JP2024036600A - マウント装置およびマウント方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】主搬送部の稼働率を改善する。
【解決手段】粘着テープを基板とフレームとに貼合させることで、前記粘着テープを介して前記基板が前記フレームに装着された装着物を形成するマウント部を備えたマウント装置において、前記マウント部は、前記装着物とされる前の前記基板を収納した搬入カセットが外部から搬入される搬入部と、前記装着物を収納した搬出カセットが外部に搬出される搬出部とに隣接する主搬送路に隣接して設けられ、当該主搬送路に沿って移動する主搬送部によって前記搬入カセットから取り出された前記基板を受け取って前記装着物を形成し、前記マウント部で形成された前記装着物が前記主搬送部によって前記搬出カセットに収納される。
【選択図】図1
【解決手段】粘着テープを基板とフレームとに貼合させることで、前記粘着テープを介して前記基板が前記フレームに装着された装着物を形成するマウント部を備えたマウント装置において、前記マウント部は、前記装着物とされる前の前記基板を収納した搬入カセットが外部から搬入される搬入部と、前記装着物を収納した搬出カセットが外部に搬出される搬出部とに隣接する主搬送路に隣接して設けられ、当該主搬送路に沿って移動する主搬送部によって前記搬入カセットから取り出された前記基板を受け取って前記装着物を形成し、前記マウント部で形成された前記装着物が前記主搬送部によって前記搬出カセットに収納される。
【選択図】図1
Description
本開示は、マウント装置およびマウント方法に関する。
近年、半導体装置の小型化や軽量化の要求に応えるため、半導体ウエハなどの基板の第1主表面に素子、回路、端子などを形成した後、基板の第1主表面とは反対側の第2主表面を研削して、基板を薄板化することが行われる。薄板化の後または薄板化の前に、ダイシングが行われる。
薄板化やダイシングなどの加工が行われる間、基板の第1主表面は保護テープで保護される。保護テープとしては、紫外線を照射することにより、粘着力を低下するものが用いられる。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープを基板から剥離できる。
紫外線を保護テープに照射した後、保護テープを基板から剥離する前に、基板は保護テープとは別の粘着テープを介してフレームに装着される。粘着テープは、環状のフレームの開口部を覆うようにフレームに装着され、フレームの開口部において基板の第2主表面に貼合される。
特許文献1の装置は、ウエハの裏面を研削する加工部と、ウエハの表面を保護する保護テープに紫外線を照射するUV照射部と、ウエハの裏面に貼付される粘着テープを介してウエハをフレームに装着するマウント部と、保護テープをウエハから剥離する剥離部とを有する。
本開示の一態様は、主搬送部の稼働率を改善する、技術を提供する。
本発明では、請求項に記載した構成を採用した。
本開示の一態様によれば、主搬送部の稼働率を改善できる。
以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。以下の説明において、X方向、Y方向、Z方向は互いに垂直な方向であり、X方向およびY方向は水平方向、Z方向は鉛直方向である。鉛直軸を回転中心とする回転方向をθ方向とも呼ぶ。本明細書において、下方とは鉛直方向下方を意味し、上方とは鉛直方向上方を意味する。
図1は、一実施形態による基板処理システムによる処理前の基板を示す斜視図である。基板10は、例えば半導体基板、サファイア基板などである。基板10の第1主表面11は格子状に形成された複数のストリートで区画され、区画される各領域には予め素子、回路、端子などが形成される。格子状に形成された複数のストリートに沿って基板10を分割することで、チップ13(図2参照)が得られる。
基板10の第1主表面11には、保護テープ14が貼合される。保護テープ14は、ダイシングや薄板化などの加工が行われる間、基板10の第1主表面11を保護して、第1主表面11に予め形成された素子、回路、端子などを保護する。保護テープ14は、基板10の第1主表面11の全体を覆う。
保護テープ14は、シート基材と、シート基材の表面に塗布された粘着剤とで構成される。その粘着剤は、紫外線を照射すると硬化して、粘着力を低下するものであってよい。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープ14を基板10から剥離できる。
図2は、一実施形態による基板処理システムによる処理後の基板を示す斜視図である。基板10は、ダイシングされ薄板化されたうえで、粘着テープ18を介してフレーム19に装着される。尚、図1に示す保護テープ14は、基板10から剥離され、除去される。
粘着テープ18は、シート基材と、シート基材の表面に塗布された粘着剤とで構成される。粘着テープ18は、環状のフレーム19の開口部を覆うようにフレーム19に装着され、フレーム19の開口部において基板10と貼合される。これにより、フレーム19を保持して基板10を搬送でき、基板10のハンドリング性を向上できる。
粘着テープ18と基板10との間には、図2に示すようにDAF(Die Attach Film)15が設けられてもよい。DAF15は、ダイボンディング用の接着シートである。DAF15は、チップ13の積層などに用いられる。DAF15は、導電性、絶縁性のいずれでもよい。
DAF15は、フレーム19の開口部よりも小さく形成され、フレーム19の内側に設けられる。DAF15は、基板10の第2主表面12の全体を覆う。尚、チップ13の積層が行われない場合、DAF15は不要であるので、基板10は粘着テープ18のみを介してフレーム19に装着されてよい。
図3は、一実施形態による基板処理システムを示す平面図である。図3において、搬入カセット35および搬出カセット45を破断して、搬入カセット35の内部および搬出カセット45の内部を図示する。図3において、矢印は、マウント部500を備えたマウント装置や剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。
基板処理システム1は、基板10のダイシング、基板10の薄板化、保護テープ14に対する紫外線照射、基板10のマウント、基板10からの保護テープ14の剥離、フレーム19に対するID貼付などの各種の処理を行う。
基板処理システム1は、制御部20と、搬入部30と、搬出部40と、主搬送路50と、主搬送部58と、各種の処理部とを備える。処理部としては、特に限定されないが、例えば、ダイシング部100、薄板化部200、紫外線照射部400、マウント部500、剥離部600およびID貼付部700が設けられる。
