TWI463132B - 薄膜缺陷檢查方法及裝置 - Google Patents

Description

薄膜缺陷檢查方法及裝置

本發明係關於薄膜缺陷檢查方法及裝置，尤其是關於可高精度地檢測傷痕等微細缺陷用之薄膜缺陷檢查方法及裝置，該傷痕等產生在為了製造相位差薄膜之基膜的表面(塗布側面)者。

相位差薄膜等之光學薄膜的製造，大致可分為二大步驟，包括：製造基膜之製膜步驟；及塗布步驟，進行將配向層塗布液或液晶性塗布液塗布於所製成之基膜上等的處理。

即使為在製膜步驟中於基膜表面所產生之極微細的微細缺陷(例如，傷口等之凹凸缺陷)，在塗布步驟中塗布配向層塗布液或液晶性塗布液時，仍有作為塗布缺陷而被發現發現的情況。此基膜之微細缺陷所引起的塗布缺陷，成為使屬最終產品之相位差薄膜等光學薄膜之光學特性降低的致命原因。產生微細缺陷之代表例，如因在於製膜步驟輸送時之帶狀薄膜表面所附著的異物之摩擦，而在薄膜輸送方向產生V字狀傷痕之情況。

作為檢查此種薄膜表面缺陷之裝置，例如，具有專利文獻1之檢查裝置。此檢查裝置係利用CCD線型感測器接收從棒狀螢光燈照射於薄膜面的光來形成影像信號，並利用影像處理裝置來處理影像信號，藉以檢測薄膜表面之色斑或傷口等的缺陷，其中配置該棒狀螢光燈或與薄膜輸送方向正交。在專利文獻1中，作為該檢查裝置之感度上昇對策，係於薄膜背面配置暗箱。

[專利文獻1]日本特開2003-139524號公報。

然而，專利文獻1之檢查裝置，具有無法高感度地檢測深度為0.1μm以下之微細缺陷的問題。在相位差薄膜等之光學薄膜的製造中成為問題的微細缺陷，係寬度為5～30μm、長度為30～250μm、深度為0.04～0.1μm的極微細之傷痕，因此需要高精度地檢查此種極微細之傷痕。

作為用以提高微細缺陷之檢測感度的對策之一，可考慮藉由將輸送來之帶狀薄膜捲繞於輥子上，在矯正了阻礙微細缺陷之檢測的薄膜皺紋或縱皺紋的狀態下進行檢查。但是，當將薄膜捲繞於輥子上時，因輥子周面之彎曲性而使得受光機與薄膜之檢查區域面的距離無法成為恆定，所以會脫離景深範圍，影像反而因為模糊而造成感度降低。

因此，輸送來之薄膜的檢查區域面，係浮於容易將景深保持恆定之空中的狀態，而且需要能保持無皺紋或縱皺紋的平面性。

本發明係鑒於此種情況而提出者，其目的在於提供一種薄膜缺陷檢查方法及裝置，就連產生於薄膜表面之微細缺陷，亦可予以高感度地檢測，所以適合於作為製造相位差薄膜等之光學薄膜用的基膜之微細缺陷檢查。

為了達成上述目的，本發明之申請專利範圍第1項提供一種薄膜缺陷檢查方法，係利用受光機檢測在薄膜表面反射之反射散亂光，並根據檢測結果來檢查該薄膜表面之微細缺陷，其中該反射散亂光係從投光機照射至薄膜表面的檢查光在薄膜表面反射所產生者，該薄膜缺陷檢查方法之特徵為：一面將該薄膜朝其長度及寬度方向拉伸，保持薄膜之平面性，一面在將該投光機配置為與該微細缺陷之產生方向大致平行的狀態下，將該檢查光照射於該薄膜表面，同時在將該受光機配置為與該微細缺陷之產生方向大致平行的狀態下，接收該反射散亂光。

