TW202039637A

TW202039637A - 聚醯胺酸組成物、聚醯亞胺組成物、及聚醯亞胺成形體

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Publication number: TW202039637A
Application number: TW109109885A
Authority: TW
Inventors: 宮本剛
Original assignee: 日商大阪曹達股份有限公司
Priority date: 2019-03-27
Filing date: 2020-03-25
Publication date: 2020-11-01
Also published as: CN113631634A; KR20210146921A; WO2020196721A1; JPWO2020196721A1

Abstract

本發明為一種聚醯胺酸組成物，係由包含下述通式(A)表示之重複單元之聚醯胺酸溶解或分散於溶劑中而成，

通式(A)中， R^A 、及R^B 各自獨立地為氫原子或甲基， R^C 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B^A 為2價有機基， B³ 、及B⁴ 各自獨立地為-C(=O)-或-CH₂ -， G¹ 及G² 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，或為直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基，且環為2個以上時，環為縮合環。

Description

聚醯胺酸組成物、聚醯亞胺組成物、及聚醯亞胺成形體

本發明關於具有透明性且紫外線耐久性之高分子化合物。

本發明理想係關於耐熱性優良的聚醯亞胺成形體，尤其關於可理想地利用作為對耐熱性以及對透明性且紫外線耐久性之要求高的產品、或用以形成構件之材料(例如顯示裝置的玻璃代替品等)之透明聚醯亞胺薄膜。又，本發明關於用以製造如此的聚醯亞胺成形體之聚醯胺酸組成物及聚醯亞胺組成物。

習知利用四羧酸二酐與二胺化合物之聚縮合而得的聚醯亞胺為耐熱性、物理特性及耐藥品性優良、介電常數也低的聚合物。考慮如此的性質，聚醯亞胺可使用於各種用途，尤其在電氣、電子材料領域中，廣泛地被使用作為保護材料、絕緣材料等(專利文獻1)。

但是，習知由芳香族四羧酸二酐與二胺化合物構成的全芳香族聚醯亞胺雖然機械特性、耐久性優良，但常著色成黃色至褐色，並未被使用於要求透明性之顯示器基材等。就具有透明性的聚醯亞胺而言，例如有人提出包含來自脂肪族單體、含氟之單體、或分子側鏈具有體積龐大的取代基之單體的重複單元之聚醯亞胺(專利文獻2)。但是，包含來自這些單體的重複單元之聚醯亞胺雖然透明性有改善，但有時會有機械強度、耐久性大為降低的情況。

於是，要求透明性優良且例如作為顯示器基材之機械強度、耐久性優良的聚醯亞胺。亦即，要求聚醯亞胺兼具相互有衝突的特性(優良的透明性、機械強度、及耐久性)。還要求用以製造如此的聚醯亞胺之聚醯胺酸組成物及聚醯亞胺組成物。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2007-152932號公報 [專利文獻2]日本特開2004-111152號公報

[發明所欲解決之課題]

本發明係鑑於上述課題而成，本發明之目的為提供兼具優良的透明性、機械強度、及耐久性之聚醯亞胺成形體(例如透明聚醯亞胺薄膜等)。又，本發明之另一目的為提供用以製造如上述般之聚醯亞胺成形體的聚醯胺酸組成物及聚醯亞胺組成物。 [解決課題之手段]

本發明人們為了解決上述課題而進行深入探討，著眼於聚醯亞胺成形體所具有的特定部分(例如具有特定光吸收帶之發色基團(芳香環等))互相靠近會在分子間及分子內形成電荷移動(CT)錯合物，透明性會降低的情況。根據該著眼點，為了抑制CT錯合物的形成，發現將用以製造聚醯亞胺成形體之聚醯胺酸組成物及聚醯亞胺組成物中的分子鏈間距遠離至預定之距離的方法。另一方面，著眼於包含來自分子側鏈具有體積龐大的基之單體的重複單元之聚醯亞胺成形體中，因為體積龐大的基會作為間隔基(spacer)而發揮功能，造成分子鏈間的距離變寬且分子鏈之有序的排列被打亂，導致機械強度及耐久性降低的情況。根據該著眼點，為了維持一定秩序的分子鏈之排列，發現將用以製造聚醯亞胺成形體之聚醯胺酸組成物及聚醯亞胺組成物中的分子鏈間距接近到預定之距離的方法。本案發明人進一步探討的結果想到藉由將作為分子鏈間之間隔基而發揮作用且為親油性並具有凝聚性之類固醇結構導入至聚醯胺酸及聚醯亞胺之重複單元的主鏈中，因而具有透明性同時兼具機械強度及耐久性之本發明。亦即，本發明包含下列實施形態。

本發明之實施形態之聚醯胺酸組成物，係由包含下述通式(A)表示之重複單元之聚醯胺酸溶解或分散於溶劑中而成， [化1]

通式(A)中， R^A 及R^B 各自獨立地為氫原子或甲基， R^C 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B^A 為2價有機基， B³ 及B⁴ 各自獨立地為-C(=O)-或-CH₂ -， G¹ 及G² 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，或為直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基，且環為2個以上時，環為縮合環。本發明之另一實施形態之聚醯亞胺成形體，係將上述聚醯胺酸組成物塗佈於基材上，並利用加熱來實施溶劑餾去與醯亞胺化反應而製造。本發明之另一實施形態之聚醯亞胺組成物，係由包含下述通式(B)表示之重複單元之聚醯亞胺溶解或分散於溶劑中而成， [化2]

通式(B)中， R^D 及R^E 各自獨立地為氫原子或甲基， R^F 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B^D 為2價有機基， B⁵ 及B⁶ 各自獨立地為-C(=O)-或-CH₂ -， G³ 及G⁴ 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，或為直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基，且環為2個以上時，環為縮合環。本發明之另一實施形態之聚醯亞胺成形體，係將上述聚醯亞胺組成物塗佈於基材上，並利用加熱來實施溶劑餾去而製造。 [發明之效果]

根據本發明，可提供兼具優良的透明性、機械強度、及耐久性之聚醯亞胺成形體。又，可提供用以製造如上述般之聚醯亞胺成形體的聚醯胺酸組成物及聚醯亞胺組成物。

以下，針對本發明之實施形態(聚醯胺酸組成物、聚醯亞胺組成物、及聚醯亞胺成形體)進行詳細地說明。惟，本發明不受下列實施形態任何限制，本發明可在本發明之目的的範圍內適當地加以變化來實施。另外，說明重複的位置有時會有適當地省略說明的情況，並非限定發明之要旨。

＜定義＞以下，碳原子數1~20之烷基、碳原子數1~10之烷基、碳原子數1~3之烷基、碳原子數2~10之烯基、碳原子數1~3之烷氧基、碳原子數1~3之鹵化烷基、鹵素原子、碳原子數1~3之伸烷基、碳原子數5~7之環烷二基、伸芳基、碳原子數5~7之環烷環、直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基、直鏈狀之碳原子數4~6之烷三基及碳原子數4以下之醇若無任何規定，則分別為如下含意。

碳原子數1~20之烷基為直鏈狀或支鏈狀且未經取代。碳原子數1~20之烷基可列舉例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、二級丁基、三級丁基、戊基、異戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基、-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、及正二十烷基。

碳原子數1~10之烷基為直鏈狀或支鏈狀且未經取代。碳原子數1~10之烷基可列舉例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、二級丁基、三級丁基、戊基、異戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基、-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 、正壬基、及正癸基。

碳原子數1~3之烷基為直鏈狀或支鏈狀且未經取代。碳原子數1~3之烷基可列舉例如：甲基、乙基、正丙基、及異丙基。

碳原子數2~10之烯基為直鏈狀或支鏈狀且未經取代。碳原子數2~10之烯基可列舉例如：乙烯基、丙烯基、丁烯基、及-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH=C(CH₃ )₂ 。

碳原子數1~3之烷氧基為直鏈狀或分支狀且未經取代，碳原子數1~3之烷氧基可列舉例如：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、及異丙氧基。

碳原子數1~3之鹵化烷基為直鏈狀或分支狀且未經取代。碳原子數1~3之鹵化烷基係碳原子數1~3之烷基中的1個或多個氫原子被取代為1個或多個鹵素原子而成的基，可列舉例如：三氟甲基。

鹵素原子可列舉例如：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。

碳原子數1~3之伸烷基為直鏈狀或分支狀且未經取代。碳原子數1~3之伸烷基可列舉例如：亞甲基、伸乙基、伸正丙基、及伸異丙基。

碳原子數5~7之伸環烷基(環烷二基)為環狀且未經取代。碳原子數5~7之伸環烷基可列舉例如：環戊烷二基、環己烷二基、及環庚烷二基(更具體而言為1,4-環己烷二基、及1,3-環己烷二基等)。

伸芳基(芳烴二基)為環狀且未經取代。伸芳基可列舉例如：碳原子數6~14之單環或多環之伸芳基。碳原子數6~14之單環之伸芳基可列舉例如：伸苯基(更具體而言為對伸苯基等)。多環之伸芳基可列舉例如：二環伸芳基(更具體而言為伸萘基(萘二基)、及茚二基等)、三環伸芳基(更具體而言為蒽二基、菲二基、苊二基、及二環戊二烯并苯二基(indacene-diyl)等)。

碳原子數5~7之環烷環為環狀且未經取代。碳原子數5~7之環烷環可列舉例如：環戊烷環、環己烷環、及環庚烷環。

直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基未經取代。直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基可列舉例如：正丁烷三基、正戊烷三基、正己烷三基、正庚烷三基、正辛烷三基、正壬烷三基、及正癸烷三基。

直鏈狀之碳原子數4~6之烷三基未經取代。直鏈狀之碳原子數4~6之烷三基可列舉例如：正丁烷三基、正戊烷三基、及正己烷三基。

碳原子數4以下之醇為直鏈狀或分支狀且未經取代。碳原子數4以下之醇為碳原子數1~4之醇。碳原子數1~4之醇可列舉例如：甲醇、乙醇、正丙醇、及異丙醇。

＜第1實施形態：聚醯胺酸組成物＞ [聚醯胺酸] 本發明之第1實施形態之聚醯胺酸組成物含有聚醯胺酸與溶劑。聚醯胺酸組成物(以下有時記載為「聚醯胺酸組成物(A)」)係由包含下述通式(A)表示之重複單元(以下有時記載為「重複單元(A)」)之聚醯胺酸(以下有時記載為「聚醯胺酸(A)」)溶解或分散於溶劑中而成， [化3]

通式(A)中， R^A 、及R^B 各自獨立地為氫原子或甲基， R^C 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B^A 為2價有機基， B³ 及B⁴ 各自獨立地為-C(=O)-或-CH₂ -， G¹ 及G² 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，或為直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基，且環為2個以上時，環為縮合環。

通式(A)中，R^A 及R^B 宜為甲基。 R^C 宜為碳原子數1~10之烷基或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH (CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH=C(CH₃ )₂ 更佳，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 再更佳。

B^A 宜為包含選自於由脂肪族環及芳香環構成之群組中之至少1種環之2價有機基，為通式(A-1)表示之2價有機基更佳。 -B^A1 -(Y¹ -B^A1 )_n1 -･･･(A-1) 通式(A-1)中， B^A1 為伸芳基、或2價脂肪族環之基， Y¹ 為單鍵、如氧原子及硫原子般之雜原子、羰基(-C(=O)-)、或磺醯基(-S(=O)₂ -)， n1為0~2之整數， n1為1以上之整數時，多個B^A1 可互為相同也可相異， n1為2以上之整數時，多個Y¹ 可互為相同也可相異。

2價脂肪族環之基可列舉例如：單環或多環之2價脂肪族環之基。單環之2價脂肪族環之基可列舉例如：碳原子數5~7之伸環烷基。多環之2價脂肪族環之基可列舉例如：二環之2價脂肪族環之基、及三環以上之2價脂肪族環之基。二環之2價脂肪族環之基可列舉例如：2個單環之脂肪族環經縮合而成的2價基(更具體而言為雙環[4.4.0]癸烷二基(十氫萘二基)、雙環[2.2.1]庚烷二基(降莰烷二基)等)、及3個單環之脂肪族環經縮合而成的2價基(更具體而言為三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷二基等)。

n1表示1以上之整數且Y¹ 表示單鍵時，就藉由單鍵而鍵結的2個B^A1 而言，和形成單鍵之環員原子不同的環員原子，可互相直接地鍵結，也可介隔碳原子數1~3之伸烷基而間接地鍵結。此時，B^A1 例如為：伸聯苯基二基、及茀二基。

B^A1 表示之伸芳基或2價脂肪族環之基可更具有1個或多個取代基。如此的取代基可列舉例如：碳原子數1~3之烷基、碳原子數1~3之鹵化烷基、及碳原子數1~3之烷氧基。這些取代基之中，宜為甲基。

