JPS625422A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JPS625422A
JPS625422A JP60143737A JP14373785A JPS625422A JP S625422 A JPS625422 A JP S625422A JP 60143737 A JP60143737 A JP 60143737A JP 14373785 A JP14373785 A JP 14373785A JP S625422 A JPS625422 A JP S625422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
power supply
supply voltage
internal power
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60143737A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07113863B2 (ja
Inventor
Yoji Watanabe
陽二 渡辺
Yasushi Sakui
康司 作井
Hiroshi Ikeda
博 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP60143737A priority Critical patent/JPH07113863B2/ja
Priority to US06/878,691 priority patent/US4780854A/en
Priority to DE3621533A priority patent/DE3621533C2/de
Priority to KR8605202A priority patent/KR910009553B1/ko
Publication of JPS625422A publication Critical patent/JPS625422A/ja
Publication of JPH07113863B2 publication Critical patent/JPH07113863B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M3/00Conversion of dc power input into dc power output
    • H02M3/02Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
    • H02M3/04Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
    • H02M3/10Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode
    • H02M3/145Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal
    • H02M3/155Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Control Of Electrical Variables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はN源電圧変換回路を内蔵した半導体集積回路装
置に関する。
(発明の技術的背景とその問題点) MOS トランジス、りを集積した半導体集積回路装置
の分野では、最小加工寸法が1.2μm程度の微細素子
を200万個以上も集積した1Mピット・ダイナミック
RAM (dRAM)の試作品が相次いで発表されてい
る。今後更に4MビットdRAMあるいは16Mビット
dRAMを実現するためには、1μm以下の加工寸法が
用いられると予想される。その場合回路を構成するMO
S)−ランジスタのチャネル長は1μm以下となるが、
この様な短チヤネルMOSトランジスタでは耐圧の低下
や高電圧を印加した場合の特性劣化が著しくなってくる
。従って現在一般に用いられている5■の電源電圧をそ
のまま用いることは回路動作上、・また素子の信頼性上
好ましくない。そこで今後、1μm以下の加工寸法を用
いた集積回路においては、汎用性の面から外部電源電圧
としては5■を用い、内部の微細素子からなる回路部分
は低電圧で駆動するように電源電圧変換回路を内蔵させ
ることが必要になってくる。
第7図は従来の電源電圧変換回路を内蔵したdRAMチ
ップのブロック構成例である。41はチップであり、こ
のチップ41内に基準電圧発生回路42、誤差増幅回路
43及び出力回路44からなる電源電圧変換回路・が内
蔵されている。この電源電圧変換回路は、基準電圧発生
回路41からの基準電圧VRと出力回路44の出力であ
る内部電源電圧Vcc1を誤差増幅回路43により比較
して両電圧が等しくなるように、誤差増幅回路43によ
り出力回路44のコンダクタンスを制御するようになっ
ている。この出力回路44から出力される内部電源電圧
Vc c 1がdRAM回路45に与えられる。dRA
M回路は、りOツク発生回路46、周辺回路47及びコ
ア回路48からなる。
ここで電源電圧変換回路の直流的な最大電流供給能力は
、制御回路44の規模を変更することにより比較的容易
に調節することができる。
ところで従来のli電源電圧変換回路は、内部回路であ
るdRAM回路55に急峻なピーク電流が流れると、内
部電源電圧Veerが変動してしまう。第8図はその様
子を示している。この内部電源電圧Vcc1の変動はd
RAMの回路動作に大きな悪影響を与える。
第9因はクロック発生回路に供給される電源電圧が低下
した場合のこの発生回路からのクロックパルス系列の遅
延時間特性をシミュレーションにより求めた例である。
実線は電源線インピーダンスを考慮した場合、破線はこ
れを考慮しなかった場合である。このシミュレーション
は電源電圧変換回路を用いない場合のものであるが、こ
