JP2787992B2 - Ni−W合金めっき方法 - Google Patents
Ni−W合金めっき方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、物品表面にW含有量4
4重量%以上のNi−W合金めっきを施すNi−W合金
めっき方法に関する。
4重量%以上のNi−W合金めっきを施すNi−W合金
めっき方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のNi−W合金めっき方法として
は、クエン酸を有機錯化剤として用いるホルト(Hol
t)法や、同じく酒石酸を有機錯化剤として用いるブレ
ナー(Brenner)法などが知られている。しかし
ながら、これらの方法はアンモニアを用い、電解浴液
(以下、浴液と略す)のpHが約9と高く、アンモニア
臭が発生し、作業環境が過酷であるという問題がある。
は、クエン酸を有機錯化剤として用いるホルト(Hol
t)法や、同じく酒石酸を有機錯化剤として用いるブレ
ナー(Brenner)法などが知られている。しかし
ながら、これらの方法はアンモニアを用い、電解浴液
(以下、浴液と略す)のpHが約9と高く、アンモニア
臭が発生し、作業環境が過酷であるという問題がある。
【0003】これに対して、アンモニア臭の発生しない
pH領域(pH7以下)である約pH6にアンモニアで
調整されたタングステン酸ナトリウム70g/リット
ル、硫酸ニッケル約60g/リットル、クエン酸約10
0g/リットルを含有する浴液を用いて、陰極電流密度
を約10A/dm2 とし、浴液の温度(以下、浴温と略
す)を70℃としてNi−W合金めっきを行う方法が用
いられている。
pH領域(pH7以下)である約pH6にアンモニアで
調整されたタングステン酸ナトリウム70g/リット
ル、硫酸ニッケル約60g/リットル、クエン酸約10
0g/リットルを含有する浴液を用いて、陰極電流密度
を約10A/dm2 とし、浴液の温度(以下、浴温と略
す)を70℃としてNi−W合金めっきを行う方法が用
いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前述のような70℃の
浴温条件は、工業的にめっきを行う一般的な浴液槽加熱
器の加熱容量では、冬季に70℃を保持することが困難
であるという問題がある。また、溶液のタングステン酸
イオンの濃度が高く、これに用いられるタングステン酸
ナトリウムは、浴液作成に用いられる他の薬品に比べて
極めて高価で、溶液が高価になるという問題がある。ま
た前述の浴液組成、温度、陰極電流密度で形成されるN
i−W合金めっきはW含有量が44重量%未満であり、
ピットが生じ、さらに電着引張応力が高く、30μm以
上の厚さのめつきを形成すると、めっきにクラックを生
じる点などの問題もある。
浴温条件は、工業的にめっきを行う一般的な浴液槽加熱
器の加熱容量では、冬季に70℃を保持することが困難
であるという問題がある。また、溶液のタングステン酸
イオンの濃度が高く、これに用いられるタングステン酸
ナトリウムは、浴液作成に用いられる他の薬品に比べて
極めて高価で、溶液が高価になるという問題がある。ま
た前述の浴液組成、温度、陰極電流密度で形成されるN
i−W合金めっきはW含有量が44重量%未満であり、
ピットが生じ、さらに電着引張応力が高く、30μm以
上の厚さのめつきを形成すると、めっきにクラックを生
じる点などの問題もある。
【0005】本発明の目的は、装置的に保持可能な浴液
温度条件で、低いpHで、低濃度のタンゲステン酸イオ
ンを用いて、ピットの少ない、電着応力の低い、W含有
量が44重量%以上のNi−W合金めっきを形成するN
i−W合金めっき方法を提供することである。
温度条件で、低いpHで、低濃度のタンゲステン酸イオ
ンを用いて、ピットの少ない、電着応力の低い、W含有
量が44重量%以上のNi−W合金めっきを形成するN
i−W合金めっき方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶解時にタン
グステン酸イオンおよびアルカリ金属イオンを生じる第
1イオン生成材料25.0〜38.5g/リットルと、
硫酸ニッケル10.0〜20.0g/リットルと、溶解
時にクエン酸イオンを生じる第2イオン生成材料30.
