JP4630567B2 - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
る。すなわち、第1のテーブルと第2のテーブルは粗微動構成になっている。
がスキャンしても非スキャン方向のブレードが外れることないように十分な長さが必要である。
非スキャン方向のマスキングブレードの移動は、露光が開始される前に一度するだけなので、駆動による振動や変形がPO定盤に影響することはない。安定した露光は確保される。さらに、直接床から支持しても同様の効果を得ることができる。
すなわち、非スキャン方向とスキャン方向とマスクの相対関係が計測等によって維持されるならば、PO定盤以外の支持系であっても何ら問題はない。
EUVのような露光装置では、マスクが反射型となるが、従来の露光装置の場合は、照明光が透過するタイプである。この場合は、第二のマスキングブレードがマスクステージと投影光学系の間にあっても同様の効果がある。
第2のマスキングステージの構成を図9で説明する。照明範囲を規定するために、スキャン方向は円弧状をしている。円弧は場所によって照度ムラが最小となるように調整可能に
独立に動く、複数のブレード(74〜81)から形成される。複数のブレード(74〜81)はロの字形のブレード駆動部73に連結され、ブレード駆動部73はPOのベース定盤から支持されたマスクステージ支持部70によって保持される。非スキャン方向も同様にマスクステージ支持部70に内蔵された駆動部から出たブレード71とブレード72によって、照明範囲を規定する。
また、第一の実施例の場合は、円弧スリットの形状を第一のマスキングブレードによって形成している。この場合は、第一のマスキングブレードが図9の複数のブレード(74〜81)と同様な構造に形成されることによって同様の効果を得ることができる。
照明範囲の形状は円弧で説明しているが、他の形状でも同様の効果があることは言うまでもない。
この露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され、原版であるレチクルRを介して基板としての半導体ウエハW上に光源91からの露光エネルギーとしての露光光(この用語は、可視光、紫外光、EUV光、X線、電子線、荷電粒子線等の総称である)を投影系としての投影レンズ(この用語は、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等の総称である)92を介して照射することによって、基板上に所望のパターンを形成している。
上記ステップ4のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するCVDステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
32:マスク、33:スキャン方向のブレードの移動方向、34:PO、40:非スキャン方向のブレード支持支柱、41:第2のテーブルを駆動するアクチュエータ(粗動リニアモータ固定子)、42:Yフットを含む第2のテーブル、43:スキャン方向のブレード支持部およびブレード駆動部、44:スキャン方向の第1ブレード、45:スキャン方向の第2ブレード、46:粗動リニアモータ可動子、47:天板(第1のテーブル)、48:スキャン方向、49:マスクの露光領域、50:スキャン方向のブレードの移動方向、51:非スキャン方向の第1ブレード、52:非スキャン方向の第2ブレード、53:非スキャン方向のブレードの移動方向、54:非スキャン方向のブレード支持部およびブレード駆動部、55:非スキャン方向のブレード支持支柱、56:POのベース定盤、56:POのベース定盤、60:第2のマスクステージの支持部、61:第2のマスクステージのスキャン方向のブレード、62:第2のマスクステージの非スキャン方向のブレード、65:スキャン方向の露光範囲を決める第1ブレード、66:スキャン方向の露光範囲を決める第2ブレード、70:第2のマスクステージの支持部および非スキャン方向の駆動部、71:非スキャン方向の照明範囲を決める第1ブレード、72:非スキャン方向の照明範囲を決める第2ブレード、73:スキャン方向のブレード駆動部、74:スキャン方向の照明範囲を決める第1ブレード、75:スキャン方向の照明範囲を決める第2ブレード、76:スキャン方向の照明範囲を決める第3ブレード、77:スキャン方向の照明範囲を決める第4ブレード、78:スキャン方向の照明範囲を決める第5ブレード、79:スキャン方向の照明範囲を決める第6ブレード、80:スキャン方向の照明範囲を決める第7ブレード、81:スキャン方向の照明範囲を決める第8ブレード、101:マスク又はレチクル、102:遮光領域(光吸収体)、103:実素子パターン領域、104:テストパターン領域、105:可変ブレードによって形成された円弧状のマスク上の照明領域、106:斜線部が実素子を露光するために照明したい範囲、111:マスク又はレチクル、112:マスクステージ(可動部)、113:照明装置の光源から導かれた光束の中心、114:マスクステージ(固定部)の支持定盤、115:スキャン方向の可変ブレード、116:非スキャン方向の可変ブレード、117:PO。
Claims (3)
- 原版ステージに搭載された原版を、光源からの光で照明する照明装置と、露光に寄与しない不要な光を遮光するマスキングブレードと、を備える走査型露光装置において、
前記原版ステージは、前記原版を搭載して移動可能な第1テーブルと、前記第1テーブルを搭載して移動可能な第2テーブルと、前記第2テーブルに対して前記第1テーブルを駆動する第1駆動機構と、前記第2テーブルを走査方向に駆動する第2駆動機構とを有し、
該マスキングブレードは、前記走査方向に移動可能な第1のブレードと、非走査方向に移動可能な第2のブレードと、前記第2テーブルの駆動に同期して前記第1のブレードを駆動する第1ブレード駆動機構と、前記第2ブレードを駆動する第2ブレード駆動機構と、を有し、
前記第1ブレード駆動機構が前記第2テーブルに支持され、前記第2ブレード駆動機構が前記第2テーブルを支持する固定部に支持されることを特徴とする露光装置。 - 前記第1のブレードは、走査方向に配置された一対のブレードを備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 請求項1または2に記載の露光装置を利用してデバイスを製造する工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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