のようにチップ内部の電源電圧の変動はクロックパルス
のタイミングに大きい影響を与える。このことは、アク
セス時間を遅らせるだけでなく、回路の動作マージンを
著しく低下させる原因となる。電源電圧変換回路を用い
た場合はこの問題は更に深刻になり、一度低下した内部
電源電圧はすぐには元のレベルに戻らないため、その間
クロックパルスのタイミングが遅れてしまう。
電源電圧変換回路の応答特性を向上させるためには、例
えば第7図で誤差増幅回路43に流し込む電流値を予め
大きく設定し、その駆動能力を上げておけばよい。しか
しこれは、消費電力の増大につながり好ましくない。
〔発明の目的〕
本発明は上記した点に鑑みなされたもので、平均消費電
力が小さく、しかも内部電源電圧変動率を低く抑えた電
源電圧変換回路を内蔵した半導体集積回路装置を提供す
ることを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明における半導体集積回路は、電Ill電圧変換回
路内に、クロック発生回路からのクロックパルスにより
内部電源電圧レベルを制御する手段を有することを特徴
とする。電源電圧変換回路は基本的には従来と同様、基
準電圧発生回路、増幅回路及び出力回路により構成する
。本発明では例えば、内部電源電圧レベルを制御する手
段として、誤差増幅回路に、りOツクパルスにより制御
されて流れ込む電流量を切り換える切換え手段を備える
。または出力回路内に、クロックパルスにより制御され
てコンダクタンスを切換える手段を備える。
〔発明の効果〕
本発明によれば、内部回路の動作特性に対応してクロッ
クパルスで制御される電源電圧変換回路を設けることに
より、回路動作時に電流が大きく変動しても安定した内
部電源電圧を得ることができる。これにより、アクセス
時間等の回路動作速度が向上しまた回路動作マージンも
大幅に改善される。
前述のように誤差増幅回路を用いた電源電圧変換回路の
応答特性は、出力回路のコンダクタンスを制御する誤差
増幅回路の立上り特性(スルーレート:SR)で決定さ
れる。SRは一般に次式のように表わすことができる。
5R−kIc/に こで、kは回路構成により決定される定数、Icは誤差
増幅回路に流し込む電流値、Cは制御回路の入力容量で
ある。上式より、誤差増幅回路に流し込む電流値Icを
大きくすることによって電圧変換回路の応答特性は改善
される。しかし単に流し込む電流1cを大きくすること
は前述のように消費電力の増大につながる。
ところでDRAM回路では、第5図に示したように一つ
の動作サイクル内で急峻なピーク電流が流れるのは限ら
れた時間帯だけである。そこで電源電圧変換回路の負荷
としてdRAM回路を動作させる場合、その急峻なピー
ク電流を流す必要のある時のみ流し込む電流値1cを大
きくして誤差増幅回路の立上り特性を高めるようにすれ
ばよい。
本発明により、負荷である内部回路の動作に連動して誤
差増幅回路に流し込む電流量を切換えるように構成すれ
ば、急激な負荷変動に対して電圧変動率が小さく、しか
も平均消費電力が小さい電源電圧変換回路を内蔵した集
積回路が得られる。
また出力回路のコンダクタンスをクロックパルスにより
制御して内部電源電圧の変動率を小さくすることによっ
ても、同様の効果が得られる。
〔発明の実施例〕
以下本発明の詳細な説明する。
第1図はd RA Mに適用した一実施例の構成を示す
。1は81などの半導体チップであり、これに、基準電
圧発生回路2、誤差増幅回路3及び出力回路4により構
成される電源電圧変換回路が内蔵されている。集積回路
の要部であるdRAM回路5は、基準クロック発生回路
6、周辺回路7及びコア回路8からなる。誤差増幅回路
3はnチャネルMOSトランジスタ13.14及びnチ
ャネルMOSトランジスタ15.16からなるCMOS
増幅器を基本とする。このCMOS増幅器に外部電源電
圧Vccから流れ込む電流値を切換え制御するために、
電流源として並列接続されたnチャネルMOSトランジ
スタ111.112が設けられている。一方のMOSト
ランジスタ111は定電圧発生回路10により常時駆動
されており、他方のMoSトランジスタ112は電流制
御信号φGにより制御されるnチャネルMOSトランジ
スタ12のオン、オフに応じて定電圧発生回路10によ
り駆動される。電流制御信号発生回路9は、基本クロッ
ク発生回路6より発生されるdRAM回路の動作クロッ
ク自身またはこれに付随するクロックの一部であるφ′
を受け、CMOS増幅器に流し込む電流を切換えるため
の制御信号φGを発生する。
例えばdRAM回路のクロックと回路に流れる電流波形
に第5図に示すような対応関係を有する場合、クロック
φ1の立上り時からクロックφ3の立上り時まで、及び
り0ツクφ5の立上り時からクロックφ8の立上り時ま
での間のみ、誤差増幅回路に流し込む電流値を増大させ
ればよい。そのためには例えば、クロックφ1〜φBが
第3図のような波形の場合、電流制御信号発生回路9を
第2図のようにゲートG1〜G4により構成する。
即ち、クロックφ1が立上がると、ORゲートG1.G
2を介してHI!レベルの制御信号φGが得られる。ク
ロックφ1が“L″レベルなった後も、ANDゲートG
4の出力が“°H”レベルである間は制御信号φGの“
HTルーベル出力は維持される。クロックφ3が“H″
レベルなるとNORゲートG3の出力が“L”レベル、
従ってANDゲートG4の出力がI L Nレベルにな
り、制御信号φGは“L ”レベルになる。同様に、り
ロックφSの立上りで制御信号φGが立上り、クロック
φ8の立上りでこの制御信号φGは立ち下がる。以上の
様子は第3図に示した通りである。
こうしてこの実施例の誤差増幅回路では、MOSトラン
ジスタ111により常時一定の電流が流し込まれており
、制御信号φGがH”レベルの間は更にMo8 t−ラ
ンジスタ112によっても電流が流し込まれる。即ち、
dRAM回路が動作して急峻なピーク電流が流れる場合
に、誤差増幅回路に流し込む電流量を増大させてその応
答特性を向上させることによって、内部電源電圧VCC
Iの変動率を極力小さく抑えることができる。しかもこ