制御部20は、例えばコンピュータで構成され、図3に示すようにCPU(Central Processing Unit)21と、メモリなどの記憶媒体22と、入力インターフェース23と、出力インターフェース24とを有する。制御部20は、記憶媒体22に記憶されたプログラムをCPU21に実行させることにより、各種の制御を行う。また、制御部20は、入力インターフェース23で外部からの信号を受信し、出力インターフェース24で外部に信号を送信する。
制御部20のプログラムは、情報記憶媒体に記憶され、情報記憶媒体からインストールされる。情報記憶媒体としては、例えば、ハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどが挙げられる。尚、プログラムは、インターネットを介してサーバからダウンロードされ、インストールされてもよい。
搬入部30は、処理前の基板10を収納した搬入カセット35が外部から搬入されるものである。搬入カセット35は、例えば粘着テープ18を介してフレーム19に装着される前の基板10を、Z方向に間隔をおいて複数収納する。
搬入カセット35は、複数枚の基板10をZ方向に間隔をおいて収納するため、水平に配置される一対の収納板36をZ方向に間隔をおいて複数有する。一対の収納板36は、図3に示すように、基板10のY方向両端部を支持する。
搬入カセット35は、保護テープ14の捲れなどの変形を抑制するため、保護テープ14を上に向けて基板10を水平に収納してよい。搬入カセット35から取り出された基板10は、上下反転されたうえで、ダイシング部100などの処理部に搬送される。
搬入部30は、搬入カセット35が載置される載置板31を備える。載置板31は、Y方向に一列に複数設けられる。尚、載置板31の個数は、図示のものに限定されない。
搬出部40は、処理後の基板10を収納した搬出カセット45が外部に搬出されるものである。搬出カセット45は、例えば粘着テープ18を介してフレーム19に装着された後の基板10を、Z方向に間隔をおいて複数収納する。
搬出カセット45は、複数枚の基板10をZ方向に間隔をおいて収納するため、水平に配置される一対の収納板46をZ方向に間隔をおいて複数有する。一対の収納板46は、図3に示すように、フレーム19のY方向両端部を支持する。
搬出部40は、搬出カセット45が載置される載置板41を備える。載置板41は、Y方向に一列に複数設けられる。尚、載置板41の個数は、図示のものに限定されない。
主搬送路50は、主搬送部58が搬入部30、搬出部40および複数の処理部に対し基板10を搬送する通路であり、例えばY方向に延びている。主搬送路50にはY方向に延びるY軸ガイド51が設けられ、Y軸ガイド51に沿ってY軸スライダ52が移動自在とされる。
主搬送部58は、基板10を保持すると共に主搬送路50に沿って移動し、基板10を搬送する。主搬送部58は、フレーム19を介して基板10を保持してもよい。主搬送部58は、基板10やフレーム19を真空吸着するが、静電吸着してもよい。主搬送部58は、搬送基体としてのY軸スライダ52などを含み、Y方向に沿って移動する。主搬送部58は、Y方向のみならず、X方向、Z方向およびθ方向にも移動可能とされる。
主搬送部58は、基板10を保持する保持部を複数有してよい。複数の保持部は、Z方向に間隔おいて並んで設けられる。複数の保持部は、基板10の処理段階に応じて、使い分けられてよい。
例えば、主搬送部58は、搬入カセット35からの基板10の取り出しに用いられる第1保持部と、ダイシングや薄板化などの加工によって強度が低下した基板10の搬送に用いられる第2保持部とを有する。第2保持部は、フレーム19に装着される前の基板10の搬送に用いられてよい。この場合、主搬送部58は、フレーム19に装着された後の基板10の搬送に用いられる第3保持部をさらに有してよい。第3保持部は、フレーム19を介して基板10を保持する。
搬入部30、搬出部40および複数の処理部は、鉛直方向視で主搬送路50に隣接して設けられる。例えば、主搬送路50の長手方向はY方向とされる。主搬送路50のX方向片側(図3において左側、以下、「前側」とも呼ぶ。)に、搬入部30と搬出部40が隣接して設けられる。また、主搬送路50のX方向反対側(図3において右側、以下、「後側」とも呼ぶ。)に、ダイシング部100、薄板化部200、剥離部600およびID貼付部700が隣接して設けられる。剥離部600とID貼付部700とはZ方向に積層され、ID貼付部700は剥離部600の上方に剥離部600と重ねて設けられる。さらに、主搬送路50のY方向一端部に、マウント部500が隣接して設けられる。マウント部500と紫外線照射部400とはZ方向に積層され、紫外線照射部400はマウント部500の上方にマウント部500と重ねて設けられる。
本実施形態によれば、搬入部30および複数の処理部は、主搬送路50に隣接して設けられる。そのため、主搬送部58は、搬入部30および複数の処理部に対し基板10を受け渡すことができる。これにより、主搬送部58を多機能化して、主搬送部58の仕事量を増やすことができ、主搬送部58の稼働率を改善できる。
また、本実施形態によれば、搬出部40も主搬送路50に隣接して設けられる。そのため、主搬送部58は、搬出部40に対し基板10を引き渡すことができる。これにより、主搬送部58をさらに多機能化して、主搬送部58の仕事量をさらに増やすことができ、主搬送部58の稼働率をさらに改善できる。また、複数の処理部と搬出部40とが主搬送路50に隣接して設けられるため、一の処理部で基板10に異常が生じた場合に、異常が生じた基板10を他の処理部に搬送することなく搬出部40に速やかに搬送できる。
尚、処理部の配置や個数は、図3に示す配置や個数に限定されず、任意に選択可能である。また、複数の処理部は、任意の単位で、分散または統合して配置してもよい。以下、各処理部について説明する。
図4は、一実施形態によるダイシング部を示す図である。ダイシング部100は、基板10のダイシングを行う。本明細書において、基板10のダイシングとは、基板10を複数のチップ13に分割するための加工を意味し、基板10を分割すること、基板10に分割の起点を形成することを含む。ダイシング部100は、例えば、ダイシングテーブル110と、基板加工部120と、移動機構部130とを有する。
ダイシングテーブル110は、保護テープ14を介して基板10を保持する。例えば、ダイシングテーブル110は、基板10の第2主表面12を上に向けて、基板10を水平に保持する。ダイシングテーブル110としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。
基板加工部120は、例えばダイシングテーブル110で保持されている基板10のダイシングを行う。基板加工部120は、例えばレーザ発振器121と、レーザ発振器121からのレーザ光線を基板10に照射する光学系122とを有する。光学系122は、レーザ発振器121からのレーザ光線を基板10に向けて集光する集光レンズなどで構成される。
移動機構部130は、ダイシングテーブル110と基板加工部120とを相対的に移動させる。移動機構部130は、例えばダイシングテーブル110をX方向、Y方向、Z方向およびθ方向に移動させるXYZθステージ等で構成される。
制御部20は、基板加工部120および移動機構部130を制御して、基板10のストリートに沿って基板10のダイシングを行う。図4に示すように基板10の内部に破断の起点となる改質層2を形成してもよいし、基板10のレーザ照射面(例えば図4では上面)にレーザ加工溝を形成してもよい。レーザ加工溝は、基板10を板厚方向に貫通してもよいし貫通しなくてもよい。
基板10の内部に改質層2を形成する場合、基板10に対し透過性を有するレーザ光線が用いられる。改質層2は、例えば基板10の内部を局所的に溶融、固化させることにより形成される。一方、基板10のレーザ照射面にレーザ加工溝を形成する場合、基板10に対し吸収性を有するレーザ光線が用いられる。
尚、基板加工部120は、本実施形態ではレーザ光線を基板10に照射するレーザ発振器121を有するが、基板10を切削する切削ブレードを有してもよいし、基板10の表面にスクライブ溝を形成するスクラバーを有してもよい。
尚、ダイシング部100は、本実施形態では基板処理システム1の一部として設けられるが、基板処理システム1の外部に設けられてもよい。この場合、基板10は、ダイシングされたうえで、外部から搬入部30に搬入され、搬入部30において搬入カセット35から取り出され、ダイシング部100の代わりに、薄板化部200に搬送される。
薄板化部200(図3参照)は、ダイシングされた基板10の保護テープ14で保護されている第1主表面11とは反対側の第2主表面12を加工することにより、基板10を薄板化する。
ダイシング部100で分割の起点を形成する場合、薄板化部200で基板10に加工応力が作用することにより、分割の起点から板厚方向にクラックが進展し、基板10が複数のチップ13に分割される。
また、ダイシング部100で基板10の内部に改質層2を形成する場合、薄板化部200で基板10を薄板化することにより、改質層2が除去される。
薄板化部200は、例えば図3に示すように、回転テーブル201と、チャックテーブル202と、粗研削部210と、仕上げ研削部220と、ダメージ層除去部230とを有する。
回転テーブル201は、回転テーブル201の中心線を中心に回転させられる。回転テーブル201の回転中心線の周りには、複数(例えば図3では4つ)のチャックテーブル202が等間隔で配設される。
複数のチャックテーブル202は、回転テーブル201と共に、回転テーブル201の中心線を中心に回転する。回転テーブル201の中心線は、鉛直とされる。回転テーブル201が回転する度に、粗研削部210、仕上げ研削部220およびダメージ層除去部230と向かい合うチャックテーブル202が変更される。
各チャックテーブル202は、保護テープ14を介して基板10を保持する。チャックテーブル202は、基板10の第2主表面12を上に向けて、基板10を水平に保持する。チャックテーブル202としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。
図5は、一実施形態による薄板化部の粗研削部を示す図である。粗研削部210は、基板10の粗研削を行う。粗研削部210は、例えば図5に示すように、回転砥石211を有する。回転砥石211は、その中心線を中心に回転させられると共に下降され、チャックテーブル202で保持されている基板10の上面(つまり第2主表面12)を加工する。
仕上げ研削部220は、基板10の仕上げ研削を行う。仕上げ研削部220の構成は、粗研削部210の構成とほぼ同様である。但し、仕上げ研削部220の回転砥石の砥粒の平均粒径は、粗研削部210の回転砥石の砥粒の平均粒径よりも小さい。
ダメージ層除去部230は、粗研削や仕上げ研削などの研削によって基板10の第2主表面12に形成されたダメージ層を除去する。例えば、ダメージ層除去部230は、基板10に対して処理液を供給してウェットエッチング処理を行い、ダメージ層を除去する。尚、ダメージ層の除去方法は特に限定されない。
尚、薄板化部200は、基板10の研磨を行う研磨部を有してもよい。研磨部の構成は、粗研削部210の構成とほぼ同様である。基板10の研磨としては、例えばCMP(Chemical Mechanical Polishing)などが挙げられる。また、薄板化部200は、不純物を捕獲するゲッタリングサイト(例えば結晶欠陥や歪み)を形成するゲッタリング部を有してもよい。チャックテーブル202の数は、図3では4つであるが、加工の種類の数に応じて適宜変更される。また、一の加工部(例えばダメージ層除去部230)が、複数種類の加工(例えばダメージ層除去とゲッタリングサイト形成)を行ってもよい。
図6は、一実施形態による紫外線照射部を示す図である。紫外線照射部400は、ダイシングされ薄板化された基板10を保護する保護テープ14に紫外線を照射する。保護テープ14の粘着剤を紫外線の照射によって硬化でき、保護テープ14の粘着力を低下できる。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープ14を基板10から剥離できる。
紫外線照射部400は、保護テープ14で保護された基板10が搬入される筐体の内部に、UVランプ410を有する。UVランプ410は、保護テープ14を基準として基板10とは反対側から、保護テープ14に紫外線を照射する。
図7は、一実施形態によるマウント部を示す図である。図7において、二点鎖線は粘着テープ18およびDAF15のマウント後の状態を示す。マウント部500は、基板10を基準として紫外線照射後の保護テープ14とは反対側に設けられる粘着テープ18を介して、基板10をフレーム19に装着する。粘着テープ18は、環状のフレーム19の開口部を覆うようにフレーム19に装着され、フレーム19の開口部において基板10と貼合される。
マウント部500は、ダイシングされ薄板化された基板10を、粘着テープ18のみを介してフレーム19に装着してもよいが、図7では予め積層された粘着テープ18およびDAF15を介してフレーム19に装着する。DAF15は、フレーム19の開口部よりも小さく形成され、フレーム19の内側に設けられる。DAF15は、基板10の第2主表面12の全体を覆う。
マウント部500は、例えば、基板10およびフレーム19を保持するマウントテーブル510と、マウントテーブル510で保持されているフレーム19に対し粘着テープ18を介して基板10を装着するラミネート用ローラ520とを有する。
マウントテーブル510は、フレーム19と、フレーム19の開口部に配される基板10とを平行に保持する。フレーム19および基板10は、水平に保持されてよい。フレーム19の上面と基板10の上面とは、DAF15の厚さと同程度の高低差を有してよい。尚、DAF15が用いられない場合、フレーム19の上面と基板10の上面とは同一平面上に配されてよい。
粘着テープ18などは、芯に巻き取られた状態で供給され、芯から引き出して使用される。粘着テープ18は、張力によってラミネート用ローラ520に抱き付きながらラミネート用ローラ520と基板10との間を通過し、基板10に積層される。また、粘着テープ18は、張力によってラミネート用ローラ520に抱き付きながらラミネート用ローラ520とフレーム19との間を通過し、フレーム19に積層される。
マウント部500は、図7に示すように、粘着テープ18を、フレーム19の一端側から他端側に向けて順次、フレーム19および基板10と貼合させる。これにより、空気の噛み込みなどを抑制できる。また、粘着テープ18を基板10と貼合させる間、基板10平坦に保持するため、基板10の破損を抑制できる。
図8は、一実施形態による剥離部を示す図である。図8において、二点鎖線は保護テープ14の剥離前の状態を示す。剥離部600は、粘着テープ18を介してフレーム19に装着した基板10から、保護テープ14を剥離する。不要になった保護テープ14を除去できる。剥離部600は、例えば剥離テーブル610と、剥離用ローラ620とを有する。
保護テープ14は、張力によって剥離用ローラ620に抱き付きながら剥離用ローラ620と基板10との間を通過し、基板10から剥離される。この間、剥離テーブル610は、粘着テープ18などを介して基板10およびフレーム19を平坦に保持する。基板10から剥離された保護テープ14は、不図示の巻取芯に巻き取られる。
剥離部600は、図8に示すように、保護テープ14を、基板10の一端側から他端側に向けて順次変形させながら、基板10から剥離する。これにより、保護テープ14と基板10とを円滑に剥離できる。また、保護テープ14と基板10とを剥離する間、基板10を平坦に保持するため、基板10の破損を抑制できる。
尚、剥離部600は、保護テープ14と基板10とを平行に剥離してもよい。
図9は、一実施形態によるID貼付部を示す図である。ID貼付部700は、保護テープ14を剥離した基板10の識別情報16(図2参照)を読み取り、読み取った識別情報16をラベル17(図2参照)に印刷し、印刷したラベル17をフレーム19に貼付する。識別情報16は、基板10を識別する情報であって、数字や文字、記号、1次元コード、2次元コードなどで表される。
ID貼付部700は、例えば、ID貼付テーブル710と、読取装置720と、ラベル印刷装置730とを有する。ID貼付テーブル710は、粘着テープ18などを介して基板10およびフレーム19を保持する。読取装置720は、基板10に予め形成された識別情報16を読み取る。ラベル印刷装置730は、読取装置720で読み取った識別情報16をラベル17に印刷し、印刷したラベル17をラミネータなどでフレーム19に貼付する。ラベル17に印刷する識別情報16と、基板10に予め形成された識別情報16とは、図2に示すように同じ内容を異なる形式で表されてよい。
次に、上記構成の基板処理システム1を用いた基板処理方法について説明する。図10は、一実施形態による基板処理方法のフローチャートである。
図10に示すように基板処理方法は、搬入工程S101と、ダイシング工程S102と、薄板化工程S103と、紫外線照射工程S104と、マウント工程S105と、剥離工程S106と、ID貼付工程S107と、搬出工程S108とを有する。これらの工程は、制御部20による制御下で実施される。尚、これらの工程の順序は、図10に示す順序には限定されない。例えば、薄板化工程S103の後に、ダイシング工程S102が行われてもよい。
搬入工程S101では、主搬送部58が、搬入部30に置かれた搬入カセット35から基板10を取り出し、取出した基板10をダイシング部100に搬送する。
ダイシング工程S102では、図4に示すように、ダイシング部100が、基板10のダイシングを行う。基板10のダイシングが行われる間、基板10の第1主表面11は保護テープ14で保護される。ダイシング部100においてダイシングされた基板10は、主搬送部58によって薄板化部200に搬送される。
薄板化工程S103では、図5に示すように、薄板化部200が、基板10の第2主表面12を加工することにより、基板10を薄板化する。基板10の薄板化が行われる間、基板10の第1主表面11は保護テープ14で保護される。薄板化部200において薄板化された基板10は、主搬送部58によって後述の受渡部300に搬送された後、後述の第1副搬送部910によって紫外線照射部400に搬送される。
紫外線照射工程S104では、図6に示すように、紫外線照射部400が、保護テープ14に紫外線を照射する。保護テープ14の粘着剤を紫外線の照射によって硬化でき、保護テープ14の粘着力を低下できる。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープ14を基板10から剥離できる。
紫外線照射工程S104は、マウント工程S105の後に行われてもよいが、本実施形態ではマウント工程S105の前に行われる。これにより、マウント工程S105で基板10と貼合される粘着テープ18の紫外線照射による劣化を防止できる。紫外線照射部400において紫外線照射された保護テープ14が付いた基板10は、後述の第1副搬送部910によってマウント部500に搬送される。
マウント工程S105では、図7に示すように、マウント部500が、ダイシングされ薄板化された基板10を、粘着テープ18を介してフレーム19に装着する。マウント部500は、ダイシングされ薄板化された基板10を、粘着テープ18のみを介してフレーム19に装着してもよいが、本実施形態では予め積層された粘着テープ18およびDAF15を介してフレーム19に装着する。マウント部500において粘着テープ18を介してフレーム19に装着された基板10は、後述の第2副搬送部920によって剥離部600に搬送される。
剥離工程S106では、図8に示すように、剥離部600が、マウント部500によって粘着テープ18を介してフレーム19に装着された基板10から、保護テープ14を剥離する。不要になった保護テープ14を除去できる。剥離部600において保護テープ14が剥離された基板10は、後述の第3副搬送部930によってID貼付部700に搬送される。
ID貼付工程S107では、図9に示すように、ID貼付部700が、基板10に予め形成された識別情報16(図2参照)を読み取り、読み取った識別情報16をラベル17(図2参照)に印刷し、印刷したラベル17をフレーム19に貼付する。
搬出工程S108では、主搬送部58が、ID貼付部700から搬出部40に基板10を搬送し、搬出部40において搬出カセット45の内部に基板10を収納する。搬出カセット45は、搬出部40から外部に搬出される。搬出カセット45と共に外部に搬出された基板10は、チップ13ごとにピックアップされる。このようにして、チップ13が製造される。
図11は、一実施形態による基板処理システムの要部を示す平面図である。図12は、一実施形態によるマウント部ならびにマウント部の上方にマウント部と重ねて設けられる紫外線照射部および受渡部を示す側面図である。図13は、一実施形態による剥離部および剥離部の上方に剥離部と重ねて設けられるID貼付部を示す側面図である。図11~図13において、矢印は、マウント部500や剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。
