JPS602669A - 無電解めっき液の管理装置 - Google Patents
無電解めっき液の管理装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は無電解めっき液の組成を常に一定に訂を持する
ための管ｌ！！装置及びその管理方法に関するものであ
る。
ための管ｌ！！装置及びその管理方法に関するものであ
る。
一般に、無電解めっき液は金属陽イオン、金属陽イオン
の錯化剤、金属陽イオンの還元剤、ＰＨ調整剤等を主成
分として含有してなるものであり、特に汎用度の高い無
電解銅めっき液を例にとって示せば次の組成を有するめ
っき液が代表的なものである。
の錯化剤、金属陽イオンの還元剤、ＰＨ調整剤等を主成
分として含有してなるものであり、特に汎用度の高い無
電解銅めっき液を例にとって示せば次の組成を有するめ
っき液が代表的なものである。
Ｃｕ ｓｏ４ ＋ ５）−１２０（銅イオン供給剤）Ｅ
ＤＴＡ−４Ｎａ ・４Ｈ２０（銅イオン供給剤）トＩＣ
ｌ−１０（遷元剤） Ｎａ ＯＨ（ＰＩ−１調整剤） α−α′ジピリジル（安定剤） ポリエチレングリコール（界面活性剤）かかる組成を有
する無電解銅めっき液においては、めっきに伴ない次の
主反応及び副反応が起こっているものと考えられる。
ＤＴＡ−４Ｎａ ・４Ｈ２０（銅イオン供給剤）トＩＣ
ｌ−１０（遷元剤） Ｎａ ＯＨ（ＰＩ−１調整剤） α−α′ジピリジル（安定剤） ポリエチレングリコール（界面活性剤）かかる組成を有
する無電解銅めっき液においては、めっきに伴ない次の
主反応及び副反応が起こっているものと考えられる。
主反応
Ｃｕ Ｙ ＋２ＨＣＨＯ＋４０Ｈ−→Ｃｔ＋ ’ 十Ｙ
’−＋２ＨＣＯＯ−＋２Ｈ２０＋Ｈ２ 副反応 ２ ＨＣＨＯ＋Ｏｌ−１−→ＣＨ３０１−１十ＦＩ Ｃ
Ｏ０−２ＣＵ”＋ＨＣＨＯ＋５０８−）Ｃｕ２０−１−
ＨＣＯＯ−＋３８２０ ＣＩＪ２０＋Ｈ２０→Ｃｕ ’ ＋Ｃｕ”＋２０８−Ｃ
ｕ ｙ２−＋１−１ｃｏｏ−＋３０１−１−→Ｃｕ ’
＋Ｙ’−＋ Ｇ ｏ、−＋ ２８２０ ここに、ＹはＥＤＴΔ〈エチレンジアミン四酢酸〉、Ｃ
ｕ６は吸着銅原子を表わす。
’−＋２ＨＣＯＯ−＋２Ｈ２０＋Ｈ２ 副反応 ２ ＨＣＨＯ＋Ｏｌ−１−→ＣＨ３０１−１十ＦＩ Ｃ
Ｏ０−２ＣＵ”＋ＨＣＨＯ＋５０８−）Ｃｕ２０−１−
ＨＣＯＯ−＋３８２０ ＣＩＪ２０＋Ｈ２０→Ｃｕ ’ ＋Ｃｕ”＋２０８−Ｃ
ｕ ｙ２−＋１−１ｃｏｏ−＋３０１−１−→Ｃｕ ’
＋Ｙ’−＋ Ｇ ｏ、−＋ ２８２０ ここに、ＹはＥＤＴΔ〈エチレンジアミン四酢酸〉、Ｃ
ｕ６は吸着銅原子を表わす。
前記めっぎ反応を安定した状態で継続的に維持するには
、めっき液を構成する全ての成分が常に一定であること
が望ましい。しかしながら、前記めっき反応を進行させ
つつめっき液の組成を常に一定に保持するのは非常に難
かしい。即ち、前記めっき反応において、反応消耗成分
であるＣｕ。
、めっき液を構成する全ての成分が常に一定であること
が望ましい。しかしながら、前記めっき反応を進行させ
つつめっき液の組成を常に一定に保持するのは非常に難
かしい。即ち、前記めっき反応において、反応消耗成分
であるＣｕ。
ＨｃＨｏ、０１−１−は夫々Ｃｌｌ５○４・５＋−１２
０゜ＨＣＨＯ，Ｎａ ０ｆ−１として補充すればよいが
、反応で消耗せず反応とともに増加してい＜ＳＯ２゜Ｎ
ａ“ 、及びｌ−Ｉ ＣＨＯの酸化生成物であるＨＣＯ
Ｏ、ｌ−ＩＣ０Ｏ−の酸化生成物であるｃｏ￥（空気中
のＣ０２ガスの溶解にもよる）はめっき反応の進行に伴
ない蓄積イオンとして蓄積されていき、また、かかる蓄
積イオンの増加はめっき品質に悪影響を与えることが一
般に知られている。従って、めっき液の組成はめつき反
応の進行に伴なってその建浴当初から刻々と変化してい
き、ぞの結果、比較的短期間でめっき液のめつき能の低
下を来たし、これに伴ないめっき品質も低下していくと
いう欠点があった。
０゜ＨＣＨＯ，Ｎａ ０ｆ−１として補充すればよいが
、反応で消耗せず反応とともに増加してい＜ＳＯ２゜Ｎ
ａ“ 、及びｌ−Ｉ ＣＨＯの酸化生成物であるＨＣＯ
Ｏ、ｌ−ＩＣ０Ｏ−の酸化生成物であるｃｏ￥（空気中
のＣ０２ガスの溶解にもよる）はめっき反応の進行に伴
ない蓄積イオンとして蓄積されていき、また、かかる蓄
積イオンの増加はめっき品質に悪影響を与えることが一
般に知られている。従って、めっき液の組成はめつき反
応の進行に伴なってその建浴当初から刻々と変化してい
き、ぞの結果、比較的短期間でめっき液のめつき能の低
