CN102821968A - 平版印刷版原版及其制造方法 - Google Patents

平版印刷版原版及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102821968A
CN102821968A CN2011800159192A CN201180015919A CN102821968A CN 102821968 A CN102821968 A CN 102821968A CN 2011800159192 A CN2011800159192 A CN 2011800159192A CN 201180015919 A CN201180015919 A CN 201180015919A CN 102821968 A CN102821968 A CN 102821968A
Authority
CN
China
Prior art keywords
recording layer
image recording
printing plate
coating
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2011800159192A
Other languages
English (en)
Inventor
森崇德
林贤二
桥谷学
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN102821968A publication Critical patent/CN102821968A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3035—Imagewise removal using liquid means from printing plates fixed on a cylinder or on a curved surface; from printing cylinders
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04—Intermediate layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/10—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

本发明提供一种在墨接受性和印刷耐久性上优异的机上显影型平版印刷版原版。本发明提供一种平版印刷版原版，所述平版印刷版原版按以下顺序包括载体、图像记录层和含有水溶性树脂的外涂层，所述图像记录层含有增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物，并且所述图像记录层的未曝光区能够通过在曝光之后在印刷机上提供印刷墨和润版水中的至少一种而被移除，其中所述外涂层基本上不与所述图像记录层混合。

Description

平版印刷版原版及其制造方法
技术领域
本发明涉及能够用激光进行图像记录并且含有可聚合化合物的阴图型平版印刷版原版及其制造方法。更具体地，本发明涉及在含有可聚合化合物的图像记录层上具有新的阻氧外涂层的能够进行机上显影的阴图型平版印刷版原版及其制造方法。
背景技术
近年来在商业上实施了其中将平版印刷版原版直接用可见激光束或红外激光束进行扫描曝光以进行制版的直接制版。
用于在直接制版中使用的平版印刷版原版中的一种是具有含增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物的可光聚合图像记录层作为图像记录层的光聚合型平版印刷版原版。
当将光聚合型平版印刷版原版用激光束曝光时，在可光聚合图像记录层用激光束照射的区域中，将烯键式不饱和化合物通过聚合固化，从而形成印刷图像。
然而，因为通过曝光由聚合引发剂产生的自由基由空气中的氧所致而减活，抑制聚合反应以引起不足的固化，并且作为结果出现下列问题：不能形成图像，或者甚至是当形成图像时，图像在其印刷耐久性上也不足。因此，在光聚合型平版印刷版原版中，通常将包含氧不可渗透树脂如聚乙烯醇的阻氧层形成在可光聚合图像记录层的表面上，以保护可光聚合图像记录层不受空气中的氧的影响(专利文献1至5)。
而且，在印刷机上进行显影的机上显影型平版印刷版原版中，通常将外涂层(保护层)设置在图像记录层上，以防止在图像记录层中出现擦伤等，以阻挡氧或者防止在高照度的激光曝光时的烧蚀。然而，增加印刷耐久性的效果小，并且存在墨接受性劣化的问题。
还进行了通过将具有高纵横比的无机层状化合物结合至外涂层中增加阻氧性以补偿印刷耐久性(专利文献6)。然而，印刷耐久性仍然不足并且墨接受性进一步降低，并且因此需要改进。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：JP-B-7-60268
专利文献2：JP-A-9-34117
专利文献3：JP-A-9-204049
专利文献4：JP-A-11-311862
专利文献5：JP-A-2002-169272
专利文献6：JP-A-2005-119273
发明公开内容
本发明所要解决的问题
本发明的目的是提供一种在印刷耐久性和墨接受性上优异的平版印刷版原版，所述平版印刷版原版包括载体、图像记录层和含有水溶性树脂的外涂层，所述图像记录层含有增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物，并且所述图像记录层的未曝光区能够通过在曝光之后在印刷机上提供印刷墨和润版水中的至少一种而被移除。
尤其是，提供了一种通过层叠而在图像记录层上形成有外涂层的平版印刷版原版。
用于解决问题的方式
(1)一种平版印刷版原版，所述平版印刷版原版按以下顺序包括载体、图像记录层和含有水溶性树脂的外涂层，所述图像记录层含有增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物，并且所述图像记录层的未曝光区能够通过在曝光之后在印刷机上提供印刷墨和润版水中的至少一种而被移除，其中所述外涂层基本上不与所述图像记录层混合。
(2)如上面的(1)中所述的平版印刷版原版，其中所述外涂层通过层叠形成在所述图像记录层上。
(3)如上面的(2)中所述的平版印刷版原版，其中所述外涂层通过干式层叠(drylamination)形成在所述图像记录层上。
(4)如上面的(1)至(3)中的任一项中所述的平版印刷版原版，其中所述水溶性树脂是聚乙烯醇树脂。
(5)如上面的(1)至(4)中的任一项中所述的平版印刷版原版，其中所述外涂层含有无机层状化合物。
(6)如上面的(5)中所述的平版印刷版原版，其中所述无机层状化合物是云母。
(7)如上面的(1)至(6)中的任一项中所述的平版印刷版原版，其中所述图像记录层还含有具有聚氧化烯结构的聚合物粘合剂。
(8)一种制备平版印刷版原版的方法，所述方法包括：在载体上设置图像记录层，所述图像记录层含有增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物，并且所述的图像记录层的未曝光区能够通过在曝光之后在印刷机上提供印刷墨和润版水中的至少一种而被移除；和进一步层叠含有水溶性树脂的外涂层。
本发明的益处
根据本发明，可以提供一种在墨接受性和印刷耐久性上优异的机上显影型平版印刷版原版及其制造方法。
用于实施本发明的方式
下面将详细描述本发明。
首先，描述用于在根据本发明的平版印刷版原版中使用的外涂层。
[外涂层]
不特别地限定结合至根据本发明的平版印刷版原版的外涂层中的水溶性树脂，只要它能够形成粘附至图像记录层的均匀膜即可。
具体地，例如，水溶性聚合物，例如，聚乙烯醇、改性的聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯基咪唑、聚丙烯酸、聚丙烯酰胺、聚乙酸乙烯酯的部分皂化产物、乙烯-乙烯醇共聚物、水溶性纤维素衍生物、明胶、淀粉衍生物或***树胶，以及聚合物，例如，聚偏1，1-二氯乙烯、聚(甲基)丙烯腈、聚砜、聚氯乙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚酰胺或赛璐玢是示例。如果需要，可以以其两种类型以上的组合使用聚合物。
在所述聚合物中，从在非图像区中残留的保护层的可容易地移除的性质和在形成层时的处理性能的角度，例如，聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯基咪唑、水溶性丙烯酸类树脂如聚丙烯酸、明胶或***树胶是优选的。尤其是，从在印刷时易于用润版水移除的角度，聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、明胶或***树胶是更优选的。
用于在根据本发明的外涂层中使用的聚乙烯醇可以部分地用酯、醚或缩醛取代，只要它含有用于保持水溶性所需的实质量的未取代的乙烯基醇单元即可。同样，聚乙烯醇可以部分地含有其他共聚组分。聚乙烯醇的具体实例包括水解了71至100摩尔％并且具有在300至2,400的范围内的聚合度的那些。
具体地，由Kuraray Co.，Ltd.制造的PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-405、PVA-420、PVA-613和L-8是示例。
作为上述共聚物，各自水解了88至100摩尔％的聚乙酸乙烯酯氯乙酸酯或丙酸酯，聚乙烯醇缩甲醛和聚乙烯醇缩乙醛及其共聚物是示例。
基于外涂层的总固体含量，所加入的水溶性树脂的量优选为20重量％以上，更优选30重量％以上，再更优选50重量％以上。
根据本发明，外涂层可以与水溶性树脂一起含有无机层状化合物。无机层状化合物是具有薄片形的粒子，并且包括例如，云母，例如由下式A(B，C)2-5D4O10(OH，F，O)2，(其中A表示Li，K，Na和Ca中的任一种，B和C各自表示Fe(II)，Fe(III)，Mn，Al，Mg和V中的任一种，并且D表示Si或Al)表示的天然云母，或者合成云母，由下式：3MgO·4SiO·H2O表示的滑石，带云母，蒙脱石，皂石，锂蒙脱石和磷酸锆。
在云母中，天然云母的实例包括白云母，钠云母，金云母，黑云母，和锂云母。合成云母的实例包括非溶胀性云母，例如，氟代金云母KMg3(AlSi3O10)F2或四硅云母钾(potassium tetrasilicic mica)KMg25(Si4O10)F2，和可溶胀云母，例如，四硅云母钠(Na tetrasilicic mica)NaMg25(Si4O10)F2，Na或Li带云母(Na，Li)Mg2Li(Si4O10)F2，或蒙脱石系Na或Li锂蒙脱石(Na，Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si4O10)F2。合成绿土也是可用的。