基板処理システム1は、マウント部500を備える。マウント部500は、図12に示すように、例えば、マウントテーブル510と、ラミネート用ローラ520と、マウントテーブルガイド530と、フレーム供給部540と、フレーム搬送部550とを有する。
マウントテーブルガイド530は、図11に示すように、X方向に延びており、Y方向に間隔をおいて一対設けられる。一対のマウントテーブルガイド530に沿ってマウントテーブル510が移動可能とされる。マウントテーブル510を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータが用いられる。
図12に示すように、マウントテーブルガイド530の後側の端部の上方にはラミネート用ローラ520が設けられ、マウントテーブルガイド530の前側の端部の下方にはフレーム供給部540が設けられる。フレーム供給部540は、基板10を装着する前のフレーム19を収納したフレームカセット541が外部から搬入されるものである。フレームカセット541は、フレーム19をZ方向に複数並べて収納する。尚、フレームカセット541は無くてもよく、作業員がフレーム19をフレーム供給部540にセットしてもよい。フレーム19は、複数枚ずつ複数回に分けて、フレーム供給部540にセットされてよい。
図3に示すように、主搬送路50の幅方向片側(前側)に搬入部30および搬出部40が設けられ、マウント部500は主搬送路50の長手方向一端部に隣接して設けられてよい。この場合、図12に示すように、フレーム供給部540には、前側からフレームカセット541が搬入されてよい。処理前の物品(基板10やフレーム19)が前側から搬入され、処理後の物品(基板10を装着したフレーム19)が前側に搬出される。物品の搬入出を前側に集中でき、メンテナンス性や搬送効率を向上できる。
フレーム搬送部550は、フレーム供給部540に置かれたフレームカセット541からフレーム19を取り出し、取り出したフレーム19をマウントテーブル510に載置する。フレーム搬送部550は、例えばZ方向視で一対のマウントテーブルガイド530の間に配され、Z方向に移動可能とされる。フレーム搬送部550を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。
フレーム搬送部550は、フレーム19を吸着する吸着部559を有する。吸着部559は、例えばX方向に間隔をおいて複数設けられ、フレーム19のX方向両端部を吸着する。吸着部559は吸引孔を有する。吸引孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて吸着部559に負圧を生じさせることで、フレーム搬送部550がフレーム19を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ吸引孔を大気開放することで、フレーム搬送部550がフレーム19の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、フレーム搬送部550に正圧を生じさせてもよい。本明細書において、負圧とは大気圧よりも低い圧力のことであり、正圧とは大気圧よりも高い圧力のことである。
マウントテーブル510は、マウントテーブルガイド530の主搬送路50側(前側)の端部において、フレーム搬送部550からフレーム19を受け取る。具体的には、先ず、フレーム搬送部550が図12に実線で示す位置から図12に二点鎖線で示す位置に上昇させられ、Y方向に間隔をおいて設けられる一対のマウントテーブルガイド530の間をZ方向に通過する。このとき、マウントテーブル510は、フレーム搬送部550の上昇を妨げない退避位置で待機している。その後、フレーム搬送部550の直下にマウントテーブル510が移動されると、フレーム搬送部550が下降され、フレーム搬送部550で保持されているフレーム19がマウントテーブル510に載置される。
その後、マウントテーブル510は、主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、ラミネート用ローラ520の真下に向けて移動される途中で、後述の第1副搬送部910から基板10を受け取る。基板10はフレーム19の開口部に配され、マウントテーブル510は保護テープ14を介して基板10を保持する。
その後、マウントテーブル510は、さらに主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、ラミネート用ローラ520の真下に向けて移動される。ラミネート用ローラ520は、図7に示すようにマウントテーブル510に載置されたフレーム19およびフレーム19の開口部に配された基板10に、粘着テープ18を貼合する。粘着テープ18は、基板10を基準として保護テープ14とは反対側(上側)に設けられる。
基板処理システム1は、紫外線照射部400を備える。図11および図12に示すように、紫外線照射部400はマウント部500の上方にマウント部500と重ねて設けられる。例えば、紫外線照射部400は、Z方向視で一対のマウントテーブルガイド530と重ねて設けられる。
紫外線照射部400とマウント部500とがZ方向に積層されるため、Z方向視で紫外線照射部400とマウント部500とが横に並べて設けられる場合に比べて、Z方向視で基板処理システム1の設置面積を低減できる。また、紫外線照射部400からマウント部500に基板10を搬送する流れが良い。
基板処理システム1は、ダイシングされ薄板化された基板10を主搬送部58(図3参照)から受け取る受渡部300を備えてよい。受渡部300は、主搬送部58から基板10を受け取り、受け取った基板10を後述の第1副搬送部910に引き渡す。
受渡部300は、図11に示すように主搬送路50に隣接すると共に図12に示すようにマウント部500の上方にマウント部500と重ねて設けられる。例えば、受渡部300は、Z方向視で一対のマウントテーブルガイド530と重ねて設けられる。マウント部500が主搬送路50のY方向端部に隣接して設けられる場合、受渡部300も主搬送路50のY方向端部に隣接して設けられる。
受渡部300とマウント部500とがZ方向に積層されるため、Z方向視でマウント部500と受渡部300とが横に並べて設けられる場合に比べて、Z方向視で基板処理システム1の設置面積を低減できる。また、紫外線照射部400と同じ高さに受渡部300を配置でき、紫外線照射部400の横に受渡部300を配置でき、受渡部300から紫外線照射部400に基板10を搬送する流れが良い。
例えば図11に示すように、Z方向視において、前側から後側にかけて、受渡部300、紫外線照射部400、ラミネート用ローラ520がこの順で並んで設けられる。そのため、受渡部300から紫外線照射部400を経てマウントテーブル510に載置されるまでの基板10の流れを向上でき、基板10の搬送効率を向上できる。
