JP2011003908A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2011003908A5
JP2011003908A5 JP2010145155A JP2010145155A JP2011003908A5 JP 2011003908 A5 JP2011003908 A5 JP 2011003908A5 JP 2010145155 A JP2010145155 A JP 2010145155A JP 2010145155 A JP2010145155 A JP 2010145155A JP 2011003908 A5 JP2011003908 A5 JP 2011003908A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
conversion element
optical
polarization state
polarization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010145155A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5293689B2 (ja
JP2011003908A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010145155A priority Critical patent/JP5293689B2/ja
Priority claimed from JP2010145155A external-priority patent/JP5293689B2/ja
Publication of JP2011003908A publication Critical patent/JP2011003908A/ja
Publication of JP2011003908A5 publication Critical patent/JP2011003908A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5293689B2 publication Critical patent/JP5293689B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

前記課題を解決するために、本発明の第1形態では、光源からの光で被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させる光学系と、
前記照明光学装置の光軸と交差する方向に沿って移動可能であって、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子と、該偏光変換素子の前記照明光学装置の光路中における前記交差する方向での位置を所定位置に設定する駆動部とを備え、前記照明瞳面上もしくは前記その近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更する偏光変換部と、
を含むことを特徴とする照明光学装置を提供する。
本発明の第2形態では、第1形態の照明光学装置を備え、
該照明光学装置により照明された所定のパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
本発明の第3形態では、光源からの光で照明された所定のパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、
前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させること、および、
前記照明瞳面上又はその近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更すること、
を含み、
前記変更することは、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子を照明光路と交差する方向に沿って移動させることを含むことを特徴とする露光方法を提供する。
本発明の第4形態では、第3形態露光方法を用いて、所定のパターンを感光性基板に露光すること、および、
前記露光された前記感光性基板を現像すること、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。

Claims (23)

  1. 光源からの光で被照射面を照明する照明光学装置において、
    前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させる光学系と、
    前記照明光学装置の光軸と交差する方向に沿って移動可能であって、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子と、該偏光変換素子の前記照明光学装置の光路中における前記交差する方向での位置を所定位置に設定する駆動部とを備え、前記照明瞳面上もしくは前記その近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更する偏光変換部と、
    を含むことを特徴とする照明光学装置。
  2. 前記第1領域に分布される前記光は前記偏光変換素子を通過せず、前記第2領域に分布される光は前記偏光変換素子を通過することを特徴とする請求項に記載の照明光学装置。
  3. 前記偏光変換部は、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する別の偏光変換素子をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の照明光学装置。
  4. 前記被照射面へ向かう光の偏光状態を測定するための偏光状態測定器をさらに備え、
    前記駆動部は、前記偏光状態測定器の測定結果に応じて、前記偏光変換素子を移動させることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の照明光学装置。
  5. 前記分布させる光学系は、前記照明光学装置の光路を横切る面に二次元的に配置された複数の光学要素を有するオプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータからの光束を前記被照射面に導くコンデンサー光学系とをさらに備え、
    前記偏光変換素子は、前記オプティカルインテグレータの入射側の光路中に配置されることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の照明光学装置。
  6. 前記分布させる光学系は、そのファーフィールドに所定の光強度分布を形成する光束変換素子と、該光束変換素子からの光を前記照明瞳面又は前記その近傍の面に導く光学系とを備えることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の照明光学装置。
  7. 前記光束変換素子は、回折光学素子を備えることを特徴とする請求項6に記載の照明光学装置。
  8. 前記偏光変換素子は、入射する直線偏光に旋光角度を可変的に付与するための可変旋光部材を有することを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の照明光学装置。
  9. 前記被照射面に達する光の偏光状態を測定するための偏光状態測定器をさらに備え、
    前記駆動部は、前記偏光状態測定器の測定結果に応じて、前記可変旋光部材を移動させることを特徴とする請求項8に記載の照明光学装置。
  10. 前記可変旋光部材は、その結晶光学軸が前記光軸に平行になるように配置されていることを特徴とする請求項8に記載の照明光学装置。
  11. 前記偏光変換素子は、入射光と射出光との間に位相差を可変的に付与するための可変位相差部材を有することを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載の照明光学装置。
  12. 前記被照射面に達する光の偏光状態を測定するための偏光状態測定器をさらに備え、
    前記駆動部は、前記偏光状態測定器の測定結果に応じて、前記可変位相差部材を移動させることを特徴とする請求項11に記載の照明光学装置。