下を来たし、これに伴ないめっき品質も低下していくと
いう欠点があった。
３−
かかる欠点に対し従来では、めっき液を一定期間使用し
た後廃棄し再建浴する方法、または、めっき液中の前記
蓄積イオン量を一定以上に増加させないようにめっき液
の比重を管理しながら相当量の新液補充を行なう方法に
よっていた。しかし、前者の方法ではめっき液建浴当初
の液組成を維持するためにめっき液の再建浴を頻繁に行
なう必要があり、コスト高をＩＣ来するとともに作業性
も悪く、また、後者の方法によっても補充される新液ニ
ハ反応消耗成分子あるｃｕ” 、ｆ−（ＣＨＯ，０ｆ−
１−と当量のＳ Ｏ’＋−１ｌ−Ｉ ＣＯ０−１Ｎ ａ
＋ が含まれているからこれらの組成をめっき液建浴
当初と同じに維持するためには極めて多量の新液を補充
しなければならず、結局この方法によってもコスト面、
作業性において実用的ではなかった。
た後廃棄し再建浴する方法、または、めっき液中の前記
蓄積イオン量を一定以上に増加させないようにめっき液
の比重を管理しながら相当量の新液補充を行なう方法に
よっていた。しかし、前者の方法ではめっき液建浴当初
の液組成を維持するためにめっき液の再建浴を頻繁に行
なう必要があり、コスト高をＩＣ来するとともに作業性
も悪く、また、後者の方法によっても補充される新液ニ
ハ反応消耗成分子あるｃｕ” 、ｆ−（ＣＨＯ，０ｆ−
１−と当量のＳ Ｏ’＋−１ｌ−Ｉ ＣＯ０−１Ｎ ａ
＋ が含まれているからこれらの組成をめっき液建浴
当初と同じに維持するためには極めて多量の新液を補充
しなければならず、結局この方法によってもコスト面、
作業性において実用的ではなかった。
（発明の目的）
本発明の目的は前記従来の欠点を改良し、無電解めっき
液の組成をめっき反応の進行にかかわらず常に、そのめ
っき液の建浴当初の組成と同じに紺持し、ちって長期に
わたりめっき品質の良好な４− 無電解めっき液を供給し得る管理装置及びその管理方法
を提供するにある。
液の組成をめっき反応の進行にかかわらず常に、そのめ
っき液の建浴当初の組成と同じに紺持し、ちって長期に
わたりめっき品質の良好な４− 無電解めっき液を供給し得る管理装置及びその管理方法
を提供するにある。
以下、本発明を図面に基づいて詳細に説明する。
第１図は電解槽１の断面図を示し、電解槽１は陽イオン
交換膜２と陰イオン交換膜３とにより３室Ａ、Ｂ、Ｃに
区画されている。室へにはめっきに使用される金属陽イ
オン、例えば、銅イオン、コバルトイオン、ニッケルイ
オン、パラジウムイオン、白金イオン、銀イオン、金イ
オン等を解離せしめる金属塩溶液が満たされている。ま
た、室Ｂには前記金属塩、その金属塩からの金属陽イオ
ンの錯化剤、金属陽イオンの）９元剤、ＰＩ−１調整剤
としてのアルカリ金属水酸化物、めっき液の安定性の向
」込めつき皮膜の機械的性質の向上、めっぎ速度の向上
等のために用いられる添加剤を含有する無電解めっき液
が満たされており、錯化剤としてはエチレンジアミン、
ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、エ
チレンジアミンテトラ酢酸、Ｎ、Ｎ、 Ｎ−Ｎ−テトラ
キス−２−（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミ
ン、クエン酸、酒石Ｌ１．３−プロパンジアミン、アン
モニア、ロッシェル塩酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチレ
ンジアミントリ酢酸のナトリウム塩類（モノ−、ジー、
及びトリーナトリウム塩類）、ニトリロトリ酢酸及びそ
のアルカリ塩類、グリコン酸、グルコン酸塩、トリエタ
ノールアミン等が適する。また、還元剤としては、ホル
ムアルデヒド及びその早期硬化剤あるいは誘導体、例え
ば、グリコールアルデヒド、パラホルムアルデヒド、ト
リオキサン、ジメチルヒダントイン、グリオキザール及
びその類似物、その他アルカリ金属のボロハイドライド
類、ボラン類が適用できる。ＰＨ調整剤としては水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアル
カリ金属の水酸化物が使用される。更に、添加剤として
はα−α′ジピリジル、ポリエチレングリコール、その
伯のシアン化物、エトキシ界面活性剤、イオウ化合物、
希土類元素等が挙げられる。また、室Ｃには室Ｂに満た
された無電解めっき液のＰＨを調整するため前記アルカ
リ金属水酸化物溶液が満たされている。
