JPS58140910A - 絶縁電線 - Google Patents
絶縁電線Info
- Publication number
- JPS58140910A JPS58140910A JP57020955A JP2095582A JPS58140910A JP S58140910 A JPS58140910 A JP S58140910A JP 57020955 A JP57020955 A JP 57020955A JP 2095582 A JP2095582 A JP 2095582A JP S58140910 A JPS58140910 A JP S58140910A
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- Japan
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- resin
- equivalents
- insulated wire
- polyamide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は機械巻線性および耐熱性に優ネタ絶縁電線に関
するものである。
するものである。
ポリイミド樹脂を被覆した絶縁電線は耐熱性に優ね、2
20℃クラスのエナメル線として多用されてきているが
、皮膜の機械的強度が劣るという欠点がある。
20℃クラスのエナメル線として多用されてきているが
、皮膜の機械的強度が劣るという欠点がある。
本発明はポリイミド樹脂被覆絶縁電線の機械的強度を改
良し、しかも安価な絶縁電線の提供を目的とするもので
ある。
良し、しかも安価な絶縁電線の提供を目的とするもので
ある。
すなわち、本発明の要旨はインシアヌレート環含有ポリ
インシアネート、芳香族ジイソシアネート、ラクタム、
および酸無水物基を含有するポリカルボン酸をクレゾー
ル系溶媒中で反応させて得られるポリアミドイミド樹脂
単独もしくはこれを主体とする樹脂組成物を外層、ポリ
イミド樹脂を内層とし、て導体周上に塗布、焼付してな
り、外層の皮膜厚を1とし1ことき内層の皮膜厚を0.
5〜20となるように構成したものである。
インシアネート、芳香族ジイソシアネート、ラクタム、
および酸無水物基を含有するポリカルボン酸をクレゾー
ル系溶媒中で反応させて得られるポリアミドイミド樹脂
単独もしくはこれを主体とする樹脂組成物を外層、ポリ
イミド樹脂を内層とし、て導体周上に塗布、焼付してな
り、外層の皮膜厚を1とし1ことき内層の皮膜厚を0.
5〜20となるように構成したものである。
本発明において使用されるポリアミドイミド樹脂の原料
となるインシアヌレート環含有ポリイソシアネートはポ
リイソシアネート化合物の三量化によって得られ、この
反応はインシアネート基と反応しない溶剤の存在下で、
フェノール、ラクタム類のようなイソシアネート基と反
応する成分を加えずに行なわれ、反応を効率的に進める
Kめには、ポリイソシアネート化合物の三量化触媒を使
用することが望ましい。
となるインシアヌレート環含有ポリイソシアネートはポ
リイソシアネート化合物の三量化によって得られ、この
反応はインシアネート基と反応しない溶剤の存在下で、
フェノール、ラクタム類のようなイソシアネート基と反
応する成分を加えずに行なわれ、反応を効率的に進める
Kめには、ポリイソシアネート化合物の三量化触媒を使
用することが望ましい。
溶剤としては、原料としてのポリイソシアネート化合物
を溶解するものであれば脂肪族及び芳香族炭化水素、ハ
ロゲン化芳香族系炭化水素、エステル系、ケトン系、エ
ーテル系、エチレングリコールモノアルキルモノアセテ
ート系溶剤、ジメチルスル小オギサイド等の中から任意
に選定できる。
を溶解するものであれば脂肪族及び芳香族炭化水素、ハ
ロゲン化芳香族系炭化水素、エステル系、ケトン系、エ
ーテル系、エチレングリコールモノアルキルモノアセテ
ート系溶剤、ジメチルスル小オギサイド等の中から任意
に選定できる。
ポリイソシアネート化合物の三量化触媒としてはアルカ
リ金属アセテート、鉄、マグネシウム、エステル、亜鉛
、錫、鉛、ハ丈ジウム、チタン等の金属塩及び有機金属
化合物、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデカン−7,2−(ジメ手ルアミ
ノメチル)−4゜6−シメチルフエノールなどのフェノ
ールのマンニフヒ塩基、2−ジメチルアミノエタノール
