JP6384831B2 - 水素分離装置および水素分離方法 - Google Patents
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<1> パラジウム膜およびパラジウム以外の元素成分を含むパラジウム合金膜のいずれか一方である水素分離膜と、前記水素分離膜を300℃未満の温度に加熱して水素を分離する加熱手段と、を備える、水素分離装置。
本発明の水素分離装置は、パラジウム膜(Pd膜)およびパラジウム以外の元素成分を含むパラジウム合金膜(Pd合金膜)のいずれか一方である水素分離膜と、前記水素分離膜を300℃未満の温度に加熱して水素を分離する加熱手段と、を備える。
以下、本発明の一実施形態に係る水素分離装置について説明するが、本発明はこれに限定されない。
本実施形態の水素分離装置は、Pd膜およびPd以外の元素成分を含むPd合金膜のいずれか一方である水素分離膜を備える。すなわち、水素分離膜としては、Pd以外の元素成分が含まれないPd膜、またはPdとPd以外の元素成分とを含むPd合金膜が挙げられる。
Pd膜としては、パラジウム以外の成分が存在しない純Pd膜だけでなく、本発明の効果を妨げない程度において、他の元素を含むPd膜も含まれる。
また、Pd合金膜は、本発明の効果を妨げない程度において、Pdおよび元素成分を含むパラジウム化合物を含んでいてもよい。
金属元素としては、後述する希土類元素、VIII族元素(8族元素〜10族元素)、金(Au)、銀(Ag)の他、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、スズ(Sn)、タングステン(W)、亜鉛(Zn)、ジルコニウム(Zr)などが挙げられる。中でも、希土類元素を添加したPd合金膜は、水素透過能に優れており、好ましい。
非金属元素としては、例えば、ホウ素(B)、炭素(C)、硫黄(S)、ゲルマニウム(Ge)などが挙げられる。
VIII族元素としては、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、オスニウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)などが挙げられる。
なお、Pd合金膜に含まれる元素成分としては、Pd以外の元素成分1種であってもよく、2種以上であってもよい。
上述したように、元素成分の含有量は、元素成分およびPdを含むパラジウム化合物を形成せずに固溶体が得られる範囲であることが好ましいが、本発明の効果を妨げない程度において、パラジウム化合物を含んでいてもよい。そのため、Pd合金膜の製造時に不可避的に混入する微量(本発明の効果を妨げない程度の量)のパラジウム化合物がPd合金膜に存在することは許容される。
ベッセル等と称される容器内に設置され、水素分離膜で隔てられた1次室と2次室とを有
し、さらに後述する加熱手段を有するものであることが好ましい。膜の形態としても、平膜型、円筒型などのいずれの形態であってもよい。水素分離膜は、多孔質の支持体や表面に溝を設けた支持板の上に重ね合わされてもよい。支持体の材質としては、金属、セラミックなどが挙げられる。
本実施形態の水素分離装置は、前述した水素分離膜を300℃未満の温度に加熱して水素を分離する加熱手段を備える。加熱手段としては、水素分離膜の温度を一定に保つことができれば特に限定されず、ヒーター等があげられる。
水素分離膜がPd−Ho膜である場合、加熱手段はPd−Ho膜を120℃〜200℃で加熱することが好ましく、130℃〜190℃で加熱することがより好ましく、150℃〜180℃で加熱することがさらに好ましい。
また、水素分離膜がPd−Ag膜である場合、加熱手段はPd−Ag膜を、250℃〜295℃の温度で加熱することが好ましく、280℃〜295℃の温度で加熱することがより好ましい。あるいは、加熱手段はPd−Ag膜を、130℃〜250℃の温度で加熱することが好ましく、150℃〜250℃の温度で加熱することがより好ましい。
水素分離膜がPd−Ni膜である場合、加熱手段はPd−Ni膜を25℃〜60℃の温度で加熱することが好ましく、40℃〜50℃の温度で加熱することがより好ましい。
また、水素分離膜がPd−Y膜である場合、加熱手段はPd−Y膜を130℃〜200℃の温度で加熱することが好ましく、150℃〜190℃の温度で加熱することがより好ましく、150℃〜180℃の温度で加熱することがさらに好ましい。
パラジウム膜およびパラジウム以外の元素成分を含むパラジウム合金膜のいずれか一方である水素分離膜を300℃未満に加熱することで、水素含有ガスから水素を分離する、水素分離方法についても本発明の範囲に包含される。
本発明の水素分離方法についても、高温(300℃〜600℃)で水素分離処理を行わずに水素透過性能の向上を図っている。そのため、本発明の水素分離方法により、加熱のためのエネルギー消費量を抑えることができる。
Pdを圧延して厚さ25μm、直径12mmの水素分離膜(Pd膜)を製造した。この水素分離膜を図11に示す試験用モジュール1にセットして水素透過流束を測定した。
Pd80質量%、Ag20質量%の組成の合金溶湯からインゴットを得て、これを圧延して厚さ25μm、直径12mmのPd−20質量%Ag水素分離膜を製造した。この水素分離膜を図11に示す試験用モジュール1にセットして、実施例1同様に水素透過流束を測定した(測定対象は100℃〜500℃)。その結果を図2に示す。
また、極大を示した165℃の水素透過流束は450℃における水素透過流束と同等の値である。すなわち、130℃〜165℃で運転することによって、300℃〜450℃と同等の水素透過流束が得られ、水素透過流束を犠牲にすることなく運転温度を170℃〜285℃低下させることが可能である。
Pd95質量%、Ho5質量%の組成の合金溶湯からインゴットを得て、これを圧延して厚さ25μm、直径12mmのPd−5質量%Ho水素分離膜を製造した。この水素分離膜を図11に示す試験用モジュール1にセットして、実施例1同様に水素透過流束を測定した(測定対象は100℃〜500℃)。その結果を図3に示す。