在此，「與微細缺陷之產生方向大致平行」，係表示相對與微細缺陷完全平行之配置，落在±15°以內為較佳，尤以±10°以內為特佳。

根據本發明之第一特徵，從與微細缺陷之產生方向大致平行地配置之投光機照射檢查光於薄膜表面，並在與微細缺陷之產生方向大致平行地配置受光機的狀態下，接收由薄膜面所反射之反射散亂光。藉此，可從與形成於薄膜表面之微細缺陷(例如V字狀的傷口面)大致垂直的方向照射檢查光。因此，比起從與微細缺陷之產生方向正交配置的投光機照射檢查光於薄膜表面，可增大反射散亂光之強度。同樣，利用與微細缺陷之產生方向大致平行地配置受光機，可增大反射散亂光之受光量。作為受光機可適用CCD線型感測器，多數之受光元件被配列為與微細缺陷之產生方向大致平行。

又，在本發明之第2特徵中，一面將薄膜朝其長度及寬度方向拉伸以保持薄膜之平面性，一面進行檢查，所以可在薄膜之檢查面浮於空中的狀態，且在無薄膜之皺紋或縱皺紋的狀態下進行檢查。藉此，不用如習知般為了矯正薄膜之皺紋或縱皺紋而捲繞於輥上，所以亦可解決受光機與薄膜檢查區域面之距離變得不再恆定的問題。

藉由此等2個特徵，即使為形成於薄膜面寬度為5～30μm、長度為30～250μm、深度為0.04～0.1μm的極微細之缺陷，仍可獲得可檢測之檢測感度。

申請專利範圍第2項係在申請專利範圍第1項中，其特徵為：該薄膜係作為連續輸送之帶狀薄膜而被製造者，該微細缺陷之產生方向係薄膜輸送方向。

申請專利範圍第2項之特徵為：在薄膜係製造成不是單片狀，而是被連續輸送之帶狀的情況，於薄膜輸送方向形成微細傷痕，所以，與微細缺陷之產生方向大致平行地配置投光機及受光機，在提昇檢測感度上變得越來越重要。

申請專利範圍第3項係在申請專利範圍第1或2項中，其特徵為：該薄膜表面之微細缺陷係寬度為5～30μm、長度為30～250μm、深度為0.04～0.1μm的傷痕。

申請專利範圍第3項係用以規定被要求高精度地檢測的微細缺陷之具體大小者，例如，在如相位差薄膜之光學薄膜的製造中，此程度之極微細的缺陷，係致使光學薄膜之光學特性降低的致命缺陷。

申請專利範圍第4項係在申請專利範圍第1至3項之任一項中，其特徵為：該薄膜係製造相位差薄膜用之基膜。

申請專利範圍第4項係用以規定本發明尤其是發揮效果之薄膜的用途者，如相位差薄膜，在即使為微細缺陷，仍成為光學特性降低之致命性缺陷的情況，本發明尤其發揮效果。

為了達成上述目的，本發明之申請專利範圍第5項提供一種薄膜缺陷檢查裝置，係用以檢測在薄膜表面反射之反射散亂光，並根據檢測結果來檢查該薄膜表面之微細缺陷，其中該反射散亂光係被照射至薄膜表面的檢查光在薄膜表面反射所產生者，該薄膜缺陷檢查裝置之特徵為具備：投光機，其被配置為與該微細缺陷之產生方向大致平行，且將該檢查光照射於該薄膜表面；受光機，其被配置為與該微細缺陷之產生方向大致平行，且用以檢測該反射散亂光；及拉伸機構，其將該薄膜朝其長度及寬度方向拉伸，藉以保持薄膜之平面性。

申請專利範圍第5項係將本發明作為裝置構成者，其配置與微細缺陷之產生方向大致平行之投光機及受光機，且在藉由拉伸機構將該薄膜朝其長度及寬度方向拉伸，藉以保持薄膜之平面性的狀態下進行檢查，所以，即使為形成於薄膜面寬度為5～30μm、長度為30～250μm、深度為0.04～0.1μm的極微細之缺陷，仍可獲得可檢測之檢測感度。

