JP6964452B2 - 測定機管理システム及びプログラム - Google Patents

測定機管理システム及びプログラム Download PDF

Info

Publication number
JP6964452B2
JP6964452B2 JP2017137210A JP2017137210A JP6964452B2 JP 6964452 B2 JP6964452 B2 JP 6964452B2 JP 2017137210 A JP2017137210 A JP 2017137210A JP 2017137210 A JP2017137210 A JP 2017137210A JP 6964452 B2 JP6964452 B2 JP 6964452B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stylus
contact
measured
measuring device
management system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017137210A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019020909A (ja
JP2019020909A5 (ja
Inventor
利幸 玉井
浩三郎 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitutoyo Corp
Original Assignee
Mitutoyo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitutoyo Corp filed Critical Mitutoyo Corp
Priority to JP2017137210A priority Critical patent/JP6964452B2/ja
Priority to US16/027,854 priority patent/US10900764B2/en
Priority to DE102018211743.8A priority patent/DE102018211743A1/de
Priority to CN201810771471.0A priority patent/CN109253715B/zh
Publication of JP2019020909A publication Critical patent/JP2019020909A/ja
Publication of JP2019020909A5 publication Critical patent/JP2019020909A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6964452B2 publication Critical patent/JP6964452B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B5/00Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
    • G01B5/004Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring coordinates of points
    • G01B5/008Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring coordinates of points using coordinate measuring machines
    • G01B5/012Contact-making feeler heads therefor
    • G01B5/016Constructional details of contacts
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/20Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring contours or curvatures, e.g. determining profile
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/02Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness
    • G01B21/04Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness by measuring coordinates of points
    • G01B21/047Accessories, e.g. for positioning, for tool-setting, for measuring probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/30Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B5/00Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
    • G01B5/20Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B5/201Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring contours or curvatures for measuring roundness