B³ 及B⁴ 可互為相同也可相異。

G¹ 及G² 所表示之直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基宜為直鏈狀之碳原子數4~6之烷三基。直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基為3價取代基。直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基所具有的4~10個碳原子之中，鍵結於羧基之碳原子係藉由單鍵而直接地鍵結，鍵結於羰基之碳原子係藉由單鍵而直接地鍵結。

G¹ 及G² 所表示之脂肪族環可列舉例如：單環或多環之脂肪族環。單環之脂肪族環可列舉例如：碳原子數5~7之環烷環。多環之脂肪族環可列舉例如：2個單環之脂肪族環經縮合而成的環(更具體而言為雙環[4.4.0]癸烷環、及雙環[2.2.1]庚烷環等)、及3個單環之脂肪族環經縮合而成的環(更具體而言為三環[5.2.1.0^2,6 ]癸烷環等)。

G¹ 及G² 所表示之芳香族環可列舉例如：碳原子數6~14之單環或多環之芳香環。碳原子數6~14之單環之芳香環可列舉例如：苯環。碳原子數6~14之多環之芳香環可列舉例如：二環之萘環、以及三環之蒽環、菲環、及苊環。

G¹ 及G² 宜各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，為單環之脂肪族環或單環之芳香環更佳，為環己烷環或苯環再更佳。另外，G¹ 及G² 可互為相同也可相異。

B^A1 宜為碳原子數6~14之單環之伸芳基或碳原子數5~7之伸環烷基，為伸苯基或環己烷二基更佳，為對伸苯基或1,4-環己烷二基再更佳，為對伸苯基特佳。 n1宜為0或1。 Y¹ 宜為單鍵、碳原子數1~3之伸烷基、或如氧原子及硫原子般之雜原子，為單鍵，亞甲基、或氧原子更佳，為單鍵或氧原子再更佳。

第1實施形態之聚醯胺酸組成物中的聚醯胺酸由於包含重複單元(A)，故兼具優良的透明性、機械強度及耐久性。其理由據認為如下。重複單元(A)具有來自後述通式(C)表示之類固醇二醇之類固醇結構。類固醇結構具有4個脂肪族環以椅型之立體構形進行反式縮合而成的結構。重複單元(A)由於如此般於主鏈具有體積龐大的類固醇結構，故會作為直鏈狀之分子鏈平行排列而成的聚醯胺酸之間的間隔基而發揮作用。因此，重複單元(A)可使分子鏈間遠離並維持預定之距離，且在一定程度打亂分子鏈之有序的排列。因此，據認為會抑制聚醯胺酸之分子鏈中的特定部分(例如具有特定光吸收帶之發色基團(芳香環等))彼此之重疊。因此，不易形成在可視範圍具有光吸收帶之分子間及分子內的電荷移動(CT)錯合物。又，類固醇結構為脂肪族環之縮合環，且不具有如茀般之芳香環之縮合環、或如雙酚A般之芳香環介隔碳或氧原子而鍵結之多環結構。因此，類固醇結構不會形成如芳香環般之分子內CT錯合物，而第1實施形態之聚醯胺酸組成物之透明性優良。另一方面，類固醇結構之體積龐大，此外在重複單元(A)中，比起醯胺鍵及羧基較為親油性。因此，類固醇結構部分具有凝聚性，藉由不同的分子鏈間之類固醇結構互相吸引，可使聚醯胺酸之分子鏈間接近並維持預定之距離。藉此，聚醯胺酸之分子鏈互相可有一定程度之秩序進行排列，故第1實施形態之聚醯胺酸組成物之機械強度及耐久性優良。如此，第1實施形態之聚醯胺酸可利用類固醇結構將聚醯胺酸之分子鏈間維持在適當的距離，故可兼具相互有衝突的特性亦即透明性、機械強度、及耐久性。

重複單元(A)宜包含選自於由下述通式(I)、下述通式(II)、下述通式(III)以及下述通式(IV)構成之群組中之重複單元(以下有時分別將這些重複單元記載為「重複單元(I)」、「重複單元(II)」、「重複單元(III)」及「重複單元(IV)」)中的至少1者(以下有時分別將包含這些重複單元之聚醯胺酸記載為「聚醯胺酸(I)」、「聚醯胺酸(II)」、「聚醯胺酸(III)」及「聚醯胺酸(IV)」)。 [化4]

通式(I)中， R¹ 及R² 各自獨立地為氫原子或甲基， R³ 為氫原子、碳數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B¹ 為2價有機基， [化5]

通式(II)中， R¹¹ 及R¹² 各自獨立地為氫原子或甲基， R¹³ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B¹¹ 為2價有機基， [化6]

通式(III)中， R²¹ 及R²² 各自獨立地為氫原子或甲基， R²³ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B²¹ 為2價有機基， [化7]

通式(IV)中， R³¹ 及R³² 各自獨立地為氫原子或甲基， R³³ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B³¹ 為2價有機基。

通式(I)中，R¹ 及R² 宜為甲基。通式(I)中，R³ 宜為碳原子數1~10之烷基、或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH=C(CH₃ )₂ 更佳。通式(I)中，B¹ 和通式(A)中的B^A 同義，宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。

聚醯胺酸(I)可列舉例如：包含化學式(I-2)表示之重複單元之聚醯胺酸及包含化學式(I-3)表示之重複單元之聚醯胺酸(以下有時分別記載為「聚醯胺酸(I-2)」及「聚醯胺酸(I-3)」)。 [化8]

[化9]

通式(II)中，R¹¹ 及R¹² 宜為甲基。通式(II)中，R¹³ 宜為碳原子數1~10之烷基、或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH=　C(CH₃ )₂ 更佳。通式(II)中，B¹¹ 和通式(A)中的B^A 同義，宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。

聚醯胺酸(II)可列舉例如：包含化學式(II-2)表示之重複單元之聚醯胺酸及包含化學式(II-3)表示之重複單元之聚醯胺酸(以下有時分別記載為「聚醯胺酸(II-2)」及「聚醯胺酸(II-3)」)。 [化10]

[化11]

通式(III)中，R²¹ 及R²² 宜為甲基。通式(III)中，R²³ 宜為碳原子數1~10之烷基或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH= C(CH₃ )₂ 更佳。通式(III)中，B²¹ 和通式(A)中的B^A 同義，宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。

通式(IV)中，R³¹ 及R³² 宜為甲基。式(IV)中，R³³ 宜為碳原子數1~10之烷基或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH= C(CH₃ )₂ 更佳。通式(IV)中，B³¹ 和通式(A)中的B^A 同義，宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。

聚醯胺酸(A)宜為包含重複單元(I)~(IV)中之至少1者之聚醯胺酸，為包含選自於由重複單元(I)及(II)構成之群組中之重複單元中的至少1者之聚醯胺酸更佳，為包含重複單元(I)或(II)之聚醯胺酸再更佳，為聚醯胺酸(I-2)、(I-3)、(II-2)或(II-3)特佳。

(聚醯胺酸之末端結構) 聚醯胺酸(A)可任意選擇酸酐基及胺基中之任一末端基。末端基例如可藉由過量使用後述合成反應時之酸二酐與二胺化合物中之任一者(亦即，將其中一者的進料量設定為過量)來選擇。將末端基設定為酸酐基時，末端結構可直接為酸酐基，也可進行水解而成為羧酸，亦可利用碳原子數4以下之醇來製成酯。

聚醯胺酸(A)之合成反應時，相對於二胺化合物過量地使用四羧酸二酐時，也可更添加單官能之胺化合物，並以單官能之胺化合物對末端之酸酐基進行封端。單官能之胺化合物可列舉例如：苯胺、甲苯胺、二甲苯胺、三甲苯胺、乙苯胺、二乙苯胺、三乙苯胺、胺基酚、甲氧基苯胺、胺基苯甲酸、聯苯胺、萘胺、及環己胺之類的一級胺。

合成反應後，相對於酸酐過量地使用二胺化合物時，也可更添加單官能之酸酐，並以單官能之酸酐對末端之胺基進行封端。單官能之酸酐若為水解時會成為二羧酸或三羧酸之單官能之酸酐則可使用而無特別限制。如此的單官能之酸酐可列舉例如：馬來酸酐、甲基馬來酸酐、二甲基馬來酸酐、琥珀酸酐、降莰烯二甲酸酐、4-(苯乙炔基)苯二甲酸酐、4-乙炔基苯二甲酸酐、苯二甲酸酐、甲基苯二甲酸酐、二甲基苯二甲酸酐、偏苯三甲酸酐、萘二甲酸酐、7-氧雜雙環[2.2.1]庚烷-2,3-二甲酸酐、雙環[2.2.1]庚烷-2,3-二甲酸酐、雙環[2.2.2]八-5-烯-2,3-二甲酸酐、八氫-1,3-二側氧基異苯并呋喃-5-甲酸酐、六氫苯二甲酸酐、甲基六氫苯二甲酸酐、二甲基環己烷二甲酸酐、1,2,3,6-四氫苯二甲酸酐、及甲基-4-環己烯-1,2-二甲酸酐。

聚醯胺酸(A)宜為在聚醯胺酸(A)(更具體而言為包含選自於由重複單元(I)~(IV)構成之群組中之至少1者之聚醯胺酸)之分子末端實質上不含來自四羧酸之二羧酸結構。本說明書中，「來自四羧酸」不僅只來自四羧酸，也可來自四羧酸之衍生物(例如四羧酸二酐)。「實質上不含」係指聚醯胺酸(A)之分子末端全部之中，宜為95%以上，更佳為98%以上，再更佳為99%以上，特佳為100%之比例不具有二羧酸結構。

聚醯胺酸(A)更宜為在聚醯胺酸(A)之分子末端含有來自二胺之胺基，此外，聚醯胺酸中之胺基(-NH₂ )的比例(末端胺基濃度)為0.001~0.1莫耳/kg之範圍更佳。

聚醯胺酸(A)的末端胺基濃度可利用下式(C)來計算。 (末端胺基濃度)=17×(ΣXB-ΣXA-0.5×ΣXC)/Σ(WB×PB)+Σ(WA×PA)･･･(C) 式(C)中， WB為二胺化合物的進料量(g)， MB為二胺化合物的分子量， PB為二胺化合物的純度(%)， XB為二胺化合物的進料莫耳量，係利用下式(C-1)來計算； XB=(WB×PB)/(100×MB)･･･(C-1) WA為四羧酸的進料量(g)， MA為四羧酸的分子量， PA為四羧酸的純度(%)， XA為四羧酸的進料莫耳量，係利用下式(C-2)來計算； XA=(WA×PA)/(100×MA)･･･(C-2) WC為後述單官能羧酸酐的進料量(g)， MC為單官能羧酸酐的分子量， PC為單官能羧酸酐的純度(%)， XC為單官能羧酸酐的進料莫耳量，係利用下式(C-3)來計算； XC=(WC×PC)/(100×MC)･･･(C-3)。

聚醯胺酸(A)的末端胺基濃度可如上述般由聚醯胺酸(A)的反應物之質量等來計算，也可由完成品之聚醯胺酸組成物來計算。例如，聚醯胺酸溶解於水溶性溶劑時，可藉由滴定鹽酸之類的無機酸來進行測定。

[聚醯胺酸組成物之製造方法] 針對聚醯胺酸組成物之製造方法之一例進行說明。聚醯胺酸組成物(A)例如可使具有類固醇結構之四羧酸化合物與二胺化合物進行反應而獲得。更具體而言，聚醯胺酸(A)係依循反應式(R-1)及(R-2)表示之反應(以下，有時分別記載為「反應(R-1)」及「反應(R-2)」)或利用依據這些反應之方法來合成。於反應(R-1)合成具有類固醇結構之四羧酸二酐，並於反應(R-2)合成聚醯胺酸(A)。

[化12]

[化13]

反應(R-1)及(R-2)中，通式(C)及通式(E)中的R^A 、R^B 、及R^C 分別和通式(A)中的R^A 、R^B 、及R^C 同義，通式(D)中的G和通式(A)中的G¹ 及G² 中之至少一者同義，通式(E)中的G¹ 及G² 分別和通式(A)中的G¹ 及G² 同義，通式(E)中的B³ 及B⁴ 和通式(A)中的B³ 及B⁴ 同義，通式(D)中的Z為-CH₂ X(單鹵化甲基)或-C(=O)X，X為鹵素原子，宜為氯原子或溴原子，為氯原子更佳， B³ 及B⁴ 為-CH₂ -時，Z為-CH₂ X；B³ 及B⁴ 為-C(=O)-時，Z為-C(=O)X， m為重複單元數(聚合度)。

(反應(R-1)) 於反應(R-1)使1當量之通式(C)表示之類固醇二醇(以下有時記載為「類固醇二醇(C)」)與2當量之通式(D)表示之羧酸酐(以下有時記載為「羧酸酐(D)」)進行反應來獲得1當量之通式(E)表示之四羧酸二酐(以下有時記載為「四羧酸二酐(E)」)。以下，分2種情況說明B³ 及B⁴ 。