申請專利範圍第6項係在申請專利範圍第5項中，其特徵為：該薄膜係被連續輸送之帶狀薄膜，且在薄膜生產線上連線(on-line)檢查薄膜表面之微細缺陷，同時該投光機及該受光機被配置為與薄膜輸送方向大致平行。

申請專利範圍第6項之特徵為：在薄膜係製造成不是單片狀，而是形成被連續輸送之帶狀薄膜的情況，於薄膜輸送方向微細傷痕，所以，與微細缺陷之產生方向大致平行地配置投光機及受光機之作業，在提昇檢測感度上變得越來越重要。在依此被輸送之生產線上進行連線檢查的情況，帶狀薄膜之長度方向因輸送而被拉伸，容易產生皺紋或縱皺紋，所以，作為拉伸機構需要朝薄膜之寬度方向拉伸以矯正皺紋或縱皺紋，從而保持平面性。

申請專利範圍第7項係在申請專利範圍第5或6項中，其特徵為：設置橫移裝置，其搭載該投光機及該受光機而於該薄膜之寬度方向移動。

這是因為在配置投光機及受光機與微細缺陷之產生方向大致平行的本發明中，為了檢查連續輸送薄膜時之薄膜的全寬，設置搭載投光機及受光機而一體朝薄膜之寬度方向移動的橫移裝置，對提昇感度而言特佳。

申請專利範圍第8項係在申請專利範圍第5至7項之任一項中，其特徵為：在該受光機之該薄膜背面側設置透過光反射防止手段，藉以防止透過該薄膜之檢查光的反射。

如申請專利範圍第8項，由於在受光機之薄膜背面側設置透過光反射防止手段，藉以防止透過薄膜之檢查光的反射，所以可抑制薄膜背面之外亂光被受光機接收的情況。因此，利用在上述本發明之特徵加上申請專利範圍第8項的特徵，可進一步提高檢測感度。

申請專利範圍第9項係在申請專利範圍第5至8項之任一項中，其特徵為：在設該受光機之光軸與該投光機之正反射光所構成之夾角為θ時，以滿足-20°≦θ≦+20°(除0°以外)的方式配置該投光機及該受光機。

這是因為，微細缺陷所反射之反射散亂光的強度分布中可知，角度越是接近正反射光，越可增加光量，所以，利用以滿足-20°≦θ≦+20°(除0°以外)的方式配置投光機及受光機，可進一步提高微細缺陷之檢測感度。更以角度θ為-10°≦θ≦+10°(除0°以外)為較佳。在此，除角度θ為0°以外，意指去除正反射光直接射入受光機的情況。

申請專利範圍第10項係在申請專利範圍第5至9項之任一項中，其特徵為：該受光機被配置為與該薄膜面正對，且在該受光機之左右兩側配置有2台投光機。

根據申請專利範圍第10項，由於利用從配置於與薄膜面正對之受光機之左右兩側的2台投光機，照射與微細缺陷之產生方向大致平行的檢查光，因此與微細缺陷之左右形狀的差異無關，而可進行穩定之高感度的檢測。

申請專利範圍第11項係在申請專利範圍第5至10項之任一項中，其特徵為：該投光機在該薄膜面之照度為30萬Lx以上。

為了高感度地檢測作為檢查對象寬度為5～30μm、長度為30～250μm、深度為0.04～0.1μm的極微細之缺陷，該薄膜面之照度較佳為30萬Lx以上。

另外，為了高感度地檢測作為檢查對象寬度為5～30μm、長度為30～250μm、深度為0.04～0.1μm的極微細之缺陷，以附加如下之構成為較佳。即，係在受光機與薄膜面之間具備偏光板，而接收僅在反射散亂光之一方向上振動的光的構成。在此情況時，因受光機之受光量降低，所以與投光機之照度的關係變得重要。

