KR20120035874A - 터치 패널 - Google Patents

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KR20120035874A
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Abstract

[과제] 본 발명은, 고온 고습 등의 환경 변동에 안정적인 금속 세선 전극을 사용하고, 대면적이면서 응답성이 우수하고, 멀티 터치가 가능한 터치 패널을 제공한다.
[해결 수단] 제 1 센서 전극 어레이와 제 2 센서 전극 어레이가 직교 배열되어 있는 정전 용량 방식의 터치 패널에 있어서, 터치자측에 배치된 제 1 센서 전극 어레이는, 접착 용이층을 갖는 투명 기판 상에 도전성 금속 세선이 패턴화되어 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식의 터치 패널.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}
본 출원은 반사 색도가 우수한 센서 전극 어레이, 투영형 정전 용량 방식의 터치 패널에 사용하여 바람직한 센서 전극 어레이, 센서 전극 어레이의 사용 방법, 제조 방법 및 터치 패널에 관한 것이다.
일반적으로, 정전 용량 방식의 터치 패널은, 인간의 손가락끝과 도전막 사이에서의 정전 용량의 변화를 포착하여 손가락끝의 위치를 검출하는 위치 입력 장치인데, 이 정전 용량 방식의 터치 패널로는 표면형과 투영형이 있다. 표면형은, 구조가 간편하기는 하지만, 동시에 2 점 이상의 접촉 (멀티 터치) 을 검지하는 것이 어렵다. 한편, 투영형은, 다수의 전극이 매트릭스 형상으로 배열되어 구성되고, 보다 구체적으로는, 복수의 제 1 전극군이 수평 방향으로 배열되고, 절연층을 개재하여, 복수의 제 2 전극군이 수직 방향으로 배열되어 구성되고, 복수의 제 1 전극군 및 복수의 제 2 전극군으로 용량 변화를 순차적으로 검출해 나감으로써, 멀티 터치를 검출할 수 있는 구성으로 되어 있다.
최근, 이와 같은 터치 패널에는, 멀티 터치와 대화면화의 요청이 강해지고 있어, 상기 투영형의 정전 용량 방식의 터치 패널의 개발이 진행되고 있다. 전극 재료에는 투명 도전체인 ITO 등이 사용되어 왔지만, 대화면화에 필요한 전극 세선화에는 그 저항값이 높은 것이 세선화 및 터치 패널 응답성의 장해가 되고 있다. 이들의 문제를 해결하기 위해 금, 은, 구리 등의 금속 박막을 미세 가공하여, 터치자에게 시인되지 않는 선폭의 도전성 세선에 의해 전극군을 구성하는 기술 개발이 진행되고 있다 (특허문헌 1).
또한, 금속 박막을 이용하는 경우의 미묘한 금속색, 광택이 화면에 주는 영향 문제에 대해서는, 특허문헌 2 에 금속 표면을 흑색화 처리하는 방법이 기재되어 있지만, 내구성은 불충분하다.
금속 박막의 미세 가공에 의해 저저항의 도전성 세선을 형성하는 것은 가능하다고 해도, 실제로 대면적의 전극 패턴을 금속 세선의 박리나 균열을 발생시키지 않고 안정적으로 제조하는 것은 용이하지 않다. 또한, 형성된 금속 세선이 터치 패널 형성 후의 환경 변화에 대해, 마이그레이션을 일으켜 터치 패널로서의 응답성을 저하시키는 문제나, 색미 변동의 문제도 해결되어 있지 않다.
국제 공개 제 2010/014683호 팜플렛 일본 공개특허공보 2006-344163호
본 발명은 상기와 같은 문제를 고려하여 이루어진 것으로서, 대면적이면서 응답성이 우수하고, 멀티 터치가 가능한 금속 세선 전극을 사용한 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명의 목적은, 반사 색미가 전체 화면 에 있어서 안정적인 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명의 다른 목적은, 고온 고습 등의 환경 변동에 안정적인 금속 세선 전극을 사용한 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명의 또 다른 목적은, 안정적인 제조를 할 수 있고 품질이 안정적인 금속 세선 전극을 사용한 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.
1) 제 1 센서 전극 어레이를 갖는 터치 패널로서, 상기 제 1 센서 전극 어레이는 투명 기판 상에 도전성 금속 세선이 패턴화되어 형성되어 있고, 상기 센서 전극 어레이의 반사 색도 L*a*b* 의 L* 가 6 ? 13, a* 가 -0.7 ? 1.5, b* 가 -5.0 ? 1.2 인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
2) 추가로 제 2 센서 전극 어레이를 포함하고, 상기 제 1 센서 전극 어레이와 제 2 센서 전극 어레이가 직교 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1 에 기재된 터치 패널.
3) 상기 패턴화된 도전성 금속 세선과 상기 투명 기판 사이에 적어도 1 이상의 접착 용이층을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 1 에 기재된 터치 패널.
4) 정전 용량 방식의 터치 패널인 것을 특징으로 하는 청구항 1 에 기재된 정전 용량 방식의 터치 패널.
5) 제 1 센서 전극 어레이와 제 2 센서 전극 어레이가 직교 배열되어 있는 정전 용량 방식의 터치 패널에 있어서, 터치자측에 배치된 제 1 센서 전극 어레이는, 접착 용이층을 갖는 투명 기판 상에 도전성 금속 세선이 패턴화되어 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식의 터치 패널.
6) 상기 패턴화된 도전성 금속 세선은 터치면측에 흑화층을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 청구항 5 에 기재된 터치 패널.
7) 상기 흑화층의 표면 조도 (Ra) 가 0.15 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 6 에 기재된 터치 패널.
8) 상기 센서 전극 어레이의 반사 색도 L*a*b* 의 L* 가 6 ? 13, a* 가 -0.7 ? 1.5, b* 가 -5.0 ? 1.2 인 것을 특징으로 하는 청구항 5 에 기재된 정전 용량 터치 패널.
9) 상기 제 1 센서 전극 어레이를 구성하는 센서 전극은, 상기 도전성 금속 세선으로 형성되는 메시로 이루어지는 다이아몬드 구조의 연속체 또는 띠 형상체이고, 상기 제 2 센서 전극 어레이를 구성하는 센서 전극은, 상기 제 1 센서 전극 어레이를 구성하는 센서 전극과 동일한 구조 또는 bar 구조인 것을 특징으로 하는 청구항 2 내지 청구항 5 중 어느 1 항에 기재된 터치 패널.
10) 직교 배열되어 있는 상기 제 1 센서 전극 어레이와 제 2 센서 전극 어레이를 투시했을 때, 패턴화된 도전성 금속 세선이, 터치면 전체에 거의 균일한 격자 모양을 형성하고 있는 것을 특징으로 하는 청구항 2 또는 5 에 기재된 터치 패널.
11) 상기 도전성 금속 세선이 금속 박막층을 포토리소그래피 방법, 혹은, 레이저 어블레이션의 방법을 사용하여, 선폭 1000 ㎚ 내지 8000 ㎚ 의 세선 패턴으로 패터닝된 것인 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 5 에 기재된 터치 패널.
12) 상기 도전성 금속 세선의 폭이 두께의 2.5 배 이상인 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 5 에 기재된 터치 패널.
13) 상기 투명 기판이 폴리에스테르 수지로 이루어지고, 상기 접착 용이층이 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 혹은 우레탄 수지로 이루어지고, 상기 접착 용이층에 가교제가 첨가되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 3 또는 5 에 기재된 터치 패널.
14) 상기 접착 용이층이, 제 1 및 제 2 접착 용이층으로 이루어지고, 상기 투명 기판에 접하는 제 1 접착 용이층이 폴리에스테르 수지로 이루어지고, 제 2 접착 용이층이 아크릴 수지 혹은 우레탄 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 청구항 13 에 기재된 터치 패널.
15) 상기 가교제가 옥사졸리딘 화합물, 에폭시 화합물, 혹은 이소시아네이트 화합물인 것을 특징으로 하는 청구항 13 에 기재된 터치 패널.
16) 상기 가교제가 옥사졸리딘 화합물, 에폭시 화합물, 혹은 이소시아네이트 화합물인 것을 특징으로 하는 청구항 14 에 기재된 터치 패널.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 관련된 센서 전극 어레이, 센서 전극 어레이의 사용 방법 및 터치 패널에 의하면, 대면적이면서 응답성이 우수하고, 멀티 터치가 가능하며, 고온 고습 등의 환경 변동에 안정적인 터치 패널, 또한 안정적인 제조를 할 수 있어 품질이 안정적인 터치 패널을 얻을 수 있다.
도 1 은 본 발명의 터치 패널의 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 센서 전극 어레이와 터치 패널의 단면도이다.
도 3 은 본 발명의 제 1 센서 전극 어레이 (11) 의 배열도이다.
도 4 는 본 발명의 제 2 센서 전극 어레이 (12) 의 배열도이다.
도 5 는 본 발명의 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이를 직교 배치했을 때의 터치자측으로부터의 투시도이다.
도 6 은 본 발명의 다른 제 1 센서 전극 어레이 (11) 의 배열도이다.
도 7 은 본 발명의 다른 제 2 센서 전극 어레이 (12) 의 배열도이다.
도 8 은 본 발명의 다른 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이를 직교 배치했을 때의 터치자측으로부터의 투시도이다.
도 9 는 본 발명의 흑화층을 갖는 터치 패널의 단면도이다.
도 10 은 본 발명의 흑화층의 형성 방법의 일례이다.
본 발명은, 상기 「발명이 해결하고자 하는 과제」항에 기재한 바와 같이, 대면적이면서 응답성이 우수하고, 멀티 터치가 가능한 금속 세선 전극을 사용한 터치 패널을 제공하는 것, 또한 반사 색미가 전체 화면에 있어서 안정적이며, 또한 고온 고습 등의 환경 변동에 대해서도 안정적이고, 안정적인 제조를 할 수 있어 품질이 안정적인 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 하는 발명이다.
상기 본 발명의 터치 패널에 대해, 이하에 상세하게 설명한다. 또한, 본 명세서에 있어서 「?」는, 그 전후에 기재되는 수치를 하한치 및 상한치로 하여 포함하는 의미로서 사용된다.
도 1 은 제 1 본 발명의 터치 패널 (10) 의 단면도를 나타내고 있고, 도 1(a) 의 상측의 터치자측으로부터, 터치면을 구성하는 투명 재료층 (16), 절연층을 겸하는 점착층 (19), 제 1 센서 전극 어레이 (11), 접착 용이층 (18), 투명 기판 (15), 절연층을 겸하는 점착층 (19'), 제 2 센서 전극 어레이 (12), 접착 용이층 (18'), 투명 기판 (15'), 점착층 (19"), 박리 필름 (17) 으로 구성되는 다층 구성의 정전 용량 방식 터치 패널을 예시하고 있다. 도 1 의 하부의 점착층과 박리 필름은, 본 발명의 터치 패널을 화상 표시 장치 등에 부착시키기 위한 요건으로서, 없어도 된다. 도 1(b) 는, 투명 기판 (15) 의 양면에 접착 용이층, 센서 전극 어레이, 점착층이 대칭적으로 적층되어 있는 점에서 도 1(a) 와 상이한 구성이다.
