RU2009111381A - Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, и стеклоизделие с покрытием, изготовленное этим способом - Google Patents
Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, и стеклоизделие с покрытием, изготовленное этим способом Download PDFInfo
- Publication number
- RU2009111381A RU2009111381A RU2009111381/03A RU2009111381A RU2009111381A RU 2009111381 A RU2009111381 A RU 2009111381A RU 2009111381/03 A RU2009111381/03 A RU 2009111381/03A RU 2009111381 A RU2009111381 A RU 2009111381A RU 2009111381 A RU2009111381 A RU 2009111381A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- compound
- coating
- zinc oxide
- group
- containing compound
- Prior art date
Links
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 17
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 14
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 title claims abstract 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 36
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 9
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 6
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 4
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 claims 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- IGOGAEYHSPSTHS-UHFFFAOYSA-N dimethylgallium Chemical group C[Ga]C IGOGAEYHSPSTHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 1
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical group CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical group CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1884—Manufacture of transparent electrodes, e.g. TCO, ITO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/407—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
- H01L31/022483—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers composed of zinc oxide [ZnO]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/216—ZnO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/229—Non-specific enumeration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/241—Doped oxides with halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
1. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, при осуществлении которого: ! обеспечивают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносят покрытие, и ! наносят указанное покрытие из оксида цинка, содержащее легирующие примеси, на эту поверхность основы посредством подачи на нее газообразных реагентов, включающих цинксодержащее соединение, по меньшей мере одно фторсодержащее соединение, по меньшей мере одно кислородсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее элемент 13-й группы, выбранный из элементов, включающих бор, алюминий, галлий и индий. ! 2. Способ по п.1, в котором нанесение покрытия осуществляют химическим осаждением из паровой фазы. ! 3. Способ по п.2, в котором химическое осаждение из паровой фазы осуществляют при атмосферном давлении. ! 4. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, посредством химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении, при осуществлении которого: ! обеспечивают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносится покрытие и которая имеет температуру по меньшей мере 400°С, и ! наносят указанное покрытие из оксида цинка, содержащее легирующие примеси, на эту поверхность основы посредством подачи на нее газообразных реагентов, включающих цинксодержащее соединение, по меньшей мере одно фторсодержащее соединение, по меньшей мере одно кислородсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее элемент 13-й группы, выбранный из �
Claims (15)
1. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, при осуществлении которого:
обеспечивают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносят покрытие, и
наносят указанное покрытие из оксида цинка, содержащее легирующие примеси, на эту поверхность основы посредством подачи на нее газообразных реагентов, включающих цинксодержащее соединение, по меньшей мере одно фторсодержащее соединение, по меньшей мере одно кислородсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее элемент 13-й группы, выбранный из элементов, включающих бор, алюминий, галлий и индий.
2. Способ по п.1, в котором нанесение покрытия осуществляют химическим осаждением из паровой фазы.
3. Способ по п.2, в котором химическое осаждение из паровой фазы осуществляют при атмосферном давлении.
4. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, посредством химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении, при осуществлении которого:
обеспечивают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносится покрытие и которая имеет температуру по меньшей мере 400°С, и
наносят указанное покрытие из оксида цинка, содержащее легирующие примеси, на эту поверхность основы посредством подачи на нее газообразных реагентов, включающих цинксодержащее соединение, по меньшей мере одно фторсодержащее соединение, по меньшей мере одно кислородсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее элемент 13-й группы, выбранный из элементов, включающих бор, алюминий, галлий и индий.
5. Способ по п.4, в котором соединение, содержащее алюминий, представляет собой соединение алюминия с формулой:
R15 (3-n)AlR16 nLz,
где R15 - алкильная, или арильная, или галогенидная, или алкоксидная группа;
R16 - Н-группа, алкильная, арильная, галогенидная, или дикетонатная группа с формулой (R17C(O)CR18C(O)R19), в которой R17-19 могут быть одинаковыми или разными группами и являются Н-группой, алкильной или арильной группами, включая циклические и частично или полностью фторированные производные);
n=0-3;
L является кислородсодержащим донорным лигандом; а
z=0-2.