0〜50.2g/リットルとアンモニアとから成り、p
Hが6.0〜7.0になるようにアンモニアで調整され
た電解浴液を用い、電解浴液温度60〜65℃、陰極電
流密度3〜7A/dm2の条件でW含有量44重量%以
上のNi−W合金めっきを行うことを特徴とするNi−
W合金めっき方法である。また本発明は、第1イオン生
成材料がタングステン酸ナトリウムと、タングステン酸
カリウムと、タングステン酸および水酸化ナトリウム
と、タングステン酸および水酸化カリウムとのいずれか
から選ばれることを特徴とする。また本発明は、第2イ
オン生成材料がクエン酸と、クエン酸およびクエン酸ナ
トリウムとのいずれかから選ばれることを特徴とする。
グステン酸イオンおよびアルカリ金属イオンを生じる第
1イオン生成材料25.0〜38.5g/リットルと、
硫酸ニッケル10.0〜20.0g/リットルと、溶解
時にクエン酸イオンを生じる第2イオン生成材料30.
0〜50.2g/リットルとアンモニアとから成り、p
Hが6.0〜7.0になるようにアンモニアで調整され
た電解浴液を用い、電解浴液温度60〜65℃、陰極電
流密度3〜7A/dm2の条件でW含有量44重量%以
上のNi−W合金めっきを行うことを特徴とするNi−
W合金めっき方法である。また本発明は、第1イオン生
成材料がタングステン酸ナトリウムと、タングステン酸
カリウムと、タングステン酸および水酸化ナトリウム
と、タングステン酸および水酸化カリウムとのいずれか
から選ばれることを特徴とする。また本発明は、第2イ
オン生成材料がクエン酸と、クエン酸およびクエン酸ナ
トリウムとのいずれかから選ばれることを特徴とする。
【0007】
【0008】
【0009】
【作用】本発明に従えば、Ni−W合金めっき方法に用
いられる電解浴液は、溶解時にタングステン酸イオンお
よびアルカリ金属イオンを生じる第1イオン生成材料2
5.0〜38.5g/リットルと、硫酸ニッケル10.
0〜20.0g/リットルと、溶解時にクエン酸イオン
を生じる第2イオン生成材料30.0〜50.2g/リ
ットルとを含む。
いられる電解浴液は、溶解時にタングステン酸イオンお
よびアルカリ金属イオンを生じる第1イオン生成材料2
5.0〜38.5g/リットルと、硫酸ニッケル10.
0〜20.0g/リットルと、溶解時にクエン酸イオン
を生じる第2イオン生成材料30.0〜50.2g/リ
ットルとを含む。
【0010】前記第1イオン生成材料は、タングステン
酸ナトリウムと、タングステン酸カリウムと、タングス
テン酸および水酸化ナトリウムと、タングステン酸およ
び水酸化カリウムとのいずれかから選ばれることが好ま
しい。
酸ナトリウムと、タングステン酸カリウムと、タングス
テン酸および水酸化ナトリウムと、タングステン酸およ
び水酸化カリウムとのいずれかから選ばれることが好ま
しい。
【0011】前記第2イオン生成材料は、クエン酸と、
クエン酸およびクエン酸ナトリウムとのいずれかから選
ばれることが好ましい。
クエン酸およびクエン酸ナトリウムとのいずれかから選
ばれることが好ましい。
【0012】上述の電解浴液をアンモニアでpH6.0
〜7.0に調整し、電解浴液温度60〜65℃、陰極電
流密度3〜7A/dm2 の条件でNi−W合金めっきを
行う。
〜7.0に調整し、電解浴液温度60〜65℃、陰極電
流密度3〜7A/dm2 の条件でNi−W合金めっきを
行う。
【0013】
【実施例】図1は、本発明の一実施例に用いられるめっ
き装置1を説明する図である。温度調節機能を有する電
解浴液槽2内に電解浴液(以下、浴液と略す)3が満た
されており、陽極4および被めっき物である陰極5が吊
されている。
き装置1を説明する図である。温度調節機能を有する電
解浴液槽2内に電解浴液(以下、浴液と略す)3が満た
されており、陽極4および被めっき物である陰極5が吊
