KR20010013480A - 밀폐된 컨테이너 내의 비압축성 물질의 양 측정 - Google Patents
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Abstract
저장 용기로부터 처리 스테이션까지 처리 물질을 이송하기 위한 공정 및 장치에 있어서, 저장 용기는 처리 물질 저장 공간을 둘러싸고 있으며, 저장 공간과 연통하는 도간에 결합되며, 저장 용기 및 도관은 저장 공간을 포함하는 체적을 둘러싸고 있다. 저장 공간 내의 처리 물질의 양을 측정하기 위한 방법 및 시스템은 저장 용기 및 도관에 의해 둘러싸인 체적을 밀폐하는 단계와, 상기 체적이 제 1 및 제 2 기체의 량을 포함하고 있을 때 체적 내의 기체 압력을 측정하기 위해 제 1 및 제 2 압력 측정을 수행하는 단계와, 제 1 및 제 2 기체의 량 상의 차이를 측정하는 단계와, 그리고 체적, 제 1 및 제 2 기체의 양 사이의 차이 및 제 1 및 제 2 압략 측정 중에 측정된 기체 압력을 근거로 하여 저장 공간 내의 처리 물질의 양을 계산하는 단계를 포함한다.
Description
본 발명은 초기에 액체 또는 고체 형태의 처리 화학 물질이 기체 또는 증기 상태로 변환되어, 처리 스테이션으로 이송되는 산업상 화학 공정에 관한 것이다.
다수의 산업상 화학 공정에서, 처리 물질은 액체 또는 고체 상태에서 컨테이너 내에 저장되며, 이러한 처리 물질의 공급은 공정이 진행됨에 따라 소모된다. 처리 물질의 공급이 완전히 소모되었을 때, 컨테이너를 교체하거나 보충하기 위해 공정을 빈번하게 정지시켜야 한다. 처리 물질의 공급이 완전히 소모될 때까지 공정이 계속될 때, 허용할 수 없는 결과를 발생하는 시간 주기일 것이다.
다수의 처리 물질인 경우에는, 컨테이너의 충전 수위를 측정하기 위한 공지된 기술은 적합하지 않는데, 이는 컨테이너 내부로 도입된 수위 센서가 물질과 허용할 수 없는 방식으로 반응하기 때문이다. 이는 물질을 오염시키거나 측정 장치를 손상시킬 수 있다. 또한, 컨테이너 내의 측정 장치의 장착은 측정 장치 또는 그 연결 라인이 컨테이너 내부로 통과하는 지점에서 컨테이너의 밀봉으로 연결에 문제가 발생하기 때문이다.
전술한 문제점의 한 실시예는 웨이퍼 상에 알루미늄 필름을 형성하기 위해 디메틸 알루미늄 하이드라이드(DMAH)는 증기의 형태로 웨이퍼에 이송되는 반도체 제조 공정에서 찾아볼 수 있다. DMAH는 상당한 폭발성의 독성 물질이다. 따라서, 그 컨테이너는 사용중에 안전하고 영구적으로 밀봉되어져야 한다. 이러한 물질의 증기는 물질의 표면 아래로 연장하고 증기를 발생시키기 위해 물질을 통해 기포를 발생시키는 도관을 거쳐 기체를 도입시킴으로서 생성된다. 이러한 증기가 컨테이너를 채우고 있기 때문에, 컨테이너 내에 설치된 임의의 장치는 알루미늄 피복물을 얻을 수 있다. 따라서, 컨테이너 내에 남아있는 물질의 양을 측정하기 위한 기술은 지금까지 고안되지 못한 것으로 여겨진다.
컨테이너 내의 모든 물질을 이용하기 위한 시도가 있어 왔고, 그리고 컨테이너 내에 남아있는 물질의 양을 측정하기 위한 수단을 이용하지 못했다 하더라도, 물질의 완전 소모는 제조되어진 웨이퍼가 결함이 있음으로부터만 명백히 인지될 수 있다. 반도체 제조 공정에서, 이러한 사실은 다수의 웨이퍼가 제조 공정을 통해 처리되고 수만달러에 상당하는 경제적인 손상을 초래하는 결함이 발생하고서야 인지하게 된다.
이러한 난점에 대해, 컨테이너 내의 물질의 안전 분율이 지정 비율로 이용되고 동시에 상기 컨테이너를 새로운 컨테이너로 교체하고 사용된 컨테이너를 재충전용 공급기에 반환할 때 극복될 수 있다. 이러한 결과는 고가의, 상당량의 물질이 사용되지 못하게 한다.
따라서, 반도체 제조 공정이 컨테이너 내에 모든 물질을 이용하는 방식으로 수행되는지, 또는 상기 물질의 선택된 부분만을 이용하는 방식으로 수행되는지에 따라, 상당한 경제적 손실이 초래된다.
도 1은 본 발명에 따른 모니터링 작업을 수행하기 위한 부재가 설치된 밀봉 시스템을 도시한 개략도이다.
본 발명의 목적은 종래 기술에 존재하는 결점을 방지하는 방식으로, 컨테이너, 특히 밀봉된 시스템의 컨테이너 형성 부분의 충전 수위를 측정하기 위한 것이다.