6. Способ по п.5, в котором соединением, содержащим алюминий, является диэтилалюминийацетилацетонат.
7. Способ по п.5, в котором соединением, содержащим алюминий, является диэтилалюминийхлорид.
8. Способ по п.4, в котором соединение, содержащее галлий, представляет собой соединение галлия с формулой:
R15 (3-n)GaR16 nLz,
где R15 - алкильная, или арильная, или галогенидная, или алкоксидная группа;
R16 - Н-группа, алкильная, арильная, галогенидная, или дикетонатная группа с формулой (R17C(O)CR18C(O)R19), в которой R17-19 могут быть одинаковыми или разными группами и являются Н-группой, алкильной или арильной группами, включая циклические и частично или полностью фторированные производные;
n=0-3;
L является кислородсодержащим донорным лигандом; а
z=0-2.
9. Способ по п.8, в котором соединением, содержащим галлий, является диметилгаллийацетилацетонат.
10. Способ по п.8, в котором соединением, содержащим галлий, является диметилгаллийгексафторацетилацетонат.
11. Способ по п.4, в котором кислородсодержащим соединением является вода.
12. Способ по п.4, в котором источником кислорода является смесь спирта и воды, где концентрация воды в растворе имеет значение между 0 и 25 мол.%.
13. Способ по п.12, в котором используют спирт 2-бутанол.
14. Способ изготовления изделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, посредством химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении, при осуществлении которого:
обеспечивают горячую стеклянную основу из диэлектрического материала, имеющую поверхность, на которую наносится покрытие и которая имеет температуру по меньшей мере 400°С, и
подают газообразные реагенты, включающие цинксодержащее соединение, кислородсодержащее соединение, фторсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее один или несколько металлов, выбранных из группы, включающей бор, алюминий, галлий и индий, на упомянутую поверхность, на которую на которую наносится покрытие из оксида цинка, содержащее легирующие примеси, причем смешивают цинксодержащее соединение, кислородсодержащее соединение, фторсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее по меньшей мере один элемент 13-й группы в течение короткого промежутка времени, достаточного для образования покрытия из оксида цинка, содержащего легирующие примеси, при скорости осаждения по меньшей мере 5 нм/с.
15. Стеклоизделие, включающее стеклянную основу с нанесенным на нее содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление и сформированным в результате реакции в смеси газообразных исходных веществ при температуре не менее 400°С, включающей цинксодержащее соединение, фторсодержащее соединение, кислородсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее элемент 13-й группы, выбранный из элементов, включающих бор, алюминий, галлий и индий.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US84078306P | 2006-08-29 | 2006-08-29 | |
| US60/840,783 | 2006-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2009111381A true RU2009111381A (ru) | 2010-10-10 |
| RU2447030C2 RU2447030C2 (ru) | 2012-04-10 |
Family
ID=38602842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2009111381/03A RU2447030C2 (ru) | 2006-08-29 | 2007-05-03 | Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, и стеклоизделие с покрытием, изготовленное этим способом |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7989024B2 (ru) |
| EP (1) | EP2059488A1 (ru) |
| JP (1) | JP5559536B2 (ru) |
| KR (1) | KR101409711B1 (ru) |
| CN (1) | CN101541701B (ru) |
| AU (1) | AU2007290843B2 (ru) |