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Description

本発明は、測定機における各種記録データを管理・分析する測定機管理システムに関し、特に、各種記録データを分析することにより、測定機のメンテナンスや部品交換を推定して処理を実行する測定機管理システムに関する。
従来から、被測定物の形状や寸法を測定する様々な測定機が用いられている。このような測定機として、例えば、真円度測定装置や表面性状測定機が知られている。真円度測定装置や表面性状測定機は、鋭い先端を持つスタイラスにより被測定物の表面をなぞったときに生じるスタイラスの上下動を検出し、これに基づき被測定物の表面の凹凸や性状を測定する。測定時、スタイラスは、被測定物の表面に物理的に接触した状態で移動するため、使用の履歴に応じてスタイラスの先端は摩耗することになる。スタイラスが摩耗すると測定精度が低下する。摩耗が進行すると、測定精度が許容できる限界よりも悪化するため、スタイラスには寿命があり、適切なタイミングでメンテナンスや交換をする必要がある。
そこで適切なタイミングでスタイラスを交換するよう促すべく、スタイラスの移動距離を検出し、累積移動距離が閾値を超えたときに交換時期を通知する測定機が提案されている(例えば特許文献1を参照)。しかし、このような通知に応じて交換をするか否かは測定機のユーザや管理者の判断に依存している。また、いざスタイラスを交換しようとしたときに、交換用のスタイラスが容易に入手できない場合もあり、このような場合には、測定精度を犠牲にするか、あるいは測定をあきらめざるを得ない場合もあった。
特開2011−169616号公報
このような問題に鑑みて、本発明は、測定機の管理を容易とすることができる測定機管理システムを提供することを目的とする。
上記課題を解決すべく、本発明の測定機管理システムは、複数の測定装置から、各測定装置における交換部品の状態を示すコンディション情報を収集する収集手段と、収集手段が収取したコンディション情報に基づき交換部品の交換時期を予測する予測手段と、を備える。
本発明では、予測手段による予測結果に基づき、交換部品が必要となる時期及び量に関する情報を生産部門に通知する通知手段をさらに備えるとよい。また、予測手段による予測結果と、交換部品の在庫量とに基づき、交換部品の生産計画に関する情報を生産部門に通知するとよい。コンディション情報は、測定装置における測定データそのものではないことが好ましい。
本発明では、測定装置は、例えば真円度測定装置であり、この場合、交換部品がスタイラスであるとよい。そして、コンディション情報は、スタイラスが被測定物に接触した状態で移動した距離を累積した接触移動距離であるとよい。
本発明に係るプログラムは、コンピュータを上記何れかの測定機管理システムとして機能させることを特徴とする。
測定機管理システムの全体構成の一例を示す。 サーバの構成を示すブロック図である。 測定機管理システムでの管理対象とする真円度測定装置の外観図を示す。 真円度測定装置の機械座標系を示す。 真円度測定装置の制御装置本体の構成を示すブロック図である。 被測定物上でのスタイラス先端の移動経路を示す模式図である。 接触移動距離累積処理の手順を示すフローチャートである。 スタイラスへの付勢状態を例示する模式図である。 通知画面の一例を示す。 リセット履歴表示画面の一例を示す。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
〔システムの構成〕
図1は、本実施形態に係る測定機管理システム1を当該測定機管理システム1による管理対象である複数の測定機4とともに示している。図1に示したように測定機管理システム1は、ネットワークNWを介して管理対象である測定機4と接続されたサーバ2を備える。本実施形態では、測定機管理システム1が管理する測定機4が真円度測定装置である場合を例に説明をする。なお、測定機4が真円度測定装置以外の測定機であってもよい。
サーバ2は、例えば、コンピュータシステムであり、キーボード、マウス、タッチパネル等の入出力装置、CPU(Central Processing Unit)等の演算部及びRAM(Random Access Memory)、ROM(read only memory)等の記憶装置を備えた本体、CRT(Cathode Ray Tube)やLCD(Liquid Crystal Display)等の表示装置等から構成される。
図2に示すように、サーバ2は、少なくとも、記憶部201、制御部202及び通信部203を備える。サーバ2の記憶部201には、制御部202にて実行されるプログラムや、当該プログラムで用いられるデータ等が記憶されている。例えば、記憶部201は、測定機4から収集したコンディションデータ、コンディションデータを分析して交換部品の交換時期を予測する予測プログラム、予測プログラムによる予測結果に基づき各種のアクション(例えば交換時期の通知、交換部品の在庫確認、交換部品の発注等)を実行するアクションプログラム等を記憶する。
制御部202は、記憶部201に記憶されたプログラムに従った処理を実行する。通信部203は、測定機4との通信を行うためにネットワークNWに接続するための機能を提供する。
なお、サーバ2は、上記の各構成が物理的に一体として構成されていなくてもよい。例えば、上記構成要素の一部または全部が分散して配置されていてもよく、それらが協働してサーバ2として機能するようにすればよい。
〔真円度測定装置の構成〕
図3は、測定機管理システム1での管理対象とする真円度測定装置4の外観図を示している。同図において、真円度測定装置4は、測定手段としての真円度測定装置本体10と、制御装置50とから構成されている。
真円度測定装置本体10は、基台12と、該基台12上に矢印A方向に回転可能に設置された回転テーブル14と、該回転テーブル14のX方向位置を調整する位置調整手段16及びY方向位置を調整する位置調整手段18と、載置面のX方向傾きを調整する傾斜調整手段20及びY方向傾き量を調整する傾斜調整手段22と、該回転テーブル14上に載置された被測定物24の表面位置を接触検出可能な測定子としてのスタイラス27を先端に備えた検出器26と、検出器26を保持する検出器ホルダ40と、検出器ホルダ40が先端に装着されたアーム42と、アーム42を矢印Bで示す水平(X軸)方向に駆動することでスタイラス27を水平方向に移動させるスタイラス移動手段28と、このスタイラス移動手段28を矢印Cで示す上下(Z軸)方向に移動させることでスタイラス27を上下方向に移動させるスタイラス移動手段30とを含む。