본 발명의 보다 특정한 목적은 측정 작업을 수행하기 위해 부가된 성분의 최소량을 필요로 하고 처리 물질 또는 측정 장치에 악영향을 미치지 않는 방식으로 처리 물질의 충전 수위를 측정하는 것이다.
본 발명에 따라, 전술한 목적 및 또 다른 목적은 저장 용기로부터 처리 스테이션에 이르기까지 처리 물질을 이송하기 위한 공정 및 장치에서, 저장 용기 내의 처리 물질의 양은 저장 용기의 내부 체적을 포함하는 선택된 체적 내의 기체에 의해 채워진 체적을 측정함으로써 결정된다. 선택된 체적의 총괄 체적이 공지되어 있다면, 처리 물질의 체적 또는 양은 선택된 체적으로부터 측정된 기체 체적을 감함으로써 쉽게 측정된다. 예시된 실시예에서, 처리 물질의 체적은 저장 용기 및 관련 도관을 둘러싼 선택된 체적을 밀폐시키는 단계와, 선택된 용적이 제 1 및 제 2 기체 량을 각각 함유하고 있을 때 선택된 체적 내의 기체 압력을 측정하기 위해 제 1 및 제 2 압력 측정을 수행하는 단계와, 제 1 및 제 2 기체 량의 차이를 측정하는 단계와, 공지된 크기의 선택된 체적, 제 1 및 제 2 기체량과 제 1 및 제 2 압력 측정중에 측정된 기체 압력 사이의 차이를 근거로 하여 저장 공간 내의 처리 물질량의 계산 단계에 의해 계산된다.
본 발명은 컨테이너 내부에 물질에 의해 손상가능한 임의의 측정 장치를 도입시키지 않는 방식으로 컨테이너 내에 존재하는 처리 물질량을 모니터링하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.
컨테이너의 내부와 연통하는 컨테이너 및 통로의 내부면, 또는 도관은 두개의 체적 즉, 처리 물질에 의해 채워진 체적, 및 기체에 의해 채워진 체적으로 구성된다. 후자의 기체에 의해 채워진 체적은 헤드 공간으로 지칭된다. 본 발명의 일실시예에서, 처리 물질에 의해 채워진 체적의 크기는 기본적으로 헤드 공간 내에 존재하는 기체의 양 또는 질량을 변경시키고, 양의 변화 이전 및 이후에 최종적인 기체 압력을 측정하고, 그리고 두개의 측정된 압력 수치, 기체의 량 변화의 크기 및 두 체적의 합계를 근거로 하여 처리 물질에 의해 채워진 체적의 크기를 계산함으로써 측정되며, 상기 두 체적의 합계는 완전히 비어있는 컨테이너의 내부의 체적 및 컨테이너와 서로 연통하는 통로의 체적과 동일하며, 공지되어 있거나 미리 측정될 수 있다.
도면은 본 발명에 따른 처리 물질(4)의 양을 포함한 밀폐된 앰플의 형태를 취하고 있는 밀폐된 용기(2)의 충전 수위를 측정하고 제어하기 위한 시스템을 도시하고 있으며, 물질은 바람직하게 비압축성 액체 또는 고체이다. 처리 시스템에 이송되도록 하기 위해, 물질(4)는 점진적으로 증발되거나 기화되며, 도관(6,8) 및 밸브(10,12)를 통해 처리 스테이션에 이르는 출구 라인(14)으로 이송된다. 라인(14)은 수행되어질 처리에 적합한 제어 장치에 연결된다.
물질의 기화는 용기의 내부에 적합한 운반 기체(carrier gas)를 공급함으로써 수행될 수 있으며, 운반 기체는 적어도 물질이 액체일 때, 물질의 수면 위로 컨테이너의 영역을 채우고 있는 증기를 발생시키기 위해, 컨테이너 내의 물질을 통해 기포를 발생시킨다. 운반 기체는 적합한 압력에서 용기(2)의 내부면을 유지시키기 위해 선택된 속도에서 이송된다. 운반 기체는 운반 기체 공급원으로부터 이송되며, 수행되어질 특정 공정, 및 사용되어질 특정 처리 물질에 적절한 조성을 갖는다. 운반 기체는 라인(20), 종래의 측정된 유동 제어기(22), 도관(24,26,28), 및 제어 밸브(30,32)을 거쳐 이송된다. 선택적으로, 물질(4)을 증발시키고 기화시키기 위한 운반 기체는 도관(24,26,28)에 연결된 분리된 라인을 거쳐 이송되며, 분리된 라인에는 적절한 밸브가 제공된다.
기체의 압력은 도시되어진 도관(26), 또는 도관(24,28)과 연통 연결된 압력 탐지기(40)에 의해 측정된다.
또한, 본 발명에 따른 시스템은 용기(2) 내에 온도를 측정하기 위해 임의의 적합한 위치에 장착된 온도 센서(42)가 선택적으로 제공되어 있다. 그러나, 이러한 시스템이 비교적 일정한 온도로 유지된 설치 장치 내에 위치되어 있다면, 온도 센서는 쉽게 제거될 수 있으며, 측정 작업은 공지된 일정한 온도 수치를 추정하는 동안 수행될 수 있다.