상기 도 1 의 (a) 는, 상부 전극과 하부 전극을 별도의 투명 기판 상에 형성하는 경우에 바람직한 구성을 나타내고, (b) 는 1 장의 투명 기판의 표리면에 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이를 형성하는 경우에 바람직한 구성을 나타내고 있다.
또한, 도면에서는 표시하고 있지 않지만, 제 1 센서 전극 어레이의 배치 방향과, 제 2 센서 전극 어레이의 배치 방향은, 투명 기판을 개재하여 서로 직교 배치로 되도록 설정되어 멀티 터치 검출이 가능한 구성으로 되어 있다.
이하에서, 상기 센서 전극에 사용되는 재료 및 전극의 제조 방법에 대해 순차적으로 설명한다.
〔투명 재료층, 투명 기판〕
상기 터치면을 구성하는 투명 재료층 (16), 투명 기판 (15, 15') 에 사용되는 투명한 재료는 동일한 재료여도 되고, 각각 따로따로 재료를 사용해도 되고, 플라스틱 필름, 플라스틱판, 유리판 등이 사용된다. 층의 두께는 각각의 용도에 따라 적절히 선택하는 것이 바람직하다. 이들 재료는 가요성을 갖는 것이 바람직하다.
상기 플라스틱 필름 및 플라스틱판의 원료로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌나프탈레이트 (PEN) 등의 폴리에스테르류; 폴리에틸렌 (PE), 폴리프로필렌 (PP), 폴리스티렌, EVA 등의 폴리올레핀류; 비닐계 수지; 그 밖에, 폴리카보네이트 (PC), 폴리아미드, 폴리이미드, 아크릴 수지, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 등을 사용할 수 있다.
바람직한 재료로는, PET (융점 : 258 ℃), PEN (융점 : 269 ℃), PE (융점 : 135 ℃), PP (융점 : 163 ℃), 폴리스티렌 (융점 : 230 ℃), 폴리염화비닐 (융점 : 180 ℃), 폴리염화비닐리덴 (융점 : 212 ℃) 이나 TAC (융점 : 290 ℃) 등의 융점이 약 290 ℃ 이하인 플라스틱 필름, 또는 플라스틱판이 바람직하고, 특히, 광투과성이나 가공성 등의 관점에서, PET 가 바람직하다. 필름이나 판의 두께는 50 ㎛ 내지 300 ㎛ 인 것이 바람직하다.
상기 터치면을 구성하는 투명 재료층 (16) 은, 터치에 의한 오염, 먼지의 부착을 방지하기 위해서 방오층을 형성해도 된다. 또한, 외광의 반사에 의한 화면의 보기 어려움을 개량하기 위한 반사 방지층을 형성해도 된다. 이들 부여층에 대해서는 반사 방지 필름이나 방현 필름의 분야에서 공지된 기술 (일본 공표특허공보 2005-535934호, 일본 공개특허공보 2007-301970호 등) 을 이용할 수 있다.
〔접착 용이층에 사용되는 재료와 층의 형성 방법〕
본 발명의 접착 용이층 (18, 18') 은 투명 기판 상에 1 층 혹은 2 층의 접착 용이층을 갖고, 그 층에 바인더 수지, 가교제 및 첨가제를 함유한다.
본 발명에 사용되는 바인더 수지로는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, (a) 아크릴 수지, (b) 폴리우레탄 수지, (c) 폴리에스테르 수지, (d) 고무계 수지 등의 폴리머를 바람직하게 사용할 수 있다.
(a) 아크릴 수지란, 아크릴산, 메타크릴산 및 이들의 유도체를 성분으로 하는 폴리머이다. 구체적 예시로는, 아크릴산, 메타크릴산, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 하이드록실아크릴레이트 등을 주성분으로 하여 이들과 공중합할 수 있는 모노머 (예를 들어, 스티렌, 디비닐벤젠 등) 를 공중합한 폴리머를 들 수 있다.
(b) 폴리우레탄 수지란, 주사슬에 우레탄 결합을 갖는 폴리머의 총칭으로서 통상, 폴리이소시아네이트와 폴리올의 반응에 의해 얻어진다. 폴리이소시아네이트로는, TDI, MDI, NDI, TODI, HDI, IPDI 등이 있고, 폴리올로는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린, 헥산트리올 등이 있다. 또한, 본 발명의 이소시아네이트로는, 폴리이소시아네이트와 폴리올의 반응에 의해 얻어진 폴리우레탄 폴리머에 사슬 연장 처리를 하여 분자량을 증대시킨 폴리머도 사용할 수 있다. 이상에서 서술한 폴리이소시아네이트, 폴리올 및, 사슬 연장 처리에 대해서는, 예를 들어 「폴리우레탄 수지 핸드북」(이와타 케이지편, 닛칸 공업 신문사, 1987년 발행) 에 있어서 기재되어 있다.
(c) 폴리에스테르 수지란, 주사슬에 에스테르 결합을 갖는 폴리머의 총칭으로서 통상, 폴리카르복실산과 폴리올과의 반응으로 얻어진다. 폴리카르복실산으로는, 예를 들어 푸마르산, 이타콘산, 아디프산, 세바스산, 테레프탈산, 이소프탈산 등이 있고, 폴리올로는, 예를 들어, 상기 서술한 것을 들 수 있다. 폴리에스테르 수지 및 그 원료에 대해서는, 예를 들어, 「폴리에스테르 수지 핸드북」(타키야마 에이이치로저, 닛칸 공업 신문사, 1988년 발행) 에 있어서 기재되어 있다.
본 발명에 있어서의 (d) 고무계 수지란, 합성 고무 중 디엔계 합성 고무를 말한다. 구체예로는 폴리부타디엔, 스티렌-부타디엔 공중합체, 스티렌-부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체, 스티렌-부타디엔-디비닐벤젠 공중합체, 부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리클로로프렌 등이 있다. 고무계 수지에 대해서는, 예를 들어, 「합성 고무 핸드북」(칸바라 슈 등 편집, (주) 아사쿠라 서점, 1967년 발행) 에 있어서 기재되어 있다.
본 발명에 사용되는 가교제로는, 예를 들어 에폭시 화합물, 옥사졸린 화합물, 멜라민 화합물, 및 이소시아네이트 화합물을 들 수 있다.
본 발명에서 사용되는 에폭시 화합물로는 폴리에폭시 화합물, 디에폭시 화합물, 모노에폭시 화합물, 글리시딜아민 화합물 등을 들 수 있고, 폴리에폭시 화합물로는 예를 들어, 소르비톨, 폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 디글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리글리시딜트리스(2-하이드록시에틸)이소시아네이트, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 디에폭시화합물로는 예를 들어, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 레조르신디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리테트라메틸렌글리콜디글리시딜에테르, 모노에폭시 화합물로는, 예를 들어, 알릴글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, 글리시딜아민 화합물로는 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일릴렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노)시클로헥산 등을 들 수 있다.
본 발명에 사용되는 옥사졸린 화합물로는, 옥사졸린기를 함유하는 중합체가 바람직하다. 이와 같은 중합체는, 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머 단독 혹은 다른 모노머와의 중합에 의해 제작할 수 있다. 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머는 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-5-에틸-2-옥사졸린 등을 들 수 있고, 이들의 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 이들 중에서도 2-이소프로페닐-2-옥사졸린이 공업적으로도 입수하기 쉬워 바람직하다. 다른 모노머는, 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머와 공중합할 수 있는 모노머이면 제한되지 않고, 예를 들어 알킬아크릴레이트, 알킬메타크릴레이트 (알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기) 등의 아(메트)크릴산 에스테르류; 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸말산, 크로톤산, 스티렌술폰산 및 그 염 (나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 제 3 급 아민염 등) 등의 불포화 카르복실산류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴류; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-알킬아크릴아미드, N-알킬메타크릴아미드, N,N-디알킬아크릴아미드, N,N-디알킬메타크릴레이트 (알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기등) 등의 불포화 아미드류; 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르류; 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르 등의 비닐에테르류; 에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀류; 염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐 등의 함할로겐α,β-불포화 모노머류; 스티렌, α-메틸스티렌 등의 α,β-불포화 방향족 모노머 등을 들 수 있고, 이들의 1 종 또는 2 종 이상의 모노머를 사용할 수 있다.
본 발명에 사용되는 멜라민 화합물로는, 멜라민과 포름알데히드를 축합하여 얻어지는 메틸올멜라민 유도체에 저급 알코올로서 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올 등을 반응시켜 에테르화한 화합물 및 그들의 혼합물이 바람직하다. 메틸올멜라민 유도체로는, 예를 들어, 모노메틸올멜라민, 디메틸올멜라민, 트리메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 헥사메틸올멜라민 등을 들 수 있다.
본 발명에 사용되는 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4′-디이소시아네이트, 메타크실릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌-1,6-디이소시아네이트, 1,6-디이소시아네이트헥산, 톨릴렌디이소시아네이트와 헥산트리올의 부가물, 톨릴렌디이소시아네이트와 트리메틸올프로판의 부가물, 폴리올 변성 디페닐메탄-4,4′-디이소시아네이트, 카르보디이미드 변성 디페닐메탄-4,4′-디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 3,3′-비톨릴렌 4,4′-디이소시아네이트, 3,3′-디메틸디페닐메탄-4,4′-디이소시아네이트, 메타페닐렌디이소시아네이트 등을 들 수 있다.
접착 용이층에 첨가할 수 있는 가교제의 첨가량은, 바인더에 대해 1 ? 100 질량% 의 범위에서 첨가하는 것이 바람직하고, 5 ? 50 질량% 의 범위가 보다 바람직하다. 첨가량이 1 질량% 보다 적으면 접착성이 불충분하고, 한편으로, 첨가량이 100 질량% 를 초과하면, 면 형상이 악화될 우려가 있다.
본 발명의 접착 용이층에는, 여러 가지의 목적에 따라 각종의 첨가제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-203635호의 단락 27 ? 29 에 기재된 굴절률 조정용의 미립자, 동호 단락 30 에 기재된 롤 형상으로 권취했을 때의 접착 방지용의 매트제, 혹은 미끄럼제, 동호 단락 32 에 기재된 도포성 개량용의 각종 계면활성제 등을 사용할 수 있다.
접착 용이층은, 투명 기판에 대한 접착 용이성을 발현시키기 위해서, 2 층 구성, 즉 제 1 및 제 2 접착 용이층으로 구성해도 된다.
2 층 구성인 경우, 투명 기판에 접하는 제 1 접착 용이층이 폴리에스테르로 이루어지고, 제 2 접착 용이층이 아크릴 수지 혹은 우레탄 수지로 이루어지는 구성으로 하면 접착 용이성을 발현시키기 쉽다. 제 1 및 제 2 접착 용이층에 사용하는 가교제는, 옥사졸리딘 화합물, 에폭시 화합물, 혹은 이소시아네이트 화합물인 것이 바람직하다. 제 2 접착 용이층은 최외층이 되기 때문에 미끄럼제를 사용하는 것이 바람직하다.