在本发明中，在无机层状化合物中，优选云母，并且特别有用的是作为合成无机层状化合物的氟系可溶胀性云母。具体地，可溶胀性合成云母和可溶胀粘土矿物，例如蒙脱石，皂石，锂蒙脱石或膨润土，具有包含厚度为约10至15埃的单元晶格层的层叠结构，并且在其晶格中的金属原子置换与其它粘土矿物相比明显大。结果，晶格层中产生正电荷的不足，并且为了补偿这种不足，阳离子例如Li+，Na+，Ca2+或Mg2+吸附在晶格层之间。存在于晶格层之间的阳离子被称为可交换阳离子，并且可与多种阳离子交换。尤其是，在各层之间的阳离子是Li+或Na+的情况下，因为阳离子半径小，层状晶格之间的键弱，从而用水可使其极大地溶胀。当在这样的状态下施加剪切时，层状晶格容易裂开而在水中形成稳定的溶胶。膨润土和可溶胀合成云母强烈地显示出这种趋向，并且可用于本发明中并且尤其是，优选使用可溶胀合成云母。
关于用于在本发明中使用的无机层状化合物的形状，出于控制扩散的观点，厚度优选较小，只要涂布表面的平滑性和光化辐射的透射不受损即可，平面尺寸较大。因此，纵横比为优选20以上，更优选100以上，并且特别优选200以上。纵横比是粒子的长轴与厚度的比率并且可以由例如通过显微照相术获得的粒子的投影图来测定。当纵横比更大时，所获得的效果更大。
至于用于在本发明中使用的无机层状化合物的粒径，平均主轴优选为0.3至20μm，更优选0.5至10μm，并且特别优选1至5μm。而且，粒子的平均厚度为0.1μm以下，优选0.05μm以下，并且特别优选0.01μm以下。例如，对于作为无机层状化合物的代表性化合物的可溶胀合成云母，厚度为大约1至50nm并且平面尺寸为大约1至20μm。
当将这样的具有大纵横比的无机层状化合物粒子结合到外涂层中时，涂布层的强度增加并且氧或水分的渗透可以得到有效地抑制，从而，外涂层可以避免由于变形的劣化，并且甚至当将平版印刷版原版在高湿度条件下长时间保存时，也能避免归因于湿度改变的平版印刷版原版成像性能的劣化并且获得优异的保存稳定性。
以与外涂层中使用的水溶性树脂的量的重量比计，外涂层中无机层状化合物的含量优选为5/1至1/100。当组合使用多种无机层状化合物时，还优选的是无机层状化合物的总量满足上述重量比。
根据本发明，通常在空气中进行曝光。外涂层防止低分子量化合物如在空气中存在的氧或碱性物质(其对在图像记录层的曝光时出现的图像形成反应具有抑制作用)穿透至图像记录层中，结果可以限制在空气中曝光时图像形成反应的抑制。因此，对于外涂层所需的性质是减小低分子量化合物如氧的渗透性。此外，外涂层优选对用于曝光使用的光具有良好的透明性，在对图像记录层的粘附性上优异，并且可以在曝光之后在机上显影处理步骤的过程中简单地移除。对于具有这种性质的外涂层，迄今进行了多种研究并且在例如美国专利3,458,311和JP-B-55-49729中详细描述。
[图像记录层与外涂层之间的层间混合]
据估计即使当设置外涂层时，增加印刷耐久性的效果也小并且出现墨接受性劣化的问题的结果是由以下事实所致的：在涂布和干燥用于外涂层的涂布液的阶段，外涂层组分与图像记录层混合，并且不能获得图像记录层和外涂层的最佳功能。具体地，据估计与不出现层间混合的情况比较墨接受性和印刷耐久性变得不足。
根据本发明，其特征在于图像记录层和外涂层基本上不混合。术语“图像记录层和外涂层基本上不混合”意指下面限定的外涂层与图像记录层的混合比为10％以下。在该范围内，避免了墨接受性和印刷耐久性的劣化。外涂层与图像记录层的混合比更优选为5％以下。
未经历层间混合的外涂层的存在量优选为0.01至2g/m2，更优选0.02至1g/m2，并且特别优选0.02至0.5g/m2。
[层间混合比的定义和测量方法]
在30mmHg抽真空之后使用UV曝光机曝光所获得的平版印刷版原版，以使得可聚合基团的反应率达到60％以上。通过FT-IR测量可聚合基团的反应率。具体地，通过FT-IR确定在曝光之后残留的可聚合基团的量和在曝光之前存在的可聚合基团的量，并且确定通过曝光发生反应的可聚合基团的比率(可聚合基团的反应率)。
之后，将曝光后的平版印刷版原版用水在25℃洗涤，同时用吸收棉擦拭，并且以重量/m2为单位测定所溶解的外涂层的量，将其作为未经过层间混合的外涂层的量(A)。使用如下所示的式由该值计算外涂层的层间混合比(％)。在该式中，总外涂层量(B)是当不出现层间混合时存在的外涂层的总量并且以如下所示的方式测定。
将外涂层设置在载体上(例如，PET膜、聚丙烯膜或玻璃基板)，并且测量外涂层和载体的重量(α)。之后，将涂层用水在25℃洗涤，同时用吸收棉擦拭以完全移除外涂层，并且测量涂层的重量(β)。以重量/m2为单位测定并计算(α)-(β)的值以获得总外涂层量(B)。
外涂层的层间混合比(％)＝[1-((A)/(B))]×100
[外涂层的层叠方法]
不特别地限制形成外涂层的方法，条件是外涂层基本上不与图像记录层混合，并且可以采用已知方法。作为形成外涂层的方法，具体地，示例为涂布***，例如，流延涂布(预流延涂布)***、挤出涂布方法、凹版印刷涂布方法、辊涂方法、喷涂方法或棒涂法，或者贴附(层叠)。
外涂层和图像记录层的混合量极大地依赖于用于溶解外涂层中所含有的水溶性树脂的溶剂(例如，水或甲醇)的量或种类，以及在干燥之前经过的时间，并且在水的情况下，已知当溶剂的量减少或者干燥之前经过的时间减少时，混合被防止。因此，对于减少液体体积有效的流延涂布***、挤出涂布方法、凹版印刷涂布方法或贴附(层叠)是优选的。
对于层叠***，其中将外涂层直接贴在图像记录层上而没有溶剂或糊状物的干扰的层叠***是优选的。具体地，示例的是：(1)其中保持膜的形成的不带有溶剂或糊状物的干扰的层叠***(在本发明中，将该***定义为干式层叠***)和(2)其中一度将膜熔融的不带有溶剂或糊状物的干扰的层叠的***。在这些***中，干式层叠***是特别优选的。
外涂层在图像记录层上的干式层叠以下面描述的方式进行。具体地，将外涂层涂布在临时载体上并干燥。作为临时载体，不排斥用于外涂层的涂布液并且从其可以释放外涂层的载体，并且具有25至40mN/m的范围内的临界表面张力的载体是优选的。具体地，材料，例如，聚丙烯、聚乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚苯乙烯是示例，并且聚丙烯是优选的。
对临时载体的涂布方法不特别地限制。例如，涂布方法，例如，流延涂布(预流延涂布)***、凹版印刷涂布方法、辊涂方法、喷涂方法或棒涂方法，或者熔融材料的挤出涂布方法(例如，通过使用模具熔融挤出形成膜的方法，或者其中对所形成的膜进一步进行拉伸的方法)是示例。
在通过加入溶剂作为溶液涂布的情况下，在涂布之后，将膜在高温下通过热空气等干燥。因为使用水作为溶剂以便溶解外涂层中含有的水溶性树脂，通常优选的是在100至150℃的干燥温度干燥。当干燥温度低于100℃时，干燥耗时，并且当它高于150℃时，临时载体可能经历变形。干燥温度更优选为105至125℃。
将设置在临时载体上的外涂层优选在15至30℃的温度和50至90％的相对湿度进行湿度调节。所述条件更优选为18至28℃的温度和55至85％的相对湿度，并且特别优选20至25℃的温度和60至80％的相对湿度。在湿度调节之后，优选在与上述湿度调节相同的条件下将外涂层从临时载体释放。该条件优选为18至28℃的温度和55至85％的相对湿度，并且特别优选20至25℃的温度和60至80％的相对湿度。
将所释放的外涂层通过使其在设置在载体上的图像记录层上接触而进行层叠。层叠温度优选在10至200℃的范围内。在接触之后，可以通过施加压力压制外涂层。
[图像记录层]
接下来，将详细描述图像记录层的构成组分。
用于在本发明中使用的图像记录层含有增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物，并且图像记录层的未曝光区能够通过在曝光之后在印刷机上提供印刷墨和/或润版水而被移除。下面将按顺序描述可以结合至图像记录层中的每个组分。
(A)增感染料
可以不带有特别限制地使用增感染料，只要它在图像曝光下吸收光形成激发态并且对下面描述的聚合引发剂以电子传递、能量传递或产生热的形式提供能量，从而改善聚合引发功能即可。尤其是，优选使用在300至450nm或750至1,400nm的范围内具有最大吸收的增感染料。
在350至450nm的波长范围内具有最大吸收的增感染料的实例包括部花青染料、苯并吡喃、香豆素、芳族酮和蒽。
在具有在360至450nm的波长范围内的最大吸收的增感染料中，考虑到高灵敏度，由下面所示的式(I)表示的染料是更优选的。
Figure BDA00002189644300091
在式(I)中，A表示可以具有取代基的芳族环状基团或者可以具有取代基的杂环基，X表示氧原子、硫原子或N-(R3)，并且R1、R2和R3各自独立地表示单价非金属原子团，或者A和R1或者R2和R3可以彼此结合以形成脂族或芳族环。
下面将更详细描述式(I)。R1、R2和R3各自独立地表示单价非金属原子团，优选表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的芳族杂环残基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烷硫基、羟基或卤素原子。
现在，在下面描述式(I)中的A。A表示可以具有取代基的芳族环状基团或者可以具有取代基的杂环基。可以具有取代基的芳族环状基团和可以具有取代基的杂环基的具体实例分别与式(I)中的对于R1、R2和R3中的任一种所描述的那些相同。
优选使用的增感染料的具体实例包括JP-A-2007-58170的[0047]至[0053]段中描述的化合物。
此外，也可以使用由如下所示的式(II)或(III)表示的增感染料。
Figure BDA00002189644300101
在式(II)中，R1至R14各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、氰基或卤素原子，条件是R1至R10中的至少一个表示具有2个以上碳原子的烷氧基。在式(III)中，R15至R32各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、氰基或卤素原子，条件是R15至R24中的至少一个表示具有2个以上碳原子的烷氧基。
此外，JP-A-2007-171406、JP-A-2007-206216、JP-A-2007-206217、JP-A-2007-225701、JP-A-2007-225702、JP-A-2007-316582和JP-A-2007-328243中描述的增感染料也是优选使用的。
现在，在下面详细描述在本发明中优选使用的在波长范围750至1,400内具有最大吸收的增感染料(在下文中，也称作“红外吸收剂”)。所使用的红外吸收剂优选为染料或颜料。