交換膜２と陰イオン交換膜３とにより３室Ａ、Ｂ、Ｃに
区画されている。室へにはめっきに使用される金属陽イ
オン、例えば、銅イオン、コバルトイオン、ニッケルイ
オン、パラジウムイオン、白金イオン、銀イオン、金イ
オン等を解離せしめる金属塩溶液が満たされている。ま
た、室Ｂには前記金属塩、その金属塩からの金属陽イオ
ンの錯化剤、金属陽イオンの）９元剤、ＰＩ−１調整剤
としてのアルカリ金属水酸化物、めっき液の安定性の向
」込めつき皮膜の機械的性質の向上、めっぎ速度の向上
等のために用いられる添加剤を含有する無電解めっき液
が満たされており、錯化剤としてはエチレンジアミン、
ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、エ
チレンジアミンテトラ酢酸、Ｎ、Ｎ、 Ｎ−Ｎ−テトラ
キス−２−（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミ
ン、クエン酸、酒石Ｌ１．３−プロパンジアミン、アン
モニア、ロッシェル塩酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチレ
ンジアミントリ酢酸のナトリウム塩類（モノ−、ジー、
及びトリーナトリウム塩類）、ニトリロトリ酢酸及びそ
のアルカリ塩類、グリコン酸、グルコン酸塩、トリエタ
ノールアミン等が適する。また、還元剤としては、ホル
ムアルデヒド及びその早期硬化剤あるいは誘導体、例え
ば、グリコールアルデヒド、パラホルムアルデヒド、ト
リオキサン、ジメチルヒダントイン、グリオキザール及
びその類似物、その他アルカリ金属のボロハイドライド
類、ボラン類が適用できる。ＰＨ調整剤としては水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアル
カリ金属の水酸化物が使用される。更に、添加剤として
はα−α′ジピリジル、ポリエチレングリコール、その
伯のシアン化物、エトキシ界面活性剤、イオウ化合物、
希土類元素等が挙げられる。また、室Ｃには室Ｂに満た
された無電解めっき液のＰＨを調整するため前記アルカ
リ金属水酸化物溶液が満たされている。
室へと室Ｃの各溶液中には、夫々電極４，５が浸漬され
ており、各電極４，５間には第２図に示すような定電流
の方形波交流パルスが印加きれる。
ており、各電極４，５間には第２図に示すような定電流
の方形波交流パルスが印加きれる。
この波形のデユーティは後述のようにめっき条件により
定められる。
定められる。
（実施例）
続いて、本発明の一実施例を無電解銅めっき液を例にと
って詳細に説明する。
って詳細に説明する。
本実施例では電解槽１の各室△、Ｂ、Ｃには夫々次の組
成を右する溶液が満たされる。
成を右する溶液が満たされる。
室Ａ
ＣｕＳＯ＋・５１−１２０ １．０ｔｖｌ／ノ１−１２
ｓＯ４０，１Ｍ／Ｊ Ｎａ２ＳＯ４０，５Ｍ／Ｊ２ 室Ｂ ＣｕＳＯ＋ ・５Ｈ２００，０４Ｍ／／７！ＥＤＴＡ・
４．Ｎａ ・４Ｈ２００，１０Ｍ／、／１−Ｉ ＣＨ０
５ｍ１２／！ ＮａＯＨＰＩ−１が１２．３となるｍ ７− α−α′ジピリジル ２０ｍｇ／２ ポリエチレングリコール ５（１／Ｊ 室Ｃ Ｎａ０１−Ｉ ＩＭ／、ｇ このように構成された電解槽１の室へと室Ｃに浸漬され
た銅板電極４．白金板電極５に交流定電流パルスがか（
プられ、各溶液中のイオンは陰イオン交換膜２及び陰イ
オン交換膜３を介して移動する。かかる各イオンの移動
状態を第３図、第４図を参照し、（１）銅板電極４がプ
ラス、白金板電極５がマイナスになった時、（２）銅板
電極４がマイナス、白金板電極５がプラスになった時の
２つの場合に分けて説明する。
ｓＯ４０，１Ｍ／Ｊ Ｎａ２ＳＯ４０，５Ｍ／Ｊ２ 室Ｂ ＣｕＳＯ＋ ・５Ｈ２００，０４Ｍ／／７！ＥＤＴＡ・
４．Ｎａ ・４Ｈ２００，１０Ｍ／、／１−Ｉ ＣＨ０
５ｍ１２／！ ＮａＯＨＰＩ−１が１２．３となるｍ ７− α−α′ジピリジル ２０ｍｇ／２ ポリエチレングリコール ５（１／Ｊ 室Ｃ Ｎａ０１−Ｉ ＩＭ／、ｇ このように構成された電解槽１の室へと室Ｃに浸漬され
た銅板電極４．白金板電極５に交流定電流パルスがか（
プられ、各溶液中のイオンは陰イオン交換膜２及び陰イ
オン交換膜３を介して移動する。かかる各イオンの移動
状態を第３図、第４図を参照し、（１）銅板電極４がプ
ラス、白金板電極５がマイナスになった時、（２）銅板
電極４がマイナス、白金板電極５がプラスになった時の
２つの場合に分けて説明する。