(B³ 及B⁴ 為-CH₂ -時) 反應(R-1)為醚化反應。 Z為-CH₂ X。

類固醇二醇(C)可列舉例如：化學式(C-1)及(C-2)表示之類固醇二醇(以下有時分別記載為「類固醇二醇(C-1)」及「類固醇二醇(C-2)」)。

[化14]

羧酸酐(D)可列舉例如：通式(D-1)表示之羧酸酐(3-鹵化甲基苯二甲酸酐，以下有時記載為「羧酸酐(D-1)」)或通式(D-2)表示之羧酸酐(1-鹵化甲基環己烷二甲酸酐，以下有時記載為「羧酸酐(D-2)」)。

[化15]

通式(D-1)及(D-2)中，X為氯原子或溴原子。

羧酸酐(D-1)宜為3-氯化甲基苯二甲酸酐及3-溴化甲基苯二甲酸酐。羧酸酐(D-2)宜為1-氯化甲基-3,4-環己烷二甲酸酐、及1-溴化甲基-3,4-環己烷二甲酸酐。

醚化反應例如在溶劑中將羧酸酐(D)於鹼性觸媒下實施脫鹵化氫反應後，再與類固醇二醇(C)進行反應，獲得具有類固醇結構之四羧酸(中間產物)。然後，將該中間產物脫水，將2個羧基轉化為二羧酸酐結構。藉此獲得四羧酸二酐(E)。

醚化反應所使用的溶劑可列舉例如：甲苯及苯之類的芳香族烴類；二***、甲基乙基醚、甲基丁基醚、四氫呋喃、及二㗁烷之類的醚類；以及其它如丙酮、水等。

醚反應所使用的鹼性觸媒可列舉例如：氫氧化鈉及氫氧化鉀之類的鹼金屬氫氧化物、以及碳酸鉀之類的鹼金屬碳酸鹽。

醚化反應的反應溫度通常為-50~250℃，宜為0~200℃。醚化反應的反應時間通常為0.1~20小時，宜為0.5~10小時。

中間產物的脫水宜於乙酸酐之類的脫水觸媒中使中間產物還原。可在中間產物之脫水後，將具有類固醇結構之四羧酸二酐純化。如此的純化方法可列舉例如：再結晶、及昇華。在此使用於再結晶之溶劑係於加溫時為實施酸酐結構之開環的良溶劑，於冷卻時則成為其不良溶劑者，且宜為於再結晶操作不會變質者。如此的溶劑可列舉例如：丙酮、及甲乙酮之類的酮系溶劑；以及乙酸酐溶劑。

經由醚化反應可獲得例如化學式(E-2)、及化學式(E-3)表示之四羧酸二酐(以下有時分別記載為「四羧酸二酐(E-2)」及「四羧酸二酐(E-3)」)。 [化16]

[化17]

(B³ 及B⁴ 為-C(=O)-時) 反應(R-1)為酯化反應。 Z為-C(=O)X。類固醇二醇(C)可列舉例如：類固醇二醇(C-1)及(C-2)。羧酸酐(D)可列舉例如：化學式(D-3)羧酸酐(3-鹵化醯基苯二甲酸酐，以下有時記載為「羧酸酐(D-3)」)或化學式(D-4)表示之羧酸酐(1-鹵化醯基環己烷二甲酸酐，以下有時記載為「羧酸酐(D-4)」)。

[化18]

通式(D-3)及(D-4)中，X宜為氯原子或溴原子。羧酸酐(D-3)宜為偏苯三甲酸酐醯氯及偏苯三甲酸酐醯溴。

酯化反應例如在溶劑中使羧酸酐(D)於酸性觸媒下或鹼性觸媒下進行反應，獲得具有類固醇結構之四羧酸(中間產物)。然後，將該中間產物脫水，將2個羧基轉化為羧酸酐結構。藉此獲得四羧酸二酐(E)。

酯化反應所使用的溶劑可理想地使用可溶解反應物(更具體而言為類固醇二醇(C)及羧酸酐(D))及中間產物(具有類固醇結構之四羧酸)，且於反應中溶劑本身不會變質之溶劑。

酯化反應所使用的溶劑可列舉例如：苯、及甲苯之類的芳香族烴類；二***、四氫呋喃、二㗁烷、1,2-二甲氧基乙烷、苯甲醚、乙二醇二甲醚、及乙二醇二***之類的醚類；以及水等。這些溶劑可單獨使用1種，也可將2種以上組合使用。

酯化反應所使用的觸媒可使用通常使用作為酯化反應用觸媒之酸觸媒或鹼觸媒。觸媒的種類可依羧酸酐(D)之種類而適當地選擇。酸觸媒可列舉例如：鹽酸、硫酸、三氟乙酸酐、甲磺酸、對甲苯磺酸、三氟化硼二***錯合物、三氟化硼二丁醚錯合物。又，鹼觸媒可列舉例如：三乙胺、三丁胺、吡啶、甲吡啶、二甲基吡啶、二甲基苯胺、1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一烯、四甲基脲、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、及碳酸鉀。

觸媒可依觸媒的種類而使用適當的量。觸媒通常相對於羧酸酐(D)1莫耳，係以0.001~5.0莫耳，宜以0.1~2.5莫耳之範圍的物質量來使用。

酯化反應溫度通常為-50~250℃，宜為0~200℃。反應時間通常為0.1~20小時，宜為0.5~10小時。

中間產物的脫水宜於乙酸酐之類的脫水觸媒中使中間產物還原。可在中間產物之脫水後，將具有類固醇結構之四羧酸二酐純化。如此的純化方法可列舉例如：再結晶、及昇華。在此使用於再結晶之溶劑係於加溫時為實施酸酐結構之開環的良溶劑，於冷卻時則成為其不良溶劑者，且宜為於再結晶操作不會變質者。如此的溶劑可列舉例如：丙酮、甲乙酮之類的酮系溶劑；以及乙酸酐溶劑。

經由酯化反應可獲得例如化學式(E-4)、及化學式(E-5)表示之四羧酸二酐(以下有時分別記載為「四羧酸二酐(E-4)」及「四羧酸二酐(E-5)」)。 [化19]

[化20]

(反應(R-2)) 於反應(R-2)使1當量之四羧酸二酐(E)與1當量之通式(F)表示之二胺化合物(以下有時記載為「二胺化合物(F)」)進行聚合來獲得聚醯胺酸(A)。通式(F)中的B^A 和通式(A)中的B^A 同義。

(二胺化合物) 二胺化合物(F)宜為2個胺基鍵結於包含選自於由脂肪族環及芳香環構成之群組中之至少1種環之2價有機基而成的化合物，更佳為通式(F-2)表示之二胺化合物。 H₂ N-B^A2 -(Y² -B^A2 )_n2 -NH₂ ･･･(F-2) 通式(F-2)中，B^A2 、Y² 、及n2分別和通式(A-2)中的B^A1 、Y¹ 、及n1同義。

通式(F-2)中，B^A2 宜為碳原子數6~14之單環之伸芳基、及碳原子數5~7之伸環烷基，為伸苯基及環己烷二基更佳，為對伸苯基及1,4-環己烷二基再更佳，為對伸苯基特佳。通式(F-2)中，n2宜為0~2之整數，為0或1更佳。通式(F-2)中，Y² 宜為單鍵、碳原子數1~3之烷基、及雜原子，為單鍵、甲基、及氧原子更佳，為氧原子再更佳。通式(F-2)中，B^A2 也可具有之取代基宜為碳原子數1~3之烷基、及碳原子數1~3之鹵化烷基，為甲基及鹵化甲基更佳，為甲基及三氟甲基再更佳。

二胺化合物(F)可列舉例如：芳香族二胺、及脂肪族二胺。

芳香族二胺至少具有1個芳香族環。芳香族二胺可列舉例如：1,3-苯二胺、1,4-苯二胺(對苯二胺(PDA))、2,4-二胺基甲苯、2,6-二胺基甲苯、3,4-二胺基甲苯、4,5-二甲基-1,2-苯二胺、2,5-二甲基-1,4-苯二胺、2,6-二甲基-1,4-苯二胺、2,3,5,6-四甲基-1,4-苯二胺、3-胺基苄胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,2’-二甲基聯苯-4,4’-二胺、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺、3,3’-二甲氧基聯苯胺、4,4’-二胺基八氟聯苯、3,3’-二胺基二苯甲烷、3,4’-二胺基二苯甲烷、4,4’-二胺基二苯甲烷、4,4’-亞甲基雙(2,6-二乙基苯胺)、4,4’-亞甲基雙(2-乙基-6-甲基苯胺)、4,4’-伸乙二苯胺、4,4’-二胺基二苯基醚(ODA)、3,4’-二胺基二苯基醚、3,3’-二胺基二苯基醚、2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基二苯基醚、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(3-胺基苯氧基)苯、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,4-雙(4-胺基-2-三氟甲基苯氧基)苯、4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、4,4’-二胺基-3,3’-二甲基二苯甲烷、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷、2,2-雙(3-胺基苯基)六氟丙烷、2,2’-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2’-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2-雙(3-胺基-4-甲基苯基)六氟丙烷、α,α’-雙(4-胺基苯基)-1,4-二異丙苯、雙(2-胺基苯基)硫醚、雙(4-胺基苯基)硫醚、3,3’-二胺基二苯基碸、4,4’-二胺基二苯基碸、4,4’-二胺基二苯基硫醚、4,4’-二胺基二苯甲酮、3,3’-二胺基二苯甲酮、4,4’-二胺基苯甲醯苯胺、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙(4-胺基苯基)對苯二甲酸酯、2,7-二胺基茀、及9,9-雙(4-胺基苯基)茀。

脂肪族二胺可列舉例如：1,3-二胺基環己烷、1,4-二胺基環己烷、1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,1-雙(4-胺基苯基)環己烷、4,4’-二胺基二環己基甲烷、4,4’-亞甲基雙(2-甲基環己基胺)、4,4’-亞甲基雙(2,6-二甲基環己基胺)、4,4’-二胺基二環己基丙烷、雙環[2.2.1]庚烷-2,3-二胺、雙環[2.2.1]庚烷-2,5-二胺、雙環[2.2.1]庚烷-2,6-二胺、雙環[2.2.1]庚烷-2,7-二胺、2,3-雙(胺基甲基)-雙環[2.2.1]庚烷、2,5-雙(胺基甲基)-雙環[2.2.1]庚烷、2,6-雙(胺基甲基)-雙環[2.2.1]庚烷、及3(4),8(9)-雙(胺基甲基)三環[5.2.1.0(2,6)]癸烷。二胺化合物(F)可單獨使用1種，也可組合2種以上。

二胺化合物(F)於上述二胺化合物之中，宜為對苯二胺、2,2’-二甲基聯苯-4,4’-二胺、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺、2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基二苯基醚、及1,4-雙(4-胺基-2-三氟甲基苯氧基)苯、及4,4’-二胺基二苯基醚之類的芳香族二胺；1,4-二胺基環己烷、4,4’-二胺基二環己基甲烷、4,4’-亞甲基雙(2-甲基環己基胺)、4,4’-亞甲基雙(2,6-二甲基環己基胺)之類的脂肪族二胺；以及它們的組合，為對苯二胺、4,4’-二胺基二苯基醚、及它們的組合更佳。

(四羧酸化合物) 聚醯胺酸(A)也可具有來自具有類固醇結構之四羧酸二酐(E)以外的四羧酸二酐之重複單元。如此的四羧酸酐(以下有時記載為「四羧酸二酐(E-X)」)中，由於四羧酸二酐不會產生反應副產物，故適合使用於聚醯胺酸(A)之合成中。

四羧酸二酐(E-X)在得到的聚醯胺酸(A)會發揮本發明之效果的條件下，就習知聚醯亞胺之製造所使用的酸二酐而言，可列舉例如：芳香族系酸二酐、脂肪族系酸二酐、及脂肪族酯系酸二酐。

芳香族系酸二酐可列舉例如：均苯四甲酸二酐、1,2,3,4-苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-聯苯四甲酸二酐、2,3,3’4’-聯苯四甲酸二酐、2,3,2’,3’-聯苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲烷四甲酸二酐、2,3,3’,4’-二苯甲烷四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸二酐、2,3,3’,4’-二苯甲酮四甲酸二酐、2,3,2’,3’-二苯甲酮四甲酸二酐、3,4’-氧二鄰苯二甲酸二酐、4,4’-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3’-氧二鄰苯二甲酸二酐、二苯基碸-3,4,3’,4’-四甲酸二酐、二苯基碸-2,3,3’,4’-四甲酸二酐、二苯基碸-2,3,2’,3’-四甲酸二酐、4,4’-[亞異丙基雙[(1,4-伸苯基)氧基]]二苯二甲酸二酐、5,5’-亞異丙基雙(苯二甲酸酐)、3,5’-亞異丙基雙(苯二甲酸酐)、3,3’-亞異丙基雙(苯二甲酸酐)、4,4’-(1,4-伸苯基雙氧基)雙苯二甲酸二酐、4,4’-(1,3-伸苯基雙氧基)雙苯二甲酸二酐、5,5’-[氧基雙(4,1-伸苯基氧基)]雙苯二甲酸二酐、及5,5’-[磺醯基雙(4,1-伸苯基氧基)]雙苯二甲酸二酐。