されている。
【0014】陽極4および陰極5を挟んで、電流の側面
からの回り込みを防ぐ一対のついたて7a,7bが配置
されている。ついたて7a,7bには浴液3の循環を効
率よく行うために、複数の孔8a,8bが形成されてい
る。
からの回り込みを防ぐ一対のついたて7a,7bが配置
されている。ついたて7a,7bには浴液3の循環を効
率よく行うために、複数の孔8a,8bが形成されてい
る。
【0015】陽極4および陰極5に電流を印加すること
によって、陰極5上にめっきが生成される。
によって、陰極5上にめっきが生成される。
【0016】めっきを行う際には、図示しない撹拌機を
用いて浴液3を撹拌しながらめっきを行っても良い。
用いて浴液3を撹拌しながらめっきを行っても良い。
【0017】図2は、陰極5付近の反応機構を説明する
図である。図2においては、浴液に添加されるタングス
テン酸ナトリウム(Na2WO4)、硫酸ニッケル(N
iSO4)、クエン酸(以下、Citと略す場合あ
り)、およびアンモニア(NH3)の陰極5周辺におけ
る形態およびNi−W合金めっきの析出反応機構が説明
されている。浴液3中でタングステン酸ナトリウム(N
a2WO4)は、化1に示されるようにナトリウムイオ
ン(Na+)とタングステン酸イオン(WO4 2−)と
に、クエン酸(Cit)は、化2に示されるようにクエ
ン酸イオン(Cit2−)と水素イオン(H+)とに、
硫酸ニッケル(NiSO4)は化3に示されるようにニ
ッケルイオン(Ni2+)と硫酸イオン(SO4 2−)
とに解離しており、アンモニア(NH3)はアンモニウ
ムイオン(NH4 +)と水酸イオン(OH−)とにな
る。
図である。図2においては、浴液に添加されるタングス
テン酸ナトリウム(Na2WO4)、硫酸ニッケル(N
iSO4)、クエン酸(以下、Citと略す場合あ
り)、およびアンモニア(NH3)の陰極5周辺におけ
る形態およびNi−W合金めっきの析出反応機構が説明
されている。浴液3中でタングステン酸ナトリウム(N
a2WO4)は、化1に示されるようにナトリウムイオ
ン(Na+)とタングステン酸イオン(WO4 2−)と
に、クエン酸(Cit)は、化2に示されるようにクエ
ン酸イオン(Cit2−)と水素イオン(H+)とに、
硫酸ニッケル(NiSO4)は化3に示されるようにニ
ッケルイオン(Ni2+)と硫酸イオン(SO4 2−)
とに解離しており、アンモニア(NH3)はアンモニウ
ムイオン(NH4 +)と水酸イオン(OH−)とにな
る。
【0018】
【化1】Na2WO4→2Na++WO4 2-
【0019】
【化2】Cit→Cit2-+2H+
【0020】
【化3】NiSO4→Ni2++SO4 2- そのうち、Cit2-とWO4 2-とはマイナス4価の錯体
([WO4 2-・Cit2-]4-)を形成し、Ni2+とCi
t2-とNH4 +とは、化4で示されるニッケル−クエン酸
−アンミン混合錯体を形成する。
([WO4 2-・Cit2-]4-)を形成し、Ni2+とCi
t2-とNH4 +とは、化4で示されるニッケル−クエン酸
−アンミン混合錯体を形成する。
【0021】
【化4】
【0022】Na2WO4から解離したNa+ は、化5に
示されるように陰極5からの電子(e-)によってNa
原子となる。
示されるように陰極5からの電子(e-)によってNa
原子となる。
【0023】
【化5】Na++e-→Na このNa原子は、化6に示されるように水と反応してN
a+とOH-と吸着Hとを生じ、吸着Hは陰極5に吸着さ
れる。
a+とOH-と吸着Hとを生じ、吸着Hは陰極5に吸着さ
れる。
【0024】
【化6】 2Na+2H2O→2Na++2OH-+2H(吸着) 生じたOH- によって、陰極5付近のpHは約11以上