红外吸收染料具有将吸收的红外线转化为热的作用以及被红外线激发而对以下描述的聚合引发剂进行电子转移和/或能量转移的作用。用于本发明的红外吸收染料为最大吸收在750至1,400nm波长范围内的染料。
可以使用JP-A-2008-195018的第[0058]至[0087]段中描述的化合物作为红外吸收染料。
在染料中，花青染料、方酸
Figure BDA00002189644300102
染料、吡喃
Figure BDA00002189644300103
染料和硫醇镍配合物是特别优选的。作为染料的特别优选实例，由下面所示的式(a)表示的花青染料是实例。
式(a)
Figure BDA00002189644300111
在式(a)中，X1表示氢原子，卤素原子，-N(R9)(R10)，-X2-L1或下示基团。可以相同或不同的R9和R10各自表示可以具有取代基的具有6至10个碳原子的芳族烃基，可以具有取代基的具有1至8个碳原子的烷基或氢原子，或者R9和R10可以相互结合而形成环。在它们之中，苯基是优选的。X2表示氧原子或硫原子，L1表示具有1至12个碳原子的烃基，含有杂原子的芳环基团或具有1至12个碳原子并且含有杂原子的烃基。如在此使用的杂原子表示氮原子，硫原子，氧原子，卤素原子或硒原子。在下面所示的基团中，Xa-具有与以下定义的Za-相同的含义，并且Ra表示氢原子或选自烷基，芳基，取代或未取代的氨基和卤素原子的取代基。
Figure BDA00002189644300112
R1和R2各自独立地表示具有1至12个碳原子的烃基。考虑到图像记录层用涂布液的保存稳定性，优选的是，R1和R2各自表示具有两个以上碳原子的烃基。特别优选的是，R1和R2相互结合形成5元或6元环。
可以相同或不同的Ar1和Ar2各自表示可以具有取代基的芳族烃基。芳族烃基的优选实例包括苯环基和萘环基。而且，取代基的优选实例包括具有12个以下碳原子的烃基，卤素原子和具有12个以下碳原子的烷氧基。可以相同或不同的Y1和Y2各自表示硫原子或具有12个以下碳原子的二烷基亚甲基。可以相同或不同的R3和R4各自表示可以具有取代基的具有20个以下碳原子的烃基。取代基的优选实例包括具有12个以下碳原子的烷氧基，羧基和磺基。可以相同或不同的R5，R6，R7和R8各自表示氢原子或具有12个以下碳原子的烃基。从原料的易得性考虑，氢原子是优选的。Za-表示抗衡阴离子。然而，当由式(a)表示的花青染料在其结构内具有阴离子取代基因此不需要中和电荷时，Za-不是必需的。从图像记录层用涂布液的保存稳定性考虑，Za-的抗衡离子的优选实例包括卤素离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、和磺酸根离子，且其特别优选的实例包括高氯酸根离子、六氟磷酸根离子和芳基磺酸根离子。
可以优选用于本发明的由式(a)表示的花青染料的具体实例包括JP-A-2001-133969的[0017]至[0019]段，JP-A-2002-23360的[0012]至[0021]段和JP-A-2002-40638的[0012]至[0037]段中描述的那些。
红外吸收染料可以仅使用一种或者可以以其两种以上的组合使用，并且其也可以与除了红外吸收染料以外的红外吸收剂例如颜料一起使用。作为颜料，优选JP-A-2008-195018的[0072]至[0076]段中描述的化合物。
基于图像记录层的总固体含量，根据本发明的图像记录层中的增感染料的含量优选为0.1至10.0重量％，更优选0.5至5.0重量％。
(B)聚合引发剂
本发明中使用的聚合引发剂(B)表示引发或促进可聚合化合物(C)的聚合的化合物。用于本发明的聚合引发剂包括，例如，已知的热聚合引发剂、含具有键解离能小的键的化合物和光聚合引发剂。
根据本发明的聚合引发剂包括，例如，(a)有机卤化物、(b)羰基化合物、(c)偶氮化合物、(d)有机过氧化物、(e)金属茂化合物、(f)叠氮化合物、(g)六芳基联咪唑化合物、(h)有机硼酸盐化合物、(i)二砜化合物、(j)肟酯化合物和(k)
Figure BDA00002189644300121
盐化合物。
作为有机卤化物(a)，描述于JP-A-2008-195018的段落[0022]至[0023]中的化合物是优选的。
作为羰基化合物(b)，描述于JP-A-2008-195018的段落[0024]中的化合物是优选的。
作为偶氮化合物(c)，使用例如描述于JP-A-8-108621中的偶氮化合物。
作为有机过氧化物(d)，例如，描述于JP-A-2008-195018的段落[0025]中的化合物是优选的。
作为金属茂化合物(e)，例如，描述于JP-A-2008-195018的段落[0026]中的化合物是优选的。
作为叠氮化合物(f)，例如2，6-双(4-叠氮基亚苄基)-4-甲基环己酮这样的化合物为示例。
作为六芳基联咪唑化合物(g)，例如，描述于JP-A-2008-195018的段落[0027]中的化合物是优选的。
作为有机硼酸盐化合物(h)，例如，描述于JP-A-2008-195018的段落[0028]中的化合物是优选的。
作为二砜化合物(i)，例如，示例例如JP-A-61-166544和JP-A-2002-328465中描述的化合物。
作为肟酯化合物(j)，例如，描述于JP-A-2008-195018的段落[0028]至[0030]中的化合物是优选的。
作为
Figure BDA00002189644300131
盐化合物(k)，可以示例下列
Figure BDA00002189644300132
盐：例如，S.I.Schlesinger，Photogr. Sci.Eng.，18，387(1974))和T.S.Bal等，Polymer，21，423(1980)中所述的重氮盐；美国专利4,069,055和JP-A-4-365049中所述的铵盐；美国专利4,069,055和4,069,056中所述的盐；欧州专利104,143、美国专利公开2008/0311520、JP-A-2-150848和JP-A-2008-195018中所述的碘
Figure BDA00002189644300134
盐；欧洲专利370,693、390,214、233,567、297,443和297,442，美国专利4,933,377，4,760,013，4,734,444和2,833,827，以及德国专利2,904,626，3,604,580和3,604,581中所述的锍盐；J.V.Crivello等的Macromolecules，10(6)，1307(1977)和J.V.Crivello等J.Polymer Sci.，Polymer Chem.Ed.，17，1047(1979)中所述的硒
Figure BDA00002189644300135
盐；C.S.Wen等Teh，Proc.Conf.Rad.Curing ASIA，第478页，Tokyo，10月(1988)中所述的
Figure BDA00002189644300136
盐；以及JP-A-2008-195018中所述的吖嗪
Figure BDA00002189644300137
(azinium)盐。
在上述自由基聚合引发剂中，
Figure BDA00002189644300138
盐，尤其是，碘
Figure BDA00002189644300139
盐、锍盐或吖嗪
Figure BDA000021896443001310
盐是更优选的。以下陈述这些化合物的具体实例，但是本发明不应被理解为限定于此。
在碘
Figure BDA000021896443001311
盐中，二苯基碘
Figure BDA000021896443001312
盐是优选的。特别地，用给电子基团例如烷基或烷氧基取代的二苯基碘
Figure BDA000021896443001313
盐是优选的，而非对称二苯基碘
Figure BDA000021896443001314
盐是更优选的。所述碘盐的具体实例包括二苯基碘
Figure BDA00002189644300142
六氟磷酸盐，4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘
Figure BDA00002189644300143
六氟磷酸盐，4-(2-甲基丙基)苯基-对-甲苯基碘六氟磷酸盐，4-己氧基苯基-2，4，6-三甲氧基苯基碘
Figure BDA00002189644300145
六氟磷酸盐，4-己氧基苯基-2，4-二乙氧基苯基碘
Figure BDA00002189644300146
四氟硼酸盐，4-辛氧基苯基-2，4，6-三甲氧基苯基碘
Figure BDA00002189644300147
1-全氟丁磺酸盐，4-辛氧基苯基-2，4，6-三甲氧基苯基碘六氟磷酸盐和双(4-叔丁基苯基)碘
Figure BDA00002189644300149
四苯基硼酸盐。
锍盐的实例包括三苯基锍六氟磷酸盐，三苯基锍苯甲酰基甲酸盐，双(4-氯苯基)苯基锍苯甲酰基甲酸盐，双(4-氯苯基)-4-甲基苯基锍四氟硼酸盐和三(4-氯苯基)锍3，5-双(甲氧基羰基)苯磺酸盐。
吖嗪
Figure BDA000021896443001410
盐的实例包括1-环己基甲基氧基吡啶
Figure BDA000021896443001411
六氟磷酸盐，1-环己基氧基-4-苯基吡啶
Figure BDA000021896443001412
六氟磷酸盐，1-乙氧基-4-苯基吡啶
Figure BDA000021896443001413
六氟磷酸盐，1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶
Figure BDA000021896443001414
六氟磷酸盐，4-氯-1-环己基甲基氧基吡啶
Figure BDA000021896443001415
六氟磷酸盐，1-乙氧基-4-氰基吡啶
Figure BDA000021896443001416
六氟磷酸盐，3，4-二氯-1-(2-乙基己氧基)吡啶
Figure BDA000021896443001417
六氟磷酸盐，1-苄基氧基-4-苯基吡啶六氟磷酸盐，1-苯乙基氧基-4-苯基吡啶
Figure BDA000021896443001419
六氟磷酸盐，1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶
Figure BDA000021896443001420
对甲苯磺酸盐，1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶
Figure BDA000021896443001421
全氟丁磺酸盐，1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶溴化物和1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶
Figure BDA000021896443001423