此外，芳香族系酸二酐也包含具有矽原子、氟原子、酯結構、或茀咔哚結構者。更具體而言，含矽系酸二酐可列舉例如：4,4’-(二甲基矽基)雙(苯二甲酸)1,2：1’,2’-二酐、4,4’-(甲基乙基矽基)雙(苯二甲酸)1,2：1’,2’-二酐、4,4’-(苯基甲基矽基)雙(苯二甲酸)1,2：1’,2’-二酐、及4,4’-(二苯基矽基)雙(苯二甲酸)1,2：1’,2’-二酐。

含氟系酸二酐可列舉：4,4’-(2,2-六氟亞異丙基)二苯二甲酸二酐、3,4’-(2,2-六氟亞異丙基)二苯二甲酸二酐、3,3’-(2,2-六氟亞異丙基)二苯二甲酸二酐、4,4’-[2,2-六氟亞異丙基雙[(1,4-伸苯基)氧基]]二苯二甲酸二酐。茀咔哚結構系酸二酐可列舉：5,5’-[9H-茀-9,9-二基雙(4,1-伸苯基氧基)]雙(異苯并呋喃-1,3-二酮)、及5,5’-[9H-茀-9,9-二基雙(1,1’-聯苯-5,2-二基氧基)]雙(異苯并呋喃-1,3-二酮)。

酯系酸二酐可列舉例如：乙二醇雙(偏苯三甲酸酐酯)、1,4-伸苯基雙(偏苯三甲酸酐酯)、1,3-伸苯基雙(偏苯三甲酸酐酯)、1,2-伸苯基雙(偏苯三甲酸酐酯)、雙(1,3-二氫-1,3-二側氧基異苯并呋喃-5-甲酸)-2-乙醯氧基丙烷-1,3-二酯、5,5’-[伸乙基雙(氧基)]雙(異苯并呋喃-1,3-二酮)、雙(1,3-二氫-1,3-二側氧基-5-異苯并呋喃甲酸)氧基雙(亞甲基氧基亞甲酯)、及4,4’-[亞異丙基雙(4,1-伸苯基氧基羰基)]雙苯二甲酸二酐。

脂肪族系酸二酐可列舉例如：含有脂肪族環之四羧酸二酐。脂肪族環也可和芳香環進行縮合。如此的脂肪族系酸二酐可列舉例如：1,1’-雙環己烷-3,3’,4,4’-四甲酸二酐、1,1’-雙環己烷-2,3,3’4’-四甲酸二酐、1,1’-雙環己烷-2,3,2’3’-四甲酸二酐、環己烷-1,2,4,5-四甲酸二酐、1,2,3,4-四甲酸二酐、1,3,3a,4,5,9b-六氫-5(四氫-2,5-二側氧基-3-呋喃)萘并[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、1,2,3,4-丁烷四甲酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐(CHDA)、1,2,3,4-環戊烷四甲酸二酐、5-(2,5-二側氧基四氫呋喃基)-3-甲基-3-環己烯-1,2-二甲酸酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四甲酸二酐、雙環[2.2.2]辛烷-2,3,5,6-四甲酸-2,3：5,6-二酐、雙環[2.2.1]庚烷-2,3,5,6-四甲酸-2,3：5,6-二酐、及六十氫-3a,11a-(2,5-二側氧基四氫呋喃-3,4-二基)菲并[9,10-c]呋喃-1,3-二酮。

脂肪族酯系酸二酐可列舉例如：雙(1,3-二側氧基-1,3,3a,4,5,6,7,7a-八氫異苯并呋喃-5-甲酸)聯苯-4,4’-二酯、雙(1,3-二側氧基-1,3,3a,4,5,6,7,7a-八氫異苯并呋喃-5-甲酸)-1,4-伸苯酯、及雙(1,3-二側氧基-1,3,3a,4,5,6,7,7a-八氫異苯并呋喃-5-甲酸)-2-甲基-1,4-伸苯酯。四羧酸二酐(E-X)可單獨使用這些四羧酸二酐中之1種，也可將2種以上組合使用。

在它們之中，考慮抑制分子內及分子間CT錯合物的形成，並使聚醯亞胺的透明性改善之觀點，四羧酸二酐(E-X)宜不含芳香環。又，考慮使聚醯亞胺的機械強度改善之觀點，四羧酸二酐(E-X)宜具有環狀結構而非直鏈狀或支鏈狀。亦即，考慮如此般使聚醯亞胺的透明性、耐久性、及機械強度改善之觀點，四羧酸二酐(E-X)宜為不含芳香環而含有脂肪族環之四羧酸二酐。更具體而言，四羧酸二酐(E-X)宜為1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐、1,2,4,5-環戊烷四甲酸二酐、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐、雙環[2,2,1]庚烷-2,3,5,6-四甲酸二酐、雙環[2,2,2]辛烷-2,3,5,6-四甲酸二酐、3,3’,4,4’-雙環己基四甲酸二酐、及1,2,4-環己烷三甲酸酐，為1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐、及3,3’,4,4’-雙環己基四甲酸二酐更佳。

在聚醯胺酸(A)的合成中使用四羧酸二酐(E-X)時，四羧酸二酐(E)與四羧酸二酐(E-X)的比率可適當地選擇，例如，比率「四羧酸二酐(E)：四羧酸二酐(E-X)」(莫耳比)可落在40：60~100：0之範圍內，宜落在50：50~100：0之範圍內，落在80：20~100：0之範圍內更佳。

聚醯胺酸(A)之合成所使用的四羧酸二酐(E)及二胺化合物(F)之使用比例(添加量的比例)宜為相對於二胺化合物(F)所含的胺基1當量，四羧酸二酐(E)的酸酐基成為0.5~1.5當量之比例，成為0.8~1當量之比例更佳。又，考慮使聚醯胺酸(A)的分子末端含有來自二胺化合物(F)之胺基的觀點，前述比例宜設定為0.5~0.9當量。另外，上述比例係針對不含四羧酸二酐(E-X)的情況進行說明。含有四羧酸二酐(E-X)時，上述比例則為四羧酸二酐(E)及四羧酸二酐(E-X)的添加量之合計與二胺化合物(F)之添加量的比例。

反應(R-2)中的反應溫度宜為-20~150℃，為0~100℃更佳。反應時間宜為0.2~120小時，為0.5~72小時更佳。又，聚醯胺酸(A)之合成可在溶劑中進行較理想。如此的溶劑若為可使合成的聚醯胺酸溶解或分散於溶劑中者，則無特別限制，可列舉例如：N-甲基-2-吡咯啶酮、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、γ-丁內酯、四甲基脲、及六甲基磷三醯胺之類的非質子系極性溶劑；以及間甲酚、二甲酚、苯酚、及鹵化酚之類的酚系溶劑。又，溶劑的使用量(a：惟，合併使用良溶劑與後述不良溶劑時，係指它們的合計量)宜為相對於反應溶液之總量(a+b)，四羧酸二酐(E)及二胺化合物(F)的合計量(b)成為0.1~30重量%之量。

聚醯胺酸(A)之合成所使用的溶劑可列舉例如：醇、酮、酯、醚、及鹵化烴、烴。這些溶劑可單獨為1種，也可組合2種以上。這些溶劑據認為係習知聚醯胺酸及聚醯亞胺的不良溶劑之溶劑。這些溶劑可在聚醯胺酸(A)不會析出的範圍內使用。具體而言，能以在良溶劑中混合不良溶劑而成的混合溶劑之形式使用。不良溶劑的比例相對於良溶劑與不良溶劑之合計，宜為25重量%以下，為10重量%以下更佳。另外，聚醯胺酸及聚醯亞胺的良溶劑通常可列舉：二甲基乙醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)及甲醛。

醇可列舉例如：甲醇、乙醇、異丙醇、環己醇、及乙二醇單甲醚之類的單元醇；乙二醇、丙二醇、1,4-丁烷二醇、三乙二醇之類的多元醇。酮可列舉例如：丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、二異丁基酮、環己酮可列舉。酯可列舉例如：乳酸乙酯、乳酸丁酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、及草酸二乙酯、丙二酸二乙酯、丙酸異戊酯、及異丁酸異戊酯。

醚可列舉例如：四氫呋喃、二***、二異戊醚、乙二醇甲醚、乙二醇***、乙二醇正丙醚、乙二醇異丙醚、乙二醇正丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇***乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二***、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單***、二乙二醇單甲醚乙酸酯、及二乙二醇單***乙酸酯等。

鹵化烴可列舉例如：二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、1,4-二氯丁烷、三氯乙烷之類的鹵化脂肪族烴；以及氯苯、及鄰二氯苯之類的鹵化芳香族烴。烴可列舉例如：己烷、庚烷、及辛烷之類的脂肪族烴；以及苯、甲苯、及二甲苯之類的芳香族烴。

以上述方式可獲得將聚醯胺酸溶解或分散(宜為溶解)而成的反應溶液。該反應溶液可直接供於聚醯胺酸組成物，也可在將反應溶液中所含的聚醯胺酸分離之後供於聚醯胺酸組成物之調製。聚醯胺酸的分離可利用如下方法實施：將上述反應溶液注入到大量的不良溶劑中來獲得析出物，並對該析出物於減壓下進行乾燥之方法、或將反應溶液中之溶劑利用蒸發器進行減壓餾去之方法。又，也可利用如下方法來純化聚醯胺酸：再次將該聚醯胺酸溶解於溶劑中，然後以不良溶劑使其析出之方法、或實施1次或數次利用蒸發器進行減壓餾去之步驟的方法。

(溶劑) 聚醯胺酸組成物所含的溶劑可列舉例如：二甲基亞碸、及二乙基亞碸之類的亞碸系溶劑；N,N-二甲基甲醯胺、及N,N-二乙基甲醯胺之類的甲醯胺系溶劑；N,N-二甲基乙醯胺、及N,N-二乙基乙醯胺之類的乙醯胺系溶劑；N-甲基-2-吡咯啶酮、及N-乙烯基-2-吡咯啶酮之類的吡咯啶酮系溶劑；苯酚、鄰或間或對甲酚、二甲酚、鹵化酚、及鄰苯二酚之類的酚系溶劑；四氫呋喃、二㗁烷、及二氧雜環戊烷之類的醚系溶劑；甲醇、乙醇、及丁醇之類的醇系溶劑；丁基賽璐蘇之類的賽璐蘇系溶劑；碳酸乙烯酯、及碳酸丙烯酯之類的碳酸酯系溶劑；γ-丁內酯之類的羧酸酯系溶劑；甲苯、及二甲苯之類的芳香族烴；水、或水與低分子醇(更具體而言為甲醇、乙醇、乙二醇、及甘油等)之混合溶劑之類的水系溶劑；以及1,3-二甲基-2-咪唑啶酮、及六甲基磷三醯胺之類的其它溶劑。這些溶劑可單獨為1種，也可組合2種以上。

溶劑為水系溶劑時，可減少溶劑乾燥所需要的能量，故可輕易地將溶劑餾去，並從聚醯胺酸組成物製造聚醯亞胺成形體。又，水系溶劑也可更含有3級胺。溶劑為3級胺水溶液時，在重複單元中所含的羧基與3級胺之間會形成胺鹽，故聚醯胺酸會溶解於水系溶劑中。3級胺化合物可列舉例如：三乙胺、咪唑化合物、甲基𠰌啉、乙基𠰌啉、及苯基𠰌啉之類的𠰌啉化合物。

這些溶劑之中，一般據認為大多數的溶劑通常為聚醯胺酸的不良溶劑。習知可使用於聚醯胺酸之溶劑具代表性為N-甲基-2-吡咯啶酮之類的溶劑，溶劑的種類受到限制。因此，聚醯胺酸的操作(例如聚醯胺酸之合成及聚醯胺酸組成物之調製等)有較大的限制。相對於此，聚醯胺酸(A)會以1重量%~30重量%之濃度溶解或分散於上述多種溶劑中，故第1實施形態之聚醯胺酸組成物的加工性優良。

