JP5272584B2 - 遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 - Google Patents
遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5272584B2 JP5272584B2 JP2008222499A JP2008222499A JP5272584B2 JP 5272584 B2 JP5272584 B2 JP 5272584B2 JP 2008222499 A JP2008222499 A JP 2008222499A JP 2008222499 A JP2008222499 A JP 2008222499A JP 5272584 B2 JP5272584 B2 JP 5272584B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light shielding
- exposure
- fixed
- blind
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 60
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N chromium molybdenum Chemical compound [Cr].[Mo] VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
また、可動ブラインドは複数の可動ブレードを備えているため、個々の可動ブレード及びその駆動機構の信頼性が低いと、可動ブラインドのメンテナンス間隔が短くなる。特に、EUV露光装置においては、露光光の光路を真空に保つために、可変ブラインドを含む光学系等は真空チャンバ内に配置される。従って、真空チャンバ内に配置される装置のメンテナンスの頻度を低くして、露光装置の稼働率を向上させるためにも、可動ブラインドの機構部の信頼性を高める必要がある。
また、本発明による可変スリット装置は、照明光の形状を所定形状に形成する可変スリ
ット装置であって、本発明の遮光ユニットを複数個備え、その複数の遮光ユニットのその遮光部を並列に配置したものである。
また、本発明によるデバイス製造方法は、本発明の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むものである。
図1は、本実施形態の露光光EL(照明光)として波長が3〜50nm程度の範囲内で例えば11nm又は13nm等のEUV光を用いる露光装置(EUV露光装置)100の全体構成を概略的に示す断面図である。図1において、露光装置100は、露光光ELを発生するレーザプラズマ光源10と、露光光ELでレチクルR(マスク)を照明する照明光学系ILSと、レチクルRを保持して移動するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターン面(レチクル面)に形成されたパターンの像を、レジスト(感光材料)が塗布されたウエハW(感光性基板)上に投影する投影光学系POとを備えている。さらに、露光装置100は、ウエハWを保持して移動するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータを含む主制御系31等とを備えている。
次に、レチクルRは、レチクルステージRSTの底面に静電チャックRHを介して吸着保持されている。レチクルステージRSTは、レーザ干渉計(不図示)の計測値及び主制御系31の制御情報に基づいて、真空チャンバ1の外面のXY平面に平行なガイド面に沿って駆動系(不図示)によってY方向に所定ストロークで駆動されるとともに、X方向及びθz方向(Z軸回りの回転方向)等にも微小量駆動される。レチクルステージRSTを真空チャンバ1側に覆うようにパーティション8が設けられ、パーティション8内は不図示の真空ポンプによって大気圧と真空チャンバ1内の気圧との間の気圧に維持されている。
ウエハW上の1つのショット領域(ダイ)を露光するときには、露光光ELが照明光学系ILSによりレチクルRの照明領域27Rに照射され、レチクルRとウエハWとは投影光学系POに対して投影光学系POの縮小倍率に従った所定の速度比でY方向に同期して移動する(同期走査)。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の一つのショット領域に露光される。その後、ウエハステージWSTを駆動してウエハWをステップ移動した後、ウエハW上の次のショット領域に対してレチクルRのパターンが走査露光される。このようにステップ・アンド・スキャン方式でウエハW上の複数のショット領域に対して順次レチクルRのパターンの像が露光される。
図2(A)は、図1の可変ブラインド35の要部を示す斜視図、図2(B)は図2(A)の一部を−Y方向から見た拡大図、図3は、図2(A)の可変ブラインド35の一部を省略した平面図である。図3において、レチクルR上の円弧状の照明領域27Rの−Y方向のエッジ部27Rbの形状は、図1のブラインド板26によって規定される。また、レチクルR上の円弧状の照明領域27Rの+Y方向のエッジ部27Raの形状は、フレーム36上のX方向に所定周期で設定された複数の位置Pi(i=1,2,…)に、X方向に近接して配列されたブラインドユニット38によって規定される。ブラインドユニット38は、例えばフレーム36に対して底面側からボルト50(図2(B)参照)によって固定されている。なお、図3の−X方向側の複数のブラインドユニット38は図示省略されており、説明の便宜上、図2(A)のブラインドユニット38の個数と図3のブラインドユニット38の個数とは異なっている。ブラインドユニット38(ブレード39a)の個数が多いほど、高精度に(X方向に微細な幅で)照明領域27Rの形状を制御できる。ブラインドユニット38の個数は例えば10個程度から数10個である。
図4は、図2に示す複数のブラインドのうち、一つのブラインドユニット38を示す拡大図である。図4において、ブラインドユニット38は、ユニット本体39と、ユニット本体39を駆動する超音波モータ40とを備える。ユニット本体39は、フレーム36に固定され、かつY方向に細長い固定部39bと、ブレード部39aと、固定部39bに対してブレード部39aをY方向に変位させる一対の平行移動部材39c,39dとを備える。ブレード部39aは、先端が次第に薄くなり露光光が直接照射される先端部39atと、先端部39atを支持し、Y方向に細長く、かつ固定部39bとほぼ同じ長さの支持部材39auとを含んでいる。平行移動部材39c,39bは、それぞれ断面がほぼ矩形に形成されている。平行移動部材39cは、支持部材39auの両端部のうち一端部(先端部39at側の端部)と、固定部39bの両端部のうち一端部(−Y方向側の端部)とを連結し、平行移動部材39dは、支持部材39auの両端部のうち他端部(先端部39atとは反対側の端部)と、固定部39bの両端部のうち他端部(+Y方向側の端部)とを連結する。
(1)本実施形態のブラインドユニット38は、露光光の照明領域27R(又は露光領域27W)の形状を調整するためのユニットであって、固定部39bと、露光光の一部を遮光するブレード部39aと、固定部39bとブレード部39aとの間に配置されて、固定部39bに対してブレード部39aをY方向に移動する超音波モータ40とを備えている。
(2)また、固定部39b及びブレード部39aはY方向に平行に配置され、固定部39bに対してブレード部39aを平行移動させる平行移動部材39c,39dを備えている。従って、軸受けのような複雑な機構を用いることなく、ブレード部39aをY方向に高精度に駆動できる。
(4)また、固定部39bに対してブレード部39aを超音波モータ40で駆動しているため、例えば真空中でもブレード部39aを高精度に駆動できる。さらに、超音波モータ40は電源オフの状態で保持力を有するため、露光工程中で照明領域の形状が一度設定された後は、超音波モータ40の電源をオフにできるため、制御が容易である。
(6)また、図2(A)の可変ブラインド35は、複数のブラインドユニット38のブレード部39aをX方向に近接して、かつ同一面に沿って配置している。従って、それらのブレード部39aを露光装置のレチクルRの近傍等の視野絞り面に配置することができ、ブレード部39aのY方向の位置制御によって、レチクルR上のスリット状の照明領域27R(ひいてはウエハW上の露光領域27W)の幅、ひいては対応するウエハW上での露光光の光量を高精度に制御できる。
先ず、図4のブラインドユニット38のユニット本体39の代わりに、図6のユニット本体39Aを使用できる。図6において、ユニット本体39Aは、固定部39bとブレード部39aとの−Y方向の端部を平行移動部材39c及びヒンジ部39eを介して連結し、固定部39bとブレード部39aとの+Y方向の端部を引っ張りコイルばね43によって連結したものである。この他の構成は図4と同様であり、固定部39bの凸部39hとブレード部39aの凸部39iとの間に、ブレード部39iをY方向に駆動するための超音波モータ40が設置されている。
また、ユニット本体39として、ヒンジ部39eに相当する部分に回転軸を設けたリンク機構等を使用することも可能である。
また、上記の実施形態では、固定部39bに対してブレード部39aを駆動するために超音波モータ40が使用されているが、その他にボイスコイルモータ又はEIコア方式のアクチュエータ等の他の駆動機構も使用可能である。
また、図1の可変ブラインド35は、投影光学系POと、ウエハWとの間に配置してもよい。この場合、パーティション7を省略してもよい。
また、上述の実施形態では、露光光源としてレーザプラズマ光源を用いるものとしたが、これに限らず、SOR(Synchrotron Orbital Radiation)リング、ベータトロン光源、ディスチャージド光源、X線レーザなどのいずれを用いても良い。
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。
Claims (12)
- 遮光ユニットであって、
固定部と、遮光部と、前記固定部に対して前記遮光部を平行移動させる、2つの平行移動部材とを有するユニット本体と、
前記ユニット本体の内部空間に設けられ、前記固定部に対して前記遮光部を移動する駆動機構と、
を備えることを特徴とする遮光ユニット。 - 前記固定部及び前記遮光部は互いに平行に配置されることを特徴とする請求項1に記載の遮光ユニット。
- 前記固定部は、前記遮光部を平行移動させる方向に延びた形状の部材で構成され、
前記遮光部は、前記照明光の一部を遮光するブレードと、前記ブレードを支持し、前記平行移動部材によって平行移動する方向に延びる支持部材とを有し、
前記平行移動部材は、前記固定部の両端部の少なくとも一方と前記支持部材の両端部の少なくとも一方とを連結することを特徴とする請求項1又は2に記載の遮光ユニット。 - 前記平行移動部材と、前記固定部の両端部の少なくとも一方及び前記支持部材の両端部の少なくとも一方とを接続するヒンジ部を有することを特徴とする請求項3に記載の遮光ユニット。
- 前記固定部、前記支持部材、前記平行移動部材、及び前記ヒンジ部は、一つの部材で一体的に形成されることを特徴とする請求項4に記載の遮光ユニット。
- 前記駆動機構は、前記固定部に固定された超音波モータを含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の遮光ユニット。
- 前記遮光部の一部に設けられたスケール部と、該スケール部の変位を検出する検出器とを含み、前記固定部に対する前記遮光部の変位を検出する検出装置を備えることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の遮光ユニット。
- 照明光の形状を所定形状に形成する可変スリット装置であって、
請求項1から7のいずれか一項に記載の遮光ユニットを複数個備え、
前記複数の遮光ユニットの前記遮光部を並列に配置したことを特徴とする可変スリット装置。 - 前記遮光ユニットの前記固定部及び前記遮光部の相対移動する方向の長さは、前記駆動機構の長さの少なくとも2倍であり、
隣接する2つの前記遮光ユニットの前記駆動機構は、前記固定部に沿って重ならない位置に配置されることを特徴とする請求項8に記載の可変スリット装置。 - 露光光でパターンを照明し、前記露光光で前記パターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、
請求項8又は9に記載の可変スリット装置を備え、
前記可変スリット装置の前記遮光部で前記露光光の一部を遮光することを特徴とする露光装置。 - 前記露光光の光量情報を計測する計測装置と、
前記計測装置の計測結果に応じて前記可変スリット装置の前記遮光部による前記露光光の遮光量を調整する調整装置とを備えることを特徴とする請求項10に記載の露光装置。 - 請求項10又は11に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008222499A JP5272584B2 (ja) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | 遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008222499A JP5272584B2 (ja) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | 遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010056456A JP2010056456A (ja) | 2010-03-11 |
JP5272584B2 true JP5272584B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=42072025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008222499A Active JP5272584B2 (ja) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | 遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5272584B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102203675B (zh) * | 2008-10-31 | 2014-02-26 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 用于euv微光刻的照明光学部件 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6323317A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-01-30 | Canon Inc | 投影露光装置 |
JPH01298719A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-01 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
EP1482363A1 (en) * | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
TW200507066A (en) * | 2003-07-25 | 2005-02-16 | Nikon Corp | Exposure apparatus |
TWI387855B (zh) * | 2003-11-13 | 2013-03-01 | 尼康股份有限公司 | A variable slit device, a lighting device, an exposure device, an exposure method, and an element manufacturing method |
EP2031640A4 (en) * | 2006-06-16 | 2009-06-10 | Nikon Corp | DEVICE WITH A VARIABLE SLOT, LIGHTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING THE DEVICE |
JP4838698B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2011-12-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
-
2008
- 2008-08-29 JP JP2008222499A patent/JP5272584B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010056456A (ja) | 2010-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5387169B2 (ja) | 遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 | |
EP1589792B1 (en) | Light source apparatus and exposure apparatus having the same | |
US6803994B2 (en) | Wavefront aberration correction system | |
JP5453778B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2004064076A (ja) | 変形ミラー構造体、変形ミラーの制御方法及び露光装置 | |
US9134629B2 (en) | Illumination system, lithographic apparatus and method of forming an illumination mode | |
US8704199B2 (en) | Alignment of collector device in lithographic apparatus | |
KR20010051996A (ko) | 반사기를 이용한 위치결정 시스템을 구비한 전사 투영 장치 | |
JP5223921B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、及び露光方法 | |
US7626680B2 (en) | Exposure apparatus and device fabrication method using the same | |
WO2011040488A1 (ja) | 照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2004343082A (ja) | 凹面および凸面を含む集光器を備えたリトグラフ投影装置 | |
JP2009130366A (ja) | 照明光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP5387982B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
US20090190117A1 (en) | Exposure apparatus, manufacturing method and supporting method thereof | |
JP5119681B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP5272584B2 (ja) | 遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 | |
JP2011077480A (ja) | 反射型マスク、露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法 | |
JP2011108697A (ja) | 露光量制御方法、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
TWI453526B (zh) | 經組態以將一光學元件安裝於用於一微影裝置之一模組中之座、用於一微影裝置之模組及經建構及配置以將一力施加於一微影裝置之一模組之一光學元件之一周邊上的彈性構件 | |
JP2004119695A (ja) | 投影光学装置及び露光装置 | |
JP2009105349A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP4474941B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2012004158A (ja) | 洗浄方法、洗浄装置、露光方法、露光装置およびデバイス製造方法。 | |
JP2010080754A (ja) | 照明光学系及び露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130328 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130429 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5272584 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |