JP2014511570A - かすめ入射リフレクタ、リソグラフィ装置、かすめ入射リフレクタ製造方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
[0001] 本出願は、2011年2月24日に出願された米国仮出願第61/446,257の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
−放射ビームB(例えば、EUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(例えば、マスクまたはレチクル)MAを支持するように構築され、かつパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
−基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、かつ基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、反射投影システム)PSと、を備える。
[0091] 金属コーティングを基板上に塗布する1つの方法は、原子層堆積(ALD)によるものである。ALDは、自己限定的表面反応の交互のステップを用いて原子層を1つずつ堆積する。堆積される材料は、前駆体を介して設けられる。ALD方法は、いくつかの金属、例えば、Mo、Ti、Ru、Pd、Ir、Pt、Rh、Co、Cu、Fe、およびNiについて知られている。ALDの代わりに、電解成長(電気堆積)を用いて金属を堆積してよく、または、蒸発またはスパッタ堆積などによって金属を堆積することもできる。そのような方法の例は、導入部で述べたように先行技術文献に示されている。スパッタリングなどの方法は、Th、B、B4C、B9Cなどの、6倍nm波長に合った材料に対して採用することが出来る。ThO2、LaO2などを生成するために、初めにTh層またはLa層を形成し、次にその層を酸化させてよい。あるいは、酸化雰囲気において金属ThまたはLaを堆積することにより、直接、酸化物層を形成してよい。後者の方法は、イオンビームまたは電子ビームにより層を研磨してラフネスを低減させることによって仕上げることができる。
1.極端紫外線(EUV)放射用のかすめ入射リフレクタであって、
第1範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射するEUV放射を少なくとも部分的に反射するように構成された第1ミラー層であって、入射角の該第1範囲に重なり、かつ該第1範囲を超えて及ぶ入射角の第2範囲でEUV放射を透過させるように構成された第1ミラー層と、
前記第2範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射し、かつ前記第1ミラー層を通過する、EUV放射を反射するように構成された、前記第1ミラー層の下の多層ミラー構造と、を備える、
かすめ入射リフレクタ。
2.前記第1ミラー層は、20nm未満の厚さを有する、前記1に記載のかすめ入射リフレクタ。
3.角度の前記第1範囲内にある第3範囲のかすめ入射角でのEUV放射の向上した反射率をもたらすように構成された、前記第1ミラー層の上の第2ミラー層をさらに備える、前記1に記載のかすめ入射リフレクタ。
4.前記第2層は、10nm未満の厚さを有し、0度から10度未満まで及ぶかすめ入射角の範囲に対して40%より高い反射率を有する、前記1に記載のかすめ入射リフレクタ。
5.前記第1ミラー層は、前記第2範囲のかすめ入射角でのEUV放射の向上した反射率をもたらすように、前記多層ミラー構造の表面の一部のみを占める、前記1に記載のかすめ入射リフレクタ。
6.前記リフレクタは、6nm〜7nmの範囲のEUV波長に対して動作するように構成される、前記1に記載のかすめ入射リフレクタ。
7.前記第1ミラー層は、15nm〜17nmの範囲の厚さを有し、ThO2から形成され、0度より大きく12度より小さいかすめ入射角の前記第1範囲に対して40%より高い反射率を有する、前記6に記載のかすめ入射リフレクタ。
8.かすめ入射角の前記第2範囲は、12度以上かつ14度以下であり、
前記多層ミラー構造は、多数の積層エレメントから形成され、各積層エレメントは第1サブユニットと、該第1サブユニットの上の第2サブユニットとを有し、該第2サブユニットは該第1サブユニットの屈折率より低い屈折率を有する、前記7に記載のかすめ入射リフレクタ。
9.前記第1サブユニットおよび前記第2サブユニットの材料は、Th、La、U、B、重金属元素の窒化物、酸化物、ホウ化物、フッ化物、および軽元素の炭化物からなる群から選択される、前記8に記載のかすめ入射リフレクタ。
10.前記リフレクタは、13nm〜14nmの範囲のEUV波長に対して動作するように構成される、前記1に記載のかすめ入射リフレクタ。
11.前記第1ミラー層は、15nm〜17nmの範囲の厚さを有し、Ruから形成され、0度より大きく25度より小さいかすめ入射角の前記第1範囲に対して40%より高い反射率を有する、前記10に記載のかすめ入射リフレクタ。
12.かすめ入射角の前記第2範囲は、25度以上かつ30度以下であり、
前記多層ミラー構造は、多数の積層エレメントから形成され、各積層エレメントは第1サブユニットと、該第1サブユニットの上の第2サブユニットとを有し、該第2サブユニットは該第1サブユニットの屈折率より低い屈折率を有する、前記11に記載のかすめ入射リフレクタ。
13.前記第1サブユニットおよび前記第2サブユニットの材料は、Mo、Si、Ru、およびダイヤモンドライクカーボンからなる群から選択される、前記12に記載のかすめ入射リフレクタ。
14.前記多層ミラー構造の周期および組成のうちの少なくとも1つは、最大反射率のかすめ入射角が前記多層ミラー構造にわたって変化するように、前記多層ミラー構造にわたって変化する、前記1に記載のかすめ入射リフレクタ。
15.前記1に記載のかすめ入射リフレクタを備える、リソグラフィ装置。
16.極端紫外線(EUV)放射を反射するように構成されたかすめ入射リフレクタを製造する方法であって、
多層ミラー構造の上の第1ミラー層と、前記多層ミラー構造の上の表面構造とを堆積することを含み、
前記第1ミラー層は、第1範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射するEUV放射を少なくとも部分的に反射するように構成され、該第1ミラー層は、入射角の該第1範囲に重なり、かつ該第1範囲を超えて及ぶ入射角の第2範囲でEUV放射を透過させるように構成され、前記多層ミラー構造は、前記第2範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射し、かつ前記第1ミラー層を通過する、EUV放射を反射するように構成される、