압력 탐지기(40), 및 온도 센서(42)의 출력은 계산 및 제어 시스템(50)에 제공된다. 시스템(50)은 워크스테이션을 포함한 종래의 일반적인 목적의 데이터 처리 장치의 적절한 프로그램에 의해 공지된 기술에 따라 제공된 계산 및 제어 장치에 의해 수행될 수 있다. 수행되어질 계산 및 제어 작업의 간략성을 위해, 하기에 기술되어질 설명으로부터 보다 명백하게 나타나 있는 바와 같이, 일반적인 목적의 데이터 치리기용 적절한 소프트웨어 또는 제공된 유닛의 형태에 의해 시스템(50)의 수행은 당업자들은 쉽게 인지하고 있을 것이다.
시스템(50)은 경보 장치(54)뿐만 아니라 측정된 유동 제어기(22)에 또한 연결된다. 시스템(50)은 처리 물질의 보조 공급원과 용기(2)의 내부 사이의 라인에 연결된 전기 작동식 밸브(56)에 연결된 출력을 갖는다. 시스템(50)은 밸브(12)의 개폐를 제어하기 위해 부가적으로 연결될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 측정 공정은 다음의 방식으로 수행된다. 제 1 단계에서, 밸브(12)가 차단된다. 이때, 용기(2)의 내부 및 용기의 내부 체적과 함께 연통하는 이중 라인으로 도시된 도관은 용기(2)의 내부를 채우는 처리 물질의 체적을 측정하기 위해 이용될 수 있는 선택된 체적 또는 측정 체적을 정의한다. 측정 체적을 둘러싸기 위해 밸브(12)가 차단된 후에, 측정된 유동 제어기(22)가 시스템(50)의 제어하에서 측정된 유량 속도에서 측정 체적 내부로 적합한 기체의 이송을 개시하기 위해 작동된다. 측정된 유량 속도에서 기체의 이송 개시 이전, 동시, 또는 즉시 후에, 탐지기(40)에 의해 탐지된 압력은 제 1 압력 측정치로 시스템(50) 내에 저장된다. 이때, 연속 시간에 충분한 기체의 양이 용기(2) 및 도관(6,8,24,26,28)에 의해 밀봉된 체적 내의 압력이 정확한 체적 계산을 허용하도록 충분한 양만큼 증가되도록 이송되며, 탐지기(40)에 의해 탐지된 압력은 시스템(50) 내에 제 2 압력 측정치로 저장된다. 또한, 이후 어느쪽이든지, 기체 이송의 개시 또는 제 1 압력 측정 사이의 시간 차이, 및 제 2 압력 측정치가 시스템(50) 내에 저장된다. 특히, 제 1 측정이 기체의 이송 개시 이후에 수행된다면, 이때 시간 차이는 제 1 압력 측정치로부터 측정된다. 제 1 측정이 기체의 이송 이전에 수행된다면, 시간 차이는 기체의 이송 개시로부터 측정된다.
처리 물질(4)이 용기(2) 내에 포함되어 있지 않을 때, 용기(2), 도관(6,8,24,26,28), 및 밸브(10,30,32)에 의해 둘러싸인 총 측정 체적을 나타내는 저장된 데이터 및 온도 센서(42)에 의해 감지된 온도를 포함한 정보는 용기(2) 내에 존재하는 처리 물질(4)의 양을 계산하기에 필요한 모든 데이터를 구성한다. 이때, 시스템(50) 내에 처리 물질(4)의 총량(V1)이 계산될 수 있다. 수행된 계산은 다음식을 근거로 한다.
먼저, 용기(2), 도관(6,8,24,26,28), 및 밸브(10,30,32) 내에 존재하는 기체의 총괄 체적(Vg)은 하기와 같이 계산될 수 있다.
식(1)
여기서, k는 기체, 사용된 기체 유량 및 측정 단위의 상수이며,
t2및 t1는 각각 압력 측정의 종료 시간 및 개시 시간이다.
Tk는 시스템의 절대 온도이며,
P2및 P1는 종료 시간 t2및 개시 시간 t1에서 측정된 압력이다.
이대, 처리 물질(4)의 총량(V1)은 다음의 식에 따라 계산된다.
V1= Va- Vg식(2)
여기서, Va는 용기(2) 및 이와 연통하는 라인을 포함하는 선택된 측정 체적의 총괄 체적이다.
전술한 식에서, 시간(t)이 초로 표현되면, 온도(Tk)는。K 단위로, 압력(P1)은 torr 단위로, 체적은 리터 단위로, 측정된 유량은 SCCM 단위로 표현되며, 측정중에 도입된 기체는 본 발명의 실행중에 이용되는 바람직한 비활성 기체인 아르곤이며, k는 4.642 x 10-5의 수치를 갖는다.
물론, 시스템(50)은 식(1) 및 (2)를 결합하는 식에 따라 단일 계산 작업에서 V1을 계산하기 위해 또한 수행될 수 있다. 더욱이, 처리 물질의 양은 측정될 수 있으며, 두 체적 사이의 공지된 관계(Va= V1+ Vg)로 인해 남아있는 처리 물질의 양이 실제적으로 계산하지 않고서도 단순히 헤드 공간 내에 존재하는 기체의 체적(Vg)을 계산함으로써 사실상 측정될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특성에 따라, Vg의 수치는 용기(2)가 완전히 비었을 때 (처리 물질이 원하는 대로 완전히 비어있지 않은 경우에, 선택된 최소 수치로 비었을 때)전술한 것과 같이 동일한 방법에 의해 결정된다. 이러한 경우에, 물론 V1= 0이며, 따라서 Va=Vg가 된다. 즉, 시스템은 측정 작업중에 용기(2) 내부, 및 이와 연통하는 밸브 내부의 임의의 물리적인 측정을 필요로 하지 않고 처리 물질양의 측정 작업을 수행하기 이전에 Va의 수치를 얻기 위해 계산될 수 있다.
