JP2021067775A - 位置決め装置、露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ステージの位置を精度よく計測するために有利な技術を提供する。【解決手段】プレートＭの位置決めを行う位置決め装置１０Ａは、前記プレートＭを保持して第１方向に移動可能なステージ１１と、前記第１方向に光を射出し、前記ステージ１１の上面の上に設けられた反射部材１３で反射された光に基づいて、前記第１方向における前記ステージ１１の位置を計測する計測部１２と、を含み、前記ステージ１１は、前記第１方向への前記ステージ１１の移動によって前記プレートＭの周囲の気体が前記計測部１２の光路に侵入することを低減するための壁部１７を、前記第１方向における前記プレートＭと前記反射部材１３との間に有し、前記壁部１７は、その上端が前記プレートＭの上面より高く構成され、且つ、前記プレートＭおよび前記反射部材１３から離間して配置されている。【選択図】図２

Description

本発明は、プレートの位置決めを行う位置決め装置、それを含む露光装置、および物品の製造方法に関する。

液晶パネルや半導体デバイスの製造工程（リソグラフィ工程）で用いられる装置の１つとして、原版と基板とを相対的に走査しながら基板を露光する露光装置が知られている。このような露光装置では、基板上にパターンを精度よく形成するため、原版や基板を保持するステージの位置決め精度の向上が要求されており、それにはステージの位置を精度よく計測することが必要である。

ステージの位置の計測には、一般にレーザ干渉計が用いられうるが、レーザ干渉計では、計測光路上における気体の温度や圧力、湿度等のゆらぎに起因する計測光路上の屈折率の変化が計測精度の低下（計測誤差）の要因になりうる。例えば、原版では、基板の露光中に照明されて温度が上昇するため、原版に生じた熱が、原版ステージの移動に伴って周囲に拡がって計測光路に侵入すると、原版ステージの位置の計測精度が低下しうる。また、原版の曇り防止のため、原版の配置空間を、その周囲より低湿度の気体（パージガス）で満たす場合がある。この場合においても、原版ステージの移動に伴って低湿度の気体が計測光路に侵入すると、原版ステージの位置の計測精度が低下しうる。

特許文献１には、ステージの側面に設けられた反射ミラーに向けて光を射出し、反射ミラーで反射された光と参照光との干渉光を受けてステージの位置を検出する干渉計を備えた計測装置が開示されている。特許文献１で開示された計測装置では、気体吹き出し部からステージに向けて吹き出される気体を干渉計の光路へ整流して効率よく導くための構造体（整流板）が、当該光路の一部および反射ミラーを上下から挟み込むように設けられている。

特開２０１２−２０９４０１号公報

特許文献１で開示されたように反射ミラーおよび構造体がステージの側面に設けられた構成では、ステージの移動に伴ってステージ上（例えば原版上）の気体がステージの側面に流入することがある。この場合、ステージの側面の近傍における計測光路では、気体吹き出し部から吹き出されて構造体で導かれた気体とステージ上から流れてきた気体とで乱流（気体のゆらぎ）が生じてしまい、ステージの位置の計測精度が低下しうる。

そこで、本発明は、ステージの位置を精度よく計測するために有利な技術を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての位置決め装置は、プレートの位置決めを行う位置決め装置であって、前記プレートを保持して第１方向に移動可能なステージと、前記第１方向に光を射出し、前記ステージの上面の上に設けられた反射部材で反射された光に基づいて、前記第１方向における前記ステージの位置を計測する計測部と、を含み、前記ステージは、前記第１方向への前記ステージの移動によって前記プレートの周囲の気体が前記計測部の光路に侵入することを低減するための壁部を、前記第１方向における前記プレートと前記反射部材との間に有し、前記壁部は、その上端が前記プレートの上面より高く構成され、且つ、前記プレートおよび前記反射部材から離間して配置されている、ことを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、例えば、ステージの位置を精度よく計測するために有利な技術を提供することができる。