検出器26では、スタイラス27がその軸線方向がZ軸方向に対して被測定物24側に若干傾くように付勢手段(図示省略)によって付勢されている。検出器26は、スタイラス27を被測定物24の表面に接触させて該表面に対して相対移動されたときのスタイラス27の変位を検出することで測定データを得る。検出器26で得られた測定データは、真円度測定装置4全体の動作を司る制御装置50に送られる。検出器26が検出する測定データの極性は、被測定物24の外周面にスタイラス27を接触させる測定において、スタイラス27の先端が被測定物24から離れる方向への変位を正として規定されるものとする。
真円度測定装置4では、図4に示すように、校正により回転テーブル14の上面とテーブル回転中心軸の交点をXZ原点とした機械座標系を構築する。スタイラス移動手段28及びスタイラス移動手段30により移動させるスタイラス27の位置と、検出器26により検出する変位とに基づき、スタイラス27先端のX位置及びZ位置(合わせてXZ位置という)が取得できる。
制御装置50は、各種の演算処理や制御処理を実行する制御装置本体52、操作部54、表示部56から構成されており、制御装置本体52は、図5に示すように、主に、CPU60、RAM62、ROM64、HDD66、表示制御部68を有する。HDD66はI/F70を介してCPU60と接続されている。また、操作部54もI/F72を介してCPU60に接続されており、操作部54から入力されるコード情報及び位置情報は、I/F72を介してCPU60に入力される。CPU60は、表示制御部68を介して表示部56とも接続されており、CPU60からの表示指示に基づき表示制御部68の制御によって表示部56に各種画面や測定結果等が表示される。また、CPU60はI/F74を介して真円度測定装置本体10とも接続されており、I/F74を介して回転テーブル14、スタイラス移動手段28、30、及び検出器26等の駆動を制御する制御信号が真円度測定装置本体10に送信され、検出器26で得られた測定データがCPU60に入力される。入力された測定データは、RAM62、あるいはI/F70を介してHDD66に格納される。制御装置50では、この測定データを解析して、真円度や真直度等の幾何公差を求める。
RAM62、ROM64、HDD66には、真円度測定装置4を制御するための制御プログラム等の各種のプログラムが格納されている。本実施形態では、制御プログラムに接触移動距離累積処理を実行する機能が組み込まれている。また、HDD66には、ユーザにより作成された一連の測定手順を指示するパートプログラムPも格納される。本実施形態においては、CPU60がこれらのプログラムやパートプログラムPを適宜読み出して実行することにより、真円度測定装置4における測定動作を制御する測定制御手段60A、及びスタイラス27の使用履歴を管理する履歴管理手段60Bとして機能する。
なお、パートプログラムPは、各軸の移動及び測定の操作を制御装置50による数値制御で行うためのプログラムであり、該プログラム中で複数種類の測定を定義することで、複数種類の測定を順番に行って複数の幾何公差を求めることも可能である。真円度測定装置4は、例えば、回転外面の真円度、回転内面の真円度、回転上面の平面度、回転下面の平面度、直動外面の真直度、直動内面の真直度、直動上面の真直度、直動下面の真直度、スパイラル外内面の円筒度、及びスパイラル上下面の平面度といった幾何公差を測定することができる。
すなわち、スタイラス移動手段28によってスタイラス27を水平方向に移動させると、回転テーブル14上に載置された被測定物24の外周面に接触する。この状態で回転テーブル14を回転させる、あるいはスタイラス移動手段30によってスタイラス27を上下方向に移動させることによって、検出器26では被測定物24の外周面を測定することができる。制御装置50では、このようにスタイラス27を被測定物24の外周面に接触させ、回転テーブル14を回転させて得られた測定データから真円度(回転外面の真円度)、スタイラス27を上下方向に移動させて得られた測定データから真直度(直動外面の真直度)を求める。
また、スタイラス移動手段28、30によって、スタイラス27を水平方向、上下方向に移動させて被測定物24の上面に接触させ、この状態で回転テーブル14を回転させる、あるいはスタイラス移動手段28によってスタイラス27を水平方向に移動させることによって、検出器26では被測定物24の上面を測定できる。制御装置50では、このようにスタイラス27を被測定物24の上面に接触させ、回転テーブル14を回転させて得られた測定データから平面度(回転上面の平面度)、スタイラス27を上下方向に移動させて得られた測定データから真直度(直動上面の真直度)を求める。
また、本実施形態においては、検出器26は回転機構(図示省略)によって矢印Dに示す方向、すなわちZ軸方向を中心に所定角度の範囲(例えば、0度から270度まで1度単位で)回転可能になっている。これにより、円筒状の被測定物24の内周面にもスタイラス27を接触させることができ、回転テーブル14を回転させる、あるいはスタイラス移動手段30によってスタイラス27を上下方向に移動させることによって、検出器26では被測定物24の内周面の測定も可能である。そして、制御装置50では、このように被測定物24の内周面にスタイラス27を接触させ、回転テーブル14を回転させて得られた測定データから真円度(回転内面の真円度)、スタイラス27を上下方向に移動させて得られた測定データから真直度(直動内面の真直度)を求める。
さらに、検出器ホルダ40はX軸を中心に90度回転可能にアーム42に装着されており、検出器ホルダ40の姿勢を縦横に変更することもできる。なお、図3は検出器ホルダ40の姿勢が縦になっている状態を示している。検出器ホルダ40の姿勢を横にし、且つ検出器26を回転させることで、被測定物24の下面(例えば、円筒または円柱の中央部に下端面よりも大径の大径部を設けたような被測定物24であれば、該大径部の下側の面のことを下面と称す)にもスタイラス27を接触させることができ、回転テーブル14を回転させる、あるいはスタイラス移動手段28によってスタイラス27を水平方向に移動させることによって、検出器26では被測定物24の下面の測定も可能である。そして、制御装置50では、このように被測定物24の下面にスタイラス27を接触させ、回転テーブル14を回転させて得られた測定データから平面度(回転下面の平面度)、スタイラス27を上下方向に移動させて得られた測定データから真直度(直動下面の真直度)を求める。
制御装置50では、測定した面の種類(外面/内面/上面/下面等)と移動の種類(回転/直動等)とに応じて適切な幾何公差を選択して計算する。なお、真円度測定装置4の測定は上記以外の幾何公差に限定されず、他の幾何公差等を測定してもよい。