제 1 접착 용이층의 두께는, 30 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하가 바람직하고, 65 ㎚ 이상 150 ㎚ 이하가 더욱 바람직하다. 30 ㎚ 미만인 경우에는, 투명 기판과 제 1 층의 접착성이 불충분할 우려가 있다. 300 ㎚ 를 초과하면, 제 1 층의 면 형상이 악화될 우려가 있으므로 바람직하지 않다.
제 2 접착 용이층의 두께에는 특별히 제한은 없지만, 우수한 투명성을 확보하면서 접착 용이성을 실현시키기 위해서, 10 ㎚ 이상 5000 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 ㎚ 이상 1500 ㎚ 이하이다. 제 2 층의 두께가 10 ㎚ 미만이면, 상층과의 접착성이 불충분해질 우려가 있고, 한편으로, 두께가 5000 ㎚ 를 초과하면 면 형상이 악화될 우려가 있다.
본 발명의 접착 용이층은, 도포에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 단, 도포층을 형성하는 방법은 특별히 제한은 없고, 바 코터 도포, 슬라이드 코터 도포등의 공지된 방법을 사용할 수 있다. 또한, 제 1 층과 제 2 층을 형성할 때에는, 동일한 방법을 사용해도 되고, 상이한 방법을 사용해도 된다. 또한, 제 2 층을 형성할 때에는, 제 1 층과 동시에 도포한 후에 건조시켜도 되고, 제 1 층을 도포 건조시킨 후에 도포해도 된다.
절연층을 겸하는 점착층 (19, 19') 에는, 도전성을 갖지 않는 접착제를 사용할 수 있다. 접착제에는 다수의 것이 있고, 이들 중에서, 아크릴 수지계, 에폭시 수지계, 페놀 수지계, 비닐 수지계 등이 사용된다. 층 형성을 위한 방법으로 특별히 제약은 없지만, 스크린 인쇄법 등을 사용할 수 있다.
도 2 는, 제 2 본 발명의 터치 패널 (10) 의 단면도를 나타내고, 도 2(a) 는 본 발명의 제 1 센서 전극 어레이 (11) 가 투명 기판 (15) 상에 형성되어 있는 모습을 나타내고, 도 2(b) 는 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이 (11 과 12) 가 도 1 과 동일하게 적층된 모습을 나타내고 있다. 또한, 도면에서는 표시하고 있지 않지만, 제 1 센서 전극 어레이의 배치 방향과, 제 2 센서 전극 어레이의 배치 방향은, 투명 기판을 개재하여 서로 직교 배치가 되도록 설정되어 멀티 터치가 가능한 구성으로 되어 있다.
도 2(c) 및 도 2(d) 는, 도 2(b) 의 2 층의 전극 상에 터치 패널을 구성하기 위해 필요한 층이 형성되고, 도 1(a) 및 도 1(b) 와 동일한 터치 패널이 형성되는 모습을 나타내고 있다.
상기 제 2 본 발명에 사용되는〔투명 재료층, 투명 기판〕,〔접착 용이층〕의 재료 및 형성 방법은, 제 1 본 발명의 항에서 설명한 재료 및 형성 방법을 사용할 수 있다.
〔반사 색도〕
본 발명의 센서 전극 어레이는, 도전성 금속층이 고유의 반사색을 갖기 위해 가능한 한 뉴트럴로 반사색을 조정할 필요가 있고, 반사 색도를 L*a*b* 표색계에 있어서, L* 가 6 ? 13, a* 가 -0.7 ? 1.5, b* 가 -5.0 ? 1.2 로 조정하는 것이 바람직하다.
더욱 바람직하게는, L* 가 6 ? 12, a* 가 -0.6 ? 1.2, b* 가 -4.8 ? 1.0 이다.
또한, L*a*b* 표색계는, 국제 조명 위원회 (CIE) 에 있어서 1976년에 정해진 표색의 방법으로서, 본 발명에 있어서의 L* 값, a* 값, b* 값은, JIS-Z 8729 : 1994 에 규정되는 방법에 따라 측정하여 얻어진 값이다. JIS-Z 8729 의 측정 방법으로는, 반사에 의한 측정 방법, 투과에 의한 측정 방법이 있지만, 본 실시의 형태에서는 반사로 측정한 값을 사용한다.
L*a*b* 표색계에 있어서의 L* 값, a* 값, b* 값은, 널리 알려져 있는 바와 같이 L* 값이 명도, a* 값과 b* 값이, 색상과 채도를 나타내고 있다. 구체적으로는, a* 값이 정(正) 의 부호이면 적색의 색상, 부(負) 의 부호이면 녹색의 색상인 것을 나타낸다. b* 값이 정의 부호이면 황색의 색상, 부의 부호이면 청색의 색상이다. 또한, a* 값과 b* 값도, 절대값이 클수록 그 색의 채도가 크고 선명한 색인 것을 나타내고, 절대값이 작을수록 채도가 작은 것을 나타낸다. 본 발명에 있어서는, a* 값은 확실한 적색계로부터 가능한 한 작은 값으로, b* 값은 확실한 황색으로부터 극히 적은 청색으로 변경함으로써 시인하기 쉬운 터치 패널을 얻는 것을 의도하고 있다. 측정 방법의 자세한 것은 실시예의 항에 기재한다.
〔센서 전극 어레이의 구조〕
도 3 은 본 발명의 제 1 센서 전극 어레이 (11) 를 설명하는 도면으로서, 직교 격자 형상의 메시가 2 개의 도전성 세선으로 X 방향으로 연결되어 1 개의 전극을 구성하고 있다. 이와 같은 전극이 Y 방향으로 배열되어 전극 어레이를 형성하고 있다. 여기에서 X 방향, Y 방향은 터치 패널을 제작했을 때의 터치 화면의 세로 방향을 X 방향, 가로 방향을 Y 방향으로 정의한다. 도 3 의 메시 구조는 정사각 격자로 외형도 대략 정사각형이고, 전극 방향에서 본 외형은 마름모이다. 이 메시의 외형 부분에는 i 로 나타내는 도전성의 단선이 형성되어 있다. 도 4 는, 본 발명의 제 2 센서 전극 어레이 (12) 를 설명하는 도면으로서, 직교 격자 형상의 메시가 2 개의 도전성 세선으로 Y 방향으로 연결되어 있는 것 이외에는 제 1 센서 전극 어레이 (11) 와 동일하다.
도 5 는 상기 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이를 직교 배치했을 때의 투시도를 나타내고 있고, 터치면 전체에 도전성 세선의 거의 균일한 격자 모양이 형성되어 있다. 센서 전극의 부분은 다이아몬드 구조로 통칭되고, 전극 간에 있고 전극을 사이에 두는 비도전부에는, 전극과는 도통하지 않는 도전성 세선 (i) 이 배치되어 있다. 전극을 사이에 두는 비도전부에 상기 도전성 세선 (i) 이 배치되어 있지 않으면, 전극부와 비도전부의 반사율, 굴절률, 작은 색미의 차이 등에 의해 비도전부의 패턴이 인식될 가능성이 있기 때문에, 도통하고 있지 않은 세선 (i) 을 배치하고 있다. 도 3 ? 5 의 도통하고 있지 않은 세선 (i) 은 고립된 도선으로서 기재되어 있지만, 이들 세선 (i) 을, 전극과는 따로 연결하여, 기생 용량의 제어에 사용해도 된다.
격자 형상의 메시 구조의 도전성 세선의 선폭은, 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 1 ㎛ 이상 8 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 2 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하로 함으로써 가공의 용이함과 간섭 무늬 발생의 방지의 양립이 도모된다.
메시를 구성하는 격자의 1 변의 길이는 100 ㎛ 이상 600 ㎛ 이하가 바람직하고, 150 ㎛ 이상 350 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 100 ㎛ 이상 600 ㎛ 이하로 함으로써, 광의 투과성과 저항값의 낮음이라는 양립이 도모된다.
전극을 사이에 두는 비도전부의 폭은, 고주파 구동에 의한 도통을 피하기 위해, 50 ㎛ 이상이 바람직하고, 100 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 150 ㎛ 이상 350 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.
센서 전극 어레이의 전극의 간격은, 2 ㎜ 이상 8 ㎜ 이하가 바람직하고, 3 ㎜ 이상 7 ㎜ 이하가 더욱 바람직하다.
도 6 ? 도 8 은 도 3 ? 도 5 의 다이아몬드 구조의 전극 패턴과는 다른 띠 형상 구조의 전극 패턴을 나타낸 도면이다.
도 6 은 띠 형상의 제 1 센서 전극 어레이를 나타내고, 어레이를 구성하는 전극 (r-i) 이 Y 방향으로 연장되고, X 방향으로 i 개 배열되어 있는 것이 예시되어 있다. 도면 중의 rw 는 센서 전극 (r-i) 의 폭을 나타내고, rd 는 센서 전극 간의 비도전성의 경계역의 폭을 나타내고 있다.
전극 (r-i) 은 도 6 에서는 Y 방향으로 신장하는 직선 형상의 세선 4 개를 연결하고, 이 4 개를 묶는 X 방향의 연결선 (c) 을 몇 개 포함하는 세부 구조로 되어 있다. 연결선 (c) 은 Y 방향으로 신장하는 직선 형상의 세선 4 개 중 어느 것에 파단 등의 장해가 발생해도 센서 전극으로서의 기능을 저해하지 않도록 형성되어 있다. 이 연결선 (c) 의 연장 상에 도전성의 세선의 단선 (i) 이 형성되어 있다. 이 단선 (i) 은 전극과는 연결되어 있지 않은 고립된 선이다. 또한, 도 6 에서는 1 전극을 구성하는 직선 모양의 세선을 4 개 연결로 했지만, 이하에 기재하는 전극 간의 거리와 세선간 거리로부터 선택할 수 있다.
도 7 은 띠 형상의 제 2 센서 전극 어레이를 나타내고, 어레이를 구성하는 전극 (c-j) 이 X 방향으로 연장되고, Y 방향으로 j 개 배열되어 있는 것이 예시되어 있다. 도면 중의 cw 는 센서 전극 (c-j) 의 폭을 나타내고, cd 는 센서 전극 간의 비도전성의 경계역의 폭을 나타내고 있다. 이외의 조건에 대해서는, 상기 제 1 센서 전극 어레이에서의 조건과 동일하다. 단, 터치 패널의 종횡비 등에 따라 변경해도 된다.
도 8 은 상기 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이를 직교 배치했을 때의 투시도를 나타내고 있고, 터치면 전체에 도전성 세선의 거의 균일한 격자 모양이 형성되어 있다. 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이가 겹치지 않는 부분에는, 연결선 (c) 및 고립된 단선 (i) 이 그 간극을 매립하도록 배치되어 있다. 연결선 (c) 및 고립된 단선 (i) 은 터치면 전체에 도전성 세선의 거의 균일한 격자 모양이 형성되도록 배치되고, 시인성상의 문제를 발생시키지 않도록 하고 있다. 이들 세선 (i) 을, 전극과는 따로 연결하여, 기생 용량의 제어에 사용해도 된다.