に上昇する。陰極5に吸着したHが2個反応することに
よって、水素ガスが発生する。この水素ガスは、ピット
発生の原因の1つである。Na+ は化5および化6に示
される機構を繰返す。
に上昇する。陰極5に吸着したHが2個反応することに
よって、水素ガスが発生する。この水素ガスは、ピット
発生の原因の1つである。Na+ は化5および化6に示
される機構を繰返す。
【0025】Cit2-とWO4 2-とによって形成された
マイナス4価錯体([WO4 2-・Cit2-]4-)は、化
7に示されるようにpH11以上ではCit2-とWO4
2- とに分解する。
マイナス4価錯体([WO4 2-・Cit2-]4-)は、化
7に示されるようにpH11以上ではCit2-とWO4
2- とに分解する。
【0026】
【化7】
【0027】WO4 2−は陰極5付近のNa+の作用で
陰極5の表面に吸着され、Cit2−は浴液3中に脱離
する。
陰極5の表面に吸着され、Cit2−は浴液3中に脱離
する。
【0028】化4で示されるニッケル−クエン酸−アン
ミン混合錯体は、陰極5付近では化8に示されるように
Cit2−とNH4 +とNi2+とに解離し、Ni2+
が陰極5からの電子によって金属Niとして陰極5上に
析出する。
ミン混合錯体は、陰極5付近では化8に示されるように
Cit2−とNH4 +とNi2+とに解離し、Ni2+
が陰極5からの電子によって金属Niとして陰極5上に
析出する。
【0029】
【化8】
【0030】陰極5に析出した2個のNiは、化7によ
って陰極5に吸着されていたWO4 2−と反応し、陰極
から6電子を受取ると、化9に示されるようにタングス
テンは酸素とのつながりを断ち切られ、Ni2Wとな
る。Ni2Wは別個に析出したNi原子の個数によりN
i3WやNi4Wなどの合金めっき組成を生じる。
って陰極5に吸着されていたWO4 2−と反応し、陰極
から6電子を受取ると、化9に示されるようにタングス
テンは酸素とのつながりを断ち切られ、Ni2Wとな
る。Ni2Wは別個に析出したNi原子の個数によりN
i3WやNi4Wなどの合金めっき組成を生じる。
【0031】
【化9】 2Ni+WO4 2−+4H2O+6e−→Ni2W+8OH− 溶液中のNa+が化7によって生じるWO4 2−の陰極
5表面に吸収される量、すなわちNi−W合金めっき中
のWの含有率を制御する大きな因子となることが解っ
た。あるNa+濃度範囲(0.152〜0.212モル
/リットル)においてWO4 2−が陰極全面にいきわた
る。この場合のWO4 2−の好ましい濃度範囲は0.0
76〜0.106モル/リットル、すなわち18.8〜
26.3g/リットルである。それ以上のWO4 2−は
Ni2Wなどの析出には無関係である。すなわち、従来
例で用いるタングステン酸ナトリウムの濃度70g/リ
ットルの約半分またはそれ以下の濃度でも、Ni−W合
金めっき中のWの含有率が好ましい44%以上に保て
る。以上はアルカリ金属イオンとしてNa+について説
明したが、K+もまたそれ以外のアルカリ金属イオンに
ついても同様である。
5表面に吸収される量、すなわちNi−W合金めっき中
のWの含有率を制御する大きな因子となることが解っ
た。あるNa+濃度範囲(0.152〜0.212モル
/リットル)においてWO4 2−が陰極全面にいきわた
る。この場合のWO4 2−の好ましい濃度範囲は0.0
76〜0.106モル/リットル、すなわち18.8〜
26.3g/リットルである。それ以上のWO4 2−は
Ni2Wなどの析出には無関係である。すなわち、従来
例で用いるタングステン酸ナトリウムの濃度70g/リ
ットルの約半分またはそれ以下の濃度でも、Ni−W合
金めっき中のWの含有率が好ましい44%以上に保て
る。以上はアルカリ金属イオンとしてNa+について説