のように誤差増幅回路に大電流を流すのは、dRAMの
動作サイクル中の極一部であるため、平均的な消費電力
の増加は殆どない。
なお上記実施例では、誤差増幅回路への電流供給回路と
して常時オン状態のMOSトランジスタ111と選択的
にオンとされるMOSトランジスタ112を並列接続し
たものを示したが、更にMoSトランジスタの数を増や
し、制御信号φQも増やして、負荷変動の具合に応じて
流し込む電流を複数段に切換えるように構成してもよい
第4図はクロックパルスにより出力回路を制御して内部
電源電圧を安定化するようにした実施例を示す。定電圧
発生回路23の出力は外部電源電圧Vccを降下する出
力回路24に入力される。
出力回路24は外部電源電圧Vccを降下して内部電源
電圧Vc c iを得るMOSトランジスタQ1が基本
構成要素である。この実施例ではこのMo3 t−ラン
ジスタQlと並列に、体重圧発生回路23の出力が入力
されるMOSトランジスタ2及びQ4が設けられている
。これらMOSトランジスタQ2 、Q4のドレインは
それぞれMOSトランジスタQ3 、Qsを介して外部
電源電源電圧Vccに接続されている。そしてこれらM
 OSトランジスタQ3及びQsのゲー1へはそれぞれ
クロックパルスφA及びφBにより制御されるようにな
っている。即ちM OS トランジスタ02〜Q5の部
分はこの出力回路24のコンダクタンスを切換える回路
を構成している。
第6図はこの実施例の回路による内部電源電圧Vcc1
の安定化の様子を示す。クロックパルスφA、φBは内
部電源電圧Veerが電源ノイズにより変動する前に出
力され、これにより出力回路24のMOSトランジスタ
Qs 、Q3が導通状態にされる。出力回路24のコン
ダクタンスはクロックパルスφA、φBが入る前は、M
OSトランジスタQ1のチャネル幅のみで決るが、クロ
ックパルスφAが入るとMOSトランジスタQ4のチャ
ネル幅の分に相当するコンダクタンスの増大があり、更
にクロックパルスφBが入るとMOSトランジスタQ2
のチャネル幅に相当するコンダクタンスの増大がある。
これらにより、第6図に破線で示すMOSトランジスタ
Q1のみの場合の内部電源電圧Vcc1の低下が実線で
示すように補償される。
この実施例によっても、平均的な消費電力の増加を殆ど
伴うことなく内部電源電圧の変動率を小さくすることが
できる。
第5図は第4図の構成を変形した実施例であり、出力回
路のコンダクタンスをかえる手段としてMOSトランジ
スタQ1のゲート電圧をクロックφA及びφBで制御す
る方法をとったものである。
具体的にはφA、φBをD/A変換回路25によりアナ
ログ電圧に変換し、これを増幅回路26で増幅しMOS
トランジスタQ1のゲートに入力する。この実施例によ
っても第4図の実施例と同様の効果が得られる。
第4図及び第5図の実施例は内部電源電圧Vcc1が2
段階に低下する場合の対策として、二つのクロックパル
スを用いて出力回路24のコンダクタンスを制御してい
るが、コンダクタンス制御用のクロックパルスは一つで
も有効であり、また3個以上のクロックパルスを用いる
ようにしてもよい。
本発明はその他種々変形して実施することができる。例
えばdRAM回路の基本クロック発生回路等は内部電源
電圧Vcc1でなく、外部電源電圧Vccを用いる場合
も本発明は有効である。更に本発明は内部回路がdRA
M回路の場合に限定されるものでなく、他の各種集積回
路にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のdRAMチップ構成を示す
図、第2図はその電流制御信号発生回路の構成を示す図
、第3図はその動作を説明するための信号波形図、第4
図は他の実施例の電源電圧変換回路の構成を示す図、第
5図は更に他の電源電圧変換回路の構成を示す図、第6
図は第4図の回路動作を説明するための信号波形図、第
7図は従来のNMN圧変換回路を内蔵したdRAMチッ
プ構成例を示す図、第8図はその内部電源電圧の変動の
様子を示す図、第9図は電源電圧変動に伴うクロック系
列の遅延特性例を示す図である。 1・・・半導体チップ、2・・・基準電圧発生回路、3
・・・誤差増幅回路、4・・・出力回路、5・・・dR
AM回路、6・・・基本クロック発生回路、7・・・周
辺回路、8・・・コア回路、9・・・電流制御信号発生
回路、10・・・定電圧発生回路、111.112・・
・pチャネルMOSトランジスタ(電流源回路)、23
・・・定電圧発生回路、24・・・出力回路、25・・
・D/A変換回路、26・・・増幅回路、Vcc・・・
外部電源電圧、VCCl・・・内部電源電圧。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 GI    G2 第3図 jI7図 第8図 間 (NS)3 円テクロ・7クホ列 第9因

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)外部電源電圧から所定の内部電源電圧を得る電源
    電圧変換回路と、この変換回路の出力である内部電源電
    圧により駆動される、クロック発生回路を含む内部回路
    とが集積形成され、前記電源電圧変換回路は前記クロッ
    ク発生回路から発生されるクロックパルスにより内部電
    源電圧レベルを制御する手段を有することを特徴とする
    半導体集積回路装置。
  2. (2)前記電源電圧変換回路は、基準電圧発生回路と、
    外部電源電圧を降下して内部電源電圧を出力する出力回
    路と、この出力回路から出力される内部電源電圧と前記
    基準電圧発生回路から出力される基準電圧を比較して両
    電圧が等しくなるように前記出力回路のコンダクタンス
    を制御する誤差増幅回路とから構成され、前記内部電源
    電圧レベルを定電圧制御する手段として、前記誤差増幅
    回路に、前記クロック発生回路から発生されるクロック
    パルスにより制御されて外部電源より流入する電流量を
    切換える切換え回路を有する特許請求の範囲第1項記載