| BR (1) | BRPI0716385A2 (ru) |
| MX (1) | MX2009002176A (ru) |
| MY (1) | MY148287A (ru) |
| RU (1) | RU2447030C2 (ru) |
| WO (1) | WO2008027086A1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2529443C2 (ru) * | 2012-10-31 | 2014-09-27 | Олег Петрович Ксенофонтов | Способ изготовления стекловидной композиции |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0803702D0 (en) | 2008-02-28 | 2008-04-09 | Isis Innovation | Transparent conducting oxides |
| IT1393401B1 (it) * | 2008-07-28 | 2012-04-20 | Enea Ente Per Le Nuova Tecnologie L En E L Ambiente | Metodo per la fabbricazione in linea di strati sottili di zno b trasparente conduttivo e testurizzato su larga area e relativo apparato |
| WO2010151430A1 (en) * | 2009-06-22 | 2010-12-29 | Arkema Inc. | Chemical vapor deposition using n,o polydentate ligand complexes of metals |
| GB0915376D0 (en) | 2009-09-03 | 2009-10-07 | Isis Innovation | Transparent conducting oxides |
| KR101638572B1 (ko) * | 2010-01-26 | 2016-07-12 | 도레이첨단소재 주식회사 | 징크옥사이드 로드입자를 포함하는 투명 전도성 폴리에스테르 필름 |
| EP2688850B1 (en) * | 2011-03-23 | 2018-02-21 | Pilkington Group Limited | Method of depositing zinc oxide coatings by chemical vapor deposition |
| JP5932251B2 (ja) * | 2011-06-17 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | フッ化膜形成方法及び光学素子の製造方法 |
| JP5912911B2 (ja) * | 2012-06-26 | 2016-04-27 | 株式会社Adeka | アルミニウム化合物を用いたａｌｄ法による薄膜の製造方法 |
| KR102123996B1 (ko) * | 2013-02-25 | 2020-06-17 | 삼성전자주식회사 | 알루미늄 전구체, 이를 이용한 박막 형성 방법 및 커패시터 형성 방법 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0682625B2 (ja) * | 1985-06-04 | 1994-10-19 | シーメンス ソーラー インダストリーズ，エル．ピー． | 酸化亜鉛膜の蒸着方法 |
| JPS6280918A (ja) * | 1985-10-03 | 1987-04-14 | 住友電気工業株式会社 | 透明導電膜の製造方法 |
| US5290589A (en) | 1986-03-24 | 1994-03-01 | Ensci, Inc. | Process for coating a substrate with iron oxide and uses for coated substrates |
| JP2718046B2 (ja) * | 1988-01-28 | 1998-02-25 | 旭硝子株式会社 | 透明導電膜 |
| JPH01249634A (ja) * | 1988-03-30 | 1989-10-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 導電性ガラスおよびその製造方法 |
| US4990286A (en) * | 1989-03-17 | 1991-02-05 | President And Fellows Of Harvard College | Zinc oxyfluoride transparent conductor |
| ATE186039T1 (de) * | 1991-12-26 | 1999-11-15 | Atochem North America Elf | Zusammensetzung einer deckschicht für glas |
| US6238738B1 (en) * | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
| US6071561A (en) * | 1997-08-13 | 2000-06-06 | President And Fellows Of Harvard College | Chemical vapor deposition of fluorine-doped zinc oxide |
| JP3554879B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2004-08-18 | 三洋電機株式会社 | 透光性導電膜の製造方法 |
| US6858306B1 (en) * | 1999-08-10 | 2005-02-22 | Pilkington North America Inc. | Glass article having a solar control coating |
| JP2002260448A (ja) * | 2000-11-21 | 2002-09-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 導電膜、その製造方法、それを備えた基板および光電変換装置 |
| CN1369572A (zh) * | 2001-04-03 | 2002-09-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 氧化物透明导电薄膜材料 |
| EP1289025A1 (fr) | 2001-08-30 | 2003-03-05 | Universite De Neuchatel | Procédé de dépot d'une couche d'oxyde sur un substrat et cellule photovoltaique utilisant ce substrat |
| US6827974B2 (en) * | 2002-03-29 | 2004-12-07 | Pilkington North America, Inc. | Method and apparatus for preparing vaporized reactants for chemical vapor deposition |
| KR100464855B1 (ko) * | 2002-07-26 | 2005-01-06 | 삼성전자주식회사 | 박막 형성 방법과, 이를 이용한 커패시터 형성 방법 및트랜지스터 형성 방법 |
| CN1182273C (zh) * | 2002-08-07 | 2004-12-29 | 浙江大学 | 固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法 |