〔履歴の記録〕
本実施形態の真円度測定装置4では、上記のような各種の測定とともに、スタイラス27が被測定物24に接触した状態で移動した距離を累積した接触移動距離を求め、HDD66に記録する。なお、真円度測定装置4では、接触移動距離は、個々のスタイラス27毎に記録される。検出器26に取り付けられているスタイラス27の識別は、ユーザの設定により行うとよい。なお、接触移動距離はコンディションデータの一例である。
図6に示したように、真円度測定装置4において、スタイラス27の先端が被測定物24に接触した状態で、回転テーブル14が時計台に回転し、スタイラス移動手段30によりスタイラス27が上方向(Z軸方向)に移動されたとする。このときにスタイラス27が被測定物24に接触した状態で移動した経路が破線で表される。このスタイラス27が被測定物24に接触した状態で移動した経路の長さを累積したものが接触移動距離となる。
真円度測定装置4は、所定の周期でスタイラス27の先端のXZ位置及び回転テーブル14の回転角度θ(以下では、これらを合わせて相対位置データと呼ぶ)を取得し続ける。図6においては、相対位置データを取得する位置が黒丸印にて例示されている。そして連続する2組の相対位置データを取得したタイミングでいずれもスタイラス27の先端が被測定物24に接触している場合に、当該2組の相対位置データでそれぞれ示されるスタイラス先端の位置の間の距離を累積することで接触移動距離を算出する。なお、相対位置データを取得する周期が短いほど、算出される移動距離は実際の移動距離に近い値となる。測定周期は必要とされる精度に応じて決定すればよく、例えば100ms周期程度とするとよい。
続いて、図7に示すフローチャートを参照しつつ、接触移動距離累積処理の手順を説明する。以下の処理は制御装置50のCPU60が制御プログラムを実行することにより実施される。処理の主体が明記されない場合には、制御装置50のCPU60が制御プログラムを実行することによる処理であると理解されたい。真円度測定装置4の電源が投入後、制御プログラムが起動されると、これに伴い制御プログラムに組み込まれた接触移動距離累積処理を実行する機能が開始される。したがって、接触移動距離は、測定を実施しているか否かに関わらず常時監視され、累積される。真円度測定装置4の電源投入後、制御プログラムが起動されてから、一連の測定を行い、電源を遮断する前に制御プログラムが終了されるまでの間に、スタイラス27は、被測定物24に接触したり、被測定物24から離れたりを繰り返すことが想定される。本実施形態の真円度測定装置4は、下記のフローにより、正確な接触移動距離を記録するために、スタイラス27が被測定物24に接触していた期間の移動距離だけを累積する。
接触移動距離累積処理が開始されると、CPU60が実行する制御プログラムは、これまでに累積した接触移動距離に新たな測定における接触移動距離を累積するために、諸条件を初期化する。具体的には、制御プログラムは、これまでに累積した接触移動距離をHDD66から読み出し、直前の相対位置データを取得したタイミングにおける接触状態を示す前回接触フラグをオフとし、相対位置データを初期状態(例えばスタイラス27の先端のXZ位置及びテーブルの回転角度θを共にゼロ)とする(ステップS100)。続いて、最新の相対位置データを取得する(ステップS110)。
続いて、制御プログラムは、スタイラス27と被測定物24が接触しているか否かを判定する(ステップS120)。接触しているか否かの判定方法の一例を以下で説明する。検出器26に取り付けられているスタイラス27は、上述の通りばね等に被測定物24側に若干傾くように付勢されている。図8は、被測定物24の外周面にスタイラス27を接触させる測定におけるスタイラス27への付勢状態を例示している。図8に示したように、スタイラス27が被測定物24に接触していない状態では、スタイラス27の先端は、付勢力によって被測定物24のある方向(図8の例では左方向、変位量の測定データにおけるマイナスの方向)に変位しており、スタイラス27の変位量は、検出器26による検出範囲Rの外(最大の測定レンジを選択したとしても被測定物24と接触する方向(マイナス側)に振り切れた値)となる。そこで、制御プログラムは、最大の(つまり、倍率が最も低い)測定レンジにおいて、スタイラス27の変位量を検出する変位検出器の出力値が、被測定物24と接触する方向に振り切れた値である場合に、スタイラス27と被測定物24が接触していないと判定する。
なお、図8では、被測定物24の外周面にスタイラス27を接触させる測定の場合を例示したが、被測定物24の内周面にスタイラス27を接触させる測定の場合には、付勢の向き及び非接触状態と判断するための測定レンジを振り切れる方向が適宜選択される。例えば、被測定物24の内周面を測定する場合には、付勢の向き及び非接触状態と判断するための測定レンジを振り切れる方向は図8の例とは反対になる。また、被測定物24の上面や下面を測定する場合には、検出器ホルダ40を90度回転した状態として、スタイラス27を下方向又は上方向に付勢力を加えるとともに、付勢力が加えられている方向(つまり被測定物24がある方向)に変位量が振り切れている場合にスタイラス27が被測定物24に接触していないと判定すればよい。
図7に戻って、スタイラス27と被測定物24が接触していないと判定した場合(S120;No)、制御プログラムは、前回接触フラグをオフとし(ステップS130)、処理をS170に移す。前回接触フラグがオフである場合には、スタイラス27と被測定物24が現在接触しているか否かに関わらず、接触移動距離を累積しない。また、スタイラス27と被測定物24が接触していない場合に前回接触フラグをオフとすることで、次回の相対位置データを取得するタイミングでスタイラス27が被測定物24に接触していたとしても、接触移動距離を累積しないようにする。
一方、スタイラス27と被測定物24が接触していると判定した場合(S120;Yes)、制御プログラムは、前回接触フラグがオンか否かを判定する(ステップS140)。前回接触フラグがオンでない(オフである)場合(S140;No)、制御プログラムは、処理をステップS160に移す。すなわち、現時点でスタイラス27が被測定物24に接触していたとしても、前回接触していない場合には、接触移動距離を累積しない。
一方、接触フラグがオンである場合(S140;Yes)、制御プログラムは、現在と前回の相対位置データから、移動距離を算出し、当該移動距離を接触移動距離に加算し(ステップS150)、その後、処理をステップS160に移す。なお、現在と前回の相対位置データを測定する間にスタイラス27の先端が被測定物24の表面を移動する軌跡は、スタイラス移動手段28、30、及び回転テーブル14のいずれが動いたかに応じて、表1に示すように直線、弧、円弧のいずれかとなる。
