JP2011003908A5 - - Google Patents
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前記課題を解決するために、本発明の第1形態では、光源からの光で被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させる光学系と、
前記照明光学装置の光軸と交差する方向に沿って移動可能であって、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子と、該偏光変換素子の前記照明光学装置の光路中における前記交差する方向での位置を所定位置に設定する駆動部とを備え、前記照明瞳面上もしくは前記その近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更する偏光変換部と、
を含むことを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させる光学系と、
前記照明光学装置の光軸と交差する方向に沿って移動可能であって、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子と、該偏光変換素子の前記照明光学装置の光路中における前記交差する方向での位置を所定位置に設定する駆動部とを備え、前記照明瞳面上もしくは前記その近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更する偏光変換部と、
を含むことを特徴とする照明光学装置を提供する。
本発明の第2形態では、第1形態の照明光学装置を備え、
該照明光学装置により照明された所定のパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
該照明光学装置により照明された所定のパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
本発明の第3形態では、光源からの光で照明された所定のパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させること、および、
前記照明瞳面上又はその近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更すること、
を含み、
前記変更することは、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子を照明光路と交差する方向に沿って移動させることを含むことを特徴とする露光方法を提供する。
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させること、および、
前記照明瞳面上又はその近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更すること、
を含み、
前記変更することは、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子を照明光路と交差する方向に沿って移動させることを含むことを特徴とする露光方法を提供する。
本発明の第4形態では、第3形態露光方法を用いて、所定のパターンを感光性基板に露光すること、および、
前記露光された前記感光性基板を現像すること、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
前記露光された前記感光性基板を現像すること、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
Claims (23)
- 光源からの光で被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させる光学系と、
前記照明光学装置の光軸と交差する方向に沿って移動可能であって、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子と、該偏光変換素子の前記照明光学装置の光路中における前記交差する方向での位置を所定位置に設定する駆動部とを備え、前記照明瞳面上もしくは前記その近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更する偏光変換部と、
を含むことを特徴とする照明光学装置。 - 前記第1領域に分布される前記光は前記偏光変換素子を通過せず、前記第2領域に分布される光は前記偏光変換素子を通過することを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。
- 前記偏光変換部は、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する別の偏光変換素子をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の照明光学装置。
- 前記被照射面へ向かう光の偏光状態を測定するための偏光状態測定器をさらに備え、
前記駆動部は、前記偏光状態測定器の測定結果に応じて、前記偏光変換素子を移動させることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の照明光学装置。 - 前記分布させる光学系は、前記照明光学装置の光路を横切る面に二次元的に配置された複数の光学要素を有するオプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータからの光束を前記被照射面に導くコンデンサー光学系とをさらに備え、
前記偏光変換素子は、前記オプティカルインテグレータの入射側の光路中に配置されることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の照明光学装置。 - 前記分布させる光学系は、そのファーフィールドに所定の光強度分布を形成する光束変換素子と、該光束変換素子からの光を前記照明瞳面又は前記その近傍の面に導く光学系とを備えることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の照明光学装置。
- 前記光束変換素子は、回折光学素子を備えることを特徴とする請求項6に記載の照明光学装置。
- 前記偏光変換素子は、入射する直線偏光に旋光角度を可変的に付与するための可変旋光部材を有することを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の照明光学装置。
- 前記被照射面に達する光の偏光状態を測定するための偏光状態測定器をさらに備え、
前記駆動部は、前記偏光状態測定器の測定結果に応じて、前記可変旋光部材を移動させることを特徴とする請求項8に記載の照明光学装置。 - 前記可変旋光部材は、その結晶光学軸が前記光軸に平行になるように配置されていることを特徴とする請求項8に記載の照明光学装置。
- 前記偏光変換素子は、入射光と射出光との間に位相差を可変的に付与するための可変位相差部材を有することを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載の照明光学装置。
- 前記被照射面に達する光の偏光状態を測定するための偏光状態測定器をさらに備え、
前記駆動部は、前記偏光状態測定器の測定結果に応じて、前記可変位相差部材を移動させることを特徴とする請求項11に記載の照明光学装置。 - 前記偏光変換素子は、入射光の楕円率を調整する部材と、入射光の偏光方向を調整する部材とを備えていることを特徴とする請求項1乃至12の何れか一項に記載の照明光学装置。
- 請求項1乃至13の何れか一項に記載の照明光学装置を備え、
該照明光学装置により照明された所定のパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置。 - 光源からの光で照明された所定のパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させること、および、
前記照明瞳面上又はその近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更すること、
を含み、
前記変更することは、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子を照明光路と交差する方向に沿って移動させることを含むことを特徴とする露光方法。 - 前記第1領域に分布される前記光は前記偏光変換素子を通過せず、前記第2領域に分布される光は前記偏光変換素子を通過することを特徴とする請求項15に記載の露光方法。
- 前記変更することは、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する別の偏光変換素子を前記照明光路と交差する方向に沿って移動させることを含むことを特徴とする請求項15または16に記載の露光方法。