露光装置の構成を示す概略図 第１実施形態の位置決め装置の構成を示す概略図 第１実施形態の位置決め装置の効果を説明するための図 壁部の変形例を示す図 第２実施形態の位置決め装置の構成を示す概略図 第３実施形態の位置決め装置の構成を示す概略図 第４実施形態の位置決め装置の構成を示す概略図 第４実施形態の位置決め装置の変形例を示す概略図

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

＜第１実施形態＞
［露光装置の構成］
本発明に係る第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態の露光装置１００の全体構成を示す概略図である。本実施形態の露光装置１００は、原版Ｍと基板Ｗとを走査しながら基板Ｗを露光することにより原版Ｍのパターンを基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。このような露光装置１００は、走査露光装置やスキャナとも呼ばれる。本実施形態では、原版Ｍは、例えば石英製のマスク（レチクル）であり、基板Ｗにおける複数のショット領域の各々に転写されるべき回路パターンが形成されている。また、基板Ｗは、フォトレジストが塗布されたウェハであり、例えば単結晶シリコン基板等が用いられうる。

露光装置１００は、照明光学系ＩＯと、原版Ｍを保持して移動可能な原版ステージ１１と、投影光学系ＰＯと、基板Ｗを保持して移動可能な基板ステージ２１と、制御部ＣＮＴとを含みうる。制御部ＣＮＴは、例えばＣＰＵやメモリを有するコンピュータによって構成されるとともに、装置内の各部に電気的に接続され、装置全体の動作を統括して制御する。ここで、以下の説明では、照明光学系ＩＯから射出されて原版Ｍに入射する光の光軸に平行な軸方向をＺ軸方向とし、該光軸に垂直な面内において互いに直行する２つの軸方向をＸ軸方向およびＹ軸方向とする。

照明光学系ＩＯは、水銀ランプ、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザなどの光源ＬＳから射出された光を、例えば帯状や円弧状のスリット光に整形し、そのスリット光で原版Ｍの一部を照明する。原版Ｍの一部を透過した光は、当該原版Ｍの一部のパターンを反映したパターン光として投影光学系ＰＯに入射する。投影光学系ＰＯは、所定の投影倍率を有し、パターン光により原版Ｍのパターンを基板上（具体的には、基板上のレジスト）に投影する。原版Ｍおよび基板Ｗは、原版ステージ１１および基板ステージ２１によってそれぞれ保持されており、投影光学系ＰＯを介して光学的に共役な位置（投影光学系ＰＯの物体面および像面）にそれぞれ配置される。制御部ＣＮＴは、原版ステージ１１および基板ステージ２１を、互いに同期しながら投影光学系ＰＯの投影倍率に応じた速度比で相対的に走査する（本実施形態では、原版Ｍおよび基板Ｗの走査方向をＹ軸方向（第１方向）とする）。これにより、原版Ｍのパターンを基板上に転写することができる。

［位置決め装置の構成］
次に、プレートの位置決めを行う位置決め装置について説明する。本実施形態では、プレートとして原版Ｍの位置決めを行う位置決め装置１０について説明するが、プレートとして基板Ｗの位置決めを行う場合においても同様の構成の位置決め装置を適用することができる。

図２は、本実施形態の位置決め装置１０Ａの構成を示す概略図である。図２（ａ）は、位置決め装置１０Ａの側面図を示しており、図２（ｂ）は、位置決め装置１０Ａの上面図を示している。位置決め装置１０Ａは、例えば、原版Ｍを保持して少なくともＹ軸方向（第１方向）に移動可能な原版ステージ１１と、Ｙ軸方向における原版ステージ１１の位置を計測する計測部１２とを含みうる。

計測部１２は、例えばレーザ干渉計で構成され、原版ステージ１１に設けられた反射部材１３（ミラー）に向けて光を射出し、当該反射部材１３からの反射光と参照光との干渉に基づいて、Ｙ軸方向における原版ステージ１１の位置を計測することができる。図２に示す例では、複数（２個）の計測部１２がＸ軸方向に離間して配置されている。このように複数の計測部１２を用いることで、θ方向（Ｚ軸周りの回転方向）における原版ステージ１１の回転を計測することもできる。また、反射部材１３は、原版ステージ１１の上面Ｓの上に設けられうる。本実施形態の場合、反射部材１３は、図２に示すように、原版ステージ１１の上面Ｓから＋Ｚ方向に突出した支持部１６によって支持される。ここで、原版ステージ１１の上面Ｓとは、例えば、原版ステージ１１において原版Ｍを保持する保持面を含む面のことである。

位置決め装置１０Ａでは、計測部１２から射出される光の光路（計測光路）１２ａにおいて気体の温度や湿度等のゆらぎ（雰囲気ゆらぎ）が生じると、それに起因して計測光路１２ａの屈折率が変化し、計測精度の低下（計測誤差）が生じることがある。そのため、本実施形態の位置決め装置１０Ａには、計測光路１２ａの雰囲気を安定化するための気体１４ａを吹き出す吹出部１４が設けられうる。吹出部１４は、例えば、計測部１２の計測光路１２ａにおいてＹ軸方向に沿った気体の流れが形成されるように、原版ステージ１１に向けて気体を吹き出すように構成されうる。吹出部１４から吹き出される気体１４ａは、計測光路１２ａの雰囲気を安定化することに加えて、原版Ｍの曇りを防止したり、原版ステージ１１を冷却したりするためにも用いられることがある。吹出部１４から吹き出される気体１４ａとしては、例えば、クリーンエア、クリーンドライエア、窒素ガスなど、温度や湿度が所定範囲内に保たれた（調整された）クリーンな気体が用いられるとよい。

ところで、原版Ｍは、基板Ｗの露光中に照明されて温度が上昇するため、原版Ｍに生じた熱が原版ステージ１１の移動に伴って周囲に拡がり計測光路１２ａに侵入すると、計測部１２による原版ステージ１１の位置の計測精度が低下しうる。また、原版Ｍの曇り防止のため、原版Ｍの配置空間を、その周囲より低湿度の気体（パージガス）で満たす場合がある。この場合においても、原版ステージ１１の移動に伴って低湿度の気体が計測光路に侵入すると、計測部１２による原版ステージ１１の位置の計測精度が低下しうる。なお、以下では、原版Ｍからの熱を帯びた気体と原版Ｍの配置空間に供給された気体（パージガス）とを総称して「原版Ｍの周囲気体」と呼ぶことがある。

そこで、本実施形態の位置決め装置１０Ａでは、原版ステージ１１の上面Ｓにおける反射部材１３（支持部１６）と原版Ｍとの間に壁部１７が設けられる。このように壁部１７を設けることにより、原版ステージ１１の移動に伴って原版Ｍの周囲気体が移動して計測光路１２ａに侵入することを低減することができる。具体的には、図３に示すように、矢印Ｖに従って原版ステージ１１が移動すると、原版Ｍの周囲気体は、計測光路１２ａに向かう方向（−Ｘ方向）へ移動を開始する。しかしながら、移動を開始した原版Ｍの周囲気体は、矢印Ａに示すように壁部１７にぶつかり、その移動方向（流れの向き）が、計測光路１２ａから離れる方向に変えられる。そのため、原版Ｍの周囲気体が計測光路１２ａに侵入することを低減（防止）することができる。

壁部１７は、その高さ（Ｚ軸方向）が原版Ｍの上面より高くなるように構成される。壁部１７の高さは、高いほど、原版Ｍの周囲気体の移動方向を計測光路１２ａから離れる方向に誘導（変換）して当該周囲気体の流れと計測光路１２ａとの間の距離を増加させることができる。このように原版Ｍの周囲気体の流れと計測光路１２ａとの間の距離を増加させれば、原版Ｍの周囲気体が計測光路１２ａに侵入することを低減することができる。そして、この場合、吹出部１４から吹き出された気体１４ａにより原版Ｍの周囲気体の流れを計測光路１２ａから更に離すことができるため、原版Ｍの周囲気体が計測光路１２ａに侵入することを更に低減することができる。

また、壁部１７は、その幅（Ｘ軸方向の長さ）が原版Ｍの幅（Ｘ軸方向の長さ）以上であるとよい。壁部１７の幅は、広いほど、移動する原版Ｍの周囲気体を計測光路１２ａから離れる方向に誘導して当該周囲気体の流れと計測光路１２ａとの間の距離を増加させることができる。なお、Ｘ軸方向は、原版ステージ１１の上面Ｓと平行な面内で走査方向（Ｘ軸方向、第１方向）に垂直な方向（第２方向）と定義することができる。ここで、上記のように、壁部１７の高さは高いほどよく、壁部１７の幅は広いほどよいが、壁部１７の高さおよび幅は、例えば原版ステージ１１のサイズまたは原版ステージ１１が移動可能な空間のサイズに応じて決定されうる。

壁部１７は、Ｚ軸方向から見て（平面視において）、矩形形状に限られるものではなく、原版Ｍの周囲気体の移動方向を変える効果を増加させることができる他の形状を有してもよい。図４（ａ）〜（ｄ）は、壁部１７の形状例を示している。図４（ａ）に示す壁部１７は、Ｘ軸方向側の端部が原版Ｍから遠ざかる方向（＋Ｙ方向）に「Ｌ字」状に折れ曲がった形状を有している。図４（ｂ）に示す壁部１７は、Ｘ軸方向側の端部が原版Ｍに向かう方向（−Ｙ方向）に「Ｌ字」状に折れ曲がった形状を有している。図４（ｃ）に示す壁部１７は、Ｘ軸方向側の端部が原版Ｍから遠ざかる方向（＋Ｙ方向）に「くの字」状に折れ曲がった形状を有している。図４（ｄ）に示す壁部１７は、Ｘ軸方向側の側面が傾斜した形状を有している（即ち、平面視での形状が台形形状を有している）。なお、壁部１７の形状は、曲率を有していたり厚さが部分的に異なっていたり等、図４に示す形状に限定されるものではない。また、壁部１７での空気抵抗により原版ステージ１１の移動に影響を与える場合には、当該空気抵抗が所望値より小さくなるように壁部１７を傾斜形状としてもよい。

一方、吹出部１４から吹き出された気体１４ａの流れも、壁部１７によって変化しうる。気体１４ａは、上述したように、計測光路１２ａの雰囲気を安定化して計測精度の低下を低減するために計測光路１２ａに供給される。そのため、計測光路１２ａにおいて部分的に気体１４ａの流れが変化してしまうと、その部分で屈折率が変化して計測精度が低下しうる。例えば、吹出部１４から吹き出された気体１４ａが壁部１７にぶつかると、壁部１７の近傍では、気体１４ａの流れが変化しうる。また、壁部１７の近傍の気体１４ａは、原版ステージ１１の移動に伴って、壁部１７により押し出されたり引っ張られたりするため、乱れた流れ（乱流）となることがある。このような気体１４ａの流れの変化や乱流が、計測光路１２ａで生じてしまうと、計測精度の低下が引き起こされうる。

そのため、本実施形態の壁部１７は、反射部材１３（支持部１６）からＹ軸方向に離間して配置されている。例えば、壁部１７は、Ｙ軸方向において、原版Ｍと反射部材１３（支持部１６）との中間位置より原版側（プレート側）に配置されるとよい。このように壁部１７を反射部材１３（支持部１６）から離間して配置することにより、壁部１７の近傍における気体１４ａの流れの変化や乱流が計測光路１２ａに与える影響を低減し、計測精度の低下を低減することができる。さらに、壁部１７によって気体１４ａの流れが変化する方向は、計測光路１２ａから離れる方向となるため、このような変化後の気体１４ａの流れにより、壁部１７を超えてきた原版Ｍの周囲気体を計測光路１２ａから遠ざける効果を増加させることができる。

次に、原版Ｍと反射部材１３（支持部１６）との間に壁部１７を設ける効果をシミュレーションで確認した結果について説明する。シミュレーションでは、原版Ｍのサイズを１５２ｍｍ×１５２ｍｍとした。また、壁部１７を、１８０ｍｍ幅（Ｘ軸方向の長さ）および２６ｍｍ高さとし、原版ステージ１１の上面Ｓにおける原版Ｍの端部から３５ｍｍの位置に設けた。この場合において、基板Ｗの露光中に原版Ｍの温度が１．４℃上昇したとき、壁部１７を設けていない場合と比較して、原版Ｍの温度起因による計測光路１２ａのゆらぎが４５％改善された結果となった。

上述したように、本実施形態の位置決め装置１０Ａでは、原版ステージ１１の上面における原版Ｍと反射部材１３との間に壁部１７が設けられる。また、壁部１７は、その上端が原版Ｍの上面より高く構成され、原版Ｍおよび反射部材１３（支持部１６）から離間して配置される。この構成により、露光中に原版Ｍに生じた熱や原版Ｍに対して供給されたパージガスなど、原版Ｍの周囲気体が計測部１２の計測光路１２ａに侵入することを低減することができる。そのため、計測光路１２ａの雰囲気ゆらぎに起因する計測部１２の計測誤差を低減し、原版Ｍを精度よく位置決めすることができる。ここで、本実施形態の構成において、計測部１２および反射部材１３の位置を入れ換えてもよい。つまり、本実施形態では原版ステージ１１の上面Ｓに反射部材１３を設けたが、原版ステージ１１の上面Ｓに計測部１２を設けてもよい。

＜第２実施形態＞
本発明に係る第２実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態を基本的に引き継ぐものであるが、計測部１２の計測光路１２ａの一部を取り囲むカバー部材１８を更に有する点で第１実施形態と異なる。以下に、カバー部材１８を有する本実施形態の位置決め装置１０Ｂについて説明する。

図５は、本実施形態の位置決め装置１０Ｂの構成を示す概略図である。図５（ａ）は、位置決め装置１０Ｂの側面図を示しており、図５（ｂ）は、位置決め装置１０Ｂの上面図を示している。本実施形態の原版ステージ１１は、その上面Ｓにおいて計測光路１２ａの一部を取り囲む（覆う）カバー部材１８を有する。カバー部材１８は、壁部１７を超えてきた原版Ｍの周囲気体が計測光路１２ａに与える影響を更に低減するため、即ち、原版ステージ１１上での気体の流れを整えて計測光路１２ａの雰囲気の安定化を図るために設けられうる。

本実施形態のカバー部材１８は、カバー部材１８と壁部１７との間に隙間１９が形成されるように、原版ステージ１１の上面Ｓに配置されうる。このように壁部１７から隙間１９をあけてカバー部材１８を配置することにより、吹出部１４から吹き出されてカバー部材１８を通過した気体１４ａを、当該隙間１９から排出し、壁部１７に沿って流すことができる。つまり、壁部１７を超えて移動してきた原版Ｍの周囲気体を計測光路１２ａから遠ざける効果を更に増加させることができる。

カバー部材１８と壁部１７との間の隙間１９は、狭いほど、当該隙間１９から排出される気体１４ａの流速を増加させ、原版Ｍの周囲気体を計測光路１２ａから遠ざける効果を増加させることができる。その一方で、隙間１９を狭くすると、吹出部１４から吹き出された気体１４ａがカバー部材１８の内部で淀んでしまい、計測光路１２ａの雰囲気ゆらぎを引き起こすことがある。そのため、本実施形態のカバー部材１８は、Ｘ軸方向側の側面に、内部を通過した気体を排出するための開口部１８ａを有する。開口部１８ａは、壁部１７側に形成されるとよく、好ましくは、Ｙ軸方向における反射部材１３と壁部１７との間に形成されるとよい。また、開口部１８ａは、Ｙ軸方向において、可能な限り反射部材１３から離れた位置に配置されることが好ましい。これは、原版Ｍの周囲気体が、壁部１７を超えて開口部１８ａからカバー部材１８の内部に侵入したとしても、計測光路１２ａに影響を与えることを低減するためである。

ここで、カバー部材１８は、壁部１７と一体に構成されてもよい。この場合においても、当該一体構成の部材に対して、隙間１９および開口部１８ａに対応する開口や切り欠き等が形成されうる。また、開口部１８ａは、カバー部材１８と壁部１７との間の隙間１９の狭さに関わらずに形成されてもよい。さらに、本実施形態のカバー部材１８は、図５に示すように、Ｘ軸方向に離間して配置された複数の反射部材１３（計測光路１２ａ）を取り囲むように構成されているが、それに限られず、複数の反射部材１３の各々を個別に取り囲むように構成されてもよい。

上述したように、本実施形態の位置決め装置１０Ｂは、壁部１７に対して隙間１９をあけて原版ステージ１１の上面Ｓに設けられたカバー部材１８を有する。また、カバー部材１８は、Ｘ軸方向側の側面に形成された開口部１８ａを有してもよい。この構成により、吹出部１４から吹き出されてカバー部材１８を通過した気体１４ａを、当該隙間１９から排出し、壁部１７に沿って流すことができるため、原版Ｍの周囲気体が計測部１２の計測光路１２ａに侵入することを更に低減することができる。

＜第３実施形態＞
本発明に係る第３実施形態について説明する。本実施形態では、原版Ｍが配置される空間（以下、原版Ｍの配置空間）にパージガスを供給するように構成された位置決め装置１０Ｃの構成例について説明する。なお、本実施形態は、特に言及されない限り、第１〜第２実施形態を基本的に引き継ぐものである。

図６は、本実施形態の位置決め装置１０Ｃの構成を示す概略図である。図６（ａ）は、位置決め装置１０Ｃの側面図を示しており、図６（ｂ）は、位置決め装置１０Ｃの上面図を示している。本実施形態の位置決め装置１０Ｃは、例えば、原版Ｍの配置空間にパージガス（一例として低湿度の気体）を供給する場合に有用である。

本実施形態の位置決め装置１０Ｃは、第１面部材３１と第２面部材３２との間を原版ステージ１１が移動するように構成される。第１面部材３１は、例えば照明光学系ＩＯにより支持されてＸＹ方向に広がる部材であり、第２面部材３２は、例えば投影光学系ＰＯにより支持されてＸＹ方向に広がる部材である。第１面部材３１および第２面部材３２は、原版ステージ１１に対する隙間が可能な限り狭くなるように配置される。これにより、原版Ｍの配置空間に供給されたパージガス３３が、第１面部材３１と原版ステージ１１との隙間、および、第２面部材３２と原版ステージ１１との隙間から抜け出すことを低減することができる。

また、原版ステージ１１は、反射部材１３（支持部１６）と、壁部１７と、カバー部材１８と、隙間規定部材３４とを有する。反射部材１３（支持部１６）および壁部１７は、第１〜第２実施形態で説明したように原版ステージ１１の上面Ｓの上に設けられる。カバー部材１８は、第２実施形態で説明したように、壁部１７に対して隙間１９が形成されるように原版ステージ１１の上面Ｓに設けられ、Ｘ軸方向側の側面に開口部１８ａを有する。そして、本実施形態の場合、カバー部材１８は、第１面部材３１に対して狭隙間を形成するように壁部１７と同じ高さに構成されうる。隙間規定部材３４は、第１面部材３１に対して狭隙間を形成するための部材であり、原版Ｍの配置空間を基準（中心）として壁部１７およびカバー部材１８の反対側（原版Ｍの配置空間の−Ｙ方向側）に配置される。隙間規定部材３４は、壁部１７およびカバー部材１８と同じ高さに構成されうる。

