JPH10284840A - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents

多層プリント配線板の製造方法

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JPH10284840A
JPH10284840A JP8614897A JP8614897A JPH10284840A JP H10284840 A JPH10284840 A JP H10284840A JP 8614897 A JP8614897 A JP 8614897A JP 8614897 A JP8614897 A JP 8614897A JP H10284840 A JPH10284840 A JP H10284840A
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JP
Japan
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hole
copper foil
epoxy resin
wiring board
printed wiring
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Application number
JP8614897A
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English (en)
Inventor
Nobuyuki Ogawa
信之 小川
Hiroshi Shimizu
浩 清水
Katsuji Shibata
勝司 柴田
Hiromi Takahashi
広美 高橋
Ayako Matsuo
亜矢子 松尾
Akishi Nakaso
昭士 中祖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】小さな穴径でも接続信頼性に優れた多層プリン
ト配線板の製造方法を提供すること。 【解決手段】銅箔1の粗化面に特定の熱硬化性エポキシ
樹脂組成物層2を設けた銅箔付きエポキシ接着フイルム
3に層間接続のための非貫通穴となる穴4をあけ、その
銅箔付きエポキシ接着フイルム3の熱硬化性エポキシ樹
脂組成物層2が予め準備した内層回路板5に接するよう
に重ね、前記銅箔付きエポキシ接着フイルム3の銅箔1
の外側に離形シート6と、鏡板を重ね、加熱加圧して積
層一体化し、非貫通穴部分にしみ出したエポキシ樹脂組
成物7を特定の樹脂エッチング液により除去し、非貫通
穴にめっきをおこなって内層回路と銅箔とを電気的に接
続すること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、多層プリント配線板の高密度化が
進展し、回路層と回路層の電気的接続を非貫通穴で接続
する方法が検討されており、このような例として、銅箔
の片面に絶縁接着層を設けた銅箔付き絶縁性接着フィル
ムに予め層間接続用の穴をあけたものを、内層回路板に
積層し、内層回路上の回路と銅箔付き絶縁性接着フィル
ムの銅箔を電気的に接続する方法が知られている。さら
に銅箔付き絶縁性接着フィルムの上に積層過程で塑性流
動するシートを重ね、予めあけた穴に絶縁層樹脂がしみ
出すことを防止する方法も知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記多層プリント配線
板の製造方法において、非貫通穴の穴径が大きいときに
は、絶縁層樹脂のしみ出しが少ないため、または上記塑
性流動するシートによりしみ出しを防止することによ
り、十分な電気的接続が可能であったが、さらに高密度
化した多層プリント配線板では、非貫通穴の穴径が20
0μm以下となるようなものまでの要求が高くなってお
り、塑性流動するシートによる絶縁層樹脂のしみ出し防
止は不十分であり、十分な電気的接続が不可能となって
いた。
【0004】本発明は、小さな穴径でも接続信頼性に優
れた多層プリント配線板の製造方法を提供することを目
的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の多層プリント配
線板の製造方法は、銅箔1の粗化面に、分子量が10
0,000以上のハロゲン化高分子量エポキシ重合体と
架橋剤と多官能エポキシ樹脂とを構成成分とする半硬化
状態の熱硬化性エポキシ樹脂組成物層2を設けた銅箔付
きエポキシ接着フイルム3に、層間接続のための非貫通
穴となる穴4をあけ、その銅箔付きエポキシ接着フイル
ム3の熱硬化性エポキシ樹脂組成物層2が予め準備した
内層回路板5に接するように重ね、前記銅箔付きエポキ
シ接着フイルム3の銅箔1の外側に離形シート6と、鏡
板を重ね、加熱加圧して積層一体化し、非貫通穴部分に
しみ出したエポキシ樹脂組成物7をアルカリ金属水酸化
物、アルコール系溶媒、アミド系溶媒よりなる樹脂エッ
チング液により除去し、非貫通穴にめっきをおこなって
内層回路と銅箔とを電気的に接続することを特徴とす
る。
【0006】
【発明の実施の形態】
(銅箔)本発明の銅箔付きエポキシ接着フイルムに用い
る銅箔には、電解方法または圧延方法で製造した、厚さ
12μm以上のものが使用できる。これよりも薄い銅箔
は、取り扱い性を向上させるためにキャリア層によって
支持されたものを使用することができる。
【0007】(熱硬化性エポキシ樹脂組成物層)本発明
に用いる分子量が100,000以上のハロゲン化高分
子量エポキシ重合体は、二官能エポキシ樹脂とハロゲン
化二官能フェノール類を二官能エポキシ樹脂とハロゲン
化二官能フェノール類の配合当量比をエポキシ基/フェ
ノール性水酸基=1/0.9〜1/1.1とし、触媒の
存在下、沸点が130℃以上のアミド系またはケトン系
溶媒中、反応固形分濃度50重量%以下で、加熱して重
合させて得られる。
【0008】二官能エポキシ樹脂は、分子内に二個のエ
ポキシ基をもつ化合物であればどのようなものでもよ
く、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキ
シ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂などがある。これらの
化合物の分子量はどのようなものでもよい。これらの化
合物は何種類かを併用することができる。また、二官能
エポキシ樹脂以外の成分が、不純物として含まれていて
も構わない。
【0009】ハロゲン化二官能フェノール類は、ハロゲ
ン原子および二個のフェノール性水酸基をもつ化合物で
あればどのようなものでもよく、例えば、単環二官能フ
ェノールであるヒドロキノン、レゾルシノール、カテコ
ール、多環二官能フェノールであるビスフェノールA、
ビスフェノールF、ナフタレンジオール類、ビ(ス)フ
ェノール類、これらのアルキル基置換体のハロゲン化物
などがある。これらの化合物の分子量はどのようなもの
でもよい。これらの化合物は何種類かを併用することが
できるし、ハロゲン化されていない二官能フェノール類
を併用してもよい。また、二官能フェノール類以外の成
分が、不純物として含まれていても構わない。
【0010】触媒はエポキシ基とフェノール性水酸基の
エーテル化反応を促進させるような触媒能をもつ化合物
であればどのようなものでもよく、例えばアルカリ金属
化合物、アルカリ土類金属化合物、イミダゾール類、有
機りん化合物、第二級アミン、第三級アミン、第四級ア
ンモニウム塩などがある。なかでもアルカリ金属化合物
が最も好ましい触媒であり、アルカリ金属化合物の例と
しては、ナトリウム、リチウム、カリウムの水酸化物、
有機酸塩、アルコラート、フェノラート、水素化物、ホ
ウ水素化物、アミドなどがある。これらの触媒は併用す
ることができる。
【0011】反応溶媒としてはアミド系またはケトン系
溶媒が好ましく、アミド系溶媒としては、沸点が130
℃以上で、原料となるエポキシ樹脂とフェノール類を溶
解すれば、特に制限はないが、例えばホルムアミド、N
−メチルホルムアミド、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N、N−
ジメチルアセトアミド、N、N、N’、N’−テトラメ
チル尿素、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリド
ン、カルバミド酸エステルなどがある。これらの溶媒は
併用することができる。また、ケトン系溶媒、エーテル
系溶媒などに代表されるその他の溶媒と併用しても構わ
ない。
【0012】重合体の合成条件としては、二官能エポキ
シ樹脂とハロゲン化二官能フェノール類の配合当量比
は、エポキシ基/フェノール性水酸基=1:0.9〜
1.1であることが望ましい。触媒の配合量は特に制限
はないが、一般にはエポキシ樹脂1モルに対して触媒は
0.0001〜0.2モル程度である。重合反応温度
は、60〜150℃であることが望ましい。60℃より
低いと高分子量化反応が著しく遅く、150℃より高い
と副反応が多くなり直鎖状に高分子量化としない。溶媒
を用いた重合反応の際の固形分濃度は50重量%以下で
あれば良いが、さらには30重量%以下にすることが望
ましい。
【0013】このようにして分子量が100,000以
上のハロゲン化高分子量エポキシ重合体が得られる。こ
の高分子量エポキシ重合体の架橋剤として、架橋剤の反
応性制御が容易でワニスの保存安定性が確保し易い、イ
ソシアネート類を他の活性水素を持つ化合物でマスク
(ブロック)したマスクイソシアネート類を用いること
ができる。イソシアネート類は分子内に二個以上のイソ
シアネート基を有するものであればどのようなものでも
よく、例えばフェノール類、オキシム類、アルコール類
などのマスク剤でマスクされたヘキサメチレンジイソシ
アネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートなど
が挙げられる。特に硬化物の耐熱性の向上のためフェノ
ール類でマスクされたイソホロンジイソシアネート、ト
リレンジイソシアネートが好ましい。この架橋剤の量は
高分子量エポキシ重合体のアルコール性水酸基1.0当
量に対し、イソシアネート基が0.1〜1.0当量にす
ることが好ましい。
【0014】多官能エポキシ樹脂としては、分子内に二
個以上のエポキシ基を持つ化合物であればどのようなも
のでもよく、例えば、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール
型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂などの
フェノール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂
や脂環式エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、グ
リシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型
エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、可と
う性エポキシ樹脂などであり、特にフェノール型エポキ
シ樹脂、またはフェノール型エポキシ樹脂と多官能エポ
キシ樹脂との混合物が耐熱性の向上のために好ましい。
この多官能エポキシ樹脂の量は高分子量エポキシ重合体
に対し、20〜100重量部にすることが好ましい。
【0015】これらの多官能エポキシ樹脂は、単独でま
たは二種類以上混合して用いても構わない。さらに、多
官能エポキシ樹脂の硬化剤および硬化促進剤を用いる。
エポキシ樹脂の硬化剤および硬化促進剤としては、ノボ
ラック型フェノール樹脂、ジシアンジアミド、酸無水
物、アミン類、イミダゾール類、フォスフィン類などが
挙げられる。また、これらを組み合わせて用いても構わ
ない。さらにシランカップリング剤を添加してもかまわ
ない。添加するシランカップリング剤としては、エポキ
シシラン、アミノシラン、尿素シラン等が好ましい。
【0016】(銅箔付きエポキシ接着フイルム)この熱
硬化性エポキシ樹脂組成物を、銅箔のマット面側に半硬
化状態の熱硬化性エポキシ樹脂組成物層2として設ける
には、この分子量が100,000以上のハロゲン化高
分子量エポキシ重合体と架橋剤と多官能エポキシ樹脂を
混合して接着剤ワニスとし、ブレードコータ、ナフコー
タ、スクイズコータ等の後計量系コーティング方式や、
リバースロールコータ、キスロールコータ、キャストコ
ータ、スプレーコータ、押し出しコータ等の前計量系コ
ーティング方式によって塗布し、溶剤を蒸発させながら
熱硬化性エポキシ樹脂組成物を半硬化させる。
【0017】また、上記の熱硬化性エポキシ樹脂組成物
ワニスを、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の支
持フィルム上に塗布し、溶剤を蒸発させながら熱硬化性
エポキシ樹脂組成物を半硬化させその支持フィルムを剥
離して、フイルム化したものを銅箔のマット面に貼り合
わせることもできる。この熱硬化性エポキシ樹脂組成物
層2は、2回以上に塗布・乾燥を行って形成したり、2
枚以上のフイルム化された熱硬化性エポキシ樹脂組成物
を用いて形成することもできる。
【0018】(非貫通穴となる穴)また、銅箔付きエポ
キシ接着フイルム3にあけた層間接続のための非貫通穴
となる穴4の所で、積層過程で、熱硬化性エポキシ樹脂
組成物層自身の流動、しみだしによって、積層体と鏡板
が接着してしまうことの防止が可能である。
【0019】(離型シート)この目的に合う離型シート
としては、例えば、厚さ25μmのテドラーシート(デ
ユポン社製、商品名)を用いることが好ましい。
【0020】(内層回路板)本発明の内層用両面配線板
としては、ガラスエポキシ銅張積層板や紙フェノール銅
張積層板、コンポジット銅張積層板、ポリイミド銅張積
層板等が使用できる。これらの銅張積層板に、ドリルで
貫通穴をあけた後、銅めっきを行い、不要な箇所の銅を
エッチング除去して、貫通穴付きの内層用両面配線板を
製造できる。また、このような方法にかならずしも限定
されるものではなく、めっき用触媒を内部に含有する絶
縁基板、あるいは絶縁基板の表面に無電解めっき用接着
剤を塗布した基板に、穴をあけ、回路を形成しない箇所
にめっきレジストを形成し、めっきを行うことによって
作製した、貫通穴を有する両面板も使用できる。
【0021】(エポキシ樹脂組成物の除去)本発明で用
いる樹脂エッチング液は、アルカリ金属水酸化物、アル
コール系溶媒、アミド系溶媒を配合、混合して調製す
る。ここでアルカリ金属水酸化物は、どのようなもので
もよく、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム等が
ある。これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムがエポキシ樹脂組成物のエッチング性が高いため、特
に好ましい。
【0022】ここでアルコール系溶媒は、どのようなも
のでもよく、例えばメタノール、エタノール、1−プロ
パノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブ
タノール、iso−ブタノール、tert−ブタノー
ル、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタ
ノール、2−メチル−1−ブタノール、iso−ペンチ
ルアルコール、tert−ペンチルアルコール、3−メ
チル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、1−
ヘキサノール、2−メチル−1−ペンタノール、4−メ
チル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノー
ル、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタ
ノール、シクロヘキサノール、1−メチルシクロヘキサ
ノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシ
クロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、エ
チレングリコール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエ
チルエーテル、テトラエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プ
ロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブ
タンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタ
ンジオール、1,5−ペンタンジオール、グリセリン、
ジプロピレングリコールなどがある。これらのうちジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコール、#300(この数字は、平均分子量を表し、
例えば、#300は、平均分子量が300であることを
いう。)以下のポリエチレングリコールがアルカリ金属
水酸化物の溶解性が高く、さらにエポキシ樹脂組成物の
エッチング性が高いために、特に好ましい。これらの溶
媒は、何種類かを併用することもできる。
【0023】ここでアミド系溶媒は、どのようなもので
もよく、例えばホルムアミド、N−メチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N
−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素、2−ピロ
リドン、N−メチル−2−ピロリドン、カルバミド酸エ
ステルなどがある。これらのうちN,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル
−2−ピロリドンがエポキシ樹脂組成物を膨潤させる効
果があり、分解物の溶解性が良好なために特に好まし
い。これらの溶媒は併用することができる。また、ケト
ン系溶媒、エーテル系溶媒などに代表されるその他の溶
媒と併用しても構わない。
【0024】ここで併用できるケトン系溶媒は、どのよ
うなものでもよく、例えばアセトン、エチルエチルケト
ン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノ
ン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘ
プタノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど
がある。
【0025】ここで併用できるエーテル系溶媒は、どの
ようなものでもよく、例えばジプロピルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、
フェネトール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどがあ
る。
【0026】樹脂エッチング液のアルカリ金属水酸化物
の濃度は、どのような濃度でもかまわないが、0.5〜
5重量%の範囲が好ましい。0.5重量%未満である
と、エポキシ樹脂硬化物の分解速度が低下するため好ま
しくなく、5重量%を超えるとアルカリ金属水酸化物が
完全に溶解できないので好ましくない。
【0027】樹脂エッチング液のアルコール系溶媒の濃
度は、どのような濃度でもかまわないが、4.5〜30
重量%の範囲が好ましい。4.5重量%未満であると、
アルカリ金属水酸化物が溶解できず、30重量%を超え
るとエポキシ樹脂組成物のエッチング性が低下するので
好ましくない。
【0028】樹脂エッチング液のアミド系溶媒の濃度
は、どのような濃度でもかまわないが、65〜95重量
%の範囲が好ましい。65重量%未満であると、エポキ
シ樹脂組成物のエッチング性が低下し、95重量%を超
えると結果としてアルカリ金属水酸化物の濃度やアルコ
ール系溶媒の濃度が低下するので好ましくない。
【0029】
【実施例】
実施例1 図1(a)に示すように、銅箔付きエポキシ接着フイル
ム3として、厚さ18μmの銅箔1の粗化面に厚さ50
μmの熱硬化性エポキシ樹脂組成物層2を塗布して形成
し、半硬化状態にしたMCF−3000E(日立化成工
業株式会社製、商品名)を準備する。この銅箔付きエポ
キシ接着フイルム3に、穴径0.15mmの非貫通穴と
なる穴4をドリルであけた。次に、予め準備した内層回
路板5と、穴あけした銅箔付きエポキシ接着フイルム3
と、銅箔付きエポキシ接着フイルム3の銅箔1面の外側
に、離形シート6として、厚さ25μmのテドラーシー
ト(デユポン社製、商品名)を、さらにその外側に厚さ
3mmのステンレス製鏡板を、これらの順番で重ね合わ
せ、温度170℃、圧力2.5MPaで60分間、加圧
加熱して積層一体化した後、鏡板を除去し、離形シート
6を剥がして、図1(b)に示す多層板を得た。次に、
非貫通穴部分にしみ出したエポキシ樹脂組成物7を、水
酸化ナトリウム3重量%、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル22重量%、N、N−ジメチルホルムアミ
ド75重量%からなる樹脂エッチング液に60℃、30
分浸漬させることにより、除去した。その後流水により
5分間洗浄し、70℃、10分間乾燥した(図1(c)
に示す。)。次に、図1(d)に示すように、穴径0.
3mmの貫通穴をドリルであけ、厚さ12μmの銅めっ
きを行った後、不要な箇所の銅をエッチング除去して外
層配線を形成して、図1(e)に示すように、表層に非
貫通穴を有する高密度の多層プリント配線板を得た。上
記多層プリント配線板において、非貫通穴の大きさは、
開口部の穴径が0.13mmであり、底部の穴径が0.
12mmであって、260℃で10秒ホットオイルに浸
漬し、20℃の水に10秒浸漬することを1サイクルと
するホットオイル試験を100サイクル行った後でも、
電気抵抗の上昇は10%以内であった。
【0030】実施例2 水酸化カリウム3重量%、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル22重量%、N,N−ジメチルホルムアミ
ド75重量%からなる樹脂エッチング液を使用した以
外、実施例1と同様の操作を行い、表層に非貫通穴を有
する高密度の多層プリント配線板を得た。上記多層プリ
ント配線板において、非貫通穴の大きさは、開口部の穴
径が0.13mmであり、底部の穴径が0.10mmで
あって、260℃で10秒ホットオイルに浸漬し、20
℃の水に10秒浸漬することを1サイクルとするホット
オイル試験を100サイクル行った後でも、電気抵抗の
上昇は10%以内であった。
【0031】実施例3 水酸化ナトリウム3重量%、トリエチレングリコール2
7重量%、N、N−ジメチルホルムアミド70重量%か
らなる樹脂エッチング液を使用した以外、実施例1と同
様の操作を行い、表層に非貫通穴を有する高密度の多層
プリント配線板を得た。上記多層プリント配線板におい
て、非貫通穴の大きさは、開口部の穴径が0.13mm
であり、底部の穴径が0.10mmであって、260℃
で10秒ホットオイルに浸漬し、20℃の水に10秒浸
漬することを1サイクルとするホットオイル試験を10
0サイクル行った後でも、電気抵抗の上昇は10%以内
であった。
【0032】実施例4 水酸化ナトリウム3重量%、#300ポリエチレングリ
コール27重量%、N、N−ジメチルホルムアミド70
重量%からなる樹脂エッチング液を使用した以外、実施
例1と同様の操作を行い、表層に非貫通穴を有する高密
度の多層プリント配線板を得た。上記多層プリント配線
板において、非貫通穴の大きさは、開口部の穴径が0.
13mmであり、底部の穴径が0.08mmであって、
260℃で10秒ホットオイルに浸漬し、20℃の水に
10秒浸漬することを1サイクルとするホットオイル試
験を100サイクル行った後でも、電気抵抗の上昇は1
0%以内であった。
【0033】実施例5 水酸化ナトリウム3重量%、ジエチレングリコールモノ
チルエーテル22重量%、N、N−ジメチルアセトアミ
ド75重量%からなる樹脂エッチング液を使用した以
外、実施例1と同様の操作を行い、表層に非貫通穴を有
する高密度の多層プリント配線板を得た。上記多層プリ
ント配線板において、非貫通穴の大きさは、開口部の穴
径が0.13mmであり、底部の穴径が0.08mmで
あって、260℃で10秒ホットオイルに浸漬し、20
℃の水に10秒浸漬することを1サイクルとするホット
オイル試験を100サイクル行った後でも、電気抵抗の
上昇は10%以内であった。
【0034】実施例6 水酸化ナトリウム3重量%、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル22重量%、N −メチル−2−ピロリ
ドン75重量%からなる樹脂エッチング液を使用した以
外、実施例1と同様の操作を行い、表層に非貫通穴を有
する高密度の多層プリント配線板を得た。上記多層プリ
ント配線板において、非貫通穴の大きさは、開口部の穴
径が0.13mmであり、底部の穴径が0.10mmで
あって、260℃で10秒ホットオイルに浸漬し、20
℃の水に10秒浸漬することを1サイクルとするホット
オイル試験を100サイクル行った後でも、電気抵抗の
上昇は10%以内であった。
【0035】比較例1 離形シートを使用せず、積層過程で塑性流動する厚さ1
50μmのオピュランシート(三井石油化学工業株式会
社製、商品名)を使用し、非貫通部分の樹脂しみ出しを
防止し、樹脂エッチング液を使用しなかった以外、実施
例1と同様の操作を行った。得られた非貫通穴を確認し
たところ、樹脂のしみ出しを防止することができず、内
層回路との接続ができなかった。
【0036】比較例2 樹脂エッチング液を使用せず、アルカリ過マンガン酸溶
液を使用してしみ出したエポキシ樹脂組成物の除去を行
なったこと以外、実施例1と同様の操作を行った。得ら
れた非貫通穴を確認したところ、しみ出した樹脂を除去
することができず、内層回路との接続ができなかった。
【0037】
【発明の効果】本発明の多層プリント配線板の製造方法
により、表層に200μm以下の非貫通穴を有する高密
度の多層プリント配線板の製造が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)〜(e)は、それぞれ本発明の一実施例
を説明するための各製造工程を示す断面図である。
【符号の説明】
1.銅箔 2.熱硬化性エポキシ樹脂組成物層 3.銅箔付きエポキシ接着フイルム 4.非貫通穴となる穴 5.内層回路板 6.離形シート 7.非貫通穴内にしみ出したエポキシ樹脂組成物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 広美 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 松尾 亜矢子 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 中祖 昭士 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】銅箔(1)の粗化面に、分子量が100,
    000以上のハロゲン化高分子量エポキシ重合体と架橋
    剤と多官能エポキシ樹脂とを構成成分とする半硬化状態
    の熱硬化性エポキシ樹脂組成物層(2)を設けた銅箔付
    きエポキシ接着フイルム(3)に、層間接続のための非
    貫通穴となる穴(4)をあけ、その銅箔付きエポキシ接
    着フイルム(3)の熱硬化性エポキシ樹脂組成物層
    (2)が予め準備した内層回路板(5)に接するように
    重ね、前記銅箔付きエポキシ接着フイルム(3)の銅箔
    (1)の外側に離形シート(6)と、鏡板を重ね、加熱
    加圧して積層一体化し、非貫通穴部分にしみ出したエポ
    キシ樹脂組成物(7)をアルカリ金属水酸化物、アルコ
    ール系溶媒、アミド系溶媒よりなる樹脂エッチング液に
    より除去し、非貫通穴にめっきをおこなって内層回路と
    銅箔とを電気的に接続することを特徴とする多層プリン
    ト配線板の製造方法。
  2. 【請求項2】非貫通穴となる穴(4)の穴径が、200
    μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の多層
    プリント配線板の製造方法。
  3. 【請求項3】樹脂エッチング液のアルカリ金属水酸化物
    が、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであり、
    0.5〜5重量%の濃度で樹脂エッチング液中に存在す
    ることを特徴とする請求項1または2に記載の多層プリ
    ント配線板の製造方法。
  4. 【請求項4】樹脂エッチング液のアルコール系溶媒が、
    ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレ
    ングリコール、#300以下のポリエチレングリコール
    またはこれらの組み合わせからなる群から選ばれ、4.
    5〜30重量%の濃度で樹脂エッチング液中に存在する
    ことを特徴とする請求項1〜3のうちいずれかに記載の
    多層プリント配線板の製造方法。
  5. 【請求項5】樹脂エッチング液のアミド系溶媒がN,N
    −ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
    ド、N−メチル−2−ピロリドンまたはこれらの組み合
    わせからなる群から選ばれ、65〜95重量%の濃度で
    樹脂エッチング液中に存在することを特徴とする請求項
    1〜4のうちいずれかに記載の多層プリント配線板の製
    造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6739040B1 (en) * 1999-10-28 2004-05-25 Ajinomoto Co., Inc. Method of manufacturing multilayered printed wiring board using adhesive film
KR100699916B1 (ko) * 2006-04-12 2007-03-28 이기주 열효율 향상을 위한 욕탕 및 난방 제어시스템

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