- 前記偏光変換素子を経由した光の偏光状態を測定すること、および、
前記測定された前記偏光状態に応じて前記偏光変換素子を移動させること、
をさらに含むことを特徴とする請求項15乃至17の何れか一項に記載の露光方法。 - オプティカルインテグレータを用いて入射する光束を二次元的に分割すること、および、
該分割された光束で前記所定のパターンを重畳的に照明すること、
をさらに含み、
前記移動させることは、前記オプティカルインテグレータの入射側の光路中で前記偏光変換素子を移動させることを含む請求項15乃至19の何れか一項に記載の露光方法。 - 前記分布させることは、
光束変換素子を用いて、該光束変換素子のファーフィールドに所定の光強度分布を形成すること、および、
該光束変換素子からの光を前記照明瞳面又は前記その近傍の面に導くこと、
を含むことを特徴とする請求項15乃至19の何れか一項に記載の露光方法。 - 前記偏光変換素子は、入射する直線偏光に旋光角度を付与することを特徴とする請求項15乃至20の何れか一項に記載の露光方法。
- 前記偏光変換素子は、入射光と射出光との間に位相差を付与することを特徴とする請求項15乃至21の何れか一項に記載の露光方法。
- 請求項15乃至22の何れか一項に記載の露光方法を用いて、所定のパターンを感光性基板に露光すること、および、
前記露光された前記感光性基板を現像すること、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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TW200710591A (en) * | 2005-06-13 | 2007-03-16 | Asml Netherlands Bv | Lithographic device, and method |
DE102006031807A1 (de) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Depolarisator |
EP1932061A1 (de) | 2005-10-04 | 2008-06-18 | Carl Zeiss SMT AG | Vorrichtung und verfahren zur beeinflussung der polarisationsverteilung in einem optischen system, insbesondere in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage |
WO2007055120A1 (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
JP2007220767A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
EP2009678A4 (en) * | 2006-04-17 | 2011-04-06 | Nikon Corp | OPTICAL LIGHTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD |
JP5105316B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2012-12-26 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
DE102006032810A1 (de) | 2006-07-14 | 2008-01-17 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungsoptik für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage, Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithografisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement |
JP5308638B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2013-10-09 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系 |
JP2008108851A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Canon Inc | 照明装置及び当該照明装置を有する露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
DE102007027985A1 (de) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere Beleuchtungseinrichtung oder Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US7952685B2 (en) * | 2007-03-15 | 2011-05-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Illuminator for a lithographic apparatus and method |
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US7872731B2 (en) * | 2007-04-20 | 2011-01-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7817250B2 (en) * | 2007-07-18 | 2010-10-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithographic projection exposure apparatus |
DE102007043958B4 (de) * | 2007-09-14 | 2011-08-25 | Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 | Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US8451427B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-05-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method |
US20090091730A1 (en) * | 2007-10-03 | 2009-04-09 | Nikon Corporation | Spatial light modulation unit, illumination apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5267029B2 (ja) | 2007-10-12 | 2013-08-21 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
EP2200070A4 (en) * | 2007-10-12 | 2012-11-21 | Nikon Corp | OPTICAL LIGHTING APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD AND APPARATUS |
SG10201602750RA (en) * | 2007-10-16 | 2016-05-30 | Nikon Corp | Illumination Optical System, Exposure Apparatus, And Device Manufacturing Method |
KR101562073B1 (ko) | 2007-10-16 | 2015-10-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
US8379187B2 (en) | 2007-10-24 | 2013-02-19 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2010004008A (ja) * | 2007-10-31 | 2010-01-07 | Nikon Corp | 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
US9116346B2 (en) * | 2007-11-06 | 2015-08-25 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5326259B2 (ja) | 2007-11-08 | 2013-10-30 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
DE102007055062A1 (de) | 2007-11-16 | 2009-05-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, sowie Verfahren zur Charakterisierung eines optischen Systems |
DE102007055567A1 (de) | 2007-11-20 | 2009-05-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System |
US8040492B2 (en) * | 2007-11-27 | 2011-10-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus |
TW200929333A (en) | 2007-12-17 | 2009-07-01 | Nikon Corp | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
EP2233960A4 (en) | 2007-12-17 | 2012-01-25 | Nikon Corp | SPATIAL LIGHT MODULATION UNIT, OPTICAL LIGHTING SYSTEM, ALIGNMENT DEVICE AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD |
DE102008003289A1 (de) | 2008-01-05 | 2009-07-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP2009194107A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Canon Inc | 有効光源形状のデータベースの生成方法、光学像の算出方法、プログラム、露光方法及びデバイス製造方法 |
US8908151B2 (en) | 2008-02-14 | 2014-12-09 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, compensation filter, and exposure optical system |
WO2009125511A1 (ja) | 2008-04-11 | 2009-10-15 | 株式会社ニコン | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
US20090257043A1 (en) * | 2008-04-14 | 2009-10-15 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, and exposure optical system |
KR101695034B1 (ko) | 2008-05-28 | 2017-01-10 | 가부시키가이샤 니콘 | 공간 광 변조기의 검사 장치, 조명 광학계, 노광 장치, 검사 방법, 조명 광학계의 조정 방법, 조명 방법, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
US7796259B2 (en) * | 2008-07-09 | 2010-09-14 | Weifour, Inc. | Rapid acquisition ellipsometry |
DE102008040611A1 (de) | 2008-07-22 | 2010-01-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Modifizieren einer Polarisationsverteilung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
US20100123883A1 (en) * | 2008-11-17 | 2010-05-20 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5541164B2 (ja) | 2008-12-24 | 2014-07-09 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
WO2010073794A1 (ja) | 2008-12-24 | 2010-07-01 | 株式会社 ニコン | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP4447651B1 (ja) * | 2009-02-06 | 2010-04-07 | 武蔵オプティカルシステム株式会社 | レンズアダプタ |
JP5633021B2 (ja) * | 2009-06-29 | 2014-12-03 | 株式会社ブイ・テクノロジー | アライメント方法、アライメント装置及び露光装置 |
TW201102765A (en) | 2009-07-01 | 2011-01-16 | Nikon Corp | Grinding device, grinding method, exposure device and production method of a device |
US20110037962A1 (en) * | 2009-08-17 | 2011-02-17 | Nikon Corporation | Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5531518B2 (ja) * | 2009-09-08 | 2014-06-25 | 株式会社ニコン | 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
DE102011003035A1 (de) | 2010-02-08 | 2011-08-11 | Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 | Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, sowie optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP5842808B2 (ja) | 2010-02-20 | 2016-01-13 | 株式会社ニコン | 瞳強度分布を調整する方法 |
US20110205519A1 (en) * | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Nikon Corporation | Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9389519B2 (en) | 2010-02-25 | 2016-07-12 | Nikon Corporation | Measuring method and measuring apparatus of pupil transmittance distribution, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method |
EP2369413B1 (en) * | 2010-03-22 | 2021-04-07 | ASML Netherlands BV | Illumination system and lithographic apparatus |
DE102010029339A1 (de) | 2010-05-27 | 2011-12-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren |
DE102010029905A1 (de) | 2010-06-10 | 2011-12-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP2012004465A (ja) | 2010-06-19 | 2012-01-05 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP5366019B2 (ja) | 2010-08-02 | 2013-12-11 | 株式会社ニコン | 伝送光学系、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
