JP6268175B2 - 尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン化合物及びそれを含む物品 - Google Patents
尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン化合物及びそれを含む物品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6268175B2 JP6268175B2 JP2015526516A JP2015526516A JP6268175B2 JP 6268175 B2 JP6268175 B2 JP 6268175B2 JP 2015526516 A JP2015526516 A JP 2015526516A JP 2015526516 A JP2015526516 A JP 2015526516A JP 6268175 B2 JP6268175 B2 JP 6268175B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- meth
- layer
- polymer
- arylene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims description 117
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 56
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 title claims description 56
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 211
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 143
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 90
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 69
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 65
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 64
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 64
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 59
- -1 acryl group Chemical group 0.000 claims description 58
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 53
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 52
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 50
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 41
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 37
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 32
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 27
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 19
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 17
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical group CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 12
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 claims description 2
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 230000003796 beauty Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 353
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 153
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 description 33
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 26
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 26
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 26
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 23
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 23
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 22
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 22
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 22
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 21
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- YAIQCYZCSGLAAN-UHFFFAOYSA-N [Si+4].[O-2].[Al+3] Chemical compound [Si+4].[O-2].[Al+3] YAIQCYZCSGLAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 13
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 13
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 11
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 8
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 8
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- QASBHTCRFDZQAM-UHFFFAOYSA-N (2-isocyanato-2-methyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)N=C=O QASBHTCRFDZQAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- SURLGNKAQXKNSP-DBLYXWCISA-N chlorin Chemical compound C\1=C/2\N/C(=C\C3=N/C(=C\C=4NC(/C=C\5/C=CC/1=N/5)=CC=4)/C=C3)/CC\2 SURLGNKAQXKNSP-DBLYXWCISA-N 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 6
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 5
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 5
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 4
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 241000894007 species Species 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 3
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 3
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- 239000004954 Polyphthalamide Substances 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 3
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OC)(OC)OC XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WUFHQGLVNNOXMP-UHFFFAOYSA-N n-(triethoxysilylmethyl)cyclohexanamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CNC1CCCCC1 WUFHQGLVNNOXMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CNCCC[Si](OC)(OC)OC DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 3
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 3
- 229920006375 polyphtalamide Polymers 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanamine Chemical compound CCO[Si](CCN)(OCC)OCC BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWGMEGAYPPQWFG-UHFFFAOYSA-N [SiH4].OC(=O)C=C Chemical compound [SiH4].OC(=O)C=C MWGMEGAYPPQWFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N copper indium Chemical compound [Cu].[In] HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- WZQYLKIRNOXHAG-UHFFFAOYSA-N 1-tributoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)C(N)CC WZQYLKIRNOXHAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHVSHKVTYHHOSC-UHFFFAOYSA-N 1-tributoxysilylpropan-2-amine Chemical compound CCCCO[Si](CC(C)N)(OCCCC)OCCCC YHVSHKVTYHHOSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REDHIHUACWEXBN-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilylethanamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)N REDHIHUACWEXBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBHRGAHUHVVXQI-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(N)CC JBHRGAHUHVVXQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPBYHTCPEJUYNG-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)N BPBYHTCPEJUYNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPWQHYSPLFFRMU-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCC(N)[Si](OC)(OC)OC OPWQHYSPLFFRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBRVQAUYZUFKAJ-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropan-2-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)N KBRVQAUYZUFKAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFLIXQOYHPEPPY-UHFFFAOYSA-N 1-tripropoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)C(N)CC NFLIXQOYHPEPPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFZOOXNQZZDXRT-UHFFFAOYSA-N 1-tripropoxysilylpropan-2-amine Chemical compound CCCO[Si](CC(C)N)(OCCC)OCCC OFZOOXNQZZDXRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RICKKZXCGCSLIU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[carboxymethyl-[[3-hydroxy-5-(hydroxymethyl)-2-methylpyridin-4-yl]methyl]amino]ethyl-[[3-hydroxy-5-(hydroxymethyl)-2-methylpyridin-4-yl]methyl]amino]acetic acid Chemical compound CC1=NC=C(CO)C(CN(CCN(CC(O)=O)CC=2C(=C(C)N=CC=2CO)O)CC(O)=O)=C1O RICKKZXCGCSLIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXZZSVASDZFPQY-UHFFFAOYSA-N 2-tributoxysilylethanamine Chemical compound CCCCO[Si](CCN)(OCCCC)OCCCC TXZZSVASDZFPQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCN QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKZGKRGTGCFKH-UHFFFAOYSA-N 2-tripropoxysilylethanamine Chemical compound CCCO[Si](CCN)(OCCC)OCCC UNKZGKRGTGCFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAHAMNBFDHWCPU-UHFFFAOYSA-N 3-tributoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCCO[Si](CCCN)(OCCCC)OCCCC UAHAMNBFDHWCPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 3-tripropoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCO[Si](CCCN)(OCCC)OCCC XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N ethene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)F QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000037406 food intake Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011104 metalized film Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 230000003278 mimic effect Effects 0.000 description 1
