JP6632653B2 - 微細構造を有する光学的に透明な接着剤 - Google Patents
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Description
本出願は、2011年の10月24日に出願された、米国仮特許出願第61/550,725号の利益を主張し、その開示が本明細書において全体を組み込まれる。
本発明は、光学的に透明な接着剤、及び光学的に透明な接着剤を使用した積層方法の分野に関する。特に、本発明は、微細構造を有する光学的に透明な接着剤、及び真空を伴わない積層方法に関する。
上記のように、大きな寸法、すなわち面積を有する光学アセンブリは、効率及び厳しい光学品質が望まれるならば、製造するのが難しい場合がある。加えて、いくつかの光学アセンブリは、光学的構成要素の間にトポグラフィー機構(例えば、インクステップ、又は結合される2つの基材の間における平坦性の欠如による基材の間の単なる非平坦部又は波形部)を有する。このトポグラフィーは、アセンブリを結合するために使用される接着剤(典型的には転移接着剤)がトポグラフィーにより生じる空間又は空隙を十分に満たさない場合に、欠陥の増加を生じる。トポグラフィー機構を有する光学アセンブリと関連する欠陥の問題を改善するための1つの手法は、液状の硬化性接着剤組成物を使用することであり、これは、その後適用された後に硬化される場合がある。液状、硬化性接着剤組成物の使用は、トポグラフィー機構によって形成される光学構成要素の間の空間又は空隙が、空間又は空隙に液体硬化性組成物を注ぎ、又は注入し、その後組成物を硬化して構成要素を結合することによって充填されることを可能にする。しかしながら、これらの一般的に使用される組成物は長い流出時間を有し、これは大きな光学アセンブリには非効率的な製造方法の一因となる。これらの液状硬化性組成物はまた、硬化中に縮む傾向があり、アセンブリに大きな応力を生じる。
CH2=C(R)COO−(AO)p−(BO)q−R’ (1)
(上式において、各Aは独立に、(CH2)rCO、CH2CH2、CH2CH(CH3)及びCH2CH2CH2CH2からなる群から選択された基であり、各Bは独立に、(CH2)rCO、CO(CH2)r、CH2CH2、CH2CH(CH3)及びCH2CH2CH2CH2からなる群から選択された基であり、Rは水素又はCH3であり、R’は水素又は置換若しくは未置換のアルキル基若しくはアリル基であり、p、q及びrの各々は1以上の整数である)。
本発明のMS OCA及び積層方法は、MS OCAと基材との二点間接触をもたらし、積層体内での空気の捕捉を避ける。時間とともに、MS OCA内の微細構造により形成される開いた空気チャネルは、基材の重量を超える追加的な圧力又は重量なしに、個別の気泡を形成する。更に時間が経つと、又は熱又は圧力の適用により、個別の気泡はまた、基材の重量以外の追加的な圧力又は重量なしに消える。
ある例示的な用途において、本開示で説明する物品及びその物品を作製する方法は、限定するものではないが、TV LCDパネル、アクティブ電子標識ディスプレイ、携帯電話、携帯ゲーム機、ナビゲーションシステム、タブレット型PC、及びラップトップコンピュータなどの電子装置に組み込まれ得る。物品、及び物品作成方法はまた、気泡の無い積層を必要とするが、光学的に透明である必要のない、非光学的用途において使用され得る。例えば、記載される物品及び方法は、例えば、トラックパッド及びラップトップが挙げられるがこれらに限定されない、装置において使用され得る。
分子量測定
PSAそれぞれの重量平均は、溶媒としてのテトラヒドロフラン、及びポリエチレン標準を使用して、従来的なゲル透過クロマトグラフィー(GPC)を使用して決定された。2 x PLgel MIXED−Bカラム(Agilent Technologies,California,USA)、及びOptilab rEX検出器(Wyatt Technology Corporation,Santa Barbara,California)を有する、1200シリーズHPLCシステムを使用して、測定が行われた。サンプル濃度は、THFにおいてはおよそ0.1%(重量/重量)であり、100μlの注入体積で、1.0ml/分の流速で供給された。
DMA測定は、TA Instruments,Delaware,USAによって製造される、ARESレオメーター上で行われた。試験は、平行プレート形状を使用行われた。接着剤サンプル厚さは約3mmであり、適切な数の層の非微細構造化接着剤転写テープを積み重ねることによって達成された。温度勾配は−40℃〜200℃であった。摂動の周波数は1Hzであった。Tgは、タンデルタピークの温度として取られた。この試験はまた、剪断貯蔵弾性率(G’)、剪断損失弾性率(G”)、及びタンデルタ(すなわち、G”/G’)の値ももたらす。
重量にもとづき、ゲル比率は、溶媒としてメチルエチルケトン(MEK)を使用して、従来的な抽出技術を仕様して決定された。1gのPSAは、40gのMEKに溶解し、室温で20時間振盪された。Whatman Plc,Kent,UKから、商標名「WHATMAN Grade 40」において入手可能な、濾紙を通じて濾過された。フィルター上の不溶性成分は、100℃で60分間乾燥させられた。乾燥した不溶性成分の質量が計量され、ゲル成分は、以下の式から算出された。
ゲル含有量(%)=(不溶性成分の質量/初期接着剤の質量)×100
ガラス上の様々な微細構造を有する光学的に透明な接着剤転写テープ(MS−OCA−TT)の湿潤挙動は、光学顕微鏡を使用して観察された。2つのガラス基材が、以下のようにMS−OCA−TTを使用して一緒に積層された。約40mm×85mmのMS−OCA−TTの断片が切断されて、ゴムローラーを使用して、フロートガラスプレート約55mm×85mm×0.55mmの中心に積層され、MS−OCA−TT及びフロートガラスプレートの最も長い寸法が位置合わせされるようにした。この積層工程において、非微細構造化ライナーは除去され、日々最構造化接着剤表面はフロートガラスプレートに積層された。MS−OCA−TTの微細構造化ライナーが取り除かれ、顕微鏡カバーガラス(24mm×32mm×0.15mm)が、露出された微細構造化接着剤表面に静かに配置された。カバーガラスは、これがフロートガラスプレートの中心と位置合わせされるようにして位置づけられた。積層体が顕微鏡ステージに配置され、湿潤挙動が、カバーガラスの中心において、時間に応じてモニタリングされた。
Shimadzu Corporation,Kyoto,Japanから利用可能なAutograph AG−X引張試験機において180°剥離力が測定された。剥離速度は300mm/分である。剥離強度測定のサンプルは以下のように調製された。RL1は、光学的に透明な接着剤転写テープ(OCA−TT)から取り除かれた。露出した接着剤は、ゴムローラーを使用してT60フィルムの断片に手で積層された。T−60フィルム/接着剤積層体は、約100mm×25mm幅のストリップへと切断された。どのOCA−TTが使用されたかにより、微細構造化ライナー1(MS−L1)又はRL2が、T−60フィルム/接着剤積層体から取り除かれた。露出された接着剤表面は、Corning Incorporated,Corning,New Yorkから、商標名「EAGLE2000」により入手可能な、50mm×80mm×0.7mmガラスプレートの表面に積層された。約100gの質量を有するゴムローラーが、ガラスプレートにT−60フィルム/接着剤ストリップを積層するために、300mm/分の速度でT60フィルム/接着剤ストリップにわたって転がされた。180°剥離強度試験が、積層の後に3分間行われた。180°剥離強度試験が、積層の一時間後に、別の調製されたサンプルにおいて行われた。いくつかの場合において、追加的な剥離強度試験が、積層の24時間後にサンプルにおいて行われた。
MS−L1は、互いに垂直な、一連のV字型チャネルにより構成され、約197μmのピッチ、及び約13μmの深さを有する、x−y格子状パターンを形成する。MS−L1の断面図が図1に示される。生じるチャネルは、約197μmの基部及び約13μmの高さを有する、一連の正方形による4面体の角錐を含むトポグラフィーを形成した。ライナーは、当該技術分野において既知の、微細エンボス加工技術によって調製された(米国特許番号第6,524,675号(Mikamiら)、及び同第5,897,930号(Calhounら)参照)。