明したが、K+もまたそれ以外のアルカリ金属イオンに
ついても同様である。
【0032】電解浴液温度である浴液3の温度(以下、
浴温と略す)を70℃に保持することが困難であるとい
うことが従来例の問題点と挙げられているため、本実施
例では浴温を保持可能な65℃以下とする。浴温を低下
すれば電着温度が低下するためにめっき層の密度が低下
し、めっき層の強靭性が低下することが考えられる。こ
のため、ニッケル−クエン酸−アンミン混合錯体の陰極
反応性を増加させてめっき層の密度が低下しないように
pH範囲を7.0まで上昇させ、さらに析出速度を低下
させてめっき膜の密度が増すように陰極電流密度を7A
/dm2 以下まで低下させた条件で、めっき膜の形成を
行う。
浴温と略す)を70℃に保持することが困難であるとい
うことが従来例の問題点と挙げられているため、本実施
例では浴温を保持可能な65℃以下とする。浴温を低下
すれば電着温度が低下するためにめっき層の密度が低下
し、めっき層の強靭性が低下することが考えられる。こ
のため、ニッケル−クエン酸−アンミン混合錯体の陰極
反応性を増加させてめっき層の密度が低下しないように
pH範囲を7.0まで上昇させ、さらに析出速度を低下
させてめっき膜の密度が増すように陰極電流密度を7A
/dm2 以下まで低下させた条件で、めっき膜の形成を
行う。
【0033】本発明のNi−W合金めっき方法に用いら
れる電解浴液は、溶解時にタングステン酸イオンとアル
カリ金属イオンとを生じる第1イオン生成材料と、硫酸
ニッケルと、溶解時にクエン酸イオンを生じる第2イオ
ン生成材料とを含む。
れる電解浴液は、溶解時にタングステン酸イオンとアル
カリ金属イオンとを生じる第1イオン生成材料と、硫酸
ニッケルと、溶解時にクエン酸イオンを生じる第2イオ
ン生成材料とを含む。
【0034】第1イオン生成材料としては、タングステ
ン酸ナトリウムまたはタングステン酸カリウムを用いる
ことができ、さらにタングステン酸と水酸化ナトリウ
ム、あるいはタングステン酸と水酸化カリウムとの組合
わせを用いてもよい。
ン酸ナトリウムまたはタングステン酸カリウムを用いる
ことができ、さらにタングステン酸と水酸化ナトリウ
ム、あるいはタングステン酸と水酸化カリウムとの組合
わせを用いてもよい。
【0035】第1イオン生成材料の濃度は25.0〜3
8.5g/リットルである。第1イオン生成材料が3
8.5g/リットルを超えれば、生成するめっきの引張
り応力が大きくめっき層を厚くすることが困難であり、
また高価なタングステン酸を多く必要とし、25.0g
/リットル未満では、W含有量44重量%以上のNi−
W合金めっきが得られないためである。Ni−W合金め
っき中のWの含有率は、44重量%未満では硬度が低い
ため、硬度の高いNi−W合金めっきとしては44重量
%以上が好ましい。
8.5g/リットルである。第1イオン生成材料が3
8.5g/リットルを超えれば、生成するめっきの引張
り応力が大きくめっき層を厚くすることが困難であり、
また高価なタングステン酸を多く必要とし、25.0g
/リットル未満では、W含有量44重量%以上のNi−
W合金めっきが得られないためである。Ni−W合金め
っき中のWの含有率は、44重量%未満では硬度が低い
ため、硬度の高いNi−W合金めっきとしては44重量
%以上が好ましい。
【0036】第1イオン生成材料の濃度は、さらに好ま
しくは溶解時のタングステン酸イオンの濃度が0.07
6〜0.106モル/リットルであり、またアルカリ金
属イオン濃度は0.152〜0.212モル/リットル
である。
しくは溶解時のタングステン酸イオンの濃度が0.07
6〜0.106モル/リットルであり、またアルカリ金
属イオン濃度は0.152〜0.212モル/リットル
である。
【0037】硫酸ニッケルの濃度は、10.0〜20.