  13. 前記偏光変換素子は、入射光の楕円率を調整する部材と、入射光の偏光方向を調整する部材とを備えていることを特徴とする請求項1乃至12の何れか一項に記載の照明光学装置。
  14. 請求項1乃至13の何れか一項に記載の照明光学装置を備え、
    該照明光学装置により照明された所定のパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置
  15. 光源からの光で照明された所定のパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、
    前記光源からの光を照明瞳面またはその近傍の面に分布させること、および、
    前記照明瞳面上又はその近傍の面上の第1領域に分布される光の偏光状態に対して、該第1領域とは異なる第2領域に分布される光の偏光状態を変更すること、
    を含み、
    前記変更することは、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子を照明光路と交差する方向に沿って移動させることを含むことを特徴とする露光方法
  16. 前記第1領域に分布される前記光は前記偏光変換素子を通過せず、前記第2領域に分布される光は前記偏光変換素子を通過することを特徴とする請求項15に記載の露光方法。
  17. 前記変更することは、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する別の偏光変換素子を前記照明光路と交差する方向に沿って移動させることを含むことを特徴とする請求項15または16に記載の露光方法。
  18. 前記偏光変換素子を経由した光の偏光状態を測定すること、および、
    前記測定された前記偏光状態に応じて前記偏光変換素子を移動させること、
    をさらに含むことを特徴とする請求項15乃至17の何れか一項に記載の露光方法
  19. オプティカルインテグレータを用いて入射する光束を二次元的に分割すること、および、
    該分割された光束で前記所定のパターンを重畳的に照明すること、
    をさらに含み、
    前記移動させることは、前記オプティカルインテグレータの入射側の光路中で前記偏光変換素子を移動させることを含む請求項15乃至19の何れか一項に記載の露光方法
  20. 前記分布させることは、
    光束変換素子を用いて、該光束変換素子のファーフィールドに所定の光強度分布を形成すること、および、
    該光束変換素子からの光を前記照明瞳面又は前記その近傍の面に導くこと、
    を含むことを特徴とする請求項15乃至19何れか一項に記載の露光方法
  21. 前記偏光変換素子は、入射する直線偏光に旋光角度を付与することを特徴とする請求項15乃至20の何れか一項に記載の露光方法
  22. 前記偏光変換素子は、入射光と射出光との間に位相差を付与することを特徴とする請求項15乃至21の何れか一項に記載の露光方法
  23. 請求項15乃至22の何れか一項に記載の露光方法を用いて、所定のパターンを感光性基板に露光すること、および、
    前記露光された前記感光性基板を現像すること、
    を含むことを特徴とするデバイス製造方法
JP2010145155A 2005-01-21 2010-06-25 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法 Expired - Fee Related JP5293689B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010145155A JP5293689B2 (ja) 2005-01-21 2010-06-25 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005013576 2005-01-21
JP2005013576 2005-01-21
JP2005120709 2005-04-19
JP2005120709 2005-04-19
JP2010145155A JP5293689B2 (ja) 2005-01-21 2010-06-25 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006553907A Division JP4582096B2 (ja) 2005-01-21 2006-01-18 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011130545A Division JP5644685B2 (ja) 2005-01-21 2011-06-10 照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011003908A JP2011003908A (ja) 2011-01-06
JP2011003908A5 true JP2011003908A5 (ja) 2013-05-02
JP5293689B2 JP5293689B2 (ja) 2013-09-18

Family

ID=36692238

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006553907A Expired - Fee Related JP4582096B2 (ja) 2005-01-21 2006-01-18 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP2010145155A Expired - Fee Related JP5293689B2 (ja) 2005-01-21 2010-06-25 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP2011130545A Expired - Fee Related JP5644685B2 (ja) 2005-01-21 2011-06-10 照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006553907A Expired - Fee Related JP4582096B2 (ja) 2005-01-21 2006-01-18 照明光学装置の調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011130545A Expired - Fee Related JP5644685B2 (ja) 2005-01-21 2011-06-10 照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20070146676A1 (ja)
EP (3) EP3153925A3 (ja)
JP (3) JP4582096B2 (ja)
KR (6) KR101431359B1 (ja)
CN (3) CN101164142B (ja)
HK (4) HK1117271A1 (ja)
IL (2) IL182064A (ja)
SG (1) SG159495A1 (ja)
TW (4) TWI423301B (ja)
WO (1) WO2006077849A1 (ja)

Families Citing this family (118)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1857880B1 (en) 2003-04-09 2015-09-16 Nikon Corporation Exposure method and apparatus and device manufacturing method
TWI360158B (en) 2003-10-28 2012-03-11 Nikon Corp Projection exposure device,exposure method and dev
TW201809801A (zh) 2003-11-20 2018-03-16 日商尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法