전술한 과정으로, 밀폐된 체적으로 이송된 기체량은 기체 유량, 및 제 1 및 제 2 압력 측정 사이의 시간 간격 및 차이를 근거로 하여 공지되어 있다. 선택적으로, 고정된 기체량은 이송될 수 있으며, 제 1 압력 측정에 의해 진행되며, 제 2 압력 측정으로 계속되며, 이러한 경우 각각의 시간 차이 결정은 요구되지 않는다.
본 발명은 고정된 유량에서 기체를 제거하거나, 또는 공지된 기체량을 제거함으로써 수행될 수 있다. 이러한 경우, 식(1)의 우측의 분모는 P1- P2가 될 것이다.
본 발명에 따른 시스템 및 방법의 실시예는 DMAH(디메틸 알루미늄 하이드라이드)가 반도체 제조 공정과 관련된 웨이퍼 상에 알루미늄 필름을 증착하기 위해 챔버에 이송되는 시스템에서 앰플 내에 저장된 DMAH의 양을 측정할 수 있다. 측정 작업중에, 앰플 및 앰플의 내부와 연통하는 도관 및 밸브에 의해 둘러싸인 공간은 대략 1.3 리터 정도이다. 측정 작업에 사용되는 기체는 아르곤과 같은 임의의 적합한 비활성 기체일 수 있으며, 이러한 기체는 300 SCCM의 속도로 측정된 유동 제어기(22)로 이송될 수 있는 반면, 대략 200 Torr의 최대 압력을 발생시킨다. 각각의 압력(P1및 P2) 의 측정 사이의 시간은 60초 이하이며, 다수의 경우, 대략 3 또는 4초이다.
적절한 소프트웨어에 의해 제어되는 이러한 측정 과정의 특정 실시예는 다음 단계로 설명된다.
1. 현재 앰플 온도(℃)는 작업자에 의해 입력된다. 온도는 0℃ 내지 200℃의 범위내에 놓여 있다. 작업자가 입력하지 않은 경우에는, 소프트웨어 프로그램에 의해 45°의 디폴트값이 선택된다.
2. 입력 수치 또는 디폴트 온도가。K 단위로 변환된다.
3. 탐지기(40)에 의해 판독된 압력은 적절히 낮은 수치 바람직하게, 50 Torr 이하의 수치로 설정되며, 밸브(12)는 차단된다.
4. 제어기(22)를 거쳐 아르곤의 이송은 300 SCCM의 유량에서 초기화된다.
5. 3초의 기체 유동 이후에, 기체 안정화를 위해 P1및 t1이 측정되고 기록된다.
6. 기체 유동은 총괄 시험 시간은 기체 유동의 개시 이후에 예를 들어,60초 정도의 최대 허용 수치로 도달하거나, 또는 측정된 압력이 예를 들어, 200 torr 의 최대 허용 수치에 달하는 경우 중의 하나가 달성될 때까지 300 SCCM의 속도에서 계속된다. 이 중에서 하나가 발생되면, P2및 t2가 측정되고 기록된다.
7. 기체는 앰플 외부로 유동되도록 한다.
8. 앰플 내의 처리 물질의 체적이 계산된다.
본 발명에 따른 측정은 대략 2 내지 3%의 정확성으로 용기(2) 내에 잔류하는 처리 물질(4)의 양을 나타낼 수 있음을 발견할 수 있다.
만일, 측정으로 인해 물질(4)의 양이 소정의 수치 이하이면, 시스템(50)은 앰플(2)이 교체되었음을 경고하기 위해 장치(54)를 거쳐 경보음을 발생할 수 있다. 일부 적용예에 있어서, 용기(2) 내에 물질(4)의 공급을 보충하기 위해 밸브(56)을 개방하는 것이 가능하다.
예시된 실시예에서, 압력 탐지기(40)는 운반 기체의 유동 방향에 대해 용기(2)의 상류에 위치된 도관(26) 내에 연결된다. 이러한 위치는 압력 탐지기(40)의 노출 표면이 도금되거나 에칭된 처리 물질(4)에 의해 공격당하는 것을 방지하기 때문에 바람직하다.
본 발명에 따른 측정 작업의 성능에서, 용기(2) 내에 발생된 최대 압력은 관련 공정에 사용되기 위해 물질을 기체 또는 진공 상태에 위치시키기 위해 정상적으로 이용되는 범위 내에 놓여질 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 측정 과정은 임의의 위험이 발생하지 않는다.
본 발명에 따른 압력 측정이 비교적 단시간 주기 내에서 수행될 수 있기 때문에, 시스템(50)은 빈번한 간격에서 압력 측정을 자동으로 수행하도록 구성되어 있다. 예를 들어, 압력 측정은 밸브(12)가 사용되어질 처리 물질(4)에 대한 공정의 정상 과정중에 차단될 때마다 수행될 수 있다.