0g/リットルである。これは硫酸ニッケルの濃度が2
0.0g/リットルを超えれば、W含有量44重量%以
上のNi−W合金めっきが得られず、10.0g/リッ
トル未満では、電流効率が低下するためである。
0g/リットルである。これは硫酸ニッケルの濃度が2
0.0g/リットルを超えれば、W含有量44重量%以
上のNi−W合金めっきが得られず、10.0g/リッ
トル未満では、電流効率が低下するためである。
【0038】第2イオン生成材料としては、クエン酸ま
たはクエン酸とクエン酸ナトリウムとの組合わせが用い
られる。
たはクエン酸とクエン酸ナトリウムとの組合わせが用い
られる。
【0039】第2イオン生成材料の濃度は、30.0〜
50.2g/リットルである。これは第2イオン生成材
料の濃度が50.2g/リットルを超えれば、Ni−W
合金めっきの比重が低下し、30.0g/リットル未満
では、電解浴液中に沈澱が生じるためである。
50.2g/リットルである。これは第2イオン生成材
料の濃度が50.2g/リットルを超えれば、Ni−W
合金めっきの比重が低下し、30.0g/リットル未満
では、電解浴液中に沈澱が生じるためである。
【0040】第2イオン生成材料のさらに好ましい濃度
は、溶解時のクエン酸濃度が0.143〜0.214モ
ル/リットルである。
は、溶解時のクエン酸濃度が0.143〜0.214モ
ル/リットルである。
【0041】第2イオン生成材料としてクエン酸とクエ
ン酸ナトリウムとの組合わせを用いる場合には、溶解時
にアルカリ金属イオンであるナトリウムイオンを生じる
ため、第1イオン生成材料から生じるアルカリ金属イオ
ン濃度と、第2イオン生成材料から生じるナトリウムイ
オン濃度との合計濃度が0.152〜0.212モル/
リットルとなるように各材料濃度を選ばなければならな
い。
ン酸ナトリウムとの組合わせを用いる場合には、溶解時
にアルカリ金属イオンであるナトリウムイオンを生じる
ため、第1イオン生成材料から生じるアルカリ金属イオ
ン濃度と、第2イオン生成材料から生じるナトリウムイ
オン濃度との合計濃度が0.152〜0.212モル/
リットルとなるように各材料濃度を選ばなければならな
い。
【0042】電解浴液のpHは、6.0〜7.0となる
ように、アンモニアまたはアンモニア水によって調整さ
れる。pHが7.0を超えればアンモニア臭が発生して
作業環境が過酷となり、6.0未満では電流効率が低下
する。
ように、アンモニアまたはアンモニア水によって調整さ
れる。pHが7.0を超えればアンモニア臭が発生して
作業環境が過酷となり、6.0未満では電流効率が低下
する。
【0043】電解浴液温度としては、60〜65℃が好
ましい。65℃を超えれば、44重量%WのNi−W合
金めっきが得られず、60℃未満では、電流効率が低下
するためである。
ましい。65℃を超えれば、44重量%WのNi−W合
金めっきが得られず、60℃未満では、電流効率が低下
するためである。
【0044】陰極電流密度は3〜7A/dm2が好まし
い。7A/dm2を超えればピットが生じ、3A/dm2
未満では、無めっき部分が生じるためである。
い。7A/dm2を超えればピットが生じ、3A/dm2
未満では、無めっき部分が生じるためである。
【0045】以下に具体的な実施例および比較例を述べ
る。
る。
【0046】実施例1 下記表1に示す組成で電解浴液を調整した。
【0047】
【表1】
【0048】このようにして得られた電解浴液を用い
て、下記表2に示す条件で被めっき物である陰極上にN
i−W合金めっきを行った。
て、下記表2に示す条件で被めっき物である陰極上にN
i−W合金めっきを行った。
【0049】
【表2】
【0050】得られたNi−W合金めっき被膜は、表面
に割れやピットが生じておらず平滑であり、100μm
の均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W
合金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であるこ
とが確認された。
に割れやピットが生じておらず平滑であり、100μm
の均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W
合金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であるこ
とが確認された。
【0051】実施例2 下記表3に示す組成で電解浴液を調整した。
【0052】
【表3】
【0053】表2で示した実施例1と同じ条件で、Ni
−W合金めっきを行った。
−W合金めっきを行った。
【0054】得られたNi−W合金めっき被膜は表面に
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
【0055】実施例3 下記表4に示す組成で電解浴液を調整した。
【0056】
【表4】
【0057】表2で示した実施例1と同じ条件で、Ni
−W合金めっきを行った。
−W合金めっきを行った。
【0058】得られたNi−W合金めっき被膜は表面に
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
【0059】実施例4 下記表5に示す組成で電解浴液を調整した。
【0060】
【表5】
【0061】表2で示した実施例1と同じ条件で、Ni
−W合金めっきを行った。
−W合金めっきを行った。
【0062】得られたNi−W合金めっき被膜は表面に
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
【0063】実施例5 下記表6に示す組成で電解浴液を調整した。
【0064】
【表6】
【0065】表2で示した実施例1と同じ条件で、Ni
−W合金めっきを行った。
−W合金めっきを行った。
【0066】得られたNi−W合金めっき被膜は表面に
