JPH05314769A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JPH05314769A
JPH05314769A JP4120455A JP12045592A JPH05314769A JP H05314769 A JPH05314769 A JP H05314769A JP 4120455 A JP4120455 A JP 4120455A JP 12045592 A JP12045592 A JP 12045592A JP H05314769 A JPH05314769 A JP H05314769A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
voltage
supply voltage
internal
external
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP4120455A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeru Mori
茂 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4120455A priority Critical patent/JPH05314769A/ja
Priority to US07/980,414 priority patent/US5451896A/en
Priority to DE4244555A priority patent/DE4244555C2/de
Priority to ITMI930595A priority patent/IT1272161B/it
Priority to KR93008065A priority patent/KR960009400B1/ko
Publication of JPH05314769A publication Critical patent/JPH05314769A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0214Particular design considerations for integrated circuits for internal polarisation, e.g. I2L
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/06Acceleration testing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 内部降圧機能を備える半導体集積回路装置に
おいて不必要にエージング試験を行なうためのエージン
グモードに入ることがなくかつエージングモードへは特
別に規定された外部制御信号のタイミング関係を利用す
ることなく容易かつ確実に入ることのできる半導体集積
回路装置を提供することを目的とする。 【構成】 半導体集積回路装置は外部電源電圧(外部V
cc)が所定の振幅で所定の回数トグルされたことを検
出してエージングモードイネーブル信号BEを発生する
エージングモードコントロール回路1と、このエージン
グモードイネーブル信号BEに応答して内部電源線20
上へ外部電源電圧(外部Vcc)の変化に従って変化す
る電圧を伝達する内部電圧降圧回路2を含む。この半導
体集積回路装置においては、外部電源電圧が或る一定の
振幅以上で一定回数振動されたときにのみエージングモ
ードへ移行する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体集積回路装置に
関し、特に、外部から与えられる外部電源電圧を降圧し
て内部電源電圧を発生する内部降圧回路を内蔵する半導
体集積回路装置に関する。より特定的には、この発明は
内部降圧回路を備える半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路装置の高集積化に伴って
素子がますます微細化されてきている。MOSトランジ
スタ(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)は、サイズ
の微細化に伴ってゲート絶縁膜が薄くなる。また、配線
間を絶縁するための層間絶縁膜も薄くなる。したがっ
て、従来と同様のたとえば5Vの外部電源電圧を動作電
源電圧として利用すると絶縁破壊などが生じ、集積回路
装置の信頼性が損なわれる。そこで、従来と同様の5V
の電源電圧で動作するシステムに利用される半導体記憶
装置などの半導体集積回路装置においては、外部電源電
圧を降圧して内部電源電圧を発生し、この内部電源電圧
を動作電源電圧として利用する方式がとられる。
【0003】内部電源電圧を発生する内部降圧回路は、
この外部電源電圧(外部Vcc)が予め定められた一定
の値(V0)より高くなってもそこから発生される内部
電源電圧(内部Vcc)はこの一定値(V0)のレベル
を保つように設計される。この内部電源電圧(内部Vc
c)を一定電圧値(V0)に保つ動作を「内部降圧を行
なう」と呼ぶ。
【0004】このような内部降圧回路は、DRAM(ダ
イナミック・ランダム・アクセス・メモリ)およびSR
AM(スタティック・ランダム・アクセス・メモリ)な
どの半導体記憶装置において通常設けられる。システム
電源を決定するマイクロプロセサなどの論理LSI(大
規模集積回路装置)の微細化が半導体記憶装置よりも遅
く、システム電源として5Vが依然用いられるためであ
る。
【0005】この内部降圧する目的は、上述の集積回路
装置内の内部回路の信頼性を確保するとともに消費電流
を低減することをも目的とする。消費電力は電圧の二乗
に比例する。したがって、動作電源電圧を低くすること
により消費電力を低減することができるためである。
【0006】図18は従来の内部降圧回路の構成を示す
図であり、たとえば日経BP社発行の日経マイクロデバ
イス1990年2月号の第117頁および第118頁の
図2および図8に示される。
【0007】図18において、従来の内部降圧回路は、
基準電圧V0を発生するための基準電圧発生回路500
と、この基準電圧V0に従って内部電源電圧(内部Vc
c)を発生する内部電圧発生回路550を含む。基準電
圧発生回路500は、外部電源電圧(外部Vcc)供給
ノードと出力ノード504との間に設けられる比較的大
きな抵抗値を有する抵抗素子501と、ノード504と
接地電位Vssとの間に直列に設けられる、x個のダイ
オード接続されたnチャネルMOSトランジスタ50
2、…、503を含む。このダイオード接続されたMO
Sトランジスタ502、…、503はそれぞれしきい値
電圧VTHを備える。出力ノード504からは基準電圧
V0として、x・VTHの電圧が発生される。
【0008】内部電圧発生回路550は、基準電圧V0
をゲートに受けるnチャネルMOSトランジスタ551
と、ノード559の内部電源電圧(内部Vcc)をゲー
トに受けるnチャネルMOSトランジスタ552と、ト
ランジスタ551および552の一方導通端子に結合さ
れる定電流源555と、外部電源電圧(外部Vcc)を
その一方導通端子に受けかつその他方導通端子がノード
557に接続されるpチャネルMOSトランジスタ55
3と、その一方導通端子に外部電源電圧(外部Vcc)
を受け、かつその他方導通端子がノード556に接続さ
れるpチャネルMOSトランジスタ554と、ノード5
57の電位に応答して外部電源電圧(外部Vcc)をノ
ード559へ伝達して内部電源電圧(内部Vcc)を発
生するためのpチャネルMOSトランジスタ558を含
む。ノード556はトランジスタ553および554の
ゲートに接続される。この内部電圧発生回路550は、
ノード559に発生する内部電源電圧(内部Vcc)を
フィードバックして基準電圧発生回路500からの基準
電圧V0と比較し、その比較結果に従ってpチャネルM
OSトランジスタ558を制御することにより内部電源
電圧(内部Vcc)の電位レベルを制御する。
【0009】図19は図18に示す内部降圧回路の動作
を示す波形図である。図19において、縦軸は内部電源
電圧(内部Vcc)を示し、横軸は外部電源電圧(外部
Vcc)を示す。次にこの図19に示す動作波形図を参
照して図18に示す内部降圧回路の動作について説明す
る。
【0010】外部電源電圧(外部Vcc)が0Vから所
定の基準電圧V0に到達するまでは、基準電圧発生回路
500からの基準電圧V0は外部電源電圧(外部Vc
c)に従って変化する。V0=x・VTHであるため、
トランジスタ502、…、503のいずれかがオフ状態
にあり、ノード504は抵抗501を介して充電される
ためである。
【0011】内部電圧発生回路550においては、この
基準電圧V0とノード559の内部電源電圧(内部Vc
c)との比較が行なわれる。ノード559へは、トラン
ジスタ558を介して、電源電圧ノード10を介して与
えられる外部電源電圧(外部Vcc)が伝達される。
【0012】ノード559の電圧が基準電圧V0よりも
高い場合には、トランジスタ552のコンダクタンスが
トランジスタ551のコンダクタンスよりも大きくな
り、ノード556の電位がノード557の電位よりも低
くなる。ノード556の電位はトランジスタ553およ
び554のゲートへフィードバックされる。これにより
ノード557の電位がさらに上昇し、トランジスタ55
8がオフ状態となる。
【0013】一方、基準電圧V0がノード559の電圧
よりも高い場合には、ノード557の電位レベルがロー
レベルとなり、トランジスタ558がオン状態となり、
電源電圧ノード10へ伝達された外部電源電圧Vccに
よるノード559の充電が行なわれる。
【0014】すなわち、この内部電源電圧発生回路55
0は、基準電圧V0とノード559に与えられる内部電
源電圧(内部Vcc)とを等しくする機能を備える。
【0015】外部電源電圧(外部Vcc)が基準電圧V
0よりも高くなった場合には、基準電圧発生回路500
からの基準電圧V0は一定電圧(x・VTH)となる。
したがってこの状態においては、ノード559から発生
される内部電源電圧(内部Vcc)は外部電源電圧(外
部Vcc)の電圧レベルの上昇にかかわらず、一定の基
準電圧V0に保持される。
【0016】一方、DRAMなどの半導体集積回路装置
においては、パーティクルなどに起因する初期不良をス
クリーニングするために加速試験(エージング試験)を
行なうことが不可欠である。この加速試験においては、
半導体集積回路装置を高電圧高温の条件下で動作させ、
潜在的な不良を顕在化させ初期不良を除去することが行
なわれる。
【0017】この加速試験(エージング試験)を行なう
ためには、集積回路装置の内部回路へ高電圧を印加する
ことが必要である。しかしながら上述のような内部降圧
回路を用いた場合、内部電源電圧は所定電圧V0よりも
高くならないため、内部回路のエージング試験を行なう
ことができない。そこで、このような内部降圧回路を備
える半導体集積回路装置においてエージング試験を行な
うための構成が種々提案されている。
【0018】図20ないし図22は、従来提案されてい
るエージング試験を実現する手法を示す図であり、たと
えば日経マイクロデバイス1991年10月号の第48
頁〜第52頁に示されている。図20ないし図22それ