等の第三級アミンなどが使用でき、特に制限Qオない。
リ金属アセテート、鉄、マグネシウム、エステル、亜鉛
、錫、鉛、ハ丈ジウム、チタン等の金属塩及び有機金属
化合物、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデカン−7,2−(ジメ手ルアミ
ノメチル)−4゜6−シメチルフエノールなどのフェノ
ールのマンニフヒ塩基、2−ジメチルアミノエタノール
等の第三級アミンなどが使用でき、特に制限Qオない。
ポリイソシアネート化合物の三量化の反応温度は例えば
50〜160℃の範囲で行なわれる。
50〜160℃の範囲で行なわれる。
インシアヌレート環含有ポリイソシアネートの原料とし
ては、脂肪族、脂環族、・芳香族いずれのジイソシアネ
ート化合物でもよいが、芳香族ジイソシアネート、特に
4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレ
ンジインシアネート、キシリレンジイソシアネート、4
,4′−ジフェニルエーテルジイソシアネート等が好ま
しい。
ては、脂肪族、脂環族、・芳香族いずれのジイソシアネ
ート化合物でもよいが、芳香族ジイソシアネート、特に
4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレ
ンジインシアネート、キシリレンジイソシアネート、4
,4′−ジフェニルエーテルジイソシアネート等が好ま
しい。
イソシアヌレート環含有ポリイソシアネートは、耐熱性
、可撓性の点から残存インシアネート基の含有量は10
〜70%の範囲が好ましい(原料インシアネート中のイ
ンシアネート基含有量を100とする)。
、可撓性の点から残存インシアネート基の含有量は10
〜70%の範囲が好ましい(原料インシアネート中のイ
ンシアネート基含有量を100とする)。
イソシアヌレート環含有ポリインシアネートは、全イソ
シアネート成分に対して0.01〜0,60当量用いる
ことが耐熱性、可撓性の点で好ましい。
シアネート成分に対して0.01〜0,60当量用いる
ことが耐熱性、可撓性の点で好ましい。
クレゾール系溶媒可溶化の重要な原料であるラクタムと
しては、一般的にはクレゾール系溶媒中でインシアネー
ト基又は酸無水物基と反応して、クレゾール系溶媒に可
溶なものであれば何でも良いが、溶解性、反応性及び価
格面を考慮すれば、ε−カプロラクタムカ好マシい。
しては、一般的にはクレゾール系溶媒中でインシアネー
ト基又は酸無水物基と反応して、クレゾール系溶媒に可
溶なものであれば何でも良いが、溶解性、反応性及び価
格面を考慮すれば、ε−カプロラクタムカ好マシい。
ラクタムの使用量は耐熱性、可撓性及び溶解性の点で全
イソシアネート当量の0.30〜0.90当量(ε−カ
ブロラククムを2官能と考える)が好ましい。
イソシアネート当量の0.30〜0.90当量(ε−カ
ブロラククムを2官能と考える)が好ましい。
芳香族ジイソシアネートとしては、4 、4’−ジフェ
ニルメタンジインシアネー)、4.4’−ジフェニルエ
ーテルジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネートなどが好ましい。
ニルメタンジインシアネー)、4.4’−ジフェニルエ
ーテルジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネートなどが好ましい。
酸無水物基を有するポリカルボン酸としては、耐熱性、
価格の点でトリノリフト酸無水物が好ましい。
価格の点でトリノリフト酸無水物が好ましい。
イソシアネート成分と酸成分の使用量は、カルボキシル
基および酸無水物基に対するイソシアネート基の比が1
.5〜0.8になるように選定するのが耐熱性の点で好
ましい。
基および酸無水物基に対するイソシアネート基の比が1
.5〜0.8になるように選定するのが耐熱性の点で好
ましい。
絶縁電線の特性上好ましい高分子量の樹脂を得るために
はカルボキシル基及び酸無水物基に対するイソシアネー
ト基の比を1.0付近にすることが特に好ましい。
はカルボキシル基及び酸無水物基に対するイソシアネー
ト基の比を1.0付近にすることが特に好ましい。
クレゾール系溶媒としてはクレゾールの他フェノール、
キシノール等が使用でき、混合溶媒でもよ見A0 合成は全イソシアネート成分、ラクタムおよびクレゾー
ル系溶媒を仕込んで160〜190℃で1〜3時間反応
させた後、酸無水物基含有ポリカルボン酸を肺気、20