（１）銅板電極４がプラス、白金板Ｎ極５がマイナスに
なったとき。
なったとき。
第３図に′示す如く、室△におけるＣｕ、Ｈ１Ｎａ＋は
銅板電極４がプラスになっているため陽イオン交換膜２
を介して室Ｂに移動する。また、室Ｃに、ｅｔするＯＨ
，ｓｏ、、 、ＨＣＯ○、ＣＯＪ、８− ＣＩＪ Ｙ”’、Ｙ’−は電極５がマイナスになってい
るので陰イオン交換膜３を介して室Ｂに移動するが、室
Ｃにおける０１−１の濃度は他のイオンＳＯ４、Ｈｃｏ
ｏ−、ｃｏユニーＣＩＪ Ｙ’−１臂−のｃＪ度に比べ
て格段に高いので陰イオン交換膜２を介して室Ｂに移動
するのはほとんどＯＨ−のみである。このとき室Ｂ内で
は、ＣＩＩ ｔ＋が無電解銅めっき液中に当初から含有
されていたＥＤＴΔからのＹ と反応して錯体を形成し
、ＣＩＩＹ 錯イオンとして捕捉される。また、０１」
−とＨ＋とは互いに反応して消費される。
銅板電極４がプラスになっているため陽イオン交換膜２
を介して室Ｂに移動する。また、室Ｃに、ｅｔするＯＨ
，ｓｏ、、 、ＨＣＯ○、ＣＯＪ、８− ＣＩＪ Ｙ”’、Ｙ’−は電極５がマイナスになってい
るので陰イオン交換膜３を介して室Ｂに移動するが、室
Ｃにおける０１−１の濃度は他のイオンＳＯ４、Ｈｃｏ
ｏ−、ｃｏユニーＣＩＪ Ｙ’−１臂−のｃＪ度に比べ
て格段に高いので陰イオン交換膜２を介して室Ｂに移動
するのはほとんどＯＨ−のみである。このとき室Ｂ内で
は、ＣＩＩ ｔ＋が無電解銅めっき液中に当初から含有
されていたＥＤＴΔからのＹ と反応して錯体を形成し
、ＣＩＩＹ 錯イオンとして捕捉される。また、０１」
−とＨ＋とは互いに反応して消費される。
（２）銅板電極４がマイナス、白金板電極５がプラスに
なったとき。
なったとき。
このとき、室ＢからＮａ＋が陽イオン交換膜２を介して
室Ａに移動されるが、室Ｂ内における陽イオンはＮａ＋
しか存在せず、従ってＮａ”は非常に透過し易いので前
記した（１）の場合において室△から室Ｂに陽イオン交
換膜２を介して移動するＮａ ＋の移！’ＪＩ ＲＪ：
りも大きくなり、この結果Ｎａ“は室Ｂから室Δに選択
的に除去されることになる。これにより銅板電極４と白
金板電極５間に交流定電流パルスをか（プている間にわ
たり室ＢにおけるＮ ａ ” ｔＱ度はＦＥＤＴ△−４
Ｎｆ１ ・旧−１２０からＮａ十が過剰に生じてもほぼ
一定に保持される。また、イオン交換膜に対するイオン
の透過性は一般的にイオンの価数が大きい程、また、イ
オンが嵩高い稈小さくなることから、室Ｂ内における陰
イオンのうちＣｕＹ、Ｙ はＳｏヰ、ＨＣｏｏ”−、Ｃ
Ｏ３に比べて格段に陰イオン交換膜を透過しにくいもの
であり、更に、室Ｂから室Ｃへ移動するｓｏ算−１Ｉ」
ＣＯＯ−、ＣＯ’３−の移動用は前記（１）の場合にお
いて室Ｃから室Ｂへ移動するときの移動用よりも大きく
、従って、ＳＯ＋、１−ＨＣｏｏ−１ＣＯニーは両電極
４．５間に交流定電流パルスを流すことにより陰イオン
交換膜３を介して室Ｂから選択的に除去されることにな
る。一方、室Ｂ内において０ｆ−１−は前記の如くめっ
き反応やＨ＋との反応の消費されるので、室Ｂ内におけ
る０１−ドの濃度はｓｏ４’−１ＨＣＯ〇−１ｃｏニー
の濃度よりもかなり低く、従ってＯＨ−は室Ｂから室Ｃ
にほとんど律動されることはない。
室Ａに移動されるが、室Ｂ内における陽イオンはＮａ＋
しか存在せず、従ってＮａ”は非常に透過し易いので前
記した（１）の場合において室△から室Ｂに陽イオン交
換膜２を介して移動するＮａ ＋の移！’ＪＩ ＲＪ：
りも大きくなり、この結果Ｎａ“は室Ｂから室Δに選択
的に除去されることになる。これにより銅板電極４と白
金板電極５間に交流定電流パルスをか（プている間にわ
たり室ＢにおけるＮ ａ ” ｔＱ度はＦＥＤＴ△−４
Ｎｆ１ ・旧−１２０からＮａ十が過剰に生じてもほぼ
一定に保持される。また、イオン交換膜に対するイオン
の透過性は一般的にイオンの価数が大きい程、また、イ
オンが嵩高い稈小さくなることから、室Ｂ内における陰
イオンのうちＣｕＹ、Ｙ はＳｏヰ、ＨＣｏｏ”−、Ｃ
Ｏ３に比べて格段に陰イオン交換膜を透過しにくいもの
であり、更に、室Ｂから室Ｃへ移動するｓｏ算−１Ｉ」
ＣＯＯ−、ＣＯ’３−の移動用は前記（１）の場合にお
いて室Ｃから室Ｂへ移動するときの移動用よりも大きく
、従って、ＳＯ＋、１−ＨＣｏｏ−１ＣＯニーは両電極
４．５間に交流定電流パルスを流すことにより陰イオン
交換膜３を介して室Ｂから選択的に除去されることにな
る。一方、室Ｂ内において０ｆ−１−は前記の如くめっ