US20070019179A1 (en) * 2004-01-16 2007-01-25 Damian Fiolka Polarization-modulating optical element
KR101230757B1 (ko) 2004-01-16 2013-02-06 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 편광변조 광학소자
US8270077B2 (en) * 2004-01-16 2012-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarization-modulating optical element
TWI395068B (zh) 2004-01-27 2013-05-01 尼康股份有限公司 光學系統、曝光裝置以及曝光方法
TWI505329B (zh) 2004-02-06 2015-10-21 尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
US7324280B2 (en) 2004-05-25 2008-01-29 Asml Holding N.V. Apparatus for providing a pattern of polarization
WO2006078843A1 (en) * 2005-01-19 2006-07-27 Litel Instruments Method and apparatus for determination of source polarization matrix
TWI423301B (zh) * 2005-01-21 2014-01-11 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
US7375799B2 (en) 2005-02-25 2008-05-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP4612849B2 (ja) * 2005-03-01 2011-01-12 キヤノン株式会社 露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
TW200710591A (en) * 2005-06-13 2007-03-16 Asml Netherlands Bv Lithographic device, and method
DE102006031807A1 (de) * 2005-07-12 2007-01-18 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Depolarisator
EP1932061A1 (de) 2005-10-04 2008-06-18 Carl Zeiss SMT AG Vorrichtung und verfahren zur beeinflussung der polarisationsverteilung in einem optischen system, insbesondere in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
WO2007055120A1 (ja) * 2005-11-10 2007-05-18 Nikon Corporation 照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP2007220767A (ja) * 2006-02-15 2007-08-30 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
EP2009678A4 (en) * 2006-04-17 2011-04-06 Nikon Corp OPTICAL LIGHTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD
JP5105316B2 (ja) * 2006-07-07 2012-12-26 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
DE102006032810A1 (de) 2006-07-14 2008-01-17 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage, Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithografisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement
JP5308638B2 (ja) * 2006-07-14 2013-10-09 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系
JP2008108851A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Canon Inc 照明装置及び当該照明装置を有する露光装置、並びに、デバイス製造方法
DE102007027985A1 (de) 2006-12-21 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System, insbesondere Beleuchtungseinrichtung oder Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US7952685B2 (en) * 2007-03-15 2011-05-31 Carl Zeiss Smt Ag Illuminator for a lithographic apparatus and method
DE102008011134A1 (de) 2007-04-03 2008-10-09 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Anpassen der Abbildungseigenschaften von wenigstens zwei mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlagen aneinander
KR101450362B1 (ko) 2007-04-03 2014-10-14 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 광학계, 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광장치의 조명 장치 또는 투영 대물렌즈
US7872731B2 (en) * 2007-04-20 2011-01-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7817250B2 (en) * 2007-07-18 2010-10-19 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure apparatus
DE102007043958B4 (de) * 2007-09-14 2011-08-25 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US8451427B2 (en) 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US20090091730A1 (en) * 2007-10-03 2009-04-09 Nikon Corporation Spatial light modulation unit, illumination apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5267029B2 (ja) 2007-10-12 2013-08-21 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
EP2200070A4 (en) * 2007-10-12 2012-11-21 Nikon Corp OPTICAL LIGHTING APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD AND APPARATUS