- KFOZMMAXUUCIKU-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC KFOZMMAXUUCIKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGNDVXPHQJMHLX-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1CCCCC1 KGNDVXPHQJMHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRANWKHEGLJBQC-UHFFFAOYSA-N n-(trimethoxysilylmethyl)cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CNC1CCCCC1 QRANWKHEGLJBQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REODOQPOCJZARG-UHFFFAOYSA-N n-[[diethoxy(methyl)silyl]methyl]cyclohexanamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CNC1CCCCC1 REODOQPOCJZARG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTPZJXALAREFEY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-triethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC DTPZJXALAREFEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 230000003121 nonmonotonic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- KCIKCCHXZMLVDE-UHFFFAOYSA-N silanediol Chemical compound O[SiH2]O KCIKCCHXZMLVDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanamine Chemical compound CCO[Si](CN)(OCC)OCC ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/048—Forming gas barrier coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
- C08J7/0423—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
- B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
- B05D3/065—After-treatment
- B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
- B05D3/068—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using ionising radiations (gamma, X, electrons)
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/10—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by other chemical means
- B05D3/101—Pretreatment of polymeric substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F130/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F130/04—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
- C08F130/08—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D135/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least another carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D135/02—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D143/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium, or a metal; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D143/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/80—Constructional details
- H10K10/88—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/80—Constructional details
- H10K30/88—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/141—Organic polymers or oligomers comprising aliphatic or olefinic chains, e.g. poly N-vinylcarbazol, PVC or PTFE
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/04—4 layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
- B32B2307/7242—Non-permeable
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
- B32B2307/7242—Non-permeable
- B32B2307/7244—Oxygen barrier
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/283—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C08J2333/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08J2333/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/05—Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
- C09K2323/051—Inorganic, e.g. glass or silicon oxide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31507—Of polycarbonate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
本出願は、米国仮出願特許第61/681,003号、米国仮出願特許第61/681,008号、米国仮出願特許第61/681,023号、米国仮出願特許第61/681,051号、及び米国仮出願特許第61/680,995号(全て2012年8月8日出願)の利益を主張するものであり、これらの開示は、参照によりその全体が本明細書に援用される。
本開示は、尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン化合物の調製、並びに複合バリアアセンブリの作製におけるその使用に関する。より具体的には、本開示は、物品及びバリアフィルムにおける多層複合バリアアセンブリに使用される、少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の反応生成物を含む蒸着保護(コ)ポリマー層に関する。
説明及び特許請求の範囲で特定の用語が使用されており、大部分は周知であるが、いくらか説明を必要とする場合がある。本明細書で使用される場合、
単語「a」、「an」、及び「the」は、「少なくとも1つの」と同じ意味で用いられ、記載された要素の1つ以上を意味する。
可撓性バリアアセンブリ又はフィルムは、構成要素が水蒸気の侵入に感受性である電子デバイスに望ましい。多層バリアアセンブリ又はフィルムは、可撓性、軽量、耐久性であり、低コストの連続的なロール・ツー・ロール加工を可能にするなど、ガラスを上回る利点を提供し得る。
驚くべきことに、我々は、以降に更に詳細に記載される少なくとも1つ尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の反応生成物を含む保護(コ)ポリマー層を含む複合バリアアセンブリ又はフィルムが、物品又はフィルムにおける多層複合体バリアアセンブリの接着性及び湿分バリア性能を改良することを発見した。これらの多層複合バリアアセンブリ又はバリアフィルムは、ガラス封入材の適応性のある代替物として、光起電、表示装置、照明、及び電子装置マーケットにおいて多数の用途を有する。
1)無機酸化物表面との堅牢な化学結合、
2)(メタ)アクリレートコーティングに対する、(共)重合を介する堅牢な化学結合、
3)バルク(メタ)アクリレート材料と共蒸着され得るような、被修飾分子の物理的特性(例えば、沸点、蒸気圧及びこれに類するものなど)のいくつかの維持、が得られる。
したがって、代表的な実施形態では、本開示は、基材、基材の主表面上のベース(コ)ポリマー層、ベース(コ)ポリマー層上の酸化物層、及び酸化物層上の保護(コ)ポリマー層を含む、物品又はフィルムにおける、多層複合バリアアセンブリを記載し、保護(コ)ポリマー層は、以降に更に記載される通り、一般式RA−NH−C(O)−N(R4)−R11−[O−C(O)NH−RS]n、又はRS−NH−C(O)−N(R4)−R11−[O−C(O)NH−RA]nを有する、少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の反応生成物を含む。基材は(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択され、電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる。
本開示は、包装材、例えば、電子装置の包装に使用するとき、酸素及び/又は水蒸気のバリア透過を低減させるのに有用である、複合バリアアセンブリ又はフィルムにおいて使用される(すなわち、バリアフィルムとして)保護(コ)ポリマー層を記載する。それぞれの保護(コ)ポリマー層は、その製造において、尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物として本明細書において記載の物質の少なくとも1つの組成物を含有し、それらの反応生成物は以下に記載のとおり、(コ)ポリマーを形成する。
本開示は、以下に更に記載するとおり、一般式RA−NH−C(O)−N(R4)−R11−[O−C(O)NH−RS]n、又はRS−NH−C(O)−N(R4)−R11−[O−C(O)NH−RA]nを有する少なくとも1つの尿素(マルチ)−ウレタン(メタ)アクリレート−シラン前駆体化合物の反応生成物を含む保護(コ)ポリマー層を記載する。なかでも、このような少なくとも1つの尿素(マルチ)−ウレタン(メタ)アクリレート−シラン前駆体化合物の反応生成物を含む(コ)ポリマー層は、物品又はフィルムにおける複合体バリアアセンブリの層間接着を改良するのに有用である。
本開示は、式RS−N(R5)−C(O)−N(H)−RAの、少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン化合物を含む、新規組成物も記載する。RSは、式−R1−[Si(Yp)(R2)3−p]qのシラン含有基であり、式中、R1は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、各Yは加水分解性基であり、R2は一価のアルキル又はアリール基であり、pは1、2、又は3であり、かつqは1〜5である。加えて、RAは、式R11−(A)nの基を含有する(メタ)アクリル基であり、式中、R11は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、Aは、式X2−C(O)−C(R3)=CH2を有する(メタ)アクリル基であり、X2は、−O、−S、又は−NR3であり、R3は、Hであるか、又はC1〜C4であり、かつn=1〜5である。R5は、H、C1〜C6アルキル若しくはシクロアルキル、又はRSであり、但し、次の条件:nは2〜5である、R5はRSである、又はqは2〜5である、うちの少なくとも1つに該当する。
RS1−N(R4)−C(O)−N(H)−RA1 (1)
であり、式中、
RS1は、式
−R1d−Si(Yp)(R2)3−pのシラン含有基であり、
R1dは、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により、1つ以上の
カテナリー酸素原子を含有し、
Yは、アルコキシ基、アセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲン、特に塩素を含有する加水分解性基であり、
R2は一価のアルキル又はアリール基であり、かつ、
pは1、2、又は3であり、
RA1は、式
R11d−(A)の基を含有する(メタ)アクリル基であり、
R11dは、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、かつ
Aは式X2−C(O)−C(R3)=CH2を含む(メタ)アクリル基であり、
X2は、−O、−S、又は−NR3であり、更に、R3はH、又はC1〜C4であり、
R4は、H、C1〜C6アルキル又はシクロアルキルである。
RS−N(R5)−C(O)−N(H)−RA (2)
であり、式中、
RSは式
−R1−[Si(Yp)(R2)3−p]qのシラン含有基であり、
式中、
R1は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Yは、アルコキシ基、アセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲン、特に塩素を含有する加水分解性基であり、
R2は一価のアルキル又はアリール基であり、かつ、
pは1、2、又は3であり、
qは1〜5であり、
RAは式
R11−(A)nの(メタ)アクリル含有基であり、
R11は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは式X2−C(O)−C(R3)=CH2を含む(メタ)アクリル基であり、
X2は、−O、−S、又は−NR3であり、R3はH、又はC1〜C4であり、n=1〜5であり、
R5は、H、C1〜C6アルキル若しくはシクロアルキル、又はRSであり、但し、次の条件:
nは2〜5であるか、R5はRSであるか、又はqは2〜5である、のうちの少なくとも1つに該当する。
基材12は、(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択され、電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる。
図1を参照すると、ベース(コ)ポリマー層14には、薄膜の成膜に好適な任意の(コ)ポリマーを含有させ得る。例えば、一態様では、ベース(コ)ポリマー層14は、各種前駆体、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、スチレン配合エポキシ(メタ)アクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタ(メタ)アクリレートエステル、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エトキシル化(3)トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシル化(3)トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、アルコキシル化三官能(メタ)アクリレートエステル、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシル化(4)ビスフェノールジ(メタ)クリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレートエステル、イソボルニル(メタ)アクリレート、環状ジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、並びに前述のアクリレート及びメタクリレートから形成された(メタ)アクリレート化合物(例えば、オリゴマー又はポリマー)などのアクリレート又はメタクリレートを包含する、(メタ)アクリレートモノマー及び/又はオリゴマーから形成できる。好ましくは、ベース(コ)ポリマー前駆体は、(メタ)アクリレートモノマーを含む。