MS−L2の断面図は、図2a及び2bに示される。これは、その基部においてV字型の窪み、又は約38μmの中空を含み、約10μmの深さを有する、二重機構ライナーである。3寸法において、窪みは実際に、約38μmの基部、及び約10μmの深さを有する、四面体の角錐である。窪みは正方形の配列で反復し、これは、約194μmの基部、及び約3μmの角錐間のチャネル幅を有する、やはり正方形の配列である、切頭の四面体角錐の頂部にある。ライナーは、当該技術分野において既知の、微細エンボス加工技術によって調製された(米国特許番号第6,524,675号(Mikamiら)、及び同第5,897,930号(Calhounら)参照)。
MS−L3はMS−L1と同一であるが、ただしチャネルの深さは、約60μmであり、チャネルの幅は約120μmであった。生じるチャネルは、約120μmの基部及び約60μmの高さを有する、一連の正方形による4面体の角錐を含むトポグラフィーを形成した。ライナーは、当該技術分野において既知の、微細エンボス加工技術によって調製された(米国特許番号第6,524,675号(Mikamiら)、及び同第5,897,930号(Calhounら)参照)。
MS−L4は互いに垂直な一連の壁部からなり、格子パターンを形成する。壁部は、約60μmの高さを有する三角形の断面図を有し、基部と反対側の夾角は40°であった(図3)。ピッチ(すなわち、壁部の間の距離)は、約200μmであった。ライナーは、当該技術分野において既知の、微細エンボス加工技術によって調製された(米国特許番号第6,524,675号(Mikamiら)、及び同第5,897,930号(Calhounら)参照)。
感圧接着剤溶液1(PSA−S1)
PSA−S1(紫外線架橋部位を有するアクリル酸エステルを含むアクリルコポリマー)は、重量ベースで、37.5部の2−EHA、50.0部のISTA、12.5部のAA、及び0.95部のAEBPを混合することによって調製された。AEBPは、紫外線架橋部位を有するアクリル酸エステルである。混合物はエチルアセテートの混合溶媒で希釈され(EtOAc)/MEK、45重量%のモノマー濃度を生じる。EtOAc/MEKの重量比は20/80であった。V−65開始剤は、モノマー成分の重量に基いて0.2重量部で溶液に添加された。溶液は、10分間、窒素パージされた。50℃の恒温槽内で24時間重合反応を進行させた。透明な粘稠な溶液が得られた(PSA−S1)。溶媒の除去後、回収されたPSA、PSA−1の重量平均分子量Mwは約210,000g/モルであり、Tgは約38℃であった。室温において、PSA−1は、「硬質」、「高弾性」、「遅い流れ」の、光学的に透明なPSAとみなされる。
PSA−S2は、重量ベースで、80.55部のNOA、10.0部LMA、7.5部AA、1.6部4−HBA、及び0.35部AEBPを混合することによって調製された。混合物はEtOAc/トルエンの混合溶媒で希釈され、45重量%のモノマー濃度を生じる。EtOAc/トルエンの重量比は50/50であった。50℃の恒温槽内で24時間重合反応を進行させた。透明な粘稠な溶液が得られた(PSA−S2)。溶媒の除去後、回収されたPSA、PSA−2のMwは約400,000g/モルであり、Tgは約−15℃であった。室温において、PSA−2は、「柔軟な」「低弾性係数の」、「流動性の」、光学的に透明なPSAとみなされる。