四氟硼酸盐。
基于构成图像记录层的总固体含量，聚合引发剂可以以优选0.1至50重量％，更优选0.5至30重量％，特别优选0.8至20重量％的量添加。在上述范围内，在印刷时获得了良好的灵敏度和在非图像区域中的良好的耐污性。(C)可聚合化合物
用于本发明的可聚合化合物(C)是具有至少一个烯键式不饱和双键的可加聚化合物，并且优选选自具有至少一个、优选两个以上末端烯键式不饱和双键的化合物。这种化合物在本领域中广泛使用，并且在本发明中可以不带任何特殊限制地使用。该化合物意指，例如，单体或预聚物，具体地，二聚体、三聚体或低聚物，并且是具有1,000以下的分子量的可聚合化合物。
可自由基聚合化合物的具体实例包括JP-A-2008-195018的段号[0089]至[0098]中描述的化合物。在它们中，脂族多元醇化合物与不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸或马来酸)的酯是优选的示例。其他优选的可自由基聚合化合物包括JP-A-2005-329708中描述的含有异氰脲酸结构的可聚合化合物。
在上述化合物中，特别优选异氰脲酸环氧乙烷改性的丙烯酸酯，例如三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯或双(丙烯酰氧基乙基)羟基乙基异氰脲酸酯，因为它们在涉及机上显影性能的亲水性和涉及印刷耐久性的聚合能力之间的平衡优异。
在本发明中，基于图像记录层的总固体含量，优选以5至80重量％，更优选15至75重量％的量使用可聚合化合物(C)。
(D)其他组分
如果需要，根据本发明的图像记录层还可以含有其他组分。
(1)粘合剂聚合物
在根据本发明的图像记录层中，用于提高图像记录层的膜强度的目的可以使用粘合剂聚合物。可以在本发明中使用的粘合剂聚合物可以不带有限制地选自迄今已知的那些，并且具有成膜性的聚合物是优选的。在它们中，丙烯酸类树脂、聚乙烯醇缩醛树脂或聚氨酯树脂是优选的。
作为对于本发明优选的粘合剂聚合物，为了提高图像区的膜强度，如JP-A-2008-195018中所描述的在其主链或侧链中，优选在其侧链中具有可交联官能团的聚合物是示例。归因于可交联官能团，在聚合物分子之间形成交联以促进固化。
作为可交联官能团，烯键式不饱和基团，例如，(甲基)丙烯酰基、乙烯基或烯丙基或环氧基是优选的。可以通过聚合物反应或共聚将可交联官能团引入至聚合物中。例如，丙烯酸类聚合物或在其侧链中具有羧基的聚氨酯与甲基丙烯酸缩水甘油酯之间的反应，或者具有环氧基的聚合物与含有烯键式不饱和基团的羧酸之间的反应，例如，可以采用甲基丙烯酸。
基于1g的粘合剂聚合物，粘合剂聚合物中可交联基团的含量优选为0.1至10.0mmol，更优选1.0至7.0mmol，最优选2.0至5.5mmol。
还优选的是，用于在本发明中使用的粘合剂聚合物还含有亲水基团。亲水基团贡献于赋予图像记录层显影性，尤其是，在进行机上显影的情况下，机上显影性。尤其是，可交联基团和亲水基团的共存使得能够保持印刷耐久性与显影性之间的相容性。
亲水基团包括，例如，羟基、羧基、氧化烯结构、氨基、铵基、酰胺基、磺基和磷酸基。在它们中，含有具有2或3个碳原子的环氧烷单元的聚氧化烯结构是优选的，并且氧化烯重复单元的数目更优选为2至9。
为了将亲水基团引入至粘合剂聚合物中，将具有亲水基团的单体共聚。
为了控制墨接受性，可以将亲油基团，例如，烷基、芳基、芳烷基或烯基结合至根据本发明的粘合剂聚合物中。具体地，将含有亲油基团的单体，例如，甲基丙烯酸烷基酯共聚。
在下面给出用于在本发明中使用的粘合剂聚合物的具体实例(1)至(11)，但本发明不应被理解为限定于此。重复单元的比例以摩尔比表示。
Figure BDA00002189644300181
根据本发明的粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)优选2,000以上，更优选5,000以上，并且再更优选10,000至300,000。
根据本发明，如果需要，可以使用在JP-A-2008-195018中描述的亲水聚合物，例如，聚丙烯酸或聚乙烯醇。此外，亲油粘合剂聚合物与亲水粘合剂聚合物一起使用。
基于图像记录层的总固体含量，粘合剂聚合物的含量通常优选为5至90重量％，更优选5至80重量％，再更优选10至70重量％。
(2)疏水化前体
根据本发明，可以使用疏水化前体以改善机上显影性能。根据本发明的疏水化前体是指能够在施加热时将图像记录层转变为疏水性的细粒。所述细粒优选为选自疏水热塑性聚合物细粒、热反应性聚合物细粒、具有包封的疏水性化合物的微胶囊和微凝胶(交联的聚合物细粒)的至少一种细粒。在它们中，优选具有可聚合基团的聚合物细粒和微凝胶。
作为疏水热塑性聚合物细粒，优选示例在例如Research Disclosure，第333003期，一月(1992)，JP-A-9-123387，JP-A-9-131850，JP-A-9-171249，JP-A-9-171250和欧洲专利931,647中所述的疏水热塑性聚合物细粒。
构成聚合物细粒的聚合物的具体实例包括下列单体的均聚物或共聚物：例如，乙烯，苯乙烯，氯乙烯，丙烯酸甲酯，丙烯酸乙酯，甲基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸乙酯，偏二氯乙烯，丙烯腈，乙烯基咔唑或具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯和它们的混合物。在它们中，更优选苯乙烯，含有苯乙烯或丙烯腈的共聚物和聚甲基丙烯酸甲酯。
用于本发明的疏水热塑性聚合物细粒的平均粒度优选为0.01至2.0μm。
用于本发明的热反应性聚合物细粒包括具有热反应性基团的聚合物细粒，并且通过由于热反应而进行的交联以及其中所含官能团的改变形成疏水化区域。
作为用于本发明的具有热反应性基团的聚合物细粒的热反应性基团，进行任何反应的官能团都可以使用，只要形成化学键即可。例如，优选示例的是进行自由基聚合反应的烯键式不饱和基团(例如丙烯酰基，甲基丙烯酰基，乙烯基或烯丙基)，阳离子可聚合基团(例如乙烯基或乙烯基氧基)，进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段形式、环氧基或乙烯基氧基，以及作为其反应伙伴的具有活性氢原子的官能团(例如氨基，羟基或羧基)，进行缩合反应的羧基和作为其反应伙伴的羟基或氨基，以及进行开环加成反应的酸酐和作为其反应伙伴的氨基或羟基。
作为用于本发明的微胶囊，示例的是如描述在例如JP-A-2001-277740和JP-A-2001-277742中的具有包封的全部或部分的图像记录层构成组分的微胶囊。图像记录层的构成组分可以存在于微胶囊的外部。含有如下微胶囊的图像记录层是优选的实施方案：疏水性构成组分包封在微胶囊内，而亲水组成组分存在于微胶囊的外部。
根据本发明的图像记录层可以是含有交联的树脂粒子即微凝胶的实施方案。微凝胶在其内部和/或表面上可以含有图像记录层的构成组分的一部分。特别地，考虑到成像灵敏度和印刷耐久性，优选在其表面上含有可聚合化合物(C)的反应性微凝胶的实施方案。
作为图像记录层构成组分的微胶囊化或微凝胶化的方法，可以使用已知的方法。
微胶囊或微凝胶的平均粒度优选为0.01至3.0μm，更优选0.05至2.0μm，特别优选0.10至1.0μm。在上述范围内，可以实现良好的分辨率和良好的时间推移稳定性。
基于图像记录层的总固体含量，疏水化前体的含量优选在5至90重量％的范围内。
(3)亲水性低分子量化合物
根据本发明的图像记录层可以含有亲水性低分子量化合物，以提高显影性能，尤其是在进行机上显影的情况下的机上显影性能，而不降低印刷耐久性。
亲水性低分子量化合物包括水溶性有机化合物，例如，二醇例如乙二醇，二甘醇，三甘醇，丙二醇，一缩二丙二醇或三丙二醇，或它们的醚和酯衍生物；多羟基化合物如甘油，季戊四醇或三(2-羟乙基)异氰脲酸酯；有机胺，例如三乙醇胺，二乙醇胺或单乙醇胺，或者它们的盐；有机磺酸，例如烷基磺酸，甲苯磺酸或苯磺酸，或它们的盐；有机氨基磺酸，例如烷基氨基磺酸，或它们的盐；有机硫酸，例如烷基硫酸或烷基醚硫酸，或它们的盐；有机膦酸，例如苯基膦酸，或它们的盐；有机羧酸，例如酒石酸，草酸，柠檬酸，苹果酸，乳酸，葡糖酸或氨基酸，或它们的盐以及甜菜碱。
根据本发明，优选的是结合选自多元醇、有机硫酸盐、有机磺酸盐和甜菜碱中的至少一种化合物。
有机磺酸盐的具体实例包括烷基磺酸盐，例如正丁基磺酸钠，正己基磺酸钠，2-乙基己基磺酸钠，环己基磺酸钠或正辛基磺酸钠；含有环氧乙烷链的烷基磺酸盐，例如5，8，11-三氧杂十五烷-1-磺酸钠，5，8，11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠，13-乙基-5，8，11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠或5，8，11，14-四氧杂二十四烷-1-磺酸钠；和芳基磺酸盐，例如苯磺酸钠，对甲苯磺酸钠，对-羟基苯磺酸钠，对-苯乙烯磺酸钠，间苯二甲酸二甲基-5-磺酸钠，1-萘基(naphtyl)磺酸钠，4-羟基萘基磺酸钠，1，5-萘基二磺酸二钠或1，3，6-萘基三磺酸三钠。所述盐也可以是钾盐或锂盐。
有机硫酸盐包括聚环氧乙烷的烷基，烯基，炔基，芳基或杂环单醚的硫酸盐。环氧乙烷单元的数量优选为1至4。该盐优选为钠盐，钾盐或锂盐。
作为甜菜碱，优选其中在氮原子上的烃取代基中包含的碳原子数为1至5的化合物。它们的具体实例包括乙酸三甲基铵，乙酸二甲基丙基铵，3-羟基-4-三甲基铵基丁酸盐，4-(1-吡啶基)丁酸盐，1-羟基乙基-1-咪唑基乙酸盐，三甲基铵甲磺酸盐，二甲基丙基铵甲磺酸盐，3-三甲基铵基-1-丙磺酸盐和3-(1-吡啶基)-1-丙磺酸盐。
由于亲水性低分子量化合物的疏水部分结构小并且几乎没有表面活性功能，因此防止了由于润版水渗透进入图像记录层的曝光区域(图像区域)中而导致的图像区域中的疏水性和膜强度降低，从而可以优选地保持图像记录层的墨接受性和印刷耐久性。
基于图像记录层的总固体含量，添加到图像记录层中的亲水性低分子量化合物的量优选为0.5至20重量％，更优选1至10重量％，还更优选2至10重量％。在上述范围内，获得了良好的机上显影性能和良好的印刷耐久性。
亲水性低分子量化合物可以单独使用或者作为其两种以上的混合物使用。
(4)感脂化剂
为了改善墨接受性能，可以在图像记录层中使用感脂化剂，例如
Figure BDA00002189644300211
化合物，含氮低分子量化合物或含铵基聚合物。具体地，在将无机层状化合物结合到外涂层中的情况下，感脂化剂起着该无机层状化合物的表面覆盖剂的作用并且防止在印刷过程中归因于无机层状化合物的墨接受性能的劣化。
作为
Figure BDA00002189644300212
化合物的优选实例，示例JP-A-2006-297907和JP-A-2007-50660中所述的化合物。