| JP2004224675A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | １３族窒化物半導体ナノ粒子の製造方法 |
| JP2005060770A (ja) * | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 薄膜形成装置 |
| US7115304B2 (en) * | 2004-02-19 | 2006-10-03 | Nanosolar, Inc. | High throughput surface treatment on coiled flexible substrates |
| KR100657792B1 (ko) * | 2005-01-24 | 2006-12-14 | 삼성전자주식회사 | 원자층 적층 방법과 이를 이용한 커패시터의 제조 방법 및게이트 구조물의 제조 방법 |
| GB0518383D0 (en) | 2005-09-09 | 2005-10-19 | Pilkington Plc | Deposition process |
-
2007
- 2007-05-03 AU AU2007290843A patent/AU2007290843B2/en not_active Ceased
- 2007-05-03 US US11/800,042 patent/US7989024B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-05-03 JP JP2009526590A patent/JP5559536B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-05-03 EP EP07794488A patent/EP2059488A1/en not_active Ceased
- 2007-05-03 CN CN2007800393530A patent/CN101541701B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-05-03 MX MX2009002176A patent/MX2009002176A/es active IP Right Grant
- 2007-05-03 BR BRPI0716385-1A patent/BRPI0716385A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-05-03 WO PCT/US2007/010624 patent/WO2008027086A1/en active Application Filing
- 2007-05-03 MY MYPI20090806A patent/MY148287A/en unknown
- 2007-05-03 KR KR1020097006352A patent/KR101409711B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-05-03 RU RU2009111381/03A patent/RU2447030C2/ru not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2529443C2 (ru) * | 2012-10-31 | 2014-09-27 | Олег Петрович Ксенофонтов | Способ изготовления стекловидной композиции |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MX2009002176A (es) | 2009-04-22 |
| RU2447030C2 (ru) | 2012-04-10 |
| CN101541701A (zh) | 2009-09-23 |
| CN101541701B (zh) | 2013-07-17 |
| BRPI0716385A2 (pt) | 2013-01-01 |
| KR101409711B1 (ko) | 2014-06-19 |
| JP5559536B2 (ja) | 2014-07-23 |
| WO2008027086A1 (en) | 2008-03-06 |
| US7989024B2 (en) | 2011-08-02 |
| US20080057321A1 (en) | 2008-03-06 |
| AU2007290843B2 (en) | 2012-07-26 |
| JP2010502541A (ja) | 2010-01-28 |
| KR20090057287A (ko) | 2009-06-04 |
| AU2007290843A1 (en) | 2008-03-06 |
| WO2008027086A8 (en) | 2009-04-09 |
| EP2059488A1 (en) | 2009-05-20 |
| MY148287A (en) | 2013-03-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2009111381A (ru) | Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, и стеклоизделие с покрытием, изготовленное этим способом | |
| RU2009111380A (ru) | Способ нанесения содержащих легирующие примеси покрытий из оксида цинка, имеющих низкое удельное сопротивление, и изделия, изготавливаемые этим способом | |
| RU2009112714A (ru) | Низкотемпературный способ изготовления изделия с покрытием из оксида цинка | |
| CN104254495B (zh) | 复合氧化物薄膜制造用组合物和使用该组合物的薄膜的制造方法、以及复合氧化物薄膜 | |
| JP6129246B2 (ja) | ＵＶ援用型化学蒸着によるポリマー基板上へのドープＺｎＯ膜の被着 | |
| JP2009508000A (ja) | 堆積方法 | |
| US7736698B2 (en) | Method of depositing zinc oxide coatings on a substrate | |
| RU2009111377A (ru) | Способ изготовления изделия с покрытием из оксида цинка | |
| US9528182B2 (en) | Chemical vapor deposition using N,O polydentate ligand complexes of metals | |
| CN101437770A (zh) | 在底材上沉积氧化锌涂层的方法 | |
| KR20150108664A (ko) | 전구체 화합물 및 이를 이용한 박막 증착 방법, 어모퍼스 실리콘막의 증착방법 | |
| JP2012087015A (ja) | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物を用いた酸化亜鉛薄膜製造方法、およびこの方法で製造した帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜 | |
| JP2012087014A (ja) | 酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20170504 |