본 발명은 임의의 화학 처리 스테이션에서 초기에 액체 또는 고체 형태인 물질을 처리하는데 이용될 수 있다. 측정 작업이 기체 압력의 탐지에 근거하고, 기체 압력 탐지기는 압력 용기에 기체를 제공하는 도관에 결합될 수 있다. 처리 물질과 탐지기 사이의 모든 접촉은 방지될 수 있다. 따라서, 본 발명은 접하고 있는 임의의 표면을 도금하고자 하는 부식성 처리 물질 또는 처리 물질에 측정에 적용될 수 있다.
본 발명에 따라 측정되어질 다른 처리 물질은 TDMAT 등의 질산 티타늄 화합물, TEOS 등의 실리콘 화합물, TMB등의 붕소 화합물, TMP 등의 인산 화합물, Cu, VTMS 등의 구리 화합물을 포함한다.
본 발명을 구체화한 시스템에서, 처리 스테이션으로 이송되어질 기체 또는 증기 상태에서 처리 물질(4)을 위치시키기 위해 이용되는 기체는 측정중에 사용되어질 기체와는 다르며, 예를 들어 도관(26,28)에 결합된 부가의 도관 세트를 거쳐 공급될 수 있음을 인지할 수 있다.
전술한 계산 및 제어 시스템(50) 및 관련 경보 장치(54)에 제공된 체적 측정 프로그램을 제외하고는, 도면에 도시된 모든 성분이 제공된 종래의 산업상 처리 시스템이 존재한다. 따라서, 본 발명의 또 다른 잇점은 비교적 간단하고 경제적인 방식으로 시스템에 적용될 수 있다는 점이다.
본 발명에 따른 공정에 의해 얻어진 데이터와 용기(2) 내에 존재하는 처리 물질의 양 사이의 관계는 운반 기체 유량 및 압력 변동의 전 범위에 걸쳐 선형 관계를 가지고 있음을 발견하게 된다. 따라서, 광점위한 유량 및 압력 변동에서 유사하게 만족할만한 정확성이 얻어질 수 있다.
상기 설명에서는 본 발명의 특정 실시예를 참조하여 본 발명을 상세하게 설명하였지만, 본 기술 분야의 숙련된 당업자들은 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
Claims (34)
- 저장 용기로부터 처리 스테이션까지 처리 물질을 이송하는 이송 공정에서, 상기 저장 용기는 처리 물질 저장 공간을 둘러싸고 있으며 상기 저장 공간과 연통하는 도관에 결합되어 있으며, 상기 저장 공간 내에 처리 물질의 양을 측정하기 위한 방법에 있어서,상기 저장 공간을 포함하는 측정 체적 내의 기체에 의해 채워진 체적을 측정하는 측정 단계를 포함하며, 상기 측정 단계는상기 측정 체적이 제 1 및 제 2 기체량을 각각 함유하고 있을 때 상기 측정 체적 내의 기체 압력을 측정하기 위해 제 1 및 제 2 압력을 측정하는 단계, 및상기 제 1 및 제 2 기체량 사이의 차이를 측정하는 단계를 포함하고 있는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 측정 체적으로부터 상기 측정된 기체 체적을 감하는 단계를 더 포함하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기체는 아르곤으로 구성되는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기체의 체적 측정은 식에 의해 계산되며,여기서, Vg는 상기 기체의 체적, k는 상수, Tk는 상기 저장 용기의 절대 온도(。K), 및 P2및 P1는 종료 시간(t2) 및 개시 시간(t1)에서 측정된 상기 제 1 및 제 2 압력 측정치인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 처리 스테이션은 반도체 웨이퍼를 처리하는 방법.
- 제 5항에 있어서, 상기 처리 스테이션은 상기 반도체 웨이퍼 상에 알루미늄 층을 증착하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 처리 물질은 DMAH, TDMAT, TEOS, TMB,TMP, 및 Cu:VTMS로 구성된 군으로부터 선택된 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 저장 공간 내의 상기 처리 물질의 체적이 제로 및 미리측정된 최소수치 사이일 때, 상기 측정 체적 내부의 기체에 의해 채워진 상기 체적을 측정함으로써 상기 측정 체적을 측정하는 단계를 더 포함하는 방법.
- 저장 용기로부터 처리 스테이션까지 처리 물질을 이송하는 이송 공정에서, 상기 저장 용기는 처리 물질 저장 공간을 둘러싸고 있으며 상기 저장 공간과 연통하는 도관에 결합되어 있으며, 상기 저장 용기 및 상기 도관은 상기 저장 공간을 포함한 체적을 둘러싸고 있으며, 상기 저장 공간 내의 처리 물질의 양을 측정하기 위한 방법에 있어서,상기 저장 용기 및 상기 도관에 의해 둘러싸인 상기 체적을 밀폐시키는 단계,상기 체적이 제 1 및 제 2 기체의 량을 각각 함유하고 있을 때 상기 체적 내에 상기 기체 압력을 측정하기 위해 제 1 및 제 2 압력을 측정하는 단계,상기 제 1 및 제 2 기체의 량의 차이를 측정하는 단계, 및상기 체적, 상기 제 1 및 제 2 기체의 량의 차이, 및 상기 제 1 및 제 2 압력 측정중에 측정된 상기 기체 압력을 근거로 하여 상기 저장 공간 내의 처리 물질량을 계산하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 9항에 있어서, 상기 처리 스테이션은 반도체 웨이퍼를 처리하는 방법.