另外，在投光機或受光機與薄膜面之間設置截波濾波器，並使用檢查光為400nm以下之短波長光。這是因為作為檢查對象之微細缺陷的深度比可視光之波長還小，所以長波長之光對於散亂光派不上用場的緣故。利用選擇性地使用短波長之檢查光，可高感度地檢測微細缺陷。例如，利用使用紫外線作為檢查光，即使是數nm深度之微細缺陷，仍可以高感度進行檢測。

根據本發明，就連產生於薄膜表面之微細缺陷，亦可予以高感度地檢測。因此，提供一種薄膜缺陷檢查方法及裝置，其適合於製造相位差薄膜等之光學薄膜用的基膜之微細缺陷之檢查。

以下，參照圖式詳細說明本發明之薄膜缺陷檢查方法及裝置的較佳實施形態。

第1圖為顯示本發明之薄膜缺陷檢查裝置10的一例之概念圖，第1(A)圖為顯示薄膜缺陷檢查裝置10整體之概念圖，第1(B)圖為檢查V字狀微細傷痕14時的局部放大圖。

如第1(A)圖所示，帶狀之透明薄膜12在朝箭頭F方向輸送，並在2根運送輥16,18之間以浮於空中之狀態進行檢查。2根運送輥16,18之間隔(從輥面至輥面)較佳為150～200mm。

薄膜缺陷檢查裝置10組裝於製造透明薄膜12之製造線，或是，亦可被設置作為以離線(off-line)方式檢查在製造線所製造之透明薄膜12的專用裝置。在被設置作為專用裝置的情況，在運送輥16之上游側設置輸送捲繞成輥狀之透明薄膜12的輸送機(未圖示)，並在運送輥18之下游側設置捲繞機(未圖示)，利用捲繞進行透明薄膜12之輸送。

在任一情況，透明薄膜12係利用將熔融狀態之樹脂從鑄模(未圖示)呈薄膜狀地延流於冷卻筒(未圖示)而進行成形之方法(熔融製膜法)、或是將屬樹脂溶解於溶劑中之摻雜劑從鑄模呈薄膜狀地延流於冷卻筒而進行成形之方法(溶液製膜法)所製造。因此，容易在延流方向、即透明薄膜12之輸送方向形成微細傷痕14。另外，在將透明薄膜12用作為製造相位差薄膜等之光學薄膜用的基膜的情況，微細傷痕14之大小，即使為寬度為5～30μm、長度為30～250μm、深度為0.04～0.1μm的極微細之傷痕，仍會成為問題。

薄膜缺陷檢查裝置10主要包含：投光機22，其被配置為與微細傷痕14之產生方向大致平行，且將檢查光20照射於透明薄膜12表面；受光機24，其被配置為與微細傷痕14之產生方向大致平行，且用以檢測由薄膜表面所反射之反射散亂光；及拉伸機構26，其將透明薄膜12朝其長度及寬度方向拉伸，藉以保持透明薄膜12之檢查區域面的平面性。投光機22及受光機24係配置於透明薄膜12之產生微細傷痕14的薄膜表面之上方位置，並且受光機24係配置於投光機22之正反射光直接射入不會直接射入的位置。

投光機22係以被配置為可與微細傷痕14之產生方向大致平行的棒狀者為較佳。在此，「與微細傷痕14之產生方向大致平行」係指在設與微細傷痕14之產生方向完全平行的配置為0度時，以落在±15°以內為較佳，且以落在±10°以內為更佳。藉此，如第1(B)圖所示，因可從與形成於透明薄膜12表面之V字狀的微細傷痕14之傷面14A大致垂直的方向側面照射檢查光20，所以，藉由從與微細傷痕14之產生方向正交的方向照射檢查光，可增大反射散亂光之強度。

雖可使用螢光燈作為投光機22，但因是微細傷痕14且傷痕之深度極淺(例如，0.1μm以下)，所以，以可照射短波長之檢查光20者為較佳，較佳可使用紫外線照射裝置。藉此，為了從通常之螢光燈僅取出為短波長之檢查光，亦較佳在投光機22與透明薄膜12之間設置截波濾波器(未圖示)。