KR101884486B1 (ko) * | 2010-09-28 | 2018-08-01 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 광학 시스템 및 이미지 배치 에러 감소 방법 |
US20120212722A1 (en) | 2011-02-21 | 2012-08-23 | Nikon Corporation | Fast Illumination Simulator Based on a Calibrated Flexible Point Spread Function |
DE102011076434A1 (de) | 2011-05-25 | 2012-11-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren |
WO2012169090A1 (ja) | 2011-06-06 | 2012-12-13 | 株式会社ニコン | 照明方法、照明光学装置、及び露光装置 |
TWI557432B (zh) | 2011-06-13 | 2016-11-11 | 尼康股份有限公司 | 照明方法、曝光方法、元件製造方法、照明光學系統、以及曝光裝置 |
DE102011079548A1 (de) | 2011-07-21 | 2012-07-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren |
DE102011079777A1 (de) | 2011-07-26 | 2013-01-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikrolithographisches Belichtungsverfahren |
JPWO2013018799A1 (ja) | 2011-08-04 | 2015-03-05 | 株式会社ニコン | 照明装置 |
JP6103467B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2017-03-29 | 株式会社ニコン | 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
DE102011085334A1 (de) | 2011-10-27 | 2013-05-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System in einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US9732934B2 (en) | 2011-10-28 | 2017-08-15 | Nikon Corporation | Illumination device for optimizing polarization in an illumination pupil |
DE102012200370A1 (de) | 2012-01-12 | 2013-08-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines polarisationsbeeinflussenden optischen Elements, sowie polarisationsbeeinflussendes optisches Element |
DE102012200368A1 (de) * | 2012-01-12 | 2013-07-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012203944A1 (de) | 2012-03-14 | 2013-10-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Justage eines optischen Systems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
CN104220931B (zh) | 2012-03-29 | 2016-10-12 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 补偿微光刻投射曝光***的通道缺陷的设备及方法 |
DE102012205045A1 (de) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012206154A1 (de) | 2012-04-16 | 2013-06-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren |
DE102012206159A1 (de) | 2012-04-16 | 2013-06-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung |
DE102012206148A1 (de) | 2012-04-16 | 2013-10-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zur Justage eines optischen Systems |
KR102170864B1 (ko) | 2012-05-02 | 2020-10-28 | 가부시키가이샤 니콘 | 동공 휘도 분포의 평가 방법 및 개선 방법, 조명 광학계 및 그 조정 방법, 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
JP5885173B2 (ja) * | 2012-06-15 | 2016-03-15 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置 |
DE102012212864A1 (de) | 2012-07-23 | 2013-08-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012214052A1 (de) | 2012-08-08 | 2014-02-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikrolithographisches Belichtungsverfahren, sowie mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
DE102012214198A1 (de) | 2012-08-09 | 2013-05-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
CN102890058B (zh) * | 2012-09-18 | 2014-07-30 | 上海仪电物理光学仪器有限公司 | 多波长旋光仪波长转换机构 |
DE102012217769A1 (de) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren |
DE102012223217B9 (de) * | 2012-12-14 | 2014-07-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102013200137A1 (de) | 2013-01-08 | 2013-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
DE102013204453B4 (de) | 2013-03-14 | 2019-11-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente |
US8922753B2 (en) | 2013-03-14 | 2014-12-30 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus |
JP2015025977A (ja) * | 2013-07-26 | 2015-02-05 | 日本精機株式会社 | 走査型投影装置 |
JP5534276B2 (ja) * | 2013-08-23 | 2014-06-25 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
US20150294037A1 (en) * | 2014-04-11 | 2015-10-15 | General Electric Company | System and method for automated substation design and configuration |
JP5839076B2 (ja) * | 2014-04-25 | 2016-01-06 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
CN105549327B (zh) * | 2014-10-29 | 2018-03-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 曝光装置的调整装置及调整方法 |
CN104991258A (zh) * | 2015-07-16 | 2015-10-21 | 哈尔滨工业大学 | 红外激光匀光照明探测*** |
KR102460551B1 (ko) * | 2015-10-29 | 2022-10-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 |
WO2018168923A1 (ja) | 2017-03-16 | 2018-09-20 | 株式会社ニコン | 制御装置及び制御方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法、データ生成方法、並びに、プログラム |
KR102384289B1 (ko) * | 2017-10-17 | 2022-04-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 |
TWI670541B (zh) * | 2018-07-04 | 2019-09-01 | 陽程科技股份有限公司 | 偏光對位檢測裝置及檢測方法 |
JP6979391B2 (ja) * | 2018-07-11 | 2021-12-15 | 株式会社日立製作所 | 距離測定装置、距離測定方法、及び立体形状測定装置 |
CN113498488A (zh) * | 2019-03-19 | 2021-10-12 | 株式会社村田制作所 | 光学装置 |
KR102584252B1 (ko) * | 2019-06-10 | 2023-10-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 어닐 장치 |
TWI728831B (zh) * | 2019-08-14 | 2021-05-21 | 香港商立景創新有限公司 | 可對焦成像裝置 |
JP7469867B2 (ja) * | 2019-11-26 | 2024-04-17 | 三星電子株式会社 | エリプソメータ及び半導体装置の検査装置 |
US20210239893A1 (en) * | 2020-01-30 | 2021-08-05 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Polarization manipulation of free-space electromagnetic radiation fields |
TWI773067B (zh) * | 2021-01-04 | 2022-08-01 | 財團法人工業技術研究院 | 雷射光路之調校方法與雷射光路之調校裝置 |
TW202236117A (zh) * | 2021-02-03 | 2022-09-16 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 膜厚分析方法、膜厚分析裝置及記錄媒體 |
Family Cites Families (116)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2465241A1 (fr) * | 1979-09-10 | 1981-03-20 | Thomson Csf | Dispositif illuminateur destine a fournir un faisceau d'eclairement a distribution d'intensite ajustable et systeme de transfert de motifs comprenant un tel dispositif |
US4744615A (en) * | 1986-01-29 | 1988-05-17 | International Business Machines Corporation | Laser beam homogenizer |
JP2527807B2 (ja) * | 1989-05-09 | 1996-08-28 | 住友大阪セメント株式会社 | 光学的連想識別装置 |
JP2995820B2 (ja) * | 1990-08-21 | 1999-12-27 | 株式会社ニコン | 露光方法及び方法,並びにデバイス製造方法 |
US7656504B1 (en) * | 1990-08-21 | 2010-02-02 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus with luminous flux distribution |
US6252647B1 (en) * | 1990-11-15 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US6710855B2 (en) * | 1990-11-15 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
KR950004968B1 (ko) * | 1991-10-15 | 1995-05-16 | 가부시키가이샤 도시바 | 투영노광 장치 |
JP2866243B2 (ja) * | 1992-02-10 | 1999-03-08 | 三菱電機株式会社 | 投影露光装置及び半導体装置の製造方法 |
US5312513A (en) * | 1992-04-03 | 1994-05-17 | Texas Instruments Incorporated | Methods of forming multiple phase light modulators |
JPH06188169A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-07-08 | Canon Inc | 結像方法及び該方法を用いる露光装置及び該方法を用いるデバイス製造方法 |
US6404482B1 (en) * | 1992-10-01 | 2002-06-11 | Nikon Corporation | Projection exposure method and apparatus |
US5459000A (en) * | 1992-10-14 | 1995-10-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Image projection method and device manufacturing method using the image projection method |
JP2698521B2 (ja) * | 1992-12-14 | 1998-01-19 | キヤノン株式会社 | 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
US5739898A (en) * | 1993-02-03 | 1998-04-14 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus |
JPH06244082A (ja) * | 1993-02-19 | 1994-09-02 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP3463335B2 (ja) * | 1994-02-17 | 2003-11-05 | 株式会社ニコン | 投影露光装置 |
US6304317B1 (en) * | 1993-07-15 | 2001-10-16 | Nikon Corporation | Projection apparatus and method |
JP3099933B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2000-10-16 | 株式会社東芝 | 露光方法及び露光装置 |
US20020080338A1 (en) * | 1994-03-29 | 2002-06-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US5453814A (en) * | 1994-04-13 | 1995-09-26 | Nikon Precision Inc. | Illumination source and method for microlithography |
JPH088177A (ja) * | 1994-04-22 | 1996-01-12 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