水系溶劑中添加的3級胺之量相對於聚醯胺酸中的羧基1當量，可在0.5~2當量之範圍內適當地選擇。3級胺的量落在0.5~2當量之範圍內的話，聚醯胺酸會在水系溶劑中溶解，不易引起聚醯胺酸組成物的安定性之降低所導致隨時間的增黏、凝膠化。

這些溶劑之中，宜為水系溶劑、甲醯胺系溶劑、乙醯胺系溶劑、吡咯啶酮系溶劑、碳酸酯系溶劑、及羧酸酯系溶劑以及它們的組合，為選自於3級胺水溶液、N,N-二乙基甲醯胺、N,N-二乙基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、及γ-丁內酯中之至少1種溶劑更佳。

考慮聚醯胺酸在10重量%的濃度時，使機械性強度改善之觀點，聚醯胺酸組成物(A)的黏度宜為10mPa･s~10,000mPa･s。聚醯胺酸組成物(A)的黏度係使用E型黏度計於22.0℃進行測定。

聚醯胺酸組成物(A)中的聚醯胺酸之含量並無特別限制，聚醯胺酸(A)以聚醯胺酸組成物(A)中的固體成分計，若為1重量%~30重量%之範圍即可，宜為1重量%~25重量%之範圍，可適當利用溶劑之比例來調整。

＜第2實施形態：聚醯亞胺組成物＞本發明之第2實施形態之聚醯亞胺組成物含有聚醯亞胺與溶劑。聚醯亞胺組成物係由包含下述通式(B)表示之重複單元(以下有時記載為「重複單元(B)」)之聚醯亞胺(以下有時記載為「聚醯亞胺(B)」)溶解或分散於溶劑中而成， [化21]

通式(B)中， R^D 及R^E 各自獨立地為氫原子或甲基， R^F 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B^D 為2價有機基， B⁵ 及B⁶ 各自獨立地為-C(=O)-或-CH₂ -， G³ 及G⁴ 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，或為直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基，且環為2個以上時，環為縮合環。

通式(B)中，R^D 、R^E 及R^F 分別和通式(A)中的R^A 、R^B 及R^C 同義。G³ 及G⁴ 分別和通式(A)中的G¹ 及G² 同義。B^D 和通式(A)中的B^A 同義。

B^D 宜為包含選自於由脂肪族環及芳香環構成之群組中之至少1種環之2價有機基，為通式(B-1)表示之2價有機基更佳。 -B^A3 -(Y³ -B^A3 )_n3 -･･･(B-1) 通式(B-1)中的B^A3 、Y³ 、及n3分別和通式(A-1)中的B^A1 、Y¹ 、及n1同義。

B^A3 宜為碳原子數6~14之單環之伸芳基或碳原子數5~7之伸環烷基，為伸苯基或環己烷二基更佳，為對伸苯基或1,4-環己烷二基再更佳，為對伸苯基特佳。 n3宜表示0或1。 Y³ 宜為單鍵、碳原子數1~3之伸烷基、或如氧原子及硫原子之類的雜原子，為單鍵、亞甲基、或氧原子更佳，為氧原子再更佳。

據認為第2實施形態之聚醯亞胺組成物中的聚醯亞胺由於包含重複單元(B)，故和上述聚醯胺酸(A)同樣地因為如下所示之理由而兼具優良的透明性、機械強度、及耐久性。據認為聚醯亞胺(B)由於具有體積龐大的類固醇結構，故不易形成在可視範圍具有光吸收帶之分子間及分子內CT錯合物。如此般不易形成分子間及分子內CT錯合物，故不易造成為聚醯亞胺(B)的劣化之原因的光吸收。又，聚醯亞胺(B)由於類固醇結構部分之凝聚性而可將聚醯亞胺(B)的分子鏈互相以一定程度之秩序進行排列。

重複單元(B)宜包含選自於由下述通式(V)、下述通式(VI)、下述通式(VII)以及下述通式(VIII)構成之群組中之重複單元(以下有時分別將這些重複單元記載為「重複單元(V)」、「重複單元(VI)」、「重複單元(VII)」及「重複單元(VIII)」)中的至少1者(以下有時分別將包含這些重複單元之聚醯亞胺記載為「聚醯亞胺(V)」、「聚醯亞胺(VI)」、「聚醯亞胺(VII)」及「聚醯亞胺(VIII)」)。 [化22]

通式(V)中， R⁴ 及R⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R⁶ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B² 為2價有機基， [化23]

通式(VI)中， R¹⁴ 及R¹⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R¹⁶ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基、或碳原子數2~10之烯基， B¹² 為2價有機基， [化24]

通式(VII)中， R²⁴ 及R²⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R²⁶ 為氫原子、碳數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B²² 為2價有機基， [化25]

通式(VIII)中， R³⁴ 及R³⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R³⁶ 為氫原子或碳數1~20之烷基， B³² 為2價有機基。

通式(V)中，R⁴ 及R⁵ 宜為甲基。通式(V)中，R⁶ 宜為碳數1~10之烷基或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH=C(CH₃ )₂ 更佳。通式(V)中，B² 宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。聚醯亞胺(V)可列舉例如：包含下述化學式(V-2)表示之重複單元之聚醯亞胺及包含下述化學式(V-3)表示之重複單元之聚醯亞胺(以下有時分別記載為「聚醯亞胺(V-2)」及「聚醯亞胺(V-3)」)。 [化26]

[化27]

通式(VI)中，R¹⁴ 及R¹⁵ 宜表示甲基。通式(VI)中，R¹⁶ 宜為碳原子數1~10之烷基、或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH= C(CH₃ )₂ 更佳。通式(VI)中，B¹² 宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。包含通式(VI)表示之重複單元之聚醯亞胺可列舉例如：包含下述化學式(VI-2)表示之重複單元之聚醯亞胺及包含下述化學式(VI-3)表示之重複單元之聚醯亞胺(以下有時分別記載為「聚醯亞胺(VI-2)」及「聚醯亞胺(VI-3)」)。 [化28]

[化29]

通式(VII)中，R²⁴ 及R²⁵ 宜為甲基。通式(VII)中，R²⁶ 宜為碳原子數1~10之烷基或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH= C(CH₃ )₂ 更佳。通式(VII)中，B²² 宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。

通式(VIII)中，R³⁴ 及R³⁵ 宜為甲基。通式(VIII)中，R³⁶ 宜為碳原子數1~10之烷基、或碳原子數2~10之烯基，為-CH(CH₃ )(CH₂ )₃ CH(CH₃ )₂ 或-CH(CH₃ )(CH₂ )₂ CH= C(CH₃ )₂ 更佳。通式(VIII)中，B³² 宜為對伸苯基或-C₆ H₄ -O-C₆ H₄ -。

聚醯亞胺(B)宜為包含選自於由重複單元(V)~(VIII)構成之群組中之重複單元中的至少1者之聚醯亞胺，為包含重複單元(V)及(VI)中之至少1者之聚醯亞胺更佳，為包含重複單元(V-2)及(VI-2)中之至少1者之聚醯亞胺再更佳。

(聚醯亞胺之末端結構) 聚醯亞胺(B)的末端基可任意選擇來自四羧酸二酐(E)之酸酐基及來自二胺化合物(F)之胺基中之任一者。聚醯亞胺(B)的末端基例如可藉由過量使用聚醯胺酸(A)之合成中的四羧酸二酐(E)及二胺化合物(F)中之任一者(亦即，將其中一者的進料量設定為過量)來選擇。另外，聚醯亞胺(B)的末端胺基濃度可利用和上述聚醯胺酸(A)的末端胺基濃度同樣之方法來求得。考慮使聚醯亞胺(B)對溶劑之溶解性或分散性改善的觀點，聚醯亞胺(B)宜為聚醯亞胺(B)(例如聚醯亞胺(V)~(VIII))的分子末端不含來自四羧酸之二羧酸結構。亦即，聚醯亞胺(B)宜為聚醯亞胺(B)的分子末端含有來自二胺之胺基，且聚醯亞胺(B)中之胺基(-NH₂ )的比例(末端胺基濃度)為0.001~0.1莫耳/kg之範圍。

[聚醯亞胺組成物之合成方法] 針對聚醯亞胺組成物之製造方法之一例進行說明。聚醯亞胺組成物(B)例如可使聚醯胺酸組成物(A)中之聚醯胺酸(A)脫水並醯亞胺化而獲得。更具體而言，聚醯亞胺(B)係依循反應式(R-3)表示之反應(以下有時記載為「反應(R-3)」)或利用依據這些反應之方法來合成。 [化30]

反應式(R-3)中，通式(A)及(B)中的R^A 、R^B 、R^C 、B^A 、B³ 、B⁴ 、G¹ 、G² 、及m分別與反應式(R-2)中的通式(A)中的R^A 、R^B 、R^C 、B^A 、B³ 、B⁴ 、G¹ 、G² 、及m同義。又，聚醯亞胺組成物(B)之製造方法也可藉由使聚醯亞胺(B)(更具體而言為聚醯亞胺(V)~(VIII))溶解或分散(宜為溶解)於溶劑中而獲得。以下，詳細地說明聚醯胺酸組成物中之聚醯胺酸(A)的醯亞胺化反應。如此的醯亞胺化反應可列舉例如：將聚醯胺酸組成物(A)加熱之熱醯亞胺化反應、及添加觸媒與脫水劑之化學醯亞胺化反應。

(熱醯亞胺化反應) 熱醯亞胺化反應係藉由將聚醯胺酸(A)之溶液進行加熱並進入脫水醯亞胺化反應來實施。熱醯亞胺化反應中，反應溫度通常宜為100℃至約250℃之溫度範圍，且反應時間宜為1~100小時。熱醯亞胺化反應之反應物(reactant)中，聚醯胺酸(A)之溶液例如也可直接使用上述聚醯胺酸組成物(A)。

(化學醯亞胺化反應) 化學醯亞胺化反應係藉由將聚醯胺酸組成物(A)在觸媒及脫水劑的存在下，進行加熱並進入脫水醯亞胺化反應來實施。化學醯亞胺化反應例如可藉由在聚醯胺酸(A)之溶液中添加觸媒及脫水劑後，以和熱醯亞胺化反應同樣的方法實施來獲得聚醯亞胺組成物。化學醯亞胺化反應中，反應溫度通常宜為常溫至約150℃之溫度範圍，且反應時間宜為1~20小時。

化學醯亞胺化反應中的脫水劑可列舉例如：有機酸酐。有機酸酐可列舉例如：脂肪族酸酐、芳香族酸酐、脂環族酸酐、雜環酸酐、及它們的2種以上之混合物。脂肪族酸酐可列舉例如：乙酸酐。脫水劑的使用量相對於聚醯胺酸(A)之重複單元1莫耳，宜為0.01~20莫耳。

化學醯亞胺化反應中的觸媒可列舉例如：三乙胺、吡啶、甲吡啶及喹啉。觸媒的使用量相對於所使用的脫水劑1莫耳，宜為0.01~10莫耳。

化學醯亞胺化反應所使用的溶劑可列舉作為聚醯胺酸(A)之合成所使用者而例示之溶劑。

(部分醯亞胺化反應) 又，聚醯亞胺(B)除了包含重複單元(B)之外，也可包含和重複單元(B)不同的重複單元。不同的重複單元可列舉例如：重複單元(A)。亦即，聚醯亞胺(B)也可為聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物。聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物中，使聚醯胺酸轉化成聚醯亞胺之比例可藉由調整化學醯亞胺化反應所使用的觸媒量來獲得。具體而言，藉由對1當量之聚醯胺酸殘基，分別使其和1當量之吡啶等觸媒以及乙酸酐等脫水劑作用，聚醯胺酸殘基幾乎會轉化為聚醯亞胺。亦即，在聚醯胺酸之化學醯亞胺化反應中，藉由將觸媒與脫水劑的量分別設定為0.5當量，可獲得含有大致莫耳當量之聚醯亞胺結構及聚醯胺酸結構之聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物。另外，醯亞胺化反應係和上述化學醯亞胺化反應同樣的反應條件(反應溫度、反應時間)。藉由醯亞胺化，可使由不溶於溶劑之分子結構構成的聚醯亞胺樹脂經由部分醯亞胺化而可溶於溶劑、或改良塗覆性。

本說明書中，聚醯亞胺(B)除了具有重複單元(B)之外還具有重複單元(A)時，將重複單元(B)之莫耳數相對於重複單元(A)及(B)之合計莫耳數的比例(莫耳比)為80%以上之聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物稱為聚醯亞胺(B)。又，同時，將莫耳比未達80%之聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物稱為聚醯胺酸(A)(如此，聚醯胺酸(A)除了具有重複單元(A)之外，也可具有重複單元(B))。該莫耳比可利用紅外分光光度計計算而得。

＜第3實施形態：聚醯亞胺成形體＞本發明之第3實施形態之聚醯亞胺成形體係將第1實施形態之聚醯胺酸組成物、或第2實施形態之聚醯亞胺組成物成形而成。亦即，第3實施形態之聚醯亞胺成形體係含有聚醯亞胺(B)(例如聚醯亞胺(V)~(VIII))而成。