物品又はフィルムにおける改良されたバリアアセンブリは、少なくとも1つの酸化物層16を含有する。酸化物層は、好ましくは少なくとも1つの無機材料を含む。好適な無機材料としては、異なる原子の酸化物、窒化物、炭化物、又はホウ化物が挙げられる。酸化物層に含有される本発明の好ましい無機材料には、第IIA、IIIA、IVA、VA、VIA、VIIA、IB、又はIIB族由来の原子、IIIB、IVB、又はVB属の金属、希土類金属、又はこれらの組み合わせの、酸化物、窒化物、炭化物、又はホウ化物が含まれる。いくつかの特に例示的な実施形態においては、無機層、より好ましくは無機酸化物層、を最上保護(コ)ポリマー層に適用することもできる。好ましくは、酸化物層は、酸化シリコンアルミニウム又は酸化インジウムスズを含む。
他の例示的な実施形態においては、本開示は、例えば、(コ)ポリマーフィルム基材上にバリアフィルムを作製するため、又は電子装置基材上に多層複合バリアアセンブリを成膜することにより物品を作製するためのプロセスを記載し、プロセスは、(a)基材の主表面にベース(コ)ポリマー層を適用することと、(b)ベース(コ)ポリマー層上に酸化物層を適用することと、(c)酸化物層上に保護(コ)ポリマー層を成膜することと、を包含し、保護(コ)ポリマー層は、前述の通り、式RS−N(R5)−C(O)−N(H)−RA、又はRS1−N(R4)−C(O)−N(H)−RA1の少なくとも1つの前述の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の反応生成物として形成された(コ)ポリマーを含む。
更なる態様では、本開示は、上記の通りに作製されたバリアフィルムを、固体照明装置、表示装置、及びこれらの組み合わせから選択される部品に使用する方法を記載する。例示的な固体照明装置としては、半導体発光ダイオード(SLED、より一般的にはLEDとして既知)、有機発光ダイオード(OLED)、又はポリマー発光ダイオード(PLED)が挙げられる。例示的な表示装置としては、液晶ディスプレイ、OLEDディスプレイ、及び量子ドットディスプレイが挙げられる。
本開示の物品又はフィルムにおける例示的なバリアアセンブリは、ガラス封入材料の可撓性代替物として、表示装置、照明装置、及び電子装置の市場において、多数の用途及び利点を有する。したがって、本開示の特定の例示的な実施形態は、湿分バリア用途にいて使用したときに改良された耐湿性を示す、物品又はフィルムにおけるバリアアセンブリを提供する。いくつかの例示的な実施形態においては、バリアアセンブリは、感湿性装置を含む基材上に直接蒸着することがで、プロセスは多くの場合直接封入と呼ばれる。
次の材料、略語、及び商品名を実施例で使用する。
対象とする90% Si/10% Alは、Materion Advanced Chemicals,Inc.(Albuquerque,NM)から得た。
予備実施例1
撹拌棒を入れた250mL丸底フラスコに、40g(0.117mol、341.55MW)ビス(3−トリメトキシシリルプロピルアミン(Dynasylan 1124)を充填し、氷浴に配置する。均圧滴下漏斗により、約25分かけて18.17g(0.117mol)イソシアナトエチルメタクリレート(IEM)を加えた。氷浴を取り外し、更に1時間15分撹拌を続けた。この時点でサンプルをフーリエ変換赤外(FTIR)分光分析のため採取したところ、サンプルは2265cm−1においてイソシアネートピークを示さなかった。次に、生成物の透明な油を単離した。
乾燥空気下、室温の水浴において、オーバーヘッドスターラーを取り付けた500mL丸底フラスコに、イソシアナトエチル(メタ)アクリレート(IEA)58.50g(0.414mol)を装填した。滴加漏斗により、1.5時間かけてビス(3−トリメトキシシリル−プロピル)アミン(Dynasylan 1124)141.53g(0.414mol)を加えた。この時点でサンプルをFTIRのため採取したところ、サンプルは2265cm−1においてイソシアネートピークを示さなかった。物質を、プロトンフーリエ変換核磁気共鳴(NMR)により特性評価した:
オーバーヘッドスターラーを取り付けた250mL三ツ口丸底フラスコに、1,1−ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(BEI)12.36g(0.0517mol、239.23MW)、及び10% DBTDLのMEK溶液176μL(試薬の合計重量に基づき500ppm)を装填した。フラスコを35℃の油浴に配置し、1時間かけて、滴下漏斗により、ビス−(3−トリメトキシシリルプロピル)アミン(Dynasylan 1124)17.64g(0.517mol、341.55MW)を反応液に加えた。アミンの添加が完了してから10分後、FTIRのためサンプルを回収したところ、サンプルは2265cm−1においてイソシアネートピークを示さなかった。次に、生成物の透明な油を単離した。
予備実施例3と同様、但し、12.85g(0.72mol、179.29MW)アミノプロピルトリメトキシシラン(Dynasylan AMMO)を、約45分かけて1,1−ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(BEI)17.15g(0.72mol)、及び10% DBTDLのMEK溶液(500ppm DBTDL)176μLと反応させて実験を実施し、生成物を油として得た。
予備実施例1と同様、但し、ビス(3−トリエトキシシリルプロピルアミン(Dynasylan 1122)22.53g(0.0529mol、425.71MW)を、10% DBTDLのMEK(100ppm DBTDL)溶液35μLの存在下で、IEA 7.47g(0.0529mol)と反応させて実験を実施し、生成物を得た。
予備実施例1と同様、但し、アミノプロピルトリエトキシシラン(Dynasylan AMMO)14.42g(0.065mol)を、10% DBTDLのMEK溶液(500ppm DBTDL)176μLの存在下で、BEI 15.58g(0.065mol)と反応させて実験を実施し、生成物を得た。
オーバーヘッドスターラーを取り付けた200mLフラスコに、1,1−ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(BEI)20.0g(0.0836mol)と、10% DBTDL 250μLを装填し、乾燥空気下、55℃の油浴中に配置した。次に、滴下漏斗により、20分かけてN−シクロヘキシル−トリエトキシシリルメチルアミン(Geniosil XL 926)23.02g(0.0836mol)を加えた。混合物を1時間反応させた。次に、以降に示す通り、透明で黄色の油として生成物を単離した。サンプルをFTIRのため採取したところ、サンプルは2265cm−1においてイソシアネートピークを示さなかった。
撹拌棒を入れた250mL丸底フラスコにアミノプロピルトリメトキシシラン(Dynasylan AMMO)40g(0.223mol、179.29MW)を充填し、氷浴に配置した。均圧滴下漏斗により、約25分かけてイソシアナトエチルメタクリレート(IEM)34.61g(0.223mol、155.15MW)を加えた。氷浴を取り外し、更に1時間15分撹拌を持続し、この時点でサンプルをFTIRのため回収したところ、2265cm−1においてイソシアネートピークは示されず、透明な油として生成物が単離された。
予備実施例8の調製と同様の方法で、N−(n−ブチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(Dynasylan 1189)40g(0.170mol、235.4MW)をIEM 26.36g(0.170mol)と反応させて、透明な油として生成物を得た。
予備実施例8の調製と同様の方法で、アミノプロピルトリエトキシシラン(Dynasylan AMEO)44.10g(0.199mol、221.37MW)をIEM 30.90g(0.199mol)と反応させて、透明な油として生成物を得た(物質は氷浴温度で固結する)。
予備実施例8の調製と同様の方法で、N−メチル−アミノプロピルトリメトキシシラン41.61g(0.215mol、221.37MW)を、IEM 33.39g(0.215mol)と反応させて、透明な油として生成物を得た。
予備実施例8の調製と同様の方法で、アミノプロピルトリメトキシシラン16.79g(0.0936mol、179.29MW)をイソシアナトエチル(メタ)アクリレート(IEA)13.21g(0.0936mol、141.13MW)と反応させて、尿素生成物を得た。
予備実施例8の調製と同様の方法で、N−(n−ブチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(Dynasylan 1189)18.76g(0.080mol、235.4MW)をIEA 11.25g(0.080mol)と反応させて、生成物を得た。
予備実施例8の調製と同様の方法で、アミノプロピルトリエトキシシラン18.32g(0.0827mol)をIEA 11.68g(0.0827mol)と反応させて、生成物を得た。
予備実施例8の調製と同様の方法で、N−メチル−アミノプロピルトリメトキシシラン17.30g(0.090mol)をIEA 12.70g(0.090mol)と反応させて、生成物を得た。
100mL丸底フラスコにIEA 10.16g(0.072mol)と、10% DBTDLのMEK溶液35μL(100ppm DBTDL)を装填した。滴下漏斗により、10分かけて、55℃にてN−シクロヘキシル−トリエトキシシリルメチルアミン19.84g(0.072mol、275.46MW)を加えた。更なる反応から0.5時間後、FTIR分析によりイソシアネートピークは示されず、生成物が単離された。
予備実施例16の調製と同様の方法で、IEM 10.81g(0.069mol)を、55℃にて、DBTDL 100ppmの存在下でN−シクロヘキシル−トリエトキシシリルメチルアミン19.19g(0.069mol)と反応させて、生成物を得た。
多層複合体バリアアセンブリ及びバリアフィルム例を、米国特許第5,440,446号(Shaw et al.)及び同第7,018,713号(Padiyath et al.)に記載されている塗布機と類似した真空塗布機で作製した。
エージング試験
上記のいくつかの積層構成体を、85℃及び相対湿度(RH)85%の条件に設定した環境チャンバにおいて、250時間、500時間、及びいくつかの場合では1,000時間エージングした。
未エージング及び被エージングバリアシートを、PTFE表面から切り離し、ASTM D1876−08T型剥離試験方法を使用する接着試験のため、幅1.0inの短冊状に切り出した。10in/分(25.4cm/分)の剥離速度のTestworks 4(MTS,Inc.(Eden Prairie,MN)から市販のソフトウェア)を搭載した剥離試験機(商標表記INISIGHT 2 SLとして市販)によりサンプルを剥離した。1cm当たりのニュートン(N/cm)として、記録された接着値は、1.27cm〜15.1cmの4回の剥離測定値の平均とする。バリアシートの、85℃及び85%相対湿度で250時間後、並びに再度暴露の500及び/又は1000時間後のT型剥離接着を測定した。
この実施例は、実施例1〜17で記載され使用された通りの架橋剤を不含有である場合の比較例とする。ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。個々の層は以下のように形成された。
厚0.127mm×幅366mmのPETフィルム長さ305mのロール(Dupont(Wilmington,DE)からXST 6642として市販)をロール・ツー・ロール真空プロセシングチャンバ内に装填した。チャンバを圧力1×10−5Torr(0.001Pa)に減圧した。フィルムの背面と、−10℃に冷却したコーティングドラムとの接触を維持しながら、ウェブ速度を4.8m/分に維持した。フィルムがドラムと接触した状態で、フィルム表面を、0.02kWのプラズマ出力で窒素プラズマ処理した。次に、フィルム表面をトリシクロデカンジメタノールジアクリレート(Sartomer USA(LLC,Exton,PA)からSR−833Sとして市販)によりコーティングした。より詳細には、コーティングより前に20mTorr(2.7Pa)圧まで真空下でジアクリレートを脱気し、シリンジポンプに装填し、流速1.33mL/分で、超音波アトマイザーから、260℃に維持した加熱真空チャンバに周波数60kHzにて送液した。得られたモノマー蒸気流をフィルム表面上で凝結させ、7.0kV及び4mAにて操作した多フィラメント電子ビーム硬化銃を用いて電子ビーム架橋し、720nmの(メタ)アクリレート層を形成した。
(メタ)アクリレート成膜の直後、フィルムが依然としてドラムと接触している状態で、(メタ)アクリレートコーティングされたウェブ表面上にSiAlOx層をスパッタ成膜した。2つの交流(AC)電源を使用して、2対のカソードを制御した。それぞれのカソードは2つの90% Si/10% Alターゲット(Materion(Albuquerque,NM)から市販)を収容した。スパッタ成膜中、各電源からの電圧信号を比例−積分−差動制御ループに関する入力として使用して、各カソードに対する所定の酸素の流れを維持した。AC電源は、5000ワットの電力を使用して、スパッタ圧3.5mTorr(0.47Pa)で450sccmのアルゴンと63sccmの酸素とを含有する気体混合物により、90% Si/10% Alターゲットをスパッタした。これによって、上記の(メタ)アクリレートの最上部に30nm厚のSiAlOx層の成膜がもたらされた。
概して平滑層の成膜と同一の条件を使用して、但し以下の点を変更し、SiAlOx層の成膜の直後に、フィルムはドラムに接触させたまま、(メタ)アクリレート保護層2をコーティングし、同一ウェブ上で架橋した。電子ビーム架橋は、7kV及び5mAで作動させた多フィラメント電子ビーム硬化銃を用いて行った。これにより、層2上に720nmの(メタ)アクリレート層がもたらされた。
ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、本開示の分子を含有する(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。各層は、保護層の形成中に、100%トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833Sを使用する代わりに、トリシクロデカンジメタノールジアクリル酸SR−833S 97重量%と、上記の実施例2において合成される化合物3重量%との混合物を使用したことを除き、比較例18におけるものの通りに形成した。
ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、本開示の分子を含有する(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。各層は、保護層の形成中に、100%トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833Sを使用する代わりに、トリシクロデカンジメタノールジアクリル酸SR−833S 97重量%と、上記の予備実施例3において合成される化合物3重量%との混合物を使用したことを除き、比較例18におけるものの通りに形成した。
ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、本開示の分子を含有する(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。各層は、保護層の形成中に、100%トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833Sを使用する代わりに、トリシクロデカンジメタノールジアクリル酸SR−833S 97重量%と、上記の実施例4において合成される化合物3重量%との混合物を使用したことを除き、比較例18におけるものの通りに形成した。
ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、本開示の分子を含有する(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。各層は、保護層の形成中に、100%トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833Sを使用する代わりに、トリシクロデカンジメタノールジアクリル酸SR−833S 97重量%と、上記の実施例12において合成される化合物3重量%との混合物を使用したことを除き、比較例18におけるものの通りに形成した。
ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、本開示の分子を含有する(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。各層は、保護層の形成中に、100%トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833Sを使用する代わりに、トリシクロデカンジメタノールジアクリル酸SR−833S 97重量%と、上記の実施例13において合成される化合物3重量%との混合物を使用したことを除き、比較例18におけるものの通りに形成した。
ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、本開示の分子を含有する(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。各層は、保護層の形成中に、100%トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833Sを使用する代わりに、トリシクロデカンジメタノールジアクリル酸SR−833S 97重量%と、上記の実施例15において合成される化合物3重量%との混合物を使用したことを除き、比較例18におけるものの通りに形成した。