    の半導体集積回路装置。
  3. (3)前記電源電圧変換回路は、外部電源電圧を降下し
    て内部電源電圧を出力する出力回路により構成され、前
    記内部電源電圧レベルを制御する手段として、前記出力
    回路に、前記クロック発生回路から発生されるクロック
    パルスにより制御されてコンダクタンスを切換える切換
    え回路を有する特許請求の範囲第1項記載の半導体集積
    回路装置。
  4. (4)前記内部回路はMOS型ダイナミックRAM回路
    である特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路装置
JP60143737A 1985-06-29 1985-06-29 半導体集積回路装置 Expired - Lifetime JPH07113863B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60143737A JPH07113863B2 (ja) 1985-06-29 1985-06-29 半導体集積回路装置
US06/878,691 US4780854A (en) 1985-06-29 1986-06-26 Semiconductor integrated circuit device
DE3621533A DE3621533C2 (de) 1985-06-29 1986-06-27 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung, insbesondere für ein DRAM, die bei geringem Leistungsverbrauch eine stabile interne Versorgungsspannung liefert
KR8605202A KR910009553B1 (en) 1985-06-29 1986-06-27 Semiconductor memory device having power voltage transformation circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60143737A JPH07113863B2 (ja) 1985-06-29 1985-06-29 半導体集積回路装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS625422A true JPS625422A (ja) 1987-01-12
JPH07113863B2 JPH07113863B2 (ja) 1995-12-06

Family

ID=15345837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60143737A Expired - Lifetime JPH07113863B2 (ja) 1985-06-29 1985-06-29 半導体集積回路装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4780854A (ja)
JP (1) JPH07113863B2 (ja)
KR (1) KR910009553B1 (ja)
DE (1) DE3621533C2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02350A (ja) * 1987-05-22 1990-01-05 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH04370963A (ja) * 1991-06-20 1992-12-24 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6125075A (en) * 1985-07-22 2000-09-26 Hitachi, Ltd. Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions
US6262931B1 (en) 1999-08-31 2001-07-17 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device having voltage down convertor reducing current consumption
KR100298548B1 (ko) * 1987-05-22 2001-09-22 가나이 쓰도무 내부전압 발생회로를 구비하는 반도체장치
US6320810B1 (en) 1999-09-16 2001-11-20 Mitsubishiki Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device allowing reduction in current consumption
WO2006106571A1 (ja) * 2005-03-31 2006-10-12 Spansion Llc 半導体装置及び基準電圧生成方法
JP2009116684A (ja) * 2007-11-07 2009-05-28 Toshiba Corp 電圧発生回路

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6159688A (ja) * 1984-08-31 1986-03-27 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JP2721151B2 (ja) * 1986-04-01 1998-03-04 株式会社東芝 半導体集積回路装置
EP0276854B1 (en) * 1987-01-28 1993-10-20 Nec Corporation Semiconductor memory device with improved column selection scheme
