JP3636334B2 - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、多層プリント配線板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
多層プリント配線板は、銅張積層板に回路を形成した内層板と片面銅張積層板または銅箔との間にガラスクロスを基材とする樹脂プリプレグを介し、加熱・加圧することにより加熱硬化させ、接着一体化した内層回路入り銅張積層板の外層表面に回路を形成して得られる。
電子機器の小型化、高性能化、多機能化に伴い、多層プリント配線板はより高密度化され、層間の薄型化、配線の微細化、層間接続穴の小径化が進み、さらには、隣接する配線層のみを接続するインタステイシャルバイアホール(以下、IVHという。)が用いられるようになった。さらに高密度化のため、このIVHの小径化が求められる状況である。
【0003】
従来の技術のうち、IVHを有する多層プリント配線板の製造方法は、図2(a)に示すように、銅張積層板に回路を形成した内層回路板1と、片面銅張積層板または銅箔3との間に複数枚のプリプレグ9を重ね、図2(b)に示すように、加熱・加圧することにより積層接着し、図2(c)に示すように、所定の位置にドリルにより内層回路に到達するように穴加工を行い、IVH用穴5を形成し、必要であれば図2(d)に示すように、従来のスルーホール6の穴加工を行い、次に、図2(e)に示すように、無電解銅めっき、電解銅めっき7を施し、内層回路と外層銅箔の接続を行い、図2(f)に示すように、外層銅箔上にエッチングレジスト8を形成し、選択的にエッチングを行い(図2(g),図2(h)に示す。)、エッチングレジストを除去する(図2(i)に示す。)。
【0004】
また、従来、ケミカルエッチングが可能な材料としてポリイミドフィルムを用い、ヒドラジン等でエッチングする方法が、特開昭50−4577号公報、特開昭51−27464号公報、及び特開昭53−49068号公報により知られている。
さらにまた、プリント配線板に用いられるエポキシ樹脂硬化物を、濃硫酸、クロム酸、過マンガン酸などでエッチング(表面粗化、デスミア処理)する方法が、特開昭54−144968号公報や、特開昭62−104197号公報により知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
従来の、IVH用穴の加工方法は、ドリルにより内層の配線回路に達する位置まで穴明けを行うので、スルーホールの穴明けとは違い、複数枚で重ね合わせて加工はできず、一枚づつの加工となり非常に時間を要し、生産性が悪いといいう課題があった。
また、ドリル先端の深さを制御するために、銅配線パターンの深さを合致させるが、多層プリント配線板の厚みのばらつきがあるため、内層の配線回路に到達するしないのばらつきや、層間厚が薄くなると、その下の層の配線回路と接触するなど、導通不良の原因となっている。
さらに、0.3mm以下の小径を明ける場合、ドリルの芯ぶれやガラスクロス基材を含む樹脂層の加工のため、ドリルの寿命が著しく低下した。
【0006】
また、従来のケミカルエッチングを行なう方法は、ヒドラジンは毒性が強く、濃硫酸、クロム酸、過マンガン酸は特定化学物質に指定されており、安全面に注意が必要であった。
【0007】
本発明は、量産性、接続信頼性、電気特性に優れたIVHを有し、かつ薄型化が可能となる安全性に優れた多層プリント配線板の製造方法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の多層プリント配線板の製造方法は、
(1)二官能エポキシ樹脂と、ハロゲン化二官能フェノール類とを、当量比がエポキシ基/フェノール性水酸基=1:0.9〜1.1となるように配合し、触媒の存在下、加熱して重合させたフィルム形成能を有する分子量100,000以上のエポキシ重合体と、架橋剤と、多官能エポキシ樹脂とを構成成分とする熱硬化性エポキシ接着フィルムを、予め導体回路を形成した内層板と外層銅箔との間に重ね、加熱・加圧により加熱硬化し積層接着する工程
(2)外層銅箔上にエッチングレジストを形成し、選択エッチングにより銅箔面に微細穴を形成する工程
(3)エッチングレジストを除去する工程
(4)微細穴の下の硬化樹脂層を、アミド系溶媒、アルカリ金属化合物、アルコール系溶媒よりなるエッチング液でエッチング除去し、バイアホールを明け、内層板の導体回路を露出させる工程
(5)内層板の導体回路と外層銅箔を電気的に接続するための、めっきをする工程
(6)外層銅箔上にエッチングレジストを形成し、選択エッチングにより銅箔面に配線回路を形成する工程。
(7)エッチングレジストを除去する工程
からなることを特徴とする。
【0009】
本発明者らは、薄型化が可能でIVH用穴をケミカルエッチングで一括加工できる材料として、ガラスクロス基材を含まない樹脂組成物を得るべく種々検討した結果、熱硬化した後に、ケミカルエッチングが可能な熱硬化性エポキシ接着フィルムおよびそのエッチング液を見出したので、本発明に到達した。
【0010】
本発明で使用する熱硬化性エポキシ接着フィルムは、フィルム形成能を有するエポキシ重合体および架橋剤、多官能エポキシ樹脂を構成成分とする。
フィルム形成能を有するエポキシ重合体は分子量が100,000以上の、いわゆる高分子量エポキシ重合体であり、二官能エポキシ樹脂とハロゲン化二官能フェノール類を二官能エポキシ樹脂とハロゲン化二官能フェノール類の配合当量比を、エポキシ基/フェノール性水酸基=1:0.9〜1.1とし、触媒の存在下、沸点が130℃以上のアミド系またはケトン系溶媒中、反応固形分濃度50重量%以下で、加熱して重合させて得られる。
【0011】
二官能エポキシ樹脂は、分子内に二個のエポキシ基を持つ化合物であればどのようなものでもよく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂などがある。これらの化合物の分子量はどのようなものでもよい。これらの化合物は何種類かを併用することができる。また、二官能エポキシ樹脂以外の成分が不純物として含まれていても構わない。
【0012】
ハロゲン化二官能フェノール類は、ハロゲン原子が置換し、しかも二個のフェノール性水酸基を持つ化合物であればどのようなものでもよく、例えば、単環二官能フェノールであるヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、多環二官能フェノールであるビスフェノールA、ビスフェノールF、ナフタレンジオール類、ビスフェノール類、およびこれらのアルキル基置換体などのハロゲン化物などがある。これらの化合物の分子量はどのようなものでもよい。これらの化合物は何種類かを併用することができる。また、ハロゲン化二官能フェノール類以外の成分が、不純物として含まれていても構わない。
【0013】
触媒は、エポキシ基とフェノール性水酸基のエーテル化反応を促進させるような触媒能を持つ化合物であればどのようなものでもよく、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、イミダゾール類、有機りん化合物、第二級アミン、第三級アミン、第四級アンモニウム塩などがある。中でもアルカリ金属化合物が最も好ましい触媒であり、アルカリ金属化合物の例としては、ナトリウム、リチウム、カリウムの水酸化物、ハロゲン化物、有機酸塩、アルコラート、フェノラート、水素化物、ホウ水素化物、アミドなどがある。これらの触媒は併用することができる。
【0014】
反応溶媒としてはアミド系またはケトン系溶媒が好ましく、アミド系溶媒としては、沸点が130℃以上で、原料となるエポキシ樹脂とフェノール類を溶解すれば、特に制限はないが、例えば、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、カルバミド酸エステルなどがある。これらの溶媒は併用することができる。また、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒などに代表されるその他の溶媒と併用しても構わない。またケトン系溶媒としては、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノンなどがある。
【0015】
重合体の合成条件としては、二官能エポキシ樹脂とハロゲン化二官能フェノール類の配合当量比は、エポキシ基/フェノール性水酸基=1:0.9〜1.1であることが望ましい。
触媒の配合量は、特に制限はないが、一般にはエポキシ樹脂1モルに対して触媒は0.0001〜0.2モルの範囲が好ましい。
【0016】
重合反応温度は、60〜150℃であることが望ましい。60℃より低いと高分子量化反応が著しく遅く、150℃より高いと副反応が多くなり直鎖状に高分子量化としない。溶媒を用いた重合反応の際の固形分濃度は、50%以下であればよいが、さらには30%以下にすることが望ましい。
このようにしてフィルム形成能を有する分子量が100,000以上の、いわゆる高分子量エポキシ重合体を得られた。
【0017】
この高分子量エポキシ重合体の架橋剤として、架橋剤の反応性制御が容易でワニスの保存安定性が確保し易い、イソシアネート類を他の活性水素を持つ化合物でマスク(ブロック)したマスクイソシアネート類を用いた。
イソシアネート類は、分子内に2個以上のイソシアネート基を有するものであればどのようなものでもよく、例えば、フェノール類、オキシム類、アルコール類などのマスク剤でマスクされたヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートなどが挙げられる。特に、硬化物の耐熱性の向上のためフェノール類でマスクされたイソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートが好ましい。この架橋剤の量は高分子量エポキシ重合体のアルコール性水酸基1.0当量に対し、イソシアネート基が0.1〜1.0当量にすることが好ましい。
【0018】
多官能エポキシ樹脂としては、分子内に2個以上のエポキシ基を持つ化合物であればどのようなものでもよく、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂などのフェノール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂や脂環式エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、可とう性エポキシ樹脂などであり、エポキシ樹脂ならば何を用いても構わないが、特にフェノール型エポキシ樹脂、または,フェノール型エポキシ樹脂と多官能エポキシ樹脂との混合物が、耐熱性の向上のために好ましい。