띠 형상의 센서 전극 어레이를 구성하는 각각의 전극의 세선, 연결부 (c) 의 세선, 고립 단선 (i) 의 세선의 선폭은 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 1 ㎛ 이상 8 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 2 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하로 함으로써 가공의 용이함과 간섭 무늬 발생의 방지의 양립을 도모할 수 있다.
전극을 구성하는 세선의 간격은 100 ㎛ 이상 600 ㎛ 이하가 바람직하고, 150 ㎛ 이상 350 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 100 ㎛ 이상 600 ㎛ 이하로 함으로써, 광의 투과성과 저항값의 낮음이라는 양립을 도모할 수 있다.
전극을 사이에 두는 비도전부의 폭 (cd, rd) 은 고주파 구동에 의한 도통을 피하기 위해, 50 ㎛ 이상이 바람직하고, 100 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 150 ㎛ 이상 350 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.
센서 전극 어레이의 전극의 간격 (rw+rd 또는 cw+cd) 은 2 ㎜ 이상 8 ㎜ 이하가 바람직하고, 3 ㎜ 이상 7 ㎜ 이하가 더욱 바람직하다.
도 9 는, 본 발명의 터치 패널의 양태인 도 1(a) 및 도 1(b), 도 2(c) 및 도 2(d) 의 제 1 및 제 2 센서 전극 어레이 (11 과 12) 의 터치자측 표면에 흑화층 (20 및 20') 을 형성한 도면이다. 도 9(b) 의 제 2 센서 전극 어레이의 흑화층은 접착 용이층과 전극 어레이의 사이에 형성되어 있다.
본 발명에 있어서 흑화층은, 도전성 금속 세선을 형성하는 도전성 금속이 갖는 금속 광택에 의한 착색, 높은 반사율에서 기인하는 터치 패널 화면의 보기 어려움을 완화시키는 것, 혹은 도전성 금속의 부식이나 마이그레이션을 방지하는 것, 등의 목적에서 설치되는 층이다. 흑화층의 색은, 실질적으로 흑색으로 인지할 수 있는 것이 바람직하지만, 금속 광택을 억제할 수 있으면 반드시 순흑색이 아니어도 된다. 흑화층의 위치는, 상기 목적으로부터, 도전성 금속층에 접하여 터치자측인 것이 바람직하다. 이 관점에서는, 도 9(b) 의 제 2 센서 전극 어레이의 흑화층보다는, 도 9(a) 의 제 2 센서 전극 어레이의 흑화층의 위치 구성이, 부식이나 마이그레이션 방지의 관점에서 보다 바람직하다.
〔센서 전극의 재료〕
본 발명의 제 1 및 제 2 센서 전극을 형성할 수 있는 도전성 재료에 대해서 이하에 설명한다.
종래, 센서 전극을 구성하는 재료로서 ITO 등의 광투과성이 있는 도전성 재료가 사용되어 왔지만, 본 발명의 센서 전극은, 10 ㎛ 이하의 도전성 세선을 이용하기 때문에, 종래의 ITO 등보다 저저항의 재료를 사용할 필요가 있고, 도전성이 높은 금속 또는 합금을 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 금속으로는, 예를 들어, 동, 은, 금, 백금, 팔라듐, 니켈, 주석, 알루미늄, 코발트, 로듐, 이리듐, 철, 루테늄, 오스뮴, 망간, 몰리브덴, 텅스텐, 니오브, 탄탈, 티탄, 비스무트, 안티몬, 납 등을 들 수 있다. 이들의 중에서 도전성이 우수한 점에서, 동, 은, 금, 백금, 팔라듐, 니켈, 주석, 알루미늄, 및 이들과의 합금이 바람직하다.
이들 금속 혹은 합금에서의 전극 형성에는, 이하의 A) ? C) 에 기재된 재료와 방법을 이용할 수 있다. 본 발명에서 특히 바람직한 것은, A) 와 B) 의 재료와 방법이다.
A) 금속박, 혹은 박막으로서의 이용.
박막으로서 이용하려면, 먼저, 기재 상에 상기 금속 혹은 합금을, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 도금법, 도금법 등에 의해, 혹은 도금법이나 금속박의 첩합(貼合) 등으로 금속 박막을 형성한다. 금속 박막의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 100 ㎚ 내지 3000 ㎚ 이다. 이어서 이 금속 박막에 이하의 패터닝을 실시하여 메시 전극을 형성한다. 상기 메시 패턴을 포토 에칭에 의해 형성하는 경우, 금속 박막 상에 포토레지스트막을 형성하여 포토마스크를 사용하여 노광하고, 현상액으로 현상함으로써 레지스트막의 메시 패턴을 형성한다. 이것을 에칭액에 의해 에칭하고, 레지스트막을 박리 제거함으로써 세선 금속선으로 이루어지는 메시 패턴을 형성한다. 혹은, 인쇄 레지스트에 의해 형성하는 경우에는, 금속 박막 상에 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 잉크젯 등의 방법으로 레지스트막의 메시 패턴을 인쇄하고, 에칭액에 의해 금속 박막에 있어서의 레지스트 피복부 이외를 에칭하여, 레지스트막을 박리함으로써 금속 세선의 메시 패턴을 형성한다.
B) 도전성의 나노 입자를 함유하는 잉크 (또는 페이스트) 에 의해 상기 메시 패턴을 인쇄하는 방법이다.
도전성 나노 입자는, 상기 금속의 미립자 외에 카본을 사용해도 된다. 도전성 나노 입자는 금, 은, 팔라듐, 백금, 구리, 카본, 또는 그들의 혼합물을 포함하는 입자가 바람직하다. 나노 입자의 평균 입경은 2 μ 이하, 바람직하게는 200 내지 500 ㎚ 로서, 종래의 미크론 입자보다 입경이 작은 것이 메시 패턴을 형성하는 데 있어서 바람직하다. 메시 패턴 인쇄에는, 스크린 인쇄법 또는 그라비아 인쇄법이 사용된다.
잉크 (또는 페이스트) 가 함유되는 도전 재료는, 금속 입자가 아니라, 도전성 섬유여도 된다. 본 건에 있어서는, 도전성 섬유에는, 금속 와이어, 나노 와이어로 불리는 섬유 형상의 물질, 중공 구조의 튜브, 나노 튜브를 포함하여 호칭한다. 금속 나노 와이어의 평균 단축 길이 (「평균 단축 직경」, 「평균 직경」으로 칭하는 경우가 있다) 로는 100 ㎚ 이하가 바람직하고, 1 ㎚ ? 50 ㎚ 가 보다 바람직하고, 10 ㎚ ? 40 ㎚ 가 더욱 바람직하고, 15 ㎚ ? 35 ㎚ 가 특히 바람직하다. 도전성 섬유를 사용하여 도전층을 형성하는 경우에는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2009-215594호, 일본 공개특허공보 2009-242880호, 일본 공개특허공보 2009-299162호, 일본 공개특허공보 2010-84173호, 일본 공개특허공보 2010-87105호, 일본 공개특허공보 2010-86714호에 개시된 기술을 조합하여 형성할 수 있다.
C) 사진에 사용되는 할로겐화은 사진 감광 재료를 사용하여, 이 재료에 메시 패턴 노광을 실시한 후에 현상, 정착 처리를 하고, 현상은에 의한 도전성의 세선 패턴을 얻는 방법이다.
본 발명에 있어서의 도전성의 세선 패턴을 얻는 방법에는, 감광 재료와 현상 처리의 형태에 의해, 다음의 3 가지의 형태가 포함된다.
(1) 물리 현상핵을 함유하지 않는 감광성 할로겐화은 흑백 감광 재료를 화학 현상 또는 열 현상하여 금속은부를 그 감광 재료 상에 형성시키는 양태.
(2) 물리 현상핵을 할로겐화은 유제층 중에 함유하는 감광성 할로겐화은 흑백 감광 재료를 용해 물리 현상하여 금속은부를 그 감광 재료 상에 형성시키는 양태.
(3) 물리 현상핵을 함유하지 않는 감광성 할로겐화은 흑백 감광 재료와, 물리 현상핵을 함유하는 비감광성층을 갖는 수상 시트를 겹쳐 확산 전사 현상하여 금속은부를 비감광성 수상 시트 상에 형성시키는 양태.
상기 (1) 의 양태는, 일체형 흑백 현상 타입으로서, 감광 재료 상에 광투과성 도전막 등의 투광성 도전성막이 형성된다. 얻어지는 현상은은 화학 현상은 또는 열 현상은으로서, 고비표면의 필라멘트인 점에서 후속하는 도금 또는 물리 현상 과정에서 활성이 높다.
상기 (2) 의 양태는, 노광부에서는 물리 현상핵의 할로겐화은 입자가 용해되어 현상핵 상에 퇴적됨으로써 감광 재료 상에 광투과성 도전성막 등의 투광성 도전성막이 형성된다. 이것도 일체형 흑백 현상 타입이다. 현상 작용이, 물리 현상핵 상으로의 석출이므로 고활성이지만, 현상은은 비표면이 작은 구형이다.
상기 (3) 의 양태는, 미노광부에 있어서 할로겐화은 입자가 용해되어 확산되어 수상 시트 상의 현상핵 상에 침적됨으로써 수상 시트 상에 광투과성 도전성막 등의 투광성 도전성막이 형성된다. 이른바 세퍼레이트 타입으로서, 수상 시트를 감광 재료로부터 박리하여 사용하는 양태이다.
어느 양태도 네거티브형 현상 처리 및 반전 현상 처리 중 어느 현상을 선택할 수도 있다 (확산 전사 방식의 경우에는, 감광 재료로서 오토포지티브형 감광 재료를 사용함으로써 네거티브형 현상 처리가 가능해진다).
여기에서 말하는 화학 현상, 열 현상, 용해 물리 현상, 확산 전사 현상은, 당업계에서 통상 사용되고 있는 용어와 같은 의미로서, 사진 화학의 일반 교과서, 예를 들어 키쿠치 신이치저 「사진 화학」(쿄리츠 출판사, 1955년 간행), C. E. K. Mees 편 「The Theory of Photographic Processes, 4th ed.」 (M㎝illan 사, 1977 년 간행) 에 해설되어 있다. 본 건은 액처리에 관련된 발명이지만, 그 밖의 현상 방식으로서 열 현상 방식을 적용하는 기술도 참고로 할 수 있다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 2004-184693호, 동 2004-334077호, 동 2005-010752호의 각 공보에 기재된 기술을 적용할 수 있다.
또한, 본 발명에 사용하는 재료와 도전성 패턴의 제법에 대해서는, 메시 형상의 전자파 실드막의 발명인 일본 공개특허공보 2006-352073호의 기재와 기술, 정전 용량 방식의 터치 패널의 발명인 일본 특허출원 제2009-265467호의 기재와 기술을 사용할 수 있다.
〔센서 전극의 형성 방법〕
다음으로 본 발명의 제 1 및 제 2 센서 전극의 형성 방법에 대해 설명한다.