Figure BDA00002189644300214
化合物的具体实例包括碘化四丁基
Figure BDA00002189644300215
溴化丁基三苯基
Figure BDA00002189644300221
，溴化四苯基
Figure BDA00002189644300222
，1，4-双(三苯基
Figure BDA00002189644300223
基)丁烷二(六氟磷酸盐)，1，7-双(三苯基
Figure BDA00002189644300224
基)庚烷硫酸盐和1，9-双(三苯基
Figure BDA00002189644300225
基)壬烷萘-2，7-二磺酸盐。
作为含氮低分子量化合物，示例胺盐和季铵盐。同样，示例咪唑
Figure BDA00002189644300226
盐，苯并咪唑盐，吡啶
Figure BDA00002189644300228
盐和喹啉盐。在含氮低分子量化合物中，优选使用季铵盐和吡啶
Figure BDA000021896443002210
盐。含氮低分子量化合物的具体实例包括六氟磷酸四甲基铵，六氟磷酸四丁基铵，对甲苯磺酸十二烷基三甲基铵，六氟磷酸苄基三乙基铵，六氟磷酸苄基二甲基辛基铵和六氟磷酸苄基二甲基十二烷基铵。
含铵基聚合物可以是在其结构中含有铵基的任何聚合物，并且优选是含有5至80摩尔％的在其侧链中具有铵基的(甲基)丙烯酸酯作为共聚合组分的聚合物。
关于含铵盐的聚合物，其根据下述测量方法测定的折合比浓粘度值(单位：cSt/g/ml)优选5至120，更优选10至110，特别优选15至100。
<折合比浓粘度的测量方法>
在20ml的测量烧瓶中称量3.33g 30重量％的聚合物溶液(1g固体含量)并且将该测量烧瓶用N-甲基吡咯烷酮填充至计量线。将所得溶液置入乌氏(Ubbelohde)粘度计(粘度计常数：0.010 cSt/s)并且测量该溶液在30℃的跑下(running down)时间。以传统方式根据以下计算式确定粘度。
动力粘度＝粘度计常数×用于液体通过毛细管的时间(秒)
含铵基聚合物的具体实例阐述如下。
(1)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比：10/90)
(2)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比：20/80)
(3)2-(乙基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比：30/70)
(4)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(摩尔比：20/80)
(5)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯甲基硫酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比：40/60)
(6)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比：20/80)
(7)2-(丁基二甲基铵基)乙基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比：20/80)
(8)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯13-乙基-5，8，11-三氧杂-1-十七烷磺酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比：20/80)
(9)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚酯/2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比：15/80/5)
基于图像记录层的总固体含量，感脂化剂的含量优选为0.01至30.0重量％，更优选0.1至15.0重量％，还更优选1至10重量％。
(5)其他组分
可以对图像记录层进一步添加其它组分，例如表面活性剂，着色剂，印出剂，聚合抑制剂，高级脂肪酸衍生物，增塑剂，无机细粒，无机层状化合物，共敏化剂或链转移剂。具体地，优选使用描述在例如JP-A-2008-284817的[0114]至[0159]段，JP-A-2006-91479的[0023]至[0027]段和美国专利公开2008/0311520的[0060]段中的化合物及其添加量。
(E)图像记录层的形成
根据本发明的图像记录层通过以下方法形成：将上述所需组分的每一个溶解或分散在溶剂中以制备用于图像记录层的涂布液，并且将溶液涂布在合适的载体上。所使用的溶剂包括，例如，二氯乙烷、环己酮、甲基乙基酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙基酯、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、环丁砜、γ-丁内酯、甲苯和水，但本发明不应被理解为限定于此。
可以单独或作为混合物使用溶剂。涂布液的固体含量浓度优选1至50重量％。
对于根据本发明的图像记录层，也可以通过以下方式形成图像记录层：通过将与上述相同或不同的构成组分分散或溶解至相同或不同的溶剂中制备多个涂布液，并且重复进行涂布和干燥数次。
涂布并干燥后在载体上形成的图像记录层的涂布量(固体含量)可以根据预期目的改变，但是通常优选为0.3至3.0g/m2。在上述范围内，可以获得图像记录层的良好的灵敏度和良好的膜性能。
可以使用多种方法用于涂布。涂布方法的实例包括刮条涂布机涂布、旋涂、喷涂、幕涂、浸涂、气刀刮涂、刮板涂布和辊涂。
[载体]
作为用于在本发明中使用的载体，采用尺寸稳定的铝或其合金(例如，与硅、铜、锰、镁、铬、锌、铅、铋或镍的合金)。通常，使用铝手册(AluminumHandbook)，第四版(1990，由日本轻金属协会(Japan Light Metal Association)出版)中描述的传统已知的材料，例如，JIS A 1050材料、JIS A 1100材料、JISA3103材料、JIS A3004材料、JIS A3005材料或者用于增加拉伸强度的目的，通过将不少于0.1重量％的镁加入至这些材料中制备的合金。在含有可聚合化合物的机上显影型平版印刷版原版的情况下，优选使用含有0.08至0.45重量％的Fe和0.05至0.20重量％的Si并且具有不大于0.05重量％的Al-Fe型金属间化合物含量的铝合金。
当载体是铝板时，通常依赖于目的对其表面进行多种处理。根据通常的处理方法，对铝板进行脱气或者电解抛光处理和去污处理，以清洁铝板的表面。随后，对铝板进行机械粗糙化处理或/和电化学粗糙化处理以在其表面上形成细微的不规则性。此外，在一些情况下另外地进行化学侵蚀处理和去污处理。随后，为了增加铝板表面的耐磨性，对铝板进行阳极氧化处理，并且之后，如果需要，在铝板的表面上进行亲水处理和/或封孔处理。
作为用于根据本发明的平版印刷版原版的载体，优选根据已知方法进行粗糙化处理和阳极氧化处理的铝板。并且，如有需要，可以适当地选择并且对铝板应用其他处理，例如，JP-A-2001-253181和JP-A-2001-322365中所述的阳极氧化膜微孔的扩大处理或密封处理，或者例如使用如美国专利2,714,066，3,181,461，3,280,734和3,902,734中所述的碱金属硅酸盐或美国专利3,276,868，4,153,461和4,689,272中所述的聚乙烯基膦酸的表面亲水化处理。载体优选具有0.10至1.2μm的中心线平均粗糙度。
[背涂层]
之后，如果需要，提供由有机聚合物化合物组成的背涂层(例如，JP-A-5-45885中描述的含有有机聚合物化合物的背涂层或者JP-A-6-35174中描述的含有硅的烷氧基化合物的背涂层)用于防止当堆叠时在感光性组合物层中出现刮擦。
[下涂层]
之后，如果需要，将用于下涂层的涂布液涂布在载体的表面上，并且干燥以形成下涂层。下涂层增强在载体和曝光区域中的图像记录层之间的粘合并且使得在未曝光区域中从载体移除图像记录层变得容易，从而在不伴随有印刷耐久性下降的情况下对显影性能的改善做出贡献。此外，在红外激光曝光的情况下，由于下涂层起隔热层的作用，因此防止了曝光时产生的热扩散到载体中而导致的灵敏度降低。
作为用于在下涂层中使用的化合物，具体地，例如，JP-A-10-282679中描述的具有可加成聚合烯型双键反应性基团的硅烷偶联剂以及JP-A-2-304441中描述的具有烯型双键反应性基团的磷化合物是优选的示例。如JP-A-2005-125749和JP-A-2006-188038中所描述的具有能够吸附至载体的表面的吸附基团、亲水基团和可交联基团的聚合物树脂是更优选的示例。聚合物树脂优选为具有吸附基团的单体、具有亲水基团的单体和具有可交联基团的单体的共聚物。更具体地，作为具有吸附基团，例如，酚羟基、羧基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-和-COCH2COCH3的单体，具有亲水磺基的单体和具有可聚合可交联基团，例如，甲基丙烯酰基或烯丙基的单体的共聚物的聚合物树脂。聚合物树脂可以含有通过聚合物树脂的极性取代基与含有具有与聚合物树脂的极性取代基相反的电荷的取代基和烯键式不饱和键的化合物之间盐的形成所引入的可交联基团，并且也可以进一步与除上面描述的那些单体之外的单体，优选亲水单体共聚。
基于1g的聚合物树脂，用于下涂层的聚合物树脂中的不饱和双键的含量优选为0.1至10.0mmol，最优选2.0至5.5mmol。
用于下涂层的聚合物树脂的重均分子量优选为5,000以上，更优选10,000至300,000。
根据已知方法涂布并且干燥下涂层。下涂层的涂布量(固体含量)优选为0.1至100mg/m2，并且更优选1至30mg/m2。
[制版方法]
根据本发明的平版印刷版原版的制版方法优选是在提供润版水和/或墨的同时在印刷机上显影的方法(机上显影)。
机上显影方法包括以下步骤：其中将平版印刷版原版图像式曝光的步骤，和其中在不进行任何显影处理的情况下，对曝光的平版印刷版原版施用油性墨和水性组分以进行印刷的印刷步骤，并且其特征在于：平版印刷版原版的未曝光区域在所述印刷步骤期间移除。图像式曝光可以在将平版印刷版原版安装在印刷机上以后在该印刷机上进行，或者可以使用印版记录机等分开进行。在后者情况下，将曝光的平版印刷版原版在没有经历显影处理步骤的情况下原样安装在印刷机上。然后，使用印刷机在供应油性墨和水性组分的情况下进行印刷，并且在印刷的初期进行机上显影。具体地，将未曝光区域中的图像记录层移除并且随之显露载体的亲水性表面以形成非图像区域。作为油性墨和水性组分，分别可以采用用于传统平版印刷的印刷墨和润版水。
以下更详细地描述制版方法。
在根据本发明的图像曝光中使用的曝光光源的所需波长优选为300至450nm或750至1,400nm。在用300至450nm的光曝光的情况下，使用具有图像记录层的平版印刷版原版，所述图像记录层含有最大吸收在这样的波长范围内的增感染料。在用750至1,400nm的光曝光的情况下，使用含有红外吸收剂的平版印刷版原版，所述红外吸收剂是最大吸收在这样的波长范围内的增感染料。优选使用半导体激光器作为300至450nm的光源。优选使用发射红外线的固体激光器或半导体激光器作为750至1,400nm的光源。曝光机构可以是内鼓***、外鼓***和平层***中的任何一种。
关于红外线激光器，输出优选为100mW以上，对每个像素的曝光时间优选在20微秒内，并且辐照能量优选为10至300mJ/cm2。关于激光曝光，为了缩短曝光时间，优选使用多束激光装置。
将曝光的平版印刷版原版安装在印刷机的印版滚筒上。在使用装备有激光曝光设备的印刷机的情况下，将平版印刷版原版安装在印刷机的印版滚筒上，然后进行图像式曝光。
当对图像式曝光的平版印刷版原版施用润版水和印刷墨以进行印刷时，在图像记录层的曝光区域中，通过曝光固化的图像记录层形成具有亲油性表面的印刷墨接受区域。另一方面，在未曝光的区域中，通过用所施用的润版水和/或印刷墨进行溶解或分散来移除未固化的图像记录层，以在该区域中显露亲水性表面。作为结果，润版水粘附至显露的亲水性表面并且印刷墨粘附至图像记录层的曝光区域，由此开始印刷。
虽然润版水或印刷墨都可以先施用在平版印刷版原版的表面上，但是考虑到防止润版水被所移除图像记录层的组分污染，优选先施用印刷墨。
从而，根据本发明的平版印刷版原版在胶印机上进行机上显影并且原样用于印刷大量的纸张。
此外，根据本发明的平版印刷版原版也可以通过在其中储存有含有例如表面活性剂和/或水溶性树脂的水溶液的自动显影机显影。
实施例
将参考下列实施例对本发明进行详细的描述，但是本发明不应当被理解为受限于此。对于聚合物化合物，除非另外说明，聚合物化合物的分子量表示重均分子量(Mw)并且重复单元的比例以摩尔百分数表示。
实施例1至8和比较例1至3
1.平版印刷版原版(1)至(7)的制备
(1)载体的制备
使用10重量％的铝酸钠水溶液在50℃对厚度为0.3mm的铝板(材料：JISA 1050)进行脱脂处理30秒，以便移除其表面上的辊轧油，然后使用三个植入有直径为0.3mm的尼龙硬毛束的尼龙刷以及中值尺寸为25μm的浮石的水性悬浮液(比重＝1.1g/cm3)将铝板表面砂目化，接着用水充分洗涤。通过在45℃的25重量％氢氧化钠水溶液中浸渍9秒而蚀刻该板，用水洗涤，然后在60℃的20重量％硝酸水溶液中浸渍20秒，并且用水洗涤。砂目化表面的蚀刻量是约3g/m2。
然后使用60Hz的交流电，在该板上连续进行电化学粗糙化处理。使用的电解液是1重量％硝酸水溶液(含有0.5质量％铝离子)且电解液的温度为50℃。使用具有梯形波形的方波交流电，使得对于电流值从0达到峰值所需的时间TP为0.8msec且占空比为1∶1，并且使用碳电极作为对电极进行电化学粗糙化处理。使用铁氧体作为辅助阳极。以电流峰值计的电流密度为30a/dm2，并且从电源流出的电流的5％分向辅助阳极。以铝板起阳极作用时的电量计，在该硝酸电解中的电量为175C/dm2。然后用水通过喷射洗涤该板。
使用温度为50℃的0.5重量％盐酸水溶液(含有0.5重量％的铝离子)并且在以铝板起阳极作用时的电量计电量为50C/dm2的条件下，以与上面硝酸电解相同的方式对该板进一步进行电化学粗糙化处理。然后使用水通过喷射洗涤该板。
然后在15A/dm2的电流密度使用15重量％硫酸(含有0.5重量％铝离子)作为电解液对板进行阳极氧化处理，以形成2.5g/m2的直流阳极氧化膜；用水洗涤并干燥以制备载体(1)。
其后，为了确保非图像区域的亲水性，使用2.5重量％的3号硅酸钠水溶液在60℃对载体(1)进行硅酸盐处理10秒，并且之后用水洗涤以获得载体(2)。Si的粘附量为10mg/m2。使用直径为2μm的触针测量载体的中心线平均粗糙度(Ra)并且发现为0.51μm。
(2)下涂层的形成
将下示下涂层用涂布液(1)涂布在上述载体(2)上，以获得20mg/m2的干燥涂布量，并且在80℃在热空气干燥机中干燥10秒，以制备具有下涂层的载体用于在下述实验中使用。
<下涂层用涂布液(1)>
Figure BDA00002189644300281
Figure BDA00002189644300291
(Mw：100,000)
用于下涂层的化合物(1)
(3)图像记录层的形成
将具有下示组成的图像记录层用涂布液(1)使用棒涂器涂布在如上所述形成的下涂层上，并且在100℃在热空气干燥机中烘箱干燥60秒，以形成具有1.0g/m2的干燥涂布量的图像记录层。图像记录层用涂布液(1)在临涂布前通过将下示感光液(1)与下示微凝胶溶液(1)混合，接着搅拌而制备。
<感光液(1)>
<微凝胶溶液(1)>
下示微凝胶(1)        2.640g
蒸馏水               2.425g
下面显示粘合剂聚合物(1)、聚合引发剂(1)、红外吸收染料(1)、亲水性低分子量化合物(1)、氟系表面活性剂(1)和含氨基聚合物的结构，并且微凝胶(1)的制造方法在下面给出。
<微凝胶(1)的制备>
油相组分通过将以下物质溶解在17g乙酸乙酯中而制备：10g的三羟甲基丙烷和二异氰酸二甲苯酯的加合物(TAKENATE D-110N，由MitsuiChemicals Polyurethanes，Inc.制造)，3.15g季戊四醇三丙烯酸酯(SR444，由NipponKayaku Co.，Ltd.制造)，和0.1g的PIONINA-41C(由Takemoto Oil&Fat Co.，Ltd.制造)。制备40g的4重量％的KURARAY POVAL PVA-205(聚乙烯醇，由Kuraray Co.，Ltd制造)水溶液作为水相组分。使用均化器将油相组分和水相组分以12,000rpm混合并且乳化10分钟。将所得的乳液加入到25g蒸馏水中并且在室温搅拌30分钟，然后在50℃搅拌3小时。将这样得到的微凝胶液体用蒸馏水稀释以使其具有15重量％的固体含量浓度，以制备微凝胶(1)。通过光散射方法测量微凝胶的平均粒度，并且发现为0.2μm。
Figure BDA00002189644300301
(Mw：70,000)
粘合剂聚合物(1)
红外吸收染料(1)
Figure BDA00002189644300312
自由基聚合引发剂(1)
Figure BDA00002189644300313
(Mw：13,000)
氟系表面活性剂(1)
Figure BDA00002189644300314
亲水性低分子量化合物(1)
含氨基聚合物
(4)外涂层的形成
将具有下表中所示的组成的用于外涂层的涂布液(1)至(7)通过棒涂器涂布在聚丙烯膜上，并且在150℃用热空气干燥20秒，以分别形成具有下表中所示的所需干燥涂布量的外涂层。在25℃和65％RH下进行涂膜的湿度调节之后，将外涂层从聚丙烯膜分离。
将由用于外涂层的涂布液(1)至(7)制备的外涂层的每一个放置在上面制备的图像记录层上，并且通过在25℃和65％RH下施加0.8Kg/cm2的压力压制，以制备用于实施例1至7的平版印刷版原版(1)至(7)的每一个。
Figure BDA00002189644300331
(无机层状化合物分散体(1)的制备)
将6.4g合成云母(SOMASIF ME-100，由CO-OP Chemical Co.，Ltd.制造)加入到193.6g离子交换水中，并且使用均化器对混合物进行分散，直至平均粒度(根据激光散射法)变为3μm。这样分散的粒子的纵横比为100以上。
2.平版印刷版原版(8)的制备
除了在用于外涂层的涂布液(3)中使用聚乙烯基吡咯烷酮(K30，由WakoPure Chemical Industries，Ltd.制造)代替聚乙烯醇(CKS 50，由Nippon SyntheticChemical Industry Co.，Ltd.制造)以外，以与用于实施例3的平版印刷版原版(3)中相同的方式制备用于实施例8的平版印刷版原版(8)。
3.用于比较例的平版印刷版原版的制备
以与用于实施例1的平版印刷版原版的制造方法中相同的方式制备用于比较例1至3的平版印刷版原版，除了将用于外涂层的涂布液(1)、(3)和(7)涂布在上面制备的图像记录层上并且在150℃用热空气干燥20秒以分别形成具有所需干燥涂布量的外涂层。
4.平版印刷版原版的评价
(1)外涂层的层间混合比
根据上述层间混合比的测量方法测定外涂层的层间混合比。在30mmHg抽真空之后使用卧式真空印刷机P-806-G(由Dainippon Screen Mfg.Co.，Ltd.制备)以400的曝光计数进行曝光，以使得可聚合基团的反应率达到60％以上。
(2)墨接受性
通过配备有红外线半导体激光器的LUXEL PLATESETTER T-6000III(由FUJIFILM Corp.制造)将平版印刷版原版在下列条件下曝光：1,000rpm的外鼓转速，70％的激光输出，以及2,400dpi的分辨率。曝光图像含有实心(solid)图像和20μm-点的FM丝网的50％网点图。
在未经显影处理的情况下将曝光的平版印刷版原版安装在印刷机(LITHRONE 26，由Komori Corp.制造)的印版滚筒上。使用润版水(DP 193(由FFHB制造)/自来水＝3/97(体积比))和PANTONE BLAU 072C(由EPPLE制造)，根据LITHRONE 26的标准自动印刷启动方法施用润版水和墨水以进行机上显影，并且以每小时10,000张的印刷速度在1,000张TOKUBISHI铜版纸(76.5kg)上印刷。
测量直至达到墨转移至图像记录层的图像区中的状态所需的印刷纸张的数目，以评价墨接受性。所获得的结果在表2中给出。
(3)印刷耐久性
使用配备有红外线半导体激光器的LUXEL PLATESETTER T-6000III(由FUJIFILM Corp.制造)将平版印刷版原版在下列条件下曝光：1,000rpm的外鼓转速，70％的激光输出，以及2,400dpi的分辨率。曝光图像含有实心图像和20μm-点的FM丝网的50％网点图。
在未经显影处理的情况下将曝光的平版印刷版原版安装在印刷机(LITHRONE 26，由Komori Corp.制造)的印版滚筒上。使用润版水(ECOLITY-2(由FUJIFILM Corp.制造)/自来水＝2/98(体积比))和VALUES-G(N)黑色墨(由Dainippon Ink&Chemicals，Inc.制造)，根据LITHRONE 26的标准自动印刷启动方法施用润版水和墨水，以在10,000张/小时的印刷速度在TOKUBISHI铜版纸(76.5kg)上进行机上显影和之后的印刷。随着印刷纸数的增加，图像记录层逐渐磨耗而导致印刷材料上墨密度的降低。测定其中通过使用Gretag密度计测量印刷材料上FM丝网的50％网点的网点面积率所获得的值比在第100张印刷纸上测量的值降低5％的印刷纸的数量，以评价印刷耐久性。所得结果显示在表2中。
表2：实施例1至8和比较例1至3
  外涂层的层间混合比(％)   墨接受性(张)  印刷耐久性(×104张)
 实施例1   2％   20  4.5
 实施例2   2％   25  5.0
 实施例3   2％   30  5.2
 实施例4   2％   45  5.6
 实施例5   3％   70  6.0
 实施例6   1％   35  6.0
 实施例7   1％   30  6.5
 实施例8   4％   35  5.0
 比较例1   40％   200  1.0
 比较例2   19％   350  0.8
 比较例3   14％   400  2.5
从表2中所示的结果，在外涂层与图像记录层的混合比小至10％以下的情况下，证实了印刷耐久性的更加提高而不伴随有墨接受性的劣化。此外，在外涂层含有无机粒子(云母)的情况下，同样，未发现作为迄今发现的问题的墨接受性的显著降低，并且发现了印刷耐久性上的提高。
工业实用性
根据本发明，可以提供在墨接受性和印刷耐久性上优异的机上显影型平版印刷版原版及其制造方法。
虽然详细并且参考具体实施方案描述了本发明，但是对于本领域技术人员显见的是，可以在变更和修改不脱离本发明的精神和范围的限度内加入多种变更和修改。
本申请基于2010年3月26日提交的日本专利申请(日本专利申请号2010-073868)，并且其内容通过引用结合在此。

Claims (8)

1.一种平版印刷版原版，所述平版印刷版原版按以下顺序包括载体、图像记录层和含有水溶性树脂的外涂层，所述图像记录层含有增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物，并且所述图像记录层的未曝光区能够通过在曝光之后在印刷机上提供印刷墨和润版水中的至少一种而被移除，其中所述外涂层基本上不与所述图像记录层混合。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版原版，其中所述外涂层通过层叠形成在所述图像记录层上。
3.根据权利要求2所述的平版印刷版原版，其中所述外涂层通过干式层叠形成在所述图像记录层上。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的平版印刷版原版，其中所述水溶性树脂是聚乙烯醇树脂。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的平版印刷版原版，其中所述外涂层含有无机层状化合物。
6.根据权利要求5所述的平版印刷版原版，其中所述无机层状化合物是云母。
7.根据权利要求1至6中的任一项所述的平版印刷版原版，其中所述图像记录层还含有具有聚氧化烯结构的聚合物粘合剂。
8.一种制造平版印刷版原版的方法，所述方法包括：在载体上设置图像记录层，所述图像记录层含有增感染料、聚合引发剂和可聚合化合物，并且所述图像记录层的未曝光区能够通过在曝光之后在印刷机上提供印刷墨和润版水中的至少一种而被移除；和进一步层叠含有水溶性树脂的外涂层。
CN2011800159192A 2010-03-26 2011-03-15 平版印刷版原版及其制造方法 Pending CN102821968A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010-073868 2010-03-26
JP2010073868 2010-03-26
PCT/JP2011/056086 WO2011118456A1 (ja) 2010-03-26 2011-03-15 平版印刷版原版及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102821968A true CN102821968A (zh) 2012-12-12

Family

ID=44673013

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011800159192A Pending CN102821968A (zh) 2010-03-26 2011-03-15 平版印刷版原版及其制造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20130137040A1 (zh)
EP (1) EP2554394B1 (zh)
JP (1) JP5629622B2 (zh)
CN (1) CN102821968A (zh)
BR (1) BR112012024549A2 (zh)
WO (1) WO2011118456A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109843596A (zh) * 2017-03-31 2019-06-04 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版原版层叠体以及平版印刷方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9202811B2 (en) 2012-12-18 2015-12-01 Infineon Technologies Americas Corp. Cascode circuit integration of group III-N and group IV devices

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5273862A (en) * 1988-07-29 1993-12-28 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C.
JPH1062969A (ja) * 1996-08-13 1998-03-06 Toray Ind Inc 感光性平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法
JP2005280123A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法及び画像形成装置
JP2008284858A (ja) * 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20090047601A1 (en) * 2007-07-02 2009-02-19 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP2009056733A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法

Family Cites Families (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE507657A (zh) 1950-12-06
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
NL267931A (zh) 1960-08-05 1900-01-01
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
ZA6807938B (zh) 1967-12-04
JPS5549729B2 (zh) 1973-02-07 1980-12-13
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
GB1512981A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JPH0760268B2 (ja) 1984-11-13 1995-06-28 三菱化学株式会社 感光性平版印刷版
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
DE3825836A1 (de) * 1988-07-29 1990-02-08 Hoechst Ag Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
US5040237A (en) 1989-03-31 1991-08-13 E. F. Johnson Company Method and apparatus for an alternate home channel for a land mobile transmission trunked communication system
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
DE69501853T2 (de) * 1994-06-15 1998-10-22 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung eines wärmeempfindlichen geschützten Aufzeichnungsmaterials
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH08244376A (ja) * 1995-03-14 1996-09-24 Konica Corp 多層型転写画像形成材料の製造方法
EP0770494B1 (en) 1995-10-24 2000-05-24 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithographic printing plate involving on press development
DE69623140T2 (de) 1995-10-24 2003-03-27 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindender Entwicklung
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
JPH09204049A (ja) 1996-01-25 1997-08-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂層体
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
EP0931647B1 (en) 1998-01-23 2003-04-02 Agfa-Gevaert A heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith
JPH11311862A (ja) 1998-04-30 1999-11-09 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性感光材料
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP4428851B2 (ja) 2000-11-29 2010-03-10 富士フイルム株式会社 光重合性平版印刷版
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6932665B2 (en) * 2003-07-24 2005-08-23 Fuji Electric Co., Ltd. Method of manufacturing organic EL display and color conversion filter substrate
JP4815113B2 (ja) 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2005329708A (ja) 2004-03-19 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4460986B2 (ja) 2004-09-24 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP5172097B2 (ja) 2005-02-28 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4911457B2 (ja) 2005-12-02 2012-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4820640B2 (ja) 2005-12-20 2011-11-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2007206217A (ja) 2006-01-31 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007206216A (ja) 2006-01-31 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007225702A (ja) 2006-02-21 2007-09-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2007225701A (ja) 2006-02-21 2007-09-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2007328243A (ja) 2006-06-09 2007-12-20 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
US8105751B2 (en) * 2006-06-09 2012-01-31 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor and pile of planographic printing plate precursors
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5046744B2 (ja) * 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20080311520A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
JP5222678B2 (ja) * 2007-09-28 2013-06-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5401699B2 (ja) 2008-09-18 2014-01-29 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5273862A (en) * 1988-07-29 1993-12-28 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C.
JPH1062969A (ja) * 1996-08-13 1998-03-06 Toray Ind Inc 感光性平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法
JP2005280123A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法及び画像形成装置
JP2008284858A (ja) * 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20090047601A1 (en) * 2007-07-02 2009-02-19 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP2009056733A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109843596A (zh) * 2017-03-31 2019-06-04 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版原版层叠体以及平版印刷方法
US10696083B2 (en) 2017-03-31 2020-06-30 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of producing same, lithographic printing plate precursor laminate, and lithographic printing method
US10800195B2 (en) 2017-03-31 2020-10-13 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of producing same, lithographic printing plate precursor laminate, and lithographic printing method
US10919331B2 (en) 2017-03-31 2021-02-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of producing same, lithographic printing plate precursor laminate, and lithographic printing method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011118456A1 (ja) 2011-09-29
EP2554394A1 (en) 2013-02-06
EP2554394A4 (en) 2016-04-13
EP2554394B1 (en) 2019-04-24
JP5629622B2 (ja) 2014-11-26
US20130137040A1 (en) 2013-05-30
JP2011218806A (ja) 2011-11-04
BR112012024549A2 (pt) 2016-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6661680B2 (ja) 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版の製版方法、並びに、印刷方法
CN102812402B (zh) 着色感光性组合物、平版印刷版原版和制版方法
EP1754597B1 (en) Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process
CN102442049B (zh) 平版印刷版原版及其制版方法
JP6486741B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、印刷方法
EP2380737A1 (en) Lithographic printing plate precursor
CN102821969B (zh) 平版印刷版原版及其制造方法
CN103068583B (zh) 机上显影型平版印刷版原版和使用该原版的制版方法
CN102574410B (zh) 平版印刷版原版及其制版方法
CN102653158A (zh) 平版印刷版原版及其制版方法
CN103826856B (zh) 平版印刷版的制版方法
WO2021171862A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2021065152A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262694A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷方法
CN103140357A (zh) 平版印刷版原版和使用其的制版方法
WO2019026813A1 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
CN102548770A (zh) 用于制备平版印刷版原版的方法
CN102821968A (zh) 平版印刷版原版及其制造方法
CN102834264B (zh) 平版印刷版的制版方法
CN103442900B (zh) 平版印刷版原版及其制版方法
JP7321261B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP2236292B1 (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method using the same
JP7293377B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
CN102378696A (zh) 平版印刷版原版
JP5651538B2 (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20121212