SG10201602750RA (en) * 2007-10-16 2016-05-30 Nikon Corp Illumination Optical System, Exposure Apparatus, And Device Manufacturing Method
KR101562073B1 (ko) 2007-10-16 2015-10-21 가부시키가이샤 니콘 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2010004008A (ja) * 2007-10-31 2010-01-07 Nikon Corp 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
US9116346B2 (en) * 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5326259B2 (ja) 2007-11-08 2013-10-30 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
DE102007055062A1 (de) 2007-11-16 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System, sowie Verfahren zur Charakterisierung eines optischen Systems
DE102007055567A1 (de) 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
US8040492B2 (en) * 2007-11-27 2011-10-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
TW200929333A (en) 2007-12-17 2009-07-01 Nikon Corp Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
EP2233960A4 (en) 2007-12-17 2012-01-25 Nikon Corp SPATIAL LIGHT MODULATION UNIT, OPTICAL LIGHTING SYSTEM, ALIGNMENT DEVICE AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD
DE102008003289A1 (de) 2008-01-05 2009-07-09 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2009194107A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Canon Inc 有効光源形状のデータベースの生成方法、光学像の算出方法、プログラム、露光方法及びデバイス製造方法
US8908151B2 (en) 2008-02-14 2014-12-09 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, compensation filter, and exposure optical system
WO2009125511A1 (ja) 2008-04-11 2009-10-15 株式会社ニコン 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
US20090257043A1 (en) * 2008-04-14 2009-10-15 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, and exposure optical system
KR101695034B1 (ko) 2008-05-28 2017-01-10 가부시키가이샤 니콘 공간 광 변조기의 검사 장치, 조명 광학계, 노광 장치, 검사 방법, 조명 광학계의 조정 방법, 조명 방법, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
US7796259B2 (en) * 2008-07-09 2010-09-14 Weifour, Inc. Rapid acquisition ellipsometry
DE102008040611A1 (de) 2008-07-22 2010-01-28 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Modifizieren einer Polarisationsverteilung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US20100123883A1 (en) * 2008-11-17 2010-05-20 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5541164B2 (ja) 2008-12-24 2014-07-09 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
WO2010073794A1 (ja) 2008-12-24 2010-07-01 株式会社 ニコン 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
JP4447651B1 (ja) * 2009-02-06 2010-04-07 武蔵オプティカルシステム株式会社 レンズアダプタ
JP5633021B2 (ja) * 2009-06-29 2014-12-03 株式会社ブイ・テクノロジー アライメント方法、アライメント装置及び露光装置
TW201102765A (en) 2009-07-01 2011-01-16 Nikon Corp Grinding device, grinding method, exposure device and production method of a device
US20110037962A1 (en) * 2009-08-17 2011-02-17 Nikon Corporation Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5531518B2 (ja) * 2009-09-08 2014-06-25 株式会社ニコン 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
DE102011003035A1 (de) 2010-02-08 2011-08-11 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, sowie optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP5842808B2 (ja) 2010-02-20 2016-01-13 株式会社ニコン 瞳強度分布を調整する方法
US20110205519A1 (en) * 2010-02-25 2011-08-25 Nikon Corporation Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9389519B2 (en) 2010-02-25 2016-07-12 Nikon Corporation Measuring method and measuring apparatus of pupil transmittance distribution, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
EP2369413B1 (en) * 2010-03-22 2021-04-07 ASML Netherlands BV Illumination system and lithographic apparatus