PSA−3は、紫外線架橋可能部位を有する、アクリルコポリマーであった。PSA−S3は、重量ベースで、80.9部のNOA、10.0部LMA、7.5部AA、1.6部4−HBAを混合することによって調製された。混合物はエチルアセテートの混合溶媒で希釈され(EtOAc)/MEK、35重%のモノマー濃度を生じる。EtOAc/MEKの重量比は50/50であった。V−65は、モノマーの重量にもとづき、0.2重量%でモノマー/溶媒混合物に加えられ、システムは10分間窒素パージされた。重合反応は、50℃の恒温槽内で24時間反応を進行させた。透明な粘稠な溶液が得られた。小さなサンプルが得られた。サンプルの溶媒を除去した後、回収されたpsaのMwは400,000g/モルであった。溶液中のpsaの重量に基づき、0.15重量%のK−AOI、及び溶液中のpsaに基づき0.3重量%のTPOが、残ったpsa溶液に添加された。溶液は室温で24時刊混合され、PSA−S3を生じた。
PSA−S4は、90.0重量部のNOA、10.0重量部のLMA、10.0重量部のAA、及び0.2重量部のIrg651をガラス容器内で混合することによって調製された。モノマー混合物は窒素パージされた。混合物はその後、数分にわあり、低圧水銀ランプを介して紫外線照射に混合物を暴露することによって部分的に重合し、約1,100mPa−sの粘度を有する粘稠性液体を生じる。この液体に、粘稠な液体の重量に基づき、0.2重量%のAEBP、及び0.1重量%のIrg651が添加された。混合物が十分に撹拌されて、プレポリマーシロップである、PSA−S4を生成する。
微細構造を有する(MS)、光学的に透明な接着剤(OCA)転写テープ(TT)1
従来的なナイフコーターを使用して、PSA−S1をMS−L1にコーティングすることによって、MS−OCA−TT−1が調製された。コーティング後、接着剤は炉内で100℃で、10分にわたって乾燥させられた。乾燥後、PSAの厚さは約75μmであった。その後、暴露された接着剤表面は、剥離ライナーRL1に積層され、MS−OCA−TT−1を形成した。
MS−OCA−TT−2は、MS−OCA−TT−1と同様に調製されたが、ただしPSA−S1は、MS−L2にコーティングされた。接着剤溶液は、MS−L2の突出部が、接着剤溶液へと突出するように、コーティングされた。乾燥後、露出された接着剤表面は、RL1へと積層され、MS−OCA−TT−2を形成した。乾燥後、PSAの厚さは約75μmであった。
MS−OCA−TT−3は、MS−OCA−TT−1と同様に調製されたが、ただしPSA−S1の代わりにPSA−S2が使用された。乾燥後、露出された接着剤表面は、RL1へと積層され、MS−OCA−TT−3を形成した。乾燥後、PSAの厚さは約75μmであった。
MS−OCA−TT−4は、MS−OCA−TT−1と同様に調製されたが、ただし、PSA−S1の代わりにPSA−S3が使用され、MS−L1の代わりにMS−L4が使用された。乾燥後、露出された接着剤表面は、RL1へと積層され、MS−OCA−TT−4を形成した。乾燥後、PSAの厚さは約100μmであった。
MS−OCA−TT−5は、ウェブ上の重合により調製された。PSA−S4(プレポリマーシロップ)は、MS−L3上にコーティングされ、RL1に積層された。その後、プレポリマーは、約2mW/cm2の強度で、45秒にわたり、低圧水銀ランプで照射し、その後、約6mW/cm2の強度で更に45秒間にわたって、ライナー間の接着剤の両側を照射することによって重合され、MS−OCA−TT−5が生成された。PSAの厚さは約150μmであった。
MS−OCA−TT−6は、MS−OCA−TT−1と同様に調製されたが、ただしPSA−S1の代わりにPSA−S3が使用された。乾燥後、露出された接着剤表面は、RL1へと積層され、MS−OCA−TT−6を形成した。乾燥後、PSAの厚さは約100μmであった。
NMS−OCA−TT−A、すなわち、平坦な接着剤表面(すなわち、非微細構造化接着剤表面)を有する、従来的な転写テープが、MS−OCA−TT−1と同様に調製されたが、ただしPSA−S1は、RL2の重い剥離側面にコーティングされた。乾燥後、暴露された接着剤表面がRL1に積層され、NMS−OCA−TT−Aが形成された。乾燥後のPSAの厚さは約75μmであった。
NMS−OCA−TT−BはNMS−OCA−TT−Aと同様に調製されたが、PSA−S1の代わりにPSA−S2が使用された。乾燥後、暴露された接着剤表面がRL1に積層され、NMS−OCA−TT−Bが形成された。乾燥後のPSAの厚さは約75μmであった。
