JP5119681B2 - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXを示す概略構成図である。図1において、露光装置EXは、マスクMを保持しながら移動可能なマスクステージ1と、露光光L1が照射される基板Pを保持しながら移動可能な基板ステージ2と、マスクステージ1に保持されているマスクMを露光光L1で照明する照明光学系ILと、露光光L1で照明されたマスクMのパターンの像を基板Pに投影する投影光学系PLとを備えている。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
Claims (9)
- マスクの所定面を照明光で照明し、前記マスクで反射した前記照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記マスクの所定面の少なくとも一部と対向する位置に配置され、前記所定面での前記照明光の照明領域を規定する光学部材と、
前記マスクで反射した前記照明光を前記基板に導く投影光学系と、
前記マスクに入射せずに前記光学部材に入射する前記照明光の少なくとも一部を、前記マスクに入射して前記マスクで反射する反射方向とは異なる方向に反射し、前記投影光学系への入射を抑制する抑制部と、を備えた露光装置。 - 前記マスクの所定面は、極端紫外光を反射可能な多層膜の表面を含み、
前記光学部材に入射する前記照明光は、前記光学部材で反射せずに前記マスクの所定面で反射する前記極端紫外光を含む第1成分と、前記マスク及び前記光学部材の両方で反射する第2成分とを含み、
前記抑制部は、前記光学部材で反射した前記照明光の前記第2成分の光が前記投影光学系に入射することを抑制する請求項1記載の露光装置。 - 前記抑制部は、前記光学部材の入射面に設けられる請求項1又は2記載の露光装置。
- 前記抑制部は、前記光学部材の入射面に形成された凹凸構造を含む請求項3記載の露光装置。
- 前記凹凸構造は、モスアイ構造を含む請求項4記載の露光装置。
- 前記光学部材の入射面は、入射した前記照明光を前記反射方向とは異なる方向に反射する所定形状を有した反射面を形成し、
前記抑制部は、前記反射面を含む請求項3記載の露光装置。 - 前記反射面で反射した前記照明光を受ける受光面を有する受光部材と、
前記受光部材を冷却する冷却機構と、を備えた請求項6記載の露光装置。 - 前記マスクの所定面に前記照明光を照明する照明光学系を備え、
前記抑制部は、前記照明光学系から前記光学部材に向かう前記照明光の光路上で、前記光学部材に対して離れた位置に配置される請求項1又は2記載の露光装置。 - 請求項1〜8のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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