0〜220℃で10〜20時間さらに反応を続けて行わ
れろ。
キシノール等が使用でき、混合溶媒でもよ見A0 合成は全イソシアネート成分、ラクタムおよびクレゾー
ル系溶媒を仕込んで160〜190℃で1〜3時間反応
させた後、酸無水物基含有ポリカルボン酸を肺気、20
0〜220℃で10〜20時間さらに反応を続けて行わ
れろ。
このようにして得られたポリアミドイミド樹脂は、ジメ
チルホルムアミド中で測定した還元比粘度が0.15以
上のものが特に絶縁電線としての特性が良い。
チルホルムアミド中で測定した還元比粘度が0.15以
上のものが特に絶縁電線としての特性が良い。
このポリアミドイミド樹脂は、その後クレゾール系溶媒
で樹脂分20〜400〜40重量部れて絶縁電線用ワニ
スとして使用される。
で樹脂分20〜400〜40重量部れて絶縁電線用ワニ
スとして使用される。
本発明におけるポリアミドイミド樹脂は単独でもml熱
性、機械的特性、耐フpン性に優れた工丈メル皮膜を形
成するが、高速焼付時におけろ硬化性、作業性はフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、アルコキシ変性アミノ樹脂
、エポキシ樹脂、ポリイソシアネート樹脂、フェノキシ
樹脂などの二次樹脂の1種または2種以上を添加するこ
とによって格段と向上する。その添加量はポリアミドイ
ミド樹脂100重量部に対して二次樹脂が01〜60重
量部であり、この範囲をこえろとエナメル線の可撓性が
低下する。
性、機械的特性、耐フpン性に優れた工丈メル皮膜を形
成するが、高速焼付時におけろ硬化性、作業性はフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、アルコキシ変性アミノ樹脂
、エポキシ樹脂、ポリイソシアネート樹脂、フェノキシ
樹脂などの二次樹脂の1種または2種以上を添加するこ
とによって格段と向上する。その添加量はポリアミドイ
ミド樹脂100重量部に対して二次樹脂が01〜60重
量部であり、この範囲をこえろとエナメル線の可撓性が
低下する。
特に、ポリアミドイミド樹脂100重量部に対してアミ
ン樹脂およびフェノール樹脂をそれぞれ0、1〜15重
量部を添加してなる樹脂組成物を用いると、外観、可撓
性に優れた絶縁皮膜が得られる。
ン樹脂およびフェノール樹脂をそれぞれ0、1〜15重
量部を添加してなる樹脂組成物を用いると、外観、可撓
性に優れた絶縁皮膜が得られる。
本発明において使用されるポリイミド樹脂としてはトレ
ニース#2000.#3000(東し株式会社製)およ
びPyre−MLワニス(米国Du −Pont社製
)などがあげられるが、こねに限定されるものではない
。
ニース#2000.#3000(東し株式会社製)およ
びPyre−MLワニス(米国Du −Pont社製
)などがあげられるが、こねに限定されるものではない
。
また、本発明において外層の皮膜厚を1とし1ことき内
層の皮膜厚を05〜20とし1このは、内層の皮膜厚が
0.5以下のととは機械的強度(耐摩耗性)は向上する
が耐熱性の低下が犬ぎくなり、20以上のときは耐熱性
は良いが十分な機械的強度が得られないためである。
層の皮膜厚を05〜20とし1このは、内層の皮膜厚が
0.5以下のととは機械的強度(耐摩耗性)は向上する
が耐熱性の低下が犬ぎくなり、20以上のときは耐熱性
は良いが十分な機械的強度が得られないためである。
機械的強度と耐熱性のバランスをとる眞は外層の皮膜厚
を1としたとき内層の皮膜厚を2〜6とするのが好まし
い。
を1としたとき内層の皮膜厚を2〜6とするのが好まし
い。
以下、本発明の具体的実施例を比較例と対比しながら説
明する。
明する。
比較例1゜
トレニーヌ#20DOワニスヲ1.0 mm y5の導
体上に塗布焼付してエナメル線を得た。
体上に塗布焼付してエナメル線を得た。
比較例Z
(1) 芳香族ジイソシアネート三量体の合成酸
分 グラム トリレンジイソシアネート 600キシレン
6002−ジメチルアミノエタ ノール(触媒)1.8 上記成分を温度計、攪拌機を備えた4つロフラスコに入
わ、窒素気流中で140’CF昇温し、同温度でイソシ
アネート基の含有量(初期濃度48重量係)が25重量
係になるまで反応を進めた。
分 グラム トリレンジイソシアネート 600キシレン
6002−ジメチルアミノエタ ノール(触媒)1.8 上記成分を温度計、攪拌機を備えた4つロフラスコに入
わ、窒素気流中で140’CF昇温し、同温度でイソシ
アネート基の含有量(初期濃度48重量係)が25重量
係になるまで反応を進めた。
Q) ポリアミドイミド樹脂の合成
(1)で合成したジイソシアネート
三量体(50チ溶液) 37.0
0.114.4′−ジフェニルメタンジ インシアネート 113.3
0.91ト リノリ フ ト酸無水物 9
6.0 1.0ε−カブ−ラクタム 3
6.60.65クレゾール 300 トリメリント酸無水物を除く上記成分を温度計、攪拌機
、分留管を備えた4つロフラスコに人ね、窒素気流中で
温度を180℃に上昇1.90分間反応を行う。次いで
トリメリント酸無水物を添加して210℃に昇温し、こ
のままの温度で15時間反応を進めた。
0.114.4′−ジフェニルメタンジ インシアネート 113.3
0.91ト リノリ フ ト酸無水物 9
6.0 1.0ε−カブ−ラクタム 3
6.60.65クレゾール 300 トリメリント酸無水物を除く上記成分を温度計、攪拌機
、分留管を備えた4つロフラスコに人ね、窒素気流中で
温度を180℃に上昇1.90分間反応を行う。次いで
トリメリント酸無水物を添加して210℃に昇温し、こ
のままの温度で15時間反応を進めた。
次いでクレゾールで樹脂分濃度60重量係に調整してワ
ニスを得1こ。このワニスの粘度け250ポア ス1.
0 、47C樹脂のジメチルホルムアミド中で測定り、
y=還元叱粘度は023であった。
ニスを得1こ。このワニスの粘度け250ポア ス1.
0 、47C樹脂のジメチルホルムアミド中で測定り、
y=還元叱粘度は023であった。
上記の如くして得られ1こポリアミドイミド樹+11ワ
ニスを10朋ダの導体上に塗布焼付してエナメル線を得
1こ。
ニスを10朋ダの導体上に塗布焼付してエナメル線を得
1こ。
比較例6
比較例2Vcおけるポリアミドイミド樹脂100重量部
に対してPR−1501(日立化成■製フェノールホル
ムアルデヒド樹脂)およびメランー20(日立化成■製
アルコキシ変性アミノ樹脂)をそれぞれ5重量部ずつ添
加し、クレゾールで樹脂分濃度30係に調整してポリア
ミドイミド樹脂組成物とし、これを1.0 +nm S
の導体上に塗布焼付してエナメル線を得た。
に対してPR−1501(日立化成■製フェノールホル
ムアルデヒド樹脂)およびメランー20(日立化成■製
アルコキシ変性アミノ樹脂)をそれぞれ5重量部ずつ添
加し、クレゾールで樹脂分濃度30係に調整してポリア
ミドイミド樹脂組成物とし、これを1.0 +nm S
の導体上に塗布焼付してエナメル線を得た。
比較例4,5ならびに実施例1〜5
比較例乙におけるポリアミドイミド樹脂組成物を外層、
比較例1におけるポリイミド樹脂を内層として内層と外
層の皮膜厚が下表の通りになるように1.0 mmダの
導体上に塗布焼付してダブルコートエアメル線を得た。
比較例1におけるポリイミド樹脂を内層として内層と外
層の皮膜厚が下表の通りになるように1.0 mmダの
導体上に塗布焼付してダブルコートエアメル線を得た。
上記比較例および実施例における各種エナメル線の特性
は下表に示す通りである。
は下表に示す通りである。
なお、機械的強度の評価はJIS−C3003に準拠し
往復式摩耗試験、耐熱性の評価は同規格に準拠し、対撚
試料を高温中で熱劣化後の絶縁破壊電圧残率を測定した
。
往復式摩耗試験、耐熱性の評価は同規格に準拠し、対撚
試料を高温中で熱劣化後の絶縁破壊電圧残率を測定した
。
(1)荷重70J9
(21判定基準
◎:280℃X30日劣化後の絶縁破日型化後率 60
%以上○:
40〜60チ△:
20〜40チ×:
20係以下(11) 以上説明してきた通り1本発明はクレゾール系溶媒可溶
ポリアミドイミド樹脂を外層、ポリイミド樹脂を内層と
して絶縁電線を得るものであり、機械的強度および耐熱
性に優れ、かつ安価な絶縁電線が得られることになる。
%以上○:
40〜60チ△:
20〜40チ×:
20係以下(11) 以上説明してきた通り1本発明はクレゾール系溶媒可溶
ポリアミドイミド樹脂を外層、ポリイミド樹脂を内層と
して絶縁電線を得るものであり、機械的強度および耐熱
性に優れ、かつ安価な絶縁電線が得られることになる。
(12)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 イソシアヌレート環含有ポリイソシアネート、芳
香族ジイソシアネート、ラクタム、および酸無水物基を
含有するポリカルボン酸をクレゾール系溶媒中で反応さ
せて得られるポリアミドイミド樹脂単独もしくはこれを
主体とする樹脂組成物を外層、ポリイミド樹脂を内層と
(て導体周上に塗布、焼付してなり、外層の皮膜厚を1
としたとき内層の皮膜厚を0.5〜20となるように構
成したことを特徴とする絶縁電線。 Z 上記ポリアミドイミド樹脂は酸無水物基を含有する
ポリカルボン酸を1,00当量、インシアヌレート環含
有ポリイソシアネートを0.01〜0.30当量、芳香
族ジイソシアネートとイソシアヌレート環含有ポリイソ
シアネートの当量の和を0.80〜1.50当量、ラク
タムを0.3〜0、g当量としてクレゾール系溶媒中で
反応させて得たものであることを特徴とする請求の範囲
第1項記載の絶縁電線。 3 上記ポリアミドイミド樹脂100重量部に対してア
ミノ樹脂およびフェノール樹脂をそれぞれ0.1〜15
重量部添加してなる樹脂組成物を内層としたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の絶縁電
線。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57020955A JPS58140910A (ja) | 1982-02-12 | 1982-02-12 | 絶縁電線 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57020955A JPS58140910A (ja) | 1982-02-12 | 1982-02-12 | 絶縁電線 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58140910A true JPS58140910A (ja) | 1983-08-20 |
JPS6213768B2 JPS6213768B2 (ja) | 1987-03-28 |
Family
ID=12041601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57020955A Granted JPS58140910A (ja) | 1982-02-12 | 1982-02-12 | 絶縁電線 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58140910A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007287399A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Sumitomo Electric Wintec Inc | 樹脂ワニス、絶縁電線及び電気コイル |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS471929A (ja) * | 1970-06-29 | 1972-01-31 | ||
JPS5550514A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-12 | Nitto Electric Ind Co | Magnet wire |
-
1982
- 1982-02-12 JP JP57020955A patent/JPS58140910A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS471929A (ja) * | 1970-06-29 | 1972-01-31 | ||
JPS5550514A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-12 | Nitto Electric Ind Co | Magnet wire |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007287399A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Sumitomo Electric Wintec Inc | 樹脂ワニス、絶縁電線及び電気コイル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6213768B2 (ja) | 1987-03-28 |
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