また、極大を示した160℃の水素透過流束は約467℃における水素透過流束と同等の値である。すなわち、130℃〜160℃で運転することによって、400℃〜467℃と同等の水素透過流束が得られ、水素透過流束を犠牲にすることなく運転温度を270℃〜307℃低下させることが可能である。
Ho5質量%をNi5質量%に変更したこと以外は実施例3と同様にして、Pd−5質量%Ni水素分離膜を製造し、かつ水素透過流束を測定した(測定対象は25℃〜500℃)。その結果を図4に示す。
また、極大を示した45℃の水素透過流束は200℃における水素透過流束と同等の値である。すなわち、25℃〜45℃で運転することによって、165℃〜200℃と同等の水素透過流束が得られ、水素透過流束を犠牲にすることなく運転温度を140℃〜155℃低下させることが可能である。
Ho5質量%をY5質量%に変更したこと以外は実施例3と同様にして、Pd−5質量%Y水素分離膜を製造し、かつ水素透過流束を測定した(測定対象は100℃〜500℃)。その結果を図5に示す。
また、極大を示した160℃の水素透過流束は約400℃における水素透過流束と同等の値である。すなわち、150℃〜160℃で運転することによって、370℃〜400℃と同等の水素透過流束が得られ、水素透過流束を犠牲にすることなく運転温度を220℃〜240℃低下させることが可能である。
Pd90質量%、Au10質量%の組成の合金溶湯からインゴットを得て、これを圧延して厚さ25μm、直径12mmのPd−10質量%Au水素分離膜を製造した。そして、この水素分離膜を図11に示す試験用モジュール1にセットして、実施例1同様に水素透過流束を測定した(測定対象は50℃〜500℃)。その結果を図6に示す。
また、極大を示した100℃の水素透過流束は約300℃における水素透過流束と同等の値である。すなわち、80℃〜100℃で運転することによって、240℃〜300℃と同等の水素透過流束が得られ、水素透過流束を犠牲にすることなく運転温度を160℃〜200℃低下させることが可能である。
実施例2と同様の方法により、Pd−27質量%Ag水素分離膜を製造し、この水素分離膜についても水素透過流束を測定した(測定対象は50℃〜500℃)。その結果を図7に示す。水素透過流束の測定条件は、実施例1と同様である。
また、極大を示した175℃の水素透過流束は350℃における水素透過流束と同等の値である。すなわち、160℃〜175℃で運転することによって、300℃〜350℃と同等の水素透過流束が得られ、水素透過流束を犠牲にすることなく運転温度を140℃〜175℃低下させることが可能である。
よって、パラジウム以外の元素成分が27質量%(30質量%以下)含まれている場合であっても、300℃未満の低温において水素を効率よく分離できることが示された。
実施例2と同様の方法により、Pd−23質量%Ag水素分離膜を製造し、この水素分離膜についても水素透過流束を測定した(測定対象は100℃〜500℃)。その結果を図8に示す。水素透過流束の測定条件は、導入管2のガス圧P1および取出管6内のガス圧P2を、それぞれ1000kPaおよび100kPa、または1000kPaおよび200kPaとしたこと以外は、実施例1と同様である。
具体的には、500℃〜400℃の間で、温度が低下するほど水素透過流束が低下する傾向があるが、400℃〜295℃の間では温度の低下するほど水素透過流束が増加する傾向にあり、約295℃に極大を示した後、水素透過流束は再び低下した。
また、P1およびP2を変更した場合であっても、極大を示した295℃の水素透過流束は450℃における水素透過流束と同等の値である。すなわち、水素透過流束を犠牲にすることなく運転温度を155℃程度低下させることが可能である。
よって、導入管2のガス圧P1および取出管6内のガス圧P2を変更した場合であっても、300℃未満の低温において水素を効率よく分離できることが示された。
2 ガス導入管
3,5 ガスケット
4 水素分離膜
6 ガス取出管
7 ナット
8 キャップナット
Claims (9)
- パラジウム膜およびパラジウム以外の元素成分を含むパラジウム合金膜のいずれか一方である水素分離膜を300℃未満に加熱することで、水素含有ガスから水素を分離し、
前記水素分離膜を加熱する条件は、水素透過能が極大値を示す300℃未満の温度をT1とし、前記水素分離膜の加熱温度をT2としたときに、T1−20(℃)≦T2≦T1+20(℃)を満たす、水素分離方法。 - 前記元素成分は、パラジウムと固溶体を形成する元素成分である、請求項1に記載の水素分離方法。
- 前記元素成分は、希土類元素、VIII族元素、金および銀からなる群より選択される少なくとも一つである、請求項1または請求項2に記載の水素分離方法。
- 前記元素成分は、ホルミウム、銀、金、ニッケルおよびイットリウムからなる群より選択される少なくとも一つである、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の水素分離方法。
- 前記元素成分の含有量は、パラジウムと反応して化合物を形成しない範囲である、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の水素分離方法。
- 前記元素成分の含有量は、前記パラジウム合金膜の全質量に対して、30質量%以下である、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の水素分離方法。
- 前記元素成分の含有量は、前記パラジウム合金膜の全質量に対して、5質量%〜30質量%である、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の水素分離方法。
- 前記元素成分は、ホルミウムおよびイットリウムからなる群より選択される少なくとも一つである、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の水素分離方法。
- 前記水素分離膜を295℃以下の温度に加熱して水素を分離する、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の水素分離方法。
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