JP5987197B2 - 水素分離膜及び水素分離方法 - Google Patents
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Description
(1) 高価なPdの使用量削減およびPd表面層の成膜プロセスを省くことによる水素分離膜の製造コスト低減が可能である。
(2) Pdとベース合金層の成分の相互拡散が生じないため、高い水素分離性能を有する5A族金属膜の水素分離性能の低下が生じず、耐久性の向上が実現可能である。
(3) 水素透過性能を向上させるために膜の薄膜化が必要であるが、Pd系表面層を有する水素分離膜に比べ、加工性が向上し、膜を支える多孔質支持体への成膜も容易となる。
純Vを圧延して厚さ96μm、直径12mmの水素分離膜を製造した。この水素分離膜を図13に示す試験用モジュール1にセットして水素透過速度を測定した。
膜組成及び膜厚を
実施例2:V−5W,488μm
実施例3:Nb−5W,507μm
実施例4:V−4Cr,571μm
実施例5:V−8Cr,380μm
実施例6:V−5Mo,363μm
実施例7:V−10Mo,582μm
実施例8:V−5Ru,588μm
実施例9:V−9.2Al,371μm
実施例10:V−5Co,459μm
実施例11:V−15W−5Mo,498μm
実施例12:V−5W−15Mo,528μm
としたこと以外は実施例1と同様にして水素分離膜を製造し、実施例1と同様にして水素透過速度を測定し、それに基づいて水素透過係数を算出し、結果を図2〜12に示した。なお、各実施例におけるプロセス側圧力(Inlet)及び水素透過側圧力(Outlet)並びに試験温度は図2〜12中に記入された通りとした。V−5WはWを5モル%含むV合金を表わし、Nb−5WはWを5モル%含むNb合金を表わす。V−4Cr、V−8CrはCrをそれぞれ4モル%、8モル%含むV合金を表わし、V−5Mo、V−10MoはMoをそれぞれ5モル%、10モル%含むV合金を表わし、V−5RuはRuを5モル%含むV合金を表わし、V−9.2AlはAlを9.2モル%含むV合金を表わし、V−5CoはCoを5モル%含むV合金を表わし、V−15W−5MoはWを15モル%、Moを5モル%含むV合金を表わし、V−5W−15MoはWを5モル%、Moを15モル%含むV合金を表わす。
実施例1〜12の水素分離膜は、Pd表面層がなくても水素透過速度が高い。いずれの水素分離膜も8時間以上にわたって水素透過性能は安定しており、特に、実施例2,3,11,12のWを合金化金属としたV合金膜、実施例7のV−Mo合金膜及び実施例9のV−Al合金膜は、20時間にわたり、水素透過性能が低下することなく、水素が透過することが認められた。また、図3の通り、Nb−5W合金膜は、約3日間にわたり、水素透過性能が低下することなく、水素が透過することが認められた。図1〜12に純Pd膜及びPd−25Ag膜の水素透過係数を示してあるが、実施例1〜12の膜はいずれもこれよりも水素透過係数が大きい。
2 ガス導入管
3、5 ガスケット
4 水素分離膜
6 ガス取出管
7 ナット
8 キャップナット
Claims (4)
- Vと、Ruとの合金よりなる水素分離膜であって、該合金中におけるRuの含有量が30モル%以下であり、表面にPd又はPd合金の表面層を有しない水素分離膜。
- 請求項1において、膜厚が1〜600μmであることを特徴とする水素分離膜。
- 請求項1又は2に記載の水素分離膜の一方の側に水素含有原料ガスを供給し、他方の側から精製水素ガスを取り出す水素分離方法。
- 請求項3において前記水素含有原料の水素純度が2N〜7Nであり、前記精製水素ガスの純度が7N超であることを特徴とする水素分離方法。
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