- 제 10항에 있어서, 상기 처리 스테이션은 상기 반도체 웨이퍼 상에 알루미늄 층을 증착하는 방법.
- 제 9항에 있어서, 상기 처리 물질은 DMAH, TDMAT, TEOS, TMB,TMP, 및 Cu:VTMS로 구성된 군으로부터 선택되는 방법.
- 제 9항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 압력을 측정하는 단계는,상기 체적 내의 상기 기체 압력을 측정하기 위해 제 1 압력을 측정하는 단계,상기 체적 내의 기체의 량을 변경시키는 단계, 및상기 체적 내의 상기 기체 압력을 측정하기 위해 제 2 압력을 측정하는 단계를 더 포함하는 방법.
- 제 13항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 압력 측정 단계 및 기체의 량 변경 단계는 상기 체적에 지정된 유량으로 기체를 이송하는 단계, 및 기체가 상기 체적으로 이송되는 동안에 상기 제 1 압력 측정 후의 선택된 시간에 상기 제 2 측정을 수행되는 단계를 더 포함하는 방법.
- 제 13항에 있어서, 상기 기체의 량을 변경시키는 단계는 기체 공급원으로부터 상기 저장 용기까지 도관을 통해 상기 기체를 이송함으로써 수행되며, 상기 제 1 및 제 2 압력 측정 단계는 상기 도관 내의 기체의 압력을 측정함으로써 수행되는 방법.
- 제 9항에 있어서, 상기 기체는 상기 처리 물질에 대해 화학적으로 비활성인 기체로 구성되는 방법.
- 제 9항에 있어서, 상기 처리 물질은 액체로 구성되는 방법.
- 제 17항에 있어서, 상기 처리 물질은 웨이퍼 도금 액체로 구성되는 방법.
- 처리 물질 저장 공간을 둘러싸고 있는 저장 용기, 및 상기 저장 용기로부터 처리 스테이션까지 처리 물질을 이송하기 위한 상기 저장 공간과 연통하는 도관을 포함하는 장치로서, 상기 저장 용기 및 상기 도관은 상기 저장 공간을 포함한 체적을 둘러싸고 있으며, 상기 저장 공간 내의 처리 물질의 양을 측정하기 위한 시스템을 포함하는 장치에 있어서, 상기 시스템은상기 저장 용기 및 상기 도관에 의해 둘러싸인 상기 체적을 밀폐하기 위한 적어도 하나의 밸브,상기 체적에 기체를 조절된 유량으로 이송하기 위해 상기 도관에 결합된 유동 제어기,상기 용기 내의 압력을 측정하기 위해 상기 체적과 연통하는 압력 센서, 및상기 압력 센서에 의해 수행된 제 1 및 제 2 압력 측정치를 근거로 하여 상기 저장 공간 내부의 상기 처리 물질의 량을 측정하기 위해 상기 압력 센서에 결합된 계산 및 제어 시스템을 포함하는 장치.
- 처리 물질 저장 공간을 둘러싸고 있는 저장 용기, 및 상기 저장 용기로부터 처리 스테이션까지 처리 물질을 이송하기 위한 상기 저장 공간과 연통하는 도관을 포함하는 장치로서, 상기 저장 공간 내의 처리 물질의 양을 측정하기 위한 시스템을 포함하는 장치에 있어서, 상기 시스템은상기 저장 공간을 포함하는 측정 체적 내부의 기체에 의해 채워진 체적을 측정하기 위한 수단을 포함하며, 상기 수단은상기 측정 체적이 제 1 및 제 2 기체량을 각각 함유하고 있을 때 상기 측정 체적 내의 기체 압력을 측정하기 위해 제 1 및 제 2 압력을 측정하기 위한 수단, 및상기 제 1 및 제 2 기체의 량의 차이를 측정하기 위한 수단을 포함하는 장치.
- 제 20항에 있어서, 상기 측정 체적으로부터 상기 측정된 기체 체적을 감하기 위한 수단을 더 포함하는 장치.
- 제 20 항에 있어서, 상기 기체는 아르곤으로 구성되는 장치.
- 제 22항에 있어서, 상기 기체의 체적을 측정하기 위한 수단은 식에서와 같이 상기 기체 체적을 계산하기 위한 계산 수단을 포함하며,여기서, Vg는 상기 기체의 체적, k는 상수, Tk는 상기 저장 용기의 절대 온도(。K), 및 P2및 P1는 종료 시간(t2) 및 개시 시간(t1)에서 측정된 상기 제 1 및 제 2 압력 측정치인 장치.
- 제 20 항에 있어서, 상기 처리 스테이션은 반도체 웨이퍼를 처리하는 장치.
- 제 24항에 있어서, 상기 처리 스테이션은 상기 반도체 웨이퍼 상에 알루미늄 층을 증착하는 장치.
- 제 20 항에 있어서, 상기 처리 물질은 DMAH, TDMAT, TEOS, TMB,TMP, 및 Cu:VTMS로 구성된 군으로부터 선택된 장치.