NMS−OCA−TT−CはNMS−OCA−TT−Aと同様に調製されたが、PSA−S1の代わりにPSA−S3が使用された。乾燥後、露出された接着剤表面は、RL1へと積層され、MS−OCA−TT−Cを形成した。乾燥後、PSAの厚さは約100μmであった。
NMS−OCA−TT−DがMS−OCA−TT−5と同様に調製されたが、ただしMS−L3がRL2と交換され、プレポリマーシロップであるPSA−4はRL2の重い剥離側面にコーティングされた。硬化後のPSAの厚さは約150μmであった。
架橋の度合が変化するMS−OCA−TTは、NMS−OCA−TT−1及びMS−OCA−TT−2を選び、紫外線硬化により接着剤を架橋することによって調製された。架橋は、Fusion紫外線Systems,Japanから入手可能な120W/cmのランプ電力を有するHバルブを有する、モデルF−300紫外線硬化システムを使用して、紫外線照射により行われた。異なる架橋密度を有する、MS−OCA−TT−1及びMS−OCA−TT−2の各3つのサンプルが、照射時間を変えて調製された。所定のMS−OCA−TTにおいて、3つのサンプルが、400、1000、3000mJ/cm2の面積当たりの合計エネルギーにそれぞれ暴露された。EIT,Inc.,Sterling,Virginiaから利用可能な紫外線POWER PUCK(登録商標)IIによって合計紫外線エネルギーが測定された。
MS−OCA−TT−1は、真空を伴わない積層手順を使用して、2つのガラスパネルの間で積層された。200mm×120mmのMS−OCA−TT−1の断片が、Corning Incorporated,Corning,New Yorkから、商標名「EAGLE2000」から入手可能な、220mm×125mm×0.70mmガラスプレートに積層された。RL1は、MS−OCA−TT−1から取り除かれ、ゴムローラーを使用して、平坦な接着剤表面がガラスプレートへと、テープ及びプレートの長さ及び幅寸法が一致するようにして、手で積層された。次に、MS−L1がテープから取り除かれ、Corning Incorporatedから、商標名「EAGLE2000」で利用可能な、50mm×80mm×0.7mmガラスプレートが、露出された微細構造化接着剤表面に静かに配置された。積層体は、周囲条件において、1日放置された。湿潤挙動は、視覚的に観察され、表2に記された。積層体は、Kurihara Manufactory,Tokyo,Japanから入手可能なオートクレーブ、モデル番号29381内に配置された。積層体は、室温、かつ250kPaの圧力で、30分にわたりオートクレーブされた。サンプルはオートクレーブから除去され、湿潤特性は視覚的に観察された。結果を表2に示した。
NMS−OCA−TT−Aは、実施例1に記載される手順に従って、2つのガラスプレートの間で積層され、MS−OCA−TT−1をNMS−OCA−TT−Aと交換した。第1ガラスプレートへの積層のためにRL1が除去され、第2ガラスプレートへの積層のためにRL2が除去された。オートクレーブ処理の前、及び後の湿潤挙動が、視覚的に観察され、観察結果が表2に記された。
NMS−OCA−TT−2は、実施例1に記載される手順に従って、2つのガラスプレートの間で積層され、NMS−OCA−TT3−1をMS−OCA−TT−3と交換した。第1ガラスプレートへの積層のためにRL1が除去され、第2ガラスプレートへの積層のためにMS−L2が除去された。オートクレーブ処理の前、及び後の湿潤挙動が、視覚的に観察され、観察結果が表2に記された。
NMS−OCA−TT−Bは、実施例1に記載される手順に従って、2つのガラスプレートの間で積層され、MS−OCA−TT−1をNMS−OCA−TT−Bと交換した。第1ガラスプレートへの積層のためにRL1が除去され、第2ガラスプレートへの積層のためにRL2が除去された。オートクレーブ処理の前、及び後の湿潤挙動が、視覚的に観察され、観察結果が表2に記された。
180°剥離強度試験方法において記載される、積層手順を使用して、MS−OCA−TT−1から積層体が作製されて、実施例3を形成した。180°剥離強度試験の結果が表3に示される。