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
割れやピットが生じておらず平滑であり、100μmの
均一な膜厚であることが確認された。また、Ni−W合
金めっき被膜中のWの含有率は、44重量%であること
が確認された。
【0067】比較例1 下記表7に示す組成で電解浴液を調整した。
【0068】
【表7】
【0069】このようにして得られた電解浴液を用い
て、下記表8に示す条件で被めっき物である陰極上にN
i−W合金めっきを行った。
て、下記表8に示す条件で被めっき物である陰極上にN
i−W合金めっきを行った。
【0070】
【表8】
【0071】得られたNi−W合金めっき被膜は100
μmの膜厚が得られたけれども、割れやピットが発生し
ていることが確認された。Ni−W合金めっき被膜中の
Wの含有率は、44重量%であることが確認された。
μmの膜厚が得られたけれども、割れやピットが発生し
ていることが確認された。Ni−W合金めっき被膜中の
Wの含有率は、44重量%であることが確認された。
【0072】
【発明の効果】本発明によれば、ピットが発生せず、低
電着応力のためにめっき層厚が厚く、均一電着性を有す
るW含有量44重量%以上のNi−W合金めっきが得ら
れる。
電着応力のためにめっき層厚が厚く、均一電着性を有す
るW含有量44重量%以上のNi−W合金めっきが得ら
れる。
【0073】またW含有量44重量%以上のNi−W合
金めっきを低電解浴液温度、低pH、低タングステン酸
イオン濃度で形成することができる。
金めっきを低電解浴液温度、低pH、低タングステン酸
イオン濃度で形成することができる。
【図1】本発明の一実施例に用いられるめっき装置1を
説明する図である。
説明する図である。
【図2】陰極5付近の反応機構を説明する図である。
3 電解浴液
Claims (3)
- 【請求項1】 溶解時にタングステン酸イオンおよびア
ルカリ金属イオンを生じる第1イオン生成材料25.0
〜38.5g/リットルと、硫酸ニッケル10.0〜2
0.0g/リットルと、溶解時にクエン酸イオンを生じ
る第2イオン生成材料30.0〜50.2g/リットル
とアンモニアとから成り、pHが6.0〜7.0になる
ようにアンモニアで調整された電解浴液を用い、電解浴
液温度60〜65℃、陰極電流密度3〜7A/dm2の
条件でW含有量44重量%以上のNi−W合金めっきを
行うことを特徴とするNi−W合金めっき方法。 - 【請求項2】 第1イオン生成材料がタングステン酸ナ
トリウムと、タングステン酸カリウムと、タングステン
酸および水酸化ナトリウムと、タングステン酸および水
酸化カリウムとのいずれかから選ばれることを特徴とす
る請求項1記載のNi−W合金めつき方法。 - 【請求項3】 第2イオン生成材料がクエン酸と、クエ
ン酸およびクエン酸ナトリウムとのいずれかから選ばれ
ることを特徴とする請求項1記載のNi−W合金めっき
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3140394A JP2787992B2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | Ni−W合金めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3140394A JP2787992B2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | Ni−W合金めっき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04365890A JPH04365890A (ja) | 1992-12-17 |
JP2787992B2 true JP2787992B2 (ja) | 1998-08-20 |
Family
ID=15267781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3140394A Expired - Fee Related JP2787992B2 (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | Ni−W合金めっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2787992B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5621570B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2014-11-12 | 三菱マテリアル株式会社 | Snめっき付き導電材及びその製造方法 |
CN103103562B (zh) * | 2011-11-14 | 2016-05-18 | 新奥科技发展有限公司 | 一种Ni-Co-W-Cu-B多组分阴极材料及其制备方法和用途 |
CN111926352B (zh) * | 2018-06-12 | 2023-04-07 | 北京航空航天大学 | 一种镀镍溶液 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5244297A (en) * | 1975-10-01 | 1977-04-07 | Atsushi Osawa | Manufacture of special alcoholic beverage |
-
1991
- 1991-06-12 JP JP3140394A patent/JP2787992B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04365890A (ja) | 1992-12-17 |
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