Figure 0006964452
そこで、制御プログラムは、ステップS150において、前回及び現在の相対位置データ及びスタイラス移動手段28、30、及び回転テーブル14のいずれが動いていたか、に基づき、移動距離を算出する。
ステップS160において、制御プログラムは、前回接触フラグをオンにするとともに、前回スタイラス先端位置と前回テーブル角度を現在の値で更新する。(ステップS160)。ステップS160では、ステップS110〜S170を繰り返し実行するループにおいて、次回での処理に備えてデータを更新する。続いて、制御プログラムは、制御プログラムが終了のプロセスに入ったか否かを判定する(ステップS170)。終了のプロセスに入っている場合(ステップS170;Yes)、制御プログラムは、最新の接触移動距離をHDD66に保存し(ステップS180)、処理を終了する。一方、終了のプロセスに入っていない場合(ステップS170;No)、制御プログラムは、処理をステップS110に戻して処理を続行する。なお、制御プログラムは、ステップS180以外のタイミングでも、累積移動距離を随時(例えばステップS150を実行する都度)、HDD66に保存してもよい。
以上のようにして、真円度測定装置4は、スタイラス27が被測定物24に接触した状態で移動した距離を累積した接触移動距離を求め、記録することができる。
〔接触移動距離の活用〕
記録した接触移動距離は、ユーザによる操作に基づき、あるいは、自動的に、表示部56に表示される。例えば、ユーザが真円度測定装置4の操作プログラムで接触移動距離表示メニューを選択すると、図9のような通知画面が表示される。すなわち、通知画面ではスタイラス27とその接触移動距離が対応付けて表示される。このようにすれば、ユーザは所望のタイミングで各スタイラス27の使用履歴を参照でき摩耗による劣化の程度を推し量ることができる。また、個々のスタイラス27毎に閾値を設けておき、接触移動距離が対応する閾値に達したときに自動的に図9のような画面を表示するとよい。このようにすれば、スタイラス27を交換すべきタイミングでユーザに交換を促すことができる。通知画面は、現在取り付けられているスタイラス27が選択された状態で表示されるとよい。スタイラス27を交換したとき等に、通知画面のリセットボタンB1を押すことにより、接触移動距離をゼロにリセットするとよい。真円度測定装置4では、リセットされたときの日時と接触移動距離を、リセット操作の都度、記録するとよい。通知画面でリセット履歴表示ボタンB2を押すと、図10のようなリセット履歴表示画面により、選択されているスタイラス27について、過去にリセットをした日時とリセット時の接触移動距離とを対応づけて表示するとよい。このようにすれば、ユーザはリセット履歴を知ることができ、さらには過去に行った測定で使っていたスタイラス27の劣化状況を推し量ることができる。
測定機管理システム1では、サーバ2が、複数の測定機(真円度測定装置)4から、接触移動距離を収集し、管理する。サーバ2は、各測定機から収集した接触移動距離を分析し、個々のスタイラス27の交換予定時期を予測する。また、サーバ2は、予想したスタイラス27の交換時期に基づき、スタイラスが必要となる時期及び量に関する情報を生産部門に通知するとよい。また、サーバ2は、ネットワークNWを介して接続されたスタイラスの在庫管理システム(不図示)に照会し、スタイラスの在庫量に応じてスタイラスの生産計画に関する情報を生産部門に通知するとよい。例えば、交換時期に在庫がないと予想される場合には、当該交換時期における入手可能性を高めるべく、スタイラスの増産等を促す通知をするとよい。このように複数の測定機の測定履歴情報を総合して管理することで、消耗品の提供時期を予測することができ、在庫数を抑制しつつ交換までのリードタイムの短縮することが可能となる。
また、サーバ2で収集するデータを測定機のコンディションに関する情報に限定することで、ユーザの顧客情報や機密性を有する測定データのセキュリティ管理に係る労力やコストを抑制することができ、さらに、通信及び記録するデータ量を減少させることができる。
〔実施形態の変形例〕
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこの例に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、測定機として真円度測定装置を用いる場合を例に説明したが、測定機はこれ以外の者であっても構わない。例えば、真円度測定装置と同様にスタイラスを用いた測定を行う表面性状測定装置であってもよいし、探針を被測定物の表面に沿って移動させて測定を行うプローブ顕微鏡(走査型トンネル顕微鏡、原子間力顕微鏡等)であってもよい。その他、交換部品やメンテナンスが必要な測定機であれば如何なる測定機であってもよい。メンテナンスや交換を要する部品の例としては、例えばレーザ、LED、管球類等の発光部品、摺動により摩耗が生じる可動部品、化学変化により劣化が生じる部品、衝撃等の物理的な外力により劣化が生じる部品等が考えられる。いかなる測定機であっても、メンテナンスや交換を要する部品等の劣化の程度を反映するコンディションデータを記録するとともに、コンディションデータをサーバで収集し、サーバにて収集したコンディションデータに基づいた処理を行えばよい。
また、上記の実施形態では、サーバが一体として構成される場合を例に説明したが、サーバは、物理的に離間された複数の装置が協働してその機能を実現するように構成されてもよい。
また、上記の実施形態では、真円度測定装置4を制御するための制御プログラムに接触移動距離累積処理を実行する機能が組み込まれている構成を例に説明したが、接触移動距離累積処理を実行する機能は、制御プログラムとは別のプログラムとしてRAM62、ROM64、又はHDD66に格納され、CPU60により実行されるようにしてもよい。
また、上記の実施形態では、検出器26に取り付けられているスタイラス27をユーザの入力に基づき識別したが、スタイラス27を識別するための識別情報を、視覚的、光学的又は磁気的に読み取り可能なデータとして個々のスタイラス27に付し、この識別情報を真円度測定装置4が読み取ることで、取り付けられているスタイラス27を自動的に識別するように構成してもよい。
また、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。
1 測定機管理システム
2 サーバ
4 測定機
NW ネットワーク