JPS6441519A (en) * 1987-08-07 1989-02-13 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated circuit
JPH0817033B2 (ja) * 1988-12-08 1996-02-21 三菱電機株式会社 基板バイアス電位発生回路
JP2888898B2 (ja) * 1990-02-23 1999-05-10 株式会社日立製作所 半導体集積回路
JPH03283562A (ja) * 1990-03-30 1991-12-13 Sony Corp 半導体集積回路装置
US5283762A (en) * 1990-05-09 1994-02-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device containing voltage converting circuit and operating method thereof
US5347173A (en) * 1990-07-31 1994-09-13 Texas Instruments Incorporated Dynamic memory, a power up detection circuit, and a level detection circuit
JP2981263B2 (ja) * 1990-08-03 1999-11-22 富士通株式会社 半導体記憶装置
JP2800502B2 (ja) * 1991-10-15 1998-09-21 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
JPH05314769A (ja) * 1992-05-13 1993-11-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
US5440519A (en) * 1994-02-01 1995-08-08 Micron Semiconductor, Inc. Switched memory expansion buffer
KR0152905B1 (ko) * 1994-11-15 1998-12-01 문정환 반도체 메모리장치의 내부전압 발생회로
JPH10269768A (ja) * 1997-03-26 1998-10-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
KR100406558B1 (ko) * 2001-12-21 2003-11-20 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 전압 발생장치
US9305609B2 (en) 2008-04-30 2016-04-05 Micron Technology, Inc. System and method of command based and current limit controlled memory device power up
US8319548B2 (en) * 2009-02-18 2012-11-27 Freescale Semiconductor, Inc. Integrated circuit having low power mode voltage regulator
US20100283445A1 (en) * 2009-02-18 2010-11-11 Freescale Semiconductor, Inc. Integrated circuit having low power mode voltage regulator
US8400819B2 (en) * 2010-02-26 2013-03-19 Freescale Semiconductor, Inc. Integrated circuit having variable memory array power supply voltage
JP5714924B2 (ja) * 2011-01-28 2015-05-07 ラピスセミコンダクタ株式会社 電圧識別装置及び時計制御装置
US9035629B2 (en) 2011-04-29 2015-05-19 Freescale Semiconductor, Inc. Voltage regulator with different inverting gain stages

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5837896A (ja) * 1981-08-31 1983-03-05 Fujitsu Ltd Mosダイナミック回路

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3806741A (en) * 1972-05-17 1974-04-23 Standard Microsyst Smc Self-biasing technique for mos substrate voltage
DE2812378C2 (de) * 1978-03-21 1982-04-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Substratvorspannungsgenerator für integrierte MIS-Schaltkreise
US4442529A (en) * 1981-02-04 1984-04-10 At&T Bell Telephone Laboratories, Incorporated Power supply rejection characteristics of CMOS circuits
US4401897A (en) * 1981-03-17 1983-08-30 Motorola, Inc. Substrate bias voltage regulator