ポリエチレンテレフタレート(PET)基材フィルムを、(メタ)アクリレート平滑層と、無機酸化シリコンアルミニウム(SiAlOx)バリアと、本開示の分子を含有する(メタ)アクリレート保護層との積層により被覆した。各層は、保護層の形成中に、100%トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833Sを使用する代わりに、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートSR−833S 97重量%と、N−n−ブチル−アザ−2,2−ジメトキシジメトキシシラシクロペンタン(Gelest,(Morrisville,PA)から商品番号1932.4で市販)3重量%との混合物を使用したことを除き、比較例18におけるものの通りに形成した。
[1]
組成物であって、
式:
R S −N(R 5 )−C(O)−N(H)−R A
の少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン化合物を含み、式中、
R S は式:−R 1 −[Si(Y p )(R 2 ) 3−p ] q のシラン含有基であり、
R 1 は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
各Yは加水分解性基であり、
R 2 は一価のアルキル又はアリール基であり、
pは1、2、又は3であり、
qは1〜5であり、
R A は式
R 11 −(A) n の基を含有する(メタ)アクリル基であり、
R 11 は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは、式
X 2 −C(O)−C(R 3 )=CH 2 の(メタ)アクリル基であり、
更に
X 2 は、−O、−S、又は−NR 3 であり、
R 3 は、Hであるか、又はC 1 〜C 4 であり、
n=1〜5であり、
R 5 は、H、C 1 〜C 6 アルキル若しくはシクロアルキル、又はR S であり、但し、次の条件:
nは2〜5であるか、R 5 はR S であるか、又はqは2〜5である、のうちの少なくとも1つに該当する、組成物。
[2]
それぞれの加水分解性基Yが、独立して、アルコキシ基、アセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲンから選択される、項目1に記載の組成物。
[3]
前記加水分解性基Yのうち少なくともいくつかが塩素である、項目2に記載の組成物。
[4]
物品であって、
(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材であって、前記電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、起電発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる、基材と、
前記基材の主表面上のベース(コ)ポリマー層と、
前記ベース(コ)ポリマー層上の酸化物層と、
前記酸化物層上の保護(コ)ポリマー層と、を含み、前記保護(コ)ポリマー層は、式
R S −N(R 5 )−C(O)−N(H)−R A の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物を含み、
式中、
R S は式
−R 1 −[Si(Y p )(R 2 ) 3−p ] q のシラン含有基であり、
R 1 は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
各Yは加水分解性基であり、
R 2 は一価のアルキル又はアリール基であり、
pは1、2、又は3であり、
qは1〜5であり、
R A は式
R 11 −(A) n の基を含有する(メタ)アクリル基であり、
R 11 は多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは、式
X 2 −C(O)−C(R 3 )=CH 2 の基を含む(メタ)アクリル基であり、
更に
X 2 は−O、−S、又は−NR 3 であり、
R 3 は、Hであるか、又はC 1 〜C 4 であり、
n=1〜5であり、
R 5 は、H、C 1 〜C 6 アルキル若しくはシクロアルキル、又はR S であり、但し、次の条件:
nは2〜5であるか、R 5 はR S であるか、又はqは2〜5である、のうちの少なくとも1つに該当する、物品。
[5]
物品であって、
(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材であって、前記電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、起電発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる、基材と、
前記基材の主表面上のベース(コ)ポリマー層と、
前記ベース(コ)ポリマー層上の酸化物層と、
前記酸化物層上の保護(コ)ポリマー層と、を含み、前記保護(コ)ポリマー層は、式
R S1 −N(R 4 )−C(O)−N(H)−R A1 の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物を含み、
式中、
R S1 は、式
−R 1d −Si(Y p )(R 2 ) 3−p のシラン含有基であり、
更に
R 1d は、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
各Yは加水分解性基であり、
R 2 は一価のアルキル又はアリール基であり、かつ、
pは1、2、又は3であり、
更に、R 4 はH、C 1 〜C 6 アルキル又はC 1 〜C 6 シクロアルキルであり、
R A1 は、式
R 11d −(A)の基を含有する(メタ)アクリルであり、
R 11d は、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは、式
X 2 −C(O)−C(R 3 )=CH 2 の(メタ)アクリル基であり、
更に
X 2 は、−O、−S、又は−NR 3 であり、かつ
R 3 は、H、又はC 1 〜C 4 である、物品。
[6]
それぞれの加水分解性基Yが、独立して、アルコキシ基、アセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲンから選択される、項目5に記載の物質。
[7]
前記加水分解性基Yのうち少なくともいくつかが、塩素である、項目6に記載の物品。
[8]
前記ベース(コ)ポリマー層上に、前記酸化物層及び前記保護(コ)ポリマー層の複数の交互層を更に含む、項目5〜7のいずれかに記載の物品。
[9]
前記基材が可撓性透明(コ)ポリマーフィルムを含み、場合により、前記基材が、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、熱安定化PET、熱安定化PEN、ポリオキシメチレン、ポリビニルナフタレン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素(コ)ポリマー、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリα−メチルスチレン、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフタルアミド、又はこれらの組み合わせを含む、項目5〜8のいずれかに記載の物品。
[10]
前記ベース(コ)ポリマー層が、(メタ)アクリレート平滑層を含む、項目5〜9のいずれかに記載の物品。
[11]
前記酸化物層が、基IIA、IIIA、IVA、VA、VIA、VIIA、IB、又はIIBから選択される原子の少なくとも1つの酸化物、窒化物、炭化物又はホウ化物、基IIIB、IVB、又はVBの金属類、希土類金属類、あるいはそれらの組み合わせ又は混合物を含有する、項目5〜10のいずれかに記載の物品。
[12]
前記保護(コ)ポリマー層に適用された酸化物層を更に含み、場合により、前記酸化物層が、酸化シリコンアルミニウムを含む、項目5〜11のいずれかに記載の物品。
[13]
前記基材が、(コ)ポリマーフィルムであり、前記電子装置が固体照明装置、表示装置、及びこれらの組み合わせから選択される、項目5〜12のいずれかに記載の物品を組み込む電子装置。
[14]
前記固体照明装置が、半導体発光ダイオード装置、有機発光ダイオード装置、及びポリマー発光ダイオード装置から選択される、項目13に記載の電子装置。
[15]
前記表示装置が、液晶ディスプレイ装置、有機発光ディスプレイ装置、及び量子ドット液晶ディスプレイ装置から選択される、項目14に記載の電子装置。
[16]
プロセスであって、
(a)(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材の主表面にベース(コ)ポリマーを適用することであって、前記電子デバイスは、有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせを更に含む、適用することと、
(b)前記ベース(コ)ポリマー層上に酸化物層を適用することと、
(c)前記酸化物層上に保護(コ)ポリマー層を成膜させることと、を含み、前記保護(コ)ポリマー層が、式
R S −N(R 5 )−C(O)−N(H)−R A の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物として形成された(コ)ポリマーを含み、
式中、
R S は式
−R 1 −[Si(Y p )(R 2 ) 3−p ] q のシラン含有基であり、
式中、
R 1 は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Yは、加水分解性基であり、
R 2 は一価のアルキル又はアリール基であり、
pは1、2、又は3であり、
qは1〜5であり、
R A は式
R 11 −(A) n の基を含有する(メタ)アクリル基であり、
R 11 は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは式X 2 −C(O)−C(R 3 )=CH 2 を含む(メタ)アクリル基であり、
X 2 は、−O、−S、又は−NR 3 であり、R 3 はH、又はC 1 〜C 4 であり、n=1〜5であり、
R 5 は、H、C 1 〜C 6 アルキル若しくはシクロアルキル、又はR S であり、但し、次の条件:
nは2〜5であるか、R 5 はR S であるか、又はqは2〜5である、のうちの少なくとも1つに該当する、プロセス。
[17]
プロセスであって、
(a)(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材の主表面にベース(コ)ポリマーを適用することであって、前記電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる、適用することと、
(b)前記ベース(コ)ポリマー層上に酸化物層を適用することと、
(c)前記酸化物層上に保護(コ)ポリマー層を成膜させることと、を含み、前記保護(コ)ポリマー層が、式
R S1 −N(R 4 )−C(O)−N(H)−R A1 の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物を含み、
式中、
R S1 は、式
−R 1d −Si(Y p )(R 2 ) 3−p のシラン含有基であり、
R 1d は、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により、1つ以上の
カテナリー酸素原子を含有し、
Yは、加水分解性基であり、
R 2 は一価のアルキル又はアリール基であり、かつ、
pは1、2、又は3であり、
R A1 は、式
R 11d −(A)の基を含有する(メタ)アクリル基であり、
R 11d は、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、かつ
Aは式X 2 −C(O)−C(R 3 )=CH 2 を含む(メタ)アクリル基であり、
X 2 は、−O、−S、又は−NR 3 であり、更に、R 3 はH、又はC 1 〜C 4 であり、
R 4 は、H、C 1 〜C 6 アルキル又はシクロアルキルである、プロセス。
[18]
前記少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物が、化学反応を経て、前記酸化物層上の少なくとも一部分に保護(コ)ポリマー層を形成し、場合により、前記化学反応が、フリーラジカル重合反応、及び加水分解反応から選択される、項目16又は17のいずれかに記載のプロセス。
[19]
それぞれの加水分解性基Yが、独立して、アルコキシ基、アセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲンから選択される、項目16〜18のいずれかに記載のプロセス。
[20]
前記加水分解性基Yのうち少なくともいくつかが、塩素である、項目19に記載のプロセス。
[21]
工程(a)が、
(i)ベース(コ)ポリマー前駆体を蒸発させることと、
(ii)前記蒸発させたベース(コ)ポリマーを前記基材上に濃縮させること、並びに
(iii)前記蒸発させたベース(コ)ポリマーを硬化させて、前記ベース(コ)ポリマー層を形成すること、を含む、項目16〜20のいずれかに記載のプロセス。
[22]
前記ベース(コ)ポリマー前駆体が、(メタ)アクリレートモノマーを含む、項目16〜21のいずれかに記載のプロセス。
[23]
工程(b)が、酸化物を前記ベース(コ)ポリマー層に蒸着して前記酸化物層を形成する工程を含み、成膜は、スパッタ蒸着、反応性スパッタリング、化学気相成長法、又はこれらの組み合わせを使用して実施される、項目16〜22のいずれかに記載のプロセス。
[24]
工程(b)が、前記ベース(コ)ポリマー層に無機酸化シリコンアルミニウム層を適用することを含む、項目16〜23のいずれかに記載のプロセス。
[25]
工程(b)及び(c)を連続的に繰り返して前記保護(コ)ポリマー層及び前記酸化物層の複数の交互層を前記ベース(コ)ポリマー層上に形成することを更に含む、項目16〜24のいずれかに記載のプロセス。
[26]
工程(c)が、液体混合物から、前記少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物と、(メタ)アクリレート化合物とを共蒸発させること、あるいは別個の液体供給源から、前記少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物と(メタ)アクリレート化合物とを連続的に蒸発させること、のうち少なくとも1つを含み、場合により、前記液体混合物が約10重量%以下の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物を含む、項目16〜25のいずれかに記載のプロセス。
[27]
工程(c)が、前記尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物と前記(メタ)アクリレート化合物とを前記酸化物層上に同時濃縮すること、あるいは前記尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物と前記(メタ)アクリレート化合物とを前記酸化物層上に連続的に濃縮すること、のうち少なくとも1つを更に含む、項目26に記載のプロセス。
[28]
前記尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物と前記(メタ)アクリレート化合物とを反応させて、前記酸化物層上に保護(コ)ポリマー層を形成させることが、前記酸化物層の少なくとも一部分上で生じる、項目16〜27のいずれかに記載のプロセス。
Claims (7)
- 組成物であって、
式:
RS−N(R5)−C(O)−N(H)−RA
の少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン化合物を含み、式中、
RSは式:−R1−[Si(Yp)(R2)3−p]qのシラン含有基であり、
R1は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、
前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
各Yはアセテート基及びハロゲンから選択される加水分解性基であり、
R2は一価のアルキル又はアリール基であり、
pは1、2、又は3であり、
qは1〜5であり、
RAは式
R11−(A)nの(メタ)アクリル基含有基であり、
R11は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは、式
X2−C(O)−C(R3)=CH2の(メタ)アクリル基であり、
更に
X2は、−O、−S、又は−NR3であり、
R3は、Hであるか、又はCH3であり、
n=1〜5であり、
R5は、H、C1〜C6アルキル若しくはC3〜C6シクロアルキル、又はRSであり、但し、次の条件:
nは2〜5であるか、R5はRSであるか、又はqは2〜5である、のうちの少なくとも1つに該当する、組成物。 - 物品であって、
(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材であって、前記電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる、基材と、
前記基材の主表面上のベース(コ)ポリマー層と、
前記ベース(コ)ポリマー層上の酸化物層と、
前記酸化物層上の保護(コ)ポリマー層と、を含み、前記保護(コ)ポリマー層は、式
RS−N(R5)−C(O)−N(H)−RAの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物を含み、
式中、
RSは式
−R1−[Si(Yp)(R2)3−p]qのシラン含有基であり、
R1は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
各Yはアセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲンから選択される加水分解性基であり、
R2は一価のアルキル又はアリール基であり、
pは1、2、又は3であり、
qは1〜5であり、
RAは式
R11−(A)nの(メタ)アクリル基含有基であり、
R11は多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは、式
X2−C(O)−C(R3)=CH2の(メタ)アクリル基であり、
更に
X2は−O、−S、又は−NR3であり、
R3は、Hであるか、又はCH3であり、
n=1〜5であり、
R5は、H、C1〜C6アルキル若しくはC3〜C6シクロアルキル、又はRSであり、但し、次の条件:
nは2〜5であるか、R5はRSであるか、又はqは2〜5である、のうちの少なくとも1つに該当する、物品。 - 物品であって、
(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材であって、前記電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる、基材と、
前記基材の主表面上のベース(コ)ポリマー層と、
前記ベース(コ)ポリマー層上の酸化物層と、
前記酸化物層上の保護(コ)ポリマー層と、を含み、前記保護(コ)ポリマー層は、式
RS1−N(R4)−C(O)−N(H)−RA1の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物を含み、
式中、
RS1は、式
−R1d−Si(Yp)(R2)3−pのシラン含有基であり、
更に
R1dは、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
各Yはアセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲンから選択される加水分解性基であり、
R2は一価のアルキル又はアリール基であり、かつ、
pは1、2、又は3であり、
更に、R4はH、C1〜C6アルキル又はC3〜C6シクロアルキルであり、
RA1は、式
R11d−(A)の(メタ)アクリル含有基であり、
R11dは、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは、式
X2−C(O)−C(R3)=CH2の(メタ)アクリル基であり、
更に
X2は、−O、−S、又は−NR3であり、かつ
R3は、H、又はCH3である、物品。 - 前記基材が、(コ)ポリマーフィルムであり、前記電子装置が固体照明装置、表示装置、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項3に記載の物品を組み込む電子装置。
- プロセスであって、
(a)(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材の主表面にベース(コ)ポリマーを適用することであって、前記電子デバイスは、有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせを更に含む、適用することと、
(b)前記ベース(コ)ポリマー層上に酸化物層を適用することと、
(c)前記酸化物層上に保護(コ)ポリマー層を成膜させることと、を含み、前記保護(コ)ポリマー層が、式
RS−N(R5)−C(O)−N(H)−RAの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物として形成された(コ)ポリマーを含み、
式中、
RSは式
−R1−[Si(Yp)(R2)3−p]qのシラン含有基であり、
式中、
R1は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、
前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Yは、アセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲンから選択される加水分解性基であり、
R2は一価のアルキル又はアリール基であり、
pは1、2、又は3であり、
qは1〜5であり、
RAは式
R11−(A)nの(メタ)アクリル基含有基であり、
R11は、多価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Aは式X2−C(O)−C(R3)=CH2の(メタ)アクリル基であり、
X2は、−O、−S、又は−NR3であり、R3はH、又はCH3であり、n=1〜5であり、
R5は、H、C1〜C6アルキル若しくはC3〜C6シクロアルキル、又はRSであり、但し、次の条件:
nは2〜5であるか、R5はRSであるか、又はqは2〜5である、のうちの少なくとも1つに該当する、プロセス。 - プロセスであって、
(a)(コ)ポリマーフィルム又は電子デバイスから選択される基材の主表面にベース(コ)ポリマーを適用することであって、前記電子デバイスには、更に有機発光デバイス(OLED)、電気泳動発光デバイス、液晶ディスプレイ、薄膜トランジスタ、光起電力装置、又はこれらの組み合わせが含まれる、適用することと、
(b)前記ベース(コ)ポリマー層上に酸化物層を適用することと、
(c)前記酸化物層上に保護(コ)ポリマー層を成膜させることと、を含み、前記保護(コ)ポリマー層が、式
RS1−N(R4)−C(O)−N(H)−RA1の尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物の少なくとも1つの反応生成物を含み、
式中、
RS1は、式
−R1d−Si(Yp)(R2)3−pのシラン含有基であり、
R1dは、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、前記アリーレン、前記アルカリーレン、又は前記アラルキレン基は、場合により、1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、
Yは、アセテート基、アリールオキシ基、及びハロゲンから選択される加水分解性基であり、
R2は一価のアルキル又はアリール基であり、かつ、
pは1、2、又は3であり、
RA1は、式
R11d−(A)の(メタ)アクリル基含有基であり、
R11dは、二価アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基であり、前記アルキレン、アリーレン、アルカリーレン、又はアラルキレン基は、場合により1つ以上のカテナリー酸素原子を含有し、かつ
Aは式X2−C(O)−C(R3)=CH2の(メタ)アクリル基であり、
X2は、−O、−S、又は−NR3であり、更に、R3はH、又はCH3であり、
R4は、H、C1〜C6アルキル又はC3〜C6シクロアルキルである、プロセス。 - 前記少なくとも1つの尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン前駆体化合物が、化学反応を経て、前記酸化物層上の少なくとも一部分に保護(コ)ポリマー層を形成し、場合により、前記化学反応が、フリーラジカル重合反応、及び加水分解反応から選択される、請求項5又は6のいずれか一項に記載のプロセス。
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261681051P | 2012-08-08 | 2012-08-08 | |
US201261681003P | 2012-08-08 | 2012-08-08 | |
US201261680995P | 2012-08-08 | 2012-08-08 | |
US201261681008P | 2012-08-08 | 2012-08-08 | |
US201261681023P | 2012-08-08 | 2012-08-08 | |
US61/681,051 | 2012-08-08 | ||
US61/681,008 | 2012-08-08 | ||
US61/680,995 | 2012-08-08 | ||
US61/681,023 | 2012-08-08 | ||
US61/681,003 | 2012-08-08 | ||
PCT/US2013/028503 WO2014025384A1 (en) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | Urea (multi)-(meth)acrylate (multi)-silane compositions and articles including the same |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015525823A JP2015525823A (ja) | 2015-09-07 |
JP2015525823A5 JP2015525823A5 (ja) | 2016-03-17 |
JP6268175B2 true JP6268175B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=50068458
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015526519A Expired - Fee Related JP6148340B2 (ja) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | ウレタン(複数)−(メタ)アクリレート(複数)−シランの(コ)ポリマー反応生成物を含む物品 |
JP2015526516A Expired - Fee Related JP6268175B2 (ja) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | 尿素(マルチ)−(メタ)アクリレート(マルチ)−シラン化合物及びそれを含む物品 |
JP2015526517A Expired - Fee Related JP6174701B2 (ja) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | ジウレタン(メタ)アクリレート−シラン組成物及びそれを含む物品 |
JP2015526518A Ceased JP2015532663A (ja) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | 尿素(マルチ)−ウレタン(メタ)アクリレート−シラン組成物及びこれを含む物品 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015526519A Expired - Fee Related JP6148340B2 (ja) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | ウレタン(複数)−(メタ)アクリレート(複数)−シランの(コ)ポリマー反応生成物を含む物品 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015526517A Expired - Fee Related JP6174701B2 (ja) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | ジウレタン(メタ)アクリレート−シラン組成物及びそれを含む物品 |
JP2015526518A Ceased JP2015532663A (ja) | 2012-08-08 | 2013-03-01 | 尿素(マルチ)−ウレタン(メタ)アクリレート−シラン組成物及びこれを含む物品 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (9) | US10011735B2 (ja) |
EP (4) | EP2882761B1 (ja) |
JP (4) | JP6148340B2 (ja) |
KR (4) | KR20150042230A (ja) |
CN (4) | CN104768957B (ja) |
BR (4) | BR112015002690A2 (ja) |
SG (4) | SG11201500946SA (ja) |
TW (4) | TW201412765A (ja) |
WO (4) | WO2014025387A1 (ja) |
Families Citing this family (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150221797A1 (en) | 2012-08-08 | 2015-08-06 | 3M Innovative Properties Company | Photovoltaic devices with encapsulating barrier film |
JP6148340B2 (ja) | 2012-08-08 | 2017-06-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ウレタン(複数)−(メタ)アクリレート(複数)−シランの(コ)ポリマー反応生成物を含む物品 |
EP2882587A4 (en) | 2012-08-08 | 2016-04-13 | 3M Innovative Properties Co | SHIELDING CONSTRUCTIONS AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
US9252392B2 (en) * | 2013-03-14 | 2016-02-02 | Applied Materials, Inc. | Thin film encapsulation-thin ultra high barrier layer for OLED application |
EP3024883A1 (en) | 2013-07-24 | 2016-06-01 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive barrier film construction |
JP6220723B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-10-25 | 株式会社松風 | 新規シランカップリング剤およびそれを含む歯科用組成物 |
JP6296877B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-03-20 | 株式会社松風 | 新規含硫黄シランカップリング剤およびそれを含む歯科用組成物 |
DE102014209233A1 (de) * | 2014-05-15 | 2015-11-19 | Evonik Degussa Gmbh | Harnstoffhaltige Mercaptosilane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
JP6344108B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2018-06-20 | 三菱ケミカル株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを硬化させてなる硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置 |
JP6734267B2 (ja) | 2014-09-26 | 2020-08-05 | ザ ケマーズ カンパニー エフシー リミテッド ライアビリティ カンパニー | イソシアネート由来のオルガノシラン |
US10522771B2 (en) | 2014-12-01 | 2019-12-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Composition, electronic device, and thin film transistor |
US9843024B2 (en) * | 2014-12-03 | 2017-12-12 | Universal Display Corporation | Methods for fabricating OLEDs |
US10000626B2 (en) * | 2014-12-22 | 2018-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Sterically hindered amine and oxyalkyl amine light stabilizers |
SG10201908189TA (en) * | 2015-03-23 | 2019-10-30 | Emd Millipore Corp | Abrasion resistant film for biocontainers |
KR102407114B1 (ko) | 2015-05-29 | 2022-06-08 | 삼성전자주식회사 | 절연액, 절연체, 박막 트랜지스터 및 전자 소자 |
WO2017003870A1 (en) | 2015-06-29 | 2017-01-05 | 3M Innovative Properties Company | Ultrathin barrier laminates and devices |