方法。
17.リソグラフィプロセスによりデバイスを製造する方法であって、
パターニングデバイスを、照明システムを介してEUV放射源からの極端紫外線(EUV)放射で照明することと、
前記パターニングデバイスの像を、投影システムを介して前記EUV放射の投影によって基板上に投影することと、を含み、
前記照明システムおよび前記投影システムのうちの少なくとも1つは、前記1に記載のかすめ入射リフレクタを備える、
方法。
Claims (17)
- 極端紫外線(EUV)放射用のかすめ入射リフレクタであって、
第1範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射するEUV放射を少なくとも部分的に反射するように構成された第1ミラー層であって、入射角の該第1範囲に重なり、かつ該第1範囲を超えて及ぶ入射角の第2範囲でEUV放射を透過させるように構成された第1ミラー層と、
前記第2範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射し、かつ前記第1ミラー層を通過する、EUV放射を反射するように構成された、前記第1ミラー層の下の多層ミラー構造と、を備える、
かすめ入射リフレクタ。 - 前記第1ミラー層は、20nm未満の厚さを有する、請求項1に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 角度の前記第1範囲内にある第3範囲のかすめ入射角でのEUV放射の向上した反射率をもたらすように構成された、前記第1ミラー層の上の第2ミラー層をさらに備える、請求項1または2に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 前記第2層は、10nm未満の厚さを有し、0度から10度未満まで及ぶかすめ入射角の範囲に対して40%より高い反射率を有する、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 前記第1ミラー層は、前記第2範囲のかすめ入射角でのEUV放射の向上した反射率をもたらすように、前記多層ミラー構造の表面の一部のみを占める、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 前記リフレクタは、6nm〜7nmの範囲のEUV波長に対して動作するように構成される、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 前記第1ミラー層は、15nm〜17nmの範囲の厚さを有し、ThO2から形成され、0度より大きく12度より小さいかすめ入射角の前記第1範囲に対して40%より高い反射率を有する、請求項6に記載のかすめ入射リフレクタ。
- かすめ入射角の前記第2範囲は、12度以上かつ14度以下であり、
前記多層ミラー構造は、多数の積層エレメントから形成され、各積層エレメントは第1サブユニットと、該第1サブユニットの上の第2サブユニットとを有し、該第2サブユニットは該第1サブユニットの屈折率より低い屈折率を有する、請求項7に記載のかすめ入射リフレクタ。 - 前記第1サブユニットおよび前記第2サブユニットの材料は、Th、La、U、B、重金属元素の窒化物、酸化物、ホウ化物、フッ化物、および軽元素の炭化物からなる群から選択される、請求項8に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 前記リフレクタは、13nm〜14nmの範囲のEUV波長に対して動作するように構成される、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 前記第1ミラー層は、15nm〜17nmの範囲の厚さを有し、Ruから形成され、0度より大きく25度より小さいかすめ入射角の前記第1範囲に対して40%より高い反射率を有する、請求項10に記載のかすめ入射リフレクタ。
- かすめ入射角の前記第2範囲は、25度以上かつ30度以下であり、
前記多層ミラー構造は、多数の積層エレメントから形成され、各積層エレメントは第1サブユニットと、該第1サブユニットの上の第2サブユニットとを有し、該第2サブユニットは該第1サブユニットの屈折率より低い屈折率を有する、請求項11に記載のかすめ入射リフレクタ。 - 前記第1サブユニットおよび前記第2サブユニットの材料は、Mo、Si、Ru、およびダイヤモンドライクカーボンからなる群から選択される、請求項12に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 前記多層ミラー構造の周期および組成のうちの少なくとも1つは、最大反射率のかすめ入射角が前記多層ミラー構造にわたって変化するように、前記多層ミラー構造にわたって変化する、請求項1乃至13のいずれか1項に記載のかすめ入射リフレクタ。
- 請求項1乃至14のいずれか1項に記載のかすめ入射リフレクタを備える、リソグラフィ装置。
- 極端紫外線(EUV)放射を反射するように構成されたかすめ入射リフレクタを製造する方法であって、
多層ミラー構造の上の第1ミラー層と、前記多層ミラー構造の上の表面構造とを堆積することを含み、
前記第1ミラー層は、第1範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射するEUV放射を少なくとも部分的に反射するように構成され、該第1ミラー層は、入射角の該第1範囲に重なり、かつ該第1範囲を超えて及ぶ入射角の第2範囲でEUV放射を透過させるように構成され、前記多層ミラー構造は、前記第2範囲のかすめ入射角で前記リフレクタに入射し、かつ前記第1ミラー層を通過する、EUV放射を反射するように構成される、
方法。 - リソグラフィプロセスによりデバイスを製造する方法であって、
パターニングデバイスを、照明システムを介してEUV放射源からの極端紫外線(EUV)放射で照明することと、
前記パターニングデバイスの像を、投影システムを介して前記EUV放射の投影によって基板上に投影することと、を含み、
前記照明システムおよび前記投影システムのうちの少なくとも1つは、請求項1乃至14のいずれか1項に記載のかすめ入射リフレクタを備える、
方法。
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