另外，亦以在投光機22或受光機24與透明薄膜12面之間設置偏光板(未圖示)，而使用於一定方向進行振動之檢查光20為較佳。

投光機22之照度係以在透明薄膜12面之照度為30萬Lx以上為較佳。

受光機24可適合使用CCD線型感測器，並將CCD線型感測器之多個受光元件配置為與微細傷痕14之產生方向大致平行。如此，利用將受光機24配置為與微細傷痕14之產生方向大致平行，可增大反射散亂光之受光量。在此，「大致平行」與在投光機22之說明相同。

CCD線型感測器雖可為一個，但以串聯排列複數個為較佳。第1(A)圖中，雖顯示了串列2個CCD線型感測器之情況，但亦可為3個以上。

投光機22與受光機24係被搭載於未圖示之橫移裝置上，並朝第1(A)圖之A-B方向移動。藉此，可於透明薄膜12之全寬進行檢查。又，亦可藉由橫跨於透明薄膜12之全寬且並列配置複數個受光機24，而省略橫移裝置。

由受光機24所接收之反射散亂光被轉換為電信號後輸入影像處理裝置28，根據藉由影像處理裝置28所形成之透明薄膜12的影像(例如，起因於微細傷痕14之影像的濃淡)，檢查微細傷痕14之有無。

第2圖為顯示投光機22與受光機24之配置關係的示意圖。

如第2圖所示，在設受光機24之光軸30與投光機22之正反射光a所構成之夾角為θ時，以滿足-20°≦θ≦+20°(除0°以外)的方式配置投光機22及受光機24為較佳。藉此，可提高檢測感度。這是因為在微細傷痕14所反射之反射散亂光的強度分布中，角度θ越是接近正反射光，越可增加光量，而可更進一步地提高微細傷痕14之檢測感度。又。以角度θ為-10°≦θ≦+10°(除0°以外)為較佳。

當以使受光機24與透明薄膜12面正對之第3圖的例子來說明此反射散亂光的強度分布時，第3(A)圖為滿足角度θ為-20°≦θ≦+20°(除0°以外)的情況，第3(B)圖為不滿足之情況。另外，箭頭a為正反射光，箭頭b為反射於受光機24之光軸方向的反射散亂光，箭頭c為其他之反射散亂光，較長之箭頭表示反射散亂光的強度強。

從第3(A)圖及第3(B)圖之對比可知，受光機24之光軸30與正反射光a之夾角θ越小，則被反射於受光機24之光軸30方向的反射散亂光b的長度越長，且強度越強。

另外，如第4圖所示，以受光機24被配置為與透明薄膜12面正對，且在受光機24之左右兩側配置有2台投光機22為較佳。這是因為利用從與透明薄膜12面正對之受光機24之左右兩側配置的2台投光機22，照射與微細傷痕14之產生方向大致平行的檢查光20，則可在與微細傷痕14之左右形狀(參照第1(B)圖)的差異無關下，進行穩定之高感度的檢測。

第5圖為拉伸機構26之一例，透明薄膜12之長度方向(輸送方向)係藉由薄膜輸送而被賦以張力，所以，其是用以拉伸薄膜寬度方向的拉伸機構26。

如第5圖所示，拉伸機構26主要由一對之挾持裝置32及張力裝置34所構成，挾持裝置32係用以夾入透明薄膜12之寬度方向兩端部；張力裝置34係支撐一對挾持裝置32且以相互分離之方式進行移動，從而對透明薄膜12賦予寬度方向之張力。

為了一面輸送透明薄膜12一面使拉伸機構26動作，需要使張力裝置34與透明薄膜12之輸送一起移動，在此適合採用第6圖使薄膜橫向延伸之拉幅裝置的移動機構36。亦即，如第6圖所示，設置複數個夾入透明薄膜12之寬度方向兩端部的挾持裝置32，並透過張力裝置34(第6圖中被省略)支撐於無接縫鏈條42上，該無接縫鏈條42係繞掛在配置於二根輥16,18間之一對皮帶輪38,40上。並將無接縫鏈條42之旋轉移動與透明薄膜12之輸送的速度設為相同。另外，挾持裝置32係在輥16之位置挾持透明薄膜12，並在輥18之位置解除此挾持。藉此，可使挾持裝置32與透明薄膜12之輸送一起移動。第6圖中，僅在透明薄膜12之寬度方向一方側圖示移動機構36，而省略了另一側。

