JP2003131392A - レーザビームによるマーキング方法及び装置 - Google Patents
レーザビームによるマーキング方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光ユニットとステージとを相対移動させな
がらレーザビームで識別コードをマーキングする場合、
濃度や形状が均質な識別コードをマーキング可能にする
マーキング方法及び装置を提供する。 【解決手段】 被マーキング物品５０を載置したステー
ジ２と、該ステージ２の上方に配置した露光ユニット１
とを相対移動させ、露光ユニット１から出力するレーザ
ビームにより被マーキング物品５０に識別コードＣをマ
ーキングする方法及び装置において、露光ユニット１か
ら出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する
方向に時系列的に順次偏向させるように走査すると共
に、その照射方向を前記相対移動方向に同期するように
ずらせ、被マーキング物品５０上の照射点を直交座標状
に整列させる。
がらレーザビームで識別コードをマーキングする場合、
濃度や形状が均質な識別コードをマーキング可能にする
マーキング方法及び装置を提供する。 【解決手段】 被マーキング物品５０を載置したステー
ジ２と、該ステージ２の上方に配置した露光ユニット１
とを相対移動させ、露光ユニット１から出力するレーザ
ビームにより被マーキング物品５０に識別コードＣをマ
ーキングする方法及び装置において、露光ユニット１か
ら出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する
方向に時系列的に順次偏向させるように走査すると共
に、その照射方向を前記相対移動方向に同期するように
ずらせ、被マーキング物品５０上の照射点を直交座標状
に整列させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被マーキング物品
上にレーザビームにより識別コードをマーキングするマ
ーキング方法及び装置に関し、更に詳しくは、液晶パネ
ル製造工程等においてフォトレジスト塗布基板に履歴管
理や品質管理等のための識別コードをレーザビームによ
り露光するマーキング方法及び装置に関する。
上にレーザビームにより識別コードをマーキングするマ
ーキング方法及び装置に関し、更に詳しくは、液晶パネ
ル製造工程等においてフォトレジスト塗布基板に履歴管
理や品質管理等のための識別コードをレーザビームによ
り露光するマーキング方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶パネル製造工程では、フォ
トレジスト（即ち、感光樹脂）が塗布されたガラス基板
に、パターン露光装置により回路パターンを露光する他
に、識別露光装置により基板識別コードやパネル識別コ
ード等を露光したり、また周辺露光装置により基板周辺
部分の不要レジスト部分を露光したりしてから、現像装
置により現像処理する。このように現像処理が済んだガ
ラス基板からは、複数枚に分割された液晶パネルが製作
される。
トレジスト（即ち、感光樹脂）が塗布されたガラス基板
に、パターン露光装置により回路パターンを露光する他
に、識別露光装置により基板識別コードやパネル識別コ
ード等を露光したり、また周辺露光装置により基板周辺
部分の不要レジスト部分を露光したりしてから、現像装
置により現像処理する。このように現像処理が済んだガ
ラス基板からは、複数枚に分割された液晶パネルが製作
される。
【０００３】図１７は、上記のように露光処理した後に
現像処理をしたガラス基板を例示したものである。
現像処理をしたガラス基板を例示したものである。
【０００４】ガラス基板５０には、多数の液晶パネル５
１が多列に並ぶように露光されると共に、基板周辺に履
歴管理や品質管理等のために基板識別コード５０ａがマ
ーキングされている。また、ガラス基板５０には、複数
の液晶パネル５１に分割された後も、特定の液晶パネル
５１が識別できるように各液晶パネル５１に配列番号等
を付加したパネル識別コード５１ａがマーキングされ、
さらに個々の液晶パネル５１を縦列の分断単位に管理可
能なように、各縦列毎に分断位置情報等を付加した分断
基板識別コード５０ｂがマーキングされている。
１が多列に並ぶように露光されると共に、基板周辺に履
歴管理や品質管理等のために基板識別コード５０ａがマ
ーキングされている。また、ガラス基板５０には、複数
の液晶パネル５１に分割された後も、特定の液晶パネル
５１が識別できるように各液晶パネル５１に配列番号等
を付加したパネル識別コード５１ａがマーキングされ、
さらに個々の液晶パネル５１を縦列の分断単位に管理可
能なように、各縦列毎に分断位置情報等を付加した分断
基板識別コード５０ｂがマーキングされている。
【０００５】上記のように大型のガラス基板５０から複
数の小型液晶パネル５１を分離して製造する場合には、
分断基板識別コード５０ｂやパネル識別コード５１ａが
必要になる。ただし、ここに基板識別コード５０ａ、分
断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａなど
の呼称や分割数等はあくまでも一例であって、液晶パネ
ルの種類等により変わることはいうまでもない。
数の小型液晶パネル５１を分離して製造する場合には、
分断基板識別コード５０ｂやパネル識別コード５１ａが
必要になる。ただし、ここに基板識別コード５０ａ、分
断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１ａなど
の呼称や分割数等はあくまでも一例であって、液晶パネ
ルの種類等により変わることはいうまでもない。
【０００６】従来、上記のような基板識別コード５０
ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１
ａ等の識別コードをマーキングする方法としては、一定
位置に固定した露光ユニットに対して、ガラス基板を載
せたステージをＮＣ制御により一定の速度で移動させな
がら、レーザビームを複数に分岐し、これら複数のレー
ザビームをガラス基板上の所定位置に選択照射すること
により、識別コードをマーキングするという方法が採ら
れていた。
ａ、分断基板識別コード５０ｂ、パネル識別コード５１
ａ等の識別コードをマーキングする方法としては、一定
位置に固定した露光ユニットに対して、ガラス基板を載
せたステージをＮＣ制御により一定の速度で移動させな
がら、レーザビームを複数に分岐し、これら複数のレー
ザビームをガラス基板上の所定位置に選択照射すること
により、識別コードをマーキングするという方法が採ら
れていた。
【０００７】しかし、上記従来方法によると、１本のレ
ーザビームを複数のビームに分岐し、その複数のビーム
をガラス基板上の所定位置に選択照射するとき、ガラス
基板を載せたステージを相対移動させながら行うため、
ビーム相互間の照射点にずれを生じ、そのずれによりビ
ームの形状やエネルギーにばらつきが発生するため、均
質な濃度や形状の識別コードをマーキングできなくなる
ことがあるという問題があった。
ーザビームを複数のビームに分岐し、その複数のビーム
をガラス基板上の所定位置に選択照射するとき、ガラス
基板を載せたステージを相対移動させながら行うため、
ビーム相互間の照射点にずれを生じ、そのずれによりビ
ームの形状やエネルギーにばらつきが発生するため、均
質な濃度や形状の識別コードをマーキングできなくなる
ことがあるという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、露光
ユニットとステージとを相対移動させながらレーザビー
ムで識別コードをマーキングする場合、濃度や形状が均
質な識別コードをマーキング可能にするマーキング方法
及び装置を提供することにある。
ユニットとステージとを相対移動させながらレーザビー
ムで識別コードをマーキングする場合、濃度や形状が均
質な識別コードをマーキング可能にするマーキング方法
及び装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明のレーザビームによるマーキング方法は、被マーキン
グ物品を載置したステージと、該ステージの上方に配置
した露光ユニットとを相対移動させ、前記露光ユニット
から出力するレーザビームにより前記被マーキング物品
上に識別コードをマーキングする方法において、前記露
光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方
向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走
査すると共に、その照射方向を前記相対移動方向にずら
せ、前記被マーキング物品上の照射点を直交座標に整列
させることを特徴とするものである。
明のレーザビームによるマーキング方法は、被マーキン
グ物品を載置したステージと、該ステージの上方に配置
した露光ユニットとを相対移動させ、前記露光ユニット
から出力するレーザビームにより前記被マーキング物品
上に識別コードをマーキングする方法において、前記露
光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方
向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走
査すると共に、その照射方向を前記相対移動方向にずら
せ、前記被マーキング物品上の照射点を直交座標に整列
させることを特徴とするものである。
【００１０】本発明の他のマーキング方法は、被マーキ
ング物品を載置したステージと、該ステージの上方に配
置した露光ユニットとを相対移動させ、前記露光ユニッ
トから出力するレーザビームにより前記被マーキング物
品上に識別コードをマーキングする方法において、前記
ステージ又は該ステージ上の被マーキング物品の表面の
直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露
光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方
向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走
査することにより、前記被マーキング物品上の照射点を
直交座標に整列させることを特徴とするものである。
ング物品を載置したステージと、該ステージの上方に配
置した露光ユニットとを相対移動させ、前記露光ユニッ
トから出力するレーザビームにより前記被マーキング物
品上に識別コードをマーキングする方法において、前記
ステージ又は該ステージ上の被マーキング物品の表面の
直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記露
光ユニットから出力するレーザビームを前記相対移動方
向と直交する方向に時系列的に順次偏向させるように走
査することにより、前記被マーキング物品上の照射点を
直交座標に整列させることを特徴とするものである。
【００１１】本発明のレーザビームによるマーキング装
置は、被マーキング物品を載置するステージと、該ステ
ージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動可能に
し、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力する
レーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系
列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段
と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームの照射方
向を前記相対移動方向にずらせる方向補正手段とから構
成したことを特徴とするものである。
置は、被マーキング物品を載置するステージと、該ステ
ージの上方に配置した露光ユニットとを相対移動可能に
し、前記露光ユニットを、該露光ユニットから出力する
レーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系
列的に順次偏向させるように走査するビーム偏向手段
と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビームの照射方
向を前記相対移動方向にずらせる方向補正手段とから構
成したことを特徴とするものである。
【００１２】本発明の他のマーキング装置は、被マーキ
ング物品を載置するステージと、該ステージの上方に配
置した露光ユニットとを相対移動可能にすると共に、前
記ステージ又は該ステージ上の被マーキング物品の表面
の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記
露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビ
ームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順
次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビー
ム偏向手段で偏向したレーザビームを拡大する投影光学
手段と、該投影光学手段を出たレーザビームの照射方向
を変える方向補正手段とから構成したことを特徴とする
ものである。
ング物品を載置するステージと、該ステージの上方に配
置した露光ユニットとを相対移動可能にすると共に、前
記ステージ又は該ステージ上の被マーキング物品の表面
の直交座標を前記相対移動方向に対して斜めにし、前記
露光ユニットを、該露光ユニットから出力するレーザビ
ームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的に順
次偏向させるように走査するビーム偏向手段と、該ビー
ム偏向手段で偏向したレーザビームを拡大する投影光学
手段と、該投影光学手段を出たレーザビームの照射方向
を変える方向補正手段とから構成したことを特徴とする
ものである。
【００１３】本発明は、上記のように露光ユニットから
出力したレーザビームを、露光ユニットとステージとの
相対移動方向に直交する方向に時系列的に順次偏向分岐
させて走査し、その相対移動方向に直交する方向に隣り
合うビーム間の照射時間差のずれをなくすように照射方
向を補正するため、各ビームのエネルギー分布や形状が
大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な識別コード
をマーキングすることができる。
出力したレーザビームを、露光ユニットとステージとの
相対移動方向に直交する方向に時系列的に順次偏向分岐
させて走査し、その相対移動方向に直交する方向に隣り
合うビーム間の照射時間差のずれをなくすように照射方
向を補正するため、各ビームのエネルギー分布や形状が
大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な識別コード
をマーキングすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図に示す本発明の実施形態
を参照して具体的に説明する。
を参照して具体的に説明する。
【００１５】図１は、本発明からなるレーザビームによ
るマーキング装置を例示する。
るマーキング装置を例示する。
【００１６】１は露光ユニット、２は基板５０を上面に
保持するステージである。基板５０は被マーキング物品
としてステージ２の上に置かれ、その表面にフォトレジ
スト（即ち、感光樹脂）が塗布されている。露光ユニッ
ト１は、図では平行に並ぶ２セットだけを図示している
が、基板５０の幅方向全体にわたり多数列を配置するよ
うにしたものであってもよい。
保持するステージである。基板５０は被マーキング物品
としてステージ２の上に置かれ、その表面にフォトレジ
スト（即ち、感光樹脂）が塗布されている。露光ユニッ
ト１は、図では平行に並ぶ２セットだけを図示している
が、基板５０の幅方向全体にわたり多数列を配置するよ
うにしたものであってもよい。
【００１７】表面にフォトレジストが塗布された基板５
０は、不図示の移載ロボットやコンベアなどの搬送出機
構によりステージ２の上に搬送されて載置される。ステ
ージ２には、平面視矩形の長辺方向と短辺方向とを直交
座標のＸ軸方向とＹ軸方向とするとき、それぞれＸ軸方
向とＹ軸方向とに独立に移動させる駆動機構と表面に垂
直な軸を中心に回動させる回転機構（いずれも図示せ
ず）とが設けられ、さらに表面には多数の吸引孔と複数
の基板支持ピン（図示せず）が出没するように設けられ
ている。
０は、不図示の移載ロボットやコンベアなどの搬送出機
構によりステージ２の上に搬送されて載置される。ステ
ージ２には、平面視矩形の長辺方向と短辺方向とを直交
座標のＸ軸方向とＹ軸方向とするとき、それぞれＸ軸方
向とＹ軸方向とに独立に移動させる駆動機構と表面に垂
直な軸を中心に回動させる回転機構（いずれも図示せ
ず）とが設けられ、さらに表面には多数の吸引孔と複数
の基板支持ピン（図示せず）が出没するように設けられ
ている。
【００１８】搬送出機構で搬送されてきた基板５０は、
ステージ２の表面に突出させた基板支持ピンの上に載せ
られると、基板支持ピンが下降してステージ２の上に降
ろされ、次いで吸引孔に負圧が作用して吸着保持され
る。
ステージ２の表面に突出させた基板支持ピンの上に載せ
られると、基板支持ピンが下降してステージ２の上に降
ろされ、次いで吸引孔に負圧が作用して吸着保持され
る。
【００１９】基板５０がステージ２上に置かれるときの
位置は常に一定ではないため、予め登録された基準位置
からどれくらいずれているかが測定され、その測定値に
基づいて基準位置にセットされる。位置の測定方法は特
に限定されないが、変位センサやＣＣＤカメラと画像処
理による変位測定法などで測定できる。或いは、基板５
０をステージ２に保持させる前に、基準となる場所に横
から押さえ込んで位置合わせする方法であってもよい。
位置は常に一定ではないため、予め登録された基準位置
からどれくらいずれているかが測定され、その測定値に
基づいて基準位置にセットされる。位置の測定方法は特
に限定されないが、変位センサやＣＣＤカメラと画像処
理による変位測定法などで測定できる。或いは、基板５
０をステージ２に保持させる前に、基準となる場所に横
から押さえ込んで位置合わせする方法であってもよい。
【００２０】基板５０を保持したステージ２は、ＮＣ制
御により予め登録されたデータを基に識別コードの露光
開始位置へ移動させる。露光開始位置は事前操作により
登録しておき、ずれ量を補正計算した状態にする。
御により予め登録されたデータを基に識別コードの露光
開始位置へ移動させる。露光開始位置は事前操作により
登録しておき、ずれ量を補正計算した状態にする。
【００２１】露光ユニット１は、レーザ光源（図示せ
ず）から１本のレーザビーム１０をパルス出力し、ビー
ムスプリッター２１により直進のレーザビーム１１と方
向変更するレーザビーム１２とに分岐される。レーザビ
ーム１０のパルス出力は、例えば、図２に示すように時
間ｔa の発光Ａと時間ｔb の消光Ｂとを高速で交互にパ
ルス的に繰り返す。
ず）から１本のレーザビーム１０をパルス出力し、ビー
ムスプリッター２１により直進のレーザビーム１１と方
向変更するレーザビーム１２とに分岐される。レーザビ
ーム１０のパルス出力は、例えば、図２に示すように時
間ｔa の発光Ａと時間ｔb の消光Ｂとを高速で交互にパ
ルス的に繰り返す。
【００２２】上記の直進したレーザビーム１１はプリズ
ム２２で方向変更され、他方のレーザビーム１２と平行
なレーザビーム１３になる。２本の平行なレーザビーム
１２，１３は、それぞれビーム偏向機構２３を通過する
ことにより、露光ユニット１に対するステージ２の相対
移動方向（矢印Ｆ方向）に直交する方向に時系列的に順
次複数段階に偏向させられて、複数のレーザビーム１
４，１４ａ〜１４ｆに分岐する（図３（ａ）〜（ｄ）参
照）。図では７段階に分岐させているが、段数は特に限
定されない。
ム２２で方向変更され、他方のレーザビーム１２と平行
なレーザビーム１３になる。２本の平行なレーザビーム
１２，１３は、それぞれビーム偏向機構２３を通過する
ことにより、露光ユニット１に対するステージ２の相対
移動方向（矢印Ｆ方向）に直交する方向に時系列的に順
次複数段階に偏向させられて、複数のレーザビーム１
４，１４ａ〜１４ｆに分岐する（図３（ａ）〜（ｄ）参
照）。図では７段階に分岐させているが、段数は特に限
定されない。
【００２３】ビーム偏向機構２３は特に限定されるもの
ではないが、例えば音響光学素子が用いられ、上記のよ
うに１本のレーザビームの出射方向を複数段階に偏向す
ることができる。
ではないが、例えば音響光学素子が用いられ、上記のよ
うに１本のレーザビームの出射方向を複数段階に偏向す
ることができる。
【００２４】図３（ａ）〜（ｄ）に示すように、ビーム
偏向機構２３を通過するレーザビームのうち、偏向させ
られずに直進したレーザビーム１４は、集光レンズ２４
を通過したのち透過フィルター２５に遮光される。ビー
ム偏向機構２３により時系列的に順次異なる角度に偏向
させられたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レンズ
２４を通過することにより平行なレーザビーム１５ａ〜
１５ｆになる。
偏向機構２３を通過するレーザビームのうち、偏向させ
られずに直進したレーザビーム１４は、集光レンズ２４
を通過したのち透過フィルター２５に遮光される。ビー
ム偏向機構２３により時系列的に順次異なる角度に偏向
させられたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レンズ
２４を通過することにより平行なレーザビーム１５ａ〜
１５ｆになる。
【００２５】透過フィルター２５を通過したレーザビー
ム１６ａ〜１６ｆは、次いで角度可変のミラー３１に反
射して照射方向が変えられ、レーザビーム１７ａ〜１７
ｆになる（図５参照）。方向転換したレーザビーム１７
ａ〜１７ｆは、図４に示すように集光レンズ２６により
集光されたレーザビーム１８ａ〜１８ｆになり、基板５
０上に照射されることにより表面のフォトレジストを露
光し、これらレーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点の集
積により文字及び／又は２次元図形からなる識別コード
Ｃ（５１ａ）がマーキングされる。
ム１６ａ〜１６ｆは、次いで角度可変のミラー３１に反
射して照射方向が変えられ、レーザビーム１７ａ〜１７
ｆになる（図５参照）。方向転換したレーザビーム１７
ａ〜１７ｆは、図４に示すように集光レンズ２６により
集光されたレーザビーム１８ａ〜１８ｆになり、基板５
０上に照射されることにより表面のフォトレジストを露
光し、これらレーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点の集
積により文字及び／又は２次元図形からなる識別コード
Ｃ（５１ａ）がマーキングされる。
【００２６】この識別コードＣ（５１ａ）は、図１に示
すように、ステージ２を矢印Ｆ方向に一定の速度ｖで移
動させながら、その移動方向に直交する方向に複数のレ
ーザビーム１８ａ〜１８ｆを時系列的に順次走査させて
露光することによりマーキングされる。
すように、ステージ２を矢印Ｆ方向に一定の速度ｖで移
動させながら、その移動方向に直交する方向に複数のレ
ーザビーム１８ａ〜１８ｆを時系列的に順次走査させて
露光することによりマーキングされる。
【００２７】この識別コードのマーキングにおいて、ミ
ラー３１が一定角度に固定されている場合には、矢印Ｆ
方向に移動する基板５０に対しその移動方向に直交する
ようにレーザビーム１８ａ〜１８ｆが順次走査すると、
その露光点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆは、各レーザビーム
間の照射タイミングのずれ（差）により、露光方向が移
動方向Ｆに対して順次斜めにずれる（図８参照）。続い
てレーザビーム１８ａ〜１８ｆが走査するときの露光点
ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、その次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，
ｐ，ｑ，ｒも、上記同様に斜めになるため識別コードＣ
は歪んだ形状になる。
ラー３１が一定角度に固定されている場合には、矢印Ｆ
方向に移動する基板５０に対しその移動方向に直交する
ようにレーザビーム１８ａ〜１８ｆが順次走査すると、
その露光点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆは、各レーザビーム
間の照射タイミングのずれ（差）により、露光方向が移
動方向Ｆに対して順次斜めにずれる（図８参照）。続い
てレーザビーム１８ａ〜１８ｆが走査するときの露光点
ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，ｌ、その次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，
ｐ，ｑ，ｒも、上記同様に斜めになるため識別コードＣ
は歪んだ形状になる。
【００２８】なお、図に示す露光点ａ，ｂ，ｃ・・・
ｑ，ｒにおいて、実線で囲んだ点はビーム偏向機構２３
がＯＮになってレーザビームが照射され、実際に露光さ
れた点を意味し、破線で囲んだ点は偏向機構２３がＯＦ
Ｆであって、レーザビームが照射されずに露光されなか
った点を意味する。この破線の点は正確には非露光点で
あるが、破線で表示することで便宜的に露光点と称し
た。
ｑ，ｒにおいて、実線で囲んだ点はビーム偏向機構２３
がＯＮになってレーザビームが照射され、実際に露光さ
れた点を意味し、破線で囲んだ点は偏向機構２３がＯＦ
Ｆであって、レーザビームが照射されずに露光されなか
った点を意味する。この破線の点は正確には非露光点で
あるが、破線で表示することで便宜的に露光点と称し
た。
【００２９】本発明の露光ユニットでは、図５に示すよ
うに、ミラー３１が長手方向に平行な回転軸３１ａを中
心にミラー回転機構３２により矢印方向に回転するよう
になっているため、反射するレーザビーム１７ａ〜１７
ｆの照射方向が時系列的にステージ２（基板５０）の移
動方向Ｆに順次ずれていく。そのため、図９に示すよう
にレーザビーム１８ａ〜１８ｆの走査方向がステージ２
の移動に同期して移動方向Ｆに順次斜めにずれていき、
その結果、レーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点ａ，
ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ、次の露光点ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，
ｌ、さらに次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒが直交座
標の状態に整列する。したがって、均一に格子状に整列
した識別コードＣがマーキングされる。
うに、ミラー３１が長手方向に平行な回転軸３１ａを中
心にミラー回転機構３２により矢印方向に回転するよう
になっているため、反射するレーザビーム１７ａ〜１７
ｆの照射方向が時系列的にステージ２（基板５０）の移
動方向Ｆに順次ずれていく。そのため、図９に示すよう
にレーザビーム１８ａ〜１８ｆの走査方向がステージ２
の移動に同期して移動方向Ｆに順次斜めにずれていき、
その結果、レーザビーム１８ａ〜１８ｆの露光点ａ，
ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ、次の露光点ｇ，ｈ，ｉ，ｊ，ｋ，
ｌ、さらに次の露光点ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒが直交座
標の状態に整列する。したがって、均一に格子状に整列
した識別コードＣがマーキングされる。
【００３０】図示の実施形態では、レーザビーム１８ａ
〜１８ｆの走査方向を、ステージ２（基板５０）の移動
方向Ｆに対して斜めにする方法として、反射ミラー３１
を図５のように回転させたが、図６に示すように、反射
ミラー３１の長手方向の中間に回転軸３２ａを直交する
ように取り付け、この回転軸３２ａをミラー回転機構３
２により矢印方向に回転させるものであってもよい。ま
た、図７に示すように、反射ミラーを多角形ミラー３３
にし、この多角形ミラー３３の軸を回転軸としてミラー
回転機構３２で回転させるようにしたものであってもよ
い。
〜１８ｆの走査方向を、ステージ２（基板５０）の移動
方向Ｆに対して斜めにする方法として、反射ミラー３１
を図５のように回転させたが、図６に示すように、反射
ミラー３１の長手方向の中間に回転軸３２ａを直交する
ように取り付け、この回転軸３２ａをミラー回転機構３
２により矢印方向に回転させるものであってもよい。ま
た、図７に示すように、反射ミラーを多角形ミラー３３
にし、この多角形ミラー３３の軸を回転軸としてミラー
回転機構３２で回転させるようにしたものであってもよ
い。
【００３１】また、上記のミラーに替えて、プリズム、
ダブプリズムその他の形および手段を用いることも可能
である。
ダブプリズムその他の形および手段を用いることも可能
である。
【００３２】上記の方法は、いずれもミラーの反射面を
可変にするものであるが、予め露光ユニット１、または
反射ミラー３１の取り付け角度を変えておき、図９に示
すように、ビーム走査方向が基板移動方向に対し直交で
はなく一定の角度を持たせて、その結果ビーム露光方向
が基板移動方向Ｆと直交となるように設定した場合で
も、上記と同様の作用効果を得ることができる。或い
は、ステージ２（基板５０）の移動方向Ｆ（相対移動方
向）を、図１０に示すように、平面視にてビーム走査方
向に対して斜めにするようにしたものであってもよい。
可変にするものであるが、予め露光ユニット１、または
反射ミラー３１の取り付け角度を変えておき、図９に示
すように、ビーム走査方向が基板移動方向に対し直交で
はなく一定の角度を持たせて、その結果ビーム露光方向
が基板移動方向Ｆと直交となるように設定した場合で
も、上記と同様の作用効果を得ることができる。或い
は、ステージ２（基板５０）の移動方向Ｆ（相対移動方
向）を、図１０に示すように、平面視にてビーム走査方
向に対して斜めにするようにしたものであってもよい。
【００３３】本発明で使用するレーザビームは、パルス
出力するもののほか、高速で偏向角度が変えられるもの
であれば、連続出力されるレーザビームであってもよ
い。連続的に出力するレーザビームの場合、図１１に示
すように、ビームの偏向角度θが切り替わる時間を
ｔ1 、ビーム偏向角度θが変化しない時間をｔ2 とすれ
ば、両時間ともビームを照射させることになる。しか
し、時間ｔ1 が時間ｔ2 に比べて十分に短く、かつレジ
スト感度に影響しない時間であれば、所定の位置に露光
することが可能である。
出力するもののほか、高速で偏向角度が変えられるもの
であれば、連続出力されるレーザビームであってもよ
い。連続的に出力するレーザビームの場合、図１１に示
すように、ビームの偏向角度θが切り替わる時間を
ｔ1 、ビーム偏向角度θが変化しない時間をｔ2 とすれ
ば、両時間ともビームを照射させることになる。しか
し、時間ｔ1 が時間ｔ2 に比べて十分に短く、かつレジ
スト感度に影響しない時間であれば、所定の位置に露光
することが可能である。
【００３４】レーザビーム内のエネルギー分布は実際に
は均等でない場合が多いが、その場合でもフォトレジス
トに与えるエネルギーが十分あれば感光される。また、
実際の露光エネルギーとフォトレジストの感度、光学系
の組み付け精度や表面反射などにより、露光点が厳密に
完全な正方形にならないことがあるが、識別コードの視
認性に問題の無い場合がほとんどである。ビーム形状
は、フィルターやレンズの形状や間隔や組み合わせを変
えることにより、円形や多角形など自在に変えることが
できる。
は均等でない場合が多いが、その場合でもフォトレジス
トに与えるエネルギーが十分あれば感光される。また、
実際の露光エネルギーとフォトレジストの感度、光学系
の組み付け精度や表面反射などにより、露光点が厳密に
完全な正方形にならないことがあるが、識別コードの視
認性に問題の無い場合がほとんどである。ビーム形状
は、フィルターやレンズの形状や間隔や組み合わせを変
えることにより、円形や多角形など自在に変えることが
できる。
【００３５】図１の実施形態では、１本のレーザビーム
をビームスプリッタ２１で２分岐させて使用する場合を
説明したが、その分岐数としては３以上であってもよ
く、或いは分岐せずに１本のままで使用してもよい。ま
た、ビームスプリッタはビームを分岐できるものであれ
ば特に限定されるものではなく、ハーフミラーなどの他
の手段を使用してもよい。
をビームスプリッタ２１で２分岐させて使用する場合を
説明したが、その分岐数としては３以上であってもよ
く、或いは分岐せずに１本のままで使用してもよい。ま
た、ビームスプリッタはビームを分岐できるものであれ
ば特に限定されるものではなく、ハーフミラーなどの他
の手段を使用してもよい。
【００３６】図１の実施形態では、ビーム偏向機構２３
で偏向させたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レン
ズ２４によって平行光にするようにしている。しかし、
本発明において偏向後のレーザビームを平行光にするこ
とは必ずしも必須ではなく、図１２に例示するように、
ビーム偏向機構２３で広がったレーザビームを、平行光
にすることなく、そのままミラー３１に反射させて投影
レンズなどの光学手段２６で集光し、基板５０の上に照
射露光させることもできる。また、偏向させたレーザビ
ームを再び集光させる場合、用いられる投影光学系が有
限系、無限系であることや、使用するミラーの枚数は問
わない。
で偏向させたレーザビーム１４ａ〜１４ｆは、集光レン
ズ２４によって平行光にするようにしている。しかし、
本発明において偏向後のレーザビームを平行光にするこ
とは必ずしも必須ではなく、図１２に例示するように、
ビーム偏向機構２３で広がったレーザビームを、平行光
にすることなく、そのままミラー３１に反射させて投影
レンズなどの光学手段２６で集光し、基板５０の上に照
射露光させることもできる。また、偏向させたレーザビ
ームを再び集光させる場合、用いられる投影光学系が有
限系、無限系であることや、使用するミラーの枚数は問
わない。
【００３７】識別コードの向きが変わるときは、ステー
ジの方向を変えて走査させることによりマーキングが可
能である。識別コードを露光し終わった後は、基板搬出
位置にステージを移動し、基板の吸着を解除したあと基
板支持ピンを上げ、基板を基板搬送出機構に載せて搬出
する。この後は再び未露光基板を搬入して露光操作を行
い、露光が終われば排出するという一連の動作を繰り返
す。
ジの方向を変えて走査させることによりマーキングが可
能である。識別コードを露光し終わった後は、基板搬出
位置にステージを移動し、基板の吸着を解除したあと基
板支持ピンを上げ、基板を基板搬送出機構に載せて搬出
する。この後は再び未露光基板を搬入して露光操作を行
い、露光が終われば排出するという一連の動作を繰り返
す。
【００３８】また、図１の実施形態では、レーザビーム
を偏向分岐させる手段として、ビーム偏向機構２３によ
り複数段の偏向照射を行うようにしている。これを、図
１３に示す実施形態の様に、ビーム偏向機構２３は発光
と消光の選択照射だけを行い、レーザビームの偏向操作
は、ミラー回転機構３０で回転する多角形ミラー２８を
使うようにしたものであってもよい。また、このときの
多角形ミラー２８としては、図１４に示す例のように、
平ミラー２９を左右に回転させるものであってもよい。
を偏向分岐させる手段として、ビーム偏向機構２３によ
り複数段の偏向照射を行うようにしている。これを、図
１３に示す実施形態の様に、ビーム偏向機構２３は発光
と消光の選択照射だけを行い、レーザビームの偏向操作
は、ミラー回転機構３０で回転する多角形ミラー２８を
使うようにしたものであってもよい。また、このときの
多角形ミラー２８としては、図１４に示す例のように、
平ミラー２９を左右に回転させるものであってもよい。
【００３９】図１の実施形態では、露光ユニット１を固
定状態にし、基板保持用のステージ２の方を直交座標の
Ｘ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ独立に移動可能にしてい
る。しかし、この関係を反対にして、露光ユニット１の
方を直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ独立に
移動可能にするものであってもよい。
定状態にし、基板保持用のステージ２の方を直交座標の
Ｘ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ独立に移動可能にしてい
る。しかし、この関係を反対にして、露光ユニット１の
方を直交座標のＸ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ独立に
移動可能にするものであってもよい。
【００４０】また、露光ユニットを複数列に並列させて
設ける場合、これら露光ユニット間の間隔は移動機構に
より任意の大きさに可変にすることにより、識別コード
の露光場所を任意に変更できるようになっていることが
望ましい。
設ける場合、これら露光ユニット間の間隔は移動機構に
より任意の大きさに可変にすることにより、識別コード
の露光場所を任意に変更できるようになっていることが
望ましい。
【００４１】本発明は、フォトレジスト塗布基板に対し
てレーザビームで露光マーキングする場合のほか、レー
ザビームの種類を変更することにより、金属成膜付の基
板、ガラス基板、シリコンウェハ基板に対して直接彫り
込み（ダイレクト・マーキング）を行う場合のマーキン
グにも適用することができる。
てレーザビームで露光マーキングする場合のほか、レー
ザビームの種類を変更することにより、金属成膜付の基
板、ガラス基板、シリコンウェハ基板に対して直接彫り
込み（ダイレクト・マーキング）を行う場合のマーキン
グにも適用することができる。
【００４２】
【実施例】図１の識別コードマーキング装置でフォトレ
ジスト塗布基板に識別コードをマーキングするに当た
り、レーザビームとしてＹＡＧレーザの第３高調波の波
長λ＝３５５ｎｍ付近のレーザビームを使用し、基板に
塗布するフォトレジストとして、この波長で感光する樹
脂を選択した。
ジスト塗布基板に識別コードをマーキングするに当た
り、レーザビームとしてＹＡＧレーザの第３高調波の波
長λ＝３５５ｎｍ付近のレーザビームを使用し、基板に
塗布するフォトレジストとして、この波長で感光する樹
脂を選択した。
【００４３】レーザビームのパルス周波数ｆはｆ＝６０
ｋＨｚに設定し、基板に集光した時のレーザビームのワ
ーク面での幅Ｗ＝０．０５０ｍｍ、隣り合うビーム同士
の間隔ｐ＝０．０５０ｍｍ、ビームの厚さ方向にステー
ジを移動させる速度ｖ＝５００ｍｍ／秒に設定した。
ｋＨｚに設定し、基板に集光した時のレーザビームのワ
ーク面での幅Ｗ＝０．０５０ｍｍ、隣り合うビーム同士
の間隔ｐ＝０．０５０ｍｍ、ビームの厚さ方向にステー
ジを移動させる速度ｖ＝５００ｍｍ／秒に設定した。
【００４４】また、レーザビームはビーム偏向機構で７
段階に偏向させ、そのうち６方向のビームが透過フィル
ター２５を通って基板に照射するようにし、６方向のビ
ームを１０ｋＨｚで選択照射するようにした。
段階に偏向させ、そのうち６方向のビームが透過フィル
ター２５を通って基板に照射するようにし、６方向のビ
ームを１０ｋＨｚで選択照射するようにした。
【００４５】上記設定によりレーザビームの１パルス間
にステージが移動する距離Ｄは、 Ｄ＝ｖ／ｆ で表され、隣り合うビーム同士のずれは０．００８３
（ｍｍ）となり、次列のビーム同士との間隔は、 Ｄ＝６×５００／６００００＝０．０５（ｍｍ） になった。
にステージが移動する距離Ｄは、 Ｄ＝ｖ／ｆ で表され、隣り合うビーム同士のずれは０．００８３
（ｍｍ）となり、次列のビーム同士との間隔は、 Ｄ＝６×５００／６００００＝０．０５（ｍｍ） になった。
【００４６】また、１パルス内のＯＮ時間をｔa 、ＯＦ
Ｆ時間をｔb 、デューティ比ｒを ｒ＝ｔa ／（ｔa ＋ｔb ） と定義し、ｒ＝１０％に設定することで、１パルス当た
りのレーザ照射時間ｔaは ｔa ＝ｒ／ｆ となった。
Ｆ時間をｔb 、デューティ比ｒを ｒ＝ｔa ／（ｔa ＋ｔb ） と定義し、ｒ＝１０％に設定することで、１パルス当た
りのレーザ照射時間ｔaは ｔa ＝ｒ／ｆ となった。
【００４７】レーザ光線のワーク面での長さｄを ｄ＝
０．０４５ｍｍとすると、実際の照射長さＬは Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｔa Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｒ／ｆ となり、Ｌ＝０．０５０ｍｍとなるので、各レーザビー
ムを５０μｍ間隔の格子状に露光することができた。
０．０４５ｍｍとすると、実際の照射長さＬは Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｔa Ｌ＝ｄ＋ｖ・ｒ／ｆ となり、Ｌ＝０．０５０ｍｍとなるので、各レーザビー
ムを５０μｍ間隔の格子状に露光することができた。
【００４８】これを繰り返し行うことにより、図１５に
示す様な文字や図形からなるドット状の描画パターンの
識別コードを形成することができた。
示す様な文字や図形からなるドット状の描画パターンの
識別コードを形成することができた。
【００４９】なお、図１５に限定されず、基板の走査速
度ｖや識別コードの大きさを変えることにより、ドット
状のパターンを種々変えることができる。例えば、図１
６に示すような角が丸くなったものや円形のもの、或い
はその他の幾何学図形にも変更することができ、識別コ
ードとしての認識は可能である。
度ｖや識別コードの大きさを変えることにより、ドット
状のパターンを種々変えることができる。例えば、図１
６に示すような角が丸くなったものや円形のもの、或い
はその他の幾何学図形にも変更することができ、識別コ
ードとしての認識は可能である。
【００５０】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、露光ユ
ニットから出力したレーザビームを、露光ユニットとス
テージとの相対移動方向に直交する方向に時系列的に順
次偏向分岐させて走査し、その相対移動方向に直交する
方向に隣り合うビーム間の照射時間差のずれをなくすよ
うに照射方向を補正するため、各ビームのエネルギー分
布や形状が大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な
識別コードをマーキングすることができる。
ニットから出力したレーザビームを、露光ユニットとス
テージとの相対移動方向に直交する方向に時系列的に順
次偏向分岐させて走査し、その相対移動方向に直交する
方向に隣り合うビーム間の照射時間差のずれをなくすよ
うに照射方向を補正するため、各ビームのエネルギー分
布や形状が大幅に変わることなく、形状・濃度が均質な
識別コードをマーキングすることができる。
【図１】本発明によるレーザビームによるマーキング装
置を例示する概略図である。
置を例示する概略図である。
【図２】本発明に使用されるレーザビームの一例を示す
出力グラフである。
出力グラフである。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の装置におけるビー
ム偏向機構でレーザビームが偏向操作される状態を示す
説明図である。
ム偏向機構でレーザビームが偏向操作される状態を示す
説明図である。
【図４】本発明の装置において、基板にレーザビームが
露光する状態を示す説明図である。
露光する状態を示す説明図である。
【図５】本発明の装置において、レーザビームの照射方
向を変更するミラー反射機構を示す説明図である。
向を変更するミラー反射機構を示す説明図である。
【図６】本発明の装置において、レーザビームの照射方
向を変更する他のミラー反射機構を示す説明図である。
向を変更する他のミラー反射機構を示す説明図である。
【図７】本発明の装置において、レーザビームの照射方
向を変更する更に他のミラー反射機構を示す説明図であ
る。
向を変更する更に他のミラー反射機構を示す説明図であ
る。
【図８】本発明の方法によらない基板に対する露光方法
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図９】本発明の方法による基板に対する露光方法を示
す説明図である。
す説明図である。
【図１０】本発明の方法による基板に対する露光方法の
他の例を示す説明図である。
他の例を示す説明図である。
【図１１】本発明に使用される連続出力されたレーザビ
ームの偏向角度が時間的に変化する様子を示す図であ
る。
ームの偏向角度が時間的に変化する様子を示す図であ
る。
【図１２】本発明において、偏向されたビームを平行光
とせずに投影レンズだけで集光させる場合を示す説明図
である。
とせずに投影レンズだけで集光させる場合を示す説明図
である。
【図１３】本発明によるレーザビームによるマーキング
装置の他の例を例示する概略図である。
装置の他の例を例示する概略図である。
【図１４】図１３の装置に使用されるビーム偏向機構の
他の例を示す概略図である。
他の例を示す概略図である。
【図１５】本発明によりマーキングされた識別コードの
説明図である。
説明図である。
【図１６】本発明によりマーキングされた識別コードの
他の例を示す説明図である。
他の例を示す説明図である。
【図１７】露光処理したのち現像処理した基板を例示す
る平面図である。
る平面図である。
１ 露光ユニット
２（基板保持用）ステージ
１０，１１，１２，１３，１４，１５ レーザビーム
１４ａ〜１４f 偏向されたレーザビーム
１５ａ〜１５f 平行光にされたレーザビーム
１６ａ〜１６f 選択照射されたレーザビーム
１７ａ〜１７f ミラーに反射されたレーザビーム
１８ａ〜１８f レンズで集光されたレーザビーム
２１ ビームスプリッタ
２２ プリズム
２３ ビーム偏向機構
２４ 集光レンズ
２５ 透過フィルター
２６ 集光レンズ
２７ 透過フィルター
２８ 多角形ミラー
２９ ミラー
３０ ミラー回転機構
３１ 反射ミラー
３２ ミラー回転機構
３３ 多角形ミラー
５０ 基板
５０ａ 基板識別コード
５０ｂ 分断基板識別コード
５１ 液晶パネル
５１ａ パネル識別コード
Ｃ 識別コード
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(71)出願人 501230199
アプライド フォトニクス インコーポレ
イテッド
Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ，Ｉ
ｎｃ
アメリカ合衆国、フロリダ 32826、スー
ト 300 オーランド、リサーチ パーク
ウエイ、12565
12565 Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｐａｒｋｗａ
ｙ，Ｓｕｉｔｅ 300 Ｏｒｌａｎｄｏ,
ＦＬ 32826， ＵＳＡ
(72)発明者 植原 幸大
滋賀県大津市大江一丁目１番45号 東レエ
ンジニアリング株式会社内
(72)発明者 森 誠樹
滋賀県大津市大江一丁目１番45号 東レエ
ンジニアリング株式会社内
(72)発明者 佐藤 謙二
滋賀県大津市大江一丁目１番45号 東レエ
ンジニアリング株式会社内
Ｆターム(参考） 2H097 AA03 CA17 GB04 LA12
Claims (8)
- 【請求項１】 被マーキング物品を載置したステージ
と、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対
移動させ、前記露光ユニットから出力するレーザビーム
により前記被マーキング物品上に識別コードをマーキン
グする方法において、前記露光ユニットから出力するレ
ーザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列
的に順次偏向させるように走査すると共に、その照射方
向を前記相対移動方向にずらせ、前記被マーキング物品
上の照射点を直交座標に整列させるレーザビームによる
マーキング方法。 - 【請求項２】 被マーキング物品を載置したステージ
と、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対
移動させ、前記露光ユニットから出力するレーザビーム
により前記被マーキング物品上に識別コードをマーキン
グする方法において、前記ステージ又は該ステージ上の
被マーキング物品の表面の直交座標を前記相対移動方向
に対して斜めにし、前記露光ユニットから出力するレー
ザビームを前記相対移動方向と直交する方向に時系列的
に順次偏向させるように走査することにより、前記被マ
ーキング物品上の照射点を直交座標に整列させるレーザ
ビームによるマーキング方法。 - 【請求項３】 前記識別コードが文字及び／又は２次元
図形からなる請求項１又は２に記載のレーザビームによ
るマーキング方法。 - 【請求項４】 被マーキング物品を載置するステージ
と、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対
移動可能にし、前記露光ユニットを、該露光ユニットか
ら出力するレーザビームを前記相対移動方向と直交する
方向に時系列的に順次偏向させるように走査するビーム
偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザビーム
の照射方向を前記相対移動方向にずらせる方向補正手段
とから構成したレーザビームによるマーキング装置。 - 【請求項５】 前記方向補正手段が反射面を可変にする
ミラーである請求項４に記載のレーザビームによるマー
キング装置。 - 【請求項６】 被マーキング物品を載置するステージ
と、該ステージの上方に配置した露光ユニットとを相対
移動可能にすると共に、前記ステージ又は該ステージ上
の被マーキング物品の表面の直交座標を前記相対移動方
向に対して斜めにし、前記露光ユニットを、該露光ユニ
ットから出力するレーザビームを前記相対移動方向と直
交する方向に時系列的に順次偏向させるように走査する
ビーム偏向手段と、該ビーム偏向手段で偏向したレーザ
ビームを拡大する投影光学手段と、該投影光学手段を出
たレーザビームの照射方向を変える方向補正手段とから
構成したレーザビームによるマーキング装置。 - 【請求項７】 前記方向補正手段の下流側に集光手段を
設けた請求項４又は５に記載のレーザビームによるマー
キング装置。 - 【請求項８】 前記露光ユニットを複数列配置した請求
項４〜７のいずれかに記載のレーザビームによるマーキ
ング装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001327976A JP3547418B2 (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 |
| PCT/JP2002/011042 WO2003036391A1 (fr) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | Procede et dispositif de marquage d'un code d'identification par un faisceau laser |
| CNB028211928A CN1288502C (zh) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | 利用激光束的识别码的打印装置 |
| CNB2005101250467A CN100461002C (zh) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | 利用激光束的识别码的打印方法和装置 |
| US10/488,964 US20040241340A1 (en) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | Method and device for marking identification code by laser beam |
| KR10-2004-7005781A KR20040044554A (ko) | 2001-10-25 | 2002-10-24 | 레이저빔에 의한 식별코드의 마킹 방법 및 장치 |
| TW091125019A TW583513B (en) | 2001-10-25 | 2002-10-25 | Apparatus and method for marking an identifying code by using laser beam |
| US11/477,945 US20060243713A1 (en) | 2001-10-25 | 2006-06-30 | Method and device for marking identification code by laser beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001327976A JP3547418B2 (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | レーザビームによる液晶パネルのマーキング方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003131392A true JP2003131392A (ja) | 2003-05-09 |
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Family
ID=19144124
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
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| CN (1) | CN100461002C (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006259515A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Toray Eng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
| JP2007148361A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Orc Mfg Co Ltd | 周辺露光装置およびその方法 |
| JP2007148359A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Orc Mfg Co Ltd | レーザビーム露光装置およびその方法 |
| JP2007148362A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Orc Mfg Co Ltd | レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法 |
| JP2007148358A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Orc Mfg Co Ltd | レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法 |
| JP2007148360A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Orc Mfg Co Ltd | 周辺露光装置およびその方法 |
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