Printing Ink Technology” (CMC Publishing Co., Ltd., 1984) podem ser usados.
[0345] O diâmetro de partícula do pigmento encontra-se, preferencialmente, na faixa de 0,01 pm a 1 pm e mais preferencialmente, em uma faixa de 0,01 pm a 0,5 pm. Uma técnica de dispersão conhecida usada para produzir tintas ou toners pode ser usada como um método de dispersão do pigmento. Os detalhes estão descritos em “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing Co., Ltd., 1986).
[0346] O teor do agente absorvente de infravermelho encontra-se, preferencialmente, na faixa de 0,1% em massa a 30% em massa, mais preferencialmente, na faixa de 0,25% em massa a 25% em massa, e de modo particularmente preferencial, na faixa de 0,5% em massa a 20% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem. Em um caso em que o seu teor se encontra em uma faixa descrita acima, é obtida uma excelente sensibilidade sem prejudicar a dureza da película da camada de gravação de imagem.
- Partículas poliméricas termoplásticas [0347] A temperatura de transição vítrea (Tg) das partículas poliméricas termoplásticas encontra-se, preferencialmente, na faixa de 60°C a 250°C. A Tg das partículas poliméricas termoplásticas encontra-se, mais preferencialmente, na faixa de 70°C a 140°C e ainda mais preferencialmente, na faixa de 80°C a 120°C.
[0348] Exemplos preferenciais de partículas poliméricas termoplásticas tendo uma Tg de 60°C ou maior incluem partículas poliméricas termoplásticas
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 94/252
86/224 descritas em Research Disclosure No. 33303 de janeiro de 1992, JP1997123387A (JP-H09-123387A), JP1997-131850A (JP-H09-131850A), JP1997171249A (JP-H09-171249A), JP1997-171250A (JP-H09-171250A) e
EP931647B.
[0349] Exemplos específicos dos mesmos incluem homopolímeros ou copolímeros formados de monômeros, tais como etileno, estireno, cloreto de vinila, acrilato de metila, acrilato de etila, metacrilato de metila, metacrilato de etila, cloreto de vinilideno, acrilonitrila e vinilcarbazol e misturas dos mesmos. Dentre eles, poliestireno, estireno, um copolímero contendo estireno e acrilonitrila e polimetilmetacrilato são preferíveis.
[0350] O diâmetro médio de partícula das partículas poliméricas termoplásticas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,005 pm a 2,0 pm do ponto de vista da resolução e da estabilidade temporal. Este valor é utilizado como o diâmetro médio de partícula em um caso em que dois ou mais tipos de partículas poliméricas termoplásticas são misturados entre si. O diâmetro médio de partícula das mesmas encontra-se, mais preferencialmente, na faixa de 0,01 pm a 1,5 pm e, de um modo particularmente preferencial, em uma faixa de 0,05 pm a 1,0 pm. A polidispersividade em um caso em que dois ou mais tipos de partículas poliméricas termoplásticas são misturados entre si é preferencialmente de 0,2 ou maior. O diâmetro médio de partícula e a polidispersividade são calculados de acordo com um método de dispersão a laser.
[0351] As partículas poliméricas termoplásticas podem ser usadas como uma combinação de dois ou mais tipos das mesmas. Especificamente, pelo menos dois tipos de partículas poliméricas termoplásticas com diferentes tamanhos de partícula ou pelo menos dois tipos de partículas poliméricas termoplásticas com diferentes temperaturas de transição vítrea (Tg) podem ser
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 95/252
87/224 exemplificados. No caso em que dois ou mais tipos de partículas poliméricas termoplásticas são utilizados em combinação, as propriedades de endurecimento de película revestida de uma área de imagem são melhoradas e a durabilidade de impressão em um caso em que se obtém uma chapa de impressão litográfica melhorada.
[0352] Por exemplo, em um caso em que partículas poliméricas termoplásticas com o mesmo tamanho de partícula são utilizadas, há a presença de espaços entre as partículas poliméricas termoplásticas de alguma forma, as propriedades de endurecimento da película revestida não são desejáveis em alguns casos, mesmo em um caso em que partículas poliméricas termoplásticas são fundidas e solidificadas por exposição à imagem. Entretanto, em um caso em que partículas poliméricas termoplásticas com diferentes tamanhos de partículas são utilizadas, o volume vazio entre as partículas poliméricas termoplásticas pode ser diminuído e, assim, as propriedades de endurecimento da película revestida da área de imagem após exposição à imagem podem ser melhoradas.
[0353] Além disso, em um caso em que partículas poliméricas termoplásticas com a mesma Tg são utilizadas, as partículas poliméricas termoplásticas não são suficientemente fundidas e solidificadas e, consequentemente, as propriedades de endurecimento da película revestida não são desejáveis em alguns casos quando um aumento de temperatura da camada de gravação de imagem resultante da exposição à imagem é insuficiente. Entretanto, em um caso em que partículas poliméricas termoplásticas com diferentes temperaturas de transição vítrea (Tg) são utilizadas, as propriedades de endurecimento da película revestida da área de imagem podem ser melhoradas quando um aumento de temperatura da camada de gravação de imagem resultante da exposição à imagem for insuficiente.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 96/252
88/224 [0354] No caso em que dois ou mais tipos de partículas poliméricas termoplásticas com diferentes temperaturas de transição vítrea (Tg) são utilizados em combinação, a Tg de pelo menos uma partícula polimérica termoplástica é preferencialmente 60°C ou maior. Neste momento, uma diferença na Tg é preferencialmente 10°C ou maior e mais preferencialmente, 20°C ou maior. Além disso, o teor das partículas poliméricas termoplásticas com uma Tg de 60°C ou maior é preferencialmente de 70% em massa ou mais em relação à quantidade total de todas as partículas poliméricas termoplásticas.
[0355] As partículas poliméricas termoplásticas podem incluir um grupo de reticulação. Em um caso em que partículas poliméricas termoplásticas com um grupo de reticulação são utilizadas, o grupo de reticulação reage termicamente devido ao calor gerado por uma porção exposta à imagem, ocorre a reticulação entre polímeros, a resistência da película revestida de uma área de imagem é melhorada e a durabilidade da impressão torna-se ainda melhor. Como grupo de reticulação, um grupo funcional, no qual qualquer reação pode ocorrer, não está limitado, desde que seja formada uma ligação química, e exemplos incluem um grupo etilenicamente insaturado que realiza uma reação de polimerização (tal como um grupo acriloíla, um grupo metacriloíla, um grupo vinila ou um grupo alila); um grupo isocianato que realiza uma reação de adição ou um corpo de bloco do mesmo, e um grupo tendo átomos de hidrogênio ativos como os parceiros de reação do mesmo (tal como um grupo amino, um grupo hidroxi ou um grupo carboxila); um grupo epoxi que realiza uma reação de adição e um grupo amino, um grupo carboxila ou um grupo hidroxi como seus parceiros de reação; um grupo carboxila que realiza uma reação de condensação e um grupo hidroxi ou um grupo amino; e um anidrido de ácido que realiza uma reação de adição de abertura de anel e um grupo amino ou um grupo hidroxi.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 97/252
89/224 [0356] Exemplos específicos de partículas poliméricas termoplásticas tendo um grupo de reticulação, incluem partículas poliméricas termoplásticas finas contendo grupos de reticulação, tais como um grupo acriloíla, um grupo metacriloíla, um grupo vinilo, um grupo alila, um grupo epoxi, um grupo amino grupo, um grupo hidroxi, um grupo carboxila, um grupo isocianato, um anidrido de ácido e um grupo protetor dos mesmos. Estes grupos de reticulação podem ser introduzidos nos polímeros no momento da polimerização das partículas poliméricas ou podem ser introduzidos utilizando uma reação de polimerização, após a polimerização das partículas poliméricas.
[0357] Em um caso em que um grupo de reticulação é introduzido em um polímero no momento da polimerização das partículas poliméricas, é preferível que um monômero com um grupo de reticulação possa ser submetido a uma polimerização em emulsão ou polimerização em suspensão. Exemplos específicos do monômero com um grupo de reticulação incluem metacrilato de alila, acrilato de alila, metacrilato de vinila, acrilato de vinila, metacrilato de glicidila, acrilato de glicidila, metacrilato de etil 2-isocianato ou bloco de isocianato resultante do seu álcool, acrilato de etil 2-isocianato ou bloco isocianato resultante do seu álcool, metacrilato de 2-aminoetila, acrilato de 2aminoetila, metacrilato de 2-hidroxietila, acrilato de 2-hidroxietila, ácido acrílico, ácido metacrílico, anidrido maleico, acrilato bifuncional e metacrilato bifuncional.
[0358] Exemplos da reação polimérica utilizada em um caso em que um grupo de reticulação é introduzido após a polimerização das partículas de polímero inclui as reações polimérica descritas no documento WO 96/034316A.
[0359] As partículas poliméricas podem reagir umas com as outras através de um grupo de reticulação ou as partículas poliméricas termoplásticas podem reagir com um composto polimérico ou com um composto de baixo peso molecular adicionado à camada de gravação de imagem.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 98/252
90/224 [0360] O teor das partículas poliméricas termoplásticas encontra-se, preferencialmente, na faixa de 50% em massa a 95% em massa, mais preferencialmente, na faixa de 60% em massa a 90% em massa, e de modo particularmente preferencial em uma faixa de 70% em massa a 85% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
- Outros componentes [0361] A camada de gravação de imagem C pode conter outros componentes, quando necessário.
[0362] Como outros componentes, um tensoativo com um grupo polioxialquileno ou um grupo hidroxi é preferencialmente exemplificado.
[0363] Como tensoativo tendo um grupo polioxialquileno (referido, daqui em diante, também como um grupo POA) ou um grupo hidroxi, um tensoativo tendo um grupo POA ou um grupo hidroxi pode ser utilizado adequadamente, mas um tensoativo aniônico ou um tensoativo não iônico é preferível. Entre os tensoativos aniônicos ou tensoativos não iônicos tendo um grupo POA ou um grupo hidroxi, tensoativos aniônicos ou tensoativos não iônicos com um grupo POA são preferíveis.
[0364] Como o grupo POA, um grupo polioxietileno, um grupo polioxipropileno, ou um grupo polioxibutileno é preferível e um grupo polioxietileno é particularmente preferível.
[0365] O grau médio de polimerização de um grupo oxialquileno encontra-se, preferencialmente, na faixa de 2 a 50 e mais preferencialmente, em uma faixa de 2 a 20.
[0366] O número de grupos hidroxi é preferencialmente de 1 a 10 e encontra-se, mais preferencialmente, em uma faixa de 2 a 8. Aqui, o número de grupos hidroxi terminais no grupo oxialquileno não está incluído no número de grupos hidroxi.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 99/252
91/224 [0367] O tensoativo aniônico tendo um grupo POA não está particularmente limitado, e exemplos incluem carboxilato de éter alquil polioxialquileno, sulfosuccinatos de alquil polioxialquileno, sais de éster de ácido sulfúrico éter alquil polioxialquileno, sulfonates de alquil fenoxi propil polioxialquileno, éteres de alquil sulfofenil polioxialquileno, sais de éster de ácido sulfúrico éter aril polioxialquileno, sais de éster de ácido sulfúrico éter fenil polioxialquileno policíclico, sais de éster de ácido sulfúrico éter estiril polioxialquileno, sais de éster de ácido fosfórico éter alquil polioxialquileno, sais de éster de ácido fosfórico éter alquil fenil polioxialquileno e sais de éster de ácido fosfórico éter perfluoroalquil polioxialquileno.
[0368] O agente tensoativo aniônico que possui um grupo hidroxi não está particularmente limitado, e os seus exemplos incluem hidroxicarboxilatos, carboxilatos de éter hidroxialquil, sulfonates de hidroxi-alcano, sais de éster de ácido sulfúrico de monoglicerídeo de ácido graxo e sais de ésteres de ácido monoglicerídeo de ácido graxo.
[0369] O teor do agente tensoativo que tem um grupo POA ou um grupo hidroxi encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,05% em massa a 15% em massa e mais preferencialmente, em uma faixa de 0,1% em massa a 10% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
[0370] A seguir, serão descritos exemplos específicos do tensoativo que possui um grupo POA ou um grupo hidroxi, mas a presente descrição não está limitada ao mesmo. Um tensoativo A-12 descrito abaixo é um nome comercial de Zonyl FSP e encontra-se disponível pela Dupont. Além disso, um tensoativo N-11 descrito abaixo é um nome comercial de Zonyl FSO 100 e encontra-se disponível pela Dupont. Além disso, cada m e n em A-12 representa, independentemente, um número inteiro de 1 ou maior.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 100/252
92/224
Figure BR112019009297A2_D0009
Figure BR112019009297A2_D0010
Figure BR112019009297A2_D0011
VB
OH
CH--CH-CH'-S<Ma .. (
OH
A-15 ©COC,< HÍS •OH ^On o-p:
i OM
O
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 101/252
93/224
Figure BR112019009297A2_D0012
.......
,...H [0371 ] Com a finalidade de assegurar a uniformidade do revestimento da camada de gravação de imagem, a camada de gravação de imagem pode conter um agente tensoativo aniônico que não tenha um grupo polioxialquileno ou um grupo hidroxi.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 102/252
94/224 [0372] O agente tensoativo aniônico não está particularmente limitado, desde que o objetivo acima descrito seja alcançado. Entre os exemplos dos tensoativos aniônicos, o ácido alquilbenzenossulfônico ou um sal do mesmo, ácido alquilnaftaleno sulfônico ou um sal do mesmo, ácido (di)alquil difenil éter (di)sulfônico ou um sal do mesmo, ou sal de alquil éster de ácido sulfúrico é preferível.
[0373] A quantidade de adição do agente tensoativo aniônico que não possui um grupo polioxialquileno ou um grupo hidroxi encontra-se, preferencialmente, na faixa de 1% em massa a 50% em massa e mais preferencialmente, em uma faixa de 1 % em massa a 30%. em massa em relação à massa total do agente tensoativo que possui um grupo polioxialquileno ou um grupo hidroxi.
[0374] Serão descritos abaixo exemplos específicos do agente tensoativo aniônico que não possui um grupo polioxialquileno ou um grupo hidroxi, mas a presente descrição não está limitada aos mesmos.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 103/252
95/224
Figure BR112019009297A2_D0013
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 104/252
96/224 [0375] Além disso, para o propósito de uniformidade do revestimento da camada de gravação de imagem, um tensoativo não iônico que não tem um grupo polioxialquileno ou um grupo hidroxi ou um tensoativo fluorado pode ser utilizado. Por exemplo, tensoativos fluorados descritos no documento JP1987170950A (JP-S62-170950A) são preferencialmente utilizados.
[0376] A camada de gravação de imagem pode conter uma resina hidrofílica. Exemplos preferenciais da resina hidrofílica incluem resinas tendo grupos hidrofílicos, tais como um grupo hidroxi, um grupo hidroxietila, um grupo hidroxipropila, um grupo amino, um grupo aminoetila, um grupo aminopropila, um grupo carboxila, um grupo carboxilato, um grupo sulfo, um grupo sulfonate e um grupo ácido fosfórico.
[0377] Exemplos específicos da resina hidrofílica incluem goma arábica, caseína, gelatina, um derivado de amido, carboximetilcelulose e sal de sódio do mesmo, acetato de celulose, alginato de sódio, copolímeros de ácido maleicoacetato de vinila, copolímeros de estireno-ácido maleico, ácidos poliacrílicos e sais dos mesmos, ácidos polimetacrílicos e sais dos mesmos, um homopolímero e um copolímero de metacrilato de hidroxietila, um homopolímero e um copolímero de acrilato de hidroxietila, um homopolímero e um copolímero de metacrilato de hidroxipropila, um homopolímero e um copolímero de acrilato de hidroxipropila, um homopolímero e um copolímero de metacrilato de hidroxibutila, um homopolímero e um copolímero de acrilato de hidroxibutila, polietilenoglicois, polímeros de hidroxipropileno, álcoois polivinílicos, acetato de polivinila hidrolisado com um grau de hidrólise, preferencialmente, de pelo menos 60% e mais preferencialmente, de pelo menos 80%, polivinil formal, polivinil butiral, polivinilpirrolidona, um homopolímero e um copolímero de acrilamida, um homopolímero e um copolímero de metacrilamida e um homopolímero e um copolímero de N-metilolacrilamida.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 105/252
27/22A[0378] O peso molecular médio ponderado da resina hidrofílica é preferencialmente 2.000 ou maior do ponto de vista da obtenção de uma resistência suficiente da película revestida ou durabilidade da impressão.
[0379] O teor da resina hidrofílica encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,5% em massa a 50% em massa e mais preferencialmente, em uma faixa de 1% em massa a 30% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
[0380] A camada de gravação de imagem pode conter partículas inorgânicas diferentes daquelas para a formação das irregularidades descritas acima. Exemplos preferenciais de partículas inorgânicas incluem silica, alumina, óxido de magnésio, óxido de titânio, carbonato de magnésio, alginato de cálcio e uma mistura destes. As partículas inorgânicas podem ser usadas com a finalidade de melhorar a resistência da película revestida.
[0381] O diâmetro médio de partícula das partículas inorgânicas encontra-se, preferencialmente, na faixa de 5 nm a 10 pm e mais preferencialmente, na faixa de 10 nm a 1 pm. Em um caso em que o diâmetro médio de partícula das mesmas se encontra na faixa descrita acima, partículas poliméricas termoplásticas estão estavelmente dispersas, a dureza da película da camada de gravação de imagem é suficientemente mantida e uma área sem imagem com excelente hidrofilicidade e baixa probabilidade de formação de manchas de impressão poder ser formada.
[0382] As partículas inorgânicas estão disponíveis como produtos comercialmente disponíveis, tais como uma dispersão de silica coloidal e semelhantes.
[0383] O teor das partículas inorgânicas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 1,0% em massa a 70% em massa e mais preferencialmente,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 106/252
98/224 em uma faixa de 5,0% em massa a 50% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
[0384] A camada de gravação de imagem pode conter um plastificante a fim de proporcionar flexibilidade a uma película revestida. Exemplos do plastificante incluem polietilenoglicol, citrato de tributila, ftalato de dietila, ftalato de dibutila, ftalato de dihexila, ftalato de dioctila, fosfato de tricresila, fosfato de tributila, fosfato de trioctila e oleato de tetra-hidrofurfurila.
[0385] O teor do plastificante encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,1% em massa a 50% em massa e mais preferencialmente, em uma faixa de 1 % em massa a 30% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem.
[0386] Em um caso em que são utilizadas partículas poliméricas com um grupo funcional termicamente reativo (grupo de reticulação) para a camada de gravação de imagem, um composto que inicia ou promove uma reação do grupo funcional termicamente reativo (grupo de reticulação) pode ser adicionado à camada de gravação de imagem, quando necessário. Como composto que inicia ou promove uma reação do grupo funcional termicamente reativo, um composto que gera um radical ou um cátion por aquecimento pode ser exemplificado. Exemplos do composto incluem um dímero de lofina, um composto tri-halometila, um peróxido, um composto azo, sais de ônio, incluindo sais de diazônio e sais de difenil-iodônio, acilfosfina e sulfonato de imida. A quantidade do composto a ser adicionada à camada de gravação de imagem encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 1% em massa a 20% em massa e mais preferencialmente, em uma faixa de 1 % em massa a 10% em massa em relação à massa total da camada de gravação de imagem. No caso em que a sua quantidade se encontra em uma faixa descrita acima, a capacidade de revelação
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 107/252
99/224 (particularmente, a capacidade de revelação na prensa) não é degradada e efeitos excelentes para iniciar ou promover uma reação são obtidos.
- Formação da camada de gravação de imagem C [0387] A camada de gravação de imagem C é formada dissolvendo ou dispersando cada um dos componentes requeridos descritos acima em um solvente adequado para preparar uma solução de revestimento, revestindo um suporte com a solução de revestimento diretamente ou através de uma camada de revestimento de base. Como solvente, utiliza-se água ou um solvente misto de água e um solvente orgânico, e um solvente misto de água e um solvente orgânico é preferível do ponto de vista do excelente estado de superfície após o revestimento. Uma vez que a quantidade do solvente orgânico varia dependendo do tipo de solvente orgânico, a sua quantidade não pode ser especificada incondicionalmente, mas a quantidade do solvente orgânico no solvente misto encontra-se, preferencialmente, na faixa de 5% em volume a 50% em volume. Aqui, é necessário que a quantidade do solvente orgânico a ser utilizado seja tal que as partículas do polímero termoplástico não agreguem. A concentração de teores sólidos da solução de revestimento da camada de gravação de imagem encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 1% em massa a 50% em massa.
[0388] Como solvente orgânico usado como solvente da solução de revestimento, é preferível um solvente orgânico solúvel em água. Exemplos específicos destes incluem um solvente álcool, tal como metanol, etanol, propanol, isopropanol ou 1-metoxi -2-propanol, um solvente cetona, tal como acetona ou metil etil cetona, um solvente éter glicólico, tal como éter dimetílico de etilenoglicol, γ-butirolactona, Ν,Ν-dimetilformamida, N,N-dimetilacetamida, tetra-hidrofurano e dimetilsulfóxido. Particularmente, um solvente orgânico com um ponto de ebulição de 120°C ou menos e uma solubilidade (quantidade de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 108/252
100/224 solvente a ser dissolvido em 100 g de água) de 10 g ou mais em água é preferível e um solvente orgânico com uma solubilidade de 20 g ou mais é mais preferível.
[0389] Como um método de revestimento da solução de revestimento da camada de gravação de imagem, vários métodos podem ser usados. Exemplos dos métodos incluem um método de revestimento com barra aplicadora, um método de revestimento rotativo, um método de revestimento por pulverização, um método de revestimento por cortina, um método de revestimento por imersão, um método de revestimento por faca de ar, um método de revestimento por lâmina e um método de revestimento por rolo. A quantidade de revestimento (teor sólido) da camada de gravação de imagem no suporte obtido após o revestimento e a secagem varia dependendo do seu objetivo, mas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,5 g/m2 a 5,0 g/m2 e mais preferencialmente, em uma faixa de 0,5 g/m2 a 2,0 g/m2.
[0390] A seguir, outros elementos constituintes do precursor de chapa para impressão litográfica serão descritos.
cCamada de base>
[0391] O precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, pode ser proporcionado com uma camada de base entre a camada de gravação de imagem e o suporte, quando necessário. Uma vez que a ligação do suporte à camada de gravação de imagem se torna mais forte em uma parte exposta e o suporte é facilmente separado da camada de gravação de imagem em uma porção não exposta, a camada de base contribui para melhorar a capacidade de revelação (particularmente, a capacidade de revelação na impressão) sem degradar a durabilidade da impressão. Além disso, em um caso de exposição a laser infravermelho, a camada de base funciona como uma camada isolante de calor, de modo que uma degradação da
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 109/252
101/224 sensibilidade difundida no suporte devido ao calor gerado pela exposição seja evitada.
[0392] Exemplos de compostos de etila usados para a camada de base incluem um agente de acoplamento de silano tendo um grupo de reação de ligação etilênica dupla, que pode ser adicionado e polimerizado, descrito no documento JP1998-282679A (JP-H10-282679A); e um composto fosforoso contendo um grupo de reação de ligação etilênica dupla descrito no documento JP1990-304441A (JP-H02-304441 A). Exemplos preferenciais destes incluem compostos poliméricos possuindo um grupo adsorvente que pode ser adsorvido à superfície do suporte, um grupo hidrofílico e um grupo de reticulação, como descrito nos documentos JP2005-125749A e JP2006-188038A. Como tal composto polimérico, é preferível um copolímero de um monômero contendo um grupo adsorvente, um monômero contendo um grupo hidrofílico e um monômero contendo um grupo de reticulação. Exemplos específicos destes incluem um copolímero de um monômero contendo um grupo adsorvente, tal como um grupo hidroxi fenólico, um grupo carboxila, -PO3H2, -OPO3H2, -CONHSO2-, SO2NHSO2-, or -COCH2COCH3, um monômero contendo um grupo hidrofílico, tal como um grupo sulfo e um monômero com um grupo de reticulação polimerizável, tal como um grupo metacrila ou um grupo alila. O composto polimérico pode incluir um grupo de reticulação introduzido pela formação de sais entre um substituinte polar do composto polimérico e um composto que inclui um substituinte com a carga oposta e uma ligação etilenicamente insaturada. Além disso, monômeros diferentes dos monômeros descritos acima, preferencialmente, monômeros hidrofílicos, podem ser ainda copolimerizados.
[0393] O teor da ligação etilenicamente insaturada no composto polimérico para uma camada de base encontra-se, preferencialmente, na faixa
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 110/252
102/224 de 0,1 mmol a 10,0 mmol e mais preferencialmente, na faixa de 2,0 mmol a 5,5 mmol em relação a 1 g do composto polimérico.
[0394] O peso molecular médio ponderado do composto polimérico para uma camada de base é preferencialmente de 5.000 ou maior e mais preferencialmente, de 10.000 a 300.000.
[0395] Com a finalidade de evitar manchas ao longo do tempo, a camada de base pode conter um agente quelante, uma amina secundária ou terciária, um inibidor de polimerização, um grupo amino, um composto que inclui um grupo amino ou um grupo funcional com capacidade inibidora de polimerização e um grupo que interage com a superfície de um suporte de alumínio e semelhantes (por exemplo, 1,4-diazabiciclo[2.2.2] octane (DABCO), 2,3,5,6-tetra-hidroxi-pquinona, cloranil, ácido sulfoftálico, ácido hidroxietil-etilenodiamino triacético, ácido diidroxietil-etilenodiamino diacético, ou ácido hidroxietilimino diacético) além dos compostos para uma camada de base descrita acima.
[0396] A camada de base é aplicada de acordo com um método conhecido. A quantidade de revestimento da camada de base após a secagem encontra-se, preferencialmente, na faixa de 0,1 mg/m2 a 100 mg/m2 e mais preferencialmente, de 1 mg/m2 a 30 mg/m2.
cCamada protetora>
[0397] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, uma camada protetora pode ser proporcionada na camada de gravação de imagem, quando necessário. A camada protetora tem a função de suprimir uma reação de inibição da formação de imagens através do bloqueio de oxigênio, uma função de prevenir a geração de danos à camada de gravação de imagem e uma função de impedir a ablação no momento da exposição ao laser de alta intensidade.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 111/252
103/224 [0398] Como camada protetora que tem tais funções, uma camada protetora descrita nos parágrafos 0202 a 0204 do documento JP2014-104631A pode ser usada.
[0399] A camada protetora é aplicada de acordo com um método conhecido. A quantidade de revestimento da camada protetora após a secagem encontra-se, preferencialmente, na faixa de 0,01 g/m2 a 10 g/m2, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,02 g/m2 a 3 g/m2, e de modo particularmente preferencial em uma faixa de 0,02 g/m2 a 1 g/m2.
[0400] O precursor de chapa para impressão litográfica pode ser produzido aplicando-se uma solução de revestimento de cada camada de configuração de acordo com um método típico, realizando a secagem e formando cada camada de configuração. A solução de revestimento pode ser aplicada de acordo com um método de revestimento por matriz, um método de revestimento por imersão, um método de revestimento por faca de ar, um método de revestimento por cortina, um método de revestimento por rolo, um método de revestimento com barra aplicadora.