該聚醯亞胺成形體適用於例如：液晶配向膜、鈍化膜、電線被覆材、黏接膜、撓性電子基板薄膜、覆銅疊層薄膜、層合薄膜、電氣絕緣薄膜、燃料電池用多孔質薄膜、分離薄膜、耐熱性皮膜、IC封裝、阻劑膜、平坦化膜、微透鏡陣列膜之類的透鏡、光纖被覆膜、顯示器基盤、光波導、濾波器、光學濾波器、黏接片材、相間絕緣膜、半導體絕緣保護膜、TFT液晶絕緣膜、太陽能電池用保護膜、抗反射膜、及可使用於撓性顯示器基板之類的電子材料及電路基板之薄膜及片材、以及電子相片式之影像形成裝置用之帶材(更具體而言為中間轉印帶、轉印帶、定影帶、及輸送帶等)之類的帶材構件等用途。

聚醯亞胺成形體宜適用於顯示器基盤、光纖維、光波導、濾波器、透鏡、光學濾波器、黏接片材、相間絕緣膜、半導體絕緣保護膜、TFT液晶絕緣膜、液晶配向膜、太陽能電池用保護膜、抗反射膜、及可使用於撓性顯示器基板等電子材料或電路基板之薄膜或片材等用途。

另外，使用作為聚醯亞胺薄膜時，透明性(例如透射度)高者較佳，且機械強度(例如鉛筆硬度)高者較佳。此外，耐久性(若為紫外線照射後之鉛筆硬度和紫外線照射前相同、或約降低1階段即可)優良，且會維持透明性(若為紫外線照射後之透射度為紫外線照射前之透射度降10%以下之降低率即可，若7%以下之降低率為佳)。

[聚醯亞胺成形體之製造方法] 第3實施形態之聚醯亞胺成形體可藉由將第1實施形態之聚醯胺酸組成物、或第2實施形態之聚醯亞胺組成物進行加熱處理並成形而製造。

聚醯亞胺成形體之製造方法係將聚醯胺酸組成物(A)，利用加熱來實施溶劑餾去與醯亞胺化反應而製造。或，聚醯亞胺成形體之製造方法係將聚醯亞胺組成物(B)塗佈於基材上，並實施溶劑餾去而製造。更具體而言，聚醯亞胺成形體之製造方法具有：將聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)塗佈於基材上來形成塗膜之步驟(以下有時記載為「塗膜形成步驟」)、及將塗膜進行加熱處理來形成聚醯亞胺成形體之步驟(以下有時記載為「加熱步驟」)。

(塗膜形成步驟) 塗膜形成步驟係將聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)塗佈於基材上來形成塗膜。首先，準備基材。基材係因應製造的聚醯亞胺成形體之用途來選擇。

具體而言，製造聚醯亞胺成形體作為液晶配向膜時，基材可列舉適用於液晶元件之基材，可列舉例如：矽基板、玻璃基板或於它們的表面形成有金屬膜或合金膜之基板。

又，製造聚醯亞胺成形體作為鈍化膜時，基材可列舉例如：形成有積體電路之半導體基板、形成有配線之配線基板、以及設置有電子零件及配線之印刷基板。

又，製造聚醯亞胺成形體作為電線被覆材時，基材可列舉例如：各種電線(更具體而言為軟銅、硬銅、無氧銅、鉻礦、鋁之類的金屬製或合金製之線材、棒材、及板材等)。另外，利用作為將聚醯亞胺成形體成形及加工成帶狀，並將其捲附於電線之帶狀電線被覆材時，基材可列舉例如：各種平面基板或圓筒狀基體。

又，以聚醯亞胺成形體的形式製造黏接膜時，基材可列舉例如：成為黏接對象之各種成形體(更具體而言為半導體芯片、及印刷基板之類的各種電器零件等)。

然後，將聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)塗佈於作為目的之基材，並形成聚醯胺酸組成物、或聚醯亞胺組成物的塗膜。

聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)之塗佈到基材之方法並無特別限制，例如可因應將聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)其黏度等而列舉噴霧塗佈、旋轉塗佈法、輥塗佈法、塗佈棒法、縫模塗佈法、噴墨塗佈法、旋塗法、浸漬法、及鑄造法之類的公知方法。

塗膜的膜厚可依基材的種類及用途而適當地選擇。

(加熱步驟) 加熱步驟係將塗膜進行加熱處理來形成聚醯亞胺成形體。具體而言，首先對聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)之塗膜實施乾燥處理。利用該乾燥處理形成乾燥膜。另外，聚醯胺酸組成物(A)塗膜之乾燥膜中，聚醯胺酸(A)並未醯亞胺化。

塗膜的乾燥處理可使用通常的加熱乾燥爐。乾燥爐中之環境可列舉例如：大氣、鈍性氣體(更具體而言為氮氣、及氬氣等)、及真空。乾燥溫度可依使聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)溶解之溶劑的沸點而適當地選擇，通常為80~350℃，宜為100~320℃，為120~270℃更佳。乾燥時間依厚度、濃度、及溶劑的種類而適當地選擇即可，例如為約1秒~360分鐘。又，加熱時吹送熱風亦為有效。加熱時可使溫度階段地上昇、或也可不改變熱風的速度來使其上昇。

然後，對乾燥膜實施加熱處理。藉此會形成聚醯亞胺成形體。加熱溫度例如為150℃~400℃，宜為200℃~300℃。加熱時間例如為20分鐘~60分鐘。加熱處理時，到達加熱的最終溫度前宜使溫度階段性地、或以一定速度緩緩地上昇來進行加熱。另外，聚醯胺酸(A)的塗膜會因加熱處理而引起醯亞胺化反應。

經過以上步驟會形成聚醯亞胺成形體。以此方式，可獲得例如具有聚醯亞胺成形體作為被膜之產品。又，聚醯亞胺成形體之製造方法會因應需要從基材取出聚醯亞胺成形體並施以後加工。例如也可藉由將聚醯亞胺成形體的被膜從基材分離來製成薄膜而獲得。又，使用模具來獲得聚醯亞胺成形體時，可藉由將預定量的聚醯胺酸組成物(A)、或聚醯亞胺組成物(B)注入模具內(為旋轉模具特佳)後，以和薄膜等之成形條件同樣的溫度、時間進行乾燥來獲得成形體。 [實施例]

以下，用實施例更具體地說明本發明，但本發明不限於這些實施例。

[單體之合成] (合成例1：具有類固醇結構之四羧酸二酐之合成) 將3,6-膽甾烷二醇405g(1.0莫耳)及偏苯三甲酸酐醯氯463.26g(2.2莫耳)添加到乾燥的10公升可分離式燒瓶(反應容器)中，並使其溶解於四氫呋喃5000g。然後，於冰冷下邊實施攪拌邊將吡啶174.02g(2.2莫耳)滴加到反應容器內。滴加結束後，於室溫(25℃)攪拌反應液5小時。於內容物中可獲得析出物。將析出物過濾後，將反應液大量地加到水中，並將析出物過濾。將得到的固體充分水洗，再於乙酸酐5000g中回流5小時。將溶劑成分餾去後，利用甲乙酮實施再結晶。獲得白色結晶之四羧酸二酐A(以下有時記載為「ChTA-A」)。將得到的ChTA-A使用於下列製造例(實施例)。

使用質子核磁共振分光計(日本電子股份有限公司製「JMM-A400」)，測定合成的ChTA-A之¹ H-NMR圖譜(溶劑：CDCl₃ ，內部標準樣本：四甲基矽烷)。ChTA-A的化學位移值如下所示。 ChTA-A：¹ H-NMR(CDCl₃ )δ=0.8-2.4(44H)、5.5(2H)、6.6-7.8(6H)。此外，使用傅立葉變換紅外分光裝置(Thermo Fisher Scientific製「Nicolet iS50」)，測定合成的ChTA-A之紅外吸收圖譜(樣本調製法：溴化鉀錠劑法)。ChTA-A之紅外圖譜中的峰部如下所示。 ChTA-A：IR(cm^-1 )3000-2840cm^-1 、1780cm^-1 由得到的化學位移值及紅外吸收圖譜的峰部確認ChTA-A為化學式(E-4)表示之四羧酸二酐。

(合成例2 具有類固醇結構之四羧酸二酐之合成) 使用4-氯甲醯基-1,2-環己烷二甲酸酐476.67g(2.2莫耳)替換偏苯三甲酸酐醯氯463.26g(2.2莫耳)，除此之外，和合成例1同樣地實施反應，獲得白色結晶之四羧酸二酐B(以下有時記載為ChTA-B)。將得到的ChTA-B使用於下列製造例(實施例)。

和ChTA-A同樣地測定ChTA-B之¹ H-NMR圖譜及紅外吸收圖譜，由得到的化學位移值及紅外吸收圖譜的峰部確認ChTA-B為化學式(E-5)表示之四羧酸二酐。

[聚醯胺酸之合成、及聚醯胺酸組成物之調製] (製造例1：聚醯胺酸PAA-1及聚醯胺酸組成物PAA-1) 將合成例1得到的ChTA-A 71.28g(0.097莫耳)與4,4’-二胺基二苯基醚20.04g(0.1莫耳)，在氮氣流下溶解於N-甲基-2-吡咯啶酮(以下稱NMP)365.32g(相當於固體成分20%)中，製得反應液。然後，將反應液於60℃保持24小時，實施聚合反應。獲得聚醯胺酸PAA-1之溶液。其後，於得到的溶液中添加NMP，將固體成分調整為10重量%，獲得具有化學式(I-2)表示之重複單元之聚醯胺酸組成物PAA-1。

將得到的聚醯胺酸組成物PAA-1使用於實施例1~3。製造例所使用的成分與組成物中的成分如表1所示。

製造例1所使用的成分與組成物中的成分如表1所示。表1中，PAA表示聚醯胺酸，PI表示聚醯亞胺。又，ChTA-A表示合成例1合成的四羧酸二酐化合物A(分子量734.87)。ChTA-B表示合成例2合成的四羧酸二酐化合物B(分子量747.19)。ODA表示4,4’-二胺基二苯基醚(分子量200.4)。PDA表示對苯二胺(分子量108.12)。NMP表示N-甲基-2-吡咯啶酮。這些標記在表2~5中也同樣。

[表1]

			製造例 1	製造例 2	製造例 3	製造例 4	製造例 5	製造例 6	製造例 7	製造例 8	製造例 9	製造例 10	製造例 11	製造例 12
組成物		種類	PAA-1	PI-1	PAA-2	PI-2	PAA-3	PI-3	PAA-4	PI-4	PAA-5	PI-5	PAA-6	PI-6
樹脂		種類	PAA-1	PI-1	PAA-2	PI-2	PAA-3	PI-3	PAA-4	PI-4	PAA-5	PI-5	PAA-6	PI-6
單體	四羧酸二酐	種類	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-B	ChTA-B	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A
質量(g)	71.29	71.29	72.48	72.48	69.81	69.81	72.75	72.75	73.39	73.39	76.9	76.9
物質量(mol)	0.097	0.097	0.097	0.097	0.095	0.095	0.099	0.099	0.100	0.100	0.103	0.103
二胺化合物	種類	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA
質量(g)	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04
物質量(mol)	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100
添加劑	吡啶(觸媒) 質量(g)	-	15.82	-	15.82	-	15.82	-	15.82	-	15.82	-	15.82
乙酸酐(脫水劑) 質量(g)	-	20.22	-	20.22	-	20.22	-	20.22	-	20.22	-	20.22
	末端胺基濃度(×10^-2 mol/kg)	3.28	3.28	3.24	3.24	5.56	5.56	1.08	1.08	0	0	3.09	3.09
溶劑		種類	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP
組成物	固體成分(重量%)		10	10	10	10	10	10	10	10	10	10	10	10
清漆性狀		均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻

(製造例3：聚醯胺酸PAA-2及聚醯胺酸組成物PAA-2) 將四羧酸化合物從ChTA-A 71.28g(0.097莫耳)變更為合成例2得到的ChTA-B 72.48g(0.097莫耳)，並將NMP的質量從365.32g變更為370.07g，除此之外，和製造例1同樣地進行，獲得聚醯胺酸PAA-2及聚醯胺酸組成物PAA-2。

和聚醯胺酸PAA-1同樣地進行測定聚醯胺酸PAA-2之¹ H-NMR圖譜及紅外吸收圖譜，由得到的化學位移值及紅外吸收圖譜的峰部確認聚醯胺酸PAA-2為具有化學式(II-2)表示之重複單元之聚醯胺酸。將得到的聚醯胺酸組成物PAA-2使用於實施例7~9。製造例3所使用的成分與組成物中的成分如表1所示。