CN107921753B (zh) | 2015-08-19 | 2020-09-11 | 3M创新有限公司 | 包括多层阻挡组件的复合制品及其制备方法 |
TW201723045A (zh) | 2015-08-19 | 2017-07-01 | 3M新設資產公司 | 複合物品及其製造方法 |
WO2017031294A1 (en) | 2015-08-19 | 2017-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Composite article including a multilayer barrier assembly and methods of making the same |
KR102380151B1 (ko) | 2015-08-31 | 2022-03-28 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터, 및 이를 포함하는 전자 장치 |
TWI610132B (zh) * | 2015-09-30 | 2018-01-01 | 奇美實業股份有限公司 | 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用 |
EP3357078A4 (en) * | 2015-09-30 | 2019-05-15 | 3M Innovative Properties Company | MULTILAYER BARRIER COATINGS |
FR3041971B1 (fr) * | 2015-10-05 | 2021-12-03 | Arkema France | Adhesif acrylique dont le precurseur est applique sous forme liquide et reticule uv, pour l'encapsulation de dispositifs electroniques flexibles, ameliorant la protection contre la permeabilite aux gaz. |
KR102450399B1 (ko) * | 2015-10-06 | 2022-09-30 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터, 그 제조 방법, 그리고 상기 박막 트랜지스터를 포함하는 전자 장치 |
KR102043483B1 (ko) * | 2015-10-30 | 2019-11-11 | 주식회사 엘지화학 | 접착제 조성물, 이를 이용하여 형성된 접착제층을 포함하는 편광판 |
CN109075262A (zh) | 2016-03-25 | 2018-12-21 | 3M创新有限公司 | 多层阻挡膜 |
US20180022642A1 (en) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | Honeywell International Inc. | Index matching layer in optical applications |
KR101967026B1 (ko) * | 2016-09-30 | 2019-04-08 | 삼성에스디아이 주식회사 | 윈도우 필름용 조성물 및 이로부터 형성된 플렉시블 윈도우 필름 |
JP2018077464A (ja) * | 2016-11-01 | 2018-05-17 | 住友化学株式会社 | 化合物、液晶組成物、光学フィルム、偏光板および光学ディスプレイ |
US10026857B1 (en) * | 2016-11-23 | 2018-07-17 | Vanguard Space Technologies, Inc. | Assembly and mounting of solar cells on airfoils |
EP3602648B1 (en) * | 2017-03-30 | 2024-07-10 | 3M Innovative Properties Company | Transfer articles |
JP6904646B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2021-07-21 | 株式会社松風 | ウレタン化反応を必要とするラジカル重合性基を有するシランカップリング剤の製造方法およびそれを用いた歯科用硬化性組成物 |
KR102681068B1 (ko) | 2017-07-26 | 2024-07-02 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 경화성 고굴절률 잉크 조성물 및 잉크 조성물로부터 제조된 물품 |
CN108047368B (zh) * | 2017-11-01 | 2020-10-30 | 宁波大学 | 一种异氰酸酯类聚合物的制备方法及应用 |
EP3727276A2 (en) | 2017-12-21 | 2020-10-28 | 3M Innovative Properties Company | Inorganic dental fillers including a silane treated surface |
JP7104488B2 (ja) * | 2018-03-30 | 2022-07-21 | 株式会社松風 | ウレタン結合を有するラジカル重合性シランカップリング化合物およびそれらを含有する医科歯科用硬化性組成物 |
US10975229B2 (en) * | 2018-03-30 | 2021-04-13 | Kabushiki Kaisha Shofu | Silane coupling compounds and medical and/or dental curable compositions comprising the same |
WO2020026840A1 (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 旭化成株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたポリイミド及び硬化レリーフパターンの製造方法 |
JP6973333B2 (ja) * | 2018-08-28 | 2021-11-24 | 信越化学工業株式会社 | 重合性官能基を有するオルガノポリシロキサン化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物 |
JP7235399B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2023-03-08 | 株式会社松風 | 選択的片末端反応を用いたシランカップリング剤合成方法 |
WO2020067146A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 株式会社松風 | ジイソシアナートを基質としたウレタン結合を有するラジカル重合性シランカップリング化合物 |
JP7156620B2 (ja) * | 2018-10-15 | 2022-10-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 微細パターンを有する基板にシリコン膜を形成する方法 |
CN109627977B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-10-01 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种有机/无机混合涂布液及其应用 |
JP7347931B2 (ja) | 2018-12-26 | 2023-09-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | マイクロ流体デバイス用フィルム、マイクロ流体デバイス及びその製造方法 |
JP7395263B2 (ja) | 2019-04-01 | 2023-12-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 透明親水性紫外線吸収積層体、及び透明親水性紫外線吸収コーティング剤 |
JP2020169240A (ja) | 2019-04-01 | 2020-10-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 防霜用積層体、該積層体を備える熱交換器、及び防霜用コーティング剤 |
CN111785856B (zh) * | 2019-04-04 | 2024-01-26 | 上海和辉光电股份有限公司 | 薄膜封装材料及其制造方法、薄膜封装结构和电子器件 |
KR20220062291A (ko) | 2019-09-18 | 2022-05-16 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 나노구조화된 표면 및 폐쇄된 공극을 포함하는 물품, 및 그의 제조 방법 |
CN110628378A (zh) * | 2019-11-07 | 2019-12-31 | 烟台德邦科技有限公司 | 一种具有高疏水性能的紫外光固化胶及其制备方法 |
US20230220172A1 (en) * | 2020-05-15 | 2023-07-13 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer optical films comprising at least one fluorinated (co)polymer layer made using a fluorinated coupling agent, and methods of making and using the same |
WO2021260601A1 (en) | 2020-06-25 | 2021-12-30 | 3M Innovative Properties Company | Curable high refractive index ink compositions and articles prepared from the ink compositions |
WO2021260596A1 (en) | 2020-06-25 | 2021-12-30 | 3M Innovative Properties Company | Low dielectric constant curable ink compositions |
JP2023539263A (ja) | 2020-08-28 | 2023-09-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化表面と囲まれた空隙とを含む物品、それを製造する方法、及び光学素子 |
CN116686098A (zh) | 2020-12-09 | 2023-09-01 | 3M创新有限公司 | 用于太阳能电池的阻挡组件 |
EP4248272B1 (en) | 2020-12-21 | 2024-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Arrayed structured replication articles and methods |
EP4272033A1 (en) | 2020-12-31 | 2023-11-08 | 3M Innovative Properties Company | Apparatus and method for structured replication and transfer |
CN115703932B (zh) * | 2021-08-06 | 2023-08-08 | 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院) | 双层包覆的钙钛矿量子点/聚合物的制备方法及其应用 |
WO2023089426A1 (en) | 2021-11-16 | 2023-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Methacrylate copolymer and methods of making and using the same |
Family Cites Families (114)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3600216A (en) | 1968-09-06 | 1971-08-17 | Union Carbide Corp | Process for adhering poly-p-xylylene to substrates using silane primers and articles obtained thereby |
US4378250A (en) | 1981-07-31 | 1983-03-29 | Treadway Gerald D | Organosilicone coating compositions |
US5032461A (en) | 1983-12-19 | 1991-07-16 | Spectrum Control, Inc. | Method of making a multi-layered article |
US4842893A (en) | 1983-12-19 | 1989-06-27 | Spectrum Control, Inc. | High speed process for coating substrates |
US5125138A (en) | 1983-12-19 | 1992-06-30 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same |
US5018048A (en) | 1983-12-19 | 1991-05-21 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making |
US5097800A (en) | 1983-12-19 | 1992-03-24 | Spectrum Control, Inc. | High speed apparatus for forming capacitors |
US4722515A (en) | 1984-11-06 | 1988-02-02 | Spectrum Control, Inc. | Atomizing device for vaporization |
EP0242460A1 (en) | 1985-01-18 | 1987-10-28 | SPECTRUM CONTROL, INC. (a Pennsylvania corporation) | Monomer atomizer for vaporization |
US4650889A (en) * | 1985-11-29 | 1987-03-17 | Dow Corning Corporation | Silane coupling agents |
JPS62249992A (ja) | 1986-04-24 | 1987-10-30 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規なシリコンウレタン(メタ)アクリレ−ト,これを用いた樹脂組成物およびコ−テイング剤 |
US4954371A (en) | 1986-06-23 | 1990-09-04 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
JPH0653860B2 (ja) * | 1987-10-26 | 1994-07-20 | 昭和高分子株式会社 | プライマー |
JPH01287115A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Three Bond Co Ltd | 嫌気ならびに湿気硬化型樹脂組成物 |
JPH0627162B2 (ja) | 1988-05-31 | 1994-04-13 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2711456B2 (ja) | 1988-08-08 | 1998-02-10 | 鐘淵化学工業株式会社 | 硬化性樹脂及びその製造法 |
JPH02133338A (ja) | 1988-11-11 | 1990-05-22 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光学ガラスファイバ用コーテイング剤 |
JPH02130139A (ja) | 1988-11-11 | 1990-05-18 | Unitika Ltd | 蒸着フィルム |
US4983737A (en) | 1989-03-21 | 1991-01-08 | Ciba-Geigy Corporation | Ethylenically unsaturated compounds containing 1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine moieties, and polymers, copolymers and stabilized compositions |
US5359069A (en) | 1989-03-21 | 1994-10-25 | Ciba-Geigy Corporation | Non-migrating 1-hydrocarbyloxy hindered amine derivatives as polymer stabilizers |
DE4011044A1 (de) | 1990-04-05 | 1991-10-10 | Fraunhofer Ges Forschung | Silane, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von polymerisaten und polykondensaten |