US5631721A (en) * | 1995-05-24 | 1997-05-20 | Svg Lithography Systems, Inc. | Hybrid illumination system for use in photolithography |
US5815247A (en) * | 1995-09-21 | 1998-09-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Avoidance of pattern shortening by using off axis illumination with dipole and polarizing apertures |
DE19535392A1 (de) * | 1995-09-23 | 1997-03-27 | Zeiss Carl Fa | Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit |
JPH1079337A (ja) * | 1996-09-04 | 1998-03-24 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
DE19781041B4 (de) * | 1996-10-08 | 2010-02-18 | Citizen Holdings Co., Ltd., Nishitokyo | Optische Vorrichtung |
CN1244021C (zh) * | 1996-11-28 | 2006-03-01 | 株式会社尼康 | 光刻装置和曝光方法 |
US6208407B1 (en) * | 1997-12-22 | 2001-03-27 | Asm Lithography B.V. | Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement |
DE19807120A1 (de) * | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Zeiss Carl Fa | Optisches System mit Polarisationskompensator |
DE69931690T2 (de) * | 1998-04-08 | 2007-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographischer Apparat |
US6238063B1 (en) * | 1998-04-27 | 2001-05-29 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
DE19829612A1 (de) * | 1998-07-02 | 2000-01-05 | Zeiss Carl Fa | Beleuchtungssystem der Mikrolithographie mit Depolarisator |
US6031658A (en) * | 1998-09-25 | 2000-02-29 | University Of Central Florida | Digital control polarization based optical scanner |
US6406148B1 (en) * | 1998-12-31 | 2002-06-18 | Texas Instruments Incorporated | Electronic color switching in field sequential video displays |
DE60042186D1 (de) * | 1999-01-06 | 2009-06-25 | Nikon Corp | Onssystems |
JP2001100311A (ja) * | 1999-07-23 | 2001-04-13 | Seiko Epson Corp | プロジェクタ |
WO2001023933A1 (fr) * | 1999-09-29 | 2001-04-05 | Nikon Corporation | Systeme optique de projection |
US6361909B1 (en) * | 1999-12-06 | 2002-03-26 | Industrial Technology Research Institute | Illumination aperture filter design using superposition |
KR20010085493A (ko) * | 2000-02-25 | 2001-09-07 | 시마무라 기로 | 노광장치, 그 조정방법, 및 상기 노광장치를 이용한디바이스 제조방법 |
JP2001264696A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Canon Inc | 照明光学系及びそれを備えた露光装置 |
JP4689064B2 (ja) * | 2000-03-30 | 2011-05-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP3927753B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2007-06-13 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
DE60124524T2 (de) * | 2000-04-25 | 2007-03-08 | Asml Holding, N.V. | Optisches reduktionssystem mit kontrolle der belichtungspolarisation |
JP2003532282A (ja) * | 2000-04-25 | 2003-10-28 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | レチクル回折誘起バイアスのない光学縮小システム |
JP3645801B2 (ja) * | 2000-08-24 | 2005-05-11 | ペンタックス株式会社 | ビーム列検出方法および検出用位相フィルター |
US6870668B2 (en) | 2000-10-10 | 2005-03-22 | Nikon Corporation | Method for evaluating image formation performance |
SE0100336L (sv) * | 2001-02-05 | 2002-08-06 | Micronic Laser Systems Ab | Adresseringsmetod och apparat som använder densamma tekniskt område |
WO2002088843A2 (en) * | 2001-04-24 | 2002-11-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure method and apparatus |
JP3780873B2 (ja) | 2001-05-01 | 2006-05-31 | ソニー株式会社 | 照明装置 |
DE10124803A1 (de) * | 2001-05-22 | 2002-11-28 | Zeiss Carl | Polarisator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisator |
US6737662B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-05-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, control system, computer program, and computer program product |
WO2002103766A1 (fr) * | 2001-06-13 | 2002-12-27 | Nikon Corporation | Procede et systeme d'exposition au balayage, et procede de production d'un dispositif associe |
CN1393702A (zh) * | 2001-06-26 | 2003-01-29 | 山东新光量子科技股份有限公司 | 一种偏光分束棱镜 |
US6831731B2 (en) * | 2001-06-28 | 2004-12-14 | Nikon Corporation | Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system |
US6727992B2 (en) * | 2001-07-06 | 2004-04-27 | Zygo Corporation | Method and apparatus to reduce effects of sheared wavefronts on interferometric phase measurements |
US6788389B2 (en) * | 2001-07-10 | 2004-09-07 | Nikon Corporation | Production method of projection optical system |
JP2003068600A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-03-07 | Canon Inc | 露光装置、および基板チャックの冷却方法 |
TW554411B (en) * | 2001-08-23 | 2003-09-21 | Nikon Corp | Exposure apparatus |
US6970232B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
JP2003202523A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-07-18 | Nec Viewtechnology Ltd | 偏光ユニット、該偏光ユニットを用いた偏光照明装置及び該偏光照明装置を用いた投写型表示装置 |
US6577379B1 (en) * | 2001-11-05 | 2003-06-10 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for shaping and/or orienting radiation irradiating a microlithographic substrate |
US6900915B2 (en) * | 2001-11-14 | 2005-05-31 | Ricoh Company, Ltd. | Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror |
TW567406B (en) * | 2001-12-12 | 2003-12-21 | Nikon Corp | Diffraction optical device, refraction optical device, illuminating optical device, exposure system and exposure method |
US20050134825A1 (en) * | 2002-02-08 | 2005-06-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Polarization-optimized illumination system |
JP2003257812A (ja) | 2002-02-27 | 2003-09-12 | Nikon Corp | 結像光学系の評価方法、結像光学系の調整方法、露光装置および露光方法 |
WO2003075328A1 (fr) * | 2002-03-01 | 2003-09-12 | Nikon Corporation | Procede de reglage d'un systeme optique de projection, procede de prediction, procede d'evaluation, procede de reglage, procede d'exposition, dispositif d'exposition, programme et procede de fabrication dudit dispositif |
US20050094268A1 (en) * | 2002-03-14 | 2005-05-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical system with birefringent optical elements |
JP3950732B2 (ja) * | 2002-04-23 | 2007-08-01 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、照明方法及び露光装置 |
JP4333078B2 (ja) * | 2002-04-26 | 2009-09-16 | 株式会社ニコン | 投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法 |
US20050095749A1 (en) * | 2002-04-29 | 2005-05-05 | Mathias Krellmann | Device for protecting a chip and method for operating a chip |
TW200307179A (en) * | 2002-05-27 | 2003-12-01 | Nikon Corp | Lighting device, exposing device and exposing method |
SG108320A1 (en) * | 2002-05-31 | 2005-01-28 | Asml Netherlands Bv | Kit of parts for assembling an optical element, method of assembling an optical element, optical element, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
JP2004051717A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | バイオマスのガス化装置 |
JP4095376B2 (ja) * | 2002-08-28 | 2008-06-04 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2004104654A (ja) * | 2002-09-12 | 2004-04-02 | Ricoh Co Ltd | 画像読取装置 |
JP2004111579A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
KR100480620B1 (ko) * | 2002-09-19 | 2005-03-31 | 삼성전자주식회사 | 마이크로 미러 어레이를 구비한 노광 장치 및 이를 이용한노광 방법 |
JP3958163B2 (ja) * | 2002-09-19 | 2007-08-15 | キヤノン株式会社 | 露光方法 |
US6844927B2 (en) * | 2002-11-27 | 2005-01-18 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and methods for removing optical abberations during an optical inspection |
TW200412617A (en) * | 2002-12-03 | 2004-07-16 | Nikon Corp | Optical illumination device, method for adjusting optical illumination device, exposure device and exposure method |
EP1429190B1 (en) * | 2002-12-10 | 2012-05-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and method |
US6891655B2 (en) * | 2003-01-02 | 2005-05-10 | Micronic Laser Systems Ab | High energy, low energy density, radiation-resistant optics used with micro-electromechanical devices |
EP1857880B1 (en) * | 2003-04-09 | 2015-09-16 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus and device manufacturing method |
US6842223B2 (en) * | 2003-04-11 | 2005-01-11 | Nikon Precision Inc. | Enhanced illuminator for use in photolithographic systems |
TW200507055A (en) * | 2003-05-21 | 2005-02-16 | Nikon Corp | Polarized cancellation element, illumination device, exposure device, and exposure method |
JP2005012190A (ja) | 2003-05-23 | 2005-01-13 | Nikon Corp | 結像光学系の評価方法、結像光学系の調整方法、露光装置および露光方法 |
JP4323903B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2009-09-02 | キヤノン株式会社 | 照明光学系及びそれを用いた露光装置 |
KR101119723B1 (ko) * | 2003-09-26 | 2012-03-23 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로 리소그래피 투영 노광 |
US7408616B2 (en) * | 2003-09-26 | 2008-08-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method |
US6970233B2 (en) * | 2003-12-03 | 2005-11-29 | Texas Instruments Incorporated | System and method for custom-polarized photolithography illumination |
KR101230757B1 (ko) * | 2004-01-16 | 2013-02-06 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 편광변조 광학소자 |
US20070019179A1 (en) * | 2004-01-16 | 2007-01-25 | Damian Fiolka | Polarization-modulating optical element |
TWI505329B (zh) | 2004-02-06 | 2015-10-21 | 尼康股份有限公司 | 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法 |
JP4693088B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2011-06-01 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
JP5159027B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2013-03-06 | キヤノン株式会社 | 照明光学系及び露光装置 |
US7283209B2 (en) * | 2004-07-09 | 2007-10-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for microlithography |
EP1621930A3 (en) * | 2004-07-29 | 2011-07-06 | Carl Zeiss SMT GmbH | Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus |
JP4599936B2 (ja) * | 2004-08-17 | 2010-12-15 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法 |
US7245353B2 (en) * | 2004-10-12 | 2007-07-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method |
GB2419208A (en) * | 2004-10-18 | 2006-04-19 | Qinetiq Ltd | Optical correlation employing an optical bit delay |
US7271874B2 (en) * | 2004-11-02 | 2007-09-18 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for variable polarization control in a lithography system |
JP2006179516A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-07-06 | Toshiba Corp | 露光装置、露光方法及び半導体装置の製造方法 |
US7312852B2 (en) * | 2004-12-28 | 2007-12-25 | Asml Netherlands B.V. | Polarized radiation in lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7345740B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-03-18 | Asml Netherlands B.V. | Polarized radiation in lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI423301B (zh) * | 2005-01-21 | 2014-01-11 | 尼康股份有限公司 | 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法 |
US7317512B2 (en) * | 2005-07-11 | 2008-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Different polarization in cross-section of a radiation beam in a lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20070058151A1 (en) * | 2005-09-13 | 2007-03-15 | Asml Netherlands B.V. | Optical element for use in lithography apparatus and method of conditioning radiation beam |
JP2008041710A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Fujitsu Ltd | 照明光学装置、露光方法及び設計方法 |
US8451427B2 (en) * | 2007-09-14 | 2013-05-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method |
US20090091730A1 (en) * | 2007-10-03 | 2009-04-09 | Nikon Corporation | Spatial light modulation unit, illumination apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
KR101562073B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2015-10-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
US8379187B2 (en) * | 2007-10-24 | 2013-02-19 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9116346B2 (en) * | 2007-11-06 | 2015-08-25 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US20110037962A1 (en) * | 2009-08-17 | 2011-02-17 | Nikon Corporation | Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US20110205519A1 (en) * | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Nikon Corporation | Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
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