この多官能エポキシ樹脂の量は、高分子量エポキシ重合体に対し、20〜100重量%にすることが好ましい。
また、この多官能エポキシ樹脂は接着成分および成形時の樹脂流れとして働くため、内層銅箔の厚みやその回路の密度によって、適正な量に調整することができる。
【0019】
これらの多官能エポキシ樹脂は、単独でまたは二種類以上混合して用いても構わない。さらに、多官能エポキシ樹脂の硬化剤および硬化促進剤を用いる。エポキシ樹脂の硬化剤および硬化促進剤としては、ノボラック型フェノール樹脂、ジシアンジアミド、酸無水物、アミン類、イミダゾール類、フォスフィン類などが挙げられる。また、これらを組み合わせて用いても構わない。さらにシランカップリング剤を添加することは、エポキシ接着フィルムの接着力、特に銅箔との接着力を向上させるので好ましい。添加するシランカップリング剤としては、エポキシシラン、アミノシラン、尿素シラン等が好ましい。
【0020】
以上の各構成成分を配合したワニスを、キャリアフィルム上に塗布し、加熱乾燥して、Bステージの熱硬化性エポキシ接着フィルムを得た。厚さは内層回路の銅箔厚みにもよるが、25〜70μmが好ましい。
Bステージの熱硬化性エポキシ接着フィルムを、内層回路板と外層銅箔との間に介在させ、加熱・加圧により加熱硬化し積層接着し、内層回路入り銅張積層板を得る。成形温度は170℃で30分以上ならば、Bステージの熱硬化性エポキシ接着フィルムが完全に硬化するため、この条件を満たしていれば従来のエポキシ樹脂積層板の成形方法でも構わない。特に、加熱温度・時間は硬化度合いに影響し、後のエッチング速度にばらつきの要因になるため、完全に硬化させる必要がある。また、圧力は樹脂流れに影響するため、適切な圧力にする必要があるが、2MPa以上であれば構わない。
【0021】
得られた熱硬化性エポキシ接着フィルムで接合された内層回路入り銅張積層板の外層銅箔上に、エッチングレジストを形成し、一般的に用いられるフォトグラフィー法により、現像・選択エッチングを行い、銅箔面に微細穴を形成する。この微細穴はIVH用穴の開口部となる。そして、エッチングレジストを除去する。 微細穴下の硬化エポキシ接着フィルムである硬化樹脂層をアミド系溶媒、アルカリ金属化合物、アルコール系溶媒を構成成分としたエッチング液でエッチング除去し、内層回路を露出させる。熱硬化性エポキシ接着フィルムの構成成分である高分子量エポキシ重合体は、アルカリで分解される。硬化樹脂層のエッチング作用は、アミド系溶媒・アルコール系溶媒に伴って、硬化樹脂層に浸透したアルカリによって高分子量エポキシ重合体の骨格が切断分解し、低分子量化したものからアミド系溶媒に溶解しエッチングされる。
【0022】
アミド系溶媒は、何でも構わないが、例えば、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、カルバミド酸エステルなどがある。特に低分子量化した硬化物を溶解させる作用が大きいN,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドンが好ましい。また、これらの混合液でもよい。また、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒などに代表されるその他の溶媒と併用しても構わない。
ここで併用できるケトン系溶媒は、どのようなものでもよく、例えば、アセトン、エチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどがある。
ここで併用できるエーテル系溶媒は、どのようなものでもよく、例えば、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどがある。
特に濃度は限定されないが、アミド系溶媒が50〜95重量%の濃度で溶液中に存在すれば、硬化物の分解速度や溶解速度が速くなる。
【0023】
アルカリ金属化合物は、何でも構わないが、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム等のアルカリ金属化合物で、アルコール系溶媒に溶解するものであればどのようなものでもよく、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム等の金属、水素化物、水酸化物、ホウ水素化物、アミド、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、ホウ酸塩、リン酸塩、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、有機酸塩、フェノール塩などがある。特に水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが硬化物の分解速度が速く好ましい。特に濃度は限定されないが、0.5〜15重量%の濃度で溶液中に存在すれば、硬化物の分解速度が速くなり好ましい。
【0024】
アルコール系溶媒は、何でも構わないが、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、iso-ブタノール、tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、iso-ペンチルアルコール、tert−ペンチルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、1−へプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、シクロヘキサノール、1−メチルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、グリセリン、ジプロピレングリコールなどがある。これらの溶媒は、何種類かを併用することができる。特に、アルカリ金属化合物の溶解性が高いメタノール、エタノールやジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルが好ましく、これらの混合液でもよい。
濃度は、特に限定されないが、4.5〜35重量%の濃度で溶解中に存在すれば、硬化物の分解速度が速くなり好ましい。
【0025】
以上の各構成成分によりなるエッチング液は、硬化物と溶液との接触時間および溶液の温度は、望まれるエッチング速度および程度に相互依存するため、IVH径や厚さにより、適切な条件にする必要がある。また、エッチング方法はスプレー方式やディップ方式など、特に限定されるものではなく、エッチング液の構成成分であればエッチングされる。
エッチング後、露出した内層回路と外層銅箔とを電気的に接続するめっき方法は、一般的に用いられる電気めっきがよく、小径IVHには無電解銅めっきでもよい。また、電気的な接続は導電性ペーストを塗布乾燥硬化させて接続してもよい。
さらに外層銅箔上にエッチングレジストを形成し、一般的に用いられるフォトグラフィー法により、現像・選択エッチングを行い、外層銅箔面に配線回路を形成し、エッチングレジストを除去し、内層回路と外層回路がIVHで接続された多層プリント配線板が得られる。
上記のように得られた多層プリント配線板を内層とし、さらに熱硬化性銅エポキシ接着フィルムを外層銅箔との間に介し、これを繰り返すことにより、6層以上のIVHで接続された多層プリント配線板も得ることができる。
【0026】
【実施例】
実施例1
高分子量エポキシ重合体、フェノール樹脂マスク化ジイソシアネート、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂からなる、フィルムの厚さが50μmの、熱硬化性エポキシ接着フィルムAS−3000(日立化成工業株式会社製,商品名)を、予め作製した内層回路板と外層銅箔との間に、キャリアフィルムから剥離して重ね(図1(a)に示す。)、温度170℃、圧力2MPaで30分の真空プレスを行い、内層回路入り銅張積層板を得た(図1(b)に示す。)。
上記内層回路入り銅張積層板の外層銅箔の表面に、エッチングレジストを形成し(図1(c)に示す。)、フォトグラフィー法により、IVHを形成させる箇所に、直径50〜300μmのレジストを除去し(図1(d)に示す。)、さらに、IVHを形成させる箇所の外層銅箔を除去した(図1(e)に示す。)。
次に、エッチングレジストを除去し、IVHを形成したい場所の硬化エポキシ接着フィルムを露出させた(図1(f)に示す。)。
引き続き、50℃に加熱したN−メチル−2−ピロリドン90重量%、水酸化カリウム3重量%、メタノール7重量%よりなるエッチング液を15分間接触させ、硬化エポキシ接着フィルムをエッチングし、内層回路を露出させ、IVH用穴を形成した。ここで、分解物の除去が不完全な場合のために、超音波を連続的にかけて、穴中を水洗した(図1(g)に示す。)。
次に、スルーホールのドリル加工を行った(図1(h)にしめす。)。
引き続き、内層回路と外層銅箔を電気的に接続するため、IVH用穴とスルーホールに15〜20μmの銅めっきを行った(図1(i)に示す。)。
次に、外層面にエッチングレジストを形成し(図1(j)に示す。)、選択エッチングにより配線回路を形成し(図1(k),図1(l)に示す。)、エッチングレジストを除去し(図1(m)にしめす。)、4層の多層プリント配線板が得られた。
上記実施例で得た多層プリント配線板の耐電食性試験、はんだ耐熱性試験および表面銅箔のピール強度を測定した。耐電食性試験は、導体間隔0.1mmの櫛型パターンを内層回路に作製し、120℃、湿度85%、100Vの条件で絶縁抵抗の変化を測定した。初期値は1013Ωで、1,000時間経過後は1012Ωであった。はんだ耐熱性は、260℃で3分間のはんだフロート試験で異常がなかった。表面銅箔のピール強度は1.7kg/cmが得られた。
【0027】
実施例2
実施例1のエッチング液を、70℃に加熱したN−メチル−2−ピロリドン50重量%、水酸化カリウム15重量%、メタノール35重量%よりなるエッチング液にし、硬化エポキシ接着フィルムに30分間接触させた結果、エッチングすることができ、同様の4層の多層プリント配線板を得ることができた。
【0028】
実施例3
実施例1のエッチング液を、70℃に加熱したN,N−ジメチルアセトアミド90重量%、水酸化カリウム1重量%、ジエチレングリコールモノメチルエーテル9重量%よりなるエッチング液にし、硬化エポキシ接着フィルムに15分間接触させた結果、エッチングすることができ、同様の4層の多層プリント配線板を得ることができた。
【0029】
実施例4
実施例1のエッチング液を、50℃に加熱したN,N−ジメチルホルムアミド80重量%、水酸化ナトリウム4重量%、メタノール16重量%よりなるエッチング液にし、硬化エポキシ接着フィルムに15分間接触させた結果、エッチングすることができ、同様の4層の多層プリント配線板を得ることができた。
【0030】
実施例5
実施例1のエッチング液を、70℃に加熱したN,N−ジメチルホルムアミド80重量%、水酸化リチウム0.5重量%、メタノール19.5重量%よりなるエッチング液にし、硬化エポキシ接着フィルムに25分間接触させた結果、エッチングすることができ、同様の4層の多層プリント配線板を得ることができた。
【0031】
比較例1
実施例1のエッチング液を、50℃に加熱したN,N−ジメチルアセトアミドをエッチング液にした結果、硬化エポキシ接着フィルムはエッチングされず、IVH用穴を形成することができなかった。
【0032】
比較例2
実施例1のエッチング液を、50℃に加熱したメタノールをエッチング液にした結果、硬化エポキシ接着フィルムはエッチングされず、IVH用穴を形成することができなかった。
【0033】
比較例3
実施例1のエッチング液を、70℃の水酸化ナトリウム5重量%、過マンガン酸カリウム5重量%よりなる水溶液をエッチング液にした結果、硬化エポキシ接着フィルムは表面が粗化されただけで、内層回路を露出させることができず、IVH用穴を形成することができなかった。
【0034】
【発明の効果】
本発明によれば、ケミカルエッチングによりIVHの形成が一括してでき、100μm以下の小径加工が可能であるため、従来のドリル加工に比べ生産性が大幅に向上し、ドリルで加工が困難な径も可能となった。また、熱硬化性エポキシ接着フィルムは、多層プリント配線板に用いられるFR−4グレードと同等の一般特性を有する。従って、各種の電子機器で高密度実装に使用される多層プリント配線板の製造方法としては極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)〜(m)は、それぞれ、本発明の一実施例を説明するための各工程における概略断面図である。
【図2】(a)〜(i)は、それぞれ、従来例を説明するための各工程における概略断面図である。
【符号の説明】
1 内層回路板 2 熱硬化性エポキシ接着フィルム
3 外層銅箔 4 エッチングレジスト
5 IVH用穴 6 スルーホール
7 めっき 8 エッチングレジスト
9 プリプレグ
Claims (5)
- (1)二官能エポキシ樹脂と、ハロゲン化二官能フェノール類とを、当量比がエポキシ基/フェノール性水酸基=1:0.9〜1.1となるように配合し、触媒の存在下、加熱して重合させたフィルム形成能を有する分子量100,000以上のエポキシ重合体と、架橋剤と、多官能エポキシ樹脂とを構成成分とする熱硬化性エポキシ接着フィルムを、予め導体回路を形成した内層板と外層銅箔との間に重ね、加熱・加圧により加熱硬化し積層接着する工程
(2)外層銅箔上にエッチングレジストを形成し、選択エッチングにより銅箔面に微細穴を形成する工程
(3)エッチングレジストを除去する工程
(4)微細穴の下の硬化樹脂層を、アミド系溶媒、アルカリ金属化合物、アルコール系溶媒よりなるエッチング液でエッチング除去し、バイアホールを明け、内層板の導体回路を露出させる工程
(5)内層板の導体回路と外層銅箔を電気的に接続するための、めっきをする工程
(6)外層銅箔上にエッチングレジストを形成し、選択エッチングにより銅箔面に配線回路を形成する工程。
(7)エッチングレジストを除去する工程
からなることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - 工程(4)のエッチング液のアミド系溶媒が、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドンまたはこれらの組み合わせからなる群から選ばれ、50〜95重量%の濃度で溶液中に存在することを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板の製造方法。
- 工程(4)のアルカリ金属化合物が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムから選ばれ、0.5〜15重量%の濃度で溶液中に存在することを特徴とする請求項1または2に記載の多層プリント配線板の製造方法。
- 工程(4)のアルコール系溶媒が、メタノール、エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルまたはこれらの組み合わせからなる群から選ばれ、4.5〜35重量%の濃度で溶液中に存在することを特徴とする請求項1〜3のうちいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
- 工程(5)の内層板の導体回路と外層銅箔を電気的に接続する工程を、導電性ペーストを塗布乾燥硬化させて接続する工程とすることを特徴とする請求項1〜4のうちかいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
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