ぞれにおいて、縦軸は内部電源電圧(内部Vcc)を示
し、横軸は外部電源電圧(外部Vcc)を示す。
【0019】以下、この図20ないし図22に示される
エージング試験を実現する方法について説明する。
【0020】図20に示す方法においては、外部電源電
圧(外部Vcc)が所定の電圧値V0に達すると内部降
圧回路のクランプ機能が作用し、内部電源電圧(内部V
cc)は一定電圧値V0に保持される。外部電源電圧
(外部Vcc)が或る電圧V1を超えるとエージング試
験を行なうエージングモードに入る。このエージングモ
ードにおいては、内部電源電圧(内部Vcc)は、V0
/V1の電圧比を保ちながら外部電源電圧(外部Vc
c)の上昇に従って上昇する。
【0021】図21に示すエージング試験実現方法は、
外部電源電圧(外部Vcc)が所定の電圧V1に到達し
た時点でエージング試験を行なうエージングモードに入
る。エージングモードに入ると、内部電源電圧(内部V
cc)は外部電源電圧(外部Vcc)の値に等しくな
る。この方法は、たとえば内部降圧回路を通さずに外部
電源電圧をエージングモード時に内部回路へ与えること
により実現される。
【0022】図22に示す方法は、外部電源電圧(外部
Vcc)が所定電圧V1よりも高くなるとエージングモ
ードに入る。内部電源電圧(内部Vcc)はエージング
モードにおいては、外部電源電圧(外部Vcc)より
(V1−V0)の電圧だけ低い電圧レベルを保ちながら
外部電源電圧(外部Vcc)に連動して変動する。
【0023】この図20ないし図22に示すエージング
試験実現方法は、以下の共通点を備える。すなわち外部
電源電圧(外部Vcc)が基準電圧V0に到達するまで
は内部電源電圧(内部Vcc)は外部電源電圧(外部V
cc)と共に上昇する。外部電源電圧(外部Vcc)が
基準電圧V0に到達すると内部降圧回路のクランプ機能
により一定の基準電圧V0の内部電源電圧が発生され
る。外部電源電圧(外部Vcc)がさらに高くなり、電
圧V1以上となるとエージングモードに入り、内部電源
電圧(内部Vcc)は外部電源電圧(外部Vcc)に連
動して上昇する。この上昇した内部電源電圧(内部Vc
c)に従ってエージング試験が行なわれる。
【0024】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
内部降圧回路を有する半導体集積回路装置は、外部電源
電圧(外部Vcc)が所定値以上となるとエージングモ
ードに入る。
【0025】半導体集積回路装置においては、製品出荷
時に選別試験が行なわれる。製品に要求される仕様値を
満たしていない不良製品を取り除くためである。この場
合、外部電源電圧の仕様値には、通常動作時に用いられ
る電源電圧に対しある許容範囲(たとえば10%)が設
定される。選別試験においては、動作マージンを見込ん
でこの許容範囲よりもさらに高い電源電圧が印加され
る。
【0026】したがって、この選別試験等において外部
電源電圧を高くした場合、半導体集積回路装置が自動的
にエージングモードに入る。この場合、内部回路に不必
要に高電圧が印加されるためストレスが生じ、この選別
試験により逆に製品の信頼性を劣化させるという問題が
生じる。
【0027】それゆえ、この発明の目的は、エージング
試験等が必要とされるときのみ内部電源電圧を昇圧する
ことのできる半導体集積回路装置を提供することであ
る。
【0028】この発明の他の目的は、通常の選別試験に
おいてエージングモードに入ることのない信頼性の高い
半導体集積回路装置を提供することである。
【0029】この発明のさらに他の目的は、余分のピン
端子を必要とせずかつ特定の外部制御信号の特別なタイ
ミング関係を要求することなく確実にエージングモード
に入る半導体記憶装置を提供することである。
【0030】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体集
積回路装置は、要約すれば、外部電源電圧が所定の振幅
で所定回数振動したときのみにエージングモードへ入
る。
【0031】すなわち、請求項1に係る半導体集積回路
装置は、電源ノードへ供給される第1の電源電圧から内
部電源電圧を発生する内部降圧手段と、この第1の電源
電圧が第2のレベルと第3のレベルとを横切って所定回
数振動したか否かを判別する手段を含む。内部降圧手段
は、第1の電源電圧が予め定められた第1のレベルより
も高くなった場合においても第1のレベルの電圧を内部
電源電圧として発生する手段を含む。
【0032】請求項1に係る半導体集積回路装置はさら
に、この判別手段からの所定回数振動検出信号に応答し
て、第1の電源電圧に従って変化する電圧へとこの内部
降圧手段からの内部電源電圧を変更する手段を含む。
【0033】請求項2に係る半導体集積回路装置は、こ
の電源電圧変更手段が、内部降圧手段からの内部電源電
圧に第1の電源電圧に従って変化する電圧を重畳する手
段を含む。
【0034】請求項3に係る半導体集積回路装置は、判
別手段からの所定回数振動検出信号に応答して、内部降
圧手段からの内部電源電圧に代えて第1の電源電圧に従
って変化する電圧を内部電源電圧として通過させる選択
手段を含む。
【0035】請求項4に係る半導体集積回路装置は、第
2のレベルが第1のレベルに近いレベルに設定されてお
り、判別手段が第1の電源電圧が第2のレベルを通過し
たときに所定回数振動検出信号を発生する手段を含む。
【0036】請求項5に係る半導体集積回路装置は、電
源ノードへ印加される第1の電源電圧から内部電源電圧
を発生する内部降圧手段と、第1の電源電圧に応答して
この第1の電源電圧よりも低くかつ第1の電源電圧に従
って変化する中間電圧を発生する中間電圧発生手段を含
む。内部降圧手段は、第1の電源電圧が第1のレベルよ
りも高いときには第1のレベルの電圧を内部電源電圧と
して発生する手段を含む。
【0037】請求項5に係る半導体集積回路装置はさら
に、第1の電源電圧が所定回数第2のレベルと第3のレ
ベルとを横切るようにトグルされたか否かを判別する判
別手段と、この判別手段からの所定回数トグル検出信号
に応答して、内部降圧手段からの内部電源電圧を中間電
圧発生手段からの中間電圧へ変更する手段を含む。
【0038】請求項6に係る半導体集積回路装置は、こ
の第2のレベルが第1のレベルに近く設定されており、
判別手段が第1の電源電圧が第2のレベルを通過したと
きにこの所定回数トグル検出信号を発生する手段を含
む。
【0039】
【作用】請求項1,2および3に係る半導体集積回路装
置においては、内部電源線へ与えられる電圧は、第1の
電源電圧が所定回数第2のレベルと第3のレベルとを横
切ったときに外部電源電圧に連動して変化する電圧とな
る。したがって、エージングモードに入る場合には、第
1の電源電圧を所定回数振動させる必要があり、エージ
ング試験等の必要時にのみ半導体集積回路装置をエージ
ングモードに設定することができ、通常の選別試験等に
おいて誤って半導体集積回路装置がエージングモードに
入るのを防止する。
【0040】請求項4に係る半導体集積回路装置におい
ては、第1の電源電圧が第1のレベルを横切ったときに
振動検出信号が発生される。したがって第1の電源電圧
が第1のレベルに近いときに内部電源電圧が外部電源電
圧に連動して変化する電圧となり、内部電源線における
電圧変化を緩やかにすることができ、電源線における急
激な電圧変化を防止することができ、内部回路の誤動作
を防止する。
【0041】請求項5に係る半導体集積回路装置におい
ては、第1の電源電圧が所定回数所定の振幅以上でトグ
ルされたときに内部降圧手段からの出力が中間電圧発生
手段からの中間電圧に変更されて内部電源線へ伝達され
る。これにより、エージングモードに入るためには、第
1の電源電圧を所定回数所定の振幅以上でトグルする必
要があり、誤って半導体集積回路装置がエージングモー
ドに入ることを防止する。
【0042】請求項6に係る発明においては、第1の電
源電圧が第1のレベルに近いときに内部電源電圧は中間
電圧に変更される。したがって、この内部電源線の電圧
が急激に変化することが防止され、内部電源線において
電圧スパイクなどのノイズが発生するのを防止し、内部
回路の誤動作を防止する。
【0043】
【実施例】
実施例1 図1はこの発明に従う半導体集積回路装置の全体の構成
を概略的に示すブロック図である。図1においては、半
導体集積回路装置として半導体記憶装置であるダイナミ
ック・ランダム・アクセス・メモリ(DRAM)が代表
的に示される。
【0044】図1において、半導体記憶装置は、電源ノ
ード10へ与えられる外部電源電圧(外部Vcc)をモ
ニタし、外部電源電圧(外部Vcc)が所定の振幅以上
で所定回数振動したときにエージングモードイネーブル
信号BEを発生するエージングモードコントロール回路
1と、外部電源電圧(外部Vcc)を受け、エージング
モードイネーブル信号BEに従って外部電源電圧(外部
Vcc)に従って変化する内部電圧を内部電源線20上
へ発生する内部電圧降圧回路を含む。
【0045】内部電圧降圧回路2は、エージングモード
イネーブル信号BEが不活性状態の場合には、外部電源
電圧Vccが所定の第1のレベルよりも高くなった場合
においても第1のレベルの内部電源電圧を発生する内部
降圧回路を含む。
【0046】半導体記憶装置はさらに、この内部電源線
20上の内部電源電圧(内部Vcc)を動作電源電圧と
して動作する内部回路3と、外部電源電圧(外部Vc
c)を動作電源電圧として動作する外部電源使用回路4
を含む。図1においては、外部電源使用回路4として、
装置外部とノード10を介してデータDQの授受を行な
う入出力回路が一例として示される。外部電源電圧(外
部Vcc)が印加される回路は、メモリセルアレイを除
く周辺回路すべてであってもよい。内部回路3は、メモ
リセルアレイを少なくとも含む。図1においては、内部
回路3が内部制御信号発生回路などの周辺回路を含む場
合が示される。この周辺回路は内部回路3に含まれず、
外部電源使用回路に含まれてもよい。
【0047】図1に示す半導体記憶装置は、外部からの
制御信号として、ノード12、13および14を介して
ロウアドレスストローブ信号/RAS、コラムアドレス
ストローブ信号/CASおよびライトイネーブル信号/
WEを受けかつノード15を介してアドレス信号A0〜
Anを受ける。接地電圧Vssはノード11を介して各
回路へ伝達される。
【0048】図2は、図1に示すエージングモードコン
トロール回路および内部電圧降圧回路のより具体的構成
を示すブロック図である。図2において、エージングモ
ードコントロール回路1は、外部電源電圧(外部Vc
c)が所定の振幅以上で(第2のレベルと第3のレベル
を横切って)トグルされたことを検出するための外部V
ccトグル検出回路41と、この外部Vccトグル検出
回路41からのトグル検出信号に応答してトグル数をカ
ウントし、このトグル数が所定値に達したときにエージ
ングモードイネーブル信号BEを発生するエージングモ
ード検出回路42と、外部電源電圧(外部Vcc)が所
定電圧以下のレベルになったときにリセット信号Rを発
生するエージングリセット回路43を含む。エージング
リセット回路43からのリセット信号Rはエージングモ
ード検出回路42へ与えられ、エージングモードイネー
ブル信号BEを不活性状態にする。
【0049】内部電圧降圧回路2は、外部電源電圧(外
部Vcc)から内部電源電圧(内部Vcc)を発生する
内部降圧機能(クランプ機能)を備える内部降圧回路2
2と、外部電源電圧(外部Vcc)からこの外部電源電
圧(外部Vcc)に依存して変化する電圧を発生する外
部Vcc依存電圧発生回路21を含む。この内部電圧降
圧回路2はエージングモードイネーブル信号BEに応答
して、内部電源電圧(内部Vcc)として外部Vcc依
存電圧発生回路21からの依存電圧を出力する。エージ
ングモードイネーブル信号BEは図2においては外部V
cc依存電圧発生回路21のみに与えられるように示さ
れる。
【0050】この内部電圧降圧回路2の具体的構成とし
ては、後に詳細に説明するが、種々の構成が考えられ
る。すなわちエージングモードイネーブル信号BEに従
って外部Vcc依存電圧発生回路21の出力を選択して
内部電源線20へ伝達し、エージングモードイネーブル
信号BEが不活性状態の場合には内部降圧回路22の出
力を内部電源線20へ伝達する選択回路が設けられても
よい。またエージングモードイネーブル信号BEに応答
して外部Vcc依存電圧発生回路21からの依存電圧が
内部降圧回路22からの内部降圧電圧と共に内部電源線
20へ伝達されてもよい。次に図3に示す動作波形図を
参照して図1および図2に示す半導体記憶装置の動作に
ついて説明する。
【0051】図1に示す内部回路3および外部電源使用
回路4の動作はエージングモード動作そのものについて
は無関係である。したがってエージングモードコントロ
ール回路1および内部電圧降圧回路2の動作についての
み説明する。
【0052】外部電源電圧(外部Vcc)が所定のリセ
ットレベルVRよりも高くなると、エージングリセット
回路43からのリセット信号Rが“L”レベルへ立下が
り、エージングモード検出回路42はリセット状態から
解放される。この外部電源電圧(外部Vcc)の電位上
昇に伴って内部降圧回路22から内部電源線20へ与え
られる内部電源電圧(内部Vcc)が上昇する。
【0053】外部電源電圧(外部Vcc)が所定の基準
電圧V0を超えると、内部降圧回路22の内部降圧機能
により、内部電源線上の内部電源電圧(内部Vcc)は
この基準電圧V0レベルに保持される。
【0054】外部電源電圧(外部Vcc)が第2のレベ
ルVSと第3のレベルVTを横切る毎に外部Vccトグ
ル検出回路41はトグル検出信号を発生する。すなわ
ち、外部Vccトグル検出回路41は、外部電源電圧
(外部Vcc)がこの第2のレベルVSと第3のレベル
VT以上の振幅をもって振動したときを検出する。エー
ジングモード検出回路42はこのトグル検出信号に従っ
てカウント動作を実行する。
【0055】外部電源電圧(外部Vcc)が所定回数振
動すると、エージングモード検出回路42はエージング
モードイネーブル信号BEを“H”に立上げる。好まし
くは、このエージングモードイネーブル信号BEは、外
部電源電圧(外部Vcc)が第2のレベルVSを通過し
たときに発生される。外部電源電圧(外部Vcc)が所
定の電圧レベル(第1のレベル)V0に近い状態でエー
ジングモードイネーブル信号BEを発生し、内部電源電
圧の切換による変動を少なくするためである。
【0056】エージングモードイネーブル信号BEに応
答して外部Vcc依存電圧発生回路21からの依存電圧
が内部電源線20上に伝達される。これにより、内部電
源線20上の内部電源電圧(内部Vcc)は外部電源電
圧(外部Vcc)に従って変化する。この外部電源電圧
(外部Vcc)が所定のエージング電圧に到達すると、
内部電源電圧も対応のエージング電圧となり、この半導
体記憶装置におけるエージング動作が実行される。
【0057】エージングモードの終了は外部電源電圧
(外部Vcc)をリセット電圧VR以下に低下させるこ
とにより実現される。この外部電源電圧(外部Vcc)
のリセット電圧VR以下への低下に応答してエージング
リセット回路43からのリセット信号Rが“H”に立上
がり、エージングモード検出回路42がリセットされ、
エージングモードイネーブル信号BEが不活性状態の
“L”となる。
【0058】上述のように外部電源電圧(外部Vcc)
が所定の振幅以上で所定回数振動したときのみエージン
グモードへ入るように構成することにより、単に外部電
源電圧(外部Vcc)を通常電源電圧レベルよりも高く
した場合の選別試験においてエージングモードへ入るこ
とがなく、内部回路3に必要以上のストレスが印加さ
れ、信頼性が低下するのを防止することができる。
【0059】また、外部電源電圧(外部Vcc)のトグ
ルのみによりエージングモードへ入るため、このエージ
ングモード設定用の余分のピン端子が必要とせず、また
信号/RAS、/CASおよび/WEの特別なタイミン
グ関係を要求する必要もなく、容易かつ確実に必要時に
のみエージングモードへ入ることができる。次に各回路
の詳細構成について順次説明する。
【0060】図4は、図1および図2に示すエージング
モードコントロール回路のより具体的な構成を示すブロ
ック図である。図4において、外部Vccトグル検出回
路41は、外部電源電圧(外部Vcc)を受け、その電
位レベルが第3のレベルVTよりも高くなったときを検
出する外部Vccハイレベル検出回路5と、外部電源電
圧(外部Vcc)が第2のレベルVSを超えたときを検
出する外部Vccローレベル検出回路6と、外部Vcc
ハイレベル検出回路5からの検出信号Aを受けるインバ
ータ回路I1と、インバータ回路I1と外部Vccロー
レベル検出回路6からの検出信号Bとを受けるNAND
型フリップフロップを含む。このフリップフロップはN
AND回路N1およびN2を含む。NAND回路N1は
その一方入力にインバータ回路I1の出力を受け、その
他方入力にNAND回路N2の出力を受ける。NAND
回路N2はその一方入力に外部Vccローレベル検出回
路6の出力信号Bを受け、その他方入力にNAND回路
N1の出力を受ける。外部Vccトグル検出回路41は
さらに、NAND回路N2の出力を受けるインバータ回
路I2を含む。インバータ回路I2から、外部電源電圧
(外部Vcc)が第2のレベルVSおよび第3のレベル
VTを横切って振動したことを示すトグル検出信号C0
が発生される。
【0061】エージングモード検出回路42は、n段の
縦続接続された1ビット2進カウンタ8−1〜8−nを
含む。初段のカウンタ回路8−1の入力INにトグル検
出信号C0が与えられる。各カウンタ回路の出力OUT
からの出力信号Ciは次段のカウンタ回路の入力INへ
与えられる。最終段のカウンタ回路8−nの出力OUT
から外部電源電圧(外部Vcc)が所定回数所定の振幅
以上でトグルされたことを示すカウントアップ信号Cn
が発生される。エージングモード検出回路42はさら
に、このカウンタ回路8−nからの信号Cnを受ける2
段の縦続されたインバータ回路I3およびI4を含む。
インバータ回路I4からエージングモードイネーブル信
号BEが発生される。このn段のカウンタ回路8−1〜
8−nは非同期型カウンタを構成し、それぞれ前段から
入力へ与えられた信号を1/2分周する機能を備える。
【0062】エージングリセット回路43は、外部電源
電圧(外部Vcc)がリセットレベルVR以下となった
ときを検出する外部Vccリセットレベル検出回路7を
含む。この外部Vccリセットレベル検出回路7からの
リセット信号Rはエージングモード検出回路42に含ま
れるカウンタ回路8−1〜8−nのリセット入力Rへ与
えられる。外部Vccハイレベル検出回路5は、外部電
源電圧(外部Vcc)が第3のレベルVTよりも高くな
ったときにその出力信号Aを“H”に立上げる。外部V
ccローレベル検出回路6は、外部電源電圧(外部Vc
c)が第2のレベルVSよりも高くなったときにその出
力信号Bを“H”に立上げる。NAND回路N1および
N2とインバータ回路I2はラッチ回路を構成する。こ
のラッチ回路からの出力C0は、ハイレベル検出信号A
が“H”のとき“H”となる(信号Aが“H”の場合に
は信号Bは“H”である)。
【0063】ローレベル検出信号Bが“L”の場合、こ
のラッチ回路の出力信号C0は“L”である。検出信号
Aが“L”、検出信号Bが“H”の場合、信号C0の状
態は変化せず、その前の状態を維持する。カウンタ回路
8−1〜8−nはその入力INに与えられた信号の立下
がりに応答してその出力状態を変化させる。したがっ
て、外部電源電圧(外部Vcc)が第2のレベルVSと
第3のレベルVTを所定回数振動した場合にエージング
モードイネーブル信号BEが発生される。
【0064】図5は図4に示す外部Vccハイレベル検
出回路5の具体的構成を示す図である。図5において、
外部Vccハイレベル検出回路5は、外部電源電圧(外
部Vcc)を供給するノード10とノードNAとの間に
直列に設けられるダイオード接続されたnチャネルMO
SトランジスタQ1a、Q2aおよびQ3aと、ノード
NAと接地電位Vssとの間に設けられる比較的大きな
抵抗値を有する抵抗REaを含む。ノードNAには、ト
ランジスタQ1a〜Q3aがすべてオン状態の場合に
は、外部電源電圧(外部Vcc)より3VTH低い電圧
が現われる。ここでトランジスタQ1a〜Q3aのしき
い値電圧をVTHとする。
【0065】外部Vccハイレベル検出回路5はさら
に、ノードNAに現われた電圧A0を受けるインバータ
回路I1aと、インバータ回路I1aの出力を受けるイ
ンバータ回路I2aを含む。インバータ回路I1a、I
2aは共に外部電源電圧(外部Vcc)を動作電源電圧
として動作する。インバータ回路I1aの入力しきい値
は外部電源電圧(外部Vcc)の1/2となるように設
定される。これはプルアップ用トランジスタおよびプル
ダウン用トランジスタを同一サイズで作製することによ
り実現される。したがって、インバータ回路I2aから
のハイレベル検出信号Aは、ノードNAの電圧A0がそ
のときの外部電源電圧(外部Vcc)の1/2のレベル
よりも高いか低いかにより“H”、“L”となる。
【0066】図6は、図4に示す外部Vccローレベル
検出回路6の具体的構成を示す図である。図6におい
て、外部Vccローレベル検出回路6は、電源ノード1
0と出力ノードNBとの間に直列に設けられるダイオー
ド接続されたnチャネルMOSトランジスタQ1bおよ
びQ2bと、ノードNBと接地電位との間に設けられる
ダイオード接続されたnチャネルMOSトランジスタQ
3bと抵抗REbと、ノードNBの電圧を受ける2段の
インバータ回路I1b、I2bを含む。抵抗REbは比
較的大きな抵抗値を有する。したがってノードNBに
は、電源ノード10へ与えられる外部電源電圧(外部V
cc)から2VTH低い電圧が現われる。ここで、トラ
ンジスタQ1bおよびQ2bのしきい値電圧をVTHと
する。インバータ回路I1bの入力しきい値は外部電源
電圧(外部Vcc)の1/2に設定される。したがっ
て、このローレベル検出信号Bは、ノードNBの電位B
0と外部電源電圧(外部Vcc)の2分の1のレベルと
の高低に応じて“H”および“L”となる。
【0067】図7は、図4に示す外部Vccリセットレ
ベル検出回路7の構成を示す図である。図7において、
外部Vccリセットレベル検出回路7は、ダイオード接
続された3個のnチャネルMOSトランジスタQ1r、
Q2rおよびQ3rと、比較的大きな抵抗値を有する抵