[0401] <Método de produção do precursor de chapa para impressão litográfica>
[0402] Um método de produção do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, não está particularmente limitado, mas é preferível que o seu método inclua uma etapa de formação da camada de gravação de imagem no suporte de alumínio após um ou mais dias de um tratamento de anodização realizado no mesmo.
[0403] Em um caso em que o suporte de alumínio é utilizado após um ou mais dias da realização de um tratamento de anodização, a resistência ao atraso da revelação (particularmente, resistência ao atraso da revelação na prensa) e a propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor de um
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 112/252
104/224 laminado tornam-se ainda melhores, embora o mecanismo detalhado não esteja claro.
[0404] No método de produção do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação e da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, é preferível utilizar um suporte de alumínio após um ou mais dias da realização de um tratamento de anodização, é preferível utilizar um suporte de alumínio após três dias a 1,5 anos da realização de um tratamento de anodização e é ainda mais preferível utilizar um suporte de alumínio após 7 dias a 1 ano de um tratamento de anodização realizado no mesmo.
[0405] Além disso, em um caso em que é formada uma camada de base, do ponto de vista da resistência ao atraso da revelação e da propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor de um laminado, é preferível que o método de produção do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclua uma etapa de formação da camada de base no suporte de alumínio após um ou mais dias da realização de um tratamento de anodização sobre o mesmo.
[0406] (Laminado de precursor de chapa para impressão litográfica e laminado de chapa para impressão litográfica) [0407] O laminado de precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é um laminado obtido pela laminação de precursores de chapas para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, e um laminado que é obtido pela laminação de uma pluralidade de precursores de chapas para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, em que a camada mais externa na superfície onde a camada de gravação de imagem é provida e a camada mais externa na superfície no lado
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 113/252
105/224 oposto da superfície onde a camada de gravação de imagem é provida são laminadas ao entrarem diretamente em contato umas com as outras, é preferível.
[0408] Além disso, é preferível que o laminado de precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, seja um laminado obtido pela laminação de uma pluralidade de folhas de precursores de chapas para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, sem interpor o papel intercalado entre elas.
[0409] O número de folhas de precursores laminados não está particularmente limitado, mas encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 2 folhas a 500 folhas.
[0410] O laminado de precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem excelente desempenho em qualquer aderência, riscos ou marcas devido à rugosidade de superfície específica do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, e é improvável que ocorra o deslocamento no empilhamento dos precursores da chapa para impressão litográfica.
[0411] O laminado de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é um laminado obtido pela laminação das chapas de impressão litográfica de acordo com a presente invenção descrita abaixo.
[0412] Por exemplo, em um caso em que existe uma faixa entre várias horas e vários dias após a produção de chapa do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, antes do início da impressão, o laminado da chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é formado pelo empilhamento de uma pluralidade de chapas para impressão litográfica obtidas e ao permitir que a pilha fique em um local apropriado.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 114/252
106/224 [0413] O laminado de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem excelente desempenho em qualquer aderência, risco ou marcas devido à rugosidade de superfície específica da chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, e é improvável que ocorra o deslocamento no empilhamento dos precursores da chapa para impressão litográfica.
[0414] (Chapa para impressão litográfica e método de fabricação de chapas e método de impressão litográfica) [0415] A chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é uma chapa para impressão litográfica obtida pela fabricação de chapas do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição.
[0416] O método de fabricação de chapas da chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, não está particularmente limitado, desde que o método seja um método de fabricação de chapas do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, e o método seja um método de fabricação de chapas da chapa para impressão litográfica utilizando o precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, e de realização de impressão, e é preferível que o método inclua um etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem, de acordo com a presente descrição, (também referida como uma “etapa de exposição à imagem”); e uma etapa de fornecer, pelo menos, qualquer tinta de impressão ou água de umedecimento e remover uma porção não exposta de uma camada de gravação de imagem em uma prensa para preparar uma chapa para impressão litográfica (também referida como uma etapa de tratamento de revelação).
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 115/252
107/224 [0417] O método de fabricação de chapas descrito acima também é referido como um sistema de revelação na prensa abaixo.
[0418] O método de impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, é um método de fabricação de chapas para impressão litográfica usando o precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, e de realização de impressão, e é preferível que o método inclua uma etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem, de acordo com a presente descrição, (também referida como uma etapa de exposição à imagem); uma etapa de fornecimento de, pelo menos, qualquer tinta de impressão ou água de umedecimento e remoção de uma porção não exposta de uma camada de gravação de imagem em uma prensa de impressão para preparar uma chapa para impressão litográfica (também referida como uma etapa de tratamento de revelação); e uma etapa de realização de impressão usando a chapa para impressão litográfica obtida (também referida como etapa de impressão).
[0419] Além disso, no precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, a etapa de tratamento de revelação é realizada sem executar a etapa de exposição de imagem em um caso do precursor de chapa principal.
<Etapa de exposição à imagem>
[0420] A exposição da imagem do precursor de chapa para impressão litográfica pode ser realizada em conformidade com uma operação de exposição da imagem para um precursor típico da chapa para impressão litográfica.
[0421] A exposição à imagem é realizada por exposição a laser através de uma imagem original transparente com uma imagem de linha, uma imagem de meio-tom e similares ou por varredura de feixe de laser usando dados digitais. O comprimento de onda de uma fonte de luz encontra-se, preferencialmente, na
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 116/252
108/224 faixa de 700 nm a 1400 nm. Como fonte de luz tendo um comprimento de onda de 700 nm a 1400 nm, um laser de estado sólido ou um laser semicondutor que irradia raios infravermelho é preferível. A saída do laser infravermelho é preferencialmente 100 mW ou maior, o tempo de exposição por um pixel é preferencialmente inferior a 20 microssegundos, e a quantidade de energia de irradiação encontra-se, preferencialmente, na faixa de 10 mJ/cm2 a 300 mJ/cm2. Para reduzir o tempo de exposição, é preferível utilizar um dispositivo com laser de feixe múltiplo. O mecanismo de exposição pode ser qualquer um de um sistema de tambor interno, um sistema de tambor externo e um sistema de leito plano. A exposição à imagem pode ser realizada usando um montador (setter) de chapa de acordo com um método usual.
<Etapa de tratamento de revelação>
[0422] A etapa de revelação pode ser realizada utilizando-se um método típico. Em um caso de revelação na prensa, uma porção receptora de tinta de impressão que tem uma superfície lipofílica é formada pela camada de gravação de imagem endurecida pela exposição à luz na porção exposta da camada de gravação de imagem em um caso em que pelo menos qualquer água de umidificação ou tinta impressão é fornecida ao precursor de chapa para impressão litográfica exposta à imagem em uma prensa de impressão. Entretanto, em uma porção não exposta - uma camada de gravação de imagem não endurecida é dissolvida ou dispersa pelo fornecimento de pelo menos qualquer água de umedecimento ou tinta de impressão e depois removida - uma superfície hidrofílica é exposta à porção. Como resultado, a água de umedecimento é exposta e adere à superfície hidrofílica, a tinta de impressão é impressa na camada de gravação de imagem da região exposta e, em seguida, a impressão é iniciada.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 117/252
109/224 [0423] Neste documento, tanto a água de umedecimento como a tinta de impressão podem ser inicialmente fornecidas à superfície do precursor de chapa para impressão litográfica, mas é preferível que a água de umedecimento seja inicialmente fornecida a ela infiltrando a água de umedecimento de modo a promover a capacidade de revelação na prensa.
<Etapa de impressão>
[0424] A impressão utilizando a chapa para impressão litográfica obtida pode ser realizada de acordo com um método típico. A impressão pode ser realizada fornecendo a tinta de impressão e água de umedecimento desejada, quando necessário, à chapa para impressão litográfica.
[0425] A quantidade de tinta de impressão e a água de umedecimento a ser fornecida não estão particularmente limitadas e podem ser adequadamente definidas de acordo com a impressão desejada.
[0426] O método de fornecer a tinta de impressão e água de umedecimento para a chapa para impressão litográfica não está particularmente limitado e um método conhecido pode ser usado.
[0427] O método de impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, pode incluir etapas conhecidas diferentes das etapas descritas acima. Exemplos de outras etapas incluem uma etapa de inspeção de chapa para confirmar a orientação ou posição do precursor de chapa para impressão litográfica antes de cada etapa e uma etapa de confirmação para confirmar a imagem impressa após a etapa de tratamento de revelação.
cOutros aspectos>
[0428] Além disso, no precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, uma chapa para impressão litográfica pode ser preparada ao realizar um tratamento de revelação utilizando um revelador,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 118/252
110/224 selecionando adequadamente um polímero ligante ou semelhante que serve como um componente constituinte da camada de gravação de imagem.
[0429] De acordo com outro aspecto, é preferível que o método de fabricação de uma chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclua uma etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem, de acordo com a presente descrição, (também referida como uma “etapa de exposição à imagem”) e uma etapa de revelação que fornece um revelador com um pH de 2 a 14 e remoção da porção não exposta (também referida como “etapa de revelação com revelador”).
[0430] O método de fabricação de chapas também é chamado de sistema de tratamento com revelador.
[0431] Outro aspecto do método de impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, refere-se a um método de fabricação de chapas para uma chapa de impressão litográfica que utiliza o precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, e de realização da impressão, sendo que é preferível que o método de impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, inclua uma etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem, de acordo com a presente descrição (também referida como uma “etapa de exposição à imagem”); uma etapa de revelação que fornece um revelador com um pH de 2 a 14 e remoção da porção não exposta (também referida como uma etapa de revelação com revelador); e uma etapa de realização da impressão utilizando a chapa para impressão litográfica obtida (referida, daqui em diante, também como uma etapa de impressão).
[Etapa de exposição à imagem] [0432] A etapa de exposição à imagem no sistema de tratamento com revelador é a mesma que a etapa de exposição à imagem no sistema de revelação na prensa descrita acima.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 119/252
111/224 [Sistema de tratamento com revelador] [0433] No precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, uma chapa para impressão litográfica pode ser preparada ao realizar um tratamento de revelação utilizando um revelador, selecionando adequadamente um polímero ligante ou semelhante que serve como um componente constituinte da camada de gravação. O tratamento de revelação realizado utilizando um revelador inclui um aspecto (também referido como um tratamento de revelação simples) de utilização de um revelador com um pH de 2 a 11 que contenha pelo menos um composto selecionado do grupo constituído por um tensoativo e um composto polimérico solúvel em água.
[0434] O tratamento de revelação e uma etapa de tratamento líquido da goma podem ser realizados simultaneamente utilizando um método para permitir que um revelador contenha um composto polimérico solúvel em água, quando necessário.
[0435] Consequentemente, uma etapa de lavagem posterior à água não é particularmente necessária, e uma etapa de secagem pode ser realizada após o tratamento de revelação e o tratamento líquido da goma é realizado utilizando um líquido e uma etapa. Por conseguinte, é preferível que o tratamento de revelação utilizando um revelador seja realizado de acordo com o método de preparação de uma chapa para impressão litográfica, incluindo uma etapa de realização de um tratamento de revelação no precursor de chapa para impressão litográfica exposto à imagem utilizando um revelador com um pH de 2 a 11. Após o tratamento de revelação, é preferível que a secagem seja realizada depois que o excesso de revelador seja removido por um rolo compressor (squeeze roller).
[0436] Em outras palavras, na etapa de revelação do método de preparação de uma chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 120/252
112/224 descrição, é preferível que o tratamento de revelação e o tratamento líquido da goma sejam realizados usando um líquido e uma etapa.
[0437] A expressão “o tratamento de revelação e o tratamento líquido da são realizados usando um líquido e uma etapa” significa que o tratamento de revelação e o tratamento líquido da goma são realizados em uma etapa usando um líquido sem realizar separadamente o tratamento de revelação e o tratamento líquido da goma como etapas individuais.
[0438] O tratamento de revelação pode ser adequadamente realizado usando um dispositivo de tratamento de revelação automática fornecido com meios de fornecimento de revelador e um elemento de fricção. Como elemento de fricção, é particularmente preferível um dispositivo de tratamento de revelação automática equipado com um rolo de escova rotativa.
[0439] É preferível que sejam utilizados dois ou mais rolos de escova rotativa. Além disso, é preferível que um dispositivo de tratamento de revelação automática inclua meios para remover o revelador em excesso, tal como um rolo compressor, e meios de secagem, tais como um dispositivo de ar quente no lado traseiro do dispositivo de tratamento de revelação. Além disso, o dispositivo de tratamento de revelação automática pode incluir meios de pré-aquecimento para realizar um tratamento de aquecimento no precursor de chapa para impressão litográfica exposta à imagem no lado frontal dos meios de tratamento de revelação.
[0440] O tratamento realizado utilizando tal dispositivo de tratamento de revelação automática tem uma vantagem que não é mais necessário lidar com resíduos de revelação derivados de uma camada de gravação de imagem (uma camada protetora em um caso onde o precursor de chapa para impressão litográfica tem uma camada protetora) que são gerados em um caso do referido tratamento de revelação na prensa.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 121/252
113/224 [0441] Em um caso em que a revelação é realizada ao executar um tratamento manual, um método de permitir que a esponja ou algodão absorvente contenha uma solução aquosa, realizar o tratamento enquanto se fricciona toda a superfície da chapa e secar a solução aquosa após o término do tratamento é adequadamente exemplificado como o método de tratamento de revelação. Em um caso de um tratamento por imersão, por exemplo, um método de imersão do precursor de chapa para impressão litográfica em uma bandeja, um tanque fundo ou semelhante contendo uma solução aquosa durante aproximadamente 60 segundos, agitando a solução e secando a solução aquosa enquanto fricciona a superfície da chapa com a esponja ou algodão absorvente é adequadamente exemplificado.
[0442] É preferível que um dispositivo capaz de simplificar a estrutura e as etapas seja usado no tratamento de revelação.
[0443] Por exemplo, no tratamento de revelação alcalino, uma camada protetora é removida pela etapa de lavagem anterior à água, a revelação é realizada usando um revelador alcalino com pH alto, um álcali é removido pela etapa de lavagem posterior à água, o tratamento da goma é realizado por uma etapa de revestimento da goma e a secagem é realizada por uma etapa de secagem. No tratamento de revelação simples, a revelação e o revestimento da goma podem ser realizados simultaneamente usando um líquido. Por conseguinte, a etapa de lavagem posterior à água e a etapa de tratamento da goma podem ser omitidos, e é preferível que a etapa de secagem seja realizada, quando necessário, após a revelação e o revestimento da goma (tratamento líquido da goma) serem realizados usando um líquido.
[0444] Além disso, é preferível que a remoção da camada protetora, revelação e revestimento da goma sejam realizados simultaneamente utilizando um líquido sem realizar a etapa de lavagem anterior à água. Além disso, é
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 122/252
114/224 preferível que o excesso de revelador seja removido por um rolo compressor após a revelação e o revestimento da goma e, em seguida, a secagem é realizada.
[0445] O tratamento de revelação pode ser realizado de acordo com um método de realizar a imersão em um revelador uma vez ou um método de realizar a imersão duas ou mais vezes. Entre estes, um método de realizar imersão no revelador uma ou duas vezes é preferível.
[0446] A imersão pode ser realizada passando o precursor de chapa para impressão litográfica exposto através de um tanque revelador, no qual o revelador é armazenado, ou da pulverização do revelador na superfície da chapa do precursor de chapa para impressão litográfica exposta usando um pulverizador ou similar.
[0447] Além disso, o tratamento de revelação é realizado usando um líquido (um tratamento líquido) mesmo em um caso onde o precursor de chapa para impressão litográfica é imerso no revelador duas ou mais vezes ou em um caso onde o precursor de chapa para impressão litográfica é imerso duas ou mais vezes no mesmo revelador, tal como descrito acima, ou em um revelador (líquido de fadiga) obtido pela dissolução ou dispersão dos componentes da camada de gravação de imagem ao usar o revelador e o tratamento de revelação.
[0448] No tratamento de revelação, é preferível usar um elemento de fricção e é preferível também que um elemento de fricção, tal como uma escova, seja instalado em um banho em revelação que remove uma área sem imagem da camada de gravação de imagem.
[0449] O tratamento de revelação pode ser realizado imergindo o precursor de chapa para impressão litográfica, que foi submetido ao tratamento de exposição, e friccionando a superfície da chapa com escovas ou bombeando o líquido de tratamento adicionado a um tanque externo por meio de uma bomba,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 123/252
115/224 pulverizando o revelador a partir de um bico de pulverização e friccionando a superfície da chapa com escovas a uma temperatura de, preferencialmente, 0°C a 60°C e mais preferencialmente, de 15°C a 40°C, de acordo com um método convencional. Esses tratamentos de revelação podem ser continuamente realizados por diversas vezes. Por exemplo, o tratamento de revelação pode ser realizado bombeando o revelador adicionado a um tanque externo por meio de uma bomba, pulverizando o revelador a partir de um bico de pulverização, friccionando a superfície da chapa com escovas, pulverizando o revelador a partir do bico de pulverização novamente e esfregando a superfície da chapa com as escovas. Em um caso em que o tratamento de revelação é realizado utilizando um dispositivo de tratamento de revelação automática, uma vez que o revelador fica fatigado à medida que a quantidade de tratamento aumenta, é preferível que a capacidade de tratamento seja recuperada utilizando um reabastecedor ou um revelador novo.
[0450] O tratamento de revelação pode ser realizado também utilizando um dispositivo de revestimento de goma ou um dispositivo de tratamento de revelação automática conhecido por ser utilizado para uma chapa présensibilizada (PS) e computador para chapa (CTP) no estado da arte relacionado. Em um caso em que um dispositivo de tratamento de revelação automática é usado, por exemplo, pode ser utilizado qualquer sistema entre um sistema para realização do tratamento por meio do bombeamento do revelador adicionado a um tanque revelador ou o revelador adicionado a um tanque externo usando uma bomba e pulverizando o revelador a partir de um bocal de pulverização, um sistema para realização do tratamento pela imersão de uma chapa para impressão em um tanque preenchido com o revelador e transporte da chapa para impressão usando um rolo guia no revelador e um tal sistema de tratamento de descarte, que é um sistema que realiza o tratamento por meio do
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 124/252
116/224 fornecimento do revelador substancialmente não utilizado a uma quantidade necessária para cada chapa. Em todos os sistemas, é preferível que seja fornecido um mecanismo de fricção que utilize escovas ou um moletão. Por exemplo, dispositivos de tratamento de revelação automática disponíveis comercialmente (Unidade de limpeza C85/C125, Unidade de limpeza +C85/120, FCF 85V, FCF 125V, FCF News (fabricado pela Glunz & Jensen) e Azura CX85, Azura CX125 e Azura CX150 (fabricado pela AGFA GRAPHICS) podem ser utilizados. Além disso, pode-se utilizar ainda um dispositivo no qual uma porção de exposição a laser e uma porção do dispositivo de tratamento de revelação automática no qual estão integralmente incorporadas.
[0451] Os componentes e similares do revelador usado para a etapa de revelação serão descritos em detalhes.
-pH[0452] O pH do revelador encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 2 a 11, mais preferencialmente, em uma faixa de 5 a 9, e ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 7 a 9. Do ponto de vista da capacidade de revelação e dispersibilidade da camada de gravação de imagem, é vantajoso que o valor do pH seja ajustado a um valor mais alto. No entanto, do ponto de vista da capacidade de impressão e eliminação da mancha, é eficaz que o valor do pH seja ajustado a um valor baixo.
[0453] Aqui, o pH é um valor obtido através da medição a 25°C usando um medidor de pH (número do modelo: HM-31, fabricado pela DKK-TOA Corporation).
- Tensoativo [0454] O revelador pode conter um agente tensoativo, tal como um agente tensoativo aniônico, um agente tensoativo não iônico, um agente tensoativo catiônico ou um agente tensoativo anfotérico.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 125/252
117/224 [0455] Do ponto de vista das propriedades de blanket stain, é preferível que o revelador contenha pelo menos um selecionado do grupo constituído por um tensoativo aniônico e um tensoativo anfotérico.
[0456] Além disso, é preferível que o revelador contenha um tensoativo não iônico e é mais preferível que o revelador contenha pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um tensoativo não iônico, um tensoativo aniônico e um tensoativo anfotérico.
[0457] Exemplos preferenciais do tensoativo aniônico incluem os compostos representados pela Fórmula (I).
R1-Y1-X1 (|) [0458] Na fórmula geral (I), o símbolo R1 representa um grupo alquila, um grupo cicloalquila, um grupo alquenila, um grupo aralquila, ou um grupo arila, o qual pode ter um substituinte.
[0459] Como grupo alquila, é preferível um grupo alquila com 1 a 20 átomos de carbono, e os seus exemplos específicos preferenciais incluem um grupo metila, um grupo etila, um grupo propila, um grupo n-butila, um grupo secbutila, um grupo hexila, um grupo 2-etilhexila, um grupo octila, um grupo decila, um grupo dodecila, um grupo hexadecila e um grupo estearila.
[0460] O grupo cicloalquila pode ser monocíclico ou policíclico. Como grupo cicloalquila monocíclico, é preferível um grupo cicloalquila monocíclico com 3 a 8 átomos de carbono, e um grupo ciclopropila, um grupo ciclopentila, um grupo ciclo-hexila ou um grupo ciclo-octila sendo mais preferível. Exemplos preferenciais do grupo cicloalquila policíclico incluem um grupo adamantila, um grupo norbornila, um grupo isobornila, um grupo campanila, um grupo diciclopentila, um grupo a-pinel e um grupo triciclodecanila.
[0461] Como grupo alquenila, por exemplo, um grupo alquenila com 2 a 20 átomos de carbono é preferível, e exemplos específicos preferenciais destes
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 126/252
118/224 incluem um grupo vinila, um grupo alila, um grupo butenila e um grupo ciclohexenila.
[0462] Como o grupo aralquila, por exemplo, é preferível um grupo aralquila com 7 a 12 átomos de carbono, e os seus exemplos específicos preferenciais incluem um grupo benzila, um grupo fenetila e um grupo naftilmetila.
[0463] Como o grupo arila, por exemplo, é preferível um grupo arila com 6 a 15 átomos de carbono e exemplos específicos preferenciais destes incluem um grupo fenila, um grupo tolila, um grupo dimetilfenila, um grupo 2,4,6trimetilfenila, um naftila grupo, um grupo antrila e um grupo 9,10-dimetoxiantrila.
[0464] Como substituinte, um grupo atômico não metálico monovalente, excluindo um átomo de hidrogênio, é usado, e exemplos preferenciais deste incluem um átomo de halogênio (F, Cl, Br ou I), um grupo hidroxi, um grupo alcoxila, um grupo ariloxi, um grupo acila, um grupo amida, um grupo éster, um grupo aciloxi, um grupo carboxila, um grupo aniônico de ácido carboxílico e um grupo aniônico de ácido sulfônico.
[0465] Como exemplos específicos do grupo alcóxi no substituinte, um grupo metoxi, um grupo etoxi, um grupo propiloxi, um grupo isopropiloxi, um grupo butiloxi, um grupo pentiloxi, um grupo hexiloxi, um grupo dodeciloxi, um grupo esteariloxi, um grupo metoxietoxi, um grupo poli (etilenoxi) e um grupo poli(propilenoxi), respectivamente com 1 a 40 átomos de carbono, são preferíveis; e estes grupos tendo respectivamente 1 a 20 átomos de carbono são mais preferíveis. Exemplos do grupo ariloxi incluem um grupo fenoxi, um grupo toliloxi, um grupo xililoxi, um grupo mesitiloxi, um grupo cumeniloxi, um grupo metoxifeniloxi, um grupo etoxifeniloxi, um grupo clorofeniloxi, um grupo bromofeniloxi e um grupo naftiloxi, respectivamente com 6 a 18 átomos de carbono. Exemplos do grupo acila incluem um grupo acetila, um grupo propanoíla, um grupo butanoíla, um grupo benzoíla e um grupo naftoíla,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 127/252
119/224 respectivamente com 2 a 24 átomos de carbono. Exemplos do grupo amida incluem um grupo acetamida, um grupo amida do ácido propiônico, um grupo amida do ácido dodecanoico, um grupo amida do ácido palmítico, um grupo amida do ácido esteárico, um grupo amida do ácido benzoico e um grupo amida do ácido naftoico, respectivamente com 2 a 24 átomos de carbono. Exemplos do grupo aciloxi incluem um grupo acetoxi, um grupo propanoiloxi, um grupo benzoiloxi e um grupo naftoiloxi, tendo respectivamente 2 a 20 átomos de carbono. Exemplos do grupo éster incluem um grupo éster metílico, um grupo éster etílico, um grupo éster propílico, um grupo éster hexílico, um grupo éster octílico, um grupo éster dodecílico, e um grupo éster estearílico, respectivamente com 1 a 24 átomos de carbono. O substituinte pode ser formado pela combinação de dois ou mais substituintes descritos acima.
X1 representa um grupo sulfonato, um grupo monoéster sulfato, um grupo carboxilato ou um grupo fosfato.
Y1 representa uma ligação simples, -CnH2n-, -Cn-mH2(n-m)OCmH2m-, -O(CH2CH2O)n-, -O-(CH2CH2CH2O)n-, -CO-NH-, ou um grupo de ligação divalente formado pela combinação de dois ou mais destes e satisfaz as expressões de “n > 1 ” e “n > m > 0”.
[0466] Entre os exemplos do composto representado pela Fórmula (I), do ponto de vista de resistência a riscos e manchas, é preferível um composto representado pela Fórmula (l-A) ou Fórmula (l-B).
Figure BR112019009297A2_D0014
Figure BR112019009297A2_D0015
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 128/252
120/224 [0467] Nas Fórmulas (IA) e (IB), cada RA1 a RA10 representa, independentemente, um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, nA representa um número inteiro de 1 a 3, cada XA1 e XA2 representa, independentemente, um grupo sulfonate, um grupo monoéster sulfato, um grupo carboxilato, ou um grupo fosfato, e cada YA1 e YA2 representa, independentemente, uma ligação SimpleS, -CnH2rr, Cn-mH2(n-m)OCmH2m·, -©-(CFhCFhOjrr, -©-(CFhCFhCFhOjn-, CO-NH-, ou um grupo de ligação divalente formado pela combinação de dois ou mais destes e satisfaz as inequações de “n > 1 ” e “n > m > 0”. O número total de átomos de carbono em RA1 a RA5 ou RA6 a RA10 e YA1 e YA2 é 3 ou mais.
[0468] O número total de átomos de carbono em RA1 a RA5 e YA1 ou RA6 a RA10 e YA2 no composto representado pela Fórmula (l-A) ou (l-B) é preferencialmente 25 ou menos e, mais preferencialmente, se encontra em uma faixa de 4 a 20. A estrutura do grupo alquila descrito acima pode ser linear ou ramificada.
[0469] É preferível que XA1 e XA2 no composto representado pela Fórmula (l-A) ou (l-B) representem um grupo sulfonate ou um grupo carboxilato. Além disso, a estrutura de sal em XA1 e XA2 é preferível do ponto de vista de que a solubilidade do sal de metal alcalino em um solvente à base de água é particularmente excelente. Entre as estruturas de sal, é particularmente preferível um sal de sódio ou um sal de potássio.
[0470] Como composto representado pela Fórmula (l-A) ou (l-B), podese fazer referência à descrição nos parágrafos 0019 a 0037 do documento JP2007-206348A.
