JP4533874B2 - レーザビーム露光装置 - Google Patents
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Description
レジストインクを露光するためレーザビームを一定量照射しなければならない。第三の観点による構成により、基板の移動速度の速さに応じて、レーザビームの照射強度を変更することができるので、過剰露光または非露光により識別マークが不良となる問題がなくなる。
図1は、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の一部を省略して側面方向から装置内を模式的に示す断面図、図2は、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置の一部を省略して背面方向からの装置内を模式的に示す断面図、図3(a)、(b)は、レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置で使用される基板の一例を示す平面図、図4はレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置のステージを示す側面図である。
レーザビーム光源5aは、基板Wの周辺領域Wcに塗布されているレジストインクの露光領域に対応する波長が選択され、例えば、パルス出力するものであり、発光および消光を高速で交互に繰り返すものが使用されている。このため、繰り返し周波数を可変することで、所定時間内(sec)のレーザビームの積算強度を可変することが可能である。
レーザ照射ユニット7,7,7に入射するまでに調整するために所定位置に設置されるものである。この光路調整反射鏡5bは、レーザビームを全反射する全反射鏡と、当該レーザビームを分岐して反射する分岐反射鏡(ビームスプリッタ)とをそれぞれ所定の位置に設置している。そして、レーザビーム光源5aから光路を第1および第2のレーザ照射ユニット7,7に分岐する位置に、光路調整反射鏡5bの内、分岐反射鏡が設置されており、第3のレーザ照射ユニット7に反射する位置およびその他の位置には、全反射鏡が配置されている。この光路調整反射鏡5bは、レーザビーム光源5aからレーザ照射ユニット7のそれぞれに入射するレーザビームの光路長が全て等しくなる位置に設置されており、かつ、レーザビーム光源5aからはじめに反射されてから2回の反射により各レーザ照射ユニット7に反射する位置に設置されている。
送りネジ10A3は、第1駆動モータ10A2の回転を伝達できるものであれば、その構成を限定されるものではない。
移動ベース10A4は、送りネジ10A3の回転により、当該送りネジ10A3に沿って移動するように雌ネジが対応する位置に形成されており、後記する第2フレーム体10B1を支持するように構成されている。
送りネジ10B3,10C3は、送りネジ10A3に直交する方向に所定間隔に並列して配置されており、第2駆動モータ10B2および第3駆動モータ10C2の回転を伝達できるものであれば、その構成を限定されるものではない。
移動部10B7,10C7とを有している。このスライド機構10B5,10C5は、案内レール10B6,10C6を段違いに配置しており、接続片b2,c2の先端に、案内レール10B6,10C6上をスライドする移動部10B7,10C7が接続されている。なお、移動部10B7,10C7には、隠蔽板T2,T3が着脱自在に取り付けられている。
すなわち、第2駆動モータ10B2および第3駆動モータ10C2の駆動により送りネジ10B3,10C3を回転させることで移動ベース10B4,10C4を移動させスライド機構10B5,10C5に沿って隠蔽板T2、T3を、照射口9mを横切るように移動させる。隠蔽板T2,T3の移動は、基板Wと同じ速度で同じ方向に移動させ、照射口9mを横切ったとき、所定のタイミングで、今まで移動した方向とは反対方向に高速で移動させて照射口9mを横切るようにする。なお、Y直線方向における隠蔽板T2、T3の位置決めは、隠蔽板移動手段10Aにより、第2フレーム体B1を移動させることにより行っている。また、隠蔽板T1は、基板Wの周辺領域Wcに識別マークが形成されていない場合か、あるいは、移動機構12による移動により照射口9mの一端辺側を位置調整して、かつ、照射口9mの他端辺側に紫外線光を照射したくない領域がある場合に当該隠蔽板T1が使用される。
なお、調整遮光板13a,13aの基準位置は、例えば、照射口9mの一辺側あるいは一辺側と他辺側から一部を覆う位置とすることで、照射面積を大きくあるいは小さく調整することができる。
また、照射面積調整シャッタ機構13は、どちらか一方のシャッタ機構13Aを備える構成としても構わない。照射面積調整シャッタ機構13は、後記する制御機構20により基板Wの移動速度が設定されたときに当該制御機構20からの信号により照射面積が決定される。この照射面積の決定を行う具体的な動作については後記する。
うに、ステップ6(S6)からステップ10(S10)までの作業を同様に行うことで基板Wの周辺領域Wcにおいて識別マークM2を露光するとともに、残りの周辺領域Wcを露光することで基板Wの全ての周辺領域Wcについての周辺露光を終了する。
制御機構20の移動搬送機構駆動制御手段27は、あらかじめ設定された照射エネルギー基づいて基板Wの移動速度を決定する。しかし、識別マークMの領域が大きかったり、レジストインクの必要露光量が大きかったりすると、レーザビームユニット5によるマーキングに時間がかかることがある。このような場合には、移動搬送機構駆動制御手段27は、レーザビームユニット5のマーキングに必要な時間を計算して、基板Wの移動速度Saを決定する。一方、基板Wの移動速度Saでは、紫外線照射ユニット9における周辺露光が過剰露光になってしまう場合がある。このため、紫外線照射駆動制御手段29は、基板Wの移動速度Saを移動搬送機構駆動制御手段27から受け取る。そして、照射領域調整シャッタ機構10は、幅調整遮光板13aの位置を調整する。
逆に、紫外線に対するレジストインクの必要露光量の関係で、移動搬送機構駆動制御手段27は、紫外線照射ユニット9における露光時の基板Wの移動速度Sbを決定することもある。この場合には、レーザビーム照射駆動制御手段28は、基板Wの移動速度Sbを移動搬送機構駆動制御手段27から受け取る。そして、レーザビームユニット5は、移動速度Sbに合わせたレーザビームの強度を決定する。
このようにして、レーザビーム照射駆動制御手段28と、紫外線照射駆動制御手段29とは、基板Wの移動速度に対応して動作するように構成されている。なお、移動速度Saと移動速度Sbが同じ場合には、それぞれのユニット5,9において、基準として設定されている動作により露光作業が行われるように制御される。
ップ6(S6)からステップ10(S10)までの作業を同様に行うことで基板Wの周辺領域Wcにおいて識別マークM2を露光するとともに、残りの周辺領域Wcを露光することで基板Wの全ての周辺領域Wcについての周辺露光を終了する。
本装置1は、計測器11の照度計測部移動機構11bにより照度計測部11aを退避位置から測定位置に移動させ、照射口9mの直下に位置させる。そして、本装置1は、光路シャッタ機構9cの遮光板9c1を作動させ照射口9mから照度計測部11aに光照射を行い光の照度を測定している。そして、測定した測定結果は、制御機構20の計測手段30から紫外線照射駆動制御手段29に送られ、放電灯9aに対する電流あるいは電圧の調整が行われ照度が調整される。
る反射鏡17aと、この反射鏡17aにより反射されたレーザビームを所定のレーザビーム径として反射するデジタルマイクロミラーディバイス17bと、このデジタルマイクロミラーディバイス17bから反射されたレーザビームを所定のビーム径にして基板Wの周辺領域Wcに照射するためのビーム照射用レンズ17c、17dとを備えている。
2…ステージ
2a…基台 2b…支持柱 2c…吸着用開口部
2d…位置決めマーク
3…移動搬送機構
3A…第1移動ガイド機構 3A…第3移動ガイド機構 3B…第2移動ガイド機構
3C…第3移動ガイド機構 3a…リニアモータ 3b…移動レール
4…撮像手段
5…レーザビームユニット
5A…レーザビームヘッド 5a…レーザビーム光源 5b…光路調整反射鏡
6…光路長調整ユニット
6a…分岐手段 6b…CCD撮像素子 6c…パワーメータ
7…レーザ照射ユニット
7a…音響光学素子 7b…反射鏡 7c…ガルバノミラユニット
7d…fθレンズ
8…レーザビーム測定調整機構
8a…パワーメータ 8b…CCD撮像素子 8c…ビームエキスパンダ
9 紫外線照射ユニット
9c1…遮光板 9c2…駆動部 9a…放電灯
9b…楕円反射鏡 9c…光路シャッタ機構 9d…フライアイレンズ
9e 照射用レンズ 9k…筐体 9m…照射口
10…照射領域調整シャッタ機構
10A…隠蔽板移動手段(第3移動手段) 10A1…第1フレーム体
10A2…第1駆動モータ 10A3…ネジ 10A4…移動ベース
10A5…スライド機構10A6…案内レール 10A7…移動部
10B…隠蔽板移動手段(第1移動手段) 10B1…第2フレーム体
10B2…第2駆動モータ 10B3…ネジ 10B4…移動ベース
10B5…スライド機構10b1…フレーム体 10B6…案内レール
10B7…移動部 10C…隠蔽板移動手段(第4移動手段)
10C2…第3駆動モータ 10D…Y方向移動手段(第2移動手段)
10a…板フレーム 10b…板フレーム 10d…板フレーム
10e…板フレーム 10D2…第4駆動モータ 10D3…送りネジ
10D4…移動部
11…計測器
11a…照度計測部 11b…照度計測部移動機構
12…移動機構
12a…リニアモータ 12b…案内レール
13…照射面積調整シャッタ機構
13a…幅調整遮光板 13b…幅調整遮光板移動部
15…レーザビームユニット
15a…光ファイバ
17…レーザ照射ユニット
17b1…ミラー 17b2…トーションピン 17b3…ヨーク
17a 反射鏡 17b…デジタルマイクロミラーディバイス
17c ビーム照射用レンズ
20…制御機構
21…入力手段 22…カメラ駆動制御手段 23…画像データ入力手段
24…位置検出手段 25…整合手段 26…基板位置演算手段
27…移動搬送機構駆動制御手段 28…レーザビーム照射駆動制御手段
29…紫外線照射駆動制御手段 30…計測手段 31…記憶手段
A1…支持フレーム
B1…第2フレーム体
M …識別マーク
M1…識別マーク
M1…識別マーク
T1…隠蔽板(パターン領域隠蔽板)
T2…隠蔽板(第1識別マーク隠蔽板)
T3…隠蔽板(第2識別マーク隠蔽板)
W …基板
Wp…パターン領域
Wc…周辺領域
b1,c1…ベース本体
b2,c2…接続片
t2b,t3b…開口部
t2c,t3c…支持線部
t2a,t3a…隠蔽部
Claims (7)
- 基板を移動経路に沿って移動させ当該基板のパターン領域の周囲に形成される周辺領域にレーザビームを照射して識別マークを露光するレーザビーム露光装置において、
レーザビーム光源から前記基板までのレーザビームの光路長を調整する光路長調整ユニットと、
前記基板の移動経路上で前記基板の上方に設けられ、光路長調整ユニットで光路長を調整したレーザビームを基板に照射する複数のレーザ照射ユニットと、
を有することを特徴とするレーザビーム露光装置。 - 前記光路長調整ユニット内の光路または前記レーザ照射ユニット内の光路の少なくとも一方に配置され、前記レーザビームの照射径および照射位置を測定する撮像素子と、
前記撮像素子で測定された照射径に基づいて、前記レーザビームの照射径を調整するビームエキスパンダと、
前記撮像素子で測定された照射位置に基づいて、前記レーザビームの照射位置を調整する位置調整手段と、
を有することを特徴とする請求項1に記載のレーザビーム露光装置。 - 前記レーザ照射ユニットは、前記基板の移動速度に応じて、前記レーザビームの照射強度を変更することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のレーザビーム露光装置。
- 前記光路長調整ユニット内の光路または前記レーザ照射ユニット内の光路の少なくとも一方に配置され、前記レーザビームのパワーを測定するパワーメータと、
前記パワーメータで測定されたパワーに基づいて、前記レーザビームの照射強度を調整する照射強度調整手段と、
を有することを特徴とする請求項3に記載のレーザビーム露光装置。 - 前記照射強度調整手段は、前記レーザビーム光源の調整または前記レーザビームの所定時間内の繰り返し周波数の調整を行うことを特徴とする請求項4に記載のレーザビーム露光装置。
- 前記照射強度調整手段は、前記レーザビームの光路に配置された音響光学素子または前記レーザビーム径を広げるビームエキスパンダの調整を行うことを特徴とする請求項4に記載のレーザビーム露光装置。
- 前記レーザ照射ユニットは、前記レーザビームを所定方向に反射するデジタルマイクロミラーディバイスと、
このデジタルマイクロミラーディバイスから反射された反射光の光路中に設置され、前記基板の周辺領域に照射する照射用レンズと、
を有することを特徴とする請求項1に記載のレーザビーム露光装置。
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JP2024042874A (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-29 | 株式会社Screenホールディングス | 露光方法および露光装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000294501A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Nikon Corp | 周辺露光装置及び方法 |
JP2000294500A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Nikon Corp | 周辺露光装置及び方法 |
JP2001166493A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置 |
JP2001176785A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Orc Mfg Co Ltd | 周辺露光装置 |
JP2001201862A (ja) * | 2000-01-19 | 2001-07-27 | Nikon Corp | 周辺露光装置 |
JP2002091012A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-03-27 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置 |
JP2002365811A (ja) * | 2001-06-08 | 2002-12-18 | Mitsubishi Corp | フォトレジスト塗布基板の露光方法及び装置 |
JP2003131392A (ja) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Mitsubishi Corp | レーザビームによるマーキング方法及び装置 |
JP2006259515A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
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WO2003036391A1 (fr) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | Toray Engineering Company,Limited | Procede et dispositif de marquage d'un code d'identification par un faisceau laser |
KR20060053045A (ko) * | 2004-11-13 | 2006-05-19 | 삼성전자주식회사 | 갈바노미터 스캐너를 이용한 레이저 마킹 장치 및 방법 |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000294501A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Nikon Corp | 周辺露光装置及び方法 |
JP2000294500A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Nikon Corp | 周辺露光装置及び方法 |
JP2001166493A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置 |
JP2001176785A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Orc Mfg Co Ltd | 周辺露光装置 |
JP2001201862A (ja) * | 2000-01-19 | 2001-07-27 | Nikon Corp | 周辺露光装置 |
JP2002091012A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-03-27 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置 |
JP2002365811A (ja) * | 2001-06-08 | 2002-12-18 | Mitsubishi Corp | フォトレジスト塗布基板の露光方法及び装置 |
JP2003131392A (ja) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Mitsubishi Corp | レーザビームによるマーキング方法及び装置 |
JP2006259515A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
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