US4482985A (en) * 1981-04-17 1984-11-13 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5837896A (ja) * 1981-08-31 1983-03-05 Fujitsu Ltd Mosダイナミック回路

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6970391B2 (en) 1985-07-22 2005-11-29 Renesas Technology Corporation Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions
US6125075A (en) * 1985-07-22 2000-09-26 Hitachi, Ltd. Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions
US6363029B1 (en) 1985-07-22 2002-03-26 Hitachi, Ltd. Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions
US7002856B2 (en) 1986-07-18 2006-02-21 Renesas Technology Corporation Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions
JPH02350A (ja) * 1987-05-22 1990-01-05 Hitachi Ltd 半導体装置
KR100298548B1 (ko) * 1987-05-22 2001-09-22 가나이 쓰도무 내부전압 발생회로를 구비하는 반도체장치
KR100311981B1 (ko) * 1987-05-22 2001-11-07 가나이 쓰도무 내부전압 발생회로를 구비하는 반도체장치
JPH04370963A (ja) * 1991-06-20 1992-12-24 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6262931B1 (en) 1999-08-31 2001-07-17 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device having voltage down convertor reducing current consumption
US6320810B1 (en) 1999-09-16 2001-11-20 Mitsubishiki Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device allowing reduction in current consumption
WO2006106571A1 (ja) * 2005-03-31 2006-10-12 Spansion Llc 半導体装置及び基準電圧生成方法
US7321513B2 (en) 2005-03-31 2008-01-22 Spansion Llc Semiconductor device and method of generating a reference voltage therefor
JP2009116684A (ja) * 2007-11-07 2009-05-28 Toshiba Corp 電圧発生回路

Also Published As

Publication number Publication date
DE3621533C2 (de) 1995-07-13
DE3621533A1 (de) 1987-01-08
US4780854A (en) 1988-10-25
KR910009553B1 (en) 1991-11-21
KR870000704A (ko) 1987-02-20
JPH07113863B2 (ja) 1995-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS625422A (ja) 半導体集積回路装置
KR930009148B1 (ko) 전원전압 조정회로
US5280455A (en) Voltage supply circuit for use in an integrated circuit
US4638184A (en) CMOS bias voltage generating circuit
KR20030036045A (ko) 내부 전압 강하 회로
JPH04351791A (ja) 半導体メモリー装置のデータ入力バッファー
KR100266901B1 (ko) 내부 전원 전압 발생 회로 및 그것을 이용한 반도체 메모리 장치
JPH0514167A (ja) 出力ドライバ回路
JPH0991047A (ja) 内部降圧回路
JPH07113862B2 (ja) 基準電圧発生回路
JPH0758887B2 (ja) Rc時定数を利用した可変クロック遅延回路
KR960038968A (ko) 반도체 메모리장치의 전원전압발생회로
KR0182962B1 (ko) 반도체 메모리장치 및 구동전압 공급방법
JP2666347B2 (ja) 出力回路
JPS6380617A (ja) チヨツパ型コンパレ−タ
KR100342872B1 (ko) 전압 강하 변환기
KR930004306Y1 (ko) 비트선 전압 발생회로장치
JPS6143016A (ja) 入力回路
JP2745619B2 (ja) 出力回路
KR100307526B1 (ko) 첨두전류제한회로
KR0149535B1 (ko) 씨모오스 입력버퍼 및 씨모오스 레벨 변환 방법
JP2000057764A (ja) 半導体集積回路
KR950004517A (ko) 반도체 메모리 장치의 전압 변환회로
JPH06350412A (ja) レベルシフト回路
KR0166105B1 (ko) 반도체 집적회로 장치

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term