き反応やＨ＋との反応の消費されるので、室Ｂ内におけ
る０１−ドの濃度はｓｏ４’−１ＨＣＯ〇−１ｃｏニー
の濃度よりもかなり低く、従ってＯＨ−は室Ｂから室Ｃ
にほとんど律動されることはない。
以上２つの場合に分けて説明したように、本実施例によ
れば銅板電極４と白金板電極５間に交流定電流パルスを
かけることにより陽イオン交換膜２及び陰イオン交換膜
３を介して、めっき反応に必要なＣｕ、Ｏｌ」 を選択
的に室Ｂに補充せしめ１！７るとともに、めっき反応の
進行に伴なって増加するめつき反応に不要なｌ’４ａ
、ＳＯ＋ 、ＨＣＯＯ−１ＣＯ副−を室Ｂから選択的に
除去し１ｑるものである。これより、めっき反応ととも
に消費される１−１ｃＨｏどＥＤＴＡ−４Ｎａ −４ｌ
−１ｓＯ，！［必要量だけ補充すれば、室Ｂにおける無
電解銅めっき液の組成をめっき反応の進行にかかわらず
めっき液の建浴当初の組成と同じに紐持することができ
る。なお、交流定電流パルスのデユーティは各成分の濃
度に基づいて設定する。
れば銅板電極４と白金板電極５間に交流定電流パルスを
かけることにより陽イオン交換膜２及び陰イオン交換膜
３を介して、めっき反応に必要なＣｕ、Ｏｌ」 を選択
的に室Ｂに補充せしめ１！７るとともに、めっき反応の
進行に伴なって増加するめつき反応に不要なｌ’４ａ
、ＳＯ＋ 、ＨＣＯＯ−１ＣＯ副−を室Ｂから選択的に
除去し１ｑるものである。これより、めっき反応ととも
に消費される１−１ｃＨｏどＥＤＴＡ−４Ｎａ −４ｌ
−１ｓＯ，！［必要量だけ補充すれば、室Ｂにおける無
電解銅めっき液の組成をめっき反応の進行にかかわらず
めっき液の建浴当初の組成と同じに紐持することができ
る。なお、交流定電流パルスのデユーティは各成分の濃
度に基づいて設定する。
かかる電解槽１より構成される無電解銅めっき液の管理
装置は第５図に示すようなめつき装置に組み込まれて使
用される。同図において、室Ｂ内で一定の組成に制御さ
れためつき液は循環パイプ１１− ６により無電解鋼めっき浴７に送入される。めっき浴７
内でめっきが行なわれた後、めっき液はポンプ８により
一担貯蔵槽９に移送され、貯蔵槽９から再び室Ｂ内に送
られて一定の組成に制御される。また、室Ａ内の液は循
環パイプ１０により貯蔵槽１１からポンプ１２を介して
貯蔵槽１３に移送された後再び室へに戻るＪ：うに循環
されている。
装置は第５図に示すようなめつき装置に組み込まれて使
用される。同図において、室Ｂ内で一定の組成に制御さ
れためつき液は循環パイプ１１− ６により無電解鋼めっき浴７に送入される。めっき浴７
内でめっきが行なわれた後、めっき液はポンプ８により
一担貯蔵槽９に移送され、貯蔵槽９から再び室Ｂ内に送
られて一定の組成に制御される。また、室Ａ内の液は循
環パイプ１０により貯蔵槽１１からポンプ１２を介して
貯蔵槽１３に移送された後再び室へに戻るＪ：うに循環
されている。
このように循環されモいる間に、室Ａ内の液は攪拌され
るとともに室Ｂから陽イオン交換膜２を介して移動して
くるＮａ”の濃度が希釈され、低濃度に抑えられる。同
様に、室Ｃ内の液も循環パイプ１４により貯蔵槽１５か
らポンプ１６を介して貯蔵槽１７に移送され、その後室
Ｃ内に戻るように循環されている。このとき室Ｃ内の液
は攪拌されるとともに室Ｂから陰イオン交換膜３を介し
て移動してくる５ｏＳ−１ＨＣ００−、Ｃ０３の濃度が
希釈されて低濃度に抑えられる。
るとともに室Ｂから陽イオン交換膜２を介して移動して
くるＮａ”の濃度が希釈され、低濃度に抑えられる。同
様に、室Ｃ内の液も循環パイプ１４により貯蔵槽１５か
らポンプ１６を介して貯蔵槽１７に移送され、その後室
Ｃ内に戻るように循環されている。このとき室Ｃ内の液
は攪拌されるとともに室Ｂから陰イオン交換膜３を介し
て移動してくる５ｏＳ−１ＨＣ００−、Ｃ０３の濃度が
希釈されて低濃度に抑えられる。
かかるように構成されためつき装置を使用し、次の条件
でめっきを行なったところ、表に示すにうな結果が得ら
れた。
でめっきを行なったところ、表に示すにうな結果が得ら
れた。
１２−
くめつき条件〉
めっき浴操業時間 １時間
めっき欲負荷 １ｌｍ２／ｆ
めっき速度 ２μ／ｈｒ。
めっき浴容積 ５０１
有効膜面積 ８．２４ｄｍ２
めっき浴温度 ７５°Ｃ
室Ｂの温度 ５００Ｃ
表によれば、従来のめっき装置ではめっきに不要とされ
る５ＯＷ−１ｚｃｏｏ−、ｃｏＳ−１Ｎ ａ ＋濃度は
１週間のめっき操業後においては全体に極めて高い濃度
になることがわかる。一方、本実施例のめっき装置によ
ればｓｏ′□−１ｌ−ＩＣＯＯ−、Ｃ０Ｅ−１Ｎａ＋
濃度は１週間後においても全く変化がなく、めっき開始
時の濃度に維持される。また、従来のめっき装置におい
ては１週間の操業後に、ＣＬＩ８０４ ・５１−１２０
とＮａ０１−１を夫々２８．５６ｍｏｌ 、１５０．
ＯＯｍｏｌだけ補充する必要があるが、本実施例のめっ
き装置においては１週間の操業ＩｔｌＪｒ７Ｍにわたり
Ｃ’ｌ ８０４ ・５ Ｈ２０ｚ Ｎａ ０１−１は補
充する必要がない。更に、めっきされた銅箔の機械的強
度を比較すると、従来のめっき装置では１週間の操業期
間に前記の如＜５ＯＳ−１ＨＣ００、ＣＯ３、Ｎａ濃度
が極めて高くなるので銅箔の引っ張り強度、銅箔の延び
率がともに低下してしまう。これに対し本実施例のめつ
き装置では８０４ 、ＨＣＯＯ，Ｃｏｗ 、Ｎａ 濃度
をめっき開始時の濃度に維持し得るので、銅箔の引張り
強度、１５− 銅箔の伸び率がともに低下することなく、めっき開始時
の品質を保持することができる。
る５ＯＷ−１ｚｃｏｏ−、ｃｏＳ−１Ｎ ａ ＋濃度は
１週間のめっき操業後においては全体に極めて高い濃度
になることがわかる。一方、本実施例のめっき装置によ
ればｓｏ′□−１ｌ−ＩＣＯＯ−、Ｃ０Ｅ−１Ｎａ＋
濃度は１週間後においても全く変化がなく、めっき開始
時の濃度に維持される。また、従来のめっき装置におい
ては１週間の操業後に、ＣＬＩ８０４ ・５１−１２０
とＮａ０１−１を夫々２８．５６ｍｏｌ 、１５０．
ＯＯｍｏｌだけ補充する必要があるが、本実施例のめっ
き装置においては１週間の操業ＩｔｌＪｒ７Ｍにわたり
Ｃ’ｌ ８０４ ・５ Ｈ２０ｚ Ｎａ ０１−１は補
充する必要がない。更に、めっきされた銅箔の機械的強
度を比較すると、従来のめっき装置では１週間の操業期
間に前記の如＜５ＯＳ−１ＨＣ００、ＣＯ３、Ｎａ濃度
が極めて高くなるので銅箔の引っ張り強度、銅箔の延び
率がともに低下してしまう。これに対し本実施例のめつ
き装置では８０４ 、ＨＣＯＯ，Ｃｏｗ 、Ｎａ 濃度
をめっき開始時の濃度に維持し得るので、銅箔の引張り
強度、１５− 銅箔の伸び率がともに低下することなく、めっき開始時
の品質を保持することができる。
なお、本実施例のめっき装置に使用される管理装置にお
ける銅板電極４と白金板電極５間にかけられる交流定電
流パルスは第６図に示す如くパルス巾比ａ／ｂは１．８
１３のパルス電流を使用した。
ける銅板電極４と白金板電極５間にかけられる交流定電
流パルスは第６図に示す如くパルス巾比ａ／ｂは１．８
１３のパルス電流を使用した。
以上詳細に説明した通り本実施例の管理装置は電解槽１
を陽イオン交換膜２と陰イオン交換膜３とによりＡ、Ｂ
、Ｃの３室に分割し、各室には前記所定の液を満たし、
室Ａと室Ｃの夫々に配備された銅板電極４と白金板電極
５間に交流定電流パルスを流すことにより、両イオン交
換膜２，３を介してめっきに必要なＣＵ２＋とＯＨ−を
選択的に室Ｂに補充するとともにめっきに不要なｓ ｏ
：”、ＨＣＯＯ−、ｃｏ−１Ｎａ＋を室Ｂから選択的
に除去するようにしたので、所定量のＨＣＨＯとＥＤＴ
Ａ・４Ｎａ ・４Ｈ２０を補充するのみで室Ｂ内の無電
解銅めっき液の各成分組成を常に一定に維持し得るもの
である。従って、かかる管理装置−１６＝ を使用すれば、常に一定品質のめつき被膜を得ることが
でき、また、従来のものに比してめっきコストを格段に
低くすることができる。
を陽イオン交換膜２と陰イオン交換膜３とによりＡ、Ｂ
、Ｃの３室に分割し、各室には前記所定の液を満たし、
室Ａと室Ｃの夫々に配備された銅板電極４と白金板電極
５間に交流定電流パルスを流すことにより、両イオン交
換膜２，３を介してめっきに必要なＣＵ２＋とＯＨ−を
選択的に室Ｂに補充するとともにめっきに不要なｓ ｏ
：”、ＨＣＯＯ−、ｃｏ−１Ｎａ＋を室Ｂから選択的
に除去するようにしたので、所定量のＨＣＨＯとＥＤＴ
Ａ・４Ｎａ ・４Ｈ２０を補充するのみで室Ｂ内の無電
解銅めっき液の各成分組成を常に一定に維持し得るもの
である。従って、かかる管理装置−１６＝ を使用すれば、常に一定品質のめつき被膜を得ることが
でき、また、従来のものに比してめっきコストを格段に
低くすることができる。
本発明は以上説明した通り、無電解めっき液の組成を常
に一定に維持し得、もって長期にわたり良好なめつき被
膜が得られる無電解めっき液を調整しうる管理装置を提
供しｌり、その奏する効果は大である。
に一定に維持し得、もって長期にわたり良好なめつき被
膜が得られる無電解めっき液を調整しうる管理装置を提