受渡部300は、フレーム19に対する基板10の装着位置の位置合わせに用いる情報を取得するアライメント部を兼ねてよい。これにより、例えば薄板化部200と主搬送部58との間での基板10の受け渡し、主搬送部58と受渡部300との間での基板10の受け渡しなどによって基板10の位置ずれが生じる場合に、基板10のX方向やY方向、θ方向の位置を矯正できる。その矯正は、フレーム19の開口部の中心と基板10の中心とが一致するように行われ、フレーム19に対する基板10の向きが所定の向きになるように行われる。
受渡部300は、図12に示すように、例えば、基板10を保持する受渡テーブル310と、受渡テーブル310で保持されている基板10の画像を撮像する撮像部320と、受渡テーブル310を回転させる回転駆動部330とを有する。受渡テーブル310としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。撮像部320は、例えば受渡テーブル310の上方に設けられ、受渡テーブル310に保持されている基板10の上方から基板10を撮像する。回転駆動部330は、受渡テーブル310を回転させることにより、受渡テーブル310で保持されている基板10の撮像位置を変更する。
受渡部300は、撮像部320によって撮像した基板10の画像を、電気信号に変換して制御部20に送信する。制御部20は、撮像部320によって撮像した基板10の画像を画像処理することにより、受渡テーブル310に保持されている基板10の位置を検出する。その検出方法としては、基板10のパターン(例えば分割パターン)と基準パターンとのマッチングを行う方法、基板10の外周上の複数の点から基板10の中心点と基板10の向きを求める方法などの公知の方法が用いられる。基板10の向きは、基板10の外周に形成されるノッチの位置などから検出される。ノッチの代わりに、オリエンテーションフラットが用いられてもよい。これにより、制御部20は、受渡テーブル310に固定される座標系での基板10の位置を把握できる。
基板10のθ方向位置合わせは、例えば受渡テーブル310を回転させることで行われる。一方、基板10のX方向位置合わせや基板10のY方向位置合わせは、受渡テーブル310による基板10の保持を解除した後に行われ、基板10を受渡部300から紫外線照射部400を経てマウント部500に搬送する間に行われる。例えば、基板10のX方向位置合わせや基板10のY方向位置合わせは、後述の第1副搬送部910が基板10を受渡テーブル310から受け取るとき、または、第1副搬送部910が基板10をマウントテーブル510に引き渡すときに行われる。これにより、マウントテーブル510に対する基板10の載置位置の位置合わせが行われ、ひいては、フレーム19に対する基板10の装着位置の位置合わせが行われる。
基板処理システム1は、剥離部600を備える。剥離部600は、図13に示すように、例えば、剥離テーブル610と、剥離用ローラ620と、剥離テーブルガイド630とを有する。
剥離テーブルガイド630は、図11に示すように、X方向に延びており、Y方向に間隔をおいて一対設けられる。一対の剥離テーブルガイド630に沿って剥離テーブル610が移動可能とされる。剥離テーブル610を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータが用いられる。
剥離テーブル610は、図13に示すように、剥離テーブルガイド630のX方向中央部において、後述の第2副搬送部920からフレーム19を受け取る。フレーム19には、予め粘着テープ18を介して基板10が装着される。剥離テーブル610は、粘着テープ18を介して基板10やフレーム19を保持する。
その後、剥離テーブル610は、主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、剥離用ローラ620の真下に向けて移動される。剥離用ローラ620は、図8に示すように保護テープ14を、基板10の一端側から他端側に向けて順次変形させながら、基板10から剥離する。
基板処理システム1は、ID貼付部700を備えてよい。図11および図13に示すように、ID貼付部700は、主搬送路50に隣接して設けられる。主搬送部58は、ID貼付部700がラベル17を貼付したフレーム19を、ID貼付部700から搬出部40に搬送し、搬出部40に置かれた搬出カセット45に収納する。
基板処理システム1は、図11および図13に示すように、ID貼付部700は剥離部600の上方に剥離部600と重ねて設けられてよい。例えば、ID貼付部700は、Z方向視で一対の剥離テーブルガイド630と重ねて設けられる。
剥離部600とID貼付部700とがZ方向に積層されるため、Z方向視で剥離部600とID貼付部700とが横に並べて設けられる場合に比べて、Z方向視で基板処理システム1の設置面積を低減できる。また、剥離部600からID貼付部700に基板10を搬送する流れが良い。
基板処理システム1は、図11などに示すように、主搬送部58(図3参照)と、第1副搬送部910と、第2副搬送部920と、第3副搬送部930とを有してよい。主搬送部58は、基板10を搬入部30からダイシング部100や薄板化部200を経て受渡部300に搬送する。第1副搬送部910は、基板10を受渡部300から紫外線照射部400を経由してマウント部500に搬送する。第2副搬送部920は、基板10をマウント部500から剥離部600に基板10を搬送すると共に、基板10を上下反転させる。第3副搬送部930は、基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。主搬送部58は、基板10をID貼付部700から搬出部40に搬送する。
第1副搬送部910は、X方向およびZ方向に移動可能とされる。例えば図11に示すようにマウント部500に対しX軸ガイド911が固定される。X軸ガイド911に沿ってX方向に移動されるX軸スライダ912には、Z軸ガイド913が固定される。Z軸ガイド913に沿ってZ方向に移動するZ軸スライダ914には、第1副搬送部910が固定される。尚、第1副搬送部910は、基板10のY方向位置合わせのため、さらにY方向に移動可能とされてもよい。
第1副搬送部910は、基板10を吸着する。第1副搬送部910は、基板10の変形や破損を抑制するため、基板10の主表面(例えば第2主表面12)よりも大きい吸着面を有してよい。基板10の第2主表面12の全体を平坦に保持でき、基板10の変形や破損を抑制できる。
第1副搬送部910は、例えばポーラスチャックで構成され、多孔質体を有する。多孔質体の孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて第1副搬送部910に負圧を生じさせることで、第1副搬送部910が基板10を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ多孔質体の孔を大気開放することで、第1副搬送部910が基板10の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、第1副搬送部910に正圧を生じさせてもよい。
第1副搬送部910は、基板10を保持してX方向およびZ方向に移動することにより、基板10を受渡部300から紫外線照射部400を経由してマウント部500に搬送する。例えば、基板10は、受渡テーブル310から持ち上げられ、UVランプ410の上方を通過され、マウントテーブル510に降ろされる。第1副搬送部910を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。
第1副搬送部910は、保護テープ14を下に向けて基板10を上方から保持し、Y方向に延びるUVランプ410の上方をX方向に移動する。UVランプ410が保護テープ14のY方向全体を照射できるように、UVランプ410のY方向寸法は基板10の直径よりも大きい。第1副搬送部910がUVランプ410の上を通過する速度は、保護テープ14の粘着力を十分に低下できるように設定される。
本実施形態によれば、保護テープ14に紫外線を照射する間、基板10を第1副搬送部910で保持するため、別の基板10を主搬送部58で保持して搬送できる。そのため、基板処理システム1全体での基板10の搬送効率を向上でき、基板処理システム1全体での基板10の処理速度を向上できる。
第2副搬送部920は、Y方向やZ方向に移動可能とされる。例えば図12に示すようにマウント部500および剥離部600に対しY軸ガイド921が固定される。Y軸ガイド921は、Z方向視でマウント部500および剥離部600の両方にまたがって設けられる。Y軸ガイド921に沿ってY方向に移動されるY軸スライダ922には、Z軸ガイド923が固定される。Z軸ガイド923に沿ってZ方向に移動するZ軸スライダ924には、反転部925が固定される。反転部925は、反転軸926を中心に、第2副搬送部920を上下反転可能に保持する。反転軸926の軸方向は、本実施形態ではY方向とされるが、X方向とされてもよい。
第2副搬送部920は、フレーム19を吸着する吸着部929を有する。吸着部929は、反転軸926の軸方向(例えばY方向)に間隔をおいて複数設けられ(図14参照)、フレーム19のY方向両端部を吸着する。吸着部929は吸引孔を有する。吸引孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて第2副搬送部920に負圧を生じさせることで、第2副搬送部920がフレーム19を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ吸引孔を大気開放することで、第2副搬送部920がフレーム19の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、第2副搬送部920に正圧を生じさせてもよい。
図14は、一実施形態による第2副搬送部の動作を示す図である。図14において、矢印は、マウント部500から剥離部600までの基板10およびフレーム19の移動方向を示す。第2副搬送部920は、フレーム19を保持してY方向およびZ方向に移動することにより、フレーム19に粘着テープ18を介して装着された基板10をマウント部500から剥離部600に搬送する。第2副搬送部920を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。
第2副搬送部920は、マウントテーブル510からフレーム19を持ち上げた後、反転部925によって例えば図14に実線で示す位置から図14に一点鎖線で示す位置に移動させられる。これにより、フレーム19に粘着テープ18を介して装着された基板10が上下反転される。その後、第2副搬送部920は、図14に二点鎖線で示すように剥離テーブル610にフレーム19を載置する。剥離テーブル610は、反転軸926の軸方向(本実施形態ではY方向)に間隔をおいて設けられる複数の吸着部929と干渉しないように、フレーム19のY方向中央部を保持する。
本実施形態によれば、基板10は、マウント部500から剥離部600に搬送される過程で、反転部925によって上下反転される。これにより、基板10を挟んで設けられる粘着テープ18と保護テープ14との配置を逆にすることができる。具体的には基板10の下側には粘着テープ18が配され、基板10の上側には保護テープ14が配される。保護テープ14は、基板10を基準として剥離テーブル610とは反対側に配されるため、基板10から剥離しやすい。
第3副搬送部930は、X方向およびZ方向に移動可能とされる。例えば図11に示すように剥離部600に対しX軸ガイド931が固定される。X軸ガイド931に沿ってX方向に移動されるX軸スライダ932には、Z軸ガイド933が固定される。Z軸ガイド933に沿ってZ方向に移動するZ軸スライダ934には、第3副搬送部930が固定される。尚、第3副搬送部930は、基板10のY方向位置合わせのため、さらにY方向に移動可能とされてもよい。
第3副搬送部930は、フレーム19を吸着する吸着部939を有する。吸着部939は、例えばX方向に間隔をおいて複数設けられ、フレーム19のX方向両端部を吸着する。吸着部939は吸引孔を有する。吸引孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて第3副搬送部930に負圧を生じさせることで、第3副搬送部930がフレーム19を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ吸引孔を大気開放することで、第3副搬送部930がフレーム19の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、第3副搬送部930に正圧を生じさせてもよい。
第3副搬送部930は、フレーム19を保持してX方向およびZ方向に移動することにより、フレーム19に粘着テープ18を介して装着された基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。例えば、基板10は、剥離テーブル610から持ち上げられ、ID貼付テーブル710に降ろされる。第3副搬送部930を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。
下記第1変形例では、上記実施形態とは異なり、第3副搬送部930が無く、第3副搬送部930の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。以下、相違点に付いて主に説明する。
図15は、第1変形例による剥離部および剥離部の上方に剥離部と重ねて設けられるID貼付部を示す側面図である。図15において、矢印は、剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。図15に示すように、剥離部600は、主搬送路50に隣接して設けられる。
剥離テーブル610は、剥離テーブルガイド630のX方向中央部において、第2副搬送部920からフレーム19を受け取る。フレーム19には、予め粘着テープ18を介して基板10が装着される。剥離テーブル610は、粘着テープ18を介して基板10やフレーム19を保持する。
その後、剥離テーブル610は、主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、剥離用ローラ620の真下に向けて移動される。剥離用ローラ620は、図8に示すように保護テープ14を、基板10の一端側から他端側に向けて順次変形させながら、基板10から剥離する。
その後、剥離テーブル610は、主搬送路50に近づくようにX方向(前側)に移動され、剥離テーブルガイド630の主搬送路50側(前側)の端部において、主搬送部58(図3参照)にフレーム19を引き渡す。主搬送部58は、フレーム19を保持しながらZ方向およびX方向に移動することにより、ID貼付テーブル710にフレーム19を載置する。
本変形例によれば、上記実施形態とは異なり、第3副搬送部930が無く、第3副搬送部930の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。これにより、主搬送部58を多機能化して、主搬送部58の仕事量を増やすことができ、主搬送部58の稼働率を改善できる。
下記第2変形例では、上記実施形態および上記第1変形例とは異なり、第1副搬送部910が無く、第1副搬送部910の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、ダイシングされ薄板化された基板10を、紫外線照射部400およびマウント部500にこの順で搬送する。本変形例では、第1副搬送部910が無いため、主搬送部58から第1副搬送部910に基板10を中継する受渡部300は無くてよい。以下、相違点に付いて主に説明する。
図16は、第2変形例による基板処理システムの要部を示す平面図である。図16において、矢印は、マウント部500や剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。図16に示すように、紫外線照射部400およびマウント部500は、主搬送路50に隣接して設けられる。マウント部500が主搬送路50のY方向一端部に隣接して設けられる場合、紫外線照射部400も主搬送路50のY方向一端部に隣接して設けられる。
主搬送部58(図3参照)は、基板10を保持してY方向およびZ方向に移動することにより、基板10を紫外線照射部400およびマウント部500にこの順で搬送する。主搬送部58は、先ず、主搬送路50から紫外線照射部400に挿入される。
主搬送部58は、保護テープ14を下に向けて基板10を上方から保持し、X方向に延びるUVランプ410の上方をY方向に移動する。UVランプ410が保護テープ14のX方向全体を照射できるように、UVランプ410のX方向寸法は基板10の直径よりも大きい。主搬送部58がUVランプ410の上を通過する速度は、保護テープ14の粘着力を十分に低下できるように設定される。
次いで、主搬送部58は、紫外線照射部400から主搬送路50まで引き抜かれ、主搬送路50において下降され、続いて主搬送路50からマウント部500に挿入される。その後、主搬送部58は、マウント部500の内部で下降され、マウントテーブル510に基板10を引き渡す。
マウントテーブル510は、マウントテーブルガイド530の主搬送路50側(前側)の端部において、基板10とフレーム19の両方を受け取る。マウントテーブル510は、基板10とフレーム19のどちらを先に受け取ってもよい。
本変形例によれば、上記実施形態および上記第1変形例とは異なり、第1副搬送部910が無く、第1副搬送部910の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、ダイシングされ薄板化された基板10を、紫外線照射部400およびマウント部500にこの順で搬送する。これにより、主搬送部58を多機能化して、主搬送部58の仕事量を増やすことができ、主搬送部58の稼働率を改善できる。
以上、本開示に係る基板処理システム、および基板処理方法の実施形態などについて説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。
本出願は、2017年8月28日に日本国特許庁に出願された特願2017-163600号に基づく優先権を主張するものであり、特願2017-163600号の全内容を本出願に援用する。
1 基板処理システム
10 基板
14 保護テープ
18 粘着テープ
19 フレーム
20 制御部
30 搬入部
35 搬入カセット
40 搬出部
45 搬出カセット
50 主搬送路
58 主搬送部
100 ダイシング部
200 薄板化部
300 受渡部
400 紫外線照射部
500 マウント部
600 剥離部
700 ID貼付部
910 第1副搬送部
920 第2副搬送部
930 第3副搬送部
10 基板
14 保護テープ
18 粘着テープ
19 フレーム
20 制御部
30 搬入部
35 搬入カセット
40 搬出部
45 搬出カセット
50 主搬送路
58 主搬送部
100 ダイシング部
200 薄板化部
300 受渡部
400 紫外線照射部
500 マウント部
600 剥離部
700 ID貼付部
910 第1副搬送部
920 第2副搬送部
930 第3副搬送部
Claims (2)
- 粘着テープを基板とフレームとに貼合させることで、前記粘着テープを介して前記基板が前記フレームに装着された装着物を形成するマウント部を備えたマウント装置において、
前記マウント部は、前記装着物とされる前の前記基板を収納した搬入カセットが外部から搬入される搬入部と、前記装着物を収納した搬出カセットが外部に搬出される搬出部とに隣接する主搬送路に隣接して設けられ、当該主搬送路に沿って移動する主搬送部によって前記搬入カセットから取り出された前記基板を受け取って前記装着物を形成し、
前記マウント部で形成された前記装着物が前記主搬送部によって前記搬出カセットに収納されることを特徴とするマウント装置。 - 粘着テープを基板とフレームとに貼合させることで、前記粘着テープを介して前記基板が前記フレームに装着された装着物を形成するマウント部を用いたマウント方法において、
前記マウント部は、前記装着物とされる前の前記基板を収納した搬入カセットが外部から搬入される搬入部と、前記装着物を収納した搬出カセットが外部に搬出される搬出部とに隣接する主搬送路に隣接して設けられ、当該主搬送路に沿って移動する主搬送部によって前記搬入カセットから取り出された前記基板を受け取って前記装着物を形成し、
前記マウント部で形成された前記装着物が前記主搬送部によって前記搬出カセットに収納されることを特徴とするマウント方法。
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