このように、原版ステージ１１を構成することにより、原版Ｍの配置空間に供給されたパージガス３３が抜け出すことを低減することができる。また、壁部１７と第１面部材３１との隙間、および壁部１７とカバー部材１８との隙間を介してパージガス３３が計測光路１２ａに侵入することを低減することができる。ここで、カバー部材１８の開口部１８ａの面積（総面積）は、壁部１７とカバー部材１８との隙間の面積（総面積）より大きいことが好ましい。本実施形態の構成では、壁部１７とカバー部材１８との隙間から気体１４ａが排出されにくいため、カバー部材１８の内部において気体１４ａが淀んでしまい、計測光路１２ａの雰囲気ゆらぎを引き起こしやすくなるからである。また、開口部１８ａは、Ｙ軸方向において、反射部材１３と壁部１７との間に形成されるとよい。この場合、開口部１８ａは、Ｙ軸方向において、可能な限り反射部材１３から離れた位置に形成されることが好ましい。これは、反射部材１３の近傍の計測光路１２ａにおいて、気体１４ａの急激な流速変化を抑え、計測光路１２ａの雰囲気ゆらぎを低減するためである。

＜第４実施形態＞
本発明に係る第５実施形態について説明する。本実施形態では、原版ステージ１１が粗動ステージ１１ａと微動ステージ１１ｂとを含むように構成された位置決め装置１０Ｄの構成例について説明する。なお、本実施形態は、特に言及されない限り、第１実施形態を基本的に引き継ぐものである。また、本実施形態は、第２実施形態で説明したカバー部材１８を含む構成、および／または、第３実施形態で説明した第１面部材３１と第２面部材３２とを含む構成を適用してもよい。

図７は、本実施形態の位置決め装置１０Ｄの構成を示す概略図である。図７（ａ）は、位置決め装置１０Ｄの側面図を示しており、図７（ｂ）は位置決め装置１０Ｄの上面図を示している。本実施形態の位置決め装置１０Ｄにおける原版ステージ１１は、粗動ステージ１１ａと微動ステージ１１ｂとを含みうる。

粗動ステージ１１ａは、ベース４１に対して少なくともＹ軸方向に相対移動するための駆動機構４２（アクチュエータ）を有する。そして、Ｙ軸方向における粗動ステージ１１ａの位置は、第２計測部４３によって計測される。第２計測部４３は、例えばレーザ干渉計で構成され、粗動ステージ１１ａに設けられた反射部材４４に向けて光を射出し、当該反射部材４４からの反射光と参照光との干渉に基づいて、Ｙ軸方向における粗動ステージ１１ａの位置を計測することができる。図７では、第２計測部４３の計測光路４３ａが示されている。ここで、本実施形態では、反射部材４４は、粗動ステージ１１ａの側面に設けられているが、粗動ステージ１１ａの上面に設けられてもよい。

また、微動ステージ１１ｂは、原版Ｍを保持するとともに、粗動ステージ１１ａに対して少なくともＹ軸方向に相対移動するための駆動機構４５（アクチュエータ）を有する。本実施形態の場合、反射部材１３（支持部１６）および壁部１７は、微動ステージ１１ｂの上面Ｓに設けられている。そして、壁部１７は、反射部材１３（支持部１６）と原版Ｍとの間において、反射部材１３および原版Ｍと離間するように微動ステージ１１ｂによって支持されている。