另外，在將薄膜缺陷檢查裝置10設為上述專用裝置之情況，可於檢查中停止薄膜輸送，所以，在此情況時無需設置移動機構36。藉此，如第1圖所示，只要於薄膜寬度方向對向地設置一對挾持裝置32，並由各個張力裝置34進行拉伸即可，其中該挾持裝置32可於透明薄膜12之長度方向且以長尺寸進行挾持。

藉由設置此拉伸機構26，可一面將透明薄膜12朝其長度(輸送張力)及寬度方向(拉伸機構26)拉伸，以保持透明薄膜12之平面性，一面進行檢查，所以，即使在透明薄膜12之檢查區域面浮於空中的狀態，仍可以無皺紋或縱皺紋的狀態進行檢查。藉此，可更進一步提高檢查感度。

作為較佳之平面性的程度，在設透明薄膜12之高低0μm膜面為理想水平面44時，以因皺紋或縱皺紋而產生之膜面高低落在±150μm以內為較佳，更以落在±100μm以內為特佳。另外，以膜面與理想水平面44之傾斜度α為1°以內為較佳，更以0.5°以內為特佳。藉此，如習知，為了矯正透明薄膜12之皺紋或縱皺紋，亦可不用捲繞於輥上，所以可解決受光機24與被檢查之檢查區域面之距離不恆定的問題。

第7圖顯示透明薄膜12面之傾斜度α為起因的反射散亂光之強度分布，與第3圖中之說明相同，箭頭a為正反射光，箭頭b為反射於受光機24之光軸方向的反射散亂光，箭頭c為其他之反射散亂光，較長之箭頭表示反射散亂光的強度強。

從第7圖可知，當於透明薄膜12面具有傾斜度α時，因受光機24之光軸30與正反射光的角角θ增大，所以，反射於受光機24之光軸方向的箭頭b之長度變短，使得反射散亂光之強度減弱。第7圖中，雖描繪成透明薄膜12整體傾斜，但當顯微式地觀察皺紋或縱皺紋的部分時，可取作為膜面之傾斜，若具有皺紋或縱皺紋時，則檢測感度會降低。

另外，如第5圖所示，以在受光機24之透明薄膜12背面側設置光吸收箱46為較佳，該光吸收箱46用以防止透過透明薄膜12之檢查光20的反射。光吸收箱46例如被塗布有消除光澤的黑色塗料，而以光之反射率極低的方式所形成。藉此，可抑制透明薄膜12背面之散亂光被受光機24接收的情況。因此，可更進一步提高檢測感度。

又，在本實施形態中，雖以輸送之帶狀透明薄膜12的例子進行了說明，但本發明亦可應用於單片狀之透明薄膜12。另外，雖以透明薄膜12為例進行了說明，但亦可適用於不透明之薄膜。

[實施例]

其次，說明利用以下之條件實施的本發明之實施例及比較例。

將藉由熔融製膜法所製成之三醋酸纖維素薄膜作為檢查對象，使用本發明之薄膜缺陷檢查裝置(實施例之裝置)或習知之薄膜缺陷檢查裝置(比較例之裝置)，對該薄膜表面所發現之微細傷痕(微細缺陷)進行檢查。傷口大小係寬度為10μm、長度為210μm、深度為0.05μm的極微細之傷痕，微細傷痕係被形成於熔融製膜之來自成形模具的擠壓方向、即薄膜運送方向。第9圖顯示第1～4實施例之檢查條件及第1～3比較例的檢查條件及檢查結果。

(第1實施例)