JP2825736B2 (ja) | 1993-07-30 | 1998-11-18 | 京セラ株式会社 | 誘電体磁器組成物および半導体素子収容用パッケージ |
US5384342A (en) | 1993-08-30 | 1995-01-24 | Dsm Desotech, Inc. | Vinyl ether urethane silanes |
BR9407741A (pt) | 1993-10-04 | 1997-02-12 | Catalina Coatings Inc | Revestimento de acrilato |
US5440446A (en) | 1993-10-04 | 1995-08-08 | Catalina Coatings, Inc. | Acrylate coating material |
US5888491A (en) * | 1993-12-06 | 1999-03-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optionally crosslinkable coatings, compositions and methods of use |
US5654084A (en) | 1994-07-22 | 1997-08-05 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Protective coatings for sensitive materials |
US5696179A (en) | 1994-10-19 | 1997-12-09 | Dsm, N.V. | Silane oligomer and radiation curable coating composition containing the oligomer |
US6083628A (en) | 1994-11-04 | 2000-07-04 | Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. | Hybrid polymer film |
MY132134A (en) * | 1995-03-14 | 2007-09-28 | Daicel Chem | Barrier composite films and a method for producing the same |
US5877895A (en) | 1995-03-20 | 1999-03-02 | Catalina Coatings, Inc. | Multicolor interference coating |
GB9507910D0 (en) | 1995-04-13 | 1995-05-31 | Minnesota Mining & Mfg | Adhesion promotion of orthopaedic implants |
US5891958A (en) * | 1995-05-11 | 1999-04-06 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Curable composition suitable as top coat and coated material using the same |
US5866651A (en) | 1996-10-31 | 1999-02-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Hydroxycarbamoylalkoxysilane-based poly(ether-urethane) sealants having improved paint adhesion and laminates prepared therefrom |
US6045864A (en) | 1997-12-01 | 2000-04-04 | 3M Innovative Properties Company | Vapor coating method |
JP2002514004A (ja) | 1998-05-01 | 2002-05-14 | セシュー ビー デス | 化学蒸着によって堆積された酸化物/有機ポリマー多層薄膜 |
WO1999057222A1 (en) | 1998-05-05 | 1999-11-11 | Massachusetts Institute Of Technology | Emissive polymers and devices incorporating these polymers |
US6335479B1 (en) | 1998-10-13 | 2002-01-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module |
CA2353506A1 (en) | 1998-11-02 | 2000-05-11 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays |
US6268695B1 (en) | 1998-12-16 | 2001-07-31 | Battelle Memorial Institute | Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making |
US6503564B1 (en) | 1999-02-26 | 2003-01-07 | 3M Innovative Properties Company | Method of coating microstructured substrates with polymeric layer(s), allowing preservation of surface feature profile |
US6169140B1 (en) | 1999-04-28 | 2001-01-02 | Bayer Corporation | Moisture-curable compositions containing polyisocyanates and polyacrylates having alkoxysilane groups |
JP2003510445A (ja) | 1999-09-30 | 2003-03-18 | ビー・エイ・エス・エフ、コーポレーション | 改善された付着性を有するカルバメート官能性樹脂、該樹脂の製造方法および層間付着を改善する方法 |
US6548912B1 (en) | 1999-10-25 | 2003-04-15 | Battelle Memorial Institute | Semicoductor passivation using barrier coatings |
US6573652B1 (en) | 1999-10-25 | 2003-06-03 | Battelle Memorial Institute | Encapsulated display devices |
US6866901B2 (en) | 1999-10-25 | 2005-03-15 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
US6413645B1 (en) | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Battelle Memorial Institute | Ultrabarrier substrates |
JP4505698B2 (ja) | 2000-01-17 | 2010-07-21 | 日油株式会社 | ビニル基含有アルコキシアミン、その用途および製造方法 |
FR2806076B1 (fr) | 2000-03-08 | 2002-09-20 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent revetu d'une couche polymere |
AU2001261335A1 (en) | 2000-06-22 | 2002-01-02 | Basf Corporation | Coating compositions having improved adhesion to aluminum substrates |
US20020090901A1 (en) | 2000-11-03 | 2002-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Flexible abrasive product and method of making and using the same |
DE60230255D1 (de) | 2001-04-09 | 2009-01-22 | Toppan Printing Co Ltd | Laminierter körper |
JP4420668B2 (ja) | 2001-06-13 | 2010-02-24 | コニシ株式会社 | 加水分解性珪素基含有不飽和有機化合物およびその製造方法、珪素原子含有ポリマー並びにそのエマルジョン |
US7068902B2 (en) | 2001-08-17 | 2006-06-27 | Alcatel | Radiation-curable coating composition for optical fibers comprising all-in-one oligomeric system |
WO2003032332A1 (fr) | 2001-10-05 | 2003-04-17 | Bridgestone Corporation | Film transparent electroconducteur, son procede de fabrication, et ecran tactile y relatif |
DE10201703A1 (de) | 2002-01-17 | 2003-08-07 | Consortium Elektrochem Ind | Alkoxysilanterminierte Polymere enthaltende vernetzbare Polymerabmischungen |
JP3313360B1 (ja) | 2002-02-14 | 2002-08-12 | コニシ株式会社 | 硬化性樹脂組成物とその製造方法並びにそれを用いた接着方法 |
DE10213036A1 (de) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Clariant Gmbh | Kunststofffolie mit Mehrschicht-Interferenzbeschichtung |
US6835950B2 (en) | 2002-04-12 | 2004-12-28 | Universal Display Corporation | Organic electronic devices with pressure sensitive adhesive layer |
US20030203210A1 (en) | 2002-04-30 | 2003-10-30 | Vitex Systems, Inc. | Barrier coatings and methods of making same |
JP4076378B2 (ja) | 2002-06-28 | 2008-04-16 | コニシ株式会社 | 硬化性樹脂組成物とその製造方法並びにそれを用いた接着方法 |
US7215473B2 (en) | 2002-08-17 | 2007-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Enhanced heat mirror films |
US7018713B2 (en) | 2003-04-02 | 2006-03-28 | 3M Innovative Properties Company | Flexible high-temperature ultrabarrier |
WO2005007751A1 (ja) * | 2003-07-18 | 2005-01-27 | Konishi Co., Ltd. | 硬化性樹脂組成物及び常温硬化接着剤 |
JP2005122147A (ja) | 2003-09-24 | 2005-05-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置 |
DE10349766A1 (de) | 2003-10-24 | 2005-06-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Kieselsäurepolykondensate mit verzweigtkettigen, urethan-, säureamid- und/oder carbonsäureestergruppenhaltigen Resten |
DE102004024429A1 (de) | 2004-05-14 | 2005-12-08 | Röhm GmbH & Co. KG | Formkörper, enthaltend eine Polymermischung aus schlagzähmodifizierten Poly(meth)-acrylat und Fluorpolymer |
JP5163119B2 (ja) | 2005-04-06 | 2013-03-13 | Jsr株式会社 | 放射線硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
WO2006132180A1 (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-14 | Jsr Corporation | 反射防止積層体 |
US20070020451A1 (en) | 2005-07-20 | 2007-01-25 | 3M Innovative Properties Company | Moisture barrier coatings |
US20090130463A1 (en) * | 2005-10-05 | 2009-05-21 | John Dean Albaugh | Coated Substrates and Methods for their Preparation |
BRPI0707252A2 (pt) * | 2006-01-26 | 2011-04-26 | Sika Technology Ag | composições endurecìveis por umidade contendo polìmeros silano funcionais com boa aderência |
EP1849845A1 (de) | 2006-04-26 | 2007-10-31 | Sika Technology AG | Feuchtigkeitshärtende Zusammensetzungen enthaltend silanfunktionelle Polymere und Aminosilan-Addukte |
US7615283B2 (en) | 2006-06-13 | 2009-11-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluoro(meth)acrylate polymer composition suitable for low index layer of antireflective film |
EP2048195B1 (en) | 2006-06-20 | 2012-05-02 | Nof Corporation | Inorganic-organic hybrid composition and use thereof |
CN101522417B (zh) | 2006-10-04 | 2013-05-22 | 3M创新有限公司 | 制备多层聚氨酯保护膜的方法 |
DE102006051101A1 (de) | 2006-10-25 | 2008-04-30 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Organische Licht emittierende Diode (OLED) mit strukturierter Backelektrode und Verfahren zur Herstellung einer OLED mit strukturierter Backelektrode |
JP2008111025A (ja) | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Nof Corp | ガスバリヤー材およびガスバリヤー性包装用フィルム |
KR101274699B1 (ko) | 2006-12-22 | 2013-06-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 소자 |
US8241713B2 (en) | 2007-02-21 | 2012-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Moisture barrier coatings for organic light emitting diode devices |
WO2008122292A1 (en) | 2007-04-04 | 2008-10-16 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Diffusion-barrier coating for protection of moisture and oxygen sensitive devices |