Claims (5)

  1. 複数の測定装置から、各測定装置における交換部品の状態を示すコンディション情報を収集する収集手段と、
    前記収集手段が収集したコンディション情報に基づき前記交換部品の交換時期を予測する予測手段と、
    前記予測手段による予測結果と、前記交換部品の在庫量とに基づき、前記交換部品の生産計画に関する情報を生産部門に通知する通知手段と
    を備える測定機管理システム。
  2. 前記通知手段は、前記予測手段による予測結果に基づき、前記交換部品が必要となる時期及び量に関する情報を生産部門に通知することを特徴とする請求項1に記載の測定機管理システム。
  3. 前記コンディション情報は、前記測定装置における測定データそのものではないことを特徴とする請求項1または2に記載の測定機管理システム。
  4. 前記測定装置が真円度測定装置であり、前記交換部品がスタイラスであり、前記コンディション情報が、前記スタイラスが被測定物に接触した状態で移動した距離を累積した接触移動距離であることを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載の測定機管理システム。
  5. コンピュータを請求項1から4の何れか1項に記載の測定機管理システムとして機能させることを特徴とするプログラム。
JP2017137210A 2017-07-13 2017-07-13 測定機管理システム及びプログラム Active JP6964452B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017137210A JP6964452B2 (ja) 2017-07-13 2017-07-13 測定機管理システム及びプログラム
US16/027,854 US10900764B2 (en) 2017-07-13 2018-07-05 Measuring apparatus management system and program
DE102018211743.8A DE102018211743A1 (de) 2017-07-13 2018-07-13 Messgeräte-Verwaltungssystem und Programm
CN201810771471.0A CN109253715B (zh) 2017-07-13 2018-07-13 测量设备管理***和计算机可读介质