抗REcを含む。トランジスタQ1r〜Q3rと抵抗R
Ecは電源ノード10と接地電位Vssとの間に直列に
接続される。トランジスタQ1rとトランジスタQ2r
との間の接続点NCには、外部電源電圧(外部Vcc)
よりトランジスタQ1rのしきい値電圧VTH低い電圧
が現われる。外部Vccリセットレベル検出回路7はさ
らにこのノードNCの電圧を反転増幅するインバータ回
路I1rを含む。インバータ回路I1rの入力しきい値
は外部電源電圧(外部Vcc)の1/2のレベルに設定
される。
【0068】図8は図5ないし図7に示す検出回路5、
6および8の動作を示す信号波形図である。リセットレ
ベル検出信号Rは、外部電源電圧(外部Vcc)がリセ
ットレベルVR以上となったときに“L”となる。ロー
レベル検出信号Bは、外部電源電圧(外部Vcc)が所
定電圧の第2のレベルVS以上になったときに“H”と
なる。ハイレベル検出信号Aは、外部電源電圧(外部V
cc)が第3のレベルVT以上となったときに“H”と
なる。すなわち、検出信号A、Bは、ノードNAおよび
NBの電位A0およびB0がそれぞれ外部Vcc/2以
上となったときに“H”となる。リセットレベル検出信
号Rは、ノードCの電位/R0が外部Vcc/2以上と
なったときに“L”となる。これにより各外部電源電圧
のハイレベル(第3のレベル)、ローレベル(第2のレ
ベル)およびリセットレベルを正確に検出することがで
き、フリップフロップを含むラッチ回路により、外部電
源電圧(外部Vcc)のトグルを検出することができ
る。
【0069】図9は、図4に示すn段のカウンタ回路8
−1〜8−nの構成を示す図である。カウンタ回路8−
1〜8−nは同一構成を備える。
【0070】図9において、1ビット2進カウンタ8
は、リセット信号Rに応答してノードNO1へ電源電位
Vccを伝達するnチャネルMOSトランジスタQ7C
と、リセット信号Rに応答してノードNO3を接地電位
Vssへ放電するnチャネルMOSトランジスタQ9C
と、リセット信号Rに応答してノードNO2(出力ノー
ド)を接地電位Vssへ放電するnチャネルMOSトラ
ンジスタQ8Cと、リセット信号Rに応答してノードN
O4を接地電位Vssへ放電するnチャネルMOSトラ
ンジスタQ10Cを含む。トランジスタQ7Cへ与えら
れる電源電位Vccは外部電源電圧(外部Vcc)であ
ってもよく、また内部電源電圧(内部Vcc)であって
もよい。入力INへ与えられる信号C0は外部電源電圧
(外部Vcc)で動作する回路の出力であるため、外部
電源電圧(外部Vcc)で動作させるのが好ましい。
【0071】1ビット2進カウンタ8はさらに、入力I
Nに与えられる信号に応答してノードNO1とノードN
O3とを電気的に接続するnチャネルMOSトランジス
タQ1Cと、入力INへ与えられる信号を受けるインバ
ータ回路I3Cと、ノードNO3の電位に応答してオン
・オフするnチャネルMOSトランジスタQ5Cと、ノ
ードNO3と接地電位Vssとの間に設けられる容量C
D1と、インバータ回路I3Cの出力に応答して、トラ
ンジスタQ5CをノードNO1へ電気的に接続するため
のnチャネルMOSトランジスタQ2Cを含む。
【0072】1ビット2進カウンタ8はさらに、ノード
NO1の電位を反転・増幅してノードNO2へ伝達する
インバータ回路I1Cと、ノードNO2の信号電位を反
転増幅してノードNO1へ伝達するインバータ回路I2
Cを含む。インバータ回路I1CおよびI2Cはラッチ
回路を構成する。1ビット2進カウンタ8はさらに、入
力INに与えられる信号に応答してノードNO2とノー
ドNO4とを電気的に接続するためのnチャネルMOS
トランジスタQ4Cと、ノードNO4と接地電位Vss
との間に設けられる容量CD2と、ノードNO4の電位
に応答してオン・オフするnチャネルMOSトランジス
タQ6Cと、インバータ回路I3Cの出力に応答してノ
ードNO2とトランジスタQ6Cとを電気的に接続する
nチャネルMOSトランジスタQ3Cを含む。トランジ
スタQ5CおよびQ6Cは、ノードNO4およびNO3
が“H”レベルの場合に接地電位Vssレベルを伝達す
る。
【0073】この図9に示す1ビット2進カウンタ回路
8は、nチャネルMOSトランジスタQ1C〜Q6C
と、インバータ回路IC1、IC2と、容量CD1およ
びCD2によって構成されるダイナミックカウンタと、
内部ノードリセット用のnチャネルMOSトランジスタ
Q7C〜Q10Cを備える。次にこの図9に示す1ビッ
ト2進カウンタ回路8の動作をその動作を示すタイミン
グチャート図である図10を参照して説明する。
【0074】リセット信号Rが“H”の場合、ノードN
O1は電源電位Vccにより“H”となり、一方ノード
NO2、NO3およびNO4は、トランジスタQ8C、
Q9CおよびQ10Cによりそれぞれ接地電位Vssに
設定される。この状態では出力ノードOUTの電位レベ
ルは“L”である。
【0075】時刻S0においてリセット信号Rが“L”
に立下がると内部ノードNO1、NO2、NO3および
NO4のリセット状態が解放される。このリセット解放
時においては、ノードNO1が“H”レベル、ノードN
O2、NO3およびNO4は共に“L”のレベルにあ
る。
【0076】時刻S1において入力ノードINに与えら
れる信号が“L”から“H”に立上がる。これに応答し
て、トランジスタQ1Cがオン状態となり、ノードNO
1の“H”の電圧により容量CD1が充電され、ノード
NO3の電位が“H”となる。トランジスタQ4Cが同
様にオン状態となるが、ノードNO2は“L”レベルで
あり、ノードNO4の電位レベルは“L”である。イン
バータ回路I1CおよびI2Cはラッチ回路を構成して
おり、ノードNO1およびNO2をそれぞれ“H”およ
び“L”の状態にラッチしている。
【0077】時刻S2において入力ノードINに与えら
れる信号が“H”から“L”へ立下がる。これに応答し
て、トランジスタQ1CおよびQ4Cがオフ状態、トラ
ンジスタQ2CおよびトランジスタQ3Cがインバータ
回路I3Cの出力によりオン状態となる。ノードNO3
は“H”にあり、トランジスタQ5Cがオン状態であ
る。一方、ノードNO4は“L”にあり、トランジスタ
Q6Cはオフ状態にある。これにより、ノードNO1が
トランジスタQ2CおよびQ5Cを介して放電され
“L”となる。ノードNO2はインバータ回路I1Cに
より“H”となり、出力ノードOUTの信号電位が
“H”となる。時刻S3において再び入力ノードINの
信号が“H”へ立上がる。トランジスタQ1CおよびQ
4Cがオン状態となり、トランジスタQ2CおよびQ3
Cがオフ状態となる。ノードNO3がトランジスタQ1
Cを介してノードNO1に接続される。ノードNO1は
インバータ回路I2Cにより“L”に保持されている。
したがって容量CD1に保持されていた充電電荷が接地
電位Vssへと放電され、ノードNO3の電位レベルが
“L”へと立下がる。一方、ノードNO2はインバータ
回路I1Cにより“H”に保持されている。したがっ
て、トランジスタQ4Cを介してノードNO4が充電さ
れ、ノードNO4の電位が“H”となる。
【0078】時刻S4において入力ノードINに与えら
れる信号が“H”から“L”へ立下がる。これに応答し
て再びトランジスタQ1CおよびQ4Cがオフ状態、ト
ランジスタQ2CおよびQ3Cがオン状態となる。ノー
ドNO3は“L”レベル、ノードNO4は“H”レベル
である。したがってノードNO2がトランジスタQ3C
およびQ6Cを介して放電され、ノードNO2の電位が
“L”に立下がる。ノードNO2の電位はインバータ回
路I2Cにより反転・増幅されてノードNO1へ伝達さ
れ、ノードNO1の電位が“H”に立上がる。これによ
り出力ノードOUTの電位が“H”から“L”に立下が
る。
【0079】再び時刻S5において入力ノードINへ与
えられる信号が“L”から“H”へ立上がると、時刻S
1において行なわれた動作と同様の動作が行なわれ、ノ
ードNO3とノードNO4の電位が変化する。
【0080】時刻S6において入力ノードINに与えら
れる信号が“H”から“L”へ立下がると時刻S2にお
いて行なわれた動作と同様の動作が行なわれ、出力ノー
ドOUTの電位が“H”に立上がる。
【0081】時刻SRにおいてリセット信号Rが“H”
へ立上がると、トランジスタQ7C、Q8C、Q9Cお
よびQ10CによりノードNO1が“H”レベルに、ノ
ードNO2、NO3およびNO4が“L”のレベルにリ
セットされ、出力ノードOUTの電位も“L”となる。
これにより1ビット2進カウンタ回路8はリセット状態
となる。
【0082】上述のように、入力ノードINへ与えられ
る信号の“H”から“L”への変化に応答して出力ノー
ドOUTの信号電位が変化する。
【0083】次に、この図4に示すエージングモードコ
ントロール回路の全体の動作をそのタイミングチャート
である図11を参照して説明する。図11においては、
このn段のカウンタ回路8−1〜8−nは3段設けられ
ている場合(n=3)の動作が示される。
【0084】時刻t0において外部電源電圧(外部Vc
c)がリセットレベルVRよりも高くなるとリセット信
号Rが“L”に立下がる。この時刻t0において、エー
ジングモード検出回路42に含まれるカウンタ回路8−
1〜8−nがリセット状態から解放される。
【0085】時刻t1において、外部電源電圧(外部V
cc)が第2のレベルVSよりも高くなると、外部Vc
cローレベル検出回路6からの出力信号Bが“L”から
“H”へ立上がる。この時点ではまだハイレベル検出信
号Aは“L”である。したがって、図4に示すNAND
回路N1の出力は“L”であるため、NAND回路N2
の出力は“H”であり、したがってインバータ回路I2
からのトグル検出信号C0はまだ“L”である。ここ
で、内部降圧回路22の発生する内部電源電圧(内部V
cc)の第1のレベルV0は第2のレベルVSに近いレ
ベルであり、図においては、この第1のレベルV0は第
2のレベルVSよりも低い場合が一例として示される。
第1のレベルV0は第2のレベルVSよりも高いレベル
に設定されてもよい。第1のレベルV0と第2のレベル
VSとが近接していればよい。
【0086】時刻t2において外部電源電圧(外部Vc
c)が第3のレベルVTよりも高くなると、外部Vcc
ハイレベル検出回路5からのハイレベル検出信号Aが
“L”レベルから“H”へと立上がる。これに応答し
て、図4に示すNAND回路N1の出力信号が“H”と
なり、NAND回路N2の出力が“L”となり、インバ
ータ回路I2からの出力信号C0が“H”となる。カウ
ンタ回路8−1〜8−nはその入力ノードINに与えら
れる信号が“H”から“L”へ変化したときにカウント
アップ動作を行なう。したがってこの時刻t2において
は、カウンタ回路8−1〜8−nの出力信号C1、C
2、C3およびエージングモードイネーブル信号BEは
“L”のままである(ここでカウンタ回路は3段の場合
を想定している)。
【0087】時刻t3において、外部電源電圧(外部V
cc)が第3のレベルVTよりも低くなると、ハイレベ
ル検出信号Aが“H”から“L”へ立下がる。この場合
においても、図4に示すNAND回路N2の出力信号が
“L”であるため、インバータ回路I2の出力信号C0
の状態は変化しない。
【0088】時刻t4において、外部電源電圧(外部V
cc)が第2のレベルVSよりも低くなった時点で、ロ
ーレベル検出信号Bが“H”レベルから“L”レベルへ
と変化する。この時点で、図4に示すNAND回路N2
の出力信号が“L”から“H”へと変化し、信号C0が
“H”から“L”へと変化する。
【0089】この信号C0の“H”から“L”への変化
に応答して、カウンタ回路8−1からの出力C1が
“L”から“H”へと変化する。この時点においてはま
だ残りのカウンタ回路の出力信号C2およびC3(B
E)は変化しない。
【0090】上述のように、外部電源電圧(外部Vc
c)の電圧レベルが第2のレベルVSよりも低い電圧レ
ベルと第3のレベルVTよりも高い電圧レベルの間を変
動すると、信号C0が、外部電源電圧(外部Vcc)が
第3のレベルVTよりも高くなった時点で“H”とな
り、外部電源電圧(外部Vcc)が第2のレベルVSよ
りも低くなった時点で信号C0は“L”となる。信号C
0が“H”から“L”へと変化すると、1段目のカウン
タ回路8−1がカウントアップ動作を行ない、その出力
C1が変化する。
【0091】上述の動作を繰返して、時刻t5におい
て、信号C0が“L”へ立下がると、初段目のカウンタ
回路8−1の出力信号C1が“L”へと立下がり、2段
目のカウンタ回路8−2の出力信号C2が“H”へと立
上がる。
【0092】さらに時刻t6において、外部電源電圧
(外部Vcc)が第2のレベルVSを横切ると、信号C
0が“L”へ立下がり、信号C1が“H”へと立上が
る。
【0093】時刻tBにおいて、カウンタ8−1の出力
信号C1が“H”から“L”に変化すると、2段目のカ
ウンタ回路8−2の出力信号C2が“H”から“L”へ
と変化する。これに応答して、3段目(最終段)のカウ
ンタ回路8−3の出力信号C3が“L”から“H”へ変
化する。これに応答してエージングモードイネーブル信
号BEが“L”から“H”に立上がる。
【0094】すなわち、カウンタ回路8−1〜8−nが
3段の場合では、外部電源電圧(外部Vcc)が第2の
レベルVSと第3のレベルVTを超えて4回往復した時
点でエージングモードに入る。
【0095】ここで、上述のように、外部電源電圧(外
部Vcc)が第2のレベルVSよりも低くなった時点で
エージングモードイネーブル信号BEを発生すると、外
部電源電圧(外部Vcc)と内部降圧回路22が発生す
る内部電源電圧(内部Vcc)とをほぼ等しい値に設定
することが可能となる。これにより、エージングモード
に入るときに生じる動作電源電圧の変動を抑えることが
容易に実現される。すなわち、外部電源電圧(外部Vc
c)が低いレベルになったときにエージングモードに入
ると、外部電源電圧(外部Vcc)を緩やかに上昇させ
ることにより内部電源電圧(内部Vcc)をこの外部電
源電圧(外部Vcc)の変化に追随して緩やかに上昇さ
せることができ、内部電源線における電源電圧の変動を
小さくし、内部電源線に生じるノイズおよびそれに伴う
誤動作を防止することができる。
【0096】時刻tBにおいて、エージングモードに入
ると、内部電源電圧(内部Vcc)に対する内部降圧機
能が無効とされ、内部電源電圧(内部Vcc)は外部電
源電圧(外部Vcc)の変化に伴って上昇する。図11
においては、内部電源電圧(内部Vcc)と外部電源電
圧(外部Vcc)とが等しくなる状態が示される。この
図11に示す動作においては、内部電源電圧(内部Vc
c)は、外部電源電圧(外部Vcc)が0Vから上昇
し、第1のレベルV0の値を超えた時点でこの第1のレ
ベルV0の電圧値を保持する。時刻tBにおいてエージ
ングモードイネーブル信号BEが発生されエージングモ
ードに入ると、内部電源電圧(内部Vcc)は外部電源
電圧(外部Vcc)と等しい電圧値となる。
【0097】最後に、時刻tRにおいて、外部電源電圧
(外部Vcc)の電圧レベルがリセットレベルVRより
も低くなると、リセット信号Rが“H”となり、図4に
示すカウンタ回路8−1〜8−nがすべてリセットさ
れ、信号C3およびエージングモードイネーブル信号B
Eも“L”となり、この半導体記憶装置がエージングモ
ードから解放される。
【0098】ここで、図11においては、エージングモ
ード時において内部回路へ伝達されるエージング電圧は
第3の電圧レベルVTよりも低い状態が示される。この
エージング電圧は第3のレベルVTよりも高いレベルに
設定されてもよい。信号A、BおよびC0が“H”に立
上がるだけである。
【0099】図12は、内部電圧降圧回路の具体的構成
を示す図である。図12において、外部Vcc依存電圧
発生回路21は、エージングモードイネーブル信号BE
を受けるインバータ回路I5と、インバータ回路I5の
出力に応答して外部電源電圧(外部Vcc)を内部電源
線20へ伝達するpチャネルMOSトランジスタQP1
とを含む。内部降圧回路22からの降圧電圧は、また、
内部電源線20へ与えられる。
【0100】図12に示す内部電圧降圧回路の構成にお
いては、エージングモードイネーブル信号BEが“H”
に立上がると、pチャネルMOSトランジスタQP1が
オン状態となり、外部電源電圧(外部Vcc)が内部電
源線20へ伝達される。この図12に示す構成の場合、
内部電源線20上に現われる内部電源電圧(内部Vc
c)は、エージングモード時においては、外部電源電圧
(外部Vcc)と等しくなる。図11に示すように、エ
ージングモードイネーブル信号BEは、外部電源電圧
(外部Vcc)が第2のレベルVSを横切ったときに発
生される。第2のレベルVSは、内部降圧回路22がク
ランプする第1のレベルV0に近い。したがって、図2
1に示す従来の方法に比べて、内部電源線20における
電圧変動を小さくすることができる。すなわち、外部電
源電圧(外部Vcc)をこの第1のレベルV0付近から
緩やかに所望のエージング電圧まで上昇させることによ
り、内部電源線20上の電圧はこの外部電源電圧(外部
Vcc)の変動に追随して変動し、ノイズ発生に起因す
る誤動作を防止することができる。
【0101】図13は、内部電圧降圧回路の他の構成を
示す図である。図13(A)において、外部Vcc依存
電圧発生回路21は、エージングモードイネーブル信号
BEに応答して、外部電源電圧(外部Vcc)を内部電
源線20へ伝達するnチャネルMOSトランジスタQn
1を含む。エージングモード時においては、エージング
モードイネーブル信号BEは外部電源電圧(外部Vc
c)レベルの信号となる(エージングモードコントロー
ル回路は外部電源電圧(外部Vcc)を動作電源電圧と
して動作する)。したがって、内部電源線20へは、外
部電源電圧(外部Vcc)からトランジスタQn1のし
きい値電圧より低い電圧が伝達される。この場合におい
ても、内部電源線20には、エージングモード時に外部
電源電圧(外部Vcc)の変化に従って変化する電圧が
現われ、所望のエージング電圧を内部電源線20上に伝
達することができる。
【0102】実施例2 図13(B)は内部電圧降圧回路のさらに他の構成例を
示す図である。図12および図13(A)に示す構成に
おいては、エージングモード時において、内部降圧回路
22からの降圧電圧と外部電源電圧(外部Vcc)に依
存する電圧とが重畳して内部電源線20へ与えられてい
る。図13(B)は、この外部電源電圧(外部Vcc)
と内部降圧回路22からの降圧電圧の一方のみをエージ
ングモードイネーブル信号BEに従って内部電源線20
へ伝達する。このため、エージングモードイネーブル信
号BEに応答してその入力を切換える切換回路の機能を
有する外部Vcc依存電圧発生回路21が設けられる。
回路21の具体的構成としては、たとえば図12に示す
構成において、内部降圧回路22の出力部にエージング
モードイネーブル信号BEをゲートに受けるpチャネル
MOSトランジスタが設けられる構成が用いられてもよ
い。他の2入力1出力のマルチプレクス回路の構成が利
用されてもよい。
【0103】実施例3 図14は内部電圧降圧回路2のさらに他の構成を示す図
である。図14において、内部電圧降圧回路2は、外部
電源電圧(外部Vcc)に従って変化しかつこの外部電
源電圧(外部Vcc)よりも低い中間電圧を発生する中
間電圧発生回路210と、内部降圧回路22と、エージ
ングモードイネーブル信号BEに従って中間電圧発生回
路210からの中間電圧と内部降圧回路22からの降圧
電圧の一方を選択して内部電源線20へ伝達する選択回
路212を含む。中間電圧発生回路210と選択回路2
12は、図2に示す外部Vcc依存電圧発生回路21に
対応する。
【0104】中間電圧発生回路210は、第1の基準電
圧Vr1を発生する回路と、第2の基準電圧Vr2を発
生する回路とを含む。第1の基準電圧Vr1を発生する
回路は、外部電源電圧(外部Vcc)供給ノードとノー
ドNO6との間に設けられる抵抗R1と、ノードNO6
とノードNO5との間に設けられるダイオード接続され
たnチャネルMOSトランジスタQn2と、ノードNO
5にそのゲートおよび一方導通端子が接続されるnチャ
ネルMOSトランジスタQn3と、トランジスタQn3
の他方導通端子と接地電位Vssとの間に設けられる抵
抗R2を含む。トランジスタQn2およびQn3はダイ
オードとして機能し、その導通状態時にそのしきい値電
圧VTHNの電圧降下を与える。抵抗R1およびR2は
十分大きな抵抗値を有する。ノードNO5と外部電源電
圧(外部Vcc)供給ノードの間には抵抗素子R1とト
ランジスタQn2が直列に設けられており、ノードNO
5と接地電位Vssとの間にはトランジスタQn3と抵
抗R2が直列に設けられる。したがって、ノードNO5
には、(R2/(R1+R2))・Vccの電圧が発生
する。ここでVccは外部電源電圧(外部Vcc)であ
る。したがって、ノードNO6からの第1の基準電圧V
r1は、 Vr1=R2・Vcc/(R1+R2)+VTHN となる。
【0105】第2の基準電圧Vr2を発生する回路は、
ノードNO7と外部電源電圧(外部Vcc)供給ノード
との間に直列に接続される抵抗R1およびダイオード接
続されたpチャネルMOSトランジスタQP2と、ノー
ドNO7と接地電位Vssとの間に直列に接続されるダ
イオード接続されたpチャネルMOSトランジスタQP
3と抵抗R2を含む。トランジスタQP2およびQP3
はそれぞれ、そのしきい値電圧|VTHP|の電圧降下
を与える。この場合、ノードNO7の電圧は、R2・V
cc/(R1+R2)となる。したがってノードNO8
の電圧Vr2は、 Vr2=R2・Vcc/(R1+R2)−|VTHP| となる。
【0106】中間電圧発生回路210はさらに、外部電
源電圧(外部Vcc)供給ノードとノードNO9との間
に設けられ、第1の基準電圧Vr1をそのゲートに受け
るnチャネルMOSトランジスタQn4と、ノードNO
9と接地電位Vssとの間に設けられ、そのゲートに第
2の基準電圧Vr2を受けるpチャネルMOSトランジ
スタQP4を含む。MOSトランジスタは、そのソース
とゲートとの間に電位差がしきい値電圧以上となったと
きに導通状態となり電流を供給する。したがって、トラ
ンジスタQn4は、ノードNO9の電位がR2・Vcc
/(R1+R2)よりも高くなるとオフ状態となる。ト
ランジスタQP4は、ノードNO9の電位がR2・Vc
c/(R1+R2)よりも低くなるとオフ状態となる。
このトランジスタQn4およびQP4の機能により、ノ
ードNO9にはR2・Vcc/(R1+R2)の中間電
圧が安定に発生される。
【0107】選択回路212は、エージングモードイネ
ーブル信号BEを受けるインバータ回路I6と、エージ
ングモードイネーブル信号BEとインバータ回路I6の
出力に応答して、内部降圧回路22の発生する降圧電圧
を内部電源線20へ伝達するためのCMOSトランスミ
ッションゲートを構成するnチャネルMOSトランジス
タQn6およびQP6と、エージングモードイネーブル
信号BEとインバータ回路I6の出力に応答して中間電
圧発生回路210からの中間電圧を内部電源線20へ伝
達するためのCMOSトランスミッションゲートを構成
するpチャネルMOSトランジスタQP5およびQn5
を含む。トランジスタQn5およびQP6のゲートへエ
ージングモードイネーブル信号BEが与えられ、トラン
ジスタQP5およびQn6のゲートへインバータ回路I
6の出力が与えられる。インバータ回路I6の出力の
“H”レベルは外部電源電圧(外部Vcc)レベルであ
る。
【0108】通常動作時(選別試験を含む)の場合に
は、エージングモードイネーブル信号BEは“L”であ
る。このとき、トランジスタQn5およびQP5がオフ
状態となり、トランジスタQP6およびQn6がオン状
態となる。したがって、内部電源線20には、内部降圧
回路22からの降圧電圧が伝達される。
【0109】エージングモード時においては、エージン
グモードイネーブル信号BEが“H”となり、トランジ
スタQn5およびQP5がオン状態、トランジスタQP
6およびQn6がオフ状態となる。したがって、内部電
源線20にはノードNO9へ現われる中間電圧発生回路
210からの中間電圧R2・Vcc/(R1+R2)が
伝達される。このエージングモード時においては、内部
電源線20に現われる電圧は、外部電源電圧(外部Vc
c)に連動して変化する。
【0110】図15は、内部電圧降圧回路のさらに他の
構成を示す図である。図15において、内部電圧降圧回
路2は、内部降圧回路22と、中間電圧発生回路214
と、選択回路216を含む。
【0111】中間電圧発生回路214は、第1の基準電
圧Vr1を発生するための抵抗R1およびR2とダイオ
ード接続されたnチャネルMOSトランジスタQn2お
よびQn3と、第2の基準電圧Vr2を発生するための
抵抗R1、R2およびダイオード接続されたpチャネル
MOSトランジスタQP2およびQP3と、第1の基準
電圧Vr1をゲートに受けるnチャネルMOSトランジ
スタQn4と、第2の基準電圧Vr2をゲートに受ける
pチャネルMOSトランジスタQP4と、エージングモ
ードイネーブル信号BEをインバータ回路I6を介して
ゲートに受けて外部電源電圧(外部Vcc)をトランジ
スタQn4へ伝達するpチャネルMOSトランジスタQ
P50と、エージングモードイネーブル信号BEをゲー
トに受けて接地電位VssをトランジスタQP4へ伝達
するnチャネルMOSトランジスタQn50を含む。こ
の中間電圧発生回路214は、エージングモードイネー
ブル信号BEによりその出力状態が制御されるクロック
ドCMOS構成を備える。
【0112】選択回路216は、エージングモードイネ
ーブル信号BEに応答して内部降圧回路22の出力を内
部電源線20へ伝達するためのCMOSトランスミッシ
ョンゲートを構成するpチャネルMOSトランジスタQ
P6およびnチャネルMOSトランジスタQn6を含
む。トランジスタQP6のゲートにエージングモードイ
ネーブル信号BEが与えられ、トランジスタQn6のゲ
ートにインバータ回路I6の出力が与えられる。
【0113】エージングモードイネーブル信号BEが
“L”の状態では、トランジスタQP50およびQn5
0が共にオフ状態となり、中間電圧発生回路214は中
間電圧の発生が禁止される。一方、選択回路216で
は、トランジスタQP6およびQn6が共にオン状態と
なる。これにより、内部降圧回路22からの降圧電圧が
内部電源線20へ伝達される。
【0114】エージングモード時において、エージング
モードイネーブル信号BEが“H”にある状態において
は、トランジスタQP50およびQn50がオン状態、
トランジスタQP6およびQn6がオフ状態となる。こ
れにより中間電圧発生回路214は所定の中間電圧を発
生して内部電源線20へ与える。トランジスタQP6お
よびQn6は共にオフ状態であるため、内部降圧回路2
2の出力は内部電源線20へは伝達されない。
【0115】実施例4 図4に示す外部Vccのハイレベル、ローレベルおよび
リセットレベルを検出するための回路はそれぞれ図5、
図6および図7に示すようにそれぞれ個別の回路で構成
されるように説明している。しかしながら、この3つの
レベル検出回路は1つの回路構成で実現することもでき
る。
【0116】図16は外部Vccレベル検出回路の他の
構成を示す図である。図16において、外部Vccレベ
ル検出回路は、外部電源電圧(外部Vcc)供給ノード
10と接地電位Vssとの間に直列に接続される、3段
のダイオード接続されたnチャネルMOSトランジスタ
Qn7、Qn8およびQn9と大きな抵抗値を有する抵
抗REを含む。抵抗REの抵抗値は十分大きいため、こ
のトランジスタQn7、Qn8およびQn9はそれぞれ
そのしきい値電圧VTHの電圧降下を与える。
【0117】外部Vccレベル検出回路はさらに、ノー
ドA0(トランジスタQn7とトランジスタQn8との
接続点)の信号を受けるインバータ回路I7と、インバ
ータ回路I8の出力を受けて外部Vccハイレベル検出
信号Aを発生するインバータ回路I8と、ノードB0
(トランジスタQn8とトランジスタQn9の接続点)
の信号を受けるインバータ回路I9と、インバータ回路
I9の出力を受けて外部Vccローレベル検出信号Bを
発生するインバータ回路I10と、ノード/R0(抵抗
RとトランジスタQn9との接続点)の信号を受けるイ
ンバータ回路I11を含む。インバータ回路I7、I9
およびI11はそれぞれその入力論理しきい値が外部電
源電圧(外部Vcc)の1/2に設定される。この図1
6に示す構成においては、外部電源電圧(外部Vcc)
に対するハイレベル、ローレベルおよびリセットレベル
はそれぞれしきい値電圧VTHの差を有する。
【0118】この外部Vccレベル検出回路は、3段の
nチャネルMOSトランジスタに代えて、任意の数のダ
イオード接続されたnチャネルMOSトランジスタが用
いられてもよい。この場合任意の接続ノードから基準電
圧A0、B0、および/R0が取出されてもよい。この
図16に示す外部Vccレベル検出回路の構成において
も、確実に外部電源電圧(外部Vcc)のトグル回数を
検出することができる。
【0119】図17はこの外部Vccレベル検出回路の
さらに他の構成を示す図である。図17に示す外部Vc
cレベル検出回路は、基準信号A0、B0および/R0
を発生するために、ダイオード接続されたpチャネルM
OSトランジスタQP7、QP8、およびQP9が設け
られる。他の構成は図16に示すものと同様である。こ
の場合においても、各トランジスタQP7、QP8、お
よびQP9によりそのしきい値電圧の絶対値|VTHP
|の電圧降下が生じるため、確実に外部電源電圧(外部
Vcc)のハイレベル、ローレベルおよびリセットレベ
ルを検出することができる。図17に示す構成において
も、ダイオード接続されるpチャネルMOSトランジス
タの段数は任意であり、また基準信号A0、B0、およ
び/R0を取出す接続ノードは任意である。
【0120】なお、上述の実施例においてはDRAMが
説明されている。しかしながら、SRAMなどの他の半
導体記憶装置であってもよい。また半導体記憶装置にか
かわらず、外部電源電圧(外部Vcc)から内部電源電
圧を取出す内部降圧回路を備える半導体集積回路装置で
あればよい。
【0121】さらに、上述の説明においては、エージン
グ試験を行なうために内部動作電源電圧を切換える構成
を示している。この場合、加速試験(エージング試験)
にかかわらず、内部電源電圧を上昇させる必要のある動
作モードであっても上記実施例と同様の効果を得ること
ができる。
【0122】
【発明の効果】以上のように、この請求項1ないし6記
載の発明によれば、外部電源電圧(外部Vcc)を所定
の振幅以上で予め定められた回数トグルすることにより
内部動作電源電圧を外部電源電圧(外部Vcc)に連動
して変化させるように構成したため、確実に所望のエー
ジングモードなどのように必要とされるときにのみ内部
動作電源電圧を昇圧させることができ、誤って内部回路
に必要以上のストレスが与えられ半導体集積回路装置の
信頼性を低下させることが防止される。またこの場合、
単に外部電源電圧のトグルにより内部電源電圧を外部電
源電圧に連動して上昇させているため、このエージング
モードなどの特定の動作モードのために新しい余分のピ
ン端子を設ける必要がなく、また外部からの制御信号の
特定のタイミング条件をも必要としないため、半導体集
積回路装置に不必要なタイミング設定条件を設ける必要
がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に従う半導体集積回路装置の全体の構
成を概略的に示すブロック図である。
【図2】この発明による半導体集積回路装置の要部の構
成を概略的に示すブロック図である。
【図3】この発明による半導体集積回路装置の動作を示
す信号波形図である。
【図4】図2に示す回路のより具体的な構成を示す図で
ある。
【図5】図4に示す外部Vccハイレベル検出回路の具
体的構成を示す図である。
【図6】図4に示す外部Vccローレベル検出回路の具
体的構成を示す図である。
【図7】図4に示す外部Vccリセットレベル検出回路
の具体的構成を示す図である。
【図8】図5、図6および図7に示すレベル検出回路の
動作を示す信号波形図である。
【図9】図4に示すカウンタ回路の具体的構成を示す図
である。
【図10】図9に示すカウンタ回路の動作を示すタイミ
ングチャート図である。
【図11】図4に示すエージングモードコントロール回
路の動作を示すタイミングチャート図である。
【図12】図1に示す内部電圧降圧回路の具体的構成を
示す図である。
【図13】図1に示す内部電圧降圧回路の他の構成例を
示す図である。
【図14】内部電圧降圧回路のさらに他の構成を示す図
である。
【図15】図14に示す内部電圧降圧回路の変更例を示
す図である。
【図16】図4に示す外部Vccハイレベル検出回路、
外部Vccローレベル検出回路および外部Vccリセッ
トレベル検出回路の他の構成を示す図である。
【図17】図16に示す外部Vccレベル検出回路の他
の構成例を示す図である。
【図18】従来の内部降圧回路の構成を示す図である。
【図19】従来の内部降圧回路の入出力特性を示す波形
図である。
【図20】従来のエージングモード時における外部電源
電圧と内部電源電圧との関係を示す図である。
【図21】従来のエージングモード時における内部電源
電圧と外部電源電圧との他の対応関係を示す図である。
【図22】従来のエージングモード時における内部電源
電圧と外部電源電圧とのさらに他の対応関係を示す図で
ある。
【符号の説明】