처음에 전극을 형성하는 재료로서 금속박, 혹은 박막으로서의 이용 (상기 A)) 의 경우의 형성 방법을 도 10 을 참조하면서 설명한다. 도 10 의 (a) 는 절연층을 겸하는 투명 기체 (15) 로서, 예를 들어 약 100 ㎛ 의 PET 필름이다. 이 필름의 표면을 청정화하고, 이어서 이 필름의 표면에, 금속 혹은 합금의 박층 (21) 을 형성한다 (도 10 의 (b)). 박층을 형성하는 방법에는 진공 제막법과 화학적 제막법이 있지만, 막이 얇은 경우에는 증착법 등의 진공 제막법이 사용된다. 스퍼터법이나 이온 도금법은 증착법보다 도전성이 좋은 막을 얻기 쉬워 바람직한 방법이다. 막두께가 500 ㎚ 를 초과하는 경우에는 전해 도금법이나 무전해 도금법을 사용할 수 있어, 저비용으로 제막할 수 있어 바람직하다.
금속은 상기 (1) 에 기재한 재료를 사용할 수 있지만, 은, 동, 알루미늄 혹은 이들의 합금이 바람직하게 사용된다. 박층의 형성 방법에는 스퍼터법 등이 사용되지만, 다른 방법이어도 된다. 형성한 금속의 박층의 두께는, 얇을수록 잘 박리되지 않기 때문에 바람직하지만, 얇으면 저항이 높아져 터치 패널로서의 응답성이 나빠지기 때문에 0.1 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.2 ㎛ 이상 2 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 박리를 방지하기 위해서는, 「선폭/두께」의 비율을 2.5 이상으로 하는 것이 바람직하고, 4 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
다음으로 상기에서 형성한 금속 박막 상에 포토레지스트막을 형성하여 포토마스크 (도 3, 4, 6, 7 등에서 마스크를 일으킨 것) 를 사용하여 노광하고, 현상액으로 현상함으로써 경화시킨 레지스트막의 메시 패턴을 형성한다. 이것을 에칭액에 의해 에칭하고, 경화된 레지스트막을 박리 제거함으로써 세선 금속선으로 이루어지는 메시 패턴을 형성한다 (도 10 의(c)). 도 10 의 (c) 의 31 이 형성된 메시 패턴의 도전성 세선을 나타내고 있다.
다음으로 상기에서 형성된 센서 전극에 피복층 (32) 을 형성한다 (도 10 의 (d)). 본 발명에 있어서는 이 피복층을 흑화층이라고 부른다. 흑화층은, 금속 혹은 합금의 금속 광택을 눈에 띄지 않게 하는 시각적 기능과 금속의 녹 방지, 마이그레이션 방지에 의한 내구성 향상의 기능을 갖는다. 이 흑화층 (피복층) 의 재료에 대해서는 이하에서 별도 설명한다. 흑화층 (피복층) 의 두께는 5 ㎛ 이하가 바람직하고, 3 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 0.2 ㎛ 이상 2 ㎛ 이하가 특히 바람직하다.
다음으로 이 흑화층 (피복층) 의 전극 세선을 피복하고 있지 않은 시인부 상의 흑화층을 제거함으로써, 시인성, 내구성이 우수한 메시 패턴의 전극을 형성할 수 있다 (도 10 의 (e)).
도전성의 나노 입자를 함유하는 잉크 (또는 페이스트) 를 사용하는 경우 (상기 B)) 에는, 절연층을 겸하는 투명 기체층에, 상기 메시 패턴을 직접 인쇄할 수 있다. 인쇄한 후에 필요에 따라 열처리 등을 실시하여 형성된 금속 패턴에 흑화층을 형성하는 경우에는 상기와 동일한 처리를 할 수 있다.
〔흑화층에 사용하는 재료와 층의 형성 방법〕
본 발명의 흑화층을 구성하는 주성분은 니켈, 크롬, 아연, 주석, 및 구리 중에서 선택되는 원소를 함유하는 적어도 1 종의 화합물이면 되고, 도전성이어도 되고, 비도전성이어도 된다. 본 발명 방법에 더하여, 염색법 등의 방법을 조합하여 사용해도 된다.
본 발명에 있어서의 흑화층의 바람직한 적층 방법의 예로는, 도금 처리와 케미컬 에칭법을 들 수 있다.
도금 처리로는 공지된 흑색 도금으로 불리는 것이면 특별히 제한되지 않고, 흑색 니켈 도금, 흑색 크롬 도금, 흑색 Sn-Ni 합금 도금, Sn-Ni-Cu 합금 도금, 흑색 아연 크로메이트 처리 등을 예로서 들 수 있다. 구체적으로는, 닛폰 화학 산업 (주) 제조의 흑색 도금욕 (상품명, 닛카 블랙, Sn-ni 합금계), (주) 킨조꾸 화학 공업제의 흑색 도금욕 (상품명, 에보니-크롬 85 시리즈, Cr 계), 딥솔 (주) 성크로메이트제 (상품명, ZB-541, 아연 도금 흑색 크로메이트제) 를 사용할 수 있다. 도금법으로는 무전해 도금, 전해 도금 중 어느 방법이어도 되고, 완화된 조건이어도 되고, 고속 도금이어도 된다. 도금 두께는 흑색으로서 인지할 수 있으면 두께는 한정되지 않지만, 통상 도금 두께는 5 ㎛ 이하가 바람직하다.
본 발명에 있어서 도전성 금속부의 일부를 산화 처리 혹은 황화 처리하여 흑색부를 형성할 수도 있다. 예를 들어 도전성 금속부가 구리인 경우, 구리 표면의 흑화 처리제의 예로는, 멜텍스 (주) 제조, 상품명 엔플레이트 MB438A, B, 미츠비시 가스 화학 (주) 제조, 상품명 nPE-900, 멕 (주) 제조, 상품명 멕 에이치 본드 BO-7770V, 아이솔레이트 화학 연구소 제조, 상품명 코파-블랙 CuO, 동 CuS, 셀렌계의 코파-블랙 no. 65 등을 사용할 수 있다. 상기 외에는 예를 들어, 황화물을 처리하여 황화수소 (H2S) 를 발생시키고, 구리의 표면을 황화구리 (CuS) 로서 흑화하는 것도 물론 가능하다. 이들의 처리는 흑색으로서 인지할 수 있으면 두께는 한정되지 않지만, 통상 3 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.2 ㎛ ? 2 ㎛ 가 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 센서 전극 어레이에 원하는 반사 색도를 얻기 위해서는, 흑화 처리는 2 공정 이상에서 실시하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 산화 처리 후에 환원 처리를 실시하는, 구체적으로는 아염소산나트륨이나 퍼옥소황산나트륨 등의 산화제를 함유하는 알칼리 수용액으로 처리 후, 디메틸아민보란, 수소화붕소나트륨, 포르말린 등의 환원제를 함유하는 용액으로 처리하는 것이 바람직하다. 전자는 표면을 거칠게 함으로써 흑미를 증가시키고, 후자는 전자 처리에서 불안정해진 표면 상태를 안정화시킴으로써 바람직한 양태로 되는 것으로 생각된다.
상기 흑화층의 표면은, 어느 정도의 표면 조도 (Ra) 를 갖는 것이 바람직하다. Ra 는 0.15 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.05 ? 0.14 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. Ra 가 0.15 ㎛ 를 초과하면 내찰상성이나 밀착이 악화되는 경우가 있어 바람직하지 않다.
Ra 의 측정법으로는, 크게 구분하여 면을 직선적으로 촉침으로 측정하는 것(촉침) 과, 광학적으로 측정하는 것 (광 절단법, 광선 반사법) 으로 분류되고, 어느 것으로 측정해도 된다.
도전성 세선의 선폭이 좁고, 측정 에어리어를 확보할 수 없는 경우에는, 노광 에어리어를 확대하는 것 이외에는 동일한 조작으로 제작한 도전성 베타 부분을 측정하여, Ra 를 산출한다.
터치 패널을 사용하는 화상 표시 장치의 대형화에 대응하여 터치 패널 그 자체의 대형화도 요구되고 있다. 대형화에 대해서는, 전극의 저저항화와 함께, 전극 간의 기생 용량의 저하가 필요해지고, 그 때문에 전극 간에 더미 전극을 배치하면 효과적이다. 더미 전극은 센서 전극과의 접속은 없고, 고립된 전극군이다. 단, 더미 전극은 기생 용량 제어를 위해 고립 단선을 연결하여 인출선을 형성하고 있어도 된다.
[실시예]
이하에, 본 발명의 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 이하의 실시예에 나타나는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 의해 한정적으로 해석되어야 할 것은 아니다.
먼저, 본 발명의 실시예에 있어서의 평가 방법에 대해 설명한다.
〔반사 색도의 측정법〕
샘플을 BCRA 흑타일 (광택판) 위에 싣고, 0°방향으로부터 조사, 45°방향에서 수광한 광의 분광 반사율을 측정한다.
또한, 바람직한 타일은, 사카타잉스 엔지니어링 주식회사 제조의 BCRA 흑타일 (광택판) 로서, 흑타일의 반사 색도는 L* 가 3.6, a* 가 -0.9, b* 가 -0.6 이다. 반사 농도계로는 GretagMacbeth (그레타그마크베스) 제조 Spectro Eye LT 를 사용할 수 있다.
〔내찰상성의 평가〕
샘플을 극세 섬유의 천인 TORAY 제조 「트레시」로, 500 g 의 가중으로 왕복 10 회 문지른다. 문지른 샘플을 다음의 5 단계로 평가한다.
1 : 전혀 변화 없음.
2 : 문지른 자국이 미약하고, 소량이다.
3 : 문지른 자국이 미약하고, 전체적으로 발생.
4 : 문지른 자국이 강하지만, 소량이다.
5 : 문지른 자국이 강하고, 전체적으로 발생.
〔밀착의 평가〕
샘플을 크로스컷법으로 밀착 평가하고, 그 후의 샘플을 다음의 5 단계로 평가한다.
1 : 전혀 박리 없음.
2 : 5 % 이하의 부분에서 박리 있음.
3 : 5 % 를 초과하고, 10 % 이하의 부분에서 박리 있음.
4 : 10 % 를 초과하고, 50 % 이하의 부분에서 박리 있음.
5 : 50 % 를 초과하는 부분에서 박리 있음.
〔표면 조도 (Ra) 의 평가〕
시료에 5 ㎝×5 ㎝ 의 베타 노광한 에어리어를 형성하고, 주식회사 미쯔토요 제조의 소형 표면 조도 측정기 서프 테스트 SJ-301 을 사용하여 측정하였다.
실시예 1
〔2 층 구성의 접착 용이층을 형성한 투명 기판 A 의 제조〕
두께가 100 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 (이하, PET 라고 기재) 필름 지지체의 양면에 코로나 방전 처리를 실시한 후, 이 양면에 하기의 제 1 층 도포액을 바 코트법에 의해 도포, 건조시켜 제 1 층을 형성하였다. 그 후, 형성한 제 1 층의 표면에 하기의 제 2 층 도포액을 바 코트법에 의해 도포, 건조시킴으로써, 필름의 양면에 2 층 구성의 접착 용이층을 갖는 PET 필름을 제조하였다. 또한, 제 1 층, 제 2 층의 건조 후의 두께는, 각각 0.08 ㎛, 0.09 ㎛ 였다.
제 1 층 도포액의 조성
?폴리에스테르 수지 바인더 (다이닛폰 잉크 화학 공업 (주) 제조, 파인텍스 ES650, 고형분 29 질량%) 49.7 질량부
?가교제로서 에폭시계 화합물 (나가세 화성 (주) 제조, 디나콜 EX-314)
수지 바인더에 대해 6 질량%
?계면활성제 A (산요 화성 공업 (주), 산데트 BL, 고형분 10 질량%, 아니온성) 2.3 질량부
?계면활성제 B (산요 화성 공업 (주), 나로아크티 HN-100, 고형분 5 %, 노니온성) 5.36 질량부
?매트제 A 로서 실리카 미립자 분산액 (닛폰 아에로질 (주) 제조, OX-50 의 수분산물, 고형분 10 %) 2.4 질량부
?매트제 B 로서 콜로이달 실리카 분산액 (닛산 화학 (주) 제조, 스노우텍스 -XL, 고형분 10 %) 4.6 질량부
전체가 1000 질량부가 되도록 증류수를 첨가하여 조제.
제 2 층 도포액의 조성
?아크릴 수지 바인더 (MMA 59 몰%, St 9 몰%, 2EHA 26 몰%, HEMA 5 몰%, AA 1 몰% 의 라텍스, 고형분 농도 28 질량%) 62.7 질량부
?가교제로서 에폭시계 화합물 (나가세 화성 (주) 제조, 디나콜 EX-314)
상기 수지 바인더에 대해 6 질량%
?상기 매트제 A 2.7 질량부
?상기 매트제 B 4.6 질량부
?계면활성제 A 1.9 질량부
?계면활성제 B 5.36 질량부
?미끄럼제 (츄쿄 유지 (주), 카르나바 왁스 분산물 세로졸 524 고형분 3 질량%)
7.6 질량부
전체가 1000 질량부가 되도록 증류수를 첨가하여 조제하였다.
〔본 발명의 센서 전극 어레이의 제조〕
상기 접착 용이층을 형성한 투명 기판 A 의 접착 용이층의 일방의 면 상에, 도금법에 의해 구리의 박막을 형성하였다. 도금은 무전해 도금 후, 전해 도금을 실시하여 2 ㎛ 의 두께의 구리의 박층을 형성하였다.
다음으로 상기에서 형성한 구리 박막 상에, 포토레지스트막을 형성하고, 이 포토레지스트막에, 포토마스크를 사용하여 노광하고, 현상액으로 현상함으로써 경화한 레지스트막의 메시 패턴을 형성하였다. 포토마스크는, 도 6 에 있어서, 도전성 세선의 폭이 5 ㎛, 세선의 피치가 300 ㎛ 로 하는 패턴으로, 노광에 의해 도전성 세선 부분의 포토레지스트가 경화되는 패턴으로 한다. 이것을 에칭액을 사용하여 에칭하고, 그 후 경화된 레지스트막을 박리 제거함으로써, 도 6 의 패턴의 도전성 세선으로 이루어지는 센서 전극 어레이를 형성하였다.
다음으로, 이상에서 제작한 도 6 의 센서 전극 어레이의 구리 박막으로 이루어지는 도전성 세선 부분에 흑화층을 형성한다. 본 실시예에서는, 황화수소액에, 상기 센서 전극 어레이가 형성된 투명 기판을 침지하고, 구리 박막의 표면만을 황화구리의 흑색으로 하여, 실시예 1 의 센서 전극 어레이로 하였다.
실시예 2
실시예 1 의 전극의 형상이 도 6 의 띠 형상인데 반하여, 실시예 2 에서는 도 3 의 다이아몬드 형상으로 함과 함께 도전성 세선의 선폭을 6 ㎛ 로 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 실시예 2 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
실시예 3
실시예 2 의 도전성 세선의 피치를 500 ㎛ 로 하는 것 이외에는 실시예 2 와 동일한 조작을 실시하여, 실시예 3 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
실시예 4
실시예 1 에 사용한 접착 용이층을 형성한 투명 기판 A 대신에, 일본 특허공보 평5-74463호의 실시예 1 에 기재된 적층 폴리에스테르 필름 (투명 기판 B 라고 한다) 을 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 실시예 4 의 센서 전극 어레이를 만들었다. 또한, 투명 기판 B 의 적층 폴리에스테르 필름은, 개질층 (본 건의 접착 용이층) 에 멜라민계 가교제 니카락 MW-12 LF (산와 케미컬 (주) 제조) 를 함유한다.
실시예 5
실시예 2 의 구리 박막을 스퍼터법으로 형성하고, 그 두께를 0.2 ㎛ 로 하는 것, 전극의 도전성 세선의 폭을 3 ㎛, 그 피치를 200 ㎛ 로 하는 것 이외에는 실시예 2 와 동일한 조작을 실시하여, 실시예 5 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
실시예 6
실시예 1 의 투명 기판 A 의 접착 용이층에 사용한 에폭시계 화합물 디나콜 EX-314 대신에, 멜라민계 화합물 (산와 케미컬 (주) 제조, 니카락 MW-12 LF) 을 수지 바인더에 대해 6 질량% 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 실시예 6 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
실시예 7
실시예 1 의 투명 기판 A 의 접착 용이층에 사용한 에폭시계 화합물 디나콜 EX-314 대신에, 톨릴렌디이소시아네이트와 트리메틸올프로판의 부가물을 수지 바인더에 대해 6 질량% 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 실시예 7 의 센서 전극 어레이를 만들었다. 또한, 접착 용이층 도포액에는 가교제의 용해를 위해서 일부의 물을 아세톤으로 치환하였다.
실시예 8
실시예 1 의 투명 기판 A 의 접착 용이층에 사용한 에폭시계 화합물 디나콜 EX-314 대신에, 2-비닐-2-옥사졸린 모노머와 메틸메타아크릴레이트의 공중합체를 수지 바인더에 대해 6 질량% 사용하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 실시예 7 의 센서 전극 어레이를 만들었다. 또한, 접착 용이층 도포액에는 가교제의 용해를 위해서 일부의 물을 아세톤으로 치환하였다.
실시예 9
실시예 1 의 도전성 세선의 선폭을 5.5 ㎛ 로 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 실시예 9 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
실시예 10
실시예 1 의 도전성 세선의 선폭을 4 ㎛ 로 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 실시예 10 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
비교예 1
실시예 1 의 제 2 접착 용이층에 가교제를 사용하지 않는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 비교예 1 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
비교예 2
비교예 1 의 도전성 세선의 선폭을 3 ㎛ 로 하는 것 이외에는 비교예 1 과 동일한 조작을 실시하여, 비교예 2 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
비교예 3
실시예 4 의 투명 기판 B 의 멜라민계 가교제를 제외한 것 이외에는 실시예 4 와 동일한 조작을 실시하여, 비교예 3 의 센서 전극 어레이를 만들었다.
상기 실시예와 비교예의 시료의 밀착성에 대해 표 1 에 정리하였다.
Figure pat00001
이상의 결과로부터, 접착 용이층에는 가교제의 첨가가 필요하고, 특히 에폭시계, 멜라민계, 이소시아네이트계, 옥사졸린계의 가교제를 사용하면 투명 기재와 동박층의 밀착을 개량할 수 있다. 또한, 도전성 세선의 선폭은, 두께에 대해 2.5 배 이상이면 밀착을 개량할 수 있는 것도 확인할 수 있었다.
실시예 21
실시예 1 에서 제작한 투명 기판 A (2 층 구성의 접착 용이층을 갖는다) 의 접착 용이층의 일방의 면 상에, 도금법에 의해 구리의 박막을 형성하였다. 도금은 무전해 도금 후, 전해 도금을 실시하여 2 ㎛ 의 두께의 구리의 박층을 형성하였다. 이 구리 박막 상에 실시예 1 과 동일한 방법을 사용하여, 도 6 의 패턴 (도전성 세선의 폭이 5 ㎛, 세선의 피치가 300 ㎛) 의 도전성 세선으로 이루어지는 센서 전극 어레이를 형성하였다. 이 센서 전극 어레이를 시료 21-1 로 한다. 이 센서 전극 어레이의 구리 박막으로 이루어지는 도전성 세선 부분에, 하기의 환원 처리 또는 산화 처리 방법에 의해 흑화층을 형성하였다.
〔흑화 처리 방법 1〕
처리 조건 : 40 ℃ 의 하기 액에 3 분 침지하고, 그 후 세정한다.
액의 조성 : 수소화붕소나트륨 3.8 g
물을 첨가하여 1 리터로 한다.
〔흑화 처리 방법 2〕
처리 조건 : 85 ℃ 의 하기 액에 4 분 침지하고, 그 후 세정한다.
액의 조성 : 아염소산나트륨 55 g
수산화나트륨 15 g
인산3나트륨 10 g
물을 첨가하여 1 리터로 한다.
상기 시료 21-1 에 상기 흑화 처리 방법 1 을 실시한 시료를 21-2 로 한다. 또한, 상기 시료 21-1 에 상기 흑화 처리 방법 2 를 실시한 시료를 21-3 으로 한다. 이 시료 21-3 에 추가로 상기 흑화 처리 방법 1 을 실시한 시료를 21-4 로 한다. 이와 같이 하여 얻어진 시료 21-1 에서 21-4 에 대해 반사 색도, 밀착, 내흠집성의 시험을 실시하여, 그 결과를 표 2 에 나타냈다.
Figure pat00002
이상의 결과로부터, 원하는 반사 색도를 얻기 위해서는, 흑화 처리를 산화 환원 처리로 실시하는 경우에는, 환원 처리보다는 산화 처리가 바람직하고, 산화 처리 후에 환원 처리를 실시하는 것이 더욱 바람직한 것을 알 수 있었다. 또한, 시료 21-3, 21-4 에서는, 밀착성, 내찰상성이라고 하는 내구성에 관련된 성능도 개량되어 있는 것을 알 수 있다.
실시예 31
실시예 1 에서 제작한 투명 기판 A (2 층 구성의 접착 용이층을 갖는다) 의 접착 용이층의 일방의 면 상에, 도금법에 의해 구리의 박막을 형성하였다. 도금은 무전해 도금 후, 전해 도금을 실시하여 2 ㎛ 의 두께의 구리의 박층을 형성하였다. 이 구리 박막 상에 실시예 1 과 동일한 방법을 사용하여, 도 6 의 패턴 (도전성 세선의 폭이 5 ㎛, 세선의 피치가 300 ㎛) 의 도전성 세선으로 이루어지는 센서 전극 어레이를 형성하였다. 이 센서 전극 어레이를 시료 31-1 로 한다. 이 센서 전극 어레이의 구리 박막으로 이루어지는 도전성 세선 부분에, 하기의 전기 도금에 의한 흑화 처리를 실시하여, 흑화층을 형성하였다.