KR20100043143A (ko) | 2007-08-21 | 2010-04-28 | 파나소닉 주식회사 | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 방전 상태 감시 장치 |
JP5469837B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 親水性組成物 |
TW200923033A (en) | 2007-09-21 | 2009-06-01 | Toyo Boseki | Coating solution composition, laminate and method thereof |
JP5346629B2 (ja) | 2008-03-13 | 2013-11-20 | 株式会社日本触媒 | 太陽電池モジュール用バックシート |
JP5344843B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物および固体撮像素子 |
JP5263849B2 (ja) | 2008-04-09 | 2013-08-14 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | 酸素及び/又は水分に敏感な電子デバイスをカプセル封じするための多層膜 |
KR100929547B1 (ko) | 2008-04-28 | 2009-12-03 | 한국과학기술원 | 올리고실록산 하이브리드 코팅을 이용한 가스 차단막 |
KR20110033210A (ko) | 2008-06-30 | 2011-03-30 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 무기 또는 무기/유기 혼성 장벽 필름 제조 방법 |
JP2010023234A (ja) | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Jsr Corp | 積層フィルムおよびその製造方法 |
JP2010044981A (ja) | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | 表示装置 |
JP5577635B2 (ja) * | 2008-10-09 | 2014-08-27 | 日立化成株式会社 | 接着剤組成物、回路接続用接着剤及び回路接続体 |
WO2010044321A1 (ja) | 2008-10-15 | 2010-04-22 | 関西ペイント株式会社 | 重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物 |
EP2358529A4 (en) | 2008-11-17 | 2013-08-28 | 3M Innovative Properties Co | BARRIER WITH A GRADIENT COMPOSITION |
JP5713528B2 (ja) * | 2008-11-18 | 2015-05-07 | 三菱化学株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、ハードコート用硬化膜及び積層体 |
JP2010189294A (ja) | 2009-02-17 | 2010-09-02 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 光重合性官能基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
JP5366854B2 (ja) | 2009-02-19 | 2013-12-11 | 三菱レイヨン株式会社 | (メタ)アクリル酸エステル |
JP5717035B2 (ja) | 2009-06-02 | 2015-05-13 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | 多層バリアフィルム |
KR101072153B1 (ko) | 2009-06-30 | 2011-10-10 | 엘지이노텍 주식회사 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
JP5316348B2 (ja) * | 2009-10-06 | 2013-10-16 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性コーティング剤組成物及びその硬化皮膜を有する物品 |
US8889759B2 (en) | 2010-01-14 | 2014-11-18 | Kansai Paint Co., Ltd. | Active energy ray-curable composition, and coated article |
US8129205B2 (en) | 2010-01-25 | 2012-03-06 | Micron Technology, Inc. | Solid state lighting devices and associated methods of manufacturing |
CN102781665A (zh) | 2010-01-27 | 2012-11-14 | 株式会社大赛璐 | 阻气膜及其制造方法、以及使用该阻气膜的器件 |
KR20120140651A (ko) | 2010-02-17 | 2012-12-31 | 후구비카가구코오교우가부시끼가이샤 | 표시 패널용 투명 보호판 및 표시 장치 |
CN102892518B (zh) * | 2010-04-14 | 2014-10-01 | 关西涂料株式会社 | 用于形成多层涂膜的方法和涂覆物品 |
TWI559472B (zh) * | 2010-07-02 | 2016-11-21 | 3M新設資產公司 | 具封裝材料與光伏打電池之阻隔組合 |
US9254506B2 (en) | 2010-07-02 | 2016-02-09 | 3M Innovative Properties Company | Moisture resistant coating for barrier films |
US11613617B2 (en) | 2010-12-01 | 2023-03-28 | Toyobo Co., Ltd. | Multilayer film |
JP5974465B2 (ja) * | 2010-12-01 | 2016-08-23 | 東洋紡株式会社 | 積層フィルム |
WO2012106184A2 (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 3M Innovative Properties Company | Vapor-deposited coating for barrier films and methods of making and using the same |
US20130323519A1 (en) * | 2011-01-31 | 2013-12-05 | 3M Innovative Properties Company | Coatings for barrier films and methods of making and using the same |
JP6045096B2 (ja) | 2011-07-13 | 2016-12-14 | 関西ペイント株式会社 | 積層体及び積層体の製造方法 |
JP6148340B2 (ja) | 2012-08-08 | 2017-06-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ウレタン(複数)−(メタ)アクリレート(複数)−シランの(コ)ポリマー反応生成物を含む物品 |
US20150221797A1 (en) | 2012-08-08 | 2015-08-06 | 3M Innovative Properties Company | Photovoltaic devices with encapsulating barrier film |
-
2013
- 2013-03-01 JP JP2015526519A patent/JP6148340B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-03-01 BR BR112015002690A patent/BR112015002690A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2013-03-01 SG SG11201500946SA patent/SG11201500946SA/en unknown
- 2013-03-01 EP EP13828746.1A patent/EP2882761B1/en active Active
- 2013-03-01 KR KR1020157005711A patent/KR20150042230A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-03-01 US US14/419,324 patent/US10011735B2/en active Active
- 2013-03-01 KR KR1020157005801A patent/KR20150041058A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-03-01 EP EP13828610.9A patent/EP2882760B1/en active Active
- 2013-03-01 EP EP13827570.6A patent/EP2882759B1/en active Active
- 2013-03-01 WO PCT/US2013/028518 patent/WO2014025387A1/en active Application Filing
- 2013-03-01 WO PCT/US2013/028510 patent/WO2014025386A1/en active Application Filing
- 2013-03-01 BR BR112015002847A patent/BR112015002847A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2013-03-01 CN CN201380042298.6A patent/CN104768957B/zh active Active
- 2013-03-01 BR BR112015002694A patent/BR112015002694A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2013-03-01 SG SG11201500958SA patent/SG11201500958SA/en unknown
- 2013-03-01 WO PCT/US2013/028503 patent/WO2014025384A1/en active Application Filing
- 2013-03-01 JP JP2015526516A patent/JP6268175B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-03-01 US US14/419,303 patent/US9982160B2/en active Active
- 2013-03-01 EP EP13828671.1A patent/EP2882800B1/en active Active
- 2013-03-01 CN CN201380042382.8A patent/CN104769017B/zh active Active
- 2013-03-01 KR KR1020157005714A patent/KR20150041042A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-03-01 JP JP2015526517A patent/JP6174701B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-03-01 KR KR1020157005808A patent/KR20150041061A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-03-01 CN CN201380042105.7A patent/CN104768956B/zh active Active
- 2013-03-01 SG SG11201500942UA patent/SG11201500942UA/en unknown
- 2013-03-01 BR BR112015002691A patent/BR112015002691A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2013-03-01 US US14/416,303 patent/US9790396B2/en active Active
- 2013-03-01 WO PCT/US2013/028508 patent/WO2014025385A1/en active Application Filing
- 2013-03-01 SG SG11201500945XA patent/SG11201500945XA/en unknown
- 2013-03-01 JP JP2015526518A patent/JP2015532663A/ja not_active Ceased
- 2013-03-01 US US14/417,831 patent/US20150203707A1/en not_active Abandoned
- 2013-03-01 CN CN201380042311.8A patent/CN104781263B/zh active Active
- 2013-08-07 TW TW102128382A patent/TW201412765A/zh unknown
- 2013-08-07 TW TW102128376A patent/TW201410787A/zh unknown
- 2013-08-07 TW TW102128379A patent/TW201412533A/zh unknown
- 2013-08-07 TW TW102128384A patent/TWI606928B/zh not_active IP Right Cessation
-
2018
- 2018-01-15 US US15/871,593 patent/US10533111B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2018-04-17 US US15/955,151 patent/US10774236B2/en active Active
-
2019
- 2019-12-05 US US16/704,623 patent/US11174361B2/en active Active
- 2019-12-06 US US16/705,336 patent/US11192989B2/en active Active
-
2020
- 2020-08-03 US US16/947,479 patent/US11492453B2/en active Active
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11492453B2 (en) | Urea (multi)-(meth)acrylate (multi)-silane compositions and articles including the same | |
KR101993954B1 (ko) | 배리어 필름용 코팅 및 이의 제조 및 사용 방법 | |
US20130302627A1 (en) | Vapor-deposited coating for barrier films and methods of making and using the same | |
US20130323519A1 (en) | Coatings for barrier films and methods of making and using the same | |
JP6276266B2 (ja) | 封入バリアフィルムを備える光起電装置 | |
US10784455B2 (en) | Coatings for barrier films and methods of making and using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161027 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170215 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170725 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20170803 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170809 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171110 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20171117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6268175 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |