JP2001176785A - 周辺露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 周辺露光装置のスループットを向上する。 【解決手段】 光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは、支持部
材１２に沿って図の±Ｘ方向に移動可能である。両光源
ユニット１４Ａ、１４Ｂからビームを出射しつつ、支持
部材１２を図の±Ｙ方向に走行させることにより、ガラ
ス基板Ｇの周辺部のフォトレジストが露光される。光源
ユニット１４Ａ、１４Ｂが支持部材１２に沿って±Ｘ方
向に移動する際に、両光源ユニット１４Ａ、１４Ｂ間の
距離が一定の値以上となるように制御される。マスク１
６Ａ、１６Ｂは、図の±Ｘ方向に駆動され、周辺露光の
対象エリア中で光を照射したくない部分があるときには
このマスク１６Ａ、１６Ｂがガラス基板Ｇを部分的に覆
い、遮光する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は周辺露光装置に関
し、特にＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマ表
示パネル）などに用いられるガラスプレート等を製作す
る過程において、フォトレジストの塗布された基板上で
回路パターン等が露光される領域以外の部分に塗布され
ているフォトレジストに光を照射するのに用いて好適な
周辺露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネル等を製造する際の一工程
であるリソグラフィ工程においては、内部に投影光学系
の組み込まれている投影露光装置が用いられる。マスク
に形成されているパターンの像は、この投影光学系によ
り基板上のフォトレジスト塗布面に投影される。この基
板には、上述したプロセスによってパターンが露光され
る部分、すなわちパターン領域と、上記パターンの露光
されない領域、すなわち非パターン領域とが設定され
る。リソグラフィ工程においては、上記非パターン領域
に光を照射する必要がある。これは、基板にポジ型レジ
ストが塗布されていることによる。つまり、ポジレジス
トの未露光部分は、現像後も基板上に残る。特に、スピ
ンコートによってフォトレジストを基板上に塗布した場
合、その膜厚は基板中央部よりも周辺部の方で厚くな
る。一般に、基板周辺部は非パターン領域であり、除去
されずに残っているフォトレジストは膜厚が厚いほど剥
がれやすいという性質を有している。このポジレジスト
が後の処理工程中に剥離し、細片（パーティクル）とな
って飛散することがある。このパーティクルは、液晶表
示パネル等、露光対象の基板の歩留まりを低下させる要
因となっている。また、たとえ剥離を生じなくても、Ｃ
ＶＤなどの後処理を基板に施す際に、基板周辺部等にフ
ォトレジストが残っているとパターン領域に形成される
薄膜の膜厚の不均一をもたらすこともある。

【０００３】そこで、非パターン領域のフォトレジスト
に光を照射して感光させ、後に続く現像工程において不
要なレジストを除去することが一般に行われている。こ
のように、基板上の非パターン領域に光を照射するもの
として、光源から出射するスポット光を走査させて基板
上の非パターン領域に光を照射する装置が種々提案され
ている。以下、本明細書中では、基板上の非パターン領
域に光を照射する装置を「周辺露光装置」と称する。

【０００４】基板上に形成されるパターンの精細化にと
もない、投影露光装置には、より短波長のものが用いら
れるようになってきている。これにともない、基板に塗
布されるフォトレジストの感光波長帯域も単波長側にシ
フトしている。したがって、周辺露光装置に用いられる
光源もｇ線やｉ線等の単波長の光を出射するものが用い
られている。

【０００５】上述したフォトレジストに対応可能な周辺
露光装置に用いられる光源としては、生産効率の向上を
目的として、高輝度のもの、たとえば超高圧水銀ランプ
などが用いられる。理由は、フォトレジストに対して同
じドーズ量を与えようとしたときに、大光量の光源を用
いればそれだけ短い露光時間で済むからである。つま
り、光源から出射されるスポット光を走査させる際の速
度を上げることができ、これにより短時間のうちに非パ
ターン領域への光の照射を済ますことができるからであ
る。

【０００６】上述のように、基板上の露光したい部分に
スポット光を照射するため、光源から出射される光を光
ファイバによって光出射部に導くものが知られている。
光ファイバが用いられる周辺露光装置では、超高圧水銀
ランプ等の光源は固定しておき、この光源から伸びる光
ファイバの先端部、すなわち光出射部を露光対象の基板
の感光面に対して移動させることにより所望の露光パタ
ーンで基板を露光することができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記周辺露
光装置にはさらなる生産効率の向上が求められるように
なってくるのにつれて、以下で説明するようなことが問
題となりつつある。すなわち、スループットを向上させ
るためにはできるだけ多くの光を基板の感光面に導く必
要があり、光ファイバを用いることによる光量の損失が
無視できなくなってきた。この損失は、光ファイバの充
填率の関係で生じるロスと、光ファイバ中を光が進む際
に生じる減衰等とが要因となっている。特に、使用する
光が短波長化するにつれて、光ファイバでの吸収が増し
て損失も増す。このため、スループットを向上させるた
めには光源の光量を増すか、光ファイバを高価な石英ガ
ラス製のものとする必要がある。また、光ファイバの先
端部が移動を繰り返すうちに光ファイバが劣化して光量
伝達ロスが増す場合もある。光ファイバの劣化には、例
えば光ファイバが折れたり、またはソラリゼーションを
起こす場合などが挙げられる。

【０００８】また、基板上に形成される周辺露光のパタ
ーンとしては、基板周囲を取り囲む矩形のパターンのみ
ならず、いわゆる「日」の字、「目」の字、「田」の字
状のパターン、あるいはこれらを組み合わせた形状のパ
ターン等、複雑化する傾向にある。このような、複雑な
パターンを形成する必要があることも周辺露光装置のス
ループット低下の一因となっている。

【０００９】さらに、周辺露光を行おうとする領域の一
部にはアライメントマークや基板の識別番号等が形成さ
れる場合がある。この部分について露光をしてしまうと
重要な情報が失われてしまう。このため、周辺露光動作
中にこれらアライメントマークや識別番号等の露光され
ている領域の部分で光の照射を一時的に中断させるた
め、走査動作中の光出射部の停止および動作開始をさせ
る必要がある。このように光出射部を停動させると、加
減速に時間を要するために、周辺露光装置のスループッ
トが低下する場合がある。

【００１０】本発明の目的は、周辺露光装置のスループ
ットを向上させることにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】一実施の形態を示す図
１、図３および図７に対応付けて以下の発明を説明す
る。 （１） 請求項１に記載の発明は、光源４０Ａ（４０
Ｂ）と集光光学系６５Ａ、６６Ａ（６５Ｂ、６６Ｂ）と
を含む照明ユニット１４Ａ（１４Ｂ）を複数有し、パタ
ーンが露光されるパターン領域とパターンが露光されな
い非パターン領域とを有する感光基板Ｇの非パターン領
域ＰＡを照明ユニット１４Ａ（１４Ｂ）から出射される
光で露光する周辺露光装置に適用される。そして、複数
の照明ユニット１４Ａ、１４Ｂを移動可能に保持する保
持ユニット１２と；感光基板Ｇと保持ユニット１２とを
相対的に第１の方向（図１においてＹ軸に沿う方向）に
駆動する第１駆動部３０Ａ、３０Ｂと；複数の照明ユニ
ット１４Ａ、１４Ｂの各々を感光基板Ｇの略中央部に位
置決め可能で、第１の方向とは異なる第２の方向（図１
においてＸ軸に沿う方向）に複数の照明ユニット１４
Ａ、１４Ｂの各々を駆動する第２駆動部３２Ａ、３２Ｂ
と；複数の照明ユニット１４Ａ、１４Ｂを互いに干渉し
ないように第２駆動部３２Ａ、３２Ｂを制御する駆動制
御部１００とを備えることにより上述した目的を達成す
る。 （２） 請求項２に記載の発明に係る周辺露光装置は、
駆動制御部１００が、複数の照明ユニットの相隣合う照
明ユニット１４Ａ、１４Ｂ間の距離を所定の距離以上に
保つように制御するものである。 （３） 請求項３に記載の発明に係る周辺露光装置は、
駆動制御部１００が、複数の照明ユニット１４Ａ、１４
Ｂのうちの一部の照明ユニット（たとえば１４Ａ）から
出射される光によって感光基板Ｇの非パターン領域ＰＡ
を露光する場合に、残りの照明ユニット（たとえば１４
Ｂ）を一部の照明ユニット（たとえば１４Ａ）と干渉し
ないように制御するものである。 （４） 請求項４に記載の発明は、光源４０Ａ（４０
Ｂ）と集光光学系６５Ａ、６６Ａ（６５Ｂ、６６Ｂ）と
を含む照明ユニット１４Ａ（１４Ｂ）を複数有し、パタ
ーンが露光されるパターン領域とパターンが露光されな
い非パターン領域とを有する感光基板Ｇの非パターン領
域ＰＡを照明ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光
で露光する周辺露光装置に適用される。そして、複数の
照明ユニット１４Ａ、１４Ｂのそれぞれから出射される
光の強度を検出する光量検出手段４８と；複数の照明ユ
ニット１４Ａ、１４Ｂのそれぞれと感光基板Ｇとを相対
移動させて感光基板Ｇ上の非パターン領域ＰＡを露光す
る時、光量検出手段４８で検出された複数の照明ユニッ
ト１４Ａ、１４Ｂの光の強度のうち低い方の強度に基づ
いて、複数の照明ユニット１４Ａ、１４Ｂのそれぞれと
感光基板Ｇとの相対移動の速度を設定する移動速度設定
手段１００とを有するものである。 （５） 請求項５に記載の発明は、光源１４Ａ（１４
Ｂ）と集光光学系６５Ａ、６６Ａ（６５Ｂ、６６Ｂ）と
を含む照明ユニット１４Ａ（１４Ｂ）を複数有し、パタ
ーンが露光されるパターン領域とパターンが露光されな
い非パターン領域とを有する感光基板Ｇの非パターン領
域ＰＡを照明ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光
で露光する周辺露光装置に適用される。そして、複数の
照明ユニット１４Ａ、１４Ｂのそれぞれから出射される
ビームのサイズを互いに独立して変更するビームサイズ
変更手段３６Ａ、３６Ｂを有するものである。 （６） 請求項６に記載の発明に係る周辺露光装置は、
感光基板Ｇを、感光基板Ｇの感光面と略直交する回転軸
まわりに回転する回転駆動部５２をさらに有し；感光基
板Ｇにおける非パターン領域ＰＡの配置に応じて行われ
る複数の照明ユニット１４Ａ、１４Ｂ間の距離の変更動
作は、回転駆動部５２により感光基板Ｇを回転駆動する
のと並行して行われるものである。 （７） 請求項７に記載の発明に係る周辺露光装置は、
感光基板Ｇを、感光基板Ｇの感光面と略直交する回転軸
まわりに回転させる回転駆動部５２をさらに有し；複数
の照明ユニット１４Ａ、１４Ｂのそれぞれから出射され
るビームのサイズを個々に変更する動作は、回転駆動部
５２により感光基板Ｇが回転駆動されるのと並行して行
われるものである。 （８） 請求項８に記載の発明は、光源４０Ａ（４０
Ｂ）と集光光学系６５Ａ、６６Ａ（６５Ｂ、６６Ｂ）と
を含む照明ユニット１４Ａ（１４Ｂ）を複数有し、パタ
ーンが露光されるパターン領域とパターンが露光されな
い非パターン領域とを有する感光基板Ｇの非パターン領
域ＰＡを照明ユニット１４Ａ、１４Ｂの光出射部からの
光で露光する周辺露光装置に適用される。そして、複数
の照明ユニット１４Ａ、１４Ｂと感光基板Ｇとを相対移
動させる移動経路近傍に設けられ、光出射部から出射さ
れた光が感光基板Ｇ上の照射を所望しない部分に照射さ
れるのを防ぐための遮光手段１１Ａ、１１Ｂを有するも
のである。 （９） 請求項９に記載の発明に係る周辺露光装置は、
遮光手段１１Ａ、１１Ｂが、感光基板Ｇに対して相対的
に移動可能に設けられ、必要に応じて照明ユニット１４
Ａ、１４Ｂと感光基板Ｇとの間の位置に設定されるもの
である。

【００１２】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の形態に係
る周辺露光装置の概略的構成を説明する平面図である。
また、図２は、図１に示すIIの方向より見た様子を示す
図である。図１において、紙面左右方向にＸ軸を、上下
方向にＹ軸を、紙面に直交する方向にＺ軸をとり、以下
の説明ではこれらの座標軸に沿う方向を適宜Ｘ方向、Ｙ
方向、Ｚ方向と称する。また、必要に応じ、座標値の増
える方向をプラスＸ方向、プラスＹ方向、プラスＺ方向
などと称する。他の図においても、適宜図１に示す座標
軸と一致させるようにして座標軸が示してある。

【００１４】− 主走査方向駆動機構 − 定盤２の上面の四隅には４本の支柱６Ａ、６Ｂ、６Ｃお
よび６Ｄが固定されている。支柱６Ａおよび６Ｃの上端
にはガイドレール８Ａが、支柱６Ｂおよび６Ｄの上端に
はガイドレール８Ｂが、それぞれＹ方向に沿って掛け渡
されて固定されている。

【００１５】ガイドレール８Ａおよび８Ｂの間には支持
部材１２がＸ方向に沿って掛け渡されている。ガイドレ
ール８Ａおよび８Ｂの内部には、それぞれ主走査モータ
３０Ａ、３０Ｂ（図１では不図示、図７参照）によって
回転駆動される送りネジ機構（不図示）がＹ方向に沿っ
て内蔵されている。主走査モータ３０Ａおよび３０Ｂを
正逆転することにより、支持部材１２を±Ｙ方向（以
下、本明細書中では図１の±Ｙ方向を「主走査方向」と
称する）に移動させることが可能となっている。

【００１６】− 副走査方向駆動機構 − 二つの光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂは、支持部材１
２によって±Ｘ方向に移動可能に支持されている。ま
た、支持部材１２の内部には副走査モータ３２Ａ、３２
Ｂ（図１では不図示、図７参照）によって回転駆動され
る２本の送りネジ機構（不図示）がＸ方向に沿って内蔵
されている。これらの副走査モータ３２Ａおよび３２Ｂ
を独立して正逆転させることにより、光源ユニット１４
Ａおよび１４Ｂをそれぞれ独立して±Ｘ方向（以下、本
明細書中では図１における±Ｘ方向を「副走査方向」と
称する）に駆動可能となっている。

【００１７】− 遮光ユニット − 支柱６Ａおよび６Ｃの側面には梁９Ａが、また、支柱６
Ｂおよび６Ｄの側面には梁９Ｂが、それぞれＹ方向に沿
って掛け渡され、固定されている。梁９Ａには遮光ユニ
ット１１Ａが、梁９Ｂには、遮光ユニット１１Ｂが固定
されている。

【００１８】遮光ユニット１１Ａの構成について説明す
ると、この遮光ユニット１１Ａは、基部１０Ａと、移動
部材１３Ａと、マスク１６Ａとを有する。移動部材１３
Ａは、不図示の空圧アクチュエータによって基部１０Ａ
に対して±Ｘ方向に相対移動可能となっている。上記構
成により、空圧アクチュエータによってマスク１６Ａを
副走査方向に駆動することにより、光源ユニット１４
Ａ、１４Ｂから出射される光束を露光対象物へ導く状態
と遮る状態とに切り換えることができる。遮光ユニット
１１Ｂも、遮光ユニット１１Ａのものと同様の構成を有
しており、空圧アクチュエータによってマスク１６Ｂを
副走査方向に駆動することにより、光源ユニット１４
Ａ、１４Ｂから出射される光束を必要に応じて露光対象
物へ導く状態と遮る状態とに切り換えることができる。

【００１９】上述の遮光ユニットは、梁９Ａ、９Ｂのそ
れぞれに一つずつ固定されるものとして説明したが、こ
の遮光ユニットが設けられる位置および数については本
実施の形態に示されるものに限られるものではなく、任
意に定めることができる。また、これら複数の遮光ユニ
ット１１Ａ、１１Ｂについては梁９Ａ、９Ｂに固定され
るのみならず、これら梁９Ａ、９Ｂに沿って移動可能に
設けられるものであってもよい。このように遮光ユニッ
ト１１Ａ、１１Ｂを移動可能に設けることにより、レシ
ピに対応して基板Ｇの周辺露光領域中の任意の位置をマ
スキング可能である。

【００２０】また、複数の遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂ
の移動速度を光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの移動速度よ
りも高速にすることで、一つの光源ユニットあたり複数
の箇所のマスキングを行うことも可能となる。これにつ
いて説明すると、まずマスキングしたい最初の位置に遮
光ユニット１１Ａ、１１Ｂを待機させておいて周辺露光
を開始し、遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂ上を光源ユニッ
ト１４Ａ、１４Ｂが通過した後、マスク１６Ａ、１６Ｂ
を退避させて遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂを再移動さ
せ、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを追い越す。そして次
にマスキングしたい位置で停止させ、マスク１６Ａ、１
６Ｂで露光領域ＰＡ上のマスキングしたい次の領域を覆
い、待機すれば、上述したように一つの光源ユニットあ
たり複数の箇所のマスキングを行うことも可能となる。
また、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂが遮光ユニット１１
Ａ、１１Ｂの上まで来たときに、遮光ユニット１１Ａ、
１１Ｂを光源ユニット１４Ａ、１４Ｂと等速で移動開始
させ、所定の位置で遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂを停止
させることにより、マスク１６Ａ、１６Ｂでの遮光幅よ
りも広い領域のマスキングを行うこともできる。なお、
マスク１６Ａ、１６Ｂの駆動を空圧アクチュエータで行
う例について説明したが、位置制御が可能なモータなど
を用いてもよい。

【００２１】− 光量センサ − 光量センサ４８は、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出
射される光束の光量を測定するためのセンサである。こ
の光量センサ４８により、周辺露光動作に先だって光源
ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射される光束の光量が順
次測定される。なお、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの光
路中にハーフミラー等を配置してこのハーフミラーで反
射される光をモニタするものであってもよい。また、光
量センサ４８で光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出射さ
れる光束の光量を測定する理由については後で説明す
る。

【００２２】− プレートホルダ − 図２を参照して説明すると、露光対象物のガラス基板Ｇ
が載置されるプレートホルダ４は、定盤２に固定されて
いるプレートホルダ支持部５によってＺ軸回りに回動可
能に支持されている。プレートホルダ４の上面には、複
数の突起４ａが設けられている。これら複数の突起４ａ
の高さは、ほぼ同じに揃えられている。また、これら複
数の突起４ａの上面には不図示の管路を介して負圧源に
接続されている孔が明けられており、プレートホルダ４
に露光対象物のガラス基板Ｇが載置された後、吸着、固
定される。この突起４ａは、図４においては８個設けら
れる例が示されているが、基板Ｇのヤング率、大きさお
よび厚さなどに応じて、基板Ｇのたわみが悪影響を及ぼ
さない程度の数および位置で設けられる。

【００２３】− 光源ユニット − 図３は、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂの内部構成を
概略的に説明する図であり、Ｚ軸に平行な方向に延在す
る光源ユニット１４Ａ（１４Ｂ）の光軸を含む面での断
面を示す。なお、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは同じ構
成を有しているので、図３においては光源ユニット１４
Ｂの構成要素については括弧付きの符号を付し、光源ユ
ニット１４Ａの構成のみについて説明する。

【００２４】光源ユニット１４Ａの内部には、超高圧水
銀ランプ４０Ａが反射鏡６２Ａの内部に固定されてい
る。反射鏡６２Ａの下方にはリレーレンズ６６Ａおよび
投影レンズ６５Ａが固定され、超高圧水銀ランプ４０Ａ
から出射された光束は反射鏡６２Ａで集光された後、リ
レーレンズ６６Ａ、投影レンズ６５Ａを介してガラス基
板Ｇの感光面、すなわちフォトレジストの塗布された面
に導かれる。

【００２５】シャッタアクチュエータ３４Ａにより、Ｘ
Ｙ平面に沿う方向に駆動されるシャッタ６３Ａは、超高
圧水銀ランプ４０Ａから出射された光をリレーレンズ６
６Ａの入射面に導く状態と遮る状態とに切り換えるため
のものである。一般に、超高圧水銀ランプから発せられ
る光が安定するまでには、ランプ点灯を開始してから数
十分のウオーミングアップ時間を必要とする。このた
め、周辺露光装置が稼働を開始した後、超高圧水銀ラン
プ４０Ａから発せられる光の照射を一時的に停止させる
必要がある場合には、超高圧水銀ランプ４０Ａを消灯さ
せることはせずに、シャッタ６３Ａにて遮光する。

【００２６】ブラインドアクチュエータ３６Ａによって
駆動されるブラインド６４Ａは、ガラス基板Ｇに照射す
る光束を矩形に整形するとともに、副走査方向の光束の
幅（サイズ）を調節する機能を有する。このブラインド
６４Ａは、投影レンズ６５Ａの出射面とガラス基板Ｇの
フォトレジスト塗布面との間で、できるだけフォトレジ
スト塗布面に近接させるようにして配置される。このブ
ラインド６４Ａは、投影レンズ６５Ａに関して、フォト
レジスト塗布面と共役の位置（図３において記号Ｃで示
す位置）に配置してもよい。

【００２７】− ローダ − 以下で図４、図５を参照して説明するローダ７０は、周
辺露光装置に内蔵されるものであっても、そうでなくて
もよいが、ここでは周辺露光装置の外（近傍）に設置さ
れるものとして説明する。なお、図４および図５におい
て周辺露光装置は、定盤２０、プレートホルダ４および
プレートホルダ支持部５のみが図示され、他の構成要素
の図示は省略されている。

【００２８】ローダ７０は、周辺露光装置と他の装置、
たとえばコータ・デベロッパや液晶露光装置等との間で
露光対象物のガラス基板Ｇを搬送するために用いられる
ものである。そして、床面等に設置される基部７５の上
にスカラロボットのアーム７２が設置されている。アー
ム７２は、ＸＹ平面に平行な面方向、±Ｚ方向、そして
Ｚ軸回りに動作の自由度を有している。このアーム７２
の先端には、コの字状の搬送枠７３が固定されている。
ガラス基板Ｇは、搬送枠７３の腕部７３ａで支持された
状態で搬送される。

【００２９】引き続き図４および図５を参照し、ガラス
基板Ｇをプレートホルダ４に載置する際のローダ７０の
動作を説明する。先述したように、プレートホルダ４に
は複数の突起４ａが設けられており、ローダ７０はアー
ム７２および基板Ｇが突起４ａと衝突することのないよ
うに、突起４ａの僅か上方の空間内で腕部７３ａで支持
されたガラス基板Ｇを搬送する。そして、ガラス基板Ｇ
がプレートホルダ４上の所定位置に達すると、ローダ７
０はアーム７２をマイナスＺ方向に動かし、ガラス基板
Ｇを降下させる。この過程でガラス基板Ｇは複数の突起
４ａと接触し、続いてガラス基板Ｇは突起４ａの上面へ
真空吸着される。その後、ローダ７０はアーム７２をマ
イナスＹ方向に移動させて周辺露光装置の外へ退避させ
る。そして、後で説明するように周辺露光装置が作動を
開始する。

【００３０】− 制御回路 − 図６は、以上に説明した周辺露光装置の動作制御を行う
制御回路の概略的構成を説明するブロック図である。周
辺露光装置の動作を統括制御する制御部１００には、主
走査モータ３０Ａおよび３０Ｂ、副走査モータ３２Ａお
よび３２Ｂ、シャッタアクチュエータ３４Ａおよび３４
Ｂ、ブラインドアクチュエータ３６Ａおよび３６Ｂ、そ
して超高圧水銀ランプ４０Ａおよび４０Ｂが接続されて
いる。制御部１００にはさらに、電磁式方向切換弁４６
Ａ、４６Ｂおよび５０、光量センサ４８そしてステージ
アクチュエータ５２が接続されている。また、制御部１
００にはホストコンピュータ２００が接続されている。
このホストコンピュータ２００は、周辺露光装置を含む
複数の装置にそれぞれ組み込まれている制御回路と通信
を行って製造プロセスを統括制御するためのものであ
り、周辺露光装置の外部に設置されるものである。制御
部１００は、プレートホルダ４に露光対象のガラス基板
Ｇが載置され、ホストコンピュータ２００から上記ガラ
ス基板Ｇを露光する際のプロセスシーケンスやガラス基
板Ｇの露光面に与えるドーズ量等の制御パラメータ等
（レシピ）の情報を入力するのに応じて以下に説明する
露光動作の制御を開始する。

【００３１】− 周辺露光装置の動作 − 以上のように構成される周辺露光装置の動作について図
１〜図６を適宜参照しながら説明する。なお、以下の動
作説明では、超高圧水銀ランプ４０Ａおよび４０Ｂは点
灯開始してから相当の時間が経過していて安定状態、す
なわち周辺露光が行える状態にあるものとする。ホスト
コンピュータ２００から入力したレシピに従い、制御部
１００は周辺露光動作制御を開始する。

【００３２】先ず、矩形の外形形状を有するガラス基板
Ｇの周囲、四辺を「ロ」の字状に露光する場合について
説明する。ガラス基板Ｇがプレートホルダ４に載置され
た後、制御部１００は電磁式方向切換弁５０を制御して
複数の突起４ａに空けられている孔と不図示の負圧源と
を連通させる。これにより、ガラス基板Ｇはプレートホ
ルダ４に吸着、固定される。

【００３３】制御部１００は、主走査モータ３０Ａ、３
０Ｂそして副走査モータ３２Ａ、３２Ｂを制御して回転
させ、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂの光射出部を順
次光量センサ４８の上方に位置させ、各光源ユニットか
ら出射される光束の光量を計測する。制御部１００は、
光量の少ない方の値と、ホストコンピュータ２００から
入力したレシピの情報中に含まれるドーズ量（露光量）
とから、光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂをガラス基板
Ｇに対して相対移動させる際の移動速度を算出する。

【００３４】このようにして求められた移動速度で周辺
露光を行った場合、光量の多い方の光源ユニットから出
射される光束で露光されるフォトレジストは露光オーバ
ーとなる。しかし、周辺露光は不要のレジストを除去す
ることを目的としているので、露光量が多少オーバーし
ても問題はない。むしろ、ドーズ量が不足することによ
り、不要なレジストを除去しきれないことの方が問題で
ある。従って、本実施の形態のように複数の光源ユニッ
ト１４、１４Ｂから出射される光束のうち、もっとも光
量の少ないものを基準としてこれらの光源ユニットの移
動速度を求めることにより、フォトレジストの露光量不
足が生じるのを抑制できる。したがって、除去しきれず
に残ってしまったフォトレジストが剥離するなど、後々
のプロセス中に不具合を誘発することがなくなる。

【００３５】制御部１００は、シャッタアクチュエータ
３４Ａ、３４Ｂを制御してシャッタ６３Ａおよび６３Ｂ
を閉じ、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから光束が出射し
ない状態とする。続いて制御部１００は、主走査モータ
３０Ａ、３０Ｂおよび副走査モータ３２Ａ、３２Ｂを制
御し、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを主走査方向および
副走査方向に駆動して位置決めをする。つまり、光源ユ
ニット１４Ａおよび１４Ｂの光束出射位置を周辺露光開
始位置と一致させる。続いて制御部１００は、ホストコ
ンピュータ２００から入力したレシピに基づいてブライ
ンドアクチュエータ３６Ａ、３６Ｂを制御し、非パター
ン領域の幅に合わせて光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから
出射される光束のビーム幅を調節する。

【００３６】ところで、ガラス基板Ｇの周辺部分にアラ
イメントマークや識別番号等が焼き込まれている部分が
ある場合には、この部分が露光されないようにする必要
がある。このような場合、ホストコンピュータ２００よ
り入力したレシピ中に周辺露光を行わない部分がある旨
の情報が含まれる。制御部１００はこの情報に基づいて
電磁式方向切換弁４６Ａ、４６Ｂを制御してマスク１６
ＡをプラスＸ方向に、そしてマスク１６ＢをマイナスＸ
方向に駆動する。これにより、遮光ユニット１１Ａ、１
１Ｂは図１に例示される状態に切り換えられ、マスク１
６Ａ、１６Ｂがガラス基板Ｇ上の露光領域ＰＡの一部を
覆う。これにより、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから出
射されてガラス基板Ｇに塗布されたフォトレジストに入
射する光束が部分的に遮光され、基板Ｇ上で露光をした
くない部分がマスキングされる。

【００３７】制御部１００は、シャッタアクチュエータ
３４Ａ、３４Ｂを制御してシャッタ６３Ａ、６３Ｂを開
き、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂから光束が出射する状
態とし、続いて主走査モータ３０Ａ、３０Ｂを制御して
光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを主走査方向に走査させ
る。光源ユニット１４Ａおよび１４Ｂは、支持部材１２
で保持された状態でガラス基板Ｇの上方を一体にほぼ一
定の速度で走査し、ガラス基板Ｇの２辺（図１において
Ｙ方向に沿う２辺）の周辺露光を完了する。このとき、
遮光ユニット１１Ａ、１１Ｂで遮光されている部分は露
光されない。このように、本発明に係る周辺露光装置で
は、途中に露光したくない部分が存在する場合であって
も、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂが走査を開始してから
停止するまでの間、ほぼ一定の速度で走査させることが
できる。この点、露光したくない部分の先頭部で光源ユ
ニットの走査を一時停止させてシャッタ６３Ａ、６３Ｂ
を閉じ、走査を再開して露光したくない部分の終端で再
び走査を一時停止し、再度シャッタを開いてから走査を
再開するような従来の方式に比べて短時間のうちに周辺
露光を完了させることができ、周辺露光装置のスループ
ットを向上させることができる。

【００３８】上述のようにして、ガラス基板Ｇの対向す
る２辺の周辺露光が完了するのにともない、制御部１０
０はシャッタアクチュエータ３４Ａ、３４Ｂを制御して
シャッタ６３Ａ、６３Ｂを閉じ、光源ユニット１４Ａ、
１４Ｂからの光束の出射を停止させる。

【００３９】続いて制御部１００は、ステージアクチュ
エータ５２を制御してプレートホルダ４をＺ軸に平行な
回転軸まわりに９０度回転させる。同時に、ホストコン
ピュータ２００から入力したレシピに従い、制御部１０
０は副走査モータ３２Ａ、３２Ｂそしてブラインドアク
チュエータ３６Ａ、３６Ｂを制御して光源ユニット１４
Ａ、１４Ｂの光軸間距離を変更するとともにビームサイ
ズの変更を行う。このように、プレートホルダ４の回転
と、複数の光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの光軸間距離の
変更およびビームサイズの変更を同時に行うことによ
り、周辺露光装置のスループットを向上させることが可
能となる。なお、プレートホルダ４の回転と同時に行わ
れるのは複数の光源ユニット１４Ａ、１４Ｂ間の光軸間
距離の変更のみであってもよいし、あるいはビームサイ
ズの変更のみであってもよい。

【００４０】上述したプレートホルダ４の回転、光源ユ
ニット１４Ａ、１４Ｂの光軸間距離の変更、そしてビー
ムサイズの変更に続き、制御部１００は主走査モータ３
０Ａ、３０Ｂを制御して光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの
光束の出射部を次の周辺露光の開始位置に移動させる。
そして、ホストコンピュータ２００から入力したレシピ
に基づいて、次の周辺露光を行う領域中に遮光を必要と
する領域があると判断した場合、制御部１００はマスク
１６Ａ、１６Ｂがガラス基板Ｇ上の露光領域ＰＡの一部
を覆う状態を維持する。一方、遮光を必要とする領域が
無いと判断すると、制御部１００は電磁式方向切換弁４
６Ａ、４６Ｂを制御してマスク１６Ａ、１６Ｂをガラス
基板Ｇの周辺露光の範囲から退避させる。続いて制御部
１００は、シャッタアクチュエータ３４Ａおよび３４Ｂ
を制御してシャッタ６３Ａ、６３Ｂを開き、光源ユニッ
ト１４Ａ、１４Ｂから光束が出射する状態とした上で主
走査モータ３０Ａ、３０Ｂを制御し、光源ユニット１４
Ａ、１４Ｂを主走査方向に走査させる。

【００４１】制御部１００による以上の制御動作によ
り、ガラス基板Ｇの４辺（「ロ」の字状）の周辺露光が
完了する。周辺露光のパターンが、いわゆる「目」の
字、「日」の字、「田」の字状のものである場合、ある
いはこれらを複合した形状のパターンである場合、制御
部１００は引き続いて上述したのと同様の周辺露光動作
を繰り返し行う。このとき制御部１００は、周辺露光の
パターンが偶数本ある場合には光源ユニット１４Ａ、１
４Ｂの双方を走査させて露光を行う。一方、周辺露光の
パターンが「日」の字パターンのように奇数本である場
合には、最後に残された１本のパターンを複数の光源ユ
ニット１４Ａ、１４Ｂのうちのいずれかを用いて行うよ
うに制御部１００は副走査モータ３２Ａ、３２Ｂを制御
する。このとき、残りの光源ユニット、すなわち周辺露
光動作にあずからない方の光源ユニットは、周辺露光動
作にあずかる光源ユニットと干渉しないように移動する
よう、制御部１００によって制御される。上記実施の形
態の説明では、光源ユニットが二つ設けられる例につい
て説明したが、光源ユニットの数は３以上としてもよ
い。この場合、周辺露光のパターン数を光源ユニットの
数で割ったときの余りの数のパターンを一部の光源ユニ
ットで露光すればよい。そして、周辺露光動作にあずか
らない光源ユニットは、周辺露光動作にあずかる光源ユ
ニットと干渉しないように移動するよう、制御部１００
によって制御される。

【００４２】ここで図７を参照し、本発明の実施の形態
に係る周辺露光装置で「目」の字状の形状パターンの周
辺露光が行われる例を二つ、そして「日」の字状の形状
パターンの周辺露光が行われる例を一つ説明する。

【００４３】図７（ａ）は、「目」の字状の形状パター
ンのうちの中二本のパターンが比較的広い間隔を有して
いる例を示し、図７（ｂ）は図７（ａ）に示す形状パタ
ーンの周辺露光を行う際の制御部１００による露光制御
手順の一例を示す。図７（ｂ）の手順Ａに示されるよう
に、基板Ｇの長辺に沿う二本のパターンが光源ユニット
１４Ａ、１４Ｂによって露光され、続いてプレートホル
ダ４（図２）が９０度回転される。プレートホルダ４の
回転中に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方向に駆
動されて間隔が調節される。続いて、手順Ｂに示される
ように、基板Ｇの短辺に沿う二本のパターンが露光され
る。このとき、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂとガラス基
板Ｇとの間の相対移動方向は、手順Ａにおける相対移動
方向とは逆向きとなっている。手順Ｂにおける露光動作
が完了した後、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方
向に駆動されて二つの光源ユニット間の間隔が狭められ
る。そして、手順Ｃに示されるように、手順Ｂでの相対
移動方向とは逆の方向に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂと
基板Ｇとが相対駆動されて残り二本のパターンの露光が
行われる。

【００４４】図７（ｃ）は、「目」の字状の形状パター
ンのうちの中二本のパターンが比較的狭い間隔を有して
いる例を示し、図７（ｄ）は図７（ｃ）に示す形状パタ
ーンの周辺露光を行う際の、制御部１００による露光制
御手順の一例を示す。ここで、「比較的狭い」とは、光
源ユニット１４Ａ、１４Ｂの大きさ等の制約により、光
源ユニット１４Ａ、１４Ｂを最も近づけた状態にして
も、これらの光源ユニットの光出射部からそれぞれ出射
する光束のピッチよりもパターン間隔の方が狭くなるこ
とを意味している。

【００４５】図７（ｄ）の手順Ｐに示されるように、基
板Ｇの長辺に沿う二本のパターンが光源ユニット１４
Ａ、１４Ｂによって露光され、続いてプレートホルダ４
が９０度回転される。プレートホルダ４の回転中に光源
ユニット１４Ａ、１４Ｂは副走査方向に駆動されて間隔
が調節される。続いて、手順Ｑに示されるように、基板
Ｇの短辺の延在方向と平行な方向に沿う４本のパターン
のうちの一番左側のパターンと、左から３番目のパター
ンとが露光される。このとき、光源ユニット１４Ａ、１
４Ｂとガラス基板Ｇとの間の相対移動方向は、手順Ｐに
おける相対移動方向とは逆向きになっている。手順Ｑに
おける露光動作が完了した後、光源ユニット１４Ａ、１
４Ｂは副走査方向に駆動される。そして、手順Ｒに示さ
れるように、手順Ｑでの相対移動方向とは逆の方向に光
源ユニット１４Ａ、１４Ｂと基板Ｇとが相対駆動され、
残り二本のパターンの露光が行われる。

【００４６】図７（ｂ）に示す例では、ガラス基板Ｇの
短辺の延在方向と平行な方向に沿う４本のパターンを露
光する際に、外・外、内・内と露光したのに対し、図７
（ｄ）に示す例では外・内、内・外と露光している。つ
まり、ある光源ユニットが副走査方向に移動する際に制
御部１００は、上記光源ユニットとこの光源ユニットに
相隣する光源ユニットとの間の距離を所定の距離以上に
保つようにこれら複数の光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを
制御する。そして制御部１００は、一方の光源ユニット
の動きを妨げない（干渉しない）ように他の光源ユニッ
トを移動させる。複数の光源ユニットを上述のように移
動させることにより、相隣合う光源ユニット同志が干渉
することもない。また、露光パターンを形成するパター
ンで間隔の比較的狭い部分があっても露光を行うことが
できる。特に、本実施の形態に係る周辺露光装置のよう
に光源と集光光学系とが一体に形成されている光源ユニ
ットが用いられるものの場合、光源や集光光学系の大き
さがネックとなって相隣り合う光源ユニットから出射さ
れる光束のピッチに制約を生じやすい。しかし、上述の
ようにして露光を行うことにより、狭いパターン間隔で
あってもスループットを低下させることなく露光を行う
ことが可能となる。

【００４７】図７（ｅ）は、露光パターンが「日」の字
状の形状パターンを有する例を示し、図７（ｆ）は図７
（ｅ）に示す形状パターンの周辺露光を行う際の制御部
１００による露光制御手順の一例を示す。図７（ｆ）の
手順Ｘに示されるように、基板Ｇの長辺に沿う二本のパ
ターンが光源ユニット１４Ａ、１４Ｂによって露光さ
れ、続いてプレートホルダ４が９０度回転される。プレ
ートホルダ４の回転中に光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは
副走査方向に駆動されて間隔が調節される。続いて、手
順Ｙに示されるように、基板Ｇの短辺に沿う二本のパタ
ーンが露光される。このとき、光源ユニット１４Ａ、１
４Ｂとガラス基板Ｇとの間の相対移動方向は、手順Ｘに
おける相対移動方向とは逆向きとなっている。手順Ｙに
おける露光動作が完了した後、光源ユニット１４Ｂのみ
が副走査方向に駆動される。そして、手順Ｚに示される
ように、手順Ｙでの相対移動方向とは逆の方向に光源ユ
ニット１４Ａ、１４Ｂと基板Ｇとが相対残りのパターン
の露光が行われる。なお、手順Ｚにおいて光源１４Ａの
シャッタ６３Ａは閉じられた状態となっている。以上で
は残りのパターンの露光に際して光源ユニット１４Ｂが
用いられる例について説明したが、もちろん光源ユニッ
ト１４Ａを用いるものであってもよい。また、上述した
「日」の字状、あるいはこれに準ずるパターンの露光が
繰り返し行われる場合、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂは
交互、あるいは所定の回数ごとに交替して用いられるも
のであってもよい。

【００４８】以上に説明したように、本発明の実施の形
態に係る周辺露光装置では、露光パターン形状の如何に
よらず、高スループットの露光を行うことができる。特
に、超高圧水銀ランプ４０Ａ、４０Ｂからの光を、光フ
ァイバを用いることなく基板Ｇに導いているので、光フ
ァイバの充填率等に起因する光量の低下が抑止され、周
辺露光装置のスループットを向上させることができる。
また、光ファイバの劣化等による問題も生じないので、
周辺露光装置の信頼性を高めることができるのに加え、
複数の光源ユニットを上述のように駆動することで基板
上に形成可能な周辺露光パターンの自由度を高めること
が可能となる。

【００４９】以上の説明では、光源ユニット１４Ａおよ
び１４Ｂから出射される光束の光量を検出するために、
定盤２の上に光量センサ４８が設けられる例について説
明したが、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂのそれぞれに光
量センサを内蔵するものであってもよい。また、周辺露
光装置が有する光源ユニットの数は２に限られるもので
はなく、３以上を有するものであってもよい。

【００５０】複数の光源ユニットを主走査方向および副
走査方向に駆動するためのものとして、以上に説明した
送りネジ機構のみならず、リニアモータやベルト駆動機
構等、他のアクチュエータや機構などを用いるものであ
ってもよい。また、図８を参照して以下に説明するよう
に、光源ユニットを副走査方向に駆動するための機構と
して回動機構を用いるものであってもよい。

【００５１】図８は、本発明の実施の形態に係る周辺露
光装置における光源ユニットの副走査方向駆動機構の別
の例を示す図である。図８では周辺露光装置の一部のみ
が示されているが、他の部分は図１に示されるものと同
様である。図８において、図１に示される周辺露光装置
の構成要素と同様の構成要素には同じ符号を付してその
説明を省略する。駆動部材１２には、回動アーム１３４
Ａ、１３４Ｂを介して光源ユニット１４Ａ、１４Ｂが支
持されている。回動アーム１３４Ａの回動中心軸には、
副走査モータ１３２Ａおよびエンコーダ１３３Ａが取り
付けられている。同様に、回動アーム１３４Ｂの回動中
心軸にも副走査モータ１３２Ｂおよびエンコーダ１３３
Ｂが取り付けられている。これらの副走査モータ１３２
Ａ、１３２Ｂおよびエンコーダ１３３Ａ、１３３Ｂはい
ずれも制御部１００に接続されている。

【００５２】制御部１００によって制御される副走査モ
ータ１３２Ａ、１３２Ｂにより、回動アーム１３４Ａ、
１３４Ｂはそれぞれ揺動駆動される。光源ユニット１４
Ａ、１４Ｂは回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂの先端に固
定されており、回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂの角度位
置に応じてこれら光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの副走査
方向の位置が定められる。回動アーム１３４Ａ、１３４
Ｂの角度位置は、それぞれエンコーダ１３３Ａ、１３３
Ｂによって検出される。制御部１００は、エンコーダ１
３３Ａ、１３３Ｂから入力される角度位置情報に基づい
て副走査モータ１３２Ａ、１３２Ｂを制御し、光源ユニ
ット１４Ａ、１４Ｂの副走査方向の位置決めを行う。な
お、ここで説明した例においては回動アーム１３４Ａ、
１３４Ｂの角度位置に応じてブラインド６４Ａ、６４Ｂ
により形成される開口形状（ビームの断面形状）が主走
査方向に対して傾きを有することになる。この傾きを補
正するためには、光源ユニット１４Ａ、１４Ｂを回動ア
ーム１３４Ａ、１３４Ｂに対して相対回転可能としても
よい。あるいは、ブラインド６４Ａ（６４Ｂ）およびブ
ラインドアクチュエータ３６Ａ（３６Ｂ）の部分のみを
回動アーム１３４Ａ（１３４Ｂ）に対して相対回転可能
としてもよい。また、このような回転機構を用いるのに
代えて回動アーム１３４Ａ、１３４Ｂそれぞれを２本の
アームが用いられた平行リンクに置き換え、光源ユニッ
ト１４Ａ、１４Ｂをそれぞれ平行リンクの先端部で支持
してもよい。この場合、平行リンクの角度位置、すなわ
ち光源ユニット１４Ａ、１４Ｂの副走査方向の位置によ
らず、ブラインド６４Ａ、６４Ｂによって形成される開
口の角度位置は主走査方向に対して一定に保たれる。

【００５３】さらに、以上では複数の光源ユニットが主
走査方向に駆動される例について説明したが、これに代
えて基板Ｇが主走査方向に駆動されるものであってもよ
い。さらに、複数の光源ユニットおよび基板Ｇの双方を
駆動してこれら複数の光源ユニットと基板Ｇとを相対移
動させてもよい。この場合、図１に示される遮光ユニッ
ト１１Ａおよび１１Ｂはプレートホルダ４と一体に移動
するように構成すればよい。

【００５４】以上の発明の実施の形態と請求項との対応
において、超高圧水銀ランプ４０Ａ、４０Ｂが光源を、
リレーレンズ６６Ａ、６６Ｂおよび投影レンズ６５Ａ、
６５Ｂが集光光学系を、光源ユニット１４Ａおよび１４
Ｂが照明ユニットを、ガラス基板Ｇが感光基板を、保持
部材１２が保持ユニットを、主走査モータ３０Ａ、３０
Ｂが第１駆動部を、副走査モータ３２Ａ、３２Ｂ、１３
２Ａ、１３２Ｂが第２駆動部を、光量センサ４８が光量
検出手段を、制御部１００が駆動制御部、照明ユニット
移動制御手段および移動速度設定手段を、ブラインド６
４Ａ、６４Ｂおよびブラインドアクチュエータ３６Ａ、
３６Ｂがビームサイズ変更手段を、ステージアクチュエ
ータ５２が回転駆動部を、遮光ユニット１１Ａおよび１
１Ｂが遮光手段をそれぞれ構成する。

【００５５】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、以下の効果を奏する。 （１） 請求項１〜３に記載の発明によれば、感光基板
の略中央部に位置決め可能な複数の照明ユニットのそれ
ぞれを第２の方向に駆動する際に、これら複数の照明ユ
ニットが互いに干渉しないように駆動することにより、
これら複数の照明ユニットが衝突する等の不具合が生じ
ることがなく、周辺露光装置を円滑に稼働させることが
でき、周辺露光装置のスループットを向上させることが
可能となる。 （２） 請求項４に記載の発明によれば、複数の照明ユ
ニットのそれぞれから出射される光の強度を検出し、複
数の照明ユニットのそれぞれと感光基板とを相対移動さ
せて感光基板上の非パターン領域を露光する時、光量検
出手段で検出された複数の照明ユニットの光の強度のう
ち低い方の強度に基づいて複数の照明ユニットのそれぞ
れと感光基板との相対移動の速度を設定することによ
り、複数の照明ユニットから出射する光束の光量にばら
つきを有していても、フォトレジストを除去するのに十
分な光量で露光を行うことができる。また、各照明ユニ
ットごとの光量に応じて何度も周辺露光動作を繰り返す
必要がなく、まとめて露光を行うことができるので、各
照明ユニットごとの光量にばらつきを有していても周辺
露光装置のスループットが低下するのを抑制することが
できる。 （３） 請求項５に記載の発明によれば、複数の照明ユ
ニットのそれぞれから出射されるビームのサイズが互い
に独立して変更されることにより、異なる幅を有する複
数のパターンを同時に露光することができ、周辺露光装
置のスループットを向上させることが可能となる。 （４） 請求項６に記載の発明によれば、複数の照明ユ
ニット間の距離の変更動作は、回転駆動部により感光基
板が回転駆動されるのと並行して行われることにより、
続いて行われる複数の露光動作間のインターバルが短縮
される。したがって、周辺露光装置のスループットを向
上させることが可能となる。 （５） 請求項７に記載の発明によれば、複数の照明ユ
ニットのそれぞれから出射されるビームのサイズ変更動
作は、回転駆動部により感光基板が回転駆動されるのと
並行して行われることにより、続いて行われる複数の露
光動作間のインターバルが短縮される。したがって、周
辺露光装置のスループットを向上させることが可能とな
る。 （６） 請求項８に記載の発明によれば、複数の照明ユ
ニットと感光基板とを相対移動させる移動経路近傍に設
けられ、光出射部から出射された光が感光基板上の照射
を所望しない部分に照射されるのを防ぐための遮光手段
を有することにより、露光対象の非パターン領域中に露
光を所望しない部分があっても照明ユニットを一時停止
させることなく走査させることができる。つまり、周辺
露光動作のために走査中の照明ユニットを一時停止させ
て照明ユニット内のシャッタを作動させ、不所望の部分
への露光が行われないようにする必要がない。このよう
に、周辺露光動作中の照明ユニットの停動（加減速動
作）が不要となるので、周辺露光装置のスループットを
高めることが可能となる。 （７） 請求項９に記載の発明によれば、遮光手段が必
要に応じて照明ユニットと基板との間の位置に設定され
ることにより、一台の周辺露光装置で異なるタイプの基
板の周辺露光を行うことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、本発明の実施の形態に係る周辺露光
装置の概略的構成を説明する平面図である。

【図２】 図２は、本発明の実施の形態に係る周辺露光
装置の概略的構成を説明する部分断面図である。

【図３】 図３は、光源ユニットの構成例を概略的に示
す縦断面図である。

【図４】 図４は、本実施の形態に係る周辺露光装置と
他の装置との間で露光対象物を受け渡しするローダを説
明する図である。

【図５】 図５は、露光対象物がローダによって周辺露
光装置にセットされる様子を説明する図である。

【図６】 図６は、本発明の実施の形態に係る周辺露光
装置の制御回路を概略的に示すブロック図である。

【図７】 図７は、種々の露光パターン形状に対応して
行われる周辺露光動作の手順を説明する図である。

【図８】 図８は、光源ユニットの副走査機構の別の例
を示す図である。

【符号の説明】

２ … 定盤 ４ … プレートホルダ ５ …
プレートホルダ支持部 ８Ａ、８Ｂ … ガイドレール ９Ａ、９Ｂ …
梁 １１Ａ、１１Ｂ … 遮光ユニット １２ … 支持
部材 １４Ａ、１４Ｂ … 光源ユニット １６Ａ、１６Ｂ … マスク ３０Ａ、３０Ｂ
… 主走査モータ ３２Ａ、３２Ｂ … 副走査モータ ３４Ａ、３４Ｂ … シャッタアクチュエータ ３６Ａ、３６Ｂ … ブラインドアクチュエータ ４０Ａ、４０Ｂ … 超高圧水銀ランプ ４６Ａ、４６Ｂ … 電磁式方向切換弁 ４８ …
光量センサ ５２ … ステージアクチュエータ ７０ …
ローダ １００ … 制御部 ２００ … ホスト
コンピュータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 博明 長野県茅野市玉川4896番地 株式会社オー ク製作所諏訪工場内 (72)発明者 伊藤 雅之 長野県茅野市玉川4896番地 株式会社オー ク製作所諏訪工場内 (72)発明者 楢木 剛 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 Ｆターム(参考） 2H097 AA08 BA06 BB01 CA05 CA07 CA12 LA12 5F046 BA07 CA02 CB05 CB06 CB22 CC01 CC06 CC08 CC10 CC15 CD01 CD05 CD06 DA01 DA02 DB01 DC12

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光源と集光光学系とを含む照明ユニットを
   複数有し、パターンが露光されるパターン領域と前記パ
   ターンが露光されない非パターン領域とを有する感光基
   板の該非パターン領域を前記照明ユニットから出射され
   る光で露光する周辺露光装置において、 前記複数の照明ユニットを移動可能に保持する保持ユニ
   ットと、 前記感光基板と前記保持ユニットとを相対的に第１の方
   向に駆動する第１駆動部と、 前記複数の照明ユニットの各々を前記感光基板の略中央
   部に位置決め可能で、前記第１の方向とは異なる第２の
   方向に該複数の照明ユニットの各々を駆動する第２駆動
   部と、 前記複数の照明ユニットを互いに干渉しないように前記
   第２駆動部を制御する駆動制御部とを備えたことを特徴
   とする周辺露光装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載の周辺露光装置において、 前記駆動制御部は、前記複数の照明ユニットの相隣合う
   照明ユニット間の距離を所定の距離以上に保つように制
   御することを特徴とする周辺露光装置。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載の周辺露光装置に
   おいて、 前記駆動制御部は、前記複数の照明ユニットのうちの一
   部の照明ユニットから出射される光によって前記感光基
   板の前記非パターン領域を露光する場合に、残りの照明
   ユニットを前記一部の照明ユニットと干渉しないように
   制御することを特徴とする周辺露光装置。
4. 【請求項４】光源と集光光学系とを含む照明ユニットを
   複数有し、パターンが露光されるパターン領域と前記パ
   ターンが露光されない非パターン領域とを有する感光基
   板の該非パターン領域を前記照明ユニットから出射され
   る光で露光する周辺露光装置において、 前記複数の照明ユニットのそれぞれから出射される光の
   強度を検出する光量検出手段と、 前記複数の照明ユニットのそれぞれと前記感光基板とを
   相対移動させて前記感光基板上の前記非パターン領域を
   露光する時、前記光量検出手段で検出された前記複数の
   照明ユニットの光の強度のうち低い方の強度に基づい
   て、前記複数の照明ユニットのそれぞれと前記感光基板
   との相対移動の速度を設定する移動速度設定手段とを有
   することを特徴とする周辺露光装置。
5. 【請求項５】光源と集光光学系とを含む照明ユニットを
   複数有し、パターンが露光されるパターン領域と前記パ
   ターンが露光されない非パターン領域とを有する感光基
   板の該非パターン領域を前記照明ユニットから出射され
   る光で露光する周辺露光装置において、 前記複数の照明ユニットのそれぞれから出射されるビー
   ムのサイズを互いに独立して変更するビームサイズ変更
   手段を有することを特徴とする周辺露光装置。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれか１項に記載の周辺
   露光装置において、 前記感光基板を、前記感光基板の感光面と略直交する回
   転軸まわりに回転する回転駆動部をさらに有し、 前記感光基板における前記非パターン領域の配置に応じ
   て行われる前記複数の照明ユニット間の距離の変更動作
   は、前記回転駆動部により前記感光基板を回転駆動する
   のと並行して行われることを特徴とする周辺露光装置。
7. 【請求項７】請求項５に記載の周辺露光装置において、 前記感光基板を、前記感光基板の感光面と略直交する回
   転軸まわりに回転させる回転駆動部をさらに有し、 前記複数の照明ユニットのそれぞれから出射されるビー
   ムのサイズを個々に変更する動作は、前記回転駆動部に
   より前記感光基板が回転駆動されるのと並行して行われ
   ることを特徴とする周辺露光装置。
8. 【請求項８】光源と集光光学系とを含む照明ユニットを
   複数有し、パターンが露光されるパターン領域と前記パ
   ターンが露光されない非パターン領域とを有する感光基
   板の該非パターン領域を前記照明ユニットの光出射部か
   らの光で露光する周辺露光装置において、 前記複数の照明ユニットと前記感光基板とを相対移動さ
   せる移動経路近傍に設けられ、前記光出射部から出射さ
   れた光が前記感光基板上の照射を所望しない部分に照射
   されるのを防ぐための遮光手段を有することを特徴とす
   る周辺露光装置。
9. 【請求項９】請求項８に記載の周辺露光装置において、 前記遮光手段は、前記感光基板に対して相対的に移動可
   能に設けられ、必要に応じて前記照明ユニットと前記感
   光基板との間の位置に設定されることを特徴とする周辺
   露光装置。