第1實施例係以與微細傷痕14之產生方向大致平行的方式配置投光機22及受光機24，並使用保持薄膜12之平面性的拉伸機構26。投光機22係使用棒狀之螢光燈，受光機24係使用CCD線型感測器，並將2根投光機22配置於受光機24的兩側。此時，薄膜12表面之照度為3500Lux。另外，設受光機24與正反射光之夾角θ為10°。另外，在運送輥16,18間之薄膜背面，並不特別設置支撐薄膜12用之構件，薄膜12係在空中輸送的途中被檢查。

(第2實施例)

第2實施例在除投光機22之數量為1個，薄膜12表面之照度為1800Lux這一點及設受光機24與正反射光的夾角θ為5°這一點以外，其餘均與第1實施例之條件相同。

(第3實施例)

第3實施例在除設受光機24與正反射光的夾角θ為10°這一點以外，其餘均與第2實施例之條件相同。

(第4實施例)

第4實施例在除設受光機24與正反射光的夾角θ為20°這一點以外，其餘均與第2實施例之條件相同。

(第1比較例)

第1比較例係以與微細傷痕14之產生方向大致垂直(正交)的方式配置投光機22及受光機24，並使用保持薄膜12之平面性的拉伸機構26。投光機22係使用1根棒狀之螢光燈，受光機24係使用CCD線型感測器。此時，薄膜表面之照度為1800Lux。另外，在運送輥16,18間之薄膜背面，並不特別設置支撐薄膜12用之構件，且薄膜12係在空中輸送的途中被檢查。即，第1比較例在以與微細傷痕14之產生方向大致垂直(正交)的方式配置投光機22及受光機24這一點上，不滿足本發明。

(第2比較例)

第2比較例係以與微細傷痕14之產生方向大致平行的方式配置投光機22及受光機24，但不使用保持薄膜12之平面性的拉伸機構26。投光機22係使用1根棒狀之螢光燈，受光機24係使用CCD線型感測器。此時，薄膜表面之照度為1800Lux。另外，設受光機24與正反射光之夾角θ為10°。並在運送輥16,18間之薄膜背面，並不特別設置支撐薄膜12用之構件，薄膜12係在空中輸送的途中被檢查。即，第2比較例在不使用拉伸機構26這一點上，不滿足本發明。

(第3比較例)

第3比較例係不使用拉伸機構26，取而代之在薄膜背面配置支撐輥以進行薄膜捲繞，藉以矯正薄膜12之皺紋或縱皺紋。其他之條件均與第2比較例相同。亦即，第3比較例在取代拉伸機構26而使用支撐輥這一點上，不滿足本發明。

然後，以能否確認微細傷痕14之缺陷信號來評價檢查性能。第9圖之◎表示完全無雜訊且能極為良好地確認缺陷信號，○表示幾乎無雜訊且能良好地確認缺陷信號。另外，△表示雜訊雖略有增加但能確認缺陷信號，是可使用之性能。×表示雜訊、皺紋或縱皺紋等之檢查障礙要因多，而無法確認缺陷信號或無法進行判別。

如於第9圖之項目「判斷」中結果的顯示，第1實施例為◎、第2及第3實施例為○、第4實施例為△之評價。

相對於此，不滿足以本發明之基本構成進行檢查之條件的第1～第3比較例，全部為×評價，其中本發明之基本構成係一面保持(使用拉伸機構26)平面性，同時與微細傷痕14平行地配置投光機22及受光機24。

10．．．薄膜缺陷檢查裝置

12．．．透明薄膜

14．．．微細傷痕

16,18．．．運送輥

20．．．檢查光

22．．．投光機

24．．．受光機

26．．．拉伸機構

28．．．影像處理裝置

30．．．受光機之光軸

32．．．挾持裝置

34．．．張力裝置

36．．．移動機構

38,40．．．皮帶輪

42．．．無接縫鏈條

44．．．理想水平面

46．．．光吸收箱

第1圖為本發明之薄膜缺陷檢查裝置之概念圖。

第2圖為說明投光機與受光機之位置關係的說明圖。

第3圖為投光機與受光機之位置關係的差異造成之反射散亂光的強度之說明圖。

第4圖為相對於受光機配置2個投光機的圖。

第5圖為薄膜缺陷檢查裝置之拉伸機構的說明圖。

第6圖為構成拉伸機構之移動機構的說明圖。

第7圖為說明拉伸機構之作用的說明圖。

第8圖為習知之薄膜缺陷檢查裝置的概念圖。

第9圖為本發明之實施例及比較例的圖表。

10．．．薄膜缺陷檢查裝置

12．．．透明薄膜

14．．．微細傷痕

14A．．．傷面

16,18．．．運送輥

20．．．檢查光

22．．．投光機

24．．．受光機

26．．．拉伸機構

28．．．影像處理裝置

Claims (7)

1. 一種薄膜缺陷檢查方法，係在檢查薄膜運送方向上所發生的細微缺陷的方法中，利用受光機檢測在薄膜表面反射之反射散亂光，並根據檢測結果以離線檢查該薄膜表面之微細缺陷，其中該反射散亂光係從投光機照射至薄膜表面的檢查光在薄膜表面反射所產生者，該薄膜缺陷檢查方法之特徵為：該離線檢查係為，一面將該薄膜朝該薄膜運送方向及寬度方向拉伸，及在設該薄膜的膜面之高低0μm為理想水平面時，使該膜面高低落在±150μm以內，且相對於該理想水平面的該膜面之傾斜度α為0.1°以內，保持薄膜之平面性，一面在將該投光機配置為與該薄膜運送方向大致平行的狀態下，將該檢查光照射於該薄膜表面，同時在將該受光機配置為與該薄膜運送方向大致平行的狀態下，接收該反射散亂光；其中在設該受光機之光軸與該投光機之正反射光所構成之夾角度為θ時，以滿足-10°≦θ≦+10°的方式配置該投光機及該受光機，其中θ不包含0°。
2. 如申請專利範圍第1項之薄膜缺陷檢查方法，其中該薄膜表面之微細缺陷係寬度為5~30μm、長度為30~250μm、深度為0.04~0.1μm的傷痕。
3. 如申請專利範圍第1或2項之薄膜缺陷檢查方法，其中 該薄膜係製造相位差薄膜用之基膜。
4. 一種薄膜缺陷檢查裝置，係在檢查薄膜運送方向上所發生的細微缺陷的裝置中，檢測在薄膜表面反射之反射散亂光，並根據檢測結果來以離線檢查該薄膜表面之微細缺陷，其中該反射散亂光係被照射至薄膜表面的檢查光在薄膜表面反射所產生者，該薄膜缺陷檢查裝置之特徵為具備：投光機，其被配置為與該薄膜運送方向大致平行，且將該檢查光照射於該薄膜表面；受光機，其被配置為與該薄膜運送方向大致平行，且用以檢測該反射散亂光；拉伸機構，其將該薄膜運送方向及寬度方向拉伸，及在設該薄膜的膜面之高低0μm為理想水平面時，使該膜面高低落在±150μm以內，且相對於該理想水平面的該膜面之傾斜度α為0.1°以內，藉以保持薄膜之平面性；及透過光反射防止手段，係設置在該受光機之該薄膜背面側，藉以防止透過該薄膜之檢查光的反射；其中在設該受光機之光軸與該投光機之正反射光所構成之夾角度為θ時，以滿足-10°≦θ≦+10°的方式配置該投光機及該受光機，其中θ不包含0°。
5. 如申請專利範圍第4項之薄膜缺陷檢查裝置，其中設置橫移裝置，其搭載該投光機及該受光機而於該薄膜之寬 度方向移動。
6. 如申請專利範圍第4或5項之薄膜缺陷檢查裝置，其中該受光機被配置為與該薄膜面正對，且在該受光機之左右兩側配置有2台投光機。
7. 如申請專利範圍第4或5項之薄膜缺陷檢查裝置，其中該投光機在該薄膜面之照度為30萬Lx以上。