1 エージングモードコントロール回路 2 内部電圧降圧回路 3 内部回路 4 外部電源使用回路 5 外部Vccハイレベル検出回路 6 外部Vccローレベル検出回路 7 外部Vccリセットレベル検出回路 8,8−1〜8−n カウンタ回路 20 内部電源線 21 外部Vcc依存電圧発生回路 22 内部降圧回路 41 外部Vccトグル検出回路 42 エージングモード検出回路 43 エージングリセット回路 210 中間電圧発生回路 212 選択回路 214 中間電圧発生回路 216 選択回路

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部電源線に与えられる電圧を動作電源
    電圧として動作する回路を含む半導体集積回路装置であ
    って、 電源ノードへ印加される第1の電源電圧から内部電源電
    圧を発生する内部降圧手段を備え、前記内部降圧手段は
    前記第1の電源電圧が予め定められた第1のレベルより
    高いときに前記第1のレベルの電圧を前記内部電源電圧
    として発生する手段を含み、 前記第1の電源電圧に従って変化する電圧を発生するた
    めの電圧発生手段、 前記第1の電源電圧が第2のレベルと第3のレベルとを
    横切って所定回数振動したか否かを判別する判別手段、
    および前記判別手段からの所定回数振動検出信号に応答
    して、前記電圧発生手段からの電圧へと前記内部電源線
    の電圧を変更する内部電源電圧変更手段を含む、半導体
    集積回路装置。
  2. 【請求項2】 前記内部電源電圧変更手段は、前記内部
    降圧手段からの前記内部電源電圧に前記電圧発生手段か
    らの電圧を重畳して前記内部電源線へ伝達する手段を含
    む、請求項1記載の半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 前記内部電源電圧変更手段は、前記内部
    降圧手段からの内部電源電圧に代えて前記電圧発生手段
    からの電圧を前記内部電源線へ伝達する手段を含む、請
    求項1記載の半導体集積回路装置。
  4. 【請求項4】 前記第2のレベルは前記第1のレベルに
    近いレベルであり、 前記判別手段は、前記第1の電源電圧が前記第2のレベ
    ルを通過したときに前記所定回数振動検出信号を発生す
    る手段を含む、請求項1記載の半導体集積回路装置。
  5. 【請求項5】 内部電源線へ与えられる電圧を動作電源
    電圧として動作する回路を含む半導体集積回路装置であ
    って、 電源ノードへ印加される第1の電源電圧から内部電源電
    圧を発生する内部降圧手段を備え、前記内部降圧手段は
    前記第1の電源電圧が第1のレベルよりも高いときに前
    記第1のレベルの電圧を前記内部電源電圧として発生す
    る手段を含み、 前記第1の電源電圧に応答して、前記第1の電源電圧の
    変化に従って変化しかつ前記第1の電源電圧よりも低い
    レベルの中間電圧を発生する中間電圧発生手段、 前記第1の電源電圧が第2のレベルと第3のレベルとを
    横切るように所定回数トグルされたか否かを判別する判
    別手段、および前記判別手段からの所定回数トグル検出
    信号に応答して、前記内部電源線上の電圧を前記内部降
    圧手段からの前記内部電源電圧から前記中間電圧発生手
    段からの中間電圧へ変更する内部電圧変更手段を備え
    る、半導体集積回路装置。
  6. 【請求項6】 前記第2のレベルは前記第1のレベルに
    近いレベルであり、 前記判別手段は、前記第1の電源電圧が前記第2のレベ
    ルを横切ったときに前記所定回数トグル検出信号を発生
    する手段を含む、請求項5記載の半導体集積回路装置。
JP4120455A 1992-05-13 1992-05-13 半導体集積回路装置 Withdrawn JPH05314769A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4120455A JPH05314769A (ja) 1992-05-13 1992-05-13 半導体集積回路装置
US07/980,414 US5451896A (en) 1992-05-13 1992-11-20 Semiconductor integrated circuit device with an internal voltage-down converter
DE4244555A DE4244555C2 (de) 1992-05-13 1992-12-31 Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung und Verfahren zum Durchführen eines Beschleunigungstests ("burn-in")
ITMI930595A IT1272161B (it) 1992-05-13 1993-03-26 Dispositivo a circuito integrato a semiconduttore con un convertitore riduttore di tensione interno
KR93008065A KR960009400B1 (en) 1992-05-13 1993-05-11 Semiconductor integrated circuit device with an internal voltage down converter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4120455A JPH05314769A (ja) 1992-05-13 1992-05-13 半導体集積回路装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05314769A true JPH05314769A (ja) 1993-11-26

Family

ID=14786607

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4120455A Withdrawn JPH05314769A (ja) 1992-05-13 1992-05-13 半導体集積回路装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5451896A (ja)
JP (1) JPH05314769A (ja)
KR (1) KR960009400B1 (ja)
DE (1) DE4244555C2 (ja)
IT (1) IT1272161B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030038329A (ko) * 2001-11-01 2003-05-16 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 반도체 장치
US6885235B2 (en) 2001-07-06 2005-04-26 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device with internal power supply potential generation circuit
US7205682B2 (en) 2003-03-14 2007-04-17 Oki Electric Industry Co., Ltd. Internal power supply circuit

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08101260A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US5541551A (en) * 1994-12-23 1996-07-30 Advinced Micro Devices, Inc. Analog voltage reference generator system
KR0165386B1 (ko) * 1995-04-24 1999-02-01 김광호 반도체장치의 내부 승압회로
US6416714B1 (en) 1995-04-25 2002-07-09 Discovery Partners International, Inc. Remotely programmable matrices with memories
US6329139B1 (en) 1995-04-25 2001-12-11 Discovery Partners International Automated sorting system for matrices with memory
US6017496A (en) 1995-06-07 2000-01-25 Irori Matrices with memories and uses thereof
US5751629A (en) 1995-04-25 1998-05-12 Irori Remotely programmable matrices with memories
US6331273B1 (en) 1995-04-25 2001-12-18 Discovery Partners International Remotely programmable matrices with memories
US5874214A (en) 1995-04-25 1999-02-23 Irori Remotely programmable matrices with memories
US5719524A (en) * 1995-10-11 1998-02-17 Telcom Semiconductor, Inc. Circuit having an input terminal for controlling two functions
KR0167261B1 (ko) * 1995-10-19 1999-04-15 문정환 전원공급 제어회로
JP2885187B2 (ja) * 1996-05-17 1999-04-19 日本電気株式会社 半導体記憶装置
US6198339B1 (en) * 1996-09-17 2001-03-06 International Business Machines Corporation CVF current reference with standby mode
KR100197998B1 (ko) * 1996-10-22 1999-06-15 김영환 반도체 장치의 저소비 전력 입력 버퍼
JP3963990B2 (ja) * 1997-01-07 2007-08-22 株式会社ルネサステクノロジ 内部電源電圧発生回路
JP3022815B2 (ja) * 1997-07-24 2000-03-21 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 中間電位生成回路
US6023176A (en) * 1998-03-27 2000-02-08 Cypress Semiconductor Corp. Input buffer