[0471] Como tensoativo aniônico, os compostos descritos nos parágrafos 0023 a 0028 do documento JP2006-065321A podem ser adequadamente utilizados.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 129/252
121/224 [0472] O tensoativo anfotérico utilizado para o revelador não está particularmente limitado, e os seus exemplos incluem um tensoativo à base de óxido de amina, como o óxido de alquil dimetilamina; um tensoativo à base de betaína, tal como alquil betaína, amida de ácido graxo propil betaína, ou alquil imidazol; e um tensoativo à base de aminoácidos, tal como ácido graxo alquilamina de sódio.
[0473] Particularmente, óxido de alquil dimetilamina que pode ter um substituinte, alquil carboxi betaína que pode ter um substituinte, ou alquil sulfobetaína que pode ter um substituinte é preferencialmente usado. Exemplos específicos destes incluem os compostos representados pela Fórmula (2) no parágrafo 0256 do documento JP2008-203359A, os compostos representados pelas Fórmulas (I), (II) e (VI) no parágrafo 0028 do JP2008-276166A, e os compostos descritos nos parágrafos 0022 para 0029 do documento JP2009047927A.
[0474] Como tensoativo à base de íon anfotérico usado para o revelador, um composto representado pela Fórmula (1) ou um composto representado pela Fórmula (2) é preferível.
R1—K-R4—COO' (D R3
RU
R11 _JÇ+—R14 _Q- (2) [0475] Nas Fórmulas (1) e (2), cada R1 e R11 representa, independentemente, um grupo alquila com 8 a 20 átomos de carbono ou um grupo alquila que contém um grupo de ligação com 8 a 20 átomos de carbono.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 130/252
122/224 [0476] Cada R2, R3, R12 e R13 representa, independentemente, um átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo contendo uma estrutura de óxido de etileno.
[0477] Cada R4 e R14 representa, independentemente, uma ligação simples ou um grupo alquileno.
[0478] Adicionalmente, dois grupos dentre R1, R2, R3 e R4 podem estar ligados entre si para formar uma estrutura em anel, edois grupos dentre R11, R12, R13 e R14 podem estar ligados entre si para formar uma estrutura em anel.
[0479] No composto representado pela Fórmula (1) ou o composto representado pela Fórmula (2), a porção hidrofóbica torna-se maior à medida que o número total de átomos de carbono aumenta, e a solubilidade em um revelador à base de água é diminuída. Neste caso, a solubilidade é melhorada misturando-se um solvente orgânico como auxiliar de dissolução, tal como o álcool, que auxilia a dissolução com água, entretanto, o tensoativo não pode ser dissolvido dentro de uma faixa de mistura apropriada, no caso em que o número total de átomos de carbono se torna extremamente grande. Consequentemente, o número total de átomos de carbono de R1 a R4 ou R11 a R14 encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 10 a 40 e mais preferencialmente, em uma faixa de 12 a 30.
[0480] O grupo alquila contendo um grupo de ligação representado por R1 ou R11 tem uma estrutura na qual um grupo de ligação está presente entre os grupos alquila. Em outras palavras, em um caso em que um grupo de ligação está presente, a estrutura pode ser representada por grupo alquileno-grupo de ligação-grupo alquila. Exemplos do grupo de ligação incluem uma ligação éster, uma ligação carbonila e uma ligação amida. A estrutura pode ter dois ou mais grupos de ligação, mas é preferível que a estrutura tenha um grupo de ligação e uma ligação amida seja particularmente preferida como o grupo de ligação. O
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 131/252
123/224 número total de átomos de carbono do grupo alquileno ligado ao grupo de ligação encontra-se, preferencialmente, na faixa de 1 a 5. O grupo alquileno pode ser linear ou ramificado, mas é preferível um grupo alquileno linear. O número de átomos de carbono do grupo alquila ligado ao grupo de ligação encontra-se, preferencialmente, na faixa de 3 a 19, e o grupo alquila pode ser linear ou ramificado, mas é preferível um grupo alquila linear.
[0481] Em um caso em que R2 ou R12 representa um grupo alquila, o número de átomos de carbono deste encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 1 a 5 e, de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 1 a 3. O grupo alquila pode ser linear ou ramificado, mas um grupo alquila linear é preferível.
[0482] Em um caso em que R3 ou R13 representa um grupo alquila, o número de átomos de carbono deste encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 1 a 5 e, de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 1 a 3. O grupo alquila pode ser linear ou ramificado, mas um grupo alquila linear é preferível.
[0483] Como grupo contendo uma estrutura de óxido de etileno representada por R3 ou R13, é exemplificado um grupo representado por Ra(CH2CH2O)nRb. Neste documento, Ra representa uma ligação simples, um átomo de oxigênio ou um grupo orgânico divalente (preferencialmente com 10 ou menos átomos de carbono), Rb representa um átomo de hidrogênio ou um grupo orgânico (preferencialmente com 10 ou menos átomos de carbono) e n representa um inteiro de 1 a 10.
[0484] Em um caso em que R4 e R14 representam um grupo alquileno, o número de seus átomos de carbono encontra-se, preferencialmente, na faixa de 1 a 5 e, de modo particularmente preferencial, na faixa de 1 a 3. O grupo
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 132/252
124/224 alquileno pode ser linear ou ramificado, mas um grupo alquileno linear é preferível.
[0485] O composto representado pela Fórmula (1) ou o composto representado pela Fórmula (2) tem preferencialmente uma ligação amida e mais preferencialmente, uma ligação amida como um grupo de ligação representado por R1 ou R11.
[0486] Exemplos representativos do composto representado pela Fórmula (1) ou o composto representado pela Fórmula (2) são os seguintes, mas a presente descrição não está limitada aos mesmos.
^12^25' I-c) ÇH3 ’’m ch3 A ch2-coo c16h33-n—ch2-coo“ CH3 CHS ch3 w> ch3
C18H37- I-e) ^12^25“ I~g) ~N~“ COO” Cl4H2g - N™CH2- -COO” ch3 ch4 ch3 ch3 “N™C2H4~COO~ C10H2jN™CH2COO” CH3 C2H5 bW C?Hs
N-“CH2-“COO C16H33-~N~~CH2-~COO C2Hç
H) £ 12^23 H -N“CH2·· coo~ CH.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 133/252
125/224
h) !ί>
fn3
Acocr
CsH1ô™CONH-C3H6
'.4
11n23
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 134/252
126/224 n'a> ch3 ih'·· ch,
C12H25—N—0' CmH29--N—o
CH3 CH-j a_r> ch3 n'd> c2h5
C9H1sCONHC3H6N—O“ C,2H25-|-O~CH3 C2H5 I,_e) c2h5 m çh3
N—O- CnHaa-CONHCjHsN—0“
C2H5 CHg
W CH3
C 12^25—N'—CHg—0 ch3 [0487] O composto representado pela Fórmula (1) ou (2) pode ser sintetizado de acordo com um método conhecido. Além disso, produtos comercialmente disponíveis podem ser utilizados. Exemplos dos produtos comercialmente disponíveis do composto representado pela Fórmula (1) incluem SOFRAZOLINE LPB, SOFTAZOLINE LPB-R e VISTA MAP (fabricado por Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.), e TAKESAAF C-157L (fabricado por TAKEMOTO OIL & FAT Co., Ltd.). Exemplos dos produtos comercialmente disponíveis do composto representado pela Fórmula (2) incluem SOFTAZOLINE LAO (fabricado por Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.) e AMOGEN AOL (fabricado por DKS Co., Ltd.).
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 135/252
127/224 [0488] O tensoativo à base de ion anfotérico pode ser utilizado isoladamente ou como uma combinação de dois ou mais tipos do mesmo em um revelador.
[0489] Exemplos de agentes tensoativos não iônicos incluem éteres de alquil polioxietileno, éteres de alquil fenil polioxietileno, éteres de poliestiril fenil polioxietileno, ésteres parciais de ácido graxo de glicerina, ésteres parciais de ácido graxo de sorbitano, ésteres parciais de ácido graxo de pentaeritritol, éster de ácido monograxo de propilenoglicol, éster parcial de ácido graxo de sacarose, ésteres parciais de ácido graxo de sorbitano polioxietileno, ésteres parciais de ácido graxo de sorbitol polioxietileno, ésteres de ácido graxo de polietilenoglicol, ésteres parciais de ácido graxo de poliglicerina, ésteres parciais de ácido graxo de glicerina polioxietileno, diglicerinas de polioxietileno, dietanolamidas de ácido graxo, N,N-bis-2-hidroxialquilaminas, alquilamina polioxietileno, éster de ácido graxo de trietanolamina, óxido de trialquilamina, éteres de alquil fenil polioxietileno e copolímeros em bloco de polioxietileno polioxipropileno.
[0490] Além disso, também podem ser utilizados adutos de oxietileno à base de álcool acetileno e à base de acetilenoglicol, e agentes tensoativos à base de flúor. Estes tensoativos podem ser utilizados como uma combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0491] Exemplos particularmente preferenciais do tensoativo não iônico incluem um tensoativo à base de éter aromático não iônico representado pela Fórmula (N1).
XN-YN-O-(A1)nB-(A2)mB-H(N1) [0492] Na fórmula, XN representa um grupo aromático que pode ter um substituinte, YN representa uma ligação simples ou um grupo alquileno com 1 a 10 átomos de carbono, A1 e A2 são grupos diferentes e representam qualquer um de -CH2CH2O- ou -CH2CH(CH3)O-, cada nB e mB representando,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 136/252
128/224 independentemente, um número inteiro de 0 a 100, em que ambos de nB e mB não representam 0 ao mesmo tempo. Além disso, tanto nB como mB não representam 1 ao mesmo tempo em um caso em que qualquer nB ou mB representa 0.
[0493] Na fórmula, os exemplos do grupo aromático como XN incluem um grupo fenila, um grupo naftila, e um grupo antranila. Estes grupos aromáticos podem ter um substituinte. Como substituinte, um grupo orgânico com 1 a 100 átomos de carbono é exemplificado. Além disso, na fórmula, isto pode representar um copolímero aleatório ou de bloco em um caso em que tanto A como B estão presentes.
[0494] Exemplos específicos do grupo orgânico com 1 a 100 átomos de carbono incluem grupos hidrocarboneto de ácido graxo e grupos hidrocarbonetos aromáticos, que podem ser saturados ou insaturados e lineares ou ramificados, tais como um grupo alquila, um grupo alquenila, um grupo alquinila, um grupo arila, um grupo aralquila, um grupo alcóxi, um grupo ariloxi, um grupo N-alquilamino, um grupo N, N-dialquilamino, um grupo N-arilamino, um grupo Ν,Ν-diarilamino, um grupo N-alquil-N-arilamino, um grupo aciloxi, um grupo carbamoiloxi, um grupo N-alquilcarbamoiloxi, um grupo N-arilcarbamoiloxi, um grupo Ν,Ν-dialquilcarbamoiloxi, um grupo Ν,Ν-diarilcarbamoiloxi, um grupo N-alquil-N-arilcarbamoiloxi, um grupo acilamino, um grupo N-alquilacilamino, um grupo N-arilacilamino, um grupo acila, um grupo alcoxicarbonilamino, um grupo alcoxicarbonila, um grupo ariloxicarbonila, um grupo carbamoíla, um grupo Nalquilcarbamoíla, um grupo Ν,Ν-dialquilcarbamoíla, um grupo N-arilcarbamoíla, um grupo Ν,Ν-diarilcarbamoíla, um grupo N-alquil-N-arilcarbamoíla, um cadeia de polioxialquileno, e o grupo orgânico descrito acima ao qual uma cadeia de polioxialquileno está ligada. O grupo alquila pode ser linear ou ramificado.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 137/252
129/224 [0495] Além disso, como agentes tensoativos não iônicos, os compostos descritos nos parágrafos 0030 a 0040 do documento JP2006-065321A também podem ser utilizados adequadamente.
[0496] O agente tensoativo catiônico não está particularmente limitado, e podem ser utilizados tensoativos conhecidos no estado da arte relacionado. Exemplos destes incluem sais de alquilamina, sais de amônio quaternário, sais de alquilimidazolina, sais de alquilamina polioxietileno e um derivado de poliamina polietileno.
[0497] O tensoativo pode ser usado isoladamente ou como uma combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0498] O teor do tensoativo encontra-se, preferencialmente, na faixa de 1% em massa a 25% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 2% em massa a 20% em massa, ainda mais preferencialmente, em uma faixa de 3% em massa a 15% em massa e, de um modo particularmente preferencial, em uma faixa de 5% em massa a 10% em massa em relação à massa total do revelador. Em um caso em que o teor do mesmo se encontra em uma faixa descrita acima, a resistência a riscos e manchas é excelente, a dispersibilidade da espuma de revelação (development scum) é excelente, e a propriedade de impressão a tinta da chapa para impressão litográfica a ser obtida é excelente.
- Composto polimérico solúvel em água [0499] Do ponto de vista de ajustar a viscosidade do revelador e proteger a superfície da chapa para impressão litográfica a ser obtida, o revelador pode conter um composto polimérico solúvel em água.
[0500] Exemplos do composto polimérico solúvel em água que pode estar contido no revelador incluem polissacarídeos de soja, amido modificado, goma arábica, dextrina, um derivado de fibra (tal como carboximetilcelulose, carboxietilcelulose ou metilcelulose) e um produto modificado do mesmo,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 138/252
130/224 pululano, álcool polivinílico e um derivado do mesmo, polivinilpirrolidona, poliacrilamida e um copolímero de acrilamida, um copolímero de anidrido maleico/éter metil vinílico, um copolímero de anidrido maleico/acetato de vinila e um copolímero de anidrido maleico/estireno.
[0501] Uma vez que os polissacarídeos de soja, aqueles conhecidos no estado da arte relacionado, podem ser utilizados. Por exemplo, SOYAFIBE (nome comercial, fabricado pela FUJI OIL, CO., LTD.) pode ser usado como um produto comercialmente disponível, e vários graus de produtos podem ser usados. Os exemplos preferenciais destes incluem produtos em que a viscosidade de uma solução aquosa a 10% em massa se encontra em uma faixa de 10 mPa s a 100 mPa s.
[0502] Como amido modificado, o amido representado pela fórmula (III) é preferível. Qualquer amido como milho, batata, tapioca, arroz ou trigo pode ser usado como amido representado pela Fórmula (III). A modificação do amido pode ser realizada de acordo com um método de decompor 5 a 30 resíduos de glicose por uma molécula com um ácido ou uma enzima e adicionar oxipropileno a um composto alcalino.
Figure BR112019009297A2_D0016
[0503] Na fórmula, o grau de eterificação (grau de substituição) está na faixa de 0,05 a 1,2 por unidade de glicose, n representa um número inteiro de 3 a 30 e m representa um número inteiro de 1 a 3.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 139/252
131/224 [0504] Entre os exemplos do composto polimérico solúvel em água, os polissacarídeos de soja, o amido modificado, a goma arábica, a dextrina, a carboximetilcelulose e o álcool polivinílico são particularmente preferíveis.
[0505] O composto polimérico solúvel em água pode ser usado como uma combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0506] Em um caso em que o revelador contém um composto polimérico solúvel em água, o teor do composto polimérico solúvel em água é, preferencialmente, de 3% em massa ou menos e mais preferencialmente, 1% em massa ou menos em relação à massa total do revelador. Em um caso em que o teor do mesmo se encontra em uma faixa descrita acima, a viscosidade do revelador é moderada, e a deposição de espuma de revelação e semelhantes em um elemento rolo de um dispositivo de tratamento de revelação automática pode ser suprimida.
- Outros aditivos [0507] O revelador utilizado na presente descrição pode conter um agente molhante, um conservante, um composto quelante, um agente antiespumante, um ácido orgânico, um solvente orgânico, um ácido inorgânico e um sal inorgânico além dos descritos acima.
[0508] Exemplos adequados do agente molhante incluem etilenoglicol, propilenoglicol, trietilenoglicol, butilenoglicol, hexilenoglicol, dietilenoglicol, dipropilenoglicol, glicerina, trimetilolpropano e diglicerina. O agente molhante pode ser utilizado isoladamente ou como uma combinação de dois ou mais tipos do mesmo. O teor do agente molhante encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,1 % em massa a 5% em massa em relação à massa total do revelador.
[0509] Exemplos preferenciais do conservante incluem fenol e um derivado do mesmo, formalina, um derivado de imidazol, um desidroacetato de sódio, derivado de 4-isotiazolina-3-ona, benzoisotiazolin-3-ona, 2-metil-4Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 140/252
132/224 isotiazolin-3-ona, um derivado de guanidina, derivados de sais de amônio quaternário, piridina, quinolina e guanidina, diazina, um derivado de triazol, oxazol, um derivado de oxazol, 2-bromo-2-nitropropano-1,3-diol à base de nitrobromo-álcool, 1,1-dibromo-1-nitro-2-etanol e 1,1-dibromo-1-nitro-2-propano.
[0510] A quantidade do conservante a ser adicionado é uma quantidade que apresenta eficácia estável contra bactérias, mofos, leveduras ou semelhantes, e encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,01% em massa a 4% em massa em relação à massa total do revelador, embora a quantidade do mesmo varie dependendo do tipo de bactérias, mofos e leveduras. Além disso, é preferível que o conservante seja utilizado como uma combinação de dois ou mais tipos do mesmo, de modo a ser eficaz na esterilização de vários mofos.
[0511] Exemplos do composto quelante incluem o ácido etilenodiaminatetra-acético, um sal de potássio do mesmo e um sal de sódio do mesmo; ácido dietilenotriamina pentacético, um seu sal de potássio do mesmo e um sal de sódio do mesmo; ácido trietilenotetraminohexa-acético, um sal de potássio do mesmo e um sal de sódio do mesmo; ácido hidroxietiletilenodiamina triacético, um sal de potássio do mesmo e um sal de sódio do mesmo; ácido nitrilotriacético e um sal de sódio do mesmo; e ácidos organofosfônicos, tais como ácido 1hidroxietano-1,1-difosfônico, um sal de potássio do mesmo e um sal de sódio do mesmo; e aminotri (ácido metilenofosfônico), um sal de potássio do mesmo e um sal de sódio do mesmo. Um sal de uma amina orgânica é eficazmente utilizado em vez de um sal de sódio ou um sal de potássio de um agente quelante.
[0512] Um agente quelante que esteja estavelmente presente na composição do líquido de tratamento e não perturbe a capacidade de impressão é preferível como o agente quelante. O teor do agente quelante encontra-se,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 141/252
133/224 preferencialmente, em uma faixa de 0,001% em massa a 1,0% em massa em relação à massa total do revelador.
[0513] Como agente antiespumante, um composto do tipo autoemulsificante à base de silicone típico, um composto tipo emulsificante, um composto não iônico com um equilíbrio hidrofílico-lipofílico (HLB) de 5 ou menos pode ser usado. Um agente antiespumante de silicone é preferível.
[0514] Além disso, um tensoativo à base de silicone é considerado um agente antiespumante.
[0515] O teor do agente antiespumante encontra-se adequadamente em uma faixa de 0,001 % em massa a 1,0% em massa em relação à massa total do revelador.
[0516] Exemplos do ácido orgânico incluem ácido cítrico, ácido acético, ácido oxálico, ácido malônico, ácido salicílico, ácido caprílico, ácido tartárico, ácido málico, ácido láctico, ácido levulínico, ácido p-toluenossulfônico, ácido xilenossulfônico, ácido fítico, e ácido organofosfônico. O ácido orgânico pode ser usado na forma de um sal de metal alcalino ou sal de amônio do mesmo. O teor do ácido orgânico encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,01% em massa a 0,5% em massa em relação à massa total do revelador.
[0517] Exemplos do solvente orgânico incluem hidrocarbonetos alifáticos (hexane, heptane, “ISOPAR E, H, G” (fabricado por Exxon Chemical Japan Ltd.) e semelhantes), hidrocarbonetos aromáticos (toluene, xileno e semelhantes), hidrocarboneto halogenado (dicloreto de metileno, dicloreto de etileno, tricleno, monoclorobenzeno ou semelhantes) e um solvente polar.
[0518] Exemplos do solvente polar incluem álcoois (tais como metanol, etanol, propanol, isopropanol, álcool benzílico, éter monometílico de etilenoglicol, 2-etoxietanol, éter monoetílico de dietilenoglicol, éter monohexílico de dietilenoglicol, éter monometílico de trietilenoglicol, éter monoetílico de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 142/252
134/224 propilenoglicol, éter monometílico de propilenoglicol, éter monometílico de polietilenoglicol, polipropilenoglicol, tetraetilenoglicol, éter monobutílico de etilenoglicol, éter monobenzílico de etilenoglicol, éter monofenílico de etilenoglicol, metilfenilcarbinol, álcool n-amílico e álcool metilamílico), cetonas (tais como acetona, metiletilcetona, etilbutilcetona, metilisobutilcetona e ciclohexanona), ésteres (tais como acetato de etila, acetato de propila, acetato de butila, acetato de amila, acetato de benzila, lactato de metila, lactato de butila, acetato de monobutil etilenoglicol, acetato de éter monometílico de propilenoglicol, acetato de dietilenoglicol, dietilftalato e butil levulinato), e outros (tais como trietilfosfato, tricresilfosfato, N-feniletanolamina e Nfenildietanolamina).
[0519] Em um caso em que o solvente orgânico é insolúvel em água, o solvente orgânico pode ser usado por ser solubilizado em água ao utilizar um tensoativo ou similar. Em um caso em que o revelador contém um solvente orgânico, do ponto de vista da segurança e inflamabilidade, a concentração do solvente no revelador é, preferencialmente, inferior a 40% em massa.
[0520] Exemplos de ácido inorgânico e sal inorgânico incluem ácido fosfórico, ácido metacrílico, fosfato de amônio primário, fosfato de amônio secundário, fosfato de sódio primário, fosfato de sódio secundário, fosfato de potássio primário, fosfato de potássio secundário, tripolifosfato de sódio, pirofosfato de potássio, hexametafosfato de sódio, nitrato de magnésio, nitrato de sódio, nitrato de potássio, nitrato de amônio, sulfato de sódio, sulfato de potássio, sulfato de amônio, sulfito de sódio, sulfito de amônio, hidrogenossulfato de sódio e sulfato de níquel. O teor do sal inorgânico encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 0,01% em massa a 0,5% em massa em relação à massa total do revelador.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 143/252
135/224 [0521] O revelador é preparado por meio da dissolução ou dispersão de cada um dos componentes descritos acima em água, quando necessário. A concentração de teores sólidos no revelador encontra-se, preferencialmente, em uma faixa de 2% em massa a 25% em massa. O revelador pode ser usado preparando-se um concentrado e diluindo o concentrado com água no momento do uso.
[0522] É preferível que o revelador seja um revelador aquoso.
[0523] Do ponto de vista da dispersibilidade da espuma de revelação, é preferível que o revelador contenha um composto de álcool.
[0524] Exemplos do composto de álcool incluem metanol, etanol, propanol, isopropanol e álcool benzílico. Entre estes, o álcool benzílico é preferível.
[0525] Do ponto de vista da dispersibilidade da espuma de revelação, o teor do composto de álcool encontra-se, preferencialmente, na faixa de 0,01% em massa a 5% em massa, mais preferencialmente, em uma faixa de 0,1% em massa a 2% em massa, e de modo particularmente preferencial, em uma faixa de 0,2% em massa a 1 % em massa em relação à massa total do revelador.
[Etapa de impressão] [0526] O método de impressão que utiliza a chapa para impressão litográfica obtida de acordo com o sistema de tratamento com revelador não está particularmente limitado, e a impressão pode ser realizada utilizando um método conhecido.
[0527] Exemplos destes incluem um método para realizar a impressão que fornece tinta e água de umedecimento, quando necessário, à chapa para impressão litográfica.
[0528] A tinta não está particularmente limitada e tinta conhecida é utilizada.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 144/252
136/224
EXEMPLOS [0529] A seguir, a presente invenção será descrita detalhadamente com referência aos exemplos, mas a presente invenção não está limitada aos mesmos. Nestes exemplos, “%” e “parte” indicam respectivamente “% em massa” e “parte(s) em massa”, salvo especificação em contrário. Além disso, em um composto polimérico, o peso molecular indica o peso molecular médio ponderado (Mw) e a proporção de unidades constituintes repetidas indica a percentagem molar, salvo indicação em contrário. Além disso, o peso molecular médio ponderado (Mw) é um valor em termos de poliestireno obtido através da realização de medições utilizando cromatografia de permeação em gel (GPC).
<Preparação dos suportes 1 e 3 a 9>
[0530] Como tratamentos de rugosidade, os seguintes tratamentos (a) a (e) foram realizados. Além disso, foi realizado um tratamento de lavagem entre todas as etapas do tratamento.
(a) Tratamento de ataque alcalino [0531] Uma chapa de alumínio (material JIS 1052) com uma espessura de 0,3 mm foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa a uma temperatura de 60°C, em que a concentração de soda cáustica foi de 25% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 100 g/L utilizando-se um tubo de pulverização. A quantidade de decapagem da superfície da chapa de alumínio a ser submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 3 g/m2.
(b) Tratamento de ataque ácido [0532] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado por meio da pulverização de uma solução aquosa de ácido sulfúrico (concentração de 300 g/L) a uma temperatura de 35°C por 5 segundos a partir do tubo de pulverização.
(c) Tratamento eletrolítico de formação de rugosidade
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 145/252
137/224 [0533] Em seguida, um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi continuamente realizado utilizando-se uma solução eletrolítica (temperatura do líquido de 35°C) obtida pela dissolução do cloreto de alumínio em uma solução aquosa de ácido clorídrico a 1% em massa e ajustando-se a concentração de íons alumínio de 4,5 g/L, uma fonte de energia AC de 60 Hz e uma célula eletrolítica do tipo célula plana. Uma onda senoidal foi usada como a forma de onda da fonte de energia AC. No tratamento eletroquímico de formação de rugosidade , a densidade de corrente da chapa de alumínio durante a reação anódica no pico da corrente alternada foi de 30 A/dm2. A razão entre a quantidade total de elétrons durante a reação anódica e a quantidade elétrica total durante a reação catódica da chapa de alumínio foi de 0,95. A quantidade elétrica foi ajustada para 480 C/dm2 em termos da quantidade total de elétrons durante a reação anódica da chapa de alumínio. A solução eletrolítica foi circulada usando uma bomba para que a agitação dentro da célula eletrolítica fosse realizada.
(d) Tratamento de ataque alcalino [0534] A chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa a uma temperatura de 35°C, em que a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 5 g/L utilizando-se um tubo de pulverização. A quantidade de decapagem da superfície da chapa de alumínio em que o tratamento de formação de rugosidade eletrolítico foi realizado foi de 0,05 g/m2.
Tratamento de ataque ácido [0535] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado por meio da pulverização de uma solução aquosa a uma temperatura de líquido de 35°C
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 146/252
138/224 com uma concentração de ácido sulfúrico a 300 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L a partir do tubo de pulverização durante 5 segundos.
[0536] A chapa de alumínio, na qual o tratamento de formação de rugosidade tinha sido realizado, foi submetida a um tratamento de anodização a uma temperatura de tratamento de 38°C e uma densidade de corrente de 15 A/dm2 utilizando-se uma solução aquosa a 22% em massa de ácido fosfórico como uma solução eletrolítica.
[0537] Posteriormente, a chapa de alumínio foi lavada com água utilizando-se um pulverizador. A quantidade final da película de óxido foi de 1,5 g/m2. A superfície do substrato foi fotografada com uma ampliação de 150.000 usando um microscópio eletrônico e o diâmetro médio dos poros em um caso de n = 90 foi realmente medido, e o valor foi de 30 nm.
[0538] Um suporte 1 é um suporte utilizado após 10 dias do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[0539] Um suporte 3 é um suporte utilizado após 1 dia do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[0540] Um suporte 4 é um suporte utilizado após 3 dias do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[0541] Um suporte 5 é um suporte utilizado após 1 dia do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[0542] Um suporte 6 é um suporte utilizado após 7 dias do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[0543] Um suporte 7 é um suporte utilizado após 1 dia do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[0544] Um suporte 8 é um suporte utilizado após 1 ano do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 147/252
139/224 [0545] Um suporte 9 é um suporte utilizado após 1,5 anos do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[0546] <Preparação do suporte 2>
[0547] Uma chapa de liga de alumínio com uma espessura de 0,3 mm e com uma composição listada na Tabela 1 foi submetida aos seguintes tratamentos (a) a (m), através dos quais um suporte 2 foi preparado. Além disso, durante as etapas do tratamento, foi realizado um tratamento de lavagem, e o corte líquido foi realizado utilizando um rolo de compressão (nip roller) após o tratamento de lavagem.
[0548] Um suporte 2 é um suporte utilizado após 10 dias do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
[Tabela 1]
Composição (% em massa)
Si Fe Cu Mn Mg Zn Ti Al
0,085 0,303 0,037 0 0 0 0,018 Restante
(a) Tratamento mecânico de formação de rugosidade (método de granulação por escova) [0549] Durante o fornecimento de uma suspensão de pedra-pomes (gravidade específica de 1,1 g/cm3) à superfície de uma chapa de alumínio como um líquido de polimento pastoso, um tratamento mecânico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se escovas rotativas com feixe de cerdas.
[0550] O tratamento mecânico de formação de rugosidade foi realizado sob condições em que o diâmetro médio de uma pedra-pomes como material de polimento foi de 30 pm, o número das escovas com feixe de cerdas foi quatro, e a velocidade de rotação das escovas com feixe de cerdas foi ajustada para 250 rpm. O material das escovas com feixe de cerdas foi o nylon 6.10, o diâmetro das cerdas da escova foi de 0,3 mm e o comprimento das cerdas foi de 50 mm. As escovas com feixe de cerdas foram produzidas implantando-se densamente
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 148/252
140/224 as cerdas nos orifícios de um cilindro de aço inoxidável com um diâmetro de 300 mm. A distância entre os dois rolos de suporte (com um diâmetro de 200 mm) da porção inferior da escova de cerdas foi de 300 mm. As escovas com feixe de cerdas foram pressionadas até que a carga de um motor de acionamento que gira as escovas estivesse em 10 kW mais em relação à carga antes de as escovas com feixe de cerdas serem pressionadas contra a chapa de alumínio. A direção de rotação das escovas com feixe de cerdas foi igual à direção de movimento da chapa de alumínio.
(b) Tratamento de ataque alcalino [0551] A chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa usando um tubo de pulverização a uma temperatura de 70°C Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio dissolvido foi de 10 g/m2.
(c) Tratamento de ataque ácido em solução ácida aquosa [0552] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado em uma solução aquosa de ácido nítrico. Como solução aquosa de ácido nítrico utilizada no tratamento de ataque ácido, uma solução eletrolítica de ácido nítrico foi utilizada na rugosidade eletroquímica da etapa subsequente. A temperatura do líquido foi de 35°C. O tratamento de ataque químico foi realizado por 3 segundos por meio da pulverização do líquido de ataque ácido com um pulverizador.
(d) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade [0553] Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado continuamente usando uma voltagem AC de 60 Hz. Utilizou-se uma solução eletrolítica que tinha sido ajustada para ter uma concentração de íons alumínio de 4,5 g/L por meio da adição de nitrato de alumínio a uma solução
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 149/252
141/224 aquosa de ácido nitrico com uma concentração de 10,4 g/L a uma temperatura de 35°C. Usando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo um tempo tp, até que o valor atual atingisse um pico a partir de zero, de 0,8 mseg e a razão de trabalho de 1:1 como a forma de onda da fonte de energia AC, o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se um eletrodo de carbono como um contra-eletrodo. Como um anodo auxiliar, utilizou-se a ferrita. A densidade de corrente foi de 30 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima, e 5% da corrente da fonte de energia fluiu separadamente para o anodo auxiliar. A quantidade elétrica foi de 185 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(e) Tratamento de ataque alcalino [0554] A chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, em que a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um tubo de pulverização a uma temperatura de 50°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio dissolvido foi de 0,5 g/m2.
(f) Tratamento de ataque ácido em solução ácida aquosa [0555] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado em uma solução aquosa de ácido sulfúrico. Como solução aquosa de ácido sulfúrico utilizada no tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução em que a concentração de ácido sulfúrico foi de 170 g/L e a concentração de íons alumínio foi de 5 g/L. A temperatura do líquido foi de 60°C. O tratamento de ataque ácido foi realizado por 3 segundos pulverizando o líquido de ataque ácido com um pulverizador.
(g) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 150/252
142/224 [0556] Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado continuamente usando uma voltagem AC de 60 Hz. Utilizou-se uma solução eletrolítica que tinha sido ajustada para ter uma concentração de íons alumínio de 4,5 g/L por meio da adição de cloreto de alumínio a uma solução aquosa contendo uma concentração de ácido clorídrico de 6,2 g/L a uma temperatura de líquido de 35°C. Usando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo um tempo tp, até que o valor atual atingisse um pico a partir de zero, de 0,8 mseg e a razão de trabalho de 1:1, o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se um eletrodo de carbono como um contra-eletrodo. Como um anodo auxiliar, utilizou-se a ferrita. A densidade de corrente foi de 25 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima, e a quantidade elétrica foi de 63 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(h) Tratamento de ataque alcalino [0557] A chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um tubo de pulverização a uma temperatura de 50°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio dissolvido foi de 0,1 g/m2.
(i) Tratamento de ataque ácido em solução ácida aquosa [0558] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado em uma solução aquosa de ácido sulfúrico. O tratamento de ataque ácido foi realizado a uma temperatura de líquido de 35°C por 4 segundos, utilizando a solução aquosa de ácido sulfúrico (íons alumínio a uma concentração de 5 g/L estavam contidos em uma solução aquosa de ácido sulfúrico a uma concentração de 170 g/L)
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 151/252
143/224 utilizada na etapa de tratamento de anodização. O tratamento de ataque ácido foi realizado por 3 segundos pulverizando o líquido de ataque ácido com um pulverizador.
(j) Primeiro tratamento de anodização [0559] Uma primeira etapa de um tratamento de anodização foi realizada com um dispositivo de anodização que utiliza a eletrólise com DC. Uma película anodizada com uma espessura de película predeterminada foi formada realizando um tratamento de anodização sob as condições listadas na Tabela 2. Uma solução aquosa contendo os componentes listados na Tabela 2 foi utilizada como a solução eletrolítica. Nas Tabelas 2 a 4, a “concentração de componentes” indica a concentração (g/L) de cada componente descrita na seção “componente líquido”.
[Tabela 2]
Primeiro tratamento de anodização
Tipo de líquido Componente líquido Concentração do componente (g/L) Temperatura (°C) Densidade de corrente (A/dm2) Tempo (s) Espessura da película (nm)
Ácido sulfúrico H2SO4/AI 170/5 55 90 0,40 110
(k) Segundo tratamento de anodização [0560] Uma segunda etapa de um tratamento de anodização foi realizada com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC. Uma película anodizada com uma espessura de película predeterminada foi formada realizando um tratamento de anodização sob as condições listadas na Tabela 3. Uma solução aquosa contendo os componentes listados na Tabela 3 foi utilizada como a solução eletrolítica.
[Tabela 3]
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 152/252
144/224
Segundo tratamento de anodização
Tipo de líquido Componente líquido Concentração do componente (g/L) Temperatura (°C) Densidade de corrente (A/dm2) Tempo (s) Espessura da película (nm)
Ácido sulfúrico H2SO4/AI 170/5 54 15 13 900
(I) Terceiro tratamento de anodização [0561] Uma terceira etapa de um tratamento de anodização foi realizada com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC. Uma película anodizada com uma espessura de película predeterminada foi formada realizando um tratamento de anodização sob as condições listadas na Tabela 4. Uma solução aquosa contendo os componentes listados na Tabela 4 foi utilizada como a solução eletrolítica.
[T abela 4]
Terceiro tratamento de anodização
Tipo de líquido Componente líquido Concentração do componente (g/L) Temperatura (°C) Densidade de corrente (A/dm2) Tempo (s) Espessura da película (nm)
Ácido sulfúrico H2SO4/AI 170/5 54 50 0,4 100
(m) Tratamento de hidrofilização [0562] A fim de assegurar a hidrofilicidade de uma área sem imagem, a área sem imagem foi submetida a um tratamento de silicate por imersão utilizando 2,5% em massa de uma solução aquosa de silicato de sódio No. 3 a 50°C por 7 segundos. A quantidade de adesão do Si foi de 8,5 mg/m2. Em seguida, o produto resultante foi lavado com água usando um pulverizador.
[0563] O diâmetro médio (diâmetro médio da camada da superfície) dos poros de grande diâmetro na superfície da película anodizada contendo microporos obtidos da maneira descrita acima, o diâmetro médio (diâmetro médio da porção inferior) dos poros de grande diâmetro em uma posição de comunicação, o diâmetro médio (diâmetro dos poros de pequeno diâmetro) dos poros de pequeno diâmetro na posição de comunicação, a profundidade média
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 153/252
145/224 dos poros de grande diâmetro e dos poros de pequeno diâmetro, a espessura (espessura da camada de barreira) da película anodizada da porção inferior dos poros de pequeno diâmetro até a superfície da chapa de alumínio, e a densidade dos poros de pequeno diâmetro estão listados nas Tabelas 5 e 6. Os poros de pequeno diâmetro incluem os primeiros poros de pequeno diâmetro e segundos poros de pequeno diâmetro com profundidades diferentes entre si e os poros de pequeno diâmetro que são mais profundos que os outros são referidos como os primeiros poros de pequeno diâmetro.
[Tabela 5]
Microporos
Poros de grande diâmetro
Diâmetro médio da camada da superfície Diâmetro médio da porção inferior Profundidade média Profundidade média/ Diâmetro médio da camada da superfície Profundidade média/ Diâmetro médio da porção inferior Forma
(nm) (nm) (nm)
12 25 98 8,2 3,9 Conicidade invertida
[Tabela 6]
Microporos
Poros de pequeno diâmetro Densidade dos microporos (poros/pm2) Aumento da ampliação da área de superfície Razão (diâmetro médio da camada da superfície/ diâmetro dos poros de pequeno diâmetro)
Diâmetro médio (nm) Profundidade média (nm) Densidade da porção de comunicação (porções/pm2) Espessura média da camada de barreira (nm) Espessura mínima da camada de barreira (nm)
9,8 888.968 800 (650) 17 16 500 4,0 1,22
[0564] Na Tabela 6, o valor médio e o valor mínimo são mostrados como a espessura da camada de barreira. O valor médio é obtido pela medição de 50 espessuras da película anodizada a partir da parte inferior dos primeiros poros de pequeno diâmetro até a superfície da chapa de alumínio e pelo cálculo da média aritmética dos valores.
[0565] O diâmetro médio dos microporos (diâmetro médio dos poros de grande diâmetro e dos poros de pequeno diâmetro) é um valor obtido pela
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 154/252
146/224 observação de 4 folhas (N = 4) das superfícies dos poros de grande diâmetro e das superfícies dos poros de pequeno diâmetro utilizando um microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo (FE-SEM) com uma ampliação de 150.000, pela medição dos diâmetros dos microporos (dos poros de grande diâmetro e dos poros de pequeno diâmetro) presentes em uma faixa de 400 x 600 nm2 nas quatro folhas de imagens obtidas, e pelo cálculo da média dos valores. Além disso, em um caso em que a profundidade dos poros de grande diâmetro é profunda e é improvável que o diâmetro dos poros de pequeno diâmetro seja medido, a parte superior da película anodizada é cortada e depois vários tipos de diâmetros são adquiridos.
[0566] A profundidade média dos poros de grande diâmetro é um valor obtido pela observação da seção transversal do suporte (película anodizada) usando FE-TEM com uma ampliação de 500.000, pela medição de 60 casos (N = 60) de distâncias da superfície de um microporo arbitrário até a posição de comunicação na imagem obtida e pelo cálculo da média dos valores. Além disso, a profundidade média dos poros de pequeno diâmetro é um valor obtido pela observação da seção transversal do suporte (película anodizada) usando FESEM (com uma ampliação de 50.000), pela medição de 25 casos de profundidade de microporos arbitrários na imagem obtida e pelo cálculo da média dos valores.
[0567] A “densidade da porção de comunicação” indica a densidade dos poros de pequeno diâmetro da seção transversal da película anodizada na posição de comunicação. O “aumento da ampliação da área de superfície” indica o valor calculado com base na seguinte Equação (A).
Equação (A)
Aumento da ampliação da área de superfície = 1 + densidade dos poros x ((π x (diâmetro médio da camada da superfície/2 + diâmetro médio da porção
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 155/252
147/224 inferior/2) x ((diâmetro médio da porção inferior/2 - diâmetro médio da camada da superfície/2)2 + profundidade A2)1/2 + π x (diâmetro médio da porção inferior/2)2 - π x (diâmetro médio da camada da superfície/2)2)) [0568] Na coluna da “profundidade média (nm)” dos poros de pequeno diâmetro, a profundidade média dos segundos poros de pequeno diâmetro é mostrada no lado esquerdo e a profundidade média dos primeiros poros de pequeno diâmetro é mostrada no lado direito. Na coluna da “densidade da porção de comunicação” dos poros de pequeno diâmetro na Tabela E, a densidade dos primeiros poros de pequeno diâmetro é mostrada entre parênteses juntamente com a densidade da porção de comunicação dos poros de pequeno diâmetro.
[0569] Além disso, o diâmetro médio dos primeiros poros de pequeno diâmetro posicionados desde a porção inferior dos segundos poros de pequeno diâmetro até a porção inferior dos primeiros poros de pequeno diâmetro foi de aproximadamente 12 nm.
<Preparação do suporte 10>
[0570] Uma chapa de alumínio com uma espessura de 0,19 mm foi imersa em uma solução de 40 g/L de hidróxido de sódio aquoso a 60°C por 8 segundos de modo a ser desengordurada e, em seguida, lavada com água desmineralizada por 2 segundos. Em seguida, a chapa de alumínio foi submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade em uma solução aquosa contendo 12 g/L de ácido clorídrico e 38 g/L de sulfato de alumínio (18 hidrato) a uma temperatura de 33°C e a uma densidade de corrente de 130 A/dm2 usando um AC por 15 segundos. Em seguida, a chapa de alumínio foi lavada com água desmineralizada por 2 segundos, submetida a um tratamento de ataque ácido ao ser decapada com 155 g/L de uma solução aquosa de ácido sulfúrico a 70°C por 4 segundos, e lavada com água desmineralizada a 25°C por
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 156/252
148/224 segundos. A chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de anodização em 155 g/L de uma solução aquosa de ácido sulfúrico por 13 segundos a uma temperatura de 45°C e a uma densidade de corrente de 22 A/dm2 e lavada com água desmineralizada por 2 segundos. Além disso, a chapa de alumínio foi tratada a 40°C por 10 segundos, utilizando-se 4 g/L de uma solução aquosa de ácido fosfônico polivinílico, lavada com água desmineralizada a 20°C por 2 segundos, e, em seguida, seca, preparando-se, assim, um suporte 10. A rugosidade superficial Ra do suporte 10 foi de 0,21 pm e a quantidade de película anodizada foi de 4 g/m2.
[0571] O suporte 10 é um suporte utilizado após 10 dias do tratamento de anodização realizado no suporte obtido.
<Preparação dos suportes 11 a 19>
[0572] Uma chapa de alumínio (chapa de liga de alumínio, material 1S) com uma espessura de 0,3 mm foi submetida a qualquer um dos seguintes tratamentos (A) a (I), produzindo, assim, um suporte de alumínio. Além disso, durante todas as etapas do tratamento, foi realizado um tratamento de lavagem, e o corte líquido foi realizado utilizando um rolo de compressão após o tratamento de lavagem.
[Tratamento A (suportes 11 a 13)] (A-a) tratamento de ataque alcalino [0573] Uma chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 70°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície que será
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 157/252
149/224 subsequentemente submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 5 g/m2.
(A-b) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0574] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução ácida aquosa utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 150 g/L. A temperatura do líquido foi de 30°C.
(A-c) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade utilizando solução aquosa de ácido clorídrico [0575] Em seguida, um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando a corrente AC e uma solução eletrolítica com uma concentração de ácido clorídrico de 14 g/L, uma concentração de íons alumínio de 13 g/L e uma concentração de ácido sulfúrico de 3 g/L. A temperatura do líquido da solução eletrolítica foi de 30°C. A concentração de íons alumínio foi ajustada pela adição de cloreto de alumínio.
[0576] A forma de onda da corrente AC foi uma onda senoidal em que as formas de onda positiva e negativa foram simétricas, a frequência foi de 50 Hz, a razão entre o tempo de reação anódica e o tempo de reação catódica em um ciclo da corrente AC foi de 1:1 e a densidade de corrente foi de 75 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima da forma de onda da corrente AC. Além disso, a quantidade elétrica total da chapa de alumínio utilizada para a reação anódica foi de 450 C/dm2 e o tratamento eletrolítico foi realizado quatro vezes em intervalos de energização de 4 segundos para cada quantidade elétrica de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 158/252
150/224
112,5 C/dm2. Um eletrodo de carbono foi usado como um contra-eletrodo da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(A-d) Tratamento de ataque alcalino [0577] A chapa de alumínio, após ser submetida a um tratamento eletroquímico, foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 45°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície depois de ser submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 0,2 g/m2.
(A-e) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0578] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução ácida aquosa utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se um líquido residual gerado na etapa de tratamento de anodização (uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L). A temperatura do líquido foi de 30°C.
(A-f) Tratamento de anodização [0579] Foi realizado um tratamento de anodização com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas do “primeiro tratamento de anodização” da Tabela 7.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 159/252
151/224 [0580] Uma chapa de alumínio 416 em um dispositivo de tratamento de anodização 410 é transportada como indicado pela seta na Fig. 5. A chapa de alumínio 416 é carregada positivamente (+) por um eletrodo de alimentação de energia 420 em um tanque de alimentação de energia 412 no qual uma solução eletrolítica 418 está armazenada. Além disso, a chapa de alumínio 416 é transportada para cima por um rolo 422 no tanque de alimentação de energia 412, redirecionada para baixo por um rolo de compressão 424, transportada em direção a um tanque de tratamento eletrolítico 414 no qual uma solução eletrolítica 426 foi armazenada e redirecionada para a direção horizontal por um rolo 428. Em seguida, a chapa de alumínio 416 é carregada negativamente (-) por um eletrodo eletrolítico 430 de modo que uma película anodizada é formada em sua superfície, e a chapa de alumínio 416 que sai do tanque de tratamento eletrolítico 414 é transportada para a próxima etapa. No dispositivo de tratamento de anodização 410, o meio de mudança de direção é formado pelo rolo 422, pelo rolo de compressão 424 e o rolo 428. A chapa de alumínio 416 é transportada em uma forma de montanha e uma forma de U invertido pelo rolo 422, pelo rolo de compressão 424, e o rolo 428 em uma porção entre tanques entre o tanque de alimentação de energia 412 e o tanque de tratamento eletrolítico 414. O eletrodo de alimentação de energia 420 e o eletrodo eletrolítico 430 estão conectados a uma fonte de energia de DC 434.
(A-g) Tratamento de alargamento de poros [0581] A chapa de alumínio, após ser submetida ao tratamento de anodização, foi submetida a um tratamento de alargamento de poros pela imersão em solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa a uma temperatura listada na Tabela 7 sob uma condição de tempo
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 160/252
152/224 listada na Tabela 7. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
[Tratamento B (suporte 14)] (B-a) Tratamento de ataque alcalino [0582] Uma chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 70°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície que será subsequentemente submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 5 g/m2.
(B-b) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0583] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 150 g/L. A temperatura do líquido foi de 30°C.
(B-c) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade utilizando solução aquosa de ácido clorídrico.
[0584] Em seguida, um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando a corrente AC e uma solução eletrolítica com uma concentração de ácido clorídrico de 14 g/L, uma concentração de íons alumínio de 13 g/L e uma concentração de ácido sulfúrico de 3 g/L. A
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 161/252
153/224 temperatura do líquido da solução eletrolítica foi de 30°C. A concentração de íons alumínio foi ajustada pela adição de cloreto de alumínio.
[0585] A forma de onda da corrente AC foi uma onda senoidal em que as formas de onda positiva e negativa foram simétricas, a frequência foi de 50 Hz, a razão entre o tempo de reação anódica e o tempo de reação catódica em um ciclo da corrente AC foi de 1:1 e a densidade de corrente foi de 75 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima da forma de onda da corrente AC. Além disso, a quantidade elétrica total da chapa de alumínio utilizada para a reação anódica foi de 450 C/dm2 e o tratamento eletrolítico foi realizado quatro vezes em intervalos de energização de 4 segundos para cada quantidade elétrica de 112,5 C/dm2. Um eletrodo de carbono foi usado como um contra-eletrodo da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(B-d) Tratamento de ataque alcalino [0586] A chapa de alumínio, após ser submetida a um tratamento eletroquímico, foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 45°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvido na superfície depois de ser submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 0,2 g/m2.
(B-e) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0587] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se um líquido residual
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 162/252
154/224 gerado na etapa de tratamento de anodização (uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L). A temperatura do líquido foi de 30°C.
(B-f) Primeiro estágio do tratamento de anodização [0588] Um primeiro estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “primeiro tratamento de anodização” da Tabela 7.
(B-g) Tratamento de alargamento de poros [0589] A chapa de alumínio, após ser submetida ao tratamento de anodização, foi submetida a um tratamento de alargamento de poros pela imersão em solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa a uma temperatura de 40°C sob uma condição de tempo indicada na Tabela 7. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(B-g) Segundo estágio do tratamento de anodização [0590] Um segundo estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “segundo tratamento de anodização” da Tabela 7.
[Tratamento D (suporte 15)] (D-a) Tratamento mecânico de formação de rugosidade (método de granulação por escova)
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 163/252
155/224 [0591] Durante o fornecimento de uma suspensão de pedra-pomes (gravidade específica de 1,1 g/cm3) à superfície de uma chapa de alumínio como um líquido de polimento pastoso utilizando um dispositivo ilustrado na Fig. 6, um tratamento mecânico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se escovas rotativas com feixe de cerdas. Na Fig. 6, o número de referência 1 representa uma chapa de alumínio, os números de referência 2 e 4 representam escovas do tipo cilindro/rolo (nos exemplos presentes, escovas com feixe de cerdas), o número de referência 3 representa um líquido de polimento pastoso e os números de referência 5, 6, 7 e 8 representam um rolo de suporte.
[0592] O tratamento mecânico de formação de rugosidade é realizado sob condições em que o diâmetro médio (pm) de um material de polimento foi de 30 pm, o número de escovas foi quatro e a velocidade de rotação (rpm) das escovas foi ajustada para 250 rpm. O material das escovas com feixe de cerdas foi o nylon 6.10, o diâmetro das cerdas da escova foi de 0,3 mm e o comprimento das cerdas foi de 50 mm. As escovas foram produzidas implantando-se densamente as cerdas nos orifícios de um cilindro de aço inoxidável com um diâmetro de 300 mm. A distância entre os dois rolos de suporte (com um diâmetro de 200 mm) da porção inferior da escova com feixe de cerdas foi de 300 mm. As escovas com feixe de cerdas foram pressionadas até que a carga de um motor de acionamento que gira as escovas estivesse em 10 kW mais em relação à carga antes de as escovas com feixe de cerdas serem pressionadas contra a chapa de alumínio. A direção de rotação das escovas com feixe de cerdas foi igual à direção de movimento da chapa de alumínio.
(D-b) Tratamento de ataque alcalino [0593] Uma chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 164/252
156/224 de ions alumínio foi de 6,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 70°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície que será subsequentemente submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 10 g/m2.
(D-c) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0594] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução ácida aquosa usada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se um líquido residual de ácido nítrico na etapa subsequente de tratamento eletroquímico de formação de rugosidade. A temperatura do líquido foi de 35°C.
(D-d) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade utilizando solução aquosa de ácido nítrico [0595] Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi continuamente realizado usando uma voltagem AC de 60 Hz em eletrólise de ácido nítrico. Como uma solução eletrolítica neste momento, utilizou-se uma solução eletrolítica que tinha sido ajustada para ter uma concentração de íons alumínio de 4,5 g/L por meio da adição de nitrato de alumínio a uma solução aquosa de ácido nítrico com uma concentração de 10,4 g/L a uma temperatura de líquido de 35°C. Usando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo um tempo tp, até que o valor atual atingisse um pico a partir de zero, de 0,8 mseg e a razão de trabalho de 1:1 como a forma de onda da fonte de energia AC, o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se um eletrodo de carbono como um contra-eletrodo. Como um anodo auxiliar, utilizou-se a ferrita. Uma célula eletrolítica ilustrada na Fig. 5 foi utilizada como a
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 165/252
157/224 célula eletrolítica. A densidade de corrente foi de 30 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima, e 5% da corrente da fonte de energia fluiu separadamente para o anodo auxiliar. A quantidade elétrica (C/dm2) foi de 185 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da chapa de alumínio.
(D-e) Tratamento de ataque alcalino [0596] A chapa de alumínio obtida da maneira descrita acima foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 27% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 2,5% em massa utilizando um tubo de pulverização a uma temperatura de 50°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio dissolvido foi de 3,5 g/m2.
(D-f) Tratamento de ataque ácido em solução ácida aquosa [0597] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução aquosa de ácido sulfúrico. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução aquosa de ácido sulfúrico na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa de ácido sulfúrico utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L. A temperatura do líquido foi de 30°C.
(D-g) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade utilizando solução aquosa de ácido clorídrico [0598] Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado continuamente utilizando-se uma voltagem AC de 60 Hz em eletrólise de ácido clorídrico. Como uma solução eletrolítica, utilizou-se uma solução eletrolítica que foi ajustada para ter uma concentração de íons alumínio de 4,5
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 166/252
158/224 g/L pela adição de cloreto de alumínio a uma solução aquosa com 6,2 g/L de ácido clorídrico a uma temperatura de líquido de 35°C. Usando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo um tempo tp, até que o valor atual atingisse um pico a partir de zero, de 0,8 mseg e a razão de trabalho de 1:1 como a forma de onda da fonte de energia AC, o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se um eletrodo de carbono como um contraeletrodo. Como um anodo auxiliar, utilizou-se a ferrita. Uma célula eletrolítica ilustrada na Fig. 5 foi utilizada como a célula eletrolítica. A densidade de corrente foi de 25 A/dm2em termos do valor da corrente máxima, e a quantidade elétrica (C/dm2) na eletrólise de ácido clorídrico foi de 63 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da chapa de alumínio. Em seguida, a lavagem com água foi realizada com um pulverizador.
(D-h) Tratamento de ataque alcalino [0599] A chapa de alumínio obtida da maneira descrita acima foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 60°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio dissolvido foi de 0,2 g/m2.
(D-i) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0600] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução aquosa de ácido sulfúrico. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução aquosa de ácido sulfúrico na chapa de alumínio por 4 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa de ácido sulfúrico utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se um líquido residual gerado na etapa de tratamento de anodização
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 167/252
159/224 (uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L). A temperatura do líquido foi de 35°C.
(D-j) Tratamento de anodização [0601] Um tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “primeiro tratamento de anodização” da Tabela 7 (D-k) Tratamento de alargamento de poros [0602] A chapa de alumínio, após ser submetida ao tratamento de anodização, foi submetida a um tratamento de alargamento de poros pela imersão em solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa a uma temperatura de 40°C por 3 segundos. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(D-l) Tratamento de hidrofilização [0603] A fim de assegurar a hidrofilicidade de uma área sem imagem, a área sem imagem foi submetida a um tratamento de silicate pela imersão da chapa de alumínio obtida utilizando-se 2,5% em massa de uma solução aquosa de silicato de sódio No. 3 a 50°C por 7 segundos. A quantidade de adesão do Si foi de 8,5 mg/m2. Em seguida, o produto resultante foi lavado com água usando um pulverizador.
[0604] O diâmetro médio dos microporos é calculado pela observação de 4 folhas (N = 4) das superfícies da película anodizada utilizando um FE-SEM com uma ampliação de 150.000, pela medição dos diâmetros dos microporos
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 168/252
160/224 presentes em uma faixa de 400 nm x 600 nm nas quatro folhas de imagens obtidas, e pelo cálculo da média dos valores.
[0605] Além disso, em um caso em que a forma dos microporos não é circular, um diâmetro de círculo equivalente é utilizado. O diâmetro de círculo equivalente é um diâmetro de um círculo obtido assumindo a forma de uma porção de abertura de um microporo como um círculo tendo a mesma área projetada que a área projetada da porção de abertura.
[Tratamento F (suporte 16)]
Tratamento de ataque alcalino [0606] Uma chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 70°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície que será subsequentemente submetida a um tratamento de formação de rugosidade eletroquímica foi de 5 g/m2.
(F-b) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0607] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com 150 g/L de ácido sulfúrico. A temperatura do líquido foi de 30°C.
(F-c) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade [0608] Em seguida, um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando a corrente AC e uma solução eletrolítica com
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 169/252
161/224 uma concentração de ácido clorídrico de 14 g/L, uma concentração de íons alumínio de 13 g/L e uma concentração de ácido sulfúrico de 3 g/L. A temperatura do líquido da solução eletrolítica foi de 30°C. A concentração de íons alumínio foi ajustada pela adição de cloreto de alumínio.
[0609] A forma de onda da corrente AC foi uma onda senoidal em que as formas de onda positiva e negativa foram simétricas, a frequência foi de 50 Hz, a razão entre o tempo de reação anódica e o tempo de reação catódica em um ciclo da corrente AC foi de 1:1 e a densidade de corrente foi de 75 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima da forma de onda da corrente AC. Além disso, a quantidade elétrica total da chapa de alumínio utilizada para a reação anódica foi de 450 C/dm2 e o tratamento eletrolítico foi realizado quatro vezes em intervalos de energização de 4 segundos para cada quantidade elétrica de
112,5 C/dm2. Um eletrodo de carbono foi usado como um contra-eletrodo da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(F-d) Tratamento de ataque alcalino [0610] A chapa de alumínio, após ser submetida a um tratamento eletroquímico, foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 45°C. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície depois de ser submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 0,2 g/m2. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(F-e) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0611] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 170/252
162/224 alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L. A temperatura do líquido foi de 35°C.
(F-f) Primeiro estágio do tratamento de anodização [0612] Um primeiro estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “primeiro tratamento de anodização” da Tabela 7.
(F-g) Segundo estágio do tratamento de anodização [0613] Um segundo estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “segundo tratamento de anodização” da Tabela 7.
[Tratamento G (suporte 17)]
Tratamento de ataque alcalino [0614] Uma chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 70°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície que será
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 171/252
163/224 subsequentemente submetida a um tratamento de aumento da rugosidade eletroquímica foi de 5 g/m2.
(G-b) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0615] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com 150 g/L de ácido sulfúrico. A temperatura do líquido foi de 30°C.
(G-c) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade [0616] Em seguida, um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando a corrente AC e uma solução eletrolítica com uma concentração de ácido clorídrico de 14 g/L, uma concentração de íons alumínio de 13 g/L e uma concentração de ácido sulfúrico de 3 g/L. A temperatura do líquido da solução eletrolítica foi de 30°C. A concentração de íons alumínio foi ajustada pela adição de cloreto de alumínio.
[0617] A forma de onda da corrente AC foi uma onda senoidal em que as formas de onda positiva e negativa foram simétricas, a frequência foi de 50 Hz, a razão entre o tempo de reação anódica e o tempo de reação catódica em um ciclo da corrente AC foi de 1:1 e a densidade de corrente foi de 75 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima da forma de onda da corrente AC. Além disso, a quantidade elétrica total da chapa de alumínio utilizada para a reação anódica foi de 450 C/dm2 e o tratamento eletrolítico foi realizado quatro vezes em intervalos de energização de 4 segundos para cada quantidade elétrica de
112,5 C/dm2. Um eletrodo de carbono foi usado como um contra-eletrodo da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(G-d) Tratamento de ataque alcalino
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 172/252
164/224 [0618] A chapa de alumínio, após ser submetida a um tratamento eletroquímico, foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 45°C. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície após ser submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 0,2 g/m2. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
[G-e] Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0619] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L. A temperatura do líquido foi de 35°C.
(G-f) Primeiro estágio do tratamento de anodização [0620] Um primeiro estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “primeiro tratamento de anodização” da Tabela 7.
(G-g) Tratamento de alargamento de poros [0621] A chapa de alumínio, após ser submetida ao tratamento de anodização, foi submetida a um tratamento de alargamento de poros pela imersão em solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 173/252
165/224 cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa a uma temperatura de 40°C sob uma condição de tempo indicada na Tabela 7. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(G-h) Segundo estágio do tratamento de anodização [0622] Um segundo estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “segundo tratamento de anodização” da Tabela 7.
[Tratamento H (suporte 18)]
Tratamento de ataque alcalino [0623] Uma chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 70°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície que será subsequentemente submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 5 g/m2.
(H-b) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0624] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com 150 g/L de ácido sulfúrico. A temperatura do líquido foi de 30°C.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 174/252
166/224 (H-c) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade [0625] Em seguida, um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando a corrente AC e uma solução eletrolítica com uma concentração de ácido clorídrico de 14 g/L, uma concentração de íons alumínio de 13 g/L e uma concentração de ácido sulfúrico de 3 g/L. A temperatura do líquido da solução eletrolítica foi de 30°C. A concentração de íons alumínio foi ajustada pela adição de cloreto de alumínio.
[0626] A forma de onda da corrente AC foi uma onda senoidal em que as formas de onda positiva e negativa foram simétricas, a frequência foi de 50 Hz, a razão entre o tempo de reação anódica e o tempo de reação catódica em um ciclo da corrente AC foi de 1:1 e a densidade de corrente foi de 75 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima da forma de onda da corrente AC. Além disso, a quantidade elétrica total da chapa de alumínio utilizada para a reação anódica foi de 450 C/dm2 e o tratamento eletrolítico foi realizado quatro vezes em intervalos de energização de 4 segundos para cada quantidade elétrica de
112,5 C/dm2. Um eletrodo de carbono foi usado como um contra-eletrodo da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(H-d) Tratamento de ataque alcalino [0627] A chapa de alumínio, após ser submetida a um tratamento eletroquímico, foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 45°C. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície após ser submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 0,2 g/m2. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(H-e) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 175/252
167/224 [0628] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L. A temperatura do líquido foi de 35°C.
(H-f) Primeiro estágio do tratamento de anodização [0629] Um primeiro estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “primeiro tratamento de anodização” da Tabela 7.
(H-g) Segundo estágio do tratamento de anodização [0630] Um segundo estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “segundo tratamento de anodização” da Tabela 7.
[Tratamento I (suporte 19)] (l-a) Tratamento de ataque alcalino [0631] Uma chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução de soda cáustica aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa usando um pulverizador a uma
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 176/252
168/224 temperatura de 70°C. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície que será subsequentemente submetida a um tratamento de aumento da rugosidade eletroquímica foi de 5 g/m2.
(l-b) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0632] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com 150 g/L de ácido sulfúrico. A temperatura do líquido foi de 30°C.
(l-c) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade [0633] Em seguida, um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando a corrente AC e uma solução eletrolítica com uma concentração de ácido clorídrico de 14 g/L, uma concentração de íons alumínio de 13 g/L e uma concentração de ácido sulfúrico de 3 g/L. A temperatura do líquido da solução eletrolítica foi de 30°C. A concentração de íons alumínio foi ajustada pela adição de cloreto de alumínio.
[0634] A forma de onda da corrente AC foi uma onda senoidal em que as formas de onda positiva e negativa foram simétricas, a frequência foi de 50 Hz, a razão entre o tempo de reação anódica e o tempo de reação catódica em um ciclo da corrente AC foi de 1:1 e a densidade de corrente foi de 75 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima da forma de onda da corrente AC. Além disso, a quantidade elétrica total da chapa de alumínio utilizada para a reação anódica foi de 450 C/dm2 e o tratamento eletrolítico foi realizado quatro vezes em intervalos de energização de 4 segundos para cada quantidade elétrica de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 177/252
169/224
112,5 C/dm2. Um eletrodo de carbono foi usado como um contra-eletrodo da chapa de alumínio. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(l-d) Tratamento de ataque alcalino [0635] A chapa de alumínio, após ser submetida a um tratamento eletroquímico, foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa usando um pulverizador a uma temperatura de 45°C. A quantidade de alumínio a ser dissolvida na superfície após ser submetida a um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi de 0,2 g/m2. Em seguida, realizou-se um tratamento de lavagem.
(l-e) Tratamento de ataque ácido utilizando solução ácida aquosa [0636] Em seguida, um tratamento de ataque ácido foi realizado utilizando-se uma solução ácida aquosa. Especificamente, o tratamento de ataque ácido foi realizado pulverizando a solução ácida aquosa na chapa de alumínio por 3 segundos com um pulverizador. Como solução aquosa ácida utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se uma solução aquosa com uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L e uma concentração de íons alumínio de 5 g/L. A temperatura do líquido foi de 35°C.
(l-f) Primeiro estágio do tratamento de anodização [0637] Um primeiro estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “primeiro tratamento de anodização” da Tabela 7.
(l-g) Tratamento de alargamento de poros
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 178/252
170/224 [0638] A chapa de alumínio, após ser submetida ao tratamento de anodização, foi submetida a um tratamento de alargamento de poros pela imersão em solução aquosa de soda cáustica, na qual a concentração de soda cáustica foi de 5% em massa e concentração de íons alumínio foi de 0,5% em massa a uma temperatura de 40°C sob uma condição de tempo indicada na Tabela 7. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(l-h) Segundo estágio do tratamento de anodização [0639] Um segundo estágio do tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização que utiliza eletrólise com DC e apresenta uma estrutura ilustrada na Fig. 5. Uma película anodizada tendo uma quantidade de revestimento predeterminada foi formada pela realização de um tratamento de anodização sob as condições listadas nas colunas de “segundo tratamento de anodização” da Tabela 7.
<Preparação do suporte 20>
[Chapa de alumínio] [0640] Um metal fundido foi preparado com uma liga de alumínio contendo 0,06% em massa de Si, 0,30% em massa de Fe, 0,005% em massa de Cu, 0,001% em massa de Mn, 0,001% em massa de Mg, 0,001% em massa de Zn, e 0,03% em massa de Ti e, como o restante, alumínio e impurezas inevitáveis, um tratamento do metal fundido e filtração foram realizados, e um lingote tendo uma espessura de 500 mm e uma largura de 1200 mm foi preparado de acordo com uma método de fundição DC. A superfície foi raspada utilizando um esmeril de superfície com uma espessura média de 10 mm e aquecida a 550°C e o estado mantido por aproximadamente 5 horas. Depois que a temperatura foi diminuída para 400°C, uma chapa laminada com uma espessura de 2,7 mm foi obtida utilizando um laminador a quente. Além disso, um tratamento térmico foi realizado na mesma a 500°C utilizando uma máquina
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 179/252
171/224 de recozimento contínuo, e uma laminação a frio foi realizada de modo que a espessura da chapa laminada fosse finalizada em 0,24 mm, obtendo-se, assim, uma chapa de alumínio formada de material JIS 1050. O tratamento da superfície a seguir foi realizado após a largura desta chapa de alumínio ter sido ajustada para 1030 mm.
[Tratamento de superfície] [0641] O tratamento de superfície foi realizado ao executar continuamente os seguintes tratamentos de (b) a (j).
[0642] Além disso, o corte líquido foi realizado utilizando um rolo de compressão após cada tratamento e lavagem com água.
b) Tratamento de ataque alcalino [0643] A chapa de alumínio obtida da maneira descrita acima foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 2,6% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa a uma temperatura de 70°C, de modo que 6 g/m2 da chapa de alumínio foi dissolvida. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(c) Tratamento de ataque ácido [0644] Um tratamento de ataque ácido foi realizado por meio da pulverização de uma solução ácida aquosa (contendo 0,5% por massa de íons alumínio) com uma concentração de ácido nítrico de 1% em massa a uma temperatura de 30°C. Em seguida, a lavagem com água foi realizada utilizando um pulverizador. Como solução aquosa de ácido nítrico utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se um líquido residual empregado para a etapa de realização do tratamento eletroquímico de formação de rugosidade que aplica a corrente AC em uma solução aquosa de ácido nítrico.
(d) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 180/252
172/224 [0645] Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado continuamente utilizando-se uma voltagem AC de 60 Hz. Como uma solução eletrolítica, utilizou-se, neste momento, uma solução aquosa contendo
10,5 g/L de ácido nítrico (contendo 5 g/L de íons alumínio e 0,007% em massa de íons amônio) a uma temperatura de líquido de 50°C. A forma de onda da fonte de energia AC é uma forma de onda ilustrada na Fig. 3. Além disso, usando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo um tempo tp, até que o valor atual atingisse um pico a partir de zero, de 0,8 mseg e a razão de trabalho de 1:1 como a forma de onda da fonte de energia AC, o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se um eletrodo de carbono como um contra-eletrodo. Como um anodo auxiliar, utilizou-se a ferrita. Uma célula eletrolítica ilustrada na Fig. 5 foi utilizada como a célula eletrolítica. A densidade de corrente foi de 30 A/dm2em termos do valor da corrente máxima, e a quantidade elétrica foi de 220 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da chapa de alumínio. Ainda, 5% da corrente da fonte de energia fluiu separadamente para o anodo auxiliar. Em seguida, a lavagem com água foi realizada com um pulverizador.
Tratamento de ataque alcalino [0646] A chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa a uma temperatura de 32°C, de modo que 0,25 g/m2 da chapa de alumínio fosse dissolvida. Além disso, um componente de fuligem contendo principalmente hidróxido de alumínio gerado no momento do tratamento eletroquímico de formação de rugosidade que aplica a corrente AC no estágio anterior, foi removido, uma porção de borda de uma cavidade gerada
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 181/252
173/224 foi dissolvida para suavizar a porção de borda. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(f) Tratamento de ataque ácido [0647] Um tratamento de ataque ácido foi realizado por meio da pulverização de uma solução ácida aquosa (contendo 4,5% por massa de íons alumínio) com uma concentração de ácido sulfúrico de 15% em massa a uma temperatura de 30°C. Em seguida, a lavagem com água foi realizada utilizando um pulverizador. Como solução aquosa de ácido nítrico utilizada para o tratamento de ataque ácido, utilizou-se um líquido residual empregado para a etapa de realização do tratamento eletroquímico de formação de rugosidade que aplica a corrente AC em uma solução aquosa de ácido nítrico.
(g) Tratamento eletroquímico de formação de rugosidade [0648] Um tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado continuamente utilizando-se uma voltagem AC de 60 Hz. Como uma solução eletrolítica, utilizou-se, neste momento, uma solução aquosa contendo
2,5 g/L de ácido clorídrico (contendo 5 g/L de íons alumínio) a uma temperatura de líquido de 35°C. A forma de onda da fonte de energia AC é uma forma de onda ilustrada na Fig. 3. Além disso, usando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo um tempo tp, até que o valor atual atingisse um pico a partir de zero, de 0,8 mseg e a razão de trabalho de 1:1 como a forma de onda da fonte de energia AC, o tratamento eletroquímico de formação de rugosidade foi realizado utilizando-se um eletrodo de carbono como um contra-eletrodo. Como um anodo auxiliar, utilizou-se a ferrita. Uma célula eletrolítica ilustrada na Fig. 5 foi utilizada como a célula eletrolítica. A densidade de corrente foi de 25 A/dm2 em termos do valor da corrente máxima, e a quantidade elétrica foi de 50 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da chapa de alumínio. Em seguida, a lavagem com água foi realizada com um pulverizador.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 182/252
174/224 (h) Tratamento de ataque alcalino [0649] A chapa de alumínio foi submetida a um tratamento de decapagem por meio da pulverização de uma solução aquosa, na qual a concentração de soda cáustica foi de 26% em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5% em massa a uma temperatura de 32°C, de modo que 0,1 g/m2 da chapa de alumínio fosse dissolvida. Além disso, um componente de fuligem contendo principalmente hidróxido de alumínio gerado no momento do tratamento eletroquímico de formação de rugosidade que aplica a corrente AC no estágio anterior, foi removido, uma porção de borda de uma cavidade gerada foi dissolvida para suavizar a porção de borda. Em seguida, realizou-se a lavagem com água por pulverização.
(i) Tratamento de ataque ácido [0650] Um tratamento de ataque ácido foi realizado por pulverização de uma solução ácida aquosa (contendo 0,5% por massa de íons alumínio) contendo uma concentração de ácido sulfúrico de 25% em massa a uma temperatura de 60°C. Em seguida, a lavagem com água foi realizada utilizando um pulverizador.
(j) Tratamento de anodização [0651] Um tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização apresentando uma estrutura ilustrada na Fig. 5, obtendo-se, assim, um suporte 20. Como solução eletrolítica fornecida à primeira e segunda porções de eletrólise, utilizou-se o ácido sulfúrico. A solução eletrolítica tinha uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L (contendo 0,5% por massa de íons alumínio) e a sua temperatura foi de 38°C. Em seguida, a lavagem com água foi realizada utilizando um pulverizador. A quantidade de revestimento de óxido final foi de 2,7 g/m2.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 183/252
175/224 [0652] Os suportes 11 e 20 são suportes utilizados após 10 dias do tratamento de anodização realizado sobre os suportes obtidos.
[Tabela 7]
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 184/252 [Tabela 7]
Sup orte Tem po decor rido de supor te Tratamento de formação de rugosidade Primeiro tratamento de anodização Tratamento de alargamento de poros Segundo tratamento de anodização
Granula ção por escova Ataque alcalino (g/m2) Eletróli se com ácido nítrico (C/dm 2) Ataqu e alcalin 0 (g/m2) Eletróli se com ácido clorídri co (C/dm2) Ataq ue alcali no (g/m2 ) Concent ração de ácido sulfúrico da solução eletrolíti ca (g/L) Concent ração de ácido fosfóric o da solução eletrolíti ca (g/L) Temper atura (°C) Densi dade de corren te (A/dm 2) Quanti dade de revesti mento (g/m2) Temper atura (°C) Temp 0 (segu ndo) Concent ração de ácido sulfúrico da solução eletrolíti ca (g/L) Concent ração de ácido fosfóric o da solução eletrolíti ca (g/L) Temper atura (°C) Densi dade de corren te (A/dm 2) Quanti dade de revesti mento (g/m2)
Sup orte 1 10 dias - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1,5 - - - - - - -
Sup orte 2 10 dias Disponí vel 10 185 0,5 63 0,1 170 - 55 90 0,3 - - 170 - 54 15 2,4
Sup orte 3 1 dia - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1,5 - - - - - - -
Sup orte 4 3 dias - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1,5 - - - - - - -
Sup orte 5 1 hora - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1,5 - - - - - - -
Sup orte 6 7 dias - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1.5 - - - - - - -
176/224
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 185/252
Sup orte 7 1 mês - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1,5 - - - - - - -
Sup orte 8 1 ano - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1,5 - - - - - - -
Sup orte 9 1,5 anos - 3 - - 480 0,05 - 220 38 15 1,5 - - - - - - -
Sup orte 10 10 dias - - - - 130 - 155 - 45 22 4 - - - - - - -
Sup orte 11 10 dias - 5 - - 450 0,2 170 - 50 30 2,4 28 3 - - - - -
Sup orte 12 10 dias - 5 - - 450 0,2 170 - 50 30 2,4 40 3 - - - - -
Sup orte 13 10 dias - 5 - - 450 0,2 170 - 15 60 2,4 40 15 - - - - -
Sup orte 14 10 dias - 5 - - 450 0,2 170 - 50 30 0,3 40 3 170 - 50 13 2,1
Sup orte 15 10 dias Disponí vel 10 185 3. 5 63 0,2 170 - 50 30 2,4 40 3 - - - - -
Sup orte 16 10 dias - 5 - - 450 0,2 - 150 35 4,5 1 - - 170 - 50 13 2,1
Sup orte 17 10 dias - 5 - - 450 0,2 - 150 35 4,5 1 40 4 170 - 50 13 2,1
Sup orte 18 10 dias - 5 - - 450 0,2 - 150 35 4,5 1 - - - 150 35 4,5 1,2
177/224
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 186/252
Sup orte 19 10 dias - 5 - - 450 0,2 - 150 35 4, 5 1 40 8 - 150 35 4,5 2,1
Sup orte 20 10 dias - 6 220 0,25 50 0,1 170 - 38 30 2,7 - - - - - - -
Suporte Terceiro tratamento de anodização Diâm etro médi o dos poro s (nm)
Concent ração de ácido sulfúrico da solução eletrolíti ca (g/L) Concent ração de ácido fosfóric o da solução eletrolíti ca (g/L) Temper atura (°C) Densi dade de corren te (A/dm 2) Quanti dade de revesti mento (g/m2)
Suporte 1 - - - - 30
Suporte 2 170 54 50 0. 3 12
Suporte 3 30
Suporte 4 30
Suporte 5 30
Suporte 6 30
Suporte 7 30
Suporte 8 30
Suporte 9 30
Suporte 10 - - - - - 7
Suporte 11 - - - - - 13
Suporte 12 - - - - - 30
Suporte 13 - - - - - 100
178/224
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 187/252
Suporte 14 - - - - - 30
Suporte 15 - - - - - 30
Suporte 16 - - - - - 40
Suporte 17 - - - - - 100
Suporte 18 - - - - - 40
Suporte 19 - - - - - 148
Suporte 20 - - - - - 7
179/224
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 188/252
180/224 <Formação da camada de base (Exemplos 1 a 107)>
[0653] A outra superfície do suporte foi revestida com uma solução de revestimento de camada de base (1) que possui a seguinte composição de modo que a quantidade de revestimento de secagem fosse fixada a 20 mg/m2, formando, assim, uma camada de base.
[Solução de revestimento de camada de base (1)]
- Composto (UC-1) para camada de base (a estrutura seguinte): 0,18 partes
- Ácido hidroxietilimino diacético: 0,05 partes
- Tensoativo (EMALEX 710, fabricado pela Nihon Emulsion Co., Ltd.):
0,03 partes
- Água: 28,0 partes
Figure BR112019009297A2_D0017
Figure BR112019009297A2_D0018
Figure BR112019009297A2_D0019
o
O-P-OH
OH
Figure BR112019009297A2_D0020
PM 210.000
Composto (UC-1) para camada de base <Formação da camada de base (Exemplo 108 e Exemplos Comparativos 7 a 12)>
[0654] No Exemplo 108 e Exemplos Comparativos 7 a 12, cada camada de base foi formada da mesma maneira como no caso em que se utiliza a seguinte solução de revestimento de camada de base (1) exceto pelo fato de que a seguinte solução de revestimento de camada de base (2) foi utilizada.
[Solução de revestimento de camada de base (2)]
- Composto (2) para camada de base com a estrutura mostrada abaixo:
0,18 partes
- Etilenodiaminotetracetato de tetrassódio: 0,10 partes
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 189/252
181/224
- Éter laurílico de polioxietileno: 0,03 partes
- Água: 61,39 partes
Figure BR112019009297A2_D0021
Composto (UC-1) para camada de base PM 100.000 [0655] Os valores numéricos no lado inferior direito dos parênteses de cada unidade constituinte no composto (2) para uma camada de base indicam as razões de massa e os valores numéricos no lado inferior direito dos parênteses de cada unidade de etilenoxi indicam números de repetição.
<Formação da camada de gravação de imagem 1>
[0656] A camada de base do suporte, no qual a camada de base foi formada, foi revestida por barra aplicadora com uma solução de revestimento da camada de gravação de imagem (2) tendo a seguinte composição e seca em uma estufa a 70°C por 60 segundos, formando, assim, uma camada de gravação de imagem tendo uma quantidade de revestimento de secagem de 0,6 g/m2.
[Solução de revestimento da camada de gravação de imagem (2)]
- Líquido de dispersão aquosa de partículas poliméricas termoplásticas (mostrado abaixo): 20,0 partes
- Agente absorvente de infravermelho (2) (a estrutura seguinte): 0,2 partes
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 190/252
182/224
- Iniciador de polimerização (IRGACURE 250, fabricado pela BASF
SE): 0,4 partes
- Iniciador de polimerização (2) (a estrutura seguinte): 0,15 partes
- Composto polimerizável SR-399 (fabricado pela Sartomer Japan Inc.):
1,50 partes
- Mercapto-3-triazol: 0,2 partes
- Byk336 (fabricado pela BYK Chemie GmbH): 0,4 partes
- Klucel M (fabricado pela Hercules, Inc.): 4,8 partes
- ELVACITE 4026 (fabricado pela Ineos Acrilicoics Ltd.): 2,5 partes
- Tensoativo aniônico 1 (a estrutura seguinte): 0,15 partes
- n-propanol: 55.0 partes
- 2-Butanona: 17,0 partes [0657] Os compostos descritos com os nomes comerciais na composição acima são os seguintes.
- IRGACURE 250: (4-metilfenil) [4-(2-metilpropil) fenil] iodônio = hexafluorofosfato (75% em massa dw solução de carbonato de propileno)
- SR-399: pentacrilato de dipentaeritritol
- Byk336: copolímero de dimetilpolissiloxano modificado (25% em massa de solução de xileno/metoxi propil acetato)
- Klucel M: hidroxipropilcelulose (2% em massa dw solução aquosa)
- ELVACITE 4026: polimetilmetacrilato altamente ramificado (10% em massa de solução de 2-butanona)
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 191/252
183/224
Figure BR112019009297A2_D0022
Agente absorvente de infravermelho (2)
Figure BR112019009297A2_D0023
[0658] Além disso, Ph representa um grupo fenila.
Figure BR112019009297A2_D0024
[0659] [Preparação do líquido de dispersão aquosa de partículas poliméricas termoplásticas] [0660] Introduziu-se nitrogênio gasoso em um balão de quatro bocas equipado com um agitador, um termômetro, um funil de gotejamento, um tubo de introdução de nitrogênio e um condensador de refluxo, efetuou-se a desoxigenação, 10 partes de polietilenoglicol metil éter metacrilato (PEGMA,
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 192/252
184/224 número médio de unidades de repetição de etilenoglicol: 20), 200 partes de água destilada e 200 partes de n-propanol foram adicionadas e a mistura foi então aquecida até a sua temperatura interna ter sido ajustada para 70°C. Em seguida, adicionou-se, por gotejamento, durante 1 hora uma mistura de 10 partes de estireno (St), 80 partes de acrilonitrila (AN) e 0,8 partes de 2,2'azobisisobutironitrila preparada antecipadamente. Depois da adição por gotejamento ter terminado, a reação foi deixada continuar por 5 horas, foram adicionadas 0,4 partes de 2,2'-azobisisobutironitrila e a mistura foi aquecida até a sua temperatura interna ter sido ajustada para 80°C. Subsequentemente, adicionou-se 0,5 g de 2,2'-azobisisobutironitrila por 6 horas. O grau total de polimerização no estágio da reação continuada por 20 horas foi de 98% ou mais, e obteve-se um líquido de dispersão aquosa de partículas poliméricas termoplásticas tendo PEGMA, St e AN em uma razão de massa de 10/10/80. A distribuição do tamanho de partícula da partícula polimérica termoplástica tem um valor máximo em 150 nm do diâmetro médio de partícula volumétrico.
[0661] Neste documento, a distribuição do tamanho de partícula foi adquirida por imagens provenientes de uma micrografia eletrônica de partículas, medindo o número total de 5.000 diâmetros de partículas das partículas na fotografia, dividindo a faixa do valor máximo do valor medido obtido do diâmetro da partícula até 0 na escala logarítmica de 50, e construir o gráfico da frequência de aparecimento de cada diâmetro de partícula. Além disso, o diâmetro de partícula de uma partícula esférica com a mesma área de partícula que a área de partícula na fotografia foi ajustada pelo diâmetro da partícula, como partículas não esféricas.
<Formação da camada de gravação de imagem 2>
[0662] O suporte ou a camada de base, em um caso em que o suporte tinha uma camada de base, foi revestido com barra aplicadora com uma solução
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 193/252
185/224 de revestimento da camada de gravação (1) com a seguinte composição e seco em um forno a 100°C per 60 segundos, formando, assim, uma camada de gravação de imagem com uma quantidade de revestimento de secagem de 1,0 g/m2.
[0663] A solução de revestimento da camada de gravação de imagem (1) foi obtida misturando-se uma solução fotossensível (1) e uma solução de microgel (1) descrita abaixo imediatamente antes do revestimento e depois agitando a solução.
[Solução de revestimento da camada de gravação de imagem (1)]
- Solução fotossensível (1) -
- Polímero ligante (1) (a estrutura seguinte, PM: 55.000 e n (número de unidades de repetição de óxido de etileno (EO)): 2): 0,240 partes
- Agente absorvente de infravermelho (1) (a estrutura seguinte): 0,020 partes
- Composto borato (1) (tetrafenil borato de sódio): 0,010 partes
- Iniciador de polimerização (1) (a estrutura seguinte): 0,162 partes
- Composto polimerizável (tris (acriloiloxietil) isocianurato, NK ESTER A-9300, fabricado pela Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 0,192 partes
- Tensoativo aniônico 1 (a estrutura seguinte): 0,050 g
- Tensoativo à base de flúor (1) (a estrutura seguinte): 0,008 partes
- 2-Butanona: 1,091 partes
- 1-Metoxi-2-propanol: 8,609 g (Solução de microgel (1))
- Microgel (1): 2,640 partes
- Água destilada: 2,425 partes [0664]
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 194/252
186/224
Figure BR112019009297A2_D0025
Polímero
Figure BR112019009297A2_D0026
Porção do polímero mostrada acima
Chá CHsch
4-ch3-c 4 (ch264 4-ch2-c4 ' | '50 V I V | '10
COOMe COOCOO (C2H4O} Me CH^CHCHs.....O ~CO-~C-CH>
n 1I
OHCH
Polímero ligante (1)
Figure BR112019009297A2_D0027
Agente absorvente de infravermelho (1)
Figure BR112019009297A2_D0028
Iniciador de polimerização (1)
-4~CHjC m + : '30 * *· j -nj
COOCjH^CçF 53 Ç '”<OC?H4)U’-'(OCJHe)2í-'{OC3Hjí)t<--OH (ÍM3.000)
Tensoativo à base de flúor (1)
- Preparação de microgel (1) [0665] Um método de preparação de um microgel (1) utilizado para a solução de microgel será descrito abaixo.
«Preparação do composto de isocianato polivalente (1)»
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 195/252
187/224 [0666] 0,043 partes de tris (2-etilhexanoato) de bismuto (NEOSTANN LI600 (fabricado por NITTO KASEI CO., LTD.)) foram adicionadas a uma solução em suspensão de acetato de etila (25,31 partes) de 17,78 partes (80 partes por mmol) de diisocianato de isoforona e 7,35 partes (20 partes em mmol) do seguinte composto fenólico poliídrico (1) e a solução foi agitada. A temperatura da reação foi ajustada para 50°C no momento da geração de calor sendo diminuída e a solução foi agitada por 3 horas, obtendo-se, assim, uma solução de acetato de etila (50% em massa) de um composto de isocianato polivalente (1)·
Figure BR112019009297A2_D0029
<Preparação do microgel (1)>
[0667] Os seguintes componentes da fase oleosa e os componentes da fase aquosa foram misturados entre si e emulsionados a 12.000 rpm durante 10 minutos utilizando um homogeneizador. A emulsão obtida foi agitada a 45°C durante 4 horas, 5,20 partes de uma solução aquosa a 10% em massa de 1,8diazabiciclo[5.4.0] undeca-7-eno-octilato (U-CAT SA102, fabricado pela SanApro Ltd.) e a solução foi agitada à temperatura ambiente por 30 minutos e
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 196/252
188/224 deixada em repouso a 45°C por 24 horas. A concentração dos teores sólidos foi ajustada para 20% em massa usando água destilada, obtendo-se, assim, um líquido de dispersão aquosa do microgel (1). O diâmetro médio de partícula volumétrico foi medido utilizando-se um dispositivo de medição de distribuição granulométrica do tipo LB-500 (fabricado pela Horiba Ltd.) de acordo com um método de dispersão da luz, e o valor foi de 0,28 pm.
(Componentes da fase oleosa) (Componente 1) acetato de etila: 12,0 partes (Componente 2) aduto (50% em massa de solução de acetato de etila, fabricada por Mitsui Chemicals, Inc.) obtido pela adição de trimetilolpropano (6 mol) e diisocianato de xileno (18 mol) e adição de metil polioxietileno de um terminal (1 mol, número de unidades de repetição de oxietileno: 90) aos mesmos: 3,76 partes (Componente 3) composto de isocianato polivalente (1) (na forma de 50% em massa de solução de acetato de etila): 15,0 partes (Componente 4) 65% em massa de solução de pentacrilato de dipentaeritritol (SR-399, fabricado pela Sartomer Japan Inc.) em acetato de etila: 11,54 partes (Componente 5) solução a 10% de tensoativo do tipo sulfonato (PIONINE A41-C, fabricado pela TAKEMOTO OIL & FAT Co., Ltd.) em acetato de etila: 4,42 partes (Componentes da fase aquosa)
- Água destilada: 46,87 g <Formação da camada de gravação de imagem 3>
[0668] Uma solução de revestimento à base de água para uma camada de gravação de imagem contendo componentes, tais como as partículas de resina termoplástica e o agente absorvente de infravermelho mostrado abaixo, foi preparada e o seu pH foi ajustado para 3,6, o suporte foi revestido com a solução de revestimento e seco a 50°C por 1 minuto, formando, assim, uma camada de gravação de imagem 3.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 197/252
189/224 [0669] Um polímero de partículas termoplásticas SAN, um agente absorvente de infravermelho IR-01, outros componentes PAA e o tensoativo usado na solução de revestimento para uma camada de gravação de imagem são os seguintes.
[0670] Partícula de resina termoplástica SAN: copolímero de estireno/acrilonitrila (razão molar de 50/50), diâmetro médio de partícula: 61 nm, quantidade de revestimento: 0,6927 (g/m2) [0671] Outros componentes PAA: ácido poliacrílico, peso molecular médio ponderado: 250000, quantidade de revestimento: 0,09 (g/m2) [0672] Tensoativo: Zonyl FS0100 (fabricado pela Du Pent), quantidade de revestimento: 0,0075 (g/m2) [0673] Agente absorvente de infravermelho IR-01: agente absorvente de infravermelho com a estrutura seguinte (Et representa um grupo etila), quantidade de revestimento: 1,03 χ 10’4 (mol/m2)
Figure BR112019009297A2_D0030
<Formação da camada de gravação de imagem 4>
[0674] A camada de base foi revestida por barra aplicadora com uma solução de revestimento da camada de gravação (3) com a seguinte composição e seca em uma estufa a 100°C por 60 segundos, formando, assim, uma camada de gravação de imagem com uma quantidade de revestimento de secagem de 1,0 g/m2.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 198/252
190/224 [0675] A solução de revestimento da camada de gravação de imagem (3) foi obtida misturando-se uma solução fotossensível (3) e uma solução de microgel (3) descrita abaixo imediatamente antes do revestimento e, em seguida, agitando a solução.
[Solução fotossensível (3)]
- Polímero ligante (1) [a estrutura seguinte, PM: 50000, n: número de unidades de óxido de etileno (EO): 4]: 0,480 partes
- Agente absorvente de infravermelho (1) [a estrutura seguinte]: 0,030 partes
- Composto de borato [tetrafenil borato de sódio]: 0,014 partes
- Iniciador de polimerização (1) [a estrutura seguinte]: 0,234 partes
- Composto polimerizável via radical [tris (acriloiloxietil) isocianurato NK ESTER A-9300, fabricado por Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.]: 0,192 partes
- Composto hidrofílico de baixo peso molecular (3) [tris (2-hidroxietil) isocianurato]: 0,052 partes
- Tensoativo aniônico 1 [a estrutura seguinte]: 0,099 g
- Composto fosfônico sensibilizante a óleo (3) [a estrutura seguinte]:
0,12 partes
- Polímero contendo grupo amônio sensibilizante a óleo [a estrutura a seguir, viscosidade específica reduzida de 44 ml_/g]: 0,035 partes
- Sal de PF6 benzil dimetil octil amônio sensibilizante a óleo: 0,032 partes
- Corante violeta de etila [a estrutura seguinte]: 0,030 partes
- Tensoativo à base de flúor (1) [a estrutura seguinte]: 0,02 partes
- 2-Butanona: 1,091 partes
- 1-Metoxi-2-propanol: 8,609 g
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 199/252
191/224 [Solução de microgel (3)]
- Microgel (3): 1,580 partes
- Água destilada: 1,455 partes
-Síntese do microgel (3) [0676] 10 partes de urn aduto (TAKENATE D-110N, fabricado por Mitsui Chemicals poliUretanos, Inc.) de trimetilolpropano e xileno diisocianato, 5,54 partes de pentacrilato de dipentaeritritol (SR399, fabricado por Sartomer Japan Inc.) e 0,1 partes de PIONINE A-41C (fabricado por TAKEMOTO OIL & FAT Co., Ltd.), como componentes da fase oleosa, foram dissolvidos em 17 partes de acetato de etila. Como componente da fase aquosa, foram preparadas 40 partes de uma solução aquosa a 4% em massa de PVA-205. Os componentes da fase oleosa e os componentes da fase aquosa foram misturados entre si e emulsionados a 12.000 rpm per 10 minutos utilizando urn homogeneizador. Foram adicionadas 25 partes de água destilada à emulsão obtida, e o produto resultante foi agitado à temperatura ambiente (25°C, a mesma se aplica daqui em diante) por 30 minutos e agitado a 50°C por 3 horas. A solução de microgel obtida desta maneira foi diluída com água destilada de tal modo que a concentração de teor sólido fosse ajustada para 15% em massa, preparando-se, assim, um microgel (3). O diâmetro médio das partículas do microgel medido por um método de dispersão da luz foi de 0,2 pm.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 200/252
192/224
Figure BR112019009297A2_D0031
Composto fosfônico (3)
Figure BR112019009297A2_D0032
ΟΉ·: OH::
Violeta de etila [0677] Os índices dos parênteses que indicam cada unidade constituinte do polímero contendo o grupo amônio descrito acima especificam o teor (razão molar) de cada unidade constituinte.
<Formação de camada protetora (Exemplos 1 a 107)>
[0678] A camada de gravação de imagem foi revestida por barra aplicadora com uma solução de revestimento de camada protetora (1) com a seguinte composição e seca em um forno a 120°C por 60 segundos para formar uma camada protetora tendo uma quantidade de revestimento de secagem de 0,15 g/m2.
[Solução de revestimento de camada protetora (1)]
- Líquido de dispersão do composto inorgânico em camadas (1) (mostrado abaixo): 1,5 partes
- Polímero hidrofílico (1) (a estrutura seguinte, PM: 30000) (teor sólido):
0,03 partes
- 6% em massa de solução aquosa de álcool polivinílico (CKS50, modificado por ácido sulfônico, grau de saponificação de 99% por mol
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 201/252
193/224 ou maior, grau de polimerização de 300, fabricado pela Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.): 0,10 partes
- 6% em massa de solução aquosa de álcool polivinílico (PVA-405, grau de saponificação de 81,5% per mol, grau de polimerização de 500, fabricado por KURARAY CO., LTD.): 0,03 partes
- 1% em massa de solução aquosa de tensoativo (EMALEX 710, a estrutura seguinte, fabricada pela Nihon Emulsion Co., Ltd.): 0,86 partes
- Água de troca de iônica: 6,0 partes
Figure BR112019009297A2_D0033
Polímero hidrofilico (1)
C; 7¾ :( OC H C H-j h 0—'0 H
EMALEX 710 [0679] Os índices dos parênteses que indicam cada unidade constituinte do polímero hidrofilico (1) especificam o teor (razão molar) de cada unidade constituinte. Além disso, os valores numéricos no lado inferior direito dos parênteses da EMALEX 710 indicam os números de repetição.
[Preparação do líquido de dispersão do composto inorgânico em camadas (1)] [0680] 6,4 partes de mica sintética SOMASIF ME-100 (fabricado por COOP CHEMICAL CO., LTD.) foram adicionadas a 193,6 g de água de troca iônica e dispersas de modo que o volume do diâmetro médio de partículas (método de difração a laser) fosse ajustado para 3 pm usando um homogeneizador. A razão de aspecto das partículas dispersas obtidas foi de 100 ou mais.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 202/252
194/224 <Formação da camada protetora (Exemplo 108 e Exemplos Comparativos 7 a
12)>
[0681] A camada de gravação de imagem foi revestida por barra aplicadora com uma solução de revestimento de camada protetora (3) com a seguinte composição e seca em um forno a 120°C por 60 segundos para formar uma camada protetora tendo uma quantidade de revestimento de secagem de 0,15 g/m2, preparando-se, assim, um precursor de chapa para impressão litográfica.
[Solução de revestimento de camada protetora (3)]
- Líquido de dispersão de composto inorgânico (3) (obtido abaixo): 1,5 partes
- Polímero hidrofílico (3) (teor de sólidos) [a estrutura seguinte, PM: 30000]: 0,55 partes
- 6% em massa de solução aquosa de álcool polivinílico (CKS50, modificado por ácido sulfônico, grau de saponificação de 99% por mol ou mais, grau de polimerização de 300, fabricado pela Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.): 0,10 partes
- 6% em massa de solução aquosa de álcool polivinílico (PVA-405, grau de saponificação de 81,5% por mol, grau de polimerização de 500, fabricado por KURARAY CO., LTD.): 0,03 partes
- 80% em massa de solução aquosa de tensoativo (RAPISOL A-80 (nome fantasia), fabricado pela NOF Corporation): 0,011 partes
- Água de troca de iônica: 6,0 partes
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 203/252
195/224
Figure BR112019009297A2_D0034
Polímero hidrofílico (3)
Figure BR112019009297A2_D0035
[0682] Os índices dos parênteses que indicam cada unidade constituinte do polímero hidrofílico (3) especificam o teor (razão molar) de cada unidade constituinte.
(Exemplo 1 a 18 e Exemplos Comparativos 1 a 6) <Formação da camada de resina (camada de revestimento traseiro)>
[0683] A superfície do suporte listado na Tabela 8 em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem fornecida foi revestida por barra aplicadora com uma solução de revestimento (1) para uma camada de revestimento traseiro com a seguinte composição, e seca em um forno a 120°C por 60 segundos para formar uma camada de resina (camada de revestimento traseiro) de modo que a espessura da película após a secagem fosse fixada em 1 pm.
[Solução de revestimento (1) para camada de revestimento traseiro]
- PMMA (SUMIPEX (marca registrada) HT, fabricado pela Sumitomo
Chemical Co., Ltd.): 5,0 partes em massa
- Metiletilcetona (MEK): 94,9 partes em massa
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 204/252
196/224
- Tensoativo à base de flúor (MEGAFACE F-780-F, fabricado por DIC Corporation, 30% em massa de solução de MEK): 0,1 parte em massa
- Partículas listadas na Tabela 8: quantidade para obter a densidade listada na Tabela 8 [0684] Na Tabela 8, a notação de “sem adição” nas colunas de partículas indica que a adição de partículas não foi realizada.
<Formação da camada de base, camada de gravação de imagem e camada protetora>
[0685] A camada de base, a camada de gravação de imagem e a camada protetora listadas na Tabela 8 foram formadas no suporte no qual a camada de revestimento traseiro foi formada. O método de formação é tal como descrito acima.
[0686] Na Tabela 8, a notação de “nenhum” indica que a camada correspondente não foi formada. O mesmo se aplica às tabelas mostradas abaixo.
[Avaliação] [0687] As seguintes avaliações foram realizadas nos precursores de chapa para impressão litográfica obtidos. Os resultados da avaliação estão listados coletivamente na Tabela 8.
<Resistência ao atraso da revelação na prensa (Exemplos 1 a 107)>
[0688] A superfície do precursor de chapa para impressão litográfica, onde a camada de gravação de imagem foi fornecida, foi diretamente colocada em contato com a superfície oposta e este processo foi repetido até que 50 folhas fossem laminadas, e o laminado foi ligado por pressão a uma pressão de 25 kgf/cm2 (2,45 x 106 Pa) por 8 dias. Os precursores de chapa para impressão litográfica em que a operação descrita acima foi realizada, foram definidos pelo Trendsetter 3244 (fabricado pela Creo Co., Ltd.) e depois expostos à imagem
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 205/252
197/224 sob condições de resolução de 2400 dpi (ponto por polegada, 1 polegada é 2,54 cm), uma saída de 7 W, uma velocidade de rotação do tambor de superfície externo de 150 rpm, e uma energia de superfície da chapa de 110 mJ/cm2. Os precursores da chapa para impressão litográfica foram montados após exposição à imagem sobre uma prensa de impressão offset rotativa (fabricado por TOKYO KIKAI SEISAKUSHO, LTD.), e a impressão foi realizada em papel de jornal, a uma velocidade de 100.000 folhas/hora com SOIBI KKST-S (vermelho) (fabricado pela InkTec Corporation) como tinta de impressão para jornais e ECO SEVEN N-1 (fabricado pela SAKATA INX CORPORATION) como água de umedecimento. A revelação na prensa realizada na porção não-exposta da camada de gravação de imagem na prensa de impressão foi concluída, e o número de folhas de papel de impressão necessárias até que a tinta não fosse transferida para a área sem imagem foi contado como o número de folhas de revelação na prensa e a pontuação foi feita com base no padrão seguinte. Os resultados da avaliação estão listados nas colunas de “atraso de revelação na prensa” na Tabela 8.
5: o número de folhas de revelação na prensa dos precursores de chapa para impressão litográfica nas quais a operação de colagem por pressão não foi executada + número de 3 folhas de revelação na prensa ou menos
4: o número de folhas de revelação na prensa dos precursores de chapa para impressão litográfica nas quais a operação de colagem por pressão não foi executada + número superior a 3 e 5 ou menos de folhas de revelação na prensa 3: o número de folhas de revelação na prensa dos precursores de chapa para impressão litográfica nas quais a operação de colagem por pressão não foi executada + número superior a 5 e 10 ou menos de folhas de revelação na prensa
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 206/252
198/224
2: o número de folhas de revelação na prensa dos precursores de chapa para impressão litográfica nas quais a operação de colagem por pressão não foi executada + número superior a 10 e 15 ou menos de folhas de revelação na prensa
1: o número de folhas de revelação na prensa dos precursores de chapa para impressão litográfica nas quais a operação de colagem por pressão não foi executada + número superior a 15 e 30 ou menos de folhas de revelação na prensa <Resistência ao atraso da revelação (Exemplo 108 e Exemplos Comparativos 7 a 12)>
[0689] No Exemplo 108 e nos Exemplos Comparativos 7 a 12, foi avaliada a resistência ao atraso da revelação em um caso em que a revelação foi realizada de acordo com o sistema de tratamento com revelador.
[0690] A superfície do precursor de chapa para impressão litográfica, onde a camada de gravação de imagem foi fornecida, foi diretamente colocada em contato com a superfície oposta e este processo foi repetido até que 50 folhas fossem laminadas, e o laminado foi ligado por pressão a uma pressão de 25 kgf/cm2 (2,45 x 106 Pa) por 8 dias. Os precursores de chapa para impressão litográfica em que a operação descrita acima foi realizada, foram definidos por Luxei PLATESETTER T-6000III (fabricado pela Fujifilm Corporation) equipado com um laser semicondutor de infravermelho e depois exposta sob condições de uma saída de laser de 70%, uma velocidade de rotação do tambor de superfície externo 1000 rpm (a cada vez) e uma resolução de 2400 dpi (ponto por polegada). Uma imagem sólida e um gráfico de ponto de meio-tom de 50% foram incluídos na imagem exposta.
[0691] Em seguida, o tratamento de revelação foi realizado utilizando o revelador 1 com a seguinte composição e o dispositivo de tratamento de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 207/252
199/224 revelação automática tendo uma estrutura ilustrada na Fig. 7, obtendo-se, assim, uma chapa para impressão litográfica.
[0692] O dispositivo de tratamento de revelação exemplificado na Fig. 7 é um dispositivo de tratamento de revelação automática incluindo dois rolos de escova rotativa 111. Um rolo de escova que apresenta um diâmetro externo de 55 mm, onde as fibras de tereftalato de polibutileno (diâmetro de cerdas: 200 pm, comprimento de cerdas: 7 mm) foram implantadas, foi usada como o rolo de escova rotativa 111, e o rolo foi deixado em rotação 120 vezes (a velocidade periférica da ponta da escova: 0,94 m/s) por minuto na mesma direção da direção de transporte.
[0693] Um precursor de chapa para impressão litográfica 130, após a exposição completa, foi transportado na direção de transporte ilustrada na figura entre dois pares de rolos de transporte 113 de um suporte de alimentação da chapa 118 para um suporte de descarga de chapas 119 a uma velocidade de transporte de 60 cm/min em uma chapa guia de transporte 114, de tal modo que o precursor de chapa para impressão litográfica 130 foi deixada passar através de um espaço entre o rolo de escova rotativa 111 e a chapa guia de transporte 114.
[0694] Em três tubulações de pulverização 115, o revelador armazenado em um tanque de revelação 120 foi alimentado por uma bomba de circulação 121 através de um filtro 117 utilizando uma linha de tubulação 116 e o revelador foi fornecido à superfície da chapa de cada tubulação de pulverização 115 por meio de aspersão. Além disso, o volume do tanque de revelação 120 foi de 20 litros e o revelador foi reciclado. A chapa para impressão litográfica descarregada do dispositivo de tratamento de revelação foi seca por um secador 122 sem ser lavada com água. Depois que a revelação foi concluída, a pontuação foi feita
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 208/252
200/224 com base no padrão seguinte. Os resultados da avaliação estão listados nas colunas de “atraso da revelação” na Tabela 9.
[Método de avaliação] [0695] Cada chapa para impressão litográfica com um tamanho de 5 cm x 5 cm após revelação foi observada usando uma lupa com ampliação de 25, e o número de películas residuais foi contado.
[Padrão de avaliação]
5: O número de películas residuais foi 0.
4: O número de películas residuais foi de 1 ou 2.
3: O número de películas residuais estava na faixa de 3 a 10.
2: O número de películas residuais estava na faixa de 11 a 50.
1: O número de películas residuais foi 50 ou maior.
[Revelador 1]
- Tensoativo-1 mostrado abaixo (PELEX NBL, fabricado pela Kao Corporation): 7,43 partes
- Tensoativo-2 mostrado abaixo (NEWCOL B13, fabricado pela Nippon Nyukazai Co., Ltd.): 1,45 partes
- Tensoativo-3 mostrado abaixo (SURFYNOL 2502, fabricado pela Air
Products and Chemicals, Inc.): 0,4 partes
- Álcool benzílico: 0,6 partes
- Gluconato de sódio: 2,77 partes
- Mono-hidrogenofosfato dissódico: 0,3 partes
- Hidrogenocarbonato de sódio: 0,22 partes
- Agente antiespumante (SILCOLAPSE 432, fabricado pela Bluestar
Silicones): 0,005 partes
- Água: 86,83 partes
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 209/252
201/224
Figure BR112019009297A2_D0036
Figure BR112019009297A2_D0037
Tensoativo-2
O(CH2CH2)13OH
Tensoativo-1
Figure BR112019009297A2_D0038
<Propriedade de alimentação da chapa do montador (propriedade de alimentação da chapa)>
[0696] Um laminado obtido pelo empilhamento de 100 folhas de precursores de chapa para impressão litográficas direcionadas para a mesma direção sem o uso de papel intercalado foi colocado em uma chapa do montador CTP “AMZI setter” (fabricada pela NEC Engineering, Ltd.) e uma operação de retirar uma chapa de uma vez a partir da parte superior do laminado foi realizada 100 vezes de forma contínua. A transmissão da propriedade de separação de chapas neste momento foi avaliada com base no seguinte padrão. A avaliação foi feita através da avaliação sensorial com uma pontuação de 1 a 5, e os resultados da avaliação estão listados nas colunas da propriedade de alimentação da chapa na Tabela 8. Um valor de 2 ou maior está em um nível prático e um valor de 3 ou maior é preferível.
5: A frequência de ocorrência de um fenômeno no qual a chapa seguinte não foi levantada no momento da elevação de uma chapa foi de100%.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 210/252
202/224
4: Um fenômeno, no qual a chapa seguinte foi levantada no momento da elevação de uma chapa e não caiu rapidamente, mas foi desprendida/retirada sem a operação de separação da chapa, ocorreu. No entanto, a frequência de ocorrência foi de 1 % ou menos em relação a todas as operações.
3: Um fenômeno, no qual a chapa seguinte foi levantada no momento da elevação de uma chapa e não foi desprendida/retirada pela primeira operação de separação da chapa, ocorreu. No entanto, a frequência de ocorrência foi de 1 % ou menos em relação a todas as operações.
2: A frequência de ocorrência de um fenômeno no qual a chapa seguinte foi levantada no momento da elevação de uma chapa e não foi desprendida/retirada pela primeira operação de separação da chapa foi superior a 1 % e 5% ou menos em relação a todas as operações.
1: A frequência de ocorrência de um fenômeno no qual a chapa seguinte foi levantada no momento da elevação de uma chapa e não foi desprendida/retirada pela primeira operação de separação da chapa foi superior a 5% com relação a todas as operações.
<Medição da altura média aritmética Sa>
[0697] A altura média aritmética Sa foi medida em conformidade com o método descrito na norma ISO 25178. Em outras palavras, três ou mais locais foram selecionados da mesma amostra e medidos usando um micromap MM3200-M100 (fabricado pela Mitsubishi Chemical Systems, Inc.), e o valor médio dos valores obtidos foi definido como a altura média aritmética Sa. Uma faixa de medição com um tamanho de 1 cm x 1 cm foi selecionada aleatoriamente a partir da superfície da amostra e a medição foi realizada.
<Medição da lisura por Bekk (segundo Bekk)>
[0698] A lisura por Bekk foi medida em conformidade com JIS P8119 (1998). A medição foi realizada em um décimo da quantidade de ar padrão, em
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 211/252
203/224 outras palavras, uma quantidade de ar de 1 mL usando um testador de lisura por Bekk (fabricado pela KUMAGAI RI Kl KOGYO Co., Ltd.). Em um caso em que a lisura por Bekk foi curta, isto indica que a propriedade de liberação de ar das superfícies de contato dos precursores de chapa para impressão litográfica, verticalmente adjacentes entre si, foi excelente no momento da formação de um laminado por laminação dos precursores de chapa para impressão litográfica e foi improvável que os precursores de chapas para impressão litográfica fossem colados uns aos outros.
[Tabela 8]
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Suport e Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Partícula Diâmetr o de partícul a Densidad e Sa Lisur a por Bekk Camad a de base Camad a de gravaçã o de imagem Camad a protetor a Atraso da revel açã o na prensa Proprieda de de alimentaçã o da chapa
[pm] [pcs/m2] [pm l [s]
Exemplo 1 MP-2200 0,3 500 0,3 1000 2 Present e 2 Present e 5 2
2 GR-300 transparen te 25 8000 20 4 2 Present e 2 Present e 2 5
3 MP-1451 0,1 5000 0,4 750 2 Present e 2 Present e 5 3
4 MP-2200 0,3 5000 0,6 500 2 Present e 2 Present e 5 4
5 MX-40T 0,5 5000 0,8 300 2 Present e 2 Present e 5 5
6 MX-300 3,2 5000 3.3 60 2 Present e 2 Present e 5 5
7 MX-500H 5,3 5000 5,4 40 2 Present e 2 Present e 5 5
8 MR-7GC 6,5 5000 6,6 30 2 Present e 2 Present e 5 5
0 MBX-8 7,4 5000 7 25 2 Present e 2 Present e 5 5
1 0 MX-1000 10 5000 10 15 2 Present e 2 Present e 4 5
1 1 MX-2000 20 5000 20 5 2 Present e 2 Present e 3 5
1 2 MX-300 3,2 400 0,3 2 900 2 Present e 2 Present e 5 2
1 3 MX-300 3,2 500 0,4 750 2 Present e 2 Present e 5 3
1 4 MX-300 3,2 1000 0,7 5 350 2 Present e 2 Present e 5 4
1 5 MX-300 3,2 50000 10, 5 15 2 Present e 2 Present e 5 5
1 6 MX-300 3,2 100000 12 8 2 Present e 2 Present e 4 5
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 212/252
204/224
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Suport e Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Partícula Diâmetr o de partícul a Densidad e Sa Lisur a por Bekk Camad a de base Camad a de gravaçã o de imagem Camad a protetor a Atraso da revel açã o na prensa Proprieda de de alimentaçã o da chapa
[pm] [pcs/m2] [pm ] [s]
1 7 MX-300 3,2 500.000 18 5 2 Present e 2 Present e 3 5
1 8 MX-300 3,2 600000 20 4 2 Present e 2 Present e 2 5
1 MX-40T 0,5 100 0,2 3 1080 2 Present e 2 Present e 5 1
2 Micromer 01-00-251 0,025 40000 0,2 1 1180 2 Present e 2 Present e 5 1
Exemplo Comparati VO 3 MBX-8 7,4 600000 25 2 2 Present e 2 Present e 1 5
4 MX-3000 30 10000 40 1 2 Present e 2 Present e 1 5
5 Sem adição 0,2 1200 1 Ausent e 1 Ausent e 5 1
6 Sem adição 0,2 1200 2 Present e 2 Present e 5 1
[0699] Os detalhes das abreviaturas na Tabela 8 são os seguintes.
- MP-2200: partículas acrílicas não-reticuladas, diâmetro médio de partícula de 0,3 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- GR-300 transparente: esferas acrílicas reticuladas, diâmetro médio de partícula de 25 pm, fabricadas por Negami Chemical Industrial Co., Ltd.
- MP-1451: partículas acrílicas não-reticuladas, diâmetro médio de partícula de 0,1 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- MX-40T: partículas acrílicas reticuladas monodispersas, diâmetro médio de partícula de 0,5 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- MX-300: partículas acrílicas reticuladas monodispersas, diâmetro médio de partícula de 3,2 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- MX-500H: partículas acrílicas reticuladas monodispersas, diâmetro médio de partícula de 5,3 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 213/252
205/224
- MR-7GC: partículas acrílicas reticuladas polidispersas, diâmetro médio de partícula de 6,5 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- MBX-8: polimetacrilato de metila reticulado, diâmetro médio de partícula de 7,4 pm, fabricado por Sekisui Plastics Co., Ltd.
- MX-1000: partículas acrílicas reticuladas monodispersas, diâmetro médio de partícula de 10 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- MX-2000: partículas acrílicas reticuladas monodispersas, diâmetro médio de partícula de 20 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- Micrometre 01-00-251: micrômetro (marca registrada) 01-00-251, poliestireno, diâmetro médio de partícula de 25 nm, fabricado pela Corefront Corporation
- MX-3000: partículas acrílicas reticuladas monodispersas, diâmetro médio de partícula de 30 pm, fabricadas por Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
[0700] Com base nos resultados dos Exemplos 1 a 18 e Exemplos Comparativos 1 a 6, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, em que a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação na prensa e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado.
(Exemplos 19 a 36 e 99 a 108 e Exemplo Comparativo 7 a 12)
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 214/252
206/224 [0701] A formação de camadas de resina (camadas de revestimento traseiro) e a formação e avaliação das camadas de base, camadas de gravação de imagem e camadas protetoras foram realizadas da mesma maneira que nos Exemplos 1 a 18.
[0702] Os detalhes das camadas formadas e os resultados da avaliação estão listados na Tabela 9.
[Tabela 9]
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Suport e Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Partícula Diâmetr o de partícul a Densidad e Sa Lisur a por Bekk Camad a de base Camad a de gravaçã o de imagem Camad a protetor a Atraso da revelaçã o na prensa Propriedad e de alimentaçã o da chapa
[pm] [pcs/m2] [pm ] [s]
Exemplo 19 MP-2200 0,3 500 0,3 1000 1 Ausent e 1 Ausent e 5 2
20 GR-300 transparent e 25 8000 20 4 1 Ausent e 1 Ausent e 2 5
21 MP-1451 0,1 5000 0,4 750 1 Ausent e 1 Ausent e 5 3
22 MP-2200 0,3 5000 0,6 500 1 Ausent e 1 Ausent e 5 4
23 MX-40T 0,5 5000 0,8 300 1 Ausent e 1 Ausent e 5 5
24 MX-300 3,2 5000 3.3 60 1 Ausent e 1 Ausent e 5 5
25 MX-500H 5,3 5000 5,4 40 1 Ausent e 1 Ausent e 5 5
26 MR-7GC 6,5 5000 6,6 30 1 Ausent e 1 Ausent e 5 5
27 MBX-8 7,4 5000 7 25 1 Ausent e 1 Ausent e 5 5
28 MX-1000 10 5000 10 15 1 Ausent e 1 Ausent e 4 5
29 MX-2000 20 5000 20 5 1 Ausent e 1 Ausent e 3 5
30 MX-300 3,2 400 0,3 2 900 1 Ausent e 1 Ausent e 5 2
31 MX-300 3,2 500 0,4 750 1 Ausent e 1 Ausent e 5 3
32 MX-300 3,2 1000 0,7 5 350 1 Ausent e 1 Ausent e 5 4
33 MX-300 3,2 50000 10, 5 15 1 Ausent e 1 Ausent e 5 5
34 MX-300 3,2 100000 12 8 1 Ausent e 1 Ausent e 4 5
35 MX-300 3,2 500.000 18 5 1 Ausent e 1 Ausent e 3 5
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 215/252
207/224
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Suport e Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Partícula Diâmetr o de partícul a Densidad e Sa Lisur a por Bekk Camad a de base Camad a de gravaçã o de imagem Camad a protetor a Atraso da revelaçã o na prensa Propriedad e de alimentaçã o da chapa
[pm] [pcs/m2] [pm ] [s]
36 MX-300 3,2 600000 20 4 1 Ausent e 1 Ausent e 2 5
99 MX-300 3,2 5000 3.3 60 11 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 0 MX-300 3,2 5000 3.3 60 12 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 1 MX-300 3,2 5000 3.3 60 13 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 2 MX-300 3,2 5000 3.3 60 14 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 3 MX-300 3,2 5000 3.3 60 15 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 4 MX-300 3,2 5000 3.3 60 16 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 5 MX-300 3,2 5000 3.3 60 17 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 6 MX-300 3,2 5000 3.3 60 18 Ausent e 1 Ausent e 5 5
10 7 MX-300 3,2 5000 3.3 60 19 Ausent e 1 Ausent e 5 5
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Partícula Diâmetr o de partícul a Densidad e Sa Lisur a por Bekk Suport e Camad a de base Camad a de gravaçã o de imagem Camad a protetor Atraso da revelaçã Propriedad e de alimentaçã
[pm] [pcs/m2] [pm [s] a o na prensa o da chapa
Exemplo 108 MX-300 3,2 5000 3.3 60 20 Present e 4 Present e 5 5
Exemplo Comparativo 7 MX-40T 0,5 100 0,2 3 1080 20 Present e 4 Present e 5 1
Exemplo Comparativo 8 Micromer 01-00-251 0,025 40000 0,2 1 1180 20 Present e 4 Present e 5 1
Exemplo Comparativo 9 MBX-8 7,4 600000 25 2 20 Present e 4 Present e 2 5
Exemplo Comparativo 10 MX-3000 30 10000 40 1 20 Present e 4 Present e 1 5
Exemplo Comparativo 11 Sem adição 0,2 1200 20 Present e 4 Present e 5 1
Exemplo Comparativo 12 Sem adição 0,2 1200 20 Present e 4 Present e 5 1
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 216/252
208/224 [0703] Com base nos resultados dos Exemplos 19 a 36 e Exemplos 99107, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, em que a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação na prensa e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado.
[0704] Com base nos resultados do Exemplo 108 e dos Exemplos Comparativos 7 a 12, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, em que a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação na prensa e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, mesmo em um caso em que a revelação é realizada de acordo com o sistema de tratamento com revelador.
(Exemplos 37 a 54) [0705] A formação de camadas de resina (camadas de revestimento traseiro) e a formação e avaliação das camadas de base, camadas de gravação de imagem e camadas protetoras foram realizadas da mesma maneira que nos Exemplos 1 a 18.
[0706] Os detalhes das camadas formadas e os resultados da avaliação estão listados na Tabela 10.
[Tabela 10]
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 217/252
209/224
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Suport e Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Partícula Diâmetr o de Partícul a Densidad e Sa Lisur a por Bekk Camad a de base Camada de gravaçã o de imagem Camad a protetor a Atraso da revelaçã o na prensa Propriedad e de alimentaçã o da chapa
[pm] [pcs/m2] [pm l [s]
Exempl O 3 7 MP-2200 0,3 500 0,3 1000 10 Ausent e 3 Ausente 4 2
3 8 GR-300 transparent e 25 8000 20 4 10 Ausent e 3 Ausente 2 5
3 9 MP-1451 0,1 5000 0,4 750 10 Ausent e 3 Ausente 4 3
4 0 MP-2200 0,3 5000 0,6 500 10 Ausent e 3 Ausente 4 4
4 1 MX-40T 0,5 5000 0,8 300 10 Ausent e 3 Ausente 4 4
4 2 MX-300 3,2 5000 3.3 60 10 Ausent e 3 Ausente 4 4
4 3 MX-500H 5,3 5000 5,4 40 10 Ausent e 3 Ausente 5 5
4 4 MR-7GC 6,5 5000 6,6 30 10 Ausent e 3 Ausente 4 5
4 5 MBX-8 7,4 5000 7 25 10 Ausent e 3 Ausente 4 5
4 6 MX-1000 10 5000 10 15 10 Ausent e 3 Ausente 3 5
4 7 MX-2000 20 5000 20 5 10 Ausent e 3 Ausente 3 5
4 8 MX-300 3,2 400 0,3 2 900 10 Ausent e 3 Ausente 4 2
4 9 MX-300 3,2 500 0,4 750 10 Ausent e 3 Ausente 4 3
5 0 MX-300 3,2 1000 0,7 5 350 10 Ausent e 3 Ausente 4 3
5 1 MX-300 3,2 50000 10, 5 15 10 Ausent e 3 Ausente 4 4
5 2 MX-300 3,2 100000 12 8 10 Ausent e 3 Ausente 3 5
5 3 MX-300 3,2 500.000 18 5 10 Ausent e 3 Ausente 3 5
5 4 MX-300 3,2 600000 20 4 10 Ausent e 3 Ausente 2 5
[0707] Com base nos resultados dos Exemplos 37 a 54, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, em que a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem é provida se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação na prensa e uma
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 218/252
210/224 excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado.
(Exemplos 55 a 68) [0708] A formação das camadas de resina (camadas de revestimento traseiro) e a formação e avaliação das camadas de base, camadas de gravação de imagem e camadas protetoras foram realizadas da mesma maneira que nos Exemplos 1 a 18. Os detalhes das camadas formadas e os resultados da avaliação estão listados na Tabela 11.
[0709] Além disso, a espessura da película de cada camada de resina foi medida, a taxa de incorporação de partículas foi calculada de acordo com a seguinte equação e os resultados estão listados na Tabela 11.
[0710] Taxa de incorporação de partículas = (a espessura da película da camada de resina/o diâmetro médio de partícula contidas na camada de resina) [0711] A espessura da película da camada de resina foi obtida por meio do corte do precursor de chapa para impressão litográfica usando um micrótomo e da medição da seção transversal usando um microscópio eletrônico de varredura.
[0712] Além disso, a queda de partículas foi avaliada de acordo com o seguinte método de avaliação.
<Avaliação da queda de partículas>
[0713] Depois que a umidade dos precursores de chapa para impressão litográfica foi ajustada em um ambiente de 25°C a uma umidade relativa (UR) de 60% por 2 horas, cada precursor foi perfurado em um tamanho de 2,5 cm x 2,5 cm e conectado a um testador de força de resistência a riscos do tipo carga contínua TYPE-18 (fabricado pela SHINTO Scientific Co., Ltd.), a superfície traseira do precursor de chapa para impressão litográfica perfurada foi colocada em contato com a superfície do precursor de chapa para impressão litográfica
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 219/252
211/224 que não tinha sido perfurada, e vários locais do precursor de chapa para impressão litográfica foram riscados aplicando uma carga de 0 a 1500 gf (0 a 14,7 N). A superfície traseira riscada foi observada visualmente e por meio de um microscópio eletrônico de varredura (SEM) e a queda das partículas da camada de revestimento traseiro foi avaliada com base no seguinte padrão. A avaliação foi realizada por meio da avaliação sensorial com uma pontuação de 1 a 5, e um valor de 3 ou mais está em um nível praticamente preferível. Os resultados da avaliação estão listados na Tabela 11.
5: A queda de partículas não foi encontrada quando observada visualmente ou observada usando um SEM.
4: A queda de partículas não foi encontrada quando observada visualmente, mas pôde ser ligeiramente encontrada quando observada usando um SEM.
3: A queda de partículas não foi encontrada quando observada visualmente, mas pôde ser encontrada quando observada usando um MEV.
2: A queda de partículas foi parcialmente encontrada quando observada visualmente, mas pôde ser ligeiramente encontrada quando observada usando um MEV.
1: A queda de partículas pôde ser claramente encontrada quando simplesmente observada visualmente.
[Tabela 11]
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Supor te Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Partíc ula Diâme tro de partícu Ia Densida de Sa Espess ura da camada de resina Taxa de incorpora ção de partículas Cama da de base Cama da de gravaç ão de image m Cama da protet ora Atraso da revel aç ão na prensa Propried ade de alimenta ção da chapa Qued a de partíc ula
[pm] [pcs/m2] [μ m] [s]
Exem 5 5 MX- 300 3,2 5000 3,4 0,5 0,16 1 Ausen te 1 Ausen te 5 5 3
pio 5 6 MX- 300 3,2 5000 3,4 0,6 0,19 1 Ausen te 1 Ausen te 5 5 4
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 220/252
212/224
5 7 MX- 300 3,2 5000 3,3 1 0,31 1 Ausen te 1 Ausen te 5 5 5
5 8 MX- 300 3,2 5000 2,6 1,5 0,47 1 Ausen te 1 Ausen te 4 5 5
5 9 MX- 300 3,2 5000 2,5 1,6 0,50 1 Ausen te 1 Ausen te 4 5 5
6 0 MX- 300 3,2 5000 2,2 2 0,63 1 Ausen te 1 Ausen te 4 5 5
6 1 MX- 300 3,2 5000 1,5 2,5 0,78 1 Ausen te 1 Ausen te 3 5 5
6 2 MBX- 8 7,4 5000 7,1 0,5 0,07 1 Ausen te 1 Ausen te 5 5 2
6 3 MBX- 8 7,4 5000 7,1 0,6 0,08 1 Ausen te 1 Ausen te 5 5 3
6 4 MBX- 8 7,4 5000 7,0 1 0,14 1 Ausen te 1 Ausen te 5 5 3
6 5 MBX- 8 7,4 5000 7,0 1,5 0,20 1 Ausen te 1 Ausen te 5 5 5
6 6 MBX- 8 7,4 5000 6,5 1,6 0,22 1 Ausen te 1 Ausen te 4 5 5
6 7 MBX- 8 7,4 5000 5,5 2 0,27 1 Ausen te 1 Ausen te 4 5 5
6 8 MBX- 8 7,4 5000 4,5 2,5 0,34 1 Ausen te 1 Ausen te 2 5 5
[0714] Com base nos resultados dos Exemplos 55 a 68, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado e a queda de partículas é suprimida em um caso em que a taxa de incorporação de partículas encontra-se particularmente em uma faixa de 0,2 a 0,5.
(Exemplos 69 a 77) [0715] A formação das camadas de resina (camadas de revestimento traseiro) e a formação e avaliação das camadas de base, camadas de gravação de imagem e camadas protetoras foram realizadas da mesma maneira como nos Exemplos 1 a 18, exceto pelo fato de o PMMA usado para formar uma camada de resina (camada de revestimento traseiro) e contido, como um ligante, na solução de revestimento (1) para uma camada de revestimento traseiro, ter sido trocado pelo ligante listado na Tabela 12. Os detalhes das camadas formadas e os resultados da avaliação estão listados na Tabela 12.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 221/252
213/224 [0716] Além disso, os respectivos valores de SP do ligante e das partículas contidas na camada de resina foram calculados de acordo com o método descrito acima, e o valor absoluto da diferença (diferença no valor de SP) está listado na Tabela 12.
[0717] Além disso, a dureza (10% de dureza) das partículas foi medida de acordo com o método descrito acima, e os resultados da medição (dureza) estão listados na Tabela 12.
[0718] Além disso, a avaliação da dispersibilidade das partículas foi realizada de acordo com o seguinte método de avaliação.
<Dispersibilidade das partículas>
[0719] A área total de 4 mm2 da superfície de cada camada de resina (camada de revestimento traseiro) formada de acordo com o método descrito acima foi observada de forma aleatória usando uma SEM (x 400 vezes) e fotografada, e a determinação foi realizada com base no fato de as partículas estarem em contato ou não.
pontos: As partículas não estavam em contato umas com as outras.
pontos: No máximo duas partículas estavam em contato umas com as outras.
pontos: No máximo de 3 a 5 partículas estavam em contato umas com as outras, mas a frequência foi de 30% ou menos.
pontos: Houve um agregado formado do máximo de 5 ou menos partículas, e a frequência foi maior que 30%.
ponto: Houve um agregado formado pelo máximo de 6 ou mais partículas [Tabela 12]
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Supo rte Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Ligan te Partícu Ia Diâme tro de Densid ade Sa Difere nça no Dure za Cama da de Cama da Atraso da Propried ade de
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 222/252
214/224
partíc ula valor de SP Cama da de base grava ção de image m protet ora revela ção na prensa alimenta ção da chapa Dispersibili dade das partículas
[pm] [pcs/m2 ] [μ m] [s] [MPa ]
Exem pio 6 9 PMM A Acrílico 5,0 5000 5,1 0,4 23 1 Ause nte 1 Ausen te 5 5 5
7 0 PMM A Uretan 0 6,0 5000 5,6 1,3 8 1 Ause nte 1 Ausen te 5 5 4
7 1 PMM A Estiren 0 5,0 5000 4,8 0,8 15 1 Ause nte 1 Ausen te 5 5 4
7 2 PMM A Polietil eno 6,0 5000 5,5 2,3 1,5 1 Ause nte 1 Ausen te 5 5 4
7 3 Ureta no Uretan 0 5,0 5000 4,5 0,3 1 1 Ause nte 1 Ausen te 5 5 5
7 4 Estire no Estiren 0 5,0 5000 4,7 0,3 15 1 Ause nte 1 Ausen te 5 5 5
7 5 PVA Acrílico 5,0 5000 4,8 4 23 1 Ause nte 1 Ausen te 5 5 3
7 6 PMM A Silica 5,0 5000 4,9 13 80 1 Ause nte 1 Ausen te 4 5 2
7 7 PMM A WC 5,0 5000 5 - 100 ou mais 1 Ause nte 1 Ausen te 3 5 2
[0720] Com base nos resultados dos Exemplos 69 a 77, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado e a dispersibilidade das partículas é melhorada em um caso em que a diferença no parâmetro de solubilidade entre as partículas e o ligante é de 4 MPa1/2 ou menos.
[0721] Além disso, verificou-se que, particularmente, a resistência ao atraso da revelação na prensa é excelente em um caso em que a dureza das partículas é de 80 MPa ou menos.
[0722] As abreviaturas na Tabela 12, além das descritas acima, são as seguintes.
[Ligante]
- Uretano: OLESTER (marca registrada) RA1500, resina de poliuretano, fabricada pela Mitsui Chemicals, Inc.
- Estireno: ESPOLEX SB, elastômero à base de estireno, fabricado pela Sumitomo Chemical Co., Ltd.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 223/252
215/224
- PVA: solução aquosa a 5% de PVA 405, resina de álcool polivinilico, fabricada pela Kuraray Co., Ltd.
[Partículas]
- Acrílico: MX-500H, partículas acrílicas reticuladas monodispersas, fabricadas pela Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- Uretano: AK-800TR, contas de uretano, fabricadas pela Negami Chemical Industrial Co., Ltd.
- Estireno: SX-500H, partículas de estireno reticuladas monodispersas, fabricadas pela Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.
- Polietileno: CHEMIPEARL V300, dispersão aquosa de poliolefina, fabricada por Mitsui Chemicals, Inc.
- Silica: sicastar (marca registrada) 43-00-503, partículas de silica, fabricadas pela Corefront Corporation
- WC: carboneto de tungstênio, WC-50, fabricado pela Japan New Metals Co., Ltd.
( Exemplos 78 a 85) <Forma irregular>
[0723] Depois que uma solução de revestimento (1) para formar protrusões com a seguinte composição foi preparada, formaram-se protrusões, de acordo com os seguintes meio 1 ou meio 2, na superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem foi provida.
[0724] O método a ser usado entre o meio 1 e o meio 2 está listado na Tabela 13.
[Solução de revestimento (1) para formar protrusões]
- PMMA (SUMIPEX (marca registrada) HT, fabricado pela Sumitomo Chemical Co., Ltd.): 5,0 partes em massa
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 224/252
216/224
- Metiletilcetona (ΜΕΚ): 94,9 partes em massa
- Tensoativo à base de flúor (MEGAFACE F-780-F, fabricado pela DIC Corporation, 30% em massa de solução de MEK): 0,1 parte em massa [0725] Com base na formulação descrita acima, uma amostra predeterminada foi preparada ajustando-se a concentração de PMMA e a pressão de ar associadas de um pulverizador de dois fluidos.
[Meio 1] [0726] A superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagens foi provida, foi revestida com a solução de revestimento (1) para a formação de protrusões por meio de um pulverizador e um bocal do tipo Atomax AM6 (fabricado pela Atmax, Inc.), e a solução foi seca a 120°C por 90 segundos.
[0727] A quantidade de revestimento por pulverização foi ajustada de tal modo que a altura média e a densidade das protrusões foram ajustadas para os valores listados na Tabela 13.
[Meio 2] [0728] A superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado em que a camada de gravação de imagem foi provida, foi revestida com a solução de revestimento (1) para a formação de protrusões, tal que a espessura da película seca foi definida como 1 pm por meio de uma barra aplicadora (No. 10 bar (18,25 mL/m2)), e a solução foi seca a 120°C por 90 segundos. A película seca obtida pela secagem foi revestida com a solução de revestimento (1) para a formação de protrusões por meio de um pulverizador e um bocal do tipo Atomax AM6 (fabricado por um Tmáx, Inc.), e a solução foi seca a 120°C por 90 segundos.
<Formação de camadas de base, camadas de gravação de imagem e camadas protetoras>
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 225/252
217/224 [0729] A formação de camadas de resina (camadas de revestimento traseiro) e a formação e avaliação das camadas de base, camadas de gravação de imagem e camadas protetoras foram realizadas da mesma maneira que nos Exemplos 1 a 18.
[0730] Os detalhes das camadas formadas e os resultados da avaliação estão listados na Tabela 13.
[T abela 13]
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Suport e Lado onde a camada de gravação de imagem é provida Resultados da avaliação
Meios para formar irregularidad es Altura média das protrusõe s Densidad e Sa Lisur a por Bekk Camad a de base Camad a de gravaçã o de imagem Camad a protetor a Atraso da revel açã o na prensa Propriedad e de alimentaçã o da chapa
[pm] [pcs/m2] [pm ] [s]
Exempl O 7 8 1 1 4000 0,4 600 1 Ausent e 1 Ausent e 5 2
7 9 1 1 100000 0,7 400 1 Ausent e 1 Ausent e 5 3
8 0 1 5 3000 2,9 75 1 Ausent e 1 Ausent e 5 4
8 1 1 10 5000 6 35 1 Ausent e 1 Ausent e 4 5
8 2 1 10 500 0,5 500 1 Ausent e 1 Ausent e 4 3
8 3 1 20 4000 15 7 1 Ausent e 1 Ausent e 3 5
8 4 1 25 5000 22 4 1 Ausent e 1 Ausent e 2 5
8 5 2 5 3000 2,9 75 1 Ausent e 1 Ausent e 5 4
[0731] Com base nos resultados dos Exemplos 78-85, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado, mesmo em um caso de um aspecto em que a superfície traseira apresenta protrusões.