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017137210A JP6964452B2 (ja) 2017-07-13 2017-07-13 測定機管理システム及びプログラム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019020909A JP2019020909A (ja) 2019-02-07
JP2019020909A5 JP2019020909A5 (ja) 2020-08-06
JP6964452B2 true JP6964452B2 (ja) 2021-11-10

Family

ID=64998772

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017137210A Active JP6964452B2 (ja) 2017-07-13 2017-07-13 測定機管理システム及びプログラム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10900764B2 (ja)
JP (1) JP6964452B2 (ja)
CN (1) CN109253715B (ja)
DE (1) DE102018211743A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6923361B2 (ja) * 2017-05-29 2021-08-18 株式会社ミツトヨ 位置計測装置の操作方法
DE102019008821A1 (de) * 2019-12-18 2021-06-24 Mitutoyo Corporation Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Zweipunktgröße eines Werkstücks
CN111595286A (zh) * 2020-06-01 2020-08-28 虞结全 一种汽车同步器齿圈外圆的校圆检验设备
CN112378347B (zh) * 2020-11-05 2022-03-08 中国科学院沈阳自动化研究所 一种大型轴承套圈圆柱度测量仪

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3813789A (en) * 1967-06-26 1974-06-04 Shelton Metrology Labor Inc Measuring apparatus
JPH02284005A (ja) * 1989-04-25 1990-11-21 Canon Inc 探針保持機構
JP4782990B2 (ja) * 2004-05-31 2011-09-28 株式会社ミツトヨ 表面倣い測定装置、表面倣い測定方法、表面倣い測定プログラムおよび記録媒体
JP2006085383A (ja) * 2004-09-15 2006-03-30 Mitsutoyo Corp 測定制御系における制御回路の制御パラメータ設定方法および測定装置
JP2007309919A (ja) * 2006-04-20 2007-11-29 Hitachi Kenki Fine Tech Co Ltd 走査プローブ顕微鏡
CN101256201A (zh) * 2007-02-27 2008-09-03 南茂科技股份有限公司 多部位探测的探针头模组
JP5203028B2 (ja) * 2007-05-30 2013-06-05 株式会社ミツトヨ 形状測定機構の異常検出方法及び形状測定機構
EP2028439A1 (en) * 2007-07-26 2009-02-25 Renishaw plc Deactivatable measurement apparatus
CN201130015Y (zh) * 2007-12-26 2008-10-08 上海西屋开关有限公司 真空断路器触头磨损量检测装置
JP2009245471A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Sony Corp 情報処理装置および方法、プログラム、記録媒体、並びに情報処理システム
CN101750036A (zh) * 2008-12-02 2010-06-23 京元电子股份有限公司 检测探针磨耗的方法与探针
JP5272248B2 (ja) * 2009-05-08 2013-08-28 株式会社ミツトヨ 表面性状測定装置、表面性状測定方法、及びプログラム
JP5451180B2 (ja) * 2009-05-22 2014-03-26 株式会社ミツトヨ 真円度測定機
JP5336279B2 (ja) * 2009-07-08 2013-11-06 株式会社ミツトヨ 表面性状測定装置および真円度測定装置
JP5349364B2 (ja) * 2010-02-16 2013-11-20 株式会社ミツトヨ 表面性状測定機
GB201013938D0 (en) * 2010-08-20 2010-10-06 Renishaw Plc Method for recalibrating coordinate positioning apparatus
US9067690B2 (en) * 2011-08-23 2015-06-30 The Boeing Company Cataloging system for recording manufacture anomaly data related to type, severity, and position with a wireless probe
CN103105186A (zh) * 2011-11-14 2013-05-15 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 自动更换测针***及方法
JP5823266B2 (ja) * 2011-11-29 2015-11-25 株式会社ミツトヨ 表面性状測定機
EP2629048B1 (fr) * 2012-02-20 2018-10-24 Tesa Sa Palpeur
DE112013003076T5 (de) * 2012-06-15 2015-03-12 Faro Technologies, Inc. Koordinatenmessgeräte mit entfernbaren Zusatzteilen
CN102735198A (zh) * 2012-07-12 2012-10-17 苏州康斯坦普工程塑料有限公司 一种机筒测量仪
JP6047045B2 (ja) * 2013-03-25 2016-12-21 株式会社ミツトヨ 輪郭測定機
JP6154657B2 (ja) * 2013-05-02 2017-06-28 株式会社ミツトヨ レーザ装置
JP6170385B2 (ja) * 2013-09-09 2017-07-26 キヤノン株式会社 測定装置、測定方法および物品の製造方法
EP2916099B1 (en) * 2014-03-07 2020-09-30 Hexagon Technology Center GmbH Articulated arm coordinate measuring machine
KR101544320B1 (ko) * 2014-08-06 2015-08-12 세메스 주식회사 프로브 카드의 팁을 관리하는 방법
JP6393156B2 (ja) * 2014-11-06 2018-09-19 株式会社ミツトヨ 形状測定装置、及び形状測定方法
CN107427994A (zh) * 2015-02-11 2017-12-01 Kop工具9659978号加拿大公司 门铰链销拆卸装置
JP6049785B2 (ja) * 2015-03-05 2016-12-21 株式会社ミツトヨ 測定プローブ
JP6537852B2 (ja) * 2015-03-09 2019-07-03 株式会社ミツトヨ 形状測定装置の軸ずれ判定方法、形状測定装置の調整方法、形状測定装置の軸ずれ判定プログラム、および、形状測定装置
JP6630535B2 (ja) * 2015-10-22 2020-01-15 株式会社ミツトヨ 形状測定装置の制御方法
WO2017109837A1 (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 Wit株式会社 プローブ交換工具、プローブ交換支援システム及びプローブ交換方法
JP6638432B2 (ja) 2016-02-03 2020-01-29 住友電気工業株式会社 光ファイバの製造方法および製造装置
CN206073931U (zh) * 2016-09-12 2017-04-05 武汉科技大学 轮廓检测测头和检测仪
JP6836408B2 (ja) 2017-01-27 2021-03-03 株式会社ミツトヨ 硬さ試験機及び硬さ試験方法