180°剥離強度試験方法に記載された積層手順を使用して、NMS−OCA−TT−Aから積層体が作製されて、比較例Cを形成する。180°剥離強度試験の結果が表3に示される。
180°剥離強度試験方法において記載される、積層手順を使用して、MS−OCA−TT−3から積層体が作製されて、実施例4を形成した。180°剥離強度試験の結果が表3に示される。
180°剥離強度試験方法において記載される積層手順を使用し、NMS−OCA−TT−Bから積層体が作製されて、比較例Dを形成する。180°剥離強度試験の結果が表3に示される。
MS−OCA−TT−4は、2つのガラスパネルの間に積層された。ガラスパネルの一方がインクステップ(すなわち、トポグラフィー)を有した。インクステップを備えるガラスパネルは、その周囲の全長の周囲に印刷された20μm厚さ×6mm幅のインクステップを有する、フロートガラスの80mm×55mm×0.7mm断片であった。積層手順は次の通りである。MS−OCA−TT−4(100mm×70mm)の断片が、最初に72mm×47mm×0.70mmガラスプレートに積層された。RL1は、MS−OCA−TT−4から取り除かれ、ゴムローラーを使用して、平坦な接着剤表面がガラスプレートへと、テープ及びプレートの長さ及び幅寸法が一致するようにして、手で積層された。次に、MS−L4は、MS−OCA−TT−4から取り除かれ、インクステップを備えるガラスプレートは、露出した微細構造化接着剤表面へと静かに配置された。数分後、積層体は、2kgのローラーで、3周期圧迫された。インクステップの内側のMS−OCA−TT−4の微細構造化表面の接触及び湿潤は、インクステップ区域内の微細構造化接着剤の連続的な(開いた)空間が個別の気泡に変わる前に、MS−OCA−TT−4の流れによって始まった。積層体はその後、Kurihara Manufactory,Tokyo,Japanから入手可能なオートクレーブ(モデル番号29381)内に配置された。積層体は、60℃で、500kP圧力において、30分間、オートクレーブされた。サンプルはオートクレーブから除去され、積層性能は、視覚的に観察された。結果を表4に示した。
MS−OCA−TT−5は、2つのガラスパネルの間で積層され、ガラスパネルの一方が、実施例5に記載されるように、インクステップ(すなわち、トポグラフィー)を有した。MS−OCA−TT−5は実施例5の手順に従って積層され、MS−OCA−TT−4を、MS−OCA−TT−5と交換した。RL1は、平坦なガラスプレートへの積層のために除去され、MS−L3は、インクステップを有するガラスプレートへの積層のために除去された。インクステップの内側のMS−OCA−TT−5の微細構造化表面の接触及び湿潤は、インクステップ区域内の微細構造化接着剤の連続的な(開いた)空間が個別の気泡に変わる前に、MS−OCA−TT−5の流れによって始まった。積層体はその後、Kurihara Manufactory,Tokyo,Japanから入手可能なオートクレーブ(モデル番号4)内に配置された。オートクレーブ処理の後の積層体性能は、視覚的に観察され、観察結果は表4に示された。
MS−OCA−TT−6は、2つのガラスパネルの間で積層され、ガラスパネルの一方が、実施例5に記載されるように、インクステップ(すなわち、トポグラフィー)を有した。MS−OCA−TT−6は実施例5の手順に従って積層され、MS−OCA−TT−4を、MS−OCA−TT−6と交換した。RL1は、平坦なガラスプレートへの積層のために除去され、MS−L1は、インクステップを有するガラスプレートへの積層のために除去された。この比較例において、インクステップの内側のMS−OCA−TT−6の微細構造化表面の接触及び湿潤は、インクステップ区域内の微細構造化接着剤の連続的な(開いた)空間が個別の気泡に変わる前に、MS−OCA−TT−6の流れによって始まった。この場合、ステップ区域内のOCAによって生じる封止により、オートクレーブ手順の前に、インクステップ区域の内側に、大きな気泡が存在した。オートクレーブ処理の後の積層性能が、視覚的に観察され、観察結果が表4に示された。