[0732] Além disso, entendeu-se que particularmente a resistência ao atraso da revelação na prensa é excelente em um caso em que a altura média das protrusões se encontra em uma faixa de 0,5 pm a 20 pm.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 226/252
218/224 (Exemplos 86 a 91) cCamada de resina (formação da camada de revestimento traseiro)>
[0733] As camadas de resina foram formadas de acordo com o mesmo método dos Exemplos 1 a 18.
<Formação da camada de gravação de imagem>
[0734] As camadas de gravação de imagem foram formadas de acordo com o mesmo modo que nos Exemplos 1 a 18, exceto pelo fato de as partículas terem sido adicionadas também à solução de revestimento da camada de gravação de imagem (2) na formação da camada de gravação de imagem 1. Os detalhes das partículas adicionada estão listados na Tabela 14.
[0735] Em seguida, a lisura por Bekk da superfície traseira e a lisura por Bekk da superfície frontal foram medidas, e os resultados da medição encontram-se listados na Tabela 14. Além disso, o atraso da revelação na prensa e a propriedade de alimentação da chapa foram avaliados de acordo com o mesmo método dos Exemplos 1 a 18, e os resultados da avaliação estão listados na Tabela 14. A descrição de “1/a + 1/b” na Tabela 14 indica o valor obtido por “1/a + 1/b” em um caso onde a lisura por Bekk da superfície dianteira é ajustada como a segundos e a lisura por Bekk da superfície traseira é ajustada como b segundos.
Tabela 14]
Lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida Suporte
Partícul a Diâmetr o de Partícul a Densidad e Sa Lisura por Bekk (b)
[pm] [pcs/m2] [pm] [s]
Exempl 0 8 6 MP2200 0,3 500 0,3 1000 1
8 7 MP2200 0,3 500 0,3 1000 1
8 8 MP2200 0,3 500 0,3 1000 1
8 9 MP2200 0,3 500 0,3 1000 1
9 0 MP2200 0,3 500 0,3 1000 1
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 227/252
219/224
9 1 MP2200 0,3 500 0,3 1000 1
Lado onde a camada de gravação de imagem é provida 1/a + 1/b Resultados da avaliação
Camad a de base Camada de gravaçã o de imagem Camada protetora Partícul a Diâmetr o de Partícul a Densidad e Sa Lisur a por Bekk (a) Atraso da revelaçã o na prensa Propriedad e de alimentaçã o da chapa
[pm] [pcs/m2] [pm I [s] [1/s]
Exempl 0 8 6 Ausente 1 Ausente Ausente Ausente Ausente 0,2 1200 0,001 8 5 2
8 7 Ausente 1 Ausente MX-40T 0,5 1000 0,3 1000 0,002 0 2 5
8 8 Ausente 1 Ausente MX30H3wT 0,8 1000 0,5 600 0,002 7 5 3
8 9 Ausente 1 Ausente MX30H3wT 0,8 5000 0,8 300 0,004 3 5 4
9 0 Ausente 1 Ausente ART PEARL J-5P 3,2 1000 1,9 110 0,010 1 5 5
9 1 Ausente 1 Ausente ART PEARL J-6P 6,3 1000 2,9 68 0,015 7 5 5
[0736] Com base nos resultados dos Exemplos 86 a 91, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado em um caso em que ambas as expressões de a < 1,000 e 1/a + 1/b > 0,002 são satisfeitas.
(Exemplos 92 a 98) [0737] A formação das camadas de resina (camadas de revestimento traseiro) e a formação e avaliação das camadas de base, camadas de gravação de imagem e camadas protetoras foram realizadas da mesma maneira que no Exemplo 25, exceto pelo fato de o suporte listado na Tabela 15 ter sido usado como suporte. Além disso, a resistência a riscos foi avaliada da seguinte forma.
[0738] Nos Exemplos 92 a 98, a altura média aritmética Sa e a lisura por Bekk da superfície da camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida, são as mesmas que a altura média aritmética Sa e a lisura por Bekk do Exemplo 25 <Avaliação da resistência a riscos>
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 228/252
220/224 [0739] Depois que a umidade dos precursores de chapa para impressão litográfica foi ajustada em um ambiente de 25°C a uma umidade relativa (UR) de 60% por 2 horas, um precursor foi perfurado em um tamanho de 2,5 cm x 2,5 cm e fixado um testador de força de resistência a riscos do tipo carga contínua TYPE-18 (fabricado pela SHINTO Scientific Co., Ltd.), a superfície traseira do precursor de chapa para impressão litográfica que foi perfurada, foi colocada em contato com a superfície do precursor de chapa para impressão litográfica que não foi perfurada, e vários locais do precursor de chapa para impressão litográfica foram riscados aplicando-se a pressão listada na Tabela 15. O precursor de chapa para impressão litográfica riscado foi definido pelo Trendsetter 3244 (fabricado pela Creo Co., Ltd.) e, então, exposto à imagem sob condições de resolução de 2400 dpi, uma saída de 7 W, uma velocidade de rotação do tambor de superfície externo de 150 rpm, e uma energia de superfície da chapa de 110 mJ/cm2. Os precursores de chapa para impressão litográfica foram montados após a exposição à imagem sobre uma prensa de impressão offset rotativa (fabricado por TOKYO KIKAI SEISAKUSHO, LTD.), e a impressão foi realizada em papel de jornal, a uma velocidade de 100.000 folhas/hora com SOIBI KKST-S (vermelho) (fabricado pela InkTec Corporation) como tinta de impressão para jornais e ECO SEVEN N-1 (fabricado pela SAKATA INX CORPORATION) como água de umedecimento. No processo de impressão descrito acima, o milésimo material impresso foi amostrado, e o grau de riscos e manchas causados pelos riscos foi observado visualmente.
[0740] A avaliação foi realizada através da avaliação sensorial com uma pontuação de 1 a 5, em que um valor de 3 ou maior está em um nível praticamente preferível.
5: Riscos e manchas não foram encontrados.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 229/252
221/224
4: Embora os riscos e a mancha não tenham sido confirmados pelo reconhecimento visual, riscos e manchas que puderam ser confirmados com uma lupa de 6 amplificações foram encontrados em um local.
3: Embora os riscos e a mancha não tenham sido confirmados pelo reconhecimento visual, riscos e manchas que puderam ser confirmados com uma lupa de 6 amplificações foram encontrados em vários locais.
2: Riscos e manchas que puderam ser confirmados por reconhecimento visual foram encontrados em vários locais.
[T abela 15]
Suporte Pressão Resultados da avaliação
Atraso da revelação na prensa Propriedade de alimentação da chapa Resistência à riscos
[kgf/m2]
Exemplo 92 5 15 5 5 3
93 3 15 5 5 4
94 4 15 5 5 4
95 6 15 5 5 5
96 7 15 4 5 5
97 8 15 3 5 5
98 9 15 2 5 5
[0741 ] Além disso, a unidade da pressão listada na Tabela 15 é kgf/m2 e kgf/m2 é 9,80665 Pa.
[0742] Com base nos resultados dos Exemplos 92 a 97, entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem uma excelente resistência ao atraso da revelação na prensa e uma excelente propriedade de alimentação da chapa de retirar um precursor a partir de um laminado em um caso onde é usado um suporte após 1 hora a 1 ano do tratamento de anodização.
[0743] Entendeu-se que cada um dos precursores de chapa para impressão litográfica, de acordo com a presente descrição, tem uma excelente resistência a riscos em um caso em que é utilizado um suporte após 1 dia a 1 ano do tratamento de anodização.
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 230/252
222/224 [0744] A divulgação do documento JP2017-072052, depositado em 31 de março de 2017, está incorporada no presente relatório descritivo por referência.
[0745] Todos os documentos, pedidos de patentes e padrões técnicos descritos no presente relatório descritivo estão incorporados aqui por referência da mesma forma como em um caso em que cada documento, pedido de patente e padrão técnico tivesse sido específica e individualmente incorporado por referência.
Explicação das referências
1,18: chapa de alumínio
2, 4: escovas cilíndricas : polimento líquido da pasta
5, 6, 7, 8: rolo de suporte
10: precursor de chapa para impressão litográfica
12a, 12b: suporte de alumínio
14: camada de base
16: camada de gravação de imagem
20a, 20b: película anodizada
22a, 22b: microporo
24: poro de grande diâmetro
26: poro de pequeno diâmetro
50: célula eletrolítica principal
51: fonte de energia AC
52: cilindro de tambor radial
53a, 53b: polo principal
54: porta de alimentação de solução eletrolítica
55: solução eletrolítica
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 231/252
223/224
56: anodo auxiliar
60: célula anódica auxiliar
111: rolo de escova rotativa
113: rolo de transporte
114: chapa guia de transporte
115: tubulação de pulverização
116: linha de tubulação
117: filtro
118: suporte de alimentação da chapa
119: suporte de descarga de chapas
120: tanque de revelação
122:secador
130: precursor de chapa para impressão litográfica
410: dispositivo de tratamento de anodização
412: tanque de alimentação de energia
414: tanque de tratamento eletrolítico
416: chapa de alumínio
418, 426: solução eletrolítica
420: eletrodo de alimentação de energia
422, 428: rolo
424: rolo de compressão
430: eletrodo eletrolítico
432: parede da célula
434: fonte de energia DC ta: tempo de reação anódica tc: tempo de reação catódica tp: tempo até que o valor atual atinja o pico de zero
Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 232/252
224/224
Ia: corrente máxima no lado do ciclo anódico
Ic: corrente máxima no lado do ciclo catódico
W: chapa de alumínio

Claims (22)

  1. REIVINDICAÇÕES
    1. Precursor de chapa para impressão litográfica CARACTERIZADO por compreender:
    um suporte de alumínio hidrofilizado; e uma camada de gravação de imagem negativa solúvel em água ou dispersível em água no suporte de alumínio, em que uma altura média aritmética Sa de uma superfície de uma camada mais externa em um lado oposto a um lado onde a camada de gravação de imagem é provida, se encontra em uma faixa de 0,3 pm a 20 pm, a camada de gravação de imagem contém um composto polimérico com um formato particulado e o composto polimérico tendo um formato particulado tem uma cadeia principal hidrofóbica e ambas de (I) unidade constituinte contendo um grupo ciano pendente diretamente ligado à cadeia principal hidrofóbica e (li) unidade constituinte contendo um grupo pendente com um segmento de óxido de polialquileno hidrofílico.
  2. 2. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada de gravação de imagem contém um agente absorvente de infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto polimerizável e um composto polimérico tendo um formato particulado.
  3. 3. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, CARACTERIZADO pelo fato de que uma lisura por Bekk da superfície da camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida é de 1000 segundos ou menos.
  4. 4. Precursor da chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, CARACTERIZADO pelo fato de que uma
    Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 246/252
    2/5 camada de resina que contém pelo menos um tipo de partículas tendo um diâmetro médio de partícula de 0,5 pm a 20 pm é fornecida como a camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
  5. 5. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 4, CARACTERIZADO pelo fato de que a espessura da película da camada de resina se encontra em uma faixa de 0,6 pm a 2 pm.
  6. 6. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 5, CARACTERIZADO por satisfazer a expressão (A).
    0,2 < (a espessura da película da camada de resina/o diâmetro médio de partícula das partículas contidas na camada de resina) < 0,5 Expressão (A)
  7. 7. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 6, CARACTERIZADO pelo fato de que a densidade das partículas se encontra na faixa de 500 pcs/m2 a 500.000 pcs/m2.
  8. 8. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 7, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada de resina contém um ligante, e uma diferença no parâmetro de solubilidade entre as partículas e o ligante é de 4 MPa1/2 ou menor.
  9. 9. Precursor de chapa para impressão litográfica de acordo com a reivindicação 8, CARACTERIZADO pelo fato de que as partículas e o ligante contêm, cada um, pelo menos um selecionado do grupo constituído por poliuretano, uma resina acrílica, poliestireno e polietileno.
  10. 10. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 9, CARACTERIZADO pelo fato de que uma dureza de 10% das partículas é de 80 MPa ou menos.
    Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 247/252
    3/5
  11. 11. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, CARACTERIZADO pelo fato de que uma pluralidade de protrusões é proporcionada na superfície da camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
  12. 12. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, CARACTERIZADO pelo fato de que uma camada de resina é proporcionada como a camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida, e uma pluralidade de protrusões contendo um composto polimérico é proporcionada na camada de resina.
  13. 13. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 11 ou 12, CARACTERIZADO pelo fato de que uma altura média das protrusões se encontra em uma faixa de 0,5 pm a 20 pm.
  14. 14. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 11 a 13, CARACTERIZADO pelo fato de que uma densidade das protrusões se encontra em uma faixa de 500 pcs/m2 a 500.000 pcs/m2.
  15. 15. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, CARACTERIZADO pelo fato de que uma altura média aritmética Sa de uma superfície de uma camada mais externa no lado onde a camada de gravação de imagem é provida é menor que a altura média aritmética Sa da superfície da camada mais externa no lado oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida.
  16. 16. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 15, CARACTERIZADO pelo fato de que o suporte de alumínio inclui uma chapa de alumínio e uma película anodizada de alumínio disposta na chapa de alumínio,
    Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 248/252
    4/5 a película anodizada é posicionada mais perto da camada de gravação de imagem do que da chapa de alumínio, a película anodizada tem microporos que se estendem em uma direção de profundidade a partir da superfície do lado da camada de gravação de imagem, e o diâmetro médio dos microporos na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 7 nm a 150 nm.
  17. 17. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 16, CARACTERIZADO pelo fato de que o diâmetro médio dos microporos na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 10 nm a 100 nm.
  18. 18. Precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 16 ou 17, CARACTERIZADO pelo fato de que os microporos são formados por poros de grande diâmetro que se estendem até uma posição a uma profundidade de 10 nm a 1000 nm da superfície da película anodizada e poros de pequeno diâmetro que se comunicam com uma parte inferior dos poros de grande diâmetro e se estendem até uma posição a uma profundidade de 20 nm a 2000 nm de uma posição de comunicação, o diâmetro médio dos poros de grande diâmetro na superfície da película anodizada se encontra em uma faixa de 15 nm a 150 nm, e o diâmetro médio dos poros de pequeno diâmetro na posição de comunicação é de 13 nm ou menos.
  19. 19. Laminado precursor de chapa para impressão litográfica CARACTERIZADO pelo fato de que é obtido pela laminação de uma pluralidade dos precursores de chapa para impressão litográfica definidos em qualquer uma das reivindicações 1 a 18, em que uma camada mais externa no lado onde a camada de gravação de imagem é provida e a camada mais externa no lado
    Petição 870190042989, de 07/05/2019, pág. 249/252
    5/5 oposto ao lado onde a camada de gravação de imagem é provida são laminadas ao entrarem diretamente em contato umas com as outras.
  20. 20. Método para a produção do precursor de chapa para impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 18, CARACTERIZADO por compreender:
    uma etapa de formação da camada de gravação de imagem no suporte de alumínio após um ou mais dias de um tratamento de anodização realizado no mesmo.
  21. 21. Método de impressão litográfica CARACTERIZADO por compreender:
    uma etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 18;
    uma etapa de fornecer pelo menos qualquer tinta de impressão ou água de umedecimento e remover uma porção não exposta de uma camada de gravação de imagem em uma prensa de impressão para preparar uma chapa para impressão litográfica; e uma etapa de realizar a impressão usando a chapa para impressão litográfica obtida.
  22. 22. Método de impressão litográfica CARACTERIZADO por compreender:
    uma etapa de expor o precursor de chapa para impressão litográfica à imagem definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 18;
    uma etapa de revelação que fornece um revelador com um pH de 2 a 14 e remoção de uma porção não exposta; e uma etapa de realizar a impressão usando a chapa para impressão litográfica obtida.
BR112019009297A 2017-03-31 2018-03-27 precursor de chapa para impressão litográfica, método de produção do mesmo, laminado de precursor de chapa para impressão litográfica e método de impressão litográfica BR112019009297A2 (pt)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017072052 2017-03-31
PCT/JP2018/012606 WO2018181406A1 (ja) 2017-03-31 2018-03-27 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版原版積層体、並びに、平版印刷方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BR112019009297A2 true BR112019009297A2 (pt) 2019-07-30

Family

ID=63677597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR112019009297A BR112019009297A2 (pt) 2017-03-31 2018-03-27 precursor de chapa para impressão litográfica, método de produção do mesmo, laminado de precursor de chapa para impressão litográfica e método de impressão litográfica

Country Status (6)

Country Link
US (3) US10696083B2 (pt)
EP (3) EP3511172B1 (pt)
JP (3) JP6454057B1 (pt)
CN (3) CN111361324B (pt)
BR (1) BR112019009297A2 (pt)
WO (1) WO2018181406A1 (pt)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108919605B (zh) * 2018-07-27 2021-12-21 京东方科技集团股份有限公司 光阻组合物、像素界定层、其制备方法及应用
WO2020262685A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3991990A4 (en) * 2019-06-28 2022-08-17 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE OF ON-PRESS DEVELOPMENT TYPE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING
EP3991983A4 (en) * 2019-06-28 2022-08-10 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE OF ON-PRESS DEVELOPMENT TYPE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING
EP3991988A4 (en) * 2019-06-28 2022-09-14 FUJIFILM Corporation LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRODUCTION METHOD AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
CN114072290B (zh) * 2019-06-28 2024-04-30 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
EP3991984A4 (en) * 2019-06-28 2022-08-17 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING
WO2020262690A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7408675B2 (ja) * 2019-09-30 2024-01-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP4039488A4 (en) 2019-09-30 2023-03-29 FUJIFILM Corporation PLANTOGRAPH MASTER PLATE, PROCESS FOR MAKING A PLANTOGRAPH PLATE AND PLANTOGRAPH PRINTING PROCESS
JP7500617B2 (ja) * 2019-12-27 2024-06-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法および印刷方法
CN114845875A (zh) * 2019-12-27 2022-08-02 富士胶片株式会社 平版印刷方法
JPWO2021153517A1 (pt) * 2020-01-28 2021-08-05
WO2021241693A1 (ja) 2020-05-29 2021-12-02 富士フイルム株式会社 積層体
CN115697719A (zh) 2020-05-29 2023-02-03 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
JPWO2021241518A1 (pt) 2020-05-29 2021-12-02
JP7430788B2 (ja) 2020-05-29 2024-02-13 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
CN115697717A (zh) 2020-05-29 2023-02-03 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
EP4159441A4 (en) 2020-05-29 2023-10-18 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE FOR MACHINE DEVELOPMENT TYPE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
JP7378613B2 (ja) 2020-05-29 2023-11-13 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷方法
CN115996852A (zh) 2020-06-17 2023-04-21 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN116056906A (zh) 2020-07-31 2023-05-02 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN116723941A (zh) * 2020-12-25 2023-09-08 富士胶片株式会社 负型平版印刷版原版的层叠体及负型平版印刷版的制作方法
JPWO2022163777A1 (pt) 2021-01-28 2022-08-04
WO2022181724A1 (ja) 2021-02-26 2022-09-01 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、呈色剤

Family Cites Families (80)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (pt) 1950-12-06
NL267931A (pt) 1960-08-05 1900-01-01
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
ZA6807938B (pt) 1967-12-04
JPS5040047B2 (pt) 1971-09-06 1975-12-22
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JPH083630B2 (ja) 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
DE69605909D1 (de) 1995-04-27 2000-02-03 Minnesota Mining & Mfg Negativ arbeitende unbehandelte reproduktionsschichten
DE69620336T2 (de) 1995-10-24 2002-10-24 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler
DE69517174T2 (de) 1995-10-24 2000-11-09 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
JPH09218505A (ja) * 1996-02-14 1997-08-19 Toray Ind Inc 感光性平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3830270B2 (ja) * 1997-06-06 2006-10-04 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版とその製造方法
DE69812871T2 (de) 1998-01-23 2004-02-26 Agfa-Gevaert Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen
JP2001117236A (ja) * 1999-10-14 2001-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP3610301B2 (ja) 2000-12-06 2005-01-12 株式会社タイキ 化粧用微細樹脂粒子
JP3903809B2 (ja) 2001-03-02 2007-04-11 日産化学工業株式会社 球状複合硬化メラミン樹脂粒子の製造方法
US7261998B2 (en) * 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
JP2003039842A (ja) * 2001-08-02 2003-02-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷用原板
JP4448718B2 (ja) 2003-03-25 2010-04-14 積水化成品工業株式会社 シリカ被覆重合体粒子、その製造方法及び化粧料
JP2004322388A (ja) * 2003-04-23 2004-11-18 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 印刷版の作製方法及び印刷版材料
JP2005028595A (ja) * 2003-07-07 2005-02-03 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 印刷版材料及び印刷版材料の作製方法
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4351933B2 (ja) 2004-03-05 2009-10-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
JP2005297232A (ja) 2004-04-07 2005-10-27 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 印刷版材料積層体、印刷版及び印刷方法
JP2006038246A (ja) 2004-07-22 2006-02-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 冷蔵庫
JP4792253B2 (ja) 2004-07-29 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP2006062322A (ja) * 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、及び製版方法
JP4460986B2 (ja) 2004-09-24 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006133756A (ja) 2004-10-07 2006-05-25 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要平版印刷版原版
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
EP1685957B1 (en) * 2005-01-26 2013-12-11 FUJIFILM Corporation Packaged body of lithographic printing plate precursors
JP4393408B2 (ja) 2005-03-16 2010-01-06 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
JP2006297645A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4652193B2 (ja) 2005-09-27 2011-03-16 富士フイルム株式会社 赤外線感光性平版印刷版原版
JP2007055003A (ja) * 2005-08-23 2007-03-08 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 平版印刷版材料及び平版印刷版材料の集合体
JP4795118B2 (ja) * 2005-09-27 2011-10-19 富士フイルム株式会社 赤外線感光性平版印刷版原版
JP2007206348A (ja) 2006-02-01 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法
JP5238170B2 (ja) 2006-03-14 2013-07-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
DE602006006969D1 (de) * 2006-03-17 2009-07-09 Agfa Graphics Nv Negativ arbeitender, hitzeempfindlicher Lithographiedruckformvorläufer
JP2007272143A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Fujifilm Corp 平版印刷版原版およびその積層体
JP4615492B2 (ja) * 2006-09-04 2011-01-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版積層体、及び平版印刷版原版の製造方法
JP5064952B2 (ja) 2006-09-29 2012-10-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4887173B2 (ja) 2007-02-16 2012-02-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2008249851A (ja) 2007-03-29 2008-10-16 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20080311520A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
JP2009047927A (ja) 2007-08-20 2009-03-05 Fujifilm Corp 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5162555B2 (ja) * 2009-09-28 2013-03-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2520439B1 (en) * 2009-12-28 2015-02-11 FUJIFILM Corporation Support for planographic printing plate, method for producing support for planographic printing plate, and planographic printing original plate
JP5498403B2 (ja) * 2010-01-29 2014-05-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版
CN102821968A (zh) * 2010-03-26 2012-12-12 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及其制造方法
JP5645743B2 (ja) * 2010-04-30 2014-12-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、その製版方法、及び、多価イソシアネート化合物
US20110287365A1 (en) * 2010-05-19 2011-11-24 Oliver Piestert Lithographic printing plate precursors
JP5736277B2 (ja) * 2010-08-30 2015-06-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5205505B2 (ja) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP5757732B2 (ja) 2010-12-28 2015-07-29 富士フイルム株式会社 マイクロカプセルを用いた平版印刷版原版及び製版方法
EP2682815A4 (en) * 2011-02-28 2015-04-29 Fujifilm Corp LITHOGRAPHIC ORIGINAL PRESSURE PLATE AND METHOD FOR PRODUCING A LITHOGRAPHIC FLAT PRESSURE PLATE
CN103442900B (zh) * 2011-03-24 2015-07-08 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及其制版方法
JP5604398B2 (ja) * 2011-09-30 2014-10-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP2013173353A (ja) * 2012-01-24 2013-09-05 Fujifilm Corp 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版
JP5579217B2 (ja) 2012-03-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
CN106183520B (zh) * 2012-03-29 2019-05-17 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、及其印刷方法
WO2014017640A1 (ja) 2012-07-27 2014-01-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版
JP5894905B2 (ja) 2012-11-26 2016-03-30 富士フイルム株式会社 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法、並びに平版印刷版の製版方法
US9063423B2 (en) * 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
EP3346332B1 (en) 2013-06-18 2019-11-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor having a non-contineuous back layer
EP3318414A4 (en) * 2015-06-30 2018-08-01 Fujifilm Corporation Original plate for printing, lithographic printing plate, disposable plate for printing, and laminate thereof
JP6640518B2 (ja) 2015-10-07 2020-02-05 日立グローバルライフソリューションズ株式会社 容積型圧縮機

Also Published As

Publication number Publication date
CN111361325A (zh) 2020-07-03
JP2019064269A (ja) 2019-04-25
JP7009350B2 (ja) 2022-01-25
WO2018181406A1 (ja) 2018-10-04
US10800195B2 (en) 2020-10-13
CN111361324B (zh) 2021-10-19
EP3838594B1 (en) 2023-11-22
US20200276851A1 (en) 2020-09-03
US20190217651A1 (en) 2019-07-18
JP6454057B1 (ja) 2019-01-16
EP4275910A2 (en) 2023-11-15
JPWO2018181406A1 (ja) 2019-04-04
EP3511172A1 (en) 2019-07-17
EP3838594A1 (en) 2021-06-23
CN111361324A (zh) 2020-07-03
US10696083B2 (en) 2020-06-30
EP3511172B1 (en) 2021-04-21
CN109843596A (zh) 2019-06-04
JP7371140B2 (ja) 2023-10-30
CN109843596B (zh) 2020-05-05
CN111361325B (zh) 2022-08-16
EP4275910A3 (en) 2024-01-24
US10919331B2 (en) 2021-02-16
US20200353768A1 (en) 2020-11-12
JP2022050604A (ja) 2022-03-30
EP3511172A4 (en) 2020-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BR112019009297A2 (pt) precursor de chapa para impressão litográfica, método de produção do mesmo, laminado de precursor de chapa para impressão litográfica e método de impressão litográfica
EP3513983B1 (en) Planographic printing plate precursor and production method therefor, planographic printing plate precursor laminate, planographic printing plate-making method, and planographic printing method
JP2023065470A (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法
US11745531B2 (en) Printing plate precursor, printing plate precursor laminate, method for making printing plate, and printing method
JP7055877B2 (ja) 平版印刷版原版
EP3858636A1 (en) Original plate for printing, laminate of original plate for printing, method for platemaking printing plate, and printing method
WO2019044483A1 (ja) 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法

Legal Events

Date Code Title Description
B350 Update of information on the portal [chapter 15.35 patent gazette]
B06W Patent application suspended after preliminary examination (for patents with searches from other patent authorities) chapter 6.23 patent gazette]