〔흑화 처리 방법 3〕
처리 조건 : 40 ℃ 의 하기 도금액에 침지하고, 3.2 A/㎝ 에서 0.5 분 도금하고 그 후 세정한다.
도금액의 조성 (보충액도 동 조성)
황산니켈6수 염 123 g
티오시안산암모늄 17 g
황산아연7수 염 3 g
황산나트륨 16 g
물을 첨가하여 1 리터
pH (황산과 수산화나트륨으로 조정) 5.0
〔흑화 처리 방법 4〕
처리 조건 : 40 ℃ 의 하기 도금액에 침지하고, 3.2 A/㎝ 로 0.5 분 도금하고 그 후 세정한다.
도금액의 조성 (보충액도 동 조성)
황산니켈6수 염 123 g
티오시안산암모늄 17 g
황산아연7수 염 28 g
황산나트륨 16 g
물을 첨가하여 1 리터
pH (황산과 수산화나트륨으로 조정) 5.0
상기 시료 31-1 에 상기 흑화 처리 방법 3 을 실시한 시료를 31-2 로 하였다. 또한, 상기 시료 31-1 에 상기 흑화 처리 방법 4 를 실시한 시료를 31-3 으로 하였다. 이 시료 31-3 에 추가로 상기 흑화 처리 방법 3 을 실시한 시료를 31-4 로 하였다. 또한, 상기 시료 31-1 에 시판되는 크롬계 흑색 도금욕을 사용하여 3.2 A/㎝ 로 0.5 분 도금하고 그 후 세정하여 얻은 시료를 31-5 로 한다.
이와 같이 하여 얻어진 시료 31-1 에서 31-5 에 대해 반사 색도, 밀착, 내흠집성의 시험을 실시하여, 그 결과를 표 3 에 나타냈다.
Figure pat00003
이상의 결과로부터, 흑화 처리를 전기 도금으로 실시하는 경우에 원하는 반사 색도를 얻기 위해서는, 황산아연7수 염의 고농도액으로 처리하는 것이 바람직하고, 황산아연7수 염의 저농도액과 고농도액에서의 2 단계 처리하는 것이 더욱 바람직하다. 이것은, 황산아연7수 염의 고농도액에 있어서의 처리는, 표면을 거칠게 하는 작용이 있는 것으로 생각된다. 단, 도금 효율이 충분하지 않기 때문에, 도금 효율이 양호한 황산아연7수 염의 저농도액으로 처리 후, 황산아연7수 염의 고농도액으로 처리하는 양태가 가장 좋은 결과로 된 것으로 생각하고 있다.
또한, 상기 2 단계 처리에 의해, 내구성이 있는 금속 세선 전극을 얻을 수 있다. 금속 세선 전극의 표면에, 산화 피막을 형성한 도금 처리에 의한 저반사 처리를 실시하는 것은, 예를 들어, 흑색 크롬에 의한 반사 방지 등이 일본 공개특허공보 2006-344163호에 기재되어 있지만, 내구성에 대해서는 기재되어 있지 않다.
상기 시료 31-4 및 31-5 를, 60 ℃ 90 % 의 환경하에 500 시간 보존하고, 그 후 24 시간 통상적인 환경하에서 보존한 후, 표 3 과 동일한 측정을 실시하였다. 그 결과, 시료 31-4 에서는, 오차 범위의 변동밖에 관측되지 않았던 것에 반하여, 시료 31-5 에서는, L* 가 15.0 까지 증가, Ra 도 0.20 까지 증가하여, 본 발명에서의 바람직하지 않은 색도와, 바람직하지 않은 표면 조도의 방향으로 변동한 것을 알 수 있었다.
10 본 발명의 터치 패널
11 제 1 센서 전극 어레이
12 제 2 센서 전극 어레이
15, 15' 투명 기판
16 터치면이 되는 투명 재료층
17 박리 필름
18, 18' 접착 용이층
19, 19', 19" 접착제층
20, 20' 흑화층
21 센서 전극의 형성층
31 메시 형상의 센서 전극
32 센서 전극의 피복층
33 메시 형상의 센서 전극의 피복층
c-j 하부 전극층의 센서 전극의 번호를 나타낸다.
cw 하부 전극층의 센서 전극의 전극폭을 나타낸다.
cb 하부 전극층의 센서 전극의 전극 간에 있는 비도전성의 경계역을 나타낸다.
i 고립 도선
r-i 상부 전극층의 센서 전극의 번호를 나타낸다.
rw 상부 전극층의 센서 전극의 전극폭을 나타낸다.
rb 상부 전극층의 센서 전극의 전극 간에 있는 비도전성의 경계역을 나타낸다.
rd 상부 전극층의 센서 전극의 전극 간에 있는 비도전성의 경계역의 폭을 나타낸다.

Claims (16)

  1. 제 1 센서 전극 어레이를 갖는 터치 패널로서,
    상기 제 1 센서 전극 어레이는 투명 기판 상에 도전성 금속 세선이 패턴화되어 형성되어 있고, 상기 센서 전극 어레이의 반사 색도 L*a*b* 의 L* 가 6 ? 13, a* 가 -0.7 ? 1.5, b* 가 -5.0 ? 1.2 인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  2. 제 1 항에 있어서,
    추가로 제 2 센서 전극 어레이를 포함하고, 상기 제 1 센서 전극 어레이와 제 2 센서 전극 어레이가 직교 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 패턴화된 도전성 금속 세선과 상기 투명 기판 사이에 적어도 1 이상의 접착 용이층을 갖는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  4. 제 1 항에 있어서,
    정전 용량 방식의 터치 패널인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  5. 제 1 센서 전극 어레이와 제 2 센서 전극 어레이가 직교 배열되어 있는 정전 용량 방식의 터치 패널에 있어서, 터치자측에 배치된 제 1 센서 전극 어레이는, 접착 용이층을 갖는 투명 기판 상에 도전성 금속 세선이 패턴화되어 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 정전 용량 방식의 터치 패널.
  6. 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 패턴화된 도전성 금속 세선은 터치면측에 흑화층을 갖는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 흑화층의 표면 조도 (Ra) 가 0.15 이하인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 센서 전극 어레이의 반사 색도 L*a*b* 의 L* 가 6 ? 13, a* 가 -0.7 ? 1.5, b* 가 -5.0 ? 1.2 인 것을 특징으로 하는 정전 용량의 터치 패널.
  9. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 센서 전극 어레이를 구성하는 센서 전극은, 상기 도전성 금속 세선으로 형성되는 메시로 이루어지는 다이아몬드 구조의 연속체 또는 띠 형상체이고, 상기 제 2 센서 전극 어레이를 구성하는 센서 전극은, 상기 제 1 센서 전극 어레이를 구성하는 센서 전극과 동일한 구조 또는 바 (bar) 구조인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  10. 제 2 항 또는 제 5 항에 있어서,
    직교 배열되어 있는 상기 제 1 센서 전극 어레이와 제 2 센서 전극 어레이를 투시했을 때, 패턴화된 도전성 금속 세선이, 터치면 전체에 거의 균일한 격자 모양을 형성하고 있는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  11. 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 도전성 금속 세선이 금속 박막층을 포토리소그래피 방법, 혹은, 레이저 어블레이션의 방법을 사용하여, 선폭 1000 ㎚ 내지 8000 ㎚ 의 세선 패턴으로 패터닝된 것인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  12. 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 도전성 금속 세선의 폭이 두께의 2.5 배 이상인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  13. 제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 투명 기판이 폴리에스테르 수지로 이루어지고, 상기 접착 용이층이 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 혹은 우레탄 수지로 이루어지고, 상기 접착 용이층에 가교제가 첨가되어 있는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 접착 용이층이, 제 1 및 제 2 접착 용이층으로 이루어지고, 상기 투명 기판에 접하는 제 1 접착 용이층이 폴리에스테르 수지로 이루어지고, 제 2 접착 용이층이 아크릴 수지 혹은 우레탄 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 가교제가 옥사졸리딘 화합물, 에폭시 화합물, 혹은 이소시아네이트 화합물인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 가교제가 옥사졸리딘 화합물, 에폭시 화합물, 혹은 이소시아네이트 화합물인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101306563B1 (ko) * 2012-04-18 2013-09-09 주식회사 엘지화학 전도성 구조체 및 이의 제조방법
KR20140110270A (ko) * 2013-03-07 2014-09-17 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
KR20140147388A (ko) * 2013-06-19 2014-12-30 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
KR20150041866A (ko) * 2013-10-10 2015-04-20 엘지디스플레이 주식회사 터치 패널 및 그 제조 방법
KR20150054680A (ko) * 2013-11-11 2015-05-20 주식회사 아모센스 터치 스크린 패널용 터치 센서와 그 제조방법
KR20160026612A (ko) 2014-08-28 2016-03-09 솔브레인 주식회사 흑화용 조성물
KR20160089699A (ko) * 2015-01-20 2016-07-28 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
US9519366B2 (en) 2013-05-10 2016-12-13 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Touch sensor
US9557594B2 (en) 2013-01-18 2017-01-31 Focaltech Systesm, Ltd. Liquid-crystal display screen with touch-control function and manufacturing method thereof and electronic apparatus
US10198121B2 (en) 2014-03-13 2019-02-05 Noritake Co., Limited Projected capacitive touch switch panel
KR102113340B1 (ko) * 2018-12-06 2020-05-20 (주)아바비젼 시인성 향상을 위한 메쉬형 터치스크린 제조방법 및 이를 이용한 메쉬형 터치스크린

Families Citing this family (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5892418B2 (ja) * 2012-01-11 2016-03-23 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサの製造方法、および、タッチパネルセンサを製造するための積層体
JP5829647B2 (ja) * 2012-05-08 2015-12-09 富士フイルム株式会社 導電性フイルム
JP2013250633A (ja) * 2012-05-30 2013-12-12 Toppan Printing Co Ltd フィルム状静電容量型タッチパネル及びその製造方法並びに画像表示装置
JP2014002433A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Touch Panel Kenkyusho:Kk 導電性フィルムおよび静電容量式タッチパネル
JP2014002434A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Touch Panel Kenkyusho:Kk 導電性フィルムおよび静電容量式タッチパネル
TWI480633B (zh) * 2012-07-12 2015-04-11 Hannstouch Solution Inc 觸控面板及使用其之觸控液晶顯示面板
KR101987353B1 (ko) * 2012-07-23 2019-06-11 엘지이노텍 주식회사 터치 패널 및 이의 제조방법
WO2014065000A1 (ja) * 2012-10-22 2014-05-01 コニカミノルタ株式会社 タッチパネル付き表示装置
CN104838449B (zh) 2012-12-07 2018-06-15 3M创新有限公司 导电制品
JP2014142462A (ja) * 2013-01-23 2014-08-07 Dainippon Printing Co Ltd 光学機能層付きタッチパネル用電極部、円偏光板付きタッチパネル電極部、タッチパネル、画像表示装置
TWI550450B (zh) 2013-01-24 2016-09-21 Toppan Printing Co Ltd Touch panel and display device
CN104885042B (zh) 2013-01-25 2018-06-26 凸版印刷株式会社 触摸面板及显示装置
CN104956296A (zh) * 2013-01-29 2015-09-30 夏普株式会社 输入装置及其制造方法和电子信息设备
CN103106953B (zh) * 2013-02-06 2014-11-26 南昌欧菲光科技有限公司 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏
US9268446B2 (en) 2013-02-06 2016-02-23 Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. Monitor, touchscreen sensing module thereof, and method for manufacturing the touchscreen sensing module
CN103187119B (zh) * 2013-02-06 2014-08-06 南昌欧菲光科技有限公司 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏
CN103105970B (zh) * 2013-02-06 2014-09-17 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏感应模组及包含该触摸屏感应模组的显示器