JP2001035199A (ja) * 1999-07-26 2001-02-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6515934B2 (en) 1999-07-26 2003-02-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device including internal potential generating circuit allowing tuning in short period of time and reduction of chip area
US7075284B2 (en) * 2002-07-08 2006-07-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Time limit function utilization
CN1723601A (zh) * 2002-12-10 2006-01-18 皇家飞利浦电子股份有限公司 集成的半桥功率电路
JP2007095075A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Hynix Semiconductor Inc 内部電圧生成装置
NL1032063C2 (nl) * 2006-06-27 2008-01-02 Maasland Nv Combinatie van een melkbeker en een flexibele melkslang, koppelstuk, alsmede werkwijze voor het bewaken van integriteit van flexibele melkslang.
KR100784908B1 (ko) 2006-08-11 2007-12-11 주식회사 하이닉스반도체 전압 조절 장치
US7793119B2 (en) * 2006-12-21 2010-09-07 Texas Instruments Incorporated Adaptive voltage scaling with age compensation
KR100863015B1 (ko) * 2007-05-11 2008-10-13 주식회사 하이닉스반도체 전압 안정화 회로 및 이를 이용한 반도체 메모리 장치
US8446187B1 (en) * 2007-11-16 2013-05-21 National Semiconductor Corporation Apparatus and method for power-on reset circuit with current comparison
US8736314B2 (en) * 2011-03-22 2014-05-27 Wisconsin Alumni Research Foundation Leakage power management using programmable power gating transistors and on-chip aging and temperature tracking circuit
US10371745B2 (en) * 2014-01-23 2019-08-06 Micron Technology, Inc. Overheat protection circuit and method in an accelerated aging test of an integrated circuit
WO2020078265A1 (en) * 2018-10-16 2020-04-23 Changxin Memory Technologies, Inc. Data channel aging circuit, memory and aging method
CN109087684B (zh) * 2018-10-16 2023-09-12 长鑫存储技术有限公司 数据通道老化电路、存储器及其老化方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4428020A (en) * 1981-10-14 1984-01-24 Scm Corporation Power supply sensing circuitry
JPS60176121A (ja) * 1984-02-22 1985-09-10 Toshiba Corp 電圧降下回路
JPS61163655A (ja) * 1985-01-14 1986-07-24 Toshiba Corp 相補型半導体集積回路
JPH07113863B2 (ja) * 1985-06-29 1995-12-06 株式会社東芝 半導体集積回路装置
JP2721151B2 (ja) * 1986-04-01 1998-03-04 株式会社東芝 半導体集積回路装置
JPS6370451A (ja) * 1986-09-11 1988-03-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
JPS6455857A (en) * 1987-08-26 1989-03-02 Nec Corp Semiconductor integrated device
JP2688976B2 (ja) * 1989-03-08 1997-12-10 三菱電機株式会社 半導体集積回路装置
US5184031A (en) * 1990-02-08 1993-02-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit
JP2888898B2 (ja) * 1990-02-23 1999-05-10 株式会社日立製作所 半導体集積回路
JPH0447591A (ja) * 1990-06-14 1992-02-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
US5187396A (en) * 1991-05-22 1993-02-16 Benchmarq Microelectronics, Inc. Differential comparator powered from signal input terminals for use in power switching applications
JP2945508B2 (ja) * 1991-06-20 1999-09-06 三菱電機株式会社 半導体装置
KR930008886B1 (ko) * 1991-08-19 1993-09-16 삼성전자 주식회사 전기적으로 프로그램 할 수 있는 내부전원 발생회로

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6885235B2 (en) 2001-07-06 2005-04-26 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device with internal power supply potential generation circuit
KR20030038329A (ko) * 2001-11-01 2003-05-16 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 반도체 장치
US7205682B2 (en) 2003-03-14 2007-04-17 Oki Electric Industry Co., Ltd. Internal power supply circuit

Also Published As

Publication number Publication date
IT1272161B (it) 1997-06-11
ITMI930595A0 (it) 1993-03-26
KR960009400B1 (en) 1996-07-18
KR940006342A (ko) 1994-03-23
ITMI930595A1 (it) 1994-09-26
DE4244555C2 (de) 1997-05-28
US5451896A (en) 1995-09-19
DE4244555A1 (de) 1993-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05314769A (ja) 半導体集積回路装置
US7675331B2 (en) Power-up signal generating circuit and method for driving the same
JP5191260B2 (ja) 電圧レベル検出のための入力バッファおよび方法
US6914462B2 (en) Power-on reset circuit and method
US6731143B2 (en) Power-up circuit
JPH06259967A (ja) 半導体メモリ装置のアドレス転移検出回路
KR19980027933A (ko) 반도체 장치의 내부 전압 변환 회로
US5019772A (en) Test selection techniques
US9118315B2 (en) Scheme to improve the performance and reliability in high voltage IO circuits designed using low voltage devices
US6081460A (en) Integrated circuit devices having voltage level responsive mode-selection circuits therein and methods of operating same
KR20000000932A (ko) 기준전압 발생기의 스타트 업 회로
JPH0312095A (ja) 半導体メモリ装置
KR100566302B1 (ko) 파워업 신호 발생 장치
JPH10106299A (ja) 半導体メモリ装置のメモリセルテスト用の高電圧感知回路
US7999582B2 (en) Apparatus for supplying voltage free from noise and method of operation the same
US5198709A (en) Address transition detector circuit
CN101149977A (zh) 半导体存储器件中的电压监视装置
KR100791075B1 (ko) 파워 업 리셋 회로 및 이를 구비한 반도체 장치
US7965573B2 (en) Power-up signal generator for use in semiconductor device
CN101210953A (zh) 半导体器件
US20050264334A1 (en) Semiconductor integrated circuit using latch circuit with noise tolerance
KR0167680B1 (ko) 반도체 메모리 장치의 내부전원전압 발생회로
US9966119B1 (en) Reference selection circuit
JP2000003600A (ja) 半導体記憶装置および半導体集積回路
US6040719A (en) Input receiver for limiting current during reliability screening

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990803