NMS−OCA−TT−5は、2つのガラスパネルの間で積層され、ガラスパネルの一方が、実施例5に記載されるように、インクステップ(すなわち、トポグラフィー)を有した。NMS−OCA−TT−Cは実施例5の手順に従って積層され、MS−OCA−TT−4を、NMS−OCA−TT−Cと交換した。RL1は、平坦なガラスプレートへの積層のために除去され、RL2は、インクステップを備えるガラスプレートへの積層のために除去された。この比較例において、インクステップの内側のNMS−OCA−TT−C接着剤の接触及び湿潤は、インクステップ区域内のNMS−OCA−TT−C接着剤がインクステップ区域を完全に湿潤させた後にも生じず、この場合、インクステップ区域内のOCAによって生じる封止により、オートクレーブ手順の前に、インクステップ区域の内側に、大きな気泡が存在した。オートクレーブ処理の後の積層性能が、視覚的に観察され、観察結果が表4に示された。
NMS−OCA−TT−Dは、2つのガラスパネルの間で積層され、ガラスパネルの一方が、実施例5に記載されるように、インクステップ(すなわち、トポグラフィー)を有した。NMS−OCA−TT−Dは実施例5の手順に従って積層され、MS−OCA−TT−4を、NMS−OCA−TT−Dと交換した。RL1は、平坦なガラスプレートへの積層のために除去され、RL2は、インクステップを備えるガラスプレートへの積層のめたの除去された。この比較例において、インクステップの内側のNMS−OCA−TT−Dの接触及び湿潤は、インクステップ区域内のNMS−OCA−TT−D接着剤がインクステップ区域を完全に湿潤させた後にも生じず、この場合、インクステップ区域内のOCAによって生じる封止により、オートクレーブ手順の前に、インクステップ区域の内側に、大きな気泡が存在した。オートクレーブ処理の後の積層性能が、視覚的に観察され、観察結果が表4に示された。
Claims (7)
- 基材と積層するための光学的に透明な接着剤であって、
第1主要表面及び第2主要表面を含み、前記第1主要表面及び前記第2主要表面の少なくとも一方が、少なくとも1つの平面寸法(x−y)における相互接続した微細構造を有する微細構造化表面を含み、前記微細構造化表面は、窪み及び突起部を含み、
前記光学的に透明な接着剤は、積層温度において、少なくとも0.3のタンデルタ値を有し、
前記光学的に透明な接着剤は、非架橋であるか、又は軽く架橋されており、かつ後架橋特性を有し、
30℃かつ1Hzの周波数で測定した剪断貯蔵弾性率が1.0×104Pa以上であり、且つ
基材との積層時、熱又は圧力の少なくとも一方に供した際に、前記基材を湿潤させるように流動する、光学的に透明な接着剤。 - 前記微細構造化表面が、5μm〜80μmの深さを有する窪みを含む、請求項1に記載の光学的に透明な接着剤。
- 前記微細構造が、角錐機構又は格子状パターンを有する、請求項1又は2に記載の光学的に透明な接着剤。
- 前記接着剤のゲル含有量が2%以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学的に透明な接着剤。
- 80℃かつ1Hzの周波数で測定した剪断貯蔵弾性率が5.0×104Pa以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学的に透明な接着剤。
- 前記微細構造化表面上に、接触表面に微細構造を有する微細構造化剥離ライナーが接触している、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学的に透明な接着剤。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の接着剤を基材と積層する方法であって、前記基材がトポグラフィーを含み、前記接着剤の前記微細構造化表面が有する窪みの深さが、前記基材の前記トポグラフィーの高さよりも大きい、方法。
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