JP2014174656A (ja) * 2013-03-07 2014-09-22 Dainippon Printing Co Ltd タッチパネル用電極部材、タッチパネル、及び画像表示装置
JP6322188B2 (ja) * 2013-03-26 2018-05-09 株式会社カネカ 導電性フィルム基板、透明導電性フィルムおよびその製造方法、ならびにタッチパネル
JP2014191660A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Japan Display Inc タッチ検出機能付き表示装置及び電子機器
JP6186805B2 (ja) * 2013-03-28 2017-08-30 大日本印刷株式会社 タッチパネル
JP5827972B2 (ja) * 2013-04-17 2015-12-02 ジオマテック株式会社 タッチセンサ一体型表示装置
TWI507953B (zh) * 2013-06-06 2015-11-11 Focaltech Systems Ltd 具有觸控功能的液晶顯示幕及其製作方法和電子設備
JP5943023B2 (ja) 2013-07-08 2016-06-29 凸版印刷株式会社 タッチセンサ用電極、タッチパネル、および、表示装置
JP6376430B2 (ja) * 2013-09-04 2018-08-22 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサおよびタッチ位置検出機能付き表示装置
JP5743237B2 (ja) * 2013-09-25 2015-07-01 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置
JP5795038B2 (ja) 2013-10-01 2015-10-14 日本写真印刷株式会社 静電容量方式タッチパネル用電極シート
KR102222194B1 (ko) * 2013-10-17 2021-03-04 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
CN105765498B (zh) 2013-10-22 2018-11-20 夏普株式会社 带触摸传感器的显示装置
JP2015125628A (ja) * 2013-12-26 2015-07-06 大日本印刷株式会社 フィルムセンサ、タッチ位置検出機能付き表示装置、およびフィルムセンサを作製するための積層体
JP6233024B2 (ja) * 2014-01-06 2017-11-22 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサの製造方法およびタッチ位置検出機能付き表示装置
JP2015164030A (ja) * 2014-01-31 2015-09-10 住友金属鉱山株式会社 導電性基板、積層導電性基板、導電性基板の製造方法、及び積層導電性基板の製造方法
JP5941935B2 (ja) * 2014-02-25 2016-06-29 介面光電股▲ふん▼有限公司 タッチパネル装置及びその電極構造
JP6278261B2 (ja) * 2014-02-28 2018-02-14 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ、タッチパネル装置、表示装置、並びに、タッチパネルセンサの製造方法
JP6225793B2 (ja) 2014-03-28 2017-11-08 凸版印刷株式会社 タッチセンサ用電極、タッチパネル、および、表示装置
WO2015159460A1 (ja) 2014-04-15 2015-10-22 凸版印刷株式会社 タッチセンサ用電極、タッチパネル、および、表示装置
JP6344075B2 (ja) * 2014-06-18 2018-06-20 凸版印刷株式会社 静電容量タッチパネル
KR102427146B1 (ko) 2014-06-24 2022-07-28 가부시키가이샤 브이티에스 터치센서 터치 센서 기판, 터치 패널, 표시 장치 및 터치 센서 기판의 제조 방법
WO2016002679A1 (ja) * 2014-06-30 2016-01-07 住友金属鉱山株式会社 導電性基板、積層導電性基板、導電性基板の製造方法、積層導電性基板の製造方法
CN106575172B (zh) * 2014-07-31 2022-04-29 住友金属矿山股份有限公司 触控面板用导电性基板、触控面板用导电性基板的制造方法
JP6504456B2 (ja) * 2014-08-21 2019-04-24 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサおよびタッチ位置検出機能付き表示装置
JP6384267B2 (ja) * 2014-10-24 2018-09-05 大同特殊鋼株式会社 積層体
JP2016085653A (ja) * 2014-10-28 2016-05-19 凸版印刷株式会社 タッチパネル及び表示装置
KR101658289B1 (ko) * 2014-11-27 2016-09-20 티-킹덤 컴퍼니 리미티드 터치 전극 기판용 구조물 및 터치 전극 기판의 제조 방법
JP2016130912A (ja) * 2015-01-13 2016-07-21 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置
JP6445365B2 (ja) * 2015-03-26 2018-12-26 大日本印刷株式会社 透視性電極、該透視性電極を用いてなるタッチパネル用位置検知電極、タッチパネル、及び画像表示装置
KR102313967B1 (ko) * 2015-04-24 2021-10-18 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
EP3495930A1 (en) 2015-04-24 2019-06-12 LG Innotek Co., Ltd. Touch window
CN107533403B (zh) 2015-04-30 2021-07-02 住友金属矿山股份有限公司 导电衬底、液晶触摸面板
JP6210087B2 (ja) * 2015-05-08 2017-10-11 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサの製造方法
JP2017004289A (ja) * 2015-06-11 2017-01-05 凸版印刷株式会社 タッチセンサ用電極およびタッチパネル
JP2017016241A (ja) * 2015-06-29 2017-01-19 プロマティック株式会社 電極フィルムの製造方法、電極フィルムを備えたタッチパネルセンサ、及び貼り合せ装置
KR102537748B1 (ko) * 2015-08-26 2023-05-26 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 도전성 기판
JP6692631B2 (ja) 2015-11-30 2020-05-13 株式会社ジャパンディスプレイ センサ付き表示装置及びセンサ装置
JP6588347B2 (ja) * 2016-01-22 2019-10-09 株式会社ジャパンディスプレイ 入力装置および表示装置
JP6597487B2 (ja) * 2016-06-15 2019-10-30 住友金属鉱山株式会社 電極基板フィルム及びその製造方法
JPWO2018012535A1 (ja) * 2016-07-15 2019-06-20 富士フイルム株式会社 配線基板の製造方法、配線基板
JPWO2018034324A1 (ja) * 2016-08-19 2019-06-20 日本電気硝子株式会社 タッチセンサ部材、タッチセンサ、及びディスプレイパネルユニット
JPWO2018146963A1 (ja) * 2017-02-09 2019-11-21 コニカミノルタ株式会社 タッチスクリーン及びタッチスクリーンの製造方法
JP6532074B2 (ja) * 2017-07-05 2019-06-19 積水ポリマテック株式会社 静電容量式タッチパネル
JP7172211B2 (ja) * 2017-07-28 2022-11-16 Tdk株式会社 導電性基板、電子装置及び表示装置
CN109976566B (zh) * 2018-03-23 2021-05-18 京东方科技集团股份有限公司 触控结构、触控基板及其制作方法、显示装置
WO2020203447A1 (ja) * 2019-04-02 2020-10-08 東レ株式会社 導電層付き基材およびタッチパネル
TWI718654B (zh) * 2019-09-04 2021-02-11 郡宏光電股份有限公司 觸控裝置用之導電板
CN112817489B (zh) * 2021-03-08 2024-03-15 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及显示装置
JP7282117B2 (ja) * 2021-03-16 2023-05-26 Nissha株式会社 静電容量式タッチパネル

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05127822A (ja) * 1991-10-30 1993-05-25 Daicel Chem Ind Ltd タツチパネル
JP2006344163A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Nissha Printing Co Ltd 静電容量型タッチパネル
JP2007140282A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Fujifilm Corp 透明導電性ハードコートフィルムならびに該フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置
JP2008153596A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールドフィルム
JP2010015507A (ja) * 2008-07-07 2010-01-21 Toyobo Co Ltd タッチパネル用上部電極
WO2010014683A2 (en) 2008-08-01 2010-02-04 3M Innovative Properties Company Touch sensitive devices with composite electrodes

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9244568B2 (en) * 2008-11-15 2016-01-26 Atmel Corporation Touch screen sensor
JP4805999B2 (ja) * 2008-12-09 2011-11-02 日東電工株式会社 粘着剤層付き透明導電性フィルムとその製造方法、透明導電性積層体およびタッチパネル
WO2010075308A2 (en) * 2008-12-26 2010-07-01 Atmel Corporation Multiple electrode touch sensitive device
US20110007011A1 (en) * 2009-07-13 2011-01-13 Ocular Lcd Inc. Capacitive touch screen with a mesh electrode
TWM383779U (en) * 2009-11-02 2010-07-01 Cheung Wing Technology Co Ltd Structure of capacitive multi-touch touch panel

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05127822A (ja) * 1991-10-30 1993-05-25 Daicel Chem Ind Ltd タツチパネル
JP2006344163A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Nissha Printing Co Ltd 静電容量型タッチパネル
JP2007140282A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Fujifilm Corp 透明導電性ハードコートフィルムならびに該フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置
JP2008153596A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールドフィルム
JP2010015507A (ja) * 2008-07-07 2010-01-21 Toyobo Co Ltd タッチパネル用上部電極
WO2010014683A2 (en) 2008-08-01 2010-02-04 3M Innovative Properties Company Touch sensitive devices with composite electrodes

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101306563B1 (ko) * 2012-04-18 2013-09-09 주식회사 엘지화학 전도성 구조체 및 이의 제조방법
US9557594B2 (en) 2013-01-18 2017-01-31 Focaltech Systesm, Ltd. Liquid-crystal display screen with touch-control function and manufacturing method thereof and electronic apparatus
KR20140110270A (ko) * 2013-03-07 2014-09-17 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
US9519366B2 (en) 2013-05-10 2016-12-13 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Touch sensor
KR20140147388A (ko) * 2013-06-19 2014-12-30 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
KR20150041866A (ko) * 2013-10-10 2015-04-20 엘지디스플레이 주식회사 터치 패널 및 그 제조 방법
KR20150054680A (ko) * 2013-11-11 2015-05-20 주식회사 아모센스 터치 스크린 패널용 터치 센서와 그 제조방법
US10198121B2 (en) 2014-03-13 2019-02-05 Noritake Co., Limited Projected capacitive touch switch panel
KR20160026612A (ko) 2014-08-28 2016-03-09 솔브레인 주식회사 흑화용 조성물
KR20160089699A (ko) * 2015-01-20 2016-07-28 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
KR102113340B1 (ko) * 2018-12-06 2020-05-20 (주)아바비젼 시인성 향상을 위한 메쉬형 터치스크린 제조방법 및 이를 이용한 메쉬형 터치스크린

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