供しｌり、その奏する効果は大である。
図面は本発明の一実施例を示すものであり、第１図は電
解槽の断面図、第２図は交流定電流パルスの波形図、第
３図及び第４図は電極間に交流定電流パルスをかけたと
きの各イオンの移動状態を示す説明図、第５図は本実施
例の管理装置を使用しためつき装置の模式図、第６図は
本実施例に使用される交流定電流パルスの波形図である
。 図中、１は電解槽、２は陽イオン交換膜、３は陰イオン
交換膜、４は銅板電極、５は白金板電極である。 第１図 第２図 第６図 第３図 第４図
解槽の断面図、第２図は交流定電流パルスの波形図、第
３図及び第４図は電極間に交流定電流パルスをかけたと
きの各イオンの移動状態を示す説明図、第５図は本実施
例の管理装置を使用しためつき装置の模式図、第６図は
本実施例に使用される交流定電流パルスの波形図である
。 図中、１は電解槽、２は陽イオン交換膜、３は陰イオン
交換膜、４は銅板電極、５は白金板電極である。 第１図 第２図 第６図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電極間にイオン交換膜が配備されるとともに金属陽
イオン、金属陽イオンの錯化剤、金属陽イオンの還元剤
、Ｐ）−１調整剤としてのアルカリ金属の水酸化物を主
成分とする無電解めっき液が満たされた電Ｆ＋７槽を備
え、 前記電極に交流電流を流すことにより前記イオン交換膜
を介して前記無電解めっき液の成分のうち主として金属
陽イオン、水酸イオン、金属陽イオンの対陰イオン、還
元剤の酸化生成物イオンを選択的に透過せしめるように
したことを特徴とする無電解めっき液の管理装置。 ２、電極間にイオン交換膜を配備した電解槽内に金属陽
イオン、金属陽イオンの錯化剤、金属陽イオンの還元剤
、ＰＨ調整剤としてのアルカリ金属の水酸化物を主成分
とする無電解めっき液を満た前記電極に交流電流を流ず
ことにより前記イオン交換膜を介して前記無電解めっき
液の成分のうち主として金属陽イオン、水酸イオン、金
属陽イオンの対陰イオン、還元剤の酸化生成物イオンを
選択的に透過せしめるようにしたことを特徴とする無電
解めっき液の管理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10971183A JPS602669A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 無電解めっき液の管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10971183A JPS602669A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 無電解めっき液の管理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS602669A true JPS602669A (ja) | 1985-01-08 |
| JPH0359143B2 JPH0359143B2 (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=14517276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10971183A Granted JPS602669A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 無電解めっき液の管理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS602669A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63303078A (ja) * | 1987-06-01 | 1988-12-09 | Tokuyama Soda Co Ltd | 化学ニツケルメツキ液の処理方法 |
| FR2721309A1 (fr) * | 1994-06-21 | 1995-12-22 | Centre Nat Rech Scient | Procédé et dispositif de diffusion d'ions cuivriques pour le traitement d'un milieu liquide salé. |