(製造例5、7、9、11、13、15、17、19：聚醯胺酸PAA-3~10及聚醯胺酸組成物PAA-3~10) 將四羧酸二酐的種類、添加量、二胺化合物的種類、添加量、溶劑的種類、添加量變更為如表1及表2所記載，除此之外，仿照製造例1分別獲得聚醯胺酸PAA-3~10及聚醯胺酸組成物PAA-3~10。

和製造例1之聚醯胺酸PAA-1同樣地進行，測定¹ H-NMR圖譜及紅外吸收圖譜。其結果，確認聚醯胺酸PAA-3~6及PAA-8~10為包含化學式(I-2)表示之重複單元之聚醯胺酸。確認聚醯胺酸PAA-7為包含化學式(I-3)表示之重複單元之聚醯胺酸。確認聚醯胺酸PAA-8除了包含化學式(I-2)表示之重複單元之外，還包含來自1,2,3,4-環丁烷四甲酸之重複單元。確認聚醯胺酸PAA-9除了包含化學式(I-2)表示之重複單元之外，還包含化學式(I-3)表示之重複單元。將得到的各聚醯胺酸組成物PAA-3~10使用於實施例。製造所使用的成分與組成物中的成分如表1及表2所示。

表2中，PMDA表示均苯四甲酸酐(分子量218.12)。CHDA表示1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐(分子量196.11)。

[表2]

			製造例 13	製造例 14	製造例 15	製造例 16	製造例 17	製造例 18	製造例 19	製造例 20	製造例 21	製造例 22	製造例 23	製造例 24
組成物		種類	PAA-7	PI-7	PAA-8	PI-8	PAA-9	PI-9	PAA-10	PI-10	PAA-11	PI-11	PAA-12	PI-12
樹脂		種類	PAA-7	PI-7	PAA-8	PI-8	PAA-9	PI-9	PAA-10	PI-10	PAA-11	PI-11	PAA-12	PI-12
單體	四羧酸二酐	種類	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	ChTA-A	PMDA	PMDA	CHDA	CHDA
質量(g)	71.29	71.29	66.14	66.14	71.29	71.29	71.29	71.29	21.16	21.16	19.02	19.02
物質量(mol)	0.097	0.097	0.090	0.090	0.097	0.097	0.097	0.097	0.097	0.097	0.097	0.097
種類	-	-	CHDA	CHDA	-	-	-	-	-	-	-	-
質量(g)	-	-	1.37	1.37	-	-	-	-	-	-	-	-
物質量(mol)	-	-	0.007	0.007	-	-	-	-	-	-	-	-
二胺化合物	種類	PDA	PDA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA	ODA
質量(g)	10.81	10.81	20.04	20.04	10.04	10.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04	20.04
物質量(mol)	0.100	0.100	0.100	0.100	0.05	0.05	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100	0.100
種類	-	-	-	-	PDA	PDA	-	-	-	-	-	-
質量(g)	-	-	-	-	5.41	5.41	-	-	-	-	-	-
物質量(mol)	-	-	-	-	0.05	0.05	-	-	-	-	-	-
添加劑	吡啶(觸媒) 質量(g)	-	15.82	-	15.82	-	15.82	-	15.82	-	15.82	-	15.82
乙酸酐(脫水劑) 質量(g)	-	20.22	-	20.22	-	20.22	-	20.22	-	20.22	-	20.22
	末端胺基濃度(×10^-2 mol/kg)	4.21	4.21	3.43	3.43	3.46	3.46	3.28	3.28	72.8	72.8	76.8	76.8
溶劑		種類	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP	NMP
組成物	固體成分(重量%)		10	10	10	10	10	10	10	10	10	10	10	10
	清漆性狀		均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	均勻	析出	均勻	析出

(製造例21：聚醯胺酸PAA-11及聚醯胺酸組成物PAA-11) 將四羧酸化合物從ChTA-A 71.28g(0.097莫耳)變更為不具類固醇結構之均苯四甲酸酐(PMDA)21.16g(0.097莫耳)，除此之外，仿照製造例1獲得聚醯胺酸PAA-11及聚醯胺酸組成物PAA-11。將得到的各聚醯胺酸組成物PAA-11使用於比較例。製造所使用的成分與組成物中的成分如表2所示。

(製造例23：不具類固醇結構之聚醯胺酸PAA-12及聚醯胺酸組成物PAA-12) 將四羧酸化合物從ChTA-A 71.28g(0.097莫耳)變更為不具類固醇結構之1,2,3,4-環丁烷四甲酸二酐(CHDA)19.61g(0.1莫耳)，並將NMP的質量從365.32g變更為158.52g，除此之外，仿照製造例1獲得聚醯胺酸PAA-12及聚醯胺酸組成物PAA-12。將得到的各聚醯胺酸組成物PAA-12使用於比較例。製造所使用的成分與組成物中的成分如表2所示。

[聚醯亞胺之合成、及聚醯亞胺組成物之調製] (製造例2：聚醯亞胺PI-1及聚醯亞胺組成物PI-1) 仿照製造例1另外製造聚醯胺酸組成物PAA-1。於聚醯胺酸組成物PAA-1中添加NMP 456.65g(相當於固體成分10%)，再添加作為觸媒之吡啶15.84g(0.2莫耳)、作為脫水劑之乙酸酐20.43g(0.2莫耳)，製得反應液。在氮氣流下，將反應液於100℃保持6小時，實施醯亞胺化反應。獲得聚醯亞胺PI-1之溶液。反應後，將反應容器內的溫度調為100℃，並將壓力調為10mmHg，將吡啶、乙酸酐、及乙酸餾去。其後，於反應容器內添加NMP，將固體成分調整為10重量%，獲得含有具有化學式(V-2)表示之重複單元之聚醯亞胺的聚醯亞胺組成物PI-1。將得到的聚醯亞胺組成物PI-1使用於實施例4~6。

(製造例4：聚醯亞胺PI-2及聚醯亞胺組成物PI-2) 除了下列變更事項以外，仿照製造例2獲得聚醯亞胺PI-2及聚醯亞胺組成物PI-2。仿照製造例1，將另外製造的聚醯胺酸PAA-1仿照製造例3變更為另外製造的聚醯胺酸組成物PAA-2。將NMP的質量從456.65g(相當於固體成分10%)變更為462.59g(相當於固體成分10%)。將吡啶15.84g(0.2莫耳)、乙酸酐20.43g(0.2莫耳)變更為吡啶15.84g(0.2莫耳)、乙酸酐20.43g(0.2莫耳)。

和聚醯亞胺PI-1同樣地進行，測定聚醯亞胺PI-2的¹ H-NMR圖譜及紅外吸收圖譜，由得到的化學位移值及紅外吸收圖譜的峰部確認聚醯亞胺PI-2為具有化學式(VI-2)表示之重複單元之聚醯亞胺。將得到的聚醯亞胺組成物PI-2使用於實施例10~12。製造例4所使用的成分與組成物中的成分如表1所示。

(製造例6、8、10、12、14、16、18、20：聚醯亞胺PI-3~10及聚醯亞胺組成物PI-3~10) 將製造例1得到的聚醯胺酸組成物PAA-1分別變更為製造例5、7、9、11、13、15、17、19得到的聚醯胺酸組成物PAA-3~10，除此之外，仿照製造例2分別獲得聚醯亞胺PI-3~10及聚醯亞胺組成物PI-3~10。和製造例2之聚醯亞胺酸PI-1同樣地進行，測定¹ H-NMR圖譜及紅外吸收圖譜。其結果，確認聚醯亞胺酸PI-3~6及PI-8~10包含化學式(V-2)表示之重複單元。確認聚醯亞胺PI-7包含化學式(V-3)表示之重複單元。確認聚醯亞胺PI-8除了包含化學式(V-2)表示之重複單元之外，還包含來自1,2,3,4-環丁烷四甲酸之重複單元。確認聚醯亞胺PI-9除了包含化學式(V-2)表示之重複單元之外，還包含化學式(V-3)表示之重複單元。將得到的各聚醯亞胺組成物使用於實施例。製造所使用的成分與組成物中的成分如表1或表2所示。

(製造例22：聚醯亞胺PI-11及聚醯亞胺組成物PI-11) 將製造例1得到的聚醯胺酸組成物PAA-1變更為製造例21得到的聚醯胺酸組成物PAA-11，除此之外，仿照製造例2分別獲得聚醯亞胺PI-11及聚醯亞胺組成物PI-11。得到的聚醯亞胺組成物中，生成的聚醯亞胺會析出。

(製造例24：不具類固醇結構之聚醯亞胺PI-12及聚醯亞胺組成物PI-12) 仿照製造例23另外製造聚醯胺酸組成物PAA-12。然後，設定NMP198.15g(相當於固體成分10%)、吡啶15.84g(0.2莫耳)、乙酸酐20.43g(0.2莫耳)，除此之外，仿照製造例2實施反應，生成的聚醯亞胺樹脂會析出。

[聚醯亞胺成形體之製作] (實施例1：聚醯亞胺薄膜(聚醯亞胺成形體)PAA-1之製作) 使用塗佈器(applicator)將聚醯胺酸組成物PAA-1塗佈於PYREX玻璃板上，使塗佈厚成為500μm。於100℃之加熱板上實施10分鐘乾燥後，於250℃烘箱實施30分鐘煅燒。得到的聚醯亞胺薄膜為膜厚50μm且均勻亦無缺陷。薄膜的各種物性以下述記載的方法進行測定。結果如表3所示。

[測定方法及評價方法] (聚醯胺酸之溶解性的測定) 將製得的聚醯胺酸溶液加到甲醇中，使聚醯胺酸樹脂再沉澱。以G3玻璃過濾器分濾後，於30℃、10mmHg之減壓下使其乾燥24小時，獲得聚醯胺酸樹脂樣本。然後，將聚醯胺酸樹脂樣本稱量一定量於樣本瓶中，添加良溶劑/不良溶劑混合液俾使固體成分成為10重量%，以波形迴轉攪拌器(wave rotor)攪拌24小時試圖溶解。另外，使用NMP作為良溶劑，並使用丁基賽璐蘇作為不良溶劑。以目視觀察得到的混合溶液之外觀，確認是否有樹脂析出。從目視的觀察結果基於下述評價基準評價聚醯胺酸的溶解性及分散性。判定A及B為有溶解或分散。溶解性的結果如表6所示。 (評價基準) A(非常優良)：和僅混合溶劑相比，為相同外觀。 B(良好)：和僅混合溶劑相比，有些微混濁。 C(不良)：觀察到聚醯胺酸的析出。 ※評價基準中的混合溶劑係指僅由良溶劑及不良溶劑構成的混合溶劑。

(透射率的測定及透明性的評價) 以可見光分光光度計(吸光度550nm)測定聚醯亞胺薄膜在550nm的透射率。測定結果如表3所示。又，從得到的透射率基於下述評價基準，評價聚醯亞胺薄膜的透明性。評價結果如表3所示。令評價結果為A或B亦即具有85%以上的透射率之聚醯亞胺薄膜為合格。 (透明性的評價基準) A(非常優良)：透射率為95%以上。 B(良好)：透射率為85%以上且未達95%。 C(不良)：透射率未達85%。聚醯亞胺薄膜PAA-1的透射率為98.0%，其評價結果為A，極為透明。

(鉛筆硬度的測定及機械強度的評價) 依循JIS K5400測定聚醯亞胺薄膜的鉛筆硬度。測定結果如表3所示。又，從得到的鉛筆硬度基於下述評價基準，評價聚醯亞胺薄膜的機械強度。評價結果如表3所示。令評價結果為A或B亦即具有鉛筆硬度為H以上(更具體而言為H、2H、及3H等中之任一者)的硬度之聚醯亞胺薄膜為合格。 (機械強度的評價基準) A(非常優良)：鉛筆硬度為3H以上(更具體而言為3H、4H、及6H等中之任一者)。 B(良好)：鉛筆硬度為H或2H。 C(不良)：鉛筆硬度為HB以下(更具體而言為HB、B、2B、及3B等中之任一者)。聚醯亞胺薄膜PAA-1的鉛筆硬度為3H之硬度，其評價結果為A。