- 제 20 항에 있어서, 상기 저장 공간 내의 상기 처리 물질의 체적이 제로 및 미리측정된 최소수치 사이일 때, 상기 측정 체적 내의 기체에 의해 채워진 상기 체적을 측정함으로써 상기 측정 체적을 측정하기 위한 수단을 더 포함하는 장치.
- 처리 물질 저장 공간을 둘러싸고 있는 저장 용기, 및 상기 저장 용기로부터 처리 스테이션까지 처리 물질을 이송하기 위한 상기 저장 공간과 연통하는 도관을 포함하는 장치로서, 상기 저장 용기 및 상기 도관은 상기 저장 공간을 포함한 체적을 둘러싸고 있으며, 상기 저장 공간 내의 처리 물질의 양을 측정하기 위한 시스템을 포함하는 장치에 있어서, 상기 시스템은상기 저장 용기 및 상기 도관에 의해 둘러싸인 상기 체적을 밀폐하기 위한 수단,상기 체적이 제 1 및 제 2 기체의 량을 각각 함유하고 있을 때 상기 체적 내에 상기 기체의 압력을 측정하기 위해 제 1 및 제 2 압력을 측정하기 위한 수단, 및상기 제 1 및 제 2 기체의 량의 차이를 측정하고, 그리고 상기 체적, 상기 제 1 및 제 2 기체의 량의 차이, 및 상기 제 1 및 제 2 압력 측정중에 측정된 상기 기체의 압력을 근거로 하여 상기 저장 공간 내의 처리 물질의 양을 계산하기 위한 수단을 포함하는 장치.
- 제 28항에 있어서, 제 1 및 제 2 압력을 측정하기 위한 수단은상기 체적 내의 기체 압력을 측정하기 위해 제 1 압력을 측정하고, 상기 체적 내의 기체의 량을 변경시키고, 그리고 상기 체적 내의 기체 압력을 측정하기 위해 제 2 압력을 측정함으로써 작동되는 장치.
- 제 29항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 압력을 측정하기 위한 수단은 상기 체적에 지정된 유량의 기체를 부가하기 위한 수단을 포함하며, 상기 제 2 압력 측정은 기체가 상기 체적으로 이송되는 동안에 상기 제 1 압력 측정 이후 선택된 시간에 수행되는 장치.
- 제 29항에 있어서, 상기 기체의 량을 변경시키는 단계는 기체 공급원으로부터 상기 저장 용기까지 기체를 이송하기 위한 도관을 포함하며, 제 1 및 제 2 압력을 측정하기 위한 수단은 기체의 압력을 측정하기 위해 상기 도관 내에 위치되는 장치.
- 제 28항에 있어서, 상기 기체는 상기 처리 물질에 대해 화학적으로 비활성인 기체로 구성되는 장치.
- 제 28항에 있어서, 상기 처리 물질은 액체로 구성되는 장치.
- 제 33항에 있어서, 상기 처리 물질은 웨이퍼 도금 액체로 구성되는 장치.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180100428A (ko) * | 2016-04-26 | 2018-09-10 | 레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레？드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드 | 전구체 공급 시스템 및 전구체 공급 방법 |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3671685B2 (ja) * | 1998-08-19 | 2005-07-13 | トヨタ自動車株式会社 | 燃料量検出装置 |
| JP3582437B2 (ja) * | 1999-12-24 | 2004-10-27 | 株式会社村田製作所 | 薄膜製造方法及びそれに用いる薄膜製造装置 |
| US7104124B2 (en) * | 2001-05-04 | 2006-09-12 | Stabile James R | Method for indicating duration of gas supply remaining and providing result to user thereof |
| US7063981B2 (en) * | 2002-01-30 | 2006-06-20 | Asm International N.V. | Active pulse monitoring in a chemical reactor |
| TWI277140B (en) * | 2002-07-12 | 2007-03-21 | Asm Int | Method and apparatus for the pulse-wise supply of a vaporized liquid reactant |
| US7077388B2 (en) * | 2002-07-19 | 2006-07-18 | Asm America, Inc. | Bubbler for substrate processing |
| US6936086B2 (en) * | 2002-09-11 | 2005-08-30 | Planar Systems, Inc. | High conductivity particle filter |
| US6779378B2 (en) | 2002-10-30 | 2004-08-24 | Asm International N.V. | Method of monitoring evaporation rate of source material in a container |
| US7168297B2 (en) * | 2003-10-28 | 2007-01-30 | Environmental Systems Products Holdings Inc. | System and method for testing fuel tank integrity |
| US20060107898A1 (en) * | 2004-11-19 | 2006-05-25 | Blomberg Tom E | Method and apparatus for measuring consumption of reactants |
| US7347089B1 (en) | 2005-08-30 | 2008-03-25 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Gas volume contents within a container, smart volume instrument |
| US7781016B2 (en) * | 2006-08-23 | 2010-08-24 | Applied Materials, Inc. | Method for measuring precursor amounts in bubbler sources |
| US8366690B2 (en) * | 2006-09-19 | 2013-02-05 | Kci Licensing, Inc. | System and method for determining a fill status of a canister of fluid in a reduced pressure treatment system |
| KR100915083B1 (ko) * | 2007-12-21 | 2009-09-02 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 주사기와 압력차계를 결합한 가스 부피 측정 장치 |
| US8220502B1 (en) * | 2007-12-28 | 2012-07-17 | Intermolecular, Inc. | Measuring volume of a liquid dispensed into a vessel |
| US8151814B2 (en) * | 2009-01-13 | 2012-04-10 | Asm Japan K.K. | Method for controlling flow and concentration of liquid precursor |
| TWI381158B (zh) * | 2009-01-23 | 2013-01-01 | Ind Tech Res Inst | 空壓機性能測試裝置 |
| WO2010135250A2 (en) * | 2009-05-22 | 2010-11-25 | Applied Materials, Inc. | Methods for determining the quantity of precursor in an ampoule |
