JP4131489B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示素子(Liquid Crystal Display Device:LCD)に関するもので、特に、液晶滴下方式による液晶表示素子の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、表示画面の厚さが数センチメートル(cm)に過ぎない超薄型のフラットパネルディスプレイがあり、その中で、液晶表示素子は動作電圧が低くて消費電力が少なく、携帯用に用いられるなどの利点から、ノートブック型コンピューター、モニター、宇宙船、航空機などに至るまでその応用分野が幅広くなりつつある。
【0003】
かかる液晶表示素子は、一般的に、その上に薄膜トランジスタと画素電極が形成されている下部基板と、前記下部基板と対向するように形成され、その上に遮光膜、カラーフィルタ−層及び共通電極が形成されている上部基板と、そして前記両基板間に形成されている液晶層とから構成されている。
また、前記画素電極と共通電極によって両基板間に電場が形成されていて液晶が駆動され、その駆動される液晶を介して光透過度が調節されて画像がディスプレイされることになる。
【0004】
このような構造の液晶表示素子において、前記下部基板と上部基板との間に液晶層を形成するための方法として、従来は下部基板と上部基板とを貼り合わせた後、毛細管現象と圧力差を用いて両基板の間に液晶を注入する真空注入方式を用いていたが、該方式は液晶注入に長時間が所要されるので基板が大面積化されることによって生産性が劣るという問題点が発生していた。
【0005】
従って、前記問題を解決するために液晶滴下方式という新しい方法が提案されているが、以下に、添付の図面を参照して従来の液晶滴下方式による液晶表示素子の製造方法を説明する。
図1aないし図1eは従来の液晶滴下方式による液晶表示素子の製造工程を示した斜視図である。図には四つの単位セルだけを示しているが、基板のサイズによって単位セルを増減することができる。
【0006】
先ず、図1aに示すように下部基板1と上部基板3を備える。
図示してはいないが、下部基板1上には縦横に交差して画素領域を画定する複数のゲート配線とデータ配線を形成し、前記ゲート配線とデータ配線との交差点に薄膜トランジスタを形成し、前記薄膜トランジスタに連結される画素電極を前記画素領域に形成する。
また、上部基板3上には前記ゲート配線、データ配線、及び薄膜トランジスタ形成領域で光が漏れることを遮断するための遮光膜を形成し、その上に赤色、緑色及び青色のカラーフィルター層を形成し、その上に共通電極を形成する。
また、前記下部基板1と上部基板3上に液晶の初期配向のため配向膜を形成する。
【0007】
又、図1bに示すように前記下部基板1上に主シール剤7及びダミーシール剤8を付与し、液晶5を滴下して液晶層を形成する。
また、前記上部基板3上にセルギャップ維持のためのスペーサ(図示せず)を配置する。前記主シール剤7は液晶が漏れることを防止し、両基板を接着させる役割を果たす。
前記ダミーシール剤8は前記主シール剤7を保護する役割を果たすもので、前記主シール剤7の外側のダミー領域に形成されている。
この液晶滴下方式では、後工程のシール剤硬化工程で、貼り合わせ基板に液晶層が形成されるが、シール剤として熱硬化型シール剤を用いることでシール剤が加熱されている間漏れだして液晶が汚染されるおそれがあるので、シール剤としてUV(Ultraviolet)硬化型シール剤が用いられる。
【0008】
また、図1cに示すように前記下部基板と上部基板とを貼り合わせる。
また、図1dに示すようにUV照射装置9によりUVを照射して前記シール剤7を硬化することで前記下部基板1と上部基板3とを貼り合わせる。
さらに、図1eに示すように前記貼り合わせ基板1、3をセル単位に切断して液晶セルを完成する。
この時、図2はセル単位で切断する工程を示した斜視図であって、図2に示すように、先ず基板材質のガラスより硬度の高いダイヤモンドペンのようなけがき針で貼り合わせ基板1、3の表面に切断ライン10を形成(以下、「けがき工程」という)した後、破粋機で前記切断ラインに沿って機械的な衝撃を加えること(以下、「破粋工程」という)によって複数の単位セルが同時に得られる。
【0009】
又は、ダイヤモンド材質のペン又はホイールを用いて前記けがき及び破粋工程を一つの工程として単位セルを一つずつ得ることもできる。
尚、図2はセル切断工程を示すためのものでありセル切断ラインを詳述してはいないが、実際のセル切断時には外側部のダミー領域を除去するためにより多くのセル切断ラインが形成されている。
図3は前記セル切断ラインを詳細に示したもので、特にシール剤7,8が形成されている下部基板1のセル切断ライン10を見せるための平面図である。
図3から分かるように、セル切断ライン10はダミーシール剤8と一定領域(丸領域)で重なることになり、この場合のダミーシール剤8はセル切断工程前のUV照射工程により硬化されている状態である。
【0010】
従って、前記セル切断工程において、けがき工程後破粋工程により単位セルを同時に得る方法は、前記硬化されたダミーシール剤8による影響を受けないが、けがき工程と破粋工程を同時に行って単位セルを一つずつ得る方法は、前記硬化されたダミーシール剤8の影響によってセル切断が難しくなるという問題がある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の従来技術の問題点を解決するためのもので、前記けがき/破粋同時工程によってセル切断の際、セル切断をより容易に行うための液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、
下部基板及び上部基板を備える工程と、
前記両基板のいずれか一つの基板上に閉鎖型のパターンで主UV硬化型シール剤を塗布し、前記主UV硬化型シール剤の外側領域に閉鎖型パターンでダミーUV硬化型シール剤を塗布する工程と、
前記両基板中のいずれか一つの基板上に液晶を滴下する工程と、
前記両基板を貼り合わせる工程と、
前記ダミーUV硬化型シール剤と、前記貼り合わせ基板を左側及び右側部分に切断する上下方向のセル切断ラインと前記貼り合わせ基板を上側及び下側部分に切断する左右方向のセル切断ラインとを含む複数のセル切断ラインとが交差する複数の交差点のうち、前記上下方向又は左右方向の各セル切断ラインとの各交差点のみをマスクに形成されたドット状の遮光部で覆いUVを照射する工程と、
先ず、上下方向のセル切断ラインと左右方向のセル切断ラインのうち、マスクに形成されたドット状の遮光部で覆われた交差点と交差するセル切断ラインに沿ってスクライブ工程及びブレーキ工程を一つの工程で行い、前記貼り合わせ基板をセル単位で切断する工程とを含み、
前記複数のセル切断ラインの各々は、前記閉鎖型ダミーシール剤の一側辺の内側において前記一側辺と並進していると共に、前記一側辺に各々接続した他の両側辺とは交差するように延長されたことを特徴とする。
【0013】
即ち、本発明は、セル切断ラインと重なる領域のダミーUV硬化型シール剤においてUV照射を遮断することによって、その領域のシール剤の硬化が防止されて、セル切断をより容易になるようにするものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して本発明を更に詳細に説明する。
図4a〜図4eは参考発明の一参考実施形態による液晶表示素子の製造工程を示す斜視図である。図には四つの単位セルを形成する場合を図示しているが、単位セルは増減して形成できる。
【0015】
先ず、図4aに示すように、下部基板200と上部基板300を備える。
図示していはいないが、下部基板200上には縦横に交差して画素領域を画定する複数のゲート配線とデータ配線を形成し、前記ゲート配線とデータ配線との交差点にゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体層、オーミックコンタクト層、ソース/ドレイン電極、及び保護膜からなる薄膜トランジスタを形成し、前記薄膜トランジスタに連結される画素電極を前記画素領域に形成する。
【0016】
また、前記画素電極上に液晶の初期配向のための配向膜を形成する。この場合、前記配向膜はポリアミド(polyamide)又はポリイミド(polyimide)系化合物、PVA(polyvinylalcohol)、ポリアミック酸(polyamic acid)などの物質をラビング配向処理して形成することもでき、ポリビニル シンナマート(polyvinyl cinnamate)、ポリシロキサン シンナマート(polysiloxane cinnamete)、又はセルロース シンナマート(cellulose cinnamate)系化合物のような光反応性物質を光配向処理して形成することもできる。
【0017】
又、上部基板300上には前記ゲート配線、データ配線、及び薄膜トランジスタ形成領域から光が漏れることを遮断するための遮光膜を形成し、その遮光膜上に赤色、緑色及び青色のカラーフィルター層を形成し、前記カラーフィルター層上に共通電極を形成する。又、前記カラーフィルター層と共通電極との間にオーバーコート層をさらに形成することもできる。又、前記共通電極上には前記配向膜を形成する。
また、前記下部基板200の外郭部には銀(Ag)をドット状に形成して前記両基板200、300を貼り合わせた後、前記上部基板300上の共通電極に電圧を印加できるようにする。前記銀は前記上部基板300に形成することもできる。
【0018】
但し、IPS(in plane switching)モード液晶表示素子の場合は、共通電極を画素電極と同一の下部基板200上に形成して横電界を誘導し、前記銀ドットは形成しない。
また、図4bに示すように、前記上部基板300上に閉鎖されたパターンで主UV硬化型シール剤700を塗布し、前記主UV硬化型シール剤700の外郭領域に閉鎖されているパターンでダミーUV硬化型シール剤800を塗布する。
【0019】
シール剤の塗布方法としては、スクリーン印刷法、ディスペンサー法などがあるが、スクリーン印刷法はスクリーンが基板と接触することで基板上に形成されている配向膜などが損傷されるおそれがあり、基板が大面積化されることによってシール剤の損失量が多く非経済的であるのでディスペンサー法が望ましい。
【0020】
このような主UV硬化型シール剤及びダミーUV硬化型シール剤700、800としては、両末端にアクリル(acryl)基が結合されたモノマー(monomer)又はオリゴマー(oligomer)を開始剤と混合したものを用いるか、一方の末端にはアクリル基が結合されかつ他方の末端にはエポキシ(epoxy)基が結合されたモノマー又はオリゴマーを開始剤と混合して用いるのが望ましい。
【0021】
また、前記下部基板200上に液晶500を滴下して液晶層を形成する。
前記液晶500は前記主UV硬化型シール剤700が硬化される前に主シール剤700と接触することで汚染される。従って、前記液晶500は前記下部基板200の中央部に滴下するのが望ましい。
このように中央部に滴下された液晶500は、前記主シール剤700が硬化された後まで徐々に広がることになり、基板全体に同一密度で分布することになる。
【0022】
尚、図4bには下部基板200上に液晶500を滴下し、上部基板300上にシール剤700、800を塗布する工程を示しているが、これに限定されることではなく、上部基板300上に前記液晶500を滴下し、下部基板200上にUV硬化型シール剤700、800を塗布することもできる。
また、前記液晶500とUV硬化型シール剤700、800を同一基板に形成することもできる。但し、前記液晶500とUV硬化型シール剤700、800を同一基板に形成する場合、液晶とUV硬化型シール剤が形成される基板と、形成されていない基板との工程間に不均衡が発生して工程時間が多く所要され、かつ、液晶とシール剤が同一基板に形成されるので貼り合わせ前にシール剤に汚染物質が形成されても基板洗浄を行うことができないため、前記液晶とシール剤とは互いに異なる基板に形成するのが望ましい。
【0023】
又、図示してはないが、前記両基板200、300の何れか一つの基板、望ましくは前記上部基板300上にセルギャップ維持のためのスペーサを形成することもできる。
前記スペーサはボールスペーサを適正濃度で溶液中に混合した後噴射ノズルにより高圧で基板上に撒布して形成することもでき、柱状スペーサを前記ゲート配線又はデータ配線形成領域に対応する基板上に取り付けて形成することもできるが、ボールスペーサは大面積に適用する場合セルギャップが不均一になるという短所があるので大面積基板には柱状スペーサを形成するのが望ましい。
この時、柱状スペーサでは感光性有機樹脂を用いるのが望ましい。
【0024】
又、図4cに示すように前記下部基板200と上部基板300とを貼り合わせる。
貼り合わせ工程は、液晶が滴下されている一つの基板の液晶滴下面を上面にしつつ一つの基板を下側に固定し、他の基板の層形成面が前記一つの基板の液晶滴下面に対向するように他の基板を180度回転してその層形成面を下面にして、他の基板を上側に位置させた後、上側に位置された他の基板に圧力を加えて両基板を貼り合わせるか、又は前記離隔されている両基板間を真空で形成した後真空を解除して大気圧によって両基板を貼り合わせることもできる。
【0025】
また、図4dに示すように、前記ダミーUV硬化型シール剤800とセル切断ラインが重なる領域を覆うマスク950を前記貼り合わせ基板200、300とUV照射装置900の間に介在させてUVを照射する。
このようにUVを照射すると前記UV硬化型シール剤700、800を構成する開始剤によって活性化されたモノマー又はオリゴマーが重合反応して高分子化されることによって下部基板200と上部基板300とが接着される。
しかしながら、前記マスク950により覆われた領域はUVが照射されないのでその領域のダミーUV硬化型シール剤は固まることなく、最初の塗布の状態、即ち、流動状態で維持されるので後工程のセル切断工程が容易になる。
又、前記UV硬化型シール剤700、800として、一方の末端にはアクリル基が方側の末端にはエポキシが結合されたモノマー又はオリゴマーを開始剤と混合したものを用いた場合、このようなUV照射によってエポキシが反応しないので前記UV照射工程後に追加に約120℃で1時間程度加熱工程を行ってシール剤を硬化させる。
【0026】
但し、前記UV硬化されないダミーシール剤はたとえ、前記熱硬化工程を経ても硬化度が50%未満に落ちてセル切断工程には影響を及ぼさない。
又、図4eに示すように、前記貼り合わせ基板を単位セルで切断する。
単位セルで切断する工程はダイヤモンド材質のペン又はホイールを鋸の歯状に形成された切断装置を用いてセル切断ライン600に沿ってけがき/破粋同時工程により単位セルを一つずつ切断する。
このようにけがき/破粋同時工程を行う切断装置を用いることによって装置が占めるスペースが狭められ、切断工程時間も短縮されることになる。
【0027】
又、図示していはないが、前記切断工程後に最終検査工程を行うことになる。
前記最終検査工程は、前記セル単位に切断された基板が液晶モジュールに組み立てられる前に不良有無を確認する工程で、電圧印加時又は無印加時に各々の画素が正しく駆動するかの可否を検査する。
【0028】
図5a及び図5bは、各々本発明の一実施形態による液晶表示素子の製造工程中のUV照射固定だけを示した斜視図であって、その他の工程は前記参考実施形態と同一である。
セル切断工程でけがき/破粋同時工程にセルを切断する場合において、かりに、右側又は左側末端のセル切断ラインから上下方向に基板を切断すると、右側又は左側にあるダミーUV硬化型シール剤は除去されることになる。従って、除去されるダミーUV硬化型シール剤は後続セル切断工程に何らの影響を及ぼさない。
【0029】
従って、セル切断ラインと重なるダミーUV硬化型シール剤領域中で上側及び下側領域だけをマスクで覆い、UVを照射するか、又は左側及び右側領域だけをマスクで覆いUVを照射してもセル切断工程の容易化においては同じ効果を奏する。
【0030】
図5aはこのようにセル切断ラインと重なるダミーUV硬化型シール剤領域中で上側及び下側領域だけをマスク950aで覆いUVを照射する工程を示したものであり、図5bは左側及び右側領域だけをマスク950bで覆いUVを照射する工程を示したものである。
勿論、図5aに示した場合は、先ず上下方向にセルを切断する場合に適用されるものであり、図5bに示した場合は、先ず左右方向にセルを切断する場合に適用されることになる。
【0031】
図5cは本発明の他の一実施形態による液晶表示素子の製造工程中、UV照射工程だけを示した斜視図である。
UV照射工程時貼り合わせ基板の全面にUVが照射することになると、基板上に形成されている薄膜トランジスタなどの素子特性に悪影響を及ぼすことになり、液晶の初期配向のために形成された配向膜のプレティルト角が変わるおそれもある。
従って、図5cに示すように、本発明の他の一実施形態は前記ダミーUV硬化型シール剤800とセル切断ラインが重なる領域及び前記主UV硬化型シール剤800内部の活性領域を覆うマスク950cを貼り合わせ200、300とUV照射装備900との間に位置させUVを照射するものに関する。
【0032】
以上本発明の好適な実施形態に関して説明したが、前記実施形態のものに限定されるわけではなく、本発明の技術思想に基づいて種々の変形可能である。
【0033】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によると、次のような効果がある。
即ち、ダミーUV硬化型シール剤とセル切断ラインと重なる領域をマスクで覆いUVを照射することにより、セル切断ラインに形成されているダミーUV硬化型シール剤が硬化されないのでけがき/破粋の同時工程でセルを切断する場合、セルの切断が容易に行われる。
【0034】
また、主UV硬化型シール剤内部の活性領域をマスクで覆いUVを照射することで基板上に形成されている薄膜トランジスタ、配向膜などの特性に悪影響を及ぼさない。
【図面の簡単な説明】
【図1a】 従来の液晶滴下方式による液晶表示素子の製造工程を示した斜視図である。
【図1b】 従来の液晶滴下方式による液晶表示素子の製造工程を示した斜視図である。
【図1c】 従来の液晶滴下方式による液晶表示素子の製造工程を示した斜視図である。
【図1d】 従来の液晶滴下方式による液晶表示素子の製造工程を示した斜視図である。
【図1e】 従来の液晶滴下方式による液晶表示素子の製造工程を示した斜視図である。
【図2】 従来のセル切断工程を示した斜視図である。
【図3】 従来のシール剤が形成されている液晶表示素子用下部基板のセル切断ラインを示すための平面図である。
【図4a】 参考発明の一参考実施形態による液晶表示素子の製造工程を示す斜視図である。
【図4b】 参考発明の一参考実施形態による液晶表示素子の製造工程を示す斜視図である。
【図4c】 参考発明の一参考実施形態による液晶表示素子の製造工程を示す斜視図である。
【図4d】 参考発明の一参考実施形態による液晶表示素子の製造工程を示す斜視図である。
【図4e】 参考発明の一参考実施形態による液晶表示素子の製造工程を示す斜視図である。
【図5a】 本発明の一実施形態による液晶表示素子の製造工程の中のUV照射工程を示した斜視図である。
【図5b】 本発明の一実施形態による液晶表示素子の製造工程の中のUV照射工程を示した斜視図である。
【図5c】 本発明の他の実施形態による液晶表示素子の製造工程の中のUV照射工程を示した斜視図である。
【符号の説明】
1、200 下部基板
3、300 上部基板
5、500 液晶
7、700 主UV硬化型シール剤
8、800 ダミーUV硬化型シール剤
9、900 UV照射装置
10、600 セル切断ライン
950、950a、b、c マスク
Claims (9)
- 下部基板及び上部基板を備える工程と、
前記両基板のいずれか一つの基板上に閉鎖型のパターンで主UV硬化型シール剤を塗布し、前記主UV硬化型シール剤の外側領域に閉鎖型パターンでダミーUV硬化型シール剤を塗布する工程と、
前記両基板中のいずれか一つの基板上に液晶を滴下する工程と、
前記両基板を貼り合わせる工程と、
前記ダミーUV硬化型シール剤と、前記貼り合わせ基板を左側及び右側部分に切断する上下方向のセル切断ラインと前記貼り合わせ基板を上側及び下側部分に切断する左右方向のセル切断ラインとを含む複数のセル切断ラインとが交差する複数の交差点のうち、前記上下方向又は左右方向の各セル切断ラインとの各交差点のみをマスクに形成されたドット状の遮光部で覆いUVを照射する工程と、
先ず、上下方向のセル切断ラインと左右方向のセル切断ラインのうち、マスクに形成されたドット状の遮光部で覆われた交差点と交差するセル切断ラインに沿ってスクライブ工程及びブレーキ工程を一つの工程で行い、前記貼り合わせ基板をセル単位で切断する工程とを含み、
前記複数のセル切断ラインの各々は、前記閉鎖型ダミーシール剤の一側辺の内側において前記一側辺と並進していると共に、前記一側辺に各々接続した他の両側辺とは交差するように延長されたことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 前記UV照射工程は、前記上下方向のセル切断ラインと重なっているダミーUV硬化型シール剤の領域中で上側及び下側領域をマスクで覆い行うことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記UV照射工程は、前記左右方向のセル切断ラインと重なっているダミーUV硬化型シール剤の領域中で左側及び右側領域をマスクで覆い行うことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記UV照射工程は、前記主UV硬化型シール剤の内部の活性領域をさらにマスクで覆い行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記主UV硬化型シール剤及びダミーUV硬化型シール剤は、両方の末端にアクリル基が結合されたモノマー又はオリゴマーを用いて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記主UV硬化型シール剤及びダミーUV硬化型シール剤は、一方の末端にアクリル基が結合されかつ他方の末端にエポキシ基が結合されたモノマー又はオリゴマーを用いて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記UV照射工程後加熱工程をさらに含んでいることを特徴とする請求項6に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記上部基板上に柱状スペーサを形成する工程をさらに含んでいることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記主UV硬化型シール剤及びダミーUV硬化型シール剤を前記上部基板上に付与し、前記液晶を前記下部基板上に滴下することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
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---|---|
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---|---|---|---|---|
US6742257B1 (en) * | 2001-10-02 | 2004-06-01 | Candescent Technologies Corporation | Method of forming powder metal phosphor matrix and gripper structures in wall support |
KR100662496B1 (ko) * | 2002-03-23 | 2007-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
JP3674610B2 (ja) * | 2002-08-05 | 2005-07-20 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器 |
JP2004093760A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Fujitsu Display Technologies Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
KR101018650B1 (ko) * | 2004-05-31 | 2011-03-03 | 엘지디스플레이 주식회사 | 씰 도포 시스템 및 이를 이용한 씰 패턴 형성 방법 |
CN100381922C (zh) * | 2004-06-14 | 2008-04-16 | 中华映管股份有限公司 | 一种采用液晶滴下工艺的液晶显示器与制造方法 |
CN100422799C (zh) * | 2004-08-10 | 2008-10-01 | 友达光电股份有限公司 | 具有可目视切割精度的记号的液晶显示面板 |
WO2007020717A1 (ja) * | 2005-08-18 | 2007-02-22 | Jsr Corporation | 表示装置の製造方法及び表示装置の製造装置 |
KR100966460B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2010-06-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 롤 스토커 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 |
JP2008129270A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Fujitsu Ltd | パネルの製造方法及び製造装置 |
TWI406207B (zh) * | 2009-11-05 | 2013-08-21 | Prime View Int Co Ltd | 可撓性顯示裝置的製造方法 |
US9063375B2 (en) * | 2012-02-09 | 2015-06-23 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | LCD panel, LCD device, and method for manufacturing panel |
CN102749746B (zh) * | 2012-06-21 | 2015-02-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶基板切割装置及液晶基板切割方法 |
CN103413503A (zh) * | 2013-07-05 | 2013-11-27 | 上海千山光电科技有限公司 | 利用液晶屏发布信息的交通工具及液晶屏的制作方法 |
CN105093806B (zh) * | 2015-08-19 | 2019-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种uv掩膜板及其曝光方法 |
CN106773521B (zh) * | 2017-01-04 | 2020-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、显示基板及其制作方法 |
CN109375409B (zh) * | 2018-12-20 | 2021-11-02 | 上海天马微电子有限公司 | 一种液晶显示面板及其制造方法和显示装置 |
Family Cites Families (170)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US211000A (en) * | 1878-12-17 | Improvement in car-springs | ||
US3978580A (en) | 1973-06-28 | 1976-09-07 | Hughes Aircraft Company | Method of fabricating a liquid crystal display |
JPS5165656A (ja) | 1974-12-04 | 1976-06-07 | Shinshu Seiki Kk | |
US4094058A (en) | 1976-07-23 | 1978-06-13 | Omron Tateisi Electronics Co. | Method of manufacture of liquid crystal displays |
CH624491A5 (ja) * | 1978-11-06 | 1981-07-31 | Ebauches Electroniques Sa | |
JPS5738414A (en) | 1980-08-20 | 1982-03-03 | Showa Denko Kk | Spacer for display panel |
JPS5788428A (en) | 1980-11-20 | 1982-06-02 | Ricoh Elemex Corp | Manufacture of liquid crystal display body device |
JPS5827126A (ja) | 1981-08-11 | 1983-02-17 | Nec Corp | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPS5957221A (ja) | 1982-09-28 | 1984-04-02 | Asahi Glass Co Ltd | 表示素子の製造方法及び製造装置 |
JPS59195222A (ja) | 1983-04-19 | 1984-11-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造法 |
JPS60111221A (ja) | 1983-11-19 | 1985-06-17 | Nippon Denso Co Ltd | 液晶充填方法および装置 |
JPS60164723A (ja) | 1984-02-07 | 1985-08-27 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶表示装置 |
JPS60217343A (ja) | 1984-04-13 | 1985-10-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JPS617822A (ja) | 1984-06-22 | 1986-01-14 | Canon Inc | 液晶素子の製造方法 |
JPS6155625A (ja) | 1984-08-24 | 1986-03-20 | Nippon Denso Co Ltd | 液晶素子製造方法 |
US4775225A (en) | 1985-05-16 | 1988-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device having pillar spacers with small base periphery width in direction perpendicular to orientation treatment |
JP2616761B2 (ja) | 1985-07-15 | 1997-06-04 | 株式会社 半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置の作製方法 |
JPS6254228A (ja) | 1985-07-15 | 1987-03-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置の作製方法 |
US4691995A (en) | 1985-07-15 | 1987-09-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal filling device |
JP2535142B2 (ja) | 1985-07-15 | 1996-09-18 | 株式会社 半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置の作製方法 |
JPS6289025A (ja) | 1985-10-15 | 1987-04-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPS6290622A (ja) | 1985-10-17 | 1987-04-25 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
US4653864A (en) | 1986-02-26 | 1987-03-31 | Ovonic Imaging Systems, Inc. | Liquid crystal matrix display having improved spacers and method of making same |
JPH0668589B2 (ja) | 1986-03-06 | 1994-08-31 | キヤノン株式会社 | 強誘電性液晶素子 |
US5963288A (en) | 1987-08-20 | 1999-10-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal device having sealant and spacers made from the same material |
US5379139A (en) | 1986-08-20 | 1995-01-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal device and method for manufacturing same with spacers formed by photolithography |
JPS63109413A (ja) | 1986-10-27 | 1988-05-14 | Fujitsu Ltd | 液晶デイスプレイの製造方法 |
JPS63110425A (ja) | 1986-10-29 | 1988-05-14 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶封入用セル |
JPS63128315A (ja) | 1986-11-19 | 1988-05-31 | Victor Co Of Japan Ltd | 液晶表示素子 |
JPS63311233A (ja) | 1987-06-12 | 1988-12-20 | Toyota Motor Corp | 液晶セル |
DE3825066A1 (de) | 1988-07-23 | 1990-01-25 | Roehm Gmbh | Verfahren zur herstellung von duennen, anisotropen schichten auf oberflaechenstrukturierten traegern |
US4964078A (en) | 1989-05-16 | 1990-10-16 | Motorola, Inc. | Combined multiple memories |
JPH0536425A (ja) | 1991-02-12 | 1993-02-12 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 固体電解質型燃料電池用合金セパレータ及びその製造 方法 |
JPH0515423A (ja) | 1991-07-08 | 1993-01-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子機器収納家具 |
EP0528542B1 (en) | 1991-07-19 | 1998-09-16 | SHARP Corporation | Optical modulating element and apparatuses using it |
JP3068264B2 (ja) | 1991-07-31 | 2000-07-24 | 三菱重工業株式会社 | 固体電解質燃料電池 |
JPH05107533A (ja) | 1991-10-16 | 1993-04-30 | Shinetsu Eng Kk | 液晶表示板用ガラス基板の貼り合せ方法及びその貼り合せ装置 |
JPH05127179A (ja) | 1991-11-01 | 1993-05-25 | Ricoh Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JP2609386B2 (ja) | 1991-12-06 | 1997-05-14 | 株式会社日立製作所 | 基板組立装置 |
JP3159504B2 (ja) | 1992-02-20 | 2001-04-23 | 松下電器産業株式会社 | 液晶パネルの製造方法 |
JPH05265011A (ja) | 1992-03-19 | 1993-10-15 | Seiko Instr Inc | 液晶表示素子の製造方法 |
JP2939384B2 (ja) | 1992-04-01 | 1999-08-25 | 松下電器産業株式会社 | 液晶パネルの製造方法 |
JPH05281562A (ja) | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
US5507323A (en) | 1993-10-12 | 1996-04-16 | Fujitsu Limited | Method and dispenser for filling liquid crystal into LCD cell |
JP2604090B2 (ja) | 1992-06-30 | 1997-04-23 | 信越エンジニアリング株式会社 | 液晶表示板用ガラス基板の貼り合せ装置 |
JPH0651256A (ja) | 1992-07-30 | 1994-02-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶吐出装置 |
JP3225700B2 (ja) * | 1992-08-04 | 2001-11-05 | 松下電器産業株式会社 | 液晶パネルの製造方法および製造装置 |
JPH0664229A (ja) | 1992-08-24 | 1994-03-08 | Toshiba Corp | 光プリンタヘッド |
JP3084975B2 (ja) | 1992-11-06 | 2000-09-04 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示用セルの製造装置 |
JPH06160871A (ja) | 1992-11-26 | 1994-06-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルおよびその製造方法 |
JPH06194637A (ja) | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Shinetsu Eng Kk | 液晶表示板用ガラス基板の貼り合せ方法 |
JPH06235925A (ja) | 1993-02-10 | 1994-08-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH06265915A (ja) | 1993-03-12 | 1994-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶充填用吐出装置 |
JP3210126B2 (ja) | 1993-03-15 | 2001-09-17 | 株式会社東芝 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP3170773B2 (ja) | 1993-04-28 | 2001-05-28 | 株式会社日立製作所 | 基板組立装置 |
US5539545A (en) | 1993-05-18 | 1996-07-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of making LCD in which resin columns are cured and the liquid crystal is reoriented |
JP2957385B2 (ja) | 1993-06-14 | 1999-10-04 | キヤノン株式会社 | 強誘電性液晶素子の製造方法 |
JP3260511B2 (ja) | 1993-09-13 | 2002-02-25 | 株式会社日立製作所 | シール剤描画方法 |
CA2108237C (en) | 1993-10-12 | 1999-09-07 | Taizo Abe | Method and dispenser for filling liquid crystal into lcd cell |
JPH07128674A (ja) | 1993-11-05 | 1995-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH07128626A (ja) * | 1993-11-08 | 1995-05-19 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置の作製方法 |
JPH07181507A (ja) | 1993-12-21 | 1995-07-21 | Canon Inc | 液晶表示装置及び該液晶表示装置を備えた情報伝達装置 |
JP2809588B2 (ja) | 1994-04-06 | 1998-10-08 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | ペースト塗布機 |
JP2880642B2 (ja) | 1994-04-11 | 1999-04-12 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | ペースト塗布機 |
JP3074111B2 (ja) * | 1994-05-27 | 2000-08-07 | シャープ株式会社 | 液晶パネル及びその製造方法 |
JP3023282B2 (ja) | 1994-09-02 | 2000-03-21 | 信越エンジニアリング株式会社 | 液晶表示板用ガラス基板の貼り合せ装置における定盤構造 |
US5854664A (en) | 1994-09-26 | 1998-12-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Liquid crystal display panel and method and device for manufacturing the same |
JP3189591B2 (ja) | 1994-09-27 | 2001-07-16 | 松下電器産業株式会社 | 液晶素子の製造方法 |
JPH08101395A (ja) | 1994-09-30 | 1996-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH08106101A (ja) | 1994-10-06 | 1996-04-23 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP2665319B2 (ja) | 1994-10-13 | 1997-10-22 | 信越エンジニアリング株式会社 | 液晶表示板用ガラス基板の加熱装置 |
JP3053535B2 (ja) | 1994-11-09 | 2000-06-19 | 信越エンジニアリング株式会社 | 液晶表示板用ガラス基板の加圧加熱装置 |
JP3433550B2 (ja) | 1994-12-19 | 2003-08-04 | カシオ計算機株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JPH08171094A (ja) | 1994-12-19 | 1996-07-02 | Nippon Soken Inc | 液晶表示器への液晶注入方法及び注入装置 |
JP3122708B2 (ja) | 1994-12-26 | 2001-01-09 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | ペースト塗布機 |
JP3545076B2 (ja) | 1995-01-11 | 2004-07-21 | 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP3216869B2 (ja) | 1995-02-17 | 2001-10-09 | シャープ株式会社 | 液晶表示素子およびその製造方法 |
US5898041A (en) | 1995-03-01 | 1999-04-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Production process of liquid crystal display panel, seal material for liquid crystal cell and liquid crystal display |
US6001203A (en) | 1995-03-01 | 1999-12-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Production process of liquid crystal display panel, seal material for liquid crystal cell and liquid crystal display |
JP3534474B2 (ja) | 1995-03-06 | 2004-06-07 | 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 | 液晶表示パネルのシール方法 |
JPH08304836A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 紫外線によるシール材硬化装置 |
JPH095762A (ja) | 1995-06-20 | 1997-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造法 |
JP3978241B2 (ja) | 1995-07-10 | 2007-09-19 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
JPH0961829A (ja) | 1995-08-21 | 1997-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JP3161296B2 (ja) | 1995-09-05 | 2001-04-25 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH0973075A (ja) | 1995-09-05 | 1997-03-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子の製造装置 |
JPH0980447A (ja) | 1995-09-08 | 1997-03-28 | Toshiba Electron Eng Corp | 液晶表示素子 |
JP3358935B2 (ja) | 1995-10-02 | 2002-12-24 | シャープ株式会社 | 液晶表示素子およびその製造方法 |
US5897414A (en) * | 1995-10-24 | 1999-04-27 | Candescent Technologies Corporation | Technique for increasing manufacturing yield of matrix-addressable device |
JP3658604B2 (ja) | 1995-10-27 | 2005-06-08 | 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 | 液晶パネルの製造方法 |
US6236445B1 (en) | 1996-02-22 | 2001-05-22 | Hughes Electronics Corporation | Method for making topographic projections |
JPH09230357A (ja) | 1996-02-22 | 1997-09-05 | Canon Inc | 液晶パネルの製造方法及びこれに用いる液晶セル |
JP3790295B2 (ja) | 1996-04-17 | 2006-06-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP3234496B2 (ja) | 1996-05-21 | 2001-12-04 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
KR100208475B1 (ko) | 1996-09-12 | 1999-07-15 | 박원훈 | 자기장 처리에 의한 액정배향막의 제조방법 |
EP0829748A3 (en) | 1996-09-13 | 1999-12-15 | Sony Corporation | Reflective guest-host liquid-crystal display device |
JPH10153785A (ja) | 1996-09-26 | 1998-06-09 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
KR100207506B1 (ko) | 1996-10-05 | 1999-07-15 | 윤종용 | 액정 표시 소자의 제조방법 |
JPH10123537A (ja) | 1996-10-15 | 1998-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法 |
JP3088960B2 (ja) | 1996-10-22 | 2000-09-18 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子の製造方法 |
JP3472422B2 (ja) | 1996-11-07 | 2003-12-02 | シャープ株式会社 | 液晶装置の製造方法 |
JPH10142616A (ja) | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Ayumi Kogyo Kk | 液晶注入方法および液体用ディスペンサー |
JPH10177178A (ja) | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JP3874871B2 (ja) | 1997-02-10 | 2007-01-31 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JPH10274768A (ja) | 1997-03-31 | 1998-10-13 | Denso Corp | 液晶セルおよびその製造方法 |
JP3773326B2 (ja) | 1997-04-07 | 2006-05-10 | アユミ工業株式会社 | 液晶の注入方法およびそれに用いるディスペンサー |
JPH10333159A (ja) | 1997-06-03 | 1998-12-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPH10333157A (ja) | 1997-06-03 | 1998-12-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JPH1114953A (ja) | 1997-06-20 | 1999-01-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 多数丁付け液晶表示パネルの製造方法および多数丁付け液晶表示パネル |
JP3874895B2 (ja) | 1997-07-23 | 2007-01-31 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネルの製造方法 |
JPH1164811A (ja) | 1997-08-21 | 1999-03-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法およびその装置 |
TW493096B (en) * | 1997-08-29 | 2002-07-01 | Toshiba Corp | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
JPH11109388A (ja) | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JP4028043B2 (ja) | 1997-10-03 | 2007-12-26 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 液晶光変調素子および液晶光変調素子の製造方法 |
US5875922A (en) | 1997-10-10 | 1999-03-02 | Nordson Corporation | Apparatus for dispensing an adhesive |
JPH11133438A (ja) | 1997-10-24 | 1999-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子とその製造法 |
JPH11142864A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JPH11248930A (ja) | 1998-03-06 | 1999-09-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラーフィルター基板、そのカラーフィルター基板の製造方法及びそのカラーフィルター基板を用いた液晶表示素子 |
US6055035A (en) | 1998-05-11 | 2000-04-25 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for filling liquid crystal display (LCD) panels |
JPH11326922A (ja) | 1998-05-14 | 1999-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
US6337730B1 (en) | 1998-06-02 | 2002-01-08 | Denso Corporation | Non-uniformly-rigid barrier wall spacers used to correct problems caused by thermal contraction of smectic liquid crystal material |
FR2781326B1 (fr) | 1998-07-17 | 2000-09-29 | St Microelectronics Sa | Procede et systeme d'elaboration d'images numeriques resultant d'elements graphiques auxiliaires incrustes dans des images principales |
JP2000137235A (ja) | 1998-11-02 | 2000-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶基板の貼り合わせ方法 |
KR20000035302A (ko) | 1998-11-09 | 2000-06-26 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 액정 표시 소자의 제조 방법 및 제조 장치, 및 액정 표시소자 |
JP3828670B2 (ja) | 1998-11-16 | 2006-10-04 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子の製造方法 |
US6219126B1 (en) | 1998-11-20 | 2001-04-17 | International Business Machines Corporation | Panel assembly for liquid crystal displays having a barrier fillet and an adhesive fillet in the periphery |
JP2000193988A (ja) | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネルの製造方法と製造装置 |
JP3568862B2 (ja) * | 1999-02-08 | 2004-09-22 | 大日本印刷株式会社 | カラー液晶表示装置 |
JP2000241824A (ja) | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2000310784A (ja) | 1999-02-22 | 2000-11-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネル、カラーフィルター及びそれらの製造方法 |
JP3410983B2 (ja) | 1999-03-30 | 2003-05-26 | 株式会社 日立インダストリイズ | 基板の組立方法およびその装置 |
JP2000292799A (ja) | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法 |
JP2000310759A (ja) | 1999-04-28 | 2000-11-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子製造装置および方法 |
JP2001222017A (ja) | 1999-05-24 | 2001-08-17 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2000338501A (ja) | 1999-05-26 | 2000-12-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP2001033795A (ja) | 1999-07-23 | 2001-02-09 | Nec Corp | 液晶表示素子及びその製造方法 |
JP3580767B2 (ja) | 1999-10-05 | 2004-10-27 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示パネルならびにその製造方法および駆動方法 |
JP2001117105A (ja) | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Toshiba Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2001117109A (ja) | 1999-10-21 | 2001-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JP3583326B2 (ja) | 1999-11-01 | 2004-11-04 | 協立化学産業株式会社 | Lcdパネルの滴下工法用シール剤 |
JP2001133799A (ja) | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JP3574865B2 (ja) | 1999-11-08 | 2004-10-06 | 株式会社 日立インダストリイズ | 基板の組立方法とその装置 |
JP2001142074A (ja) | 1999-11-10 | 2001-05-25 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2001147437A (ja) | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Nec Corp | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
JP2001154211A (ja) | 1999-11-30 | 2001-06-08 | Hitachi Ltd | 液晶パネルおよびその製造方法 |
JP2001166310A (ja) | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP3641709B2 (ja) | 1999-12-09 | 2005-04-27 | 株式会社 日立インダストリイズ | 基板の組立方法とその装置 |
JP4132528B2 (ja) | 2000-01-14 | 2008-08-13 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2001209052A (ja) | 2000-01-24 | 2001-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2001215459A (ja) | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子製造装置 |
JP2001235758A (ja) | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Fujitsu Ltd | 液晶表示パネルおよびその製造方法 |
JP2001255542A (ja) | 2000-03-14 | 2001-09-21 | Sharp Corp | 基板貼り合わせ方法及び基板貼り合わせ装置、並びに、液晶表示素子の製造方法及び製造装置 |
JP2001264782A (ja) | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Ayumi Kogyo Kk | フラットパネル基板間への粘液状材料の充填方法 |
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JP2001281675A (ja) | 2000-03-29 | 2001-10-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
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