| CN104411644A (zh) * | 2012-06-27 | 2015-03-11 | 皇家飞利浦有限公司 | 制备包含阳离子和阴离子的溶液的装置和方法 |
| CN104591351A (zh) * | 2015-02-13 | 2015-05-06 | 中新环科（天津）科技有限公司 | 一种处理化工生产废水的离子膜电解槽装置 |
| EP2867173A1 (en) * | 2012-06-27 | 2015-05-06 | Koninklijke Philips N.V. | Apparatus and method of preparing a solution containing cations and anions |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4289597A (en) * | 1979-03-05 | 1981-09-15 | Electrochem International, Inc. | Process for electrodialytically regenerating an electroless plating bath by removing at least a portion of the reacted products |
| JPS58109710A (ja) * | 1981-12-24 | 1983-06-30 | 有限会社新城製作所 | ピアスナツト |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10971183A patent/JPS602669A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4289597A (en) * | 1979-03-05 | 1981-09-15 | Electrochem International, Inc. | Process for electrodialytically regenerating an electroless plating bath by removing at least a portion of the reacted products |
| JPS58109710A (ja) * | 1981-12-24 | 1983-06-30 | 有限会社新城製作所 | ピアスナツト |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63303078A (ja) * | 1987-06-01 | 1988-12-09 | Tokuyama Soda Co Ltd | 化学ニツケルメツキ液の処理方法 |
| JPH0583635B2 (ja) * | 1987-06-01 | 1993-11-26 | Tokuyama Sooda Kk | |
| FR2721309A1 (fr) * | 1994-06-21 | 1995-12-22 | Centre Nat Rech Scient | Procédé et dispositif de diffusion d'ions cuivriques pour le traitement d'un milieu liquide salé. |
| CN104411644A (zh) * | 2012-06-27 | 2015-03-11 | 皇家飞利浦有限公司 | 制备包含阳离子和阴离子的溶液的装置和方法 |
| EP2867173A1 (en) * | 2012-06-27 | 2015-05-06 | Koninklijke Philips N.V. | Apparatus and method of preparing a solution containing cations and anions |
| CN104591351A (zh) * | 2015-02-13 | 2015-05-06 | 中新环科（天津）科技有限公司 | 一种处理化工生产废水的离子膜电解槽装置 |
| CN104591351B (zh) * | 2015-02-13 | 2016-05-18 | 中新环科（天津）科技有限公司 | 一种处理化工生产废水的离子膜电解槽装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0359143B2 (ja) | 1991-09-09 |
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