| US20110079288A1 (en) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | Bruker Biospin Corporation | Method and apparatus for preventing energy leakage from electrical transmission lines |
| US8960220B2 (en) | 2011-04-18 | 2015-02-24 | Ceres Technologies, Inc. | Liquid mass measurement and fluid transmitting apparatus |
| DE102011088172B4 (de) * | 2011-12-09 | 2014-07-31 | Siemens Aktiengesellschaft | Frischwasserversorgungsanlage für ein Schienenfahrzeug |
| DE102012103573A1 (de) * | 2012-04-24 | 2013-10-24 | Dionex Softron Gmbh | Volumenmessung eines flüssigen Mediums, insbesondere eines Lösungsmittels in Flaschen in der HPLC |
| KR101356764B1 (ko) | 2012-09-25 | 2014-01-27 | 주식회사 다윈솔루션 | 유체를 이용하여 피측정구조물의 내부 공간을 측정하기 위한 체적측정장치 및 이를 이용한 체적측정방법 |
| US10139262B2 (en) * | 2014-09-04 | 2018-11-27 | Carl E. Keller | Method for air-coupled water level meter system |
| GB201513220D0 (en) * | 2015-07-28 | 2015-09-09 | Delphi Int Operations Lux Srl | Method to determine level of reductant in a tank |
| US10060781B2 (en) | 2015-08-05 | 2018-08-28 | The Boeing Company | Methods and systems for direct fuel quantity measurement |
| DE102018119951A1 (de) * | 2018-08-16 | 2020-02-20 | Endress + Hauser Messtechnik Gmbh+Co. Kg | Verfahren zur Bestimmung eines restlichen Leervolumens, Verfahren zur Vor-Ort Kalibrierung eines Füllstandsmessgeräts und Vor-Ort Kalibriermodul |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE689038C (de) * | 1938-08-12 | 1940-03-08 | Eduard Ahlborn Akt Ges | Waermeaustauschplatte mit aufgeschweissten Leisten zur Aufnahme der Dichtungen |
| US4393013A (en) * | 1970-05-20 | 1983-07-12 | J. C. Schumacher Company | Vapor mass flow control system |
| DE3206130C2 (de) * | 1982-02-20 | 1986-07-03 | Walter 2000 Hamburg Nicolai | Einrichtung zur Ermittlung und Anzeige der Menge eines flüssigen oder festen Lagergutes |
| JPS60212908A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-25 | 日立電線株式会社 | 光複合ケ−ブル |
| JPH0747119B2 (ja) * | 1987-03-09 | 1995-05-24 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 低圧又は真空系統に低蒸気圧の物質を注入するための装置 |
| US4840064A (en) * | 1988-03-15 | 1989-06-20 | Sundstrand Corp. | Liquid volume monitoring apparatus and method |
| JP2597144B2 (ja) * | 1988-05-20 | 1997-04-02 | 東芝機械株式会社 | 射出成形機の保圧工程制御方法およびその装置 |
| DE3929506A1 (de) * | 1989-09-06 | 1991-03-14 | Moto Meter Ag | Verfahren und vorrichtung zum messen des fluessigkeitsinhalts von geschlossenen fluessigkeitstanks |
| US5001924A (en) * | 1989-12-28 | 1991-03-26 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Volumetric measurement of tank volume |
| DE4042421A1 (de) * | 1990-06-02 | 1992-04-30 | Martin Lehmann | Verfahren und vorrichtung zum pruefen des volumens von behaeltnissen |
| US5520969A (en) * | 1994-02-04 | 1996-05-28 | Applied Materials, Inc. | Method for in-situ liquid flow rate estimation and verification |
| JP3712761B2 (ja) * | 1994-06-21 | 2005-11-02 | オルソ−クリニカル ダイアグノスティクス，インコーポレイティド | 液体試薬の容積測定方法 |
| US5810058A (en) * | 1996-03-20 | 1998-09-22 | Gas Research Institute | Automated process and system for dispensing compressed natural gas |
-
1997
- 1997-06-06 US US08/870,961 patent/US6038919A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-05-14 WO PCT/US1998/009702 patent/WO1998055840A1/en not_active Application Discontinuation
- 1998-05-14 EP EP98926035A patent/EP0986740A1/en not_active Withdrawn
- 1998-05-14 KR KR1019997011484A patent/KR20010013480A/ko not_active Application Discontinuation
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- 1998-05-20 TW TW087107866A patent/TW480243B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180100428A (ko) * | 2016-04-26 | 2018-09-10 | 레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레？드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드 | 전구체 공급 시스템 및 전구체 공급 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3242413B2 (ja) | 2001-12-25 |
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| TW480243B (en) | 2002-03-21 |
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