Also Published As

Publication number Publication date
US10900764B2 (en) 2021-01-26
US20190017797A1 (en) 2019-01-17
DE102018211743A1 (de) 2019-04-18
JP2019020909A (ja) 2019-02-07
CN109253715A (zh) 2019-01-22
CN109253715B (zh) 2022-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6964452B2 (ja) 測定機管理システム及びプログラム
EP1998137B1 (en) Abnormality detecting method for form measuring mechanism and form measuring mechanism
CN111501896B (zh) 挖土机及挖土机的诊断***
US8615893B2 (en) Portable articulated arm coordinate measuring machine having integrated software controls
KR102229996B1 (ko) 프로브 카드 관리 시스템 및 프로브 카드 관리 방법
US11860602B2 (en) Inspection program editing environment with automatic transparency operations for occluded workpiece features
JPWO2012042649A1 (ja) センサシステム、計算機、及び、機器
CN108168418A (zh) 用于在闪存中存储有计数值的测量设备的触发计数器
US10508895B2 (en) Method for single-point scanning of a workpiece and coordinate measuring machine
JP5272248B2 (ja) 表面性状測定装置、表面性状測定方法、及びプログラム
JP5625962B2 (ja) 作業者異常発生検知装置、作業者異常発生検知方法、及びプログラム
KR102547850B1 (ko) 공작기계 수명 진단 장치 및 방법
JP2019066418A (ja) 測定装置および測定システム
CN109115164A (zh) 表面纹理测量装置、表面纹理测量***和计算机可读介质
JP5201336B2 (ja) 形状測定装置
JP5218957B2 (ja) 形状測定装置、形状測定方法、及び形状測定プログラム
JP2019174182A (ja) 異常検出方法及び三次元測定器
US20240077292A1 (en) One-dimensional measuring machine and computer-readable non-transitory medium
JP7314769B2 (ja) 情報処理装置及びコンピュータプログラム
JP5053735B2 (ja) ジョグボール装置
JP2018142067A (ja) 判定プログラム、判定方法、および判定装置
CN117782553A (zh) 旋转扣寿命测试装置、寿命测试方法及电子设备
JP2024086545A (ja) 装着状態検出装置
WO2022039746A1 (en) Impact events monitoring
JP2019194437A (ja) ショベル及びショベルの診断システム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200609

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200624

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210323

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210517

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210921

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211019

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6964452

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150