ここで、壁部１７は、図８に示すように、微動ステージ１１ｂではなく、粗動ステージ１１ａによって支持されていてもよい。図８は、壁部１７が粗動ステージ１１ａによって支持された構成の位置決め装置１０Ｅの構成を示す概略図である。図８（ａ）は、位置決め装置１０Ｅの側面図を示しており、図８（ｂ）は位置決め装置１０Ｅの上面図を示している。図８に示す位置決め装置１０Ｅでは、壁部１７は、支持部材４６を介して粗動ステージ１１ａによって支持されている。具体的には、壁部１７は、反射部材１３（支持部１６）と原版Ｍとの間において、反射部材１３および原版Ｍと離間するように、支持部材４６を介して粗動ステージ１１ｂによって支持されている。

本実施形態の位置決め装置１０Ｄ〜１０Ｅの構成によっても、原版Ｍの周囲気体が計測部１２の計測光路１２ａに侵入することを低減することができる。そのため、計測光路１２ａにおける雰囲気ゆらぎに起因する計測部１２の計測誤差を低減し、原版Ｍを精度よく位置決めすることができる。

＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像（加工）する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

１０：位置決め装置、１１：原版ステージ、１２：計測部、１３：反射部材、１６：支持部、１７：壁部、１８：カバー部材

Claims (13)

1. プレートの位置決めを行う位置決め装置であって、
   前記プレートを保持して第１方向に移動可能なステージと、
   前記第１方向に光を射出し、前記ステージの上面の上に設けられた反射部材で反射された光に基づいて、前記第１方向における前記ステージの位置を計測する計測部と、
   を含み、
   前記ステージは、前記第１方向への前記ステージの移動によって前記プレートの周囲の気体が前記計測部の光路に侵入することを低減するための壁部を、前記第１方向における前記プレートと前記反射部材との間に有し、
   前記壁部は、その上端が前記プレートの上面より高く構成され、且つ、前記プレートおよび前記反射部材から離間して配置されている、ことを特徴とする位置決め装置。
2. 前記壁部は、前記第１方向において、前記プレートと前記反射部材との中間位置より前記プレート側に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
3. 前記反射部材は、前記ステージの上面から突出した支持部によって支持され、
   前記壁部は、前記支持部から離間して配置されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の位置決め装置。
4. 前記ステージの上面は、前記プレートを保持する保持面を含む面である、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の位置決め装置。
5. 前記ステージの上面と平行な面内で前記第１方向に垂直な第２方向において、前記壁部の長さは前記プレートの長さ以上である、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の位置決め装置。
6. 前記ステージは、前記計測部の光路の一部を取り囲むカバー部材を有し、
   前記カバー部材と前記壁部との間には、前記カバー部材の内部から気体を排出するための隙間が形成されている、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の位置決め装置。
7. 前記カバー部材は、その内部から気体を排出するための開口部を、前記第１方向と垂直な第２方向側の側面に有する、ことを特徴とする請求項６に記載の位置決め装置。
8. 前記カバー部材は、前記第１方向における前記反射部材と前記壁部との間に前記開口部を有する、ことを特徴とする請求項７に記載の位置決め装置。
9. 前記ステージは、粗動ステージと、前記プレートを保持するとともに前記粗動ステージに対して相対移動する微動ステージとを含み、
   前記壁部は、前記微動ステージによって支持されている、ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の位置決め装置。
10. 前記ステージは、粗動ステージと、前記プレートを保持するとともに前記粗動ステージに対して相対移動する微動ステージとを含み、
    前記壁部は、前記粗動ステージによって支持されている、ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の位置決め装置。
11. 前記計測部の光路において前記第１方向に沿った気体の流れが形成されるように、前記ステージに向けて気体を吹き出す吹出部を更に含む、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の位置決め装置。
12. 原版と基板とを走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
    請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の位置決め装置を含み、
    前記位置決め装置は、前記プレートして、前記原版および前記基板の少なくとも一方の位置決めを行う、ことを特徴とする露光装置。
13. 請求項１２に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    前記工程で露光を行われた前記基板を現像する工程と、を含み、
    現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。

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