(紫外線處理後之薄膜物性(耐久性)的評價) 對聚醯亞胺薄膜施以紫外線處理。詳細而言，使用EYE GRAPHICS公司製紫外線照射裝置ECS1511-U，以1.5kV對聚醯亞胺薄膜照射紫外線10分鐘。測定紫外線照射後的聚醯亞胺薄膜之透射率與鉛筆硬度。分別比較紫外線處理前後之透射率及鉛筆硬度的結果。透射率的比較係計算透射率之差(=紫外線照射前的透射率-紫外線照射後的透射率)。鉛筆硬度的比較係計算相對於紫外線照射前的鉛筆硬度之結果的變化(鉛筆硬度的評價結果降低了多少階段：例如HB變化為B時，評為降低1階段)。從該比較結果基於下述評價基準，評價聚醯亞胺薄膜的耐久性。評價結果如表3所示。 (耐久性的評價基準) A(非常優良)：透射率之差未達1，且相對於鉛筆硬度的結果之變化為0階段。 B(良好)：透射率之差為1以上且未達7，且相對於鉛筆硬度的結果之變化為0階段。 C(不良)：透射率之差為7以上，且相對於鉛筆硬度的結果之變化為0階段以上。紫外線照射後之聚醯亞胺薄膜PAA-1的透射率為97.8%，鉛筆硬度為3H。因此，聚醯亞胺薄膜PAA-1之紫外線照射前後的透射率之差為0.2%，鉛筆硬度之變化為0階段，耐久性的評價結果為A。亦即和紫外線照射前幾乎未觀察到變化。

(實施例2~24、比較例1~8：聚醯亞胺薄膜(聚醯亞胺成形體)2~24及C1~C8之製作) 變更為表3~5所記載之聚醯胺酸組成物及聚醯亞胺組成物的種類、煅燒條件，除此之外，仿照實施例1製得聚醯亞胺薄膜。評價得到的聚醯亞胺薄膜的透射性、機械強度及耐久性。得到的結果如表3~5所示。另外，比較例7~8由於在聚醯亞胺組成物PI-11~12中有聚醯亞胺析出，故無法製得聚醯亞胺薄膜，無法評價。

[表3]

實施例 1

實施例 2

實施例 3

實施例 4

實施例 5

實施例 6

實施例 7

實施例 8

實施例 9

實施例 10

實施例 11

實施例 12

聚醯亞胺薄膜

編號

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

11

12

組成物

PAA-1

PI-1

PAA-2

PI-2

PAA-2

乾燥條件

100℃ ×10分鐘

煅燒條件

250℃ ×30分鐘

200℃ ×30分鐘

300℃ ×30分鐘

200℃ ×30分鐘

250℃ ×30分鐘

300℃ ×30分鐘

250℃ ×30分鐘

200℃ ×30分鐘

300℃ ×30分鐘

200℃ ×30分鐘

250℃ ×30分鐘

300℃ ×30分鐘

薄膜厚(μm)

50

透明性

透射率(%)

98.0

97.5

96.8

96.7

96.5

98.5

97.0

96.8

96.7

96.5

評價結果

A

機械強度

鉛筆硬度

3H

2H

3H

2H

評價結果

A

B

A

B

耐久性

UV處理後透射率(%)

97.8

97.0

96.8

96.4

96.6

97.1

96.2

95.5

93.6

93.2

93.6

UV處理後鉛筆硬度

3H

2H

3H

2H

透射率之差(%)

0.2

1.0

0.5

0.0

0.3

0.1

1.4

2.3

1.5

3.2

3.5

2.9

鉛筆硬度之差(階段)

0

評價結果

A

B

A

B

[表4]

實施例 13

實施例 14

實施例 15

實施例 16

實施例 17

實施例 18

實施例 19

實施例 20

實施例 21

實施例 22

實施例 23

實施例 24

聚醯亞胺薄膜

編號

13

14

15

16

17

18

19

20

21

22

23

24

組成物

PAA-3

PI-3

PAA-4

PI-5

PAA-6

PI-6

PAA-7

PI-7

PAA-8

PI-8

PAA-9

PI-9

乾燥條件

100℃ ×10分鐘

煅燒條件

250℃ ×30分鐘

薄膜厚(μm)

50

透明性

透射率(%)

96.0

98.2

98.1

98.2

98.1

92.4

92.2

94.4

94.0

96.2

96.0

評價結果

A

B

A

機械性強度

鉛筆硬度

H

3H

2H

評價結果

B

A

B

耐久性

UV處理後透射率(%)

95.5

95.4

98.0

97.9

98.0

97.8

90.0

92.2

88.4

89.0

90.5

90.3

UV處理後鉛筆硬度

H

3H

2H

透射率之差(%)

0.5

0.6

0.2

0.3

2.4

0.0

6.0

5.0

5.7

鉛筆硬度之差(階段)

0

評價結果

A

B

A

B

[表5]

		比較例1	比較例2	比較例3	比較例4	比較例5	比較例6	比較例7	比較例8
聚醯亞胺薄膜	編號	C1	C2	C3	C4	C5	C6	C7	C8
組成物	PAA-11	PAA-11	PAA-11	PAA-12	PAA-12	PAA-12	PI-11	PI-12
乾燥條件	100℃×10分鐘	100℃×10分鐘	100℃×10分鐘	100℃×10分鐘	100℃×10分鐘	100℃×10分鐘	-	-
煅燒條件	200℃×30分鐘	250℃×30分鐘	300℃×30分鐘	200℃×30分鐘	250℃×30分鐘	300℃×30分鐘	-	-
薄膜厚(μm)	50	50	50	50	50	50	-	-
透明性	透射率(%)	82.5	78.8	76.3	90	88.3	87.7	-	-
評價結果	C	C	C	B	B	B	-	-
機械強度	鉛筆硬度	H	2H	3H	B	B	HB	-	-
評價結果	B	B	A	C	C	C	-	-
耐久性	UV處理後透射率(%)	68.5	65.2	70.5	81.1	82.3	83.3	-	-
UV處理後鉛筆硬度	H	2H	3H	B	B	B	-	-
透射率之差(%)	14.0	13.6	5.8	8.9	6.0	4.4	-	-
鉛筆硬度之差(階段)	0	0	0	0	0	1	-	-
評價結果	C	C	B	C	B	C	-	-

[表6]

聚醯胺酸的種類	混合溶劑 NMP/丁基賽璐蘇
A(7：3)	B(5：5)	C(3：7)
PAA-1	A	A	A
PAA-11	A	B	C

如表6所示，就聚醯胺酸PAA-1而言，即使變更混合溶劑中的良溶劑與不良溶劑的重量比(NMP：丁基賽璐蘇)，溶解性仍未觀察到變化。就聚醯胺酸PAA-11而言，確認隨著使混合溶劑中的不良溶劑之比率增加，評價結果會從A變化到C，溶解性會降低。因此，確認聚醯胺酸PAA-1比起聚醯胺酸PAA-11，較可溶解到不良溶劑分率高的溶劑。

如表1~表4所示，實施例1~24中，聚醯胺酸組成物PAA-1~9係含有具有化學式(A)表示之重複單元之聚醯胺酸PAA-1~9與溶劑而成。聚醯胺酸PAA-1~9係溶解或分散於前述溶劑中。又，聚醯亞胺組成物PI-1~9係含有具有化學式(B)表示之重複單元之聚醯亞胺PI-1~9與溶劑而成。聚醯亞胺PI-1~9係溶解或分散於前述溶劑中。

如表3~表4所示，實施例1~24中，聚醯亞胺薄膜1~24係由聚醯胺酸組成物PAA-1~9及聚醯亞胺組成物PI-1~9中之任一者製得。聚醯亞胺薄膜1~24之透射性、機械強度及耐久性的評價結果均為A(非常優良)或B(良好)。亦即，聚醯亞胺薄膜1~24具有高透射率與鉛筆硬度，即使在紫外線照射後，薄膜的透射率仍幾乎未降低，針對鉛筆硬度也大致維持，兼具優良的透射性、機械強度及耐久性。

如表2及表5所示，比較例1~6中，聚醯胺酸組成物11~12係含有聚醯胺酸PAA-11~12與溶劑而成。聚醯胺酸PAA-11~12不包含化學式(A)表示之重複單元。比較例7~8中，聚醯亞胺組成物PI-11~12係含有聚醯亞胺PI-11~12與溶劑而成。聚醯亞胺PI-11~12不包含化學式(B)表示之重複單元。在聚醯亞胺組成物PI-11~12中，聚醯亞胺PI-11~12會析出，並未溶解或分散於溶劑中。

如表5所示，比較例1~6中，聚醯亞胺薄膜C1~C6係由聚醯胺酸組成物PAA-11及PAA-12中之任一者製得。聚醯亞胺薄膜C1~C6之透射性、機械強度及耐久性的評價結果之中，至少有1個以上為C(不良)。亦即，聚醯亞胺薄膜C1~C6至少表現出低透射率、低機械強度、以及紫外線照射後之透射率的降低及機械強度的降低中之1種。因此，聚醯亞胺薄膜C1~C6無法兼具優良的透射性、機械強度及耐久性。另外，比較例7~8中，如上述般由於聚醯亞胺PI-11~12會析出，故無法由聚醯亞胺組成物製得聚醯亞胺薄膜。更無法實施聚醯亞胺薄膜的評價。

由以上可知，實施例1~24之聚醯亞胺薄膜比起比較例1~6之聚醯亞胺薄膜，前者兼具優良的透射性、機械強度及耐久性。

Claims

一種聚醯胺酸組成物，係由包含下述通式(A)表示之重複單元之聚醯胺酸溶解或分散於溶劑中而成，
該通式(A)中， R^A 及R^B 各自獨立地為氫原子或甲基， R^C 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B^A 為2價有機基， B³ 及B⁴ 各自獨立地為-C(=O)-或-CH₂ -， G¹ 及G² 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，或為直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基，且該環為2個以上時，該環為縮合環。
如請求項1之聚醯胺酸組成物，其中，該通式(A)中，G¹ 及G² 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環。
如請求項1或2之聚醯胺酸組成物，其中，該通式(A)表示之重複單元包含選自於由下述通式(I)、下述通式(II)、下述通式(III)以及下述通式(IV)構成之群組中之重複單元中的至少1者，
該通式(I)中， R¹ 及R² 各自獨立地為氫原子或甲基， R³ 為氫原子、碳數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B¹ 為2價有機基，
該通式(II)中， R¹¹ 及R¹² 各自獨立地為氫原子或甲基， R¹³ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B¹¹ 為2價有機基，
該通式(III)中， R²¹ 及R²² 各自獨立地為氫原子或甲基， R²³ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B²¹ 為2價有機基，
該通式(IV)中， R³¹ 及R³² 各自獨立地為氫原子或甲基， R³³ 為氫原子、碳數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B³¹ 為2價有機基。
如請求項1或2之聚醯胺酸組成物，其中，在該包含通式(A)表示之重複單元之聚醯胺酸的分子末端不含來自四羧酸之二羧酸結構。
如請求項1或2之聚醯胺酸組成物，其中，在該包含通式(A)表示之重複單元之聚醯胺酸的分子末端含有來自二胺之胺基，該聚醯胺酸中之胺基(-NH₂ )的比例為0.001~0.1莫耳/kg之範圍。
一種聚醯亞胺成形體，係將如請求項1至5中任一項之聚醯胺酸組成物塗佈於基材上，並利用加熱來實施溶劑餾去與醯亞胺化反應而製造。
一種聚醯亞胺組成物，係由包含下述通式(B)表示之重複單元之聚醯亞胺溶解或分散於溶劑中而成，
該通式(B)中， R^D 及R^E 各自獨立地為氫原子或甲基， R^F 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B^D 為2價有機基， B⁵ 及B⁶ 各自獨立地為-C(=O)-或-CH₂ -， G³ 及G⁴ 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環，或為直鏈狀之碳原子數4~10之烷三基，且該環為2個以上時，該環為縮合環。
如請求項7之聚醯亞胺組成物，其中，該通式(B)中，G³ 及G⁴ 各自獨立地包含選自於由脂肪族環及芳香族環構成之群組中之至少1種環。
如請求項7或8之聚醯亞胺組成物，其中，該通式(B)表示之重複單元包含選自於由下述通式(V)、下述通式(VI)、下述通式(VII)以及下述通式(VIII)構成之群組中之重複單元中的至少1者，
該通式(V)中， R⁴ 及R⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R⁶ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B² 為2價有機基，
該通式(VI)中， R¹⁴ 及R¹⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R¹⁶ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B¹² 為2價有機基，
該通式(VII)中， R²⁴ 及R²⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R²⁶ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B²² 為2價有機基，
該通式(VIII)中， R³⁴ 及R³⁵ 各自獨立地為氫原子或甲基， R³⁶ 為氫原子、碳原子數1~20之烷基或碳原子數2~10之烯基， B³² 為2價有機基。
如請求項7或8之聚醯亞胺組成物，其中，在該包含通式(B)表示之重複單元之聚醯亞胺的分子末端不含來自四羧酸之二羧酸結構。
如請求項7或8之聚醯亞胺組成物，其中，在該包含通式(B)表示之重複單元之聚醯亞胺的分子末端含有來自二胺之胺基，該聚醯亞胺中之胺基(-NH₂ )的比例為0.001~0.1莫耳/kg之範圍。
一種聚醯亞胺成形體，係將如請求項7至11中任一項之聚醯亞胺組成物塗佈於基材上，並利用加熱來實施溶劑餾去而製造。