DE102010029339A1 (de) 2010-05-27 2011-12-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102010029905A1 (de) 2010-06-10 2011-12-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2012004465A (ja) 2010-06-19 2012-01-05 Nikon Corp 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5366019B2 (ja) 2010-08-02 2013-12-11 株式会社ニコン 伝送光学系、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
KR101884486B1 (ko) * 2010-09-28 2018-08-01 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 광학 시스템 및 이미지 배치 에러 감소 방법
US20120212722A1 (en) 2011-02-21 2012-08-23 Nikon Corporation Fast Illumination Simulator Based on a Calibrated Flexible Point Spread Function
DE102011076434A1 (de) 2011-05-25 2012-11-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
WO2012169090A1 (ja) 2011-06-06 2012-12-13 株式会社ニコン 照明方法、照明光学装置、及び露光装置
TWI557432B (zh) 2011-06-13 2016-11-11 尼康股份有限公司 照明方法、曝光方法、元件製造方法、照明光學系統、以及曝光裝置
DE102011079548A1 (de) 2011-07-21 2012-07-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102011079777A1 (de) 2011-07-26 2013-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographisches Belichtungsverfahren
JPWO2013018799A1 (ja) 2011-08-04 2015-03-05 株式会社ニコン 照明装置
JP6103467B2 (ja) * 2011-10-06 2017-03-29 株式会社ニコン 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
DE102011085334A1 (de) 2011-10-27 2013-05-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System in einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US9732934B2 (en) 2011-10-28 2017-08-15 Nikon Corporation Illumination device for optimizing polarization in an illumination pupil
DE102012200370A1 (de) 2012-01-12 2013-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines polarisationsbeeinflussenden optischen Elements, sowie polarisationsbeeinflussendes optisches Element
DE102012200368A1 (de) * 2012-01-12 2013-07-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012203944A1 (de) 2012-03-14 2013-10-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Justage eines optischen Systems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
CN104220931B (zh) 2012-03-29 2016-10-12 卡尔蔡司Smt有限责任公司 补偿微光刻投射曝光***的通道缺陷的设备及方法
DE102012205045A1 (de) 2012-03-29 2013-10-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012206154A1 (de) 2012-04-16 2013-06-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102012206159A1 (de) 2012-04-16 2013-06-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung
DE102012206148A1 (de) 2012-04-16 2013-10-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zur Justage eines optischen Systems
KR102170864B1 (ko) 2012-05-02 2020-10-28 가부시키가이샤 니콘 동공 휘도 분포의 평가 방법 및 개선 방법, 조명 광학계 및 그 조정 방법, 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
JP5885173B2 (ja) * 2012-06-15 2016-03-15 三菱電機株式会社 レーザ加工装置
DE102012212864A1 (de) 2012-07-23 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102012214052A1 (de) 2012-08-08 2014-02-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographisches Belichtungsverfahren, sowie mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102012214198A1 (de) 2012-08-09 2013-05-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
CN102890058B (zh) * 2012-09-18 2014-07-30 上海仪电物理光学仪器有限公司 多波长旋光仪波长转换机构
DE102012217769A1 (de) 2012-09-28 2014-04-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
DE102012223217B9 (de) * 2012-12-14 2014-07-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102013200137A1 (de) 2013-01-08 2013-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102013204453B4 (de) 2013-03-14 2019-11-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente
US8922753B2 (en) 2013-03-14 2014-12-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus
JP2015025977A (ja) * 2013-07-26 2015-02-05 日本精機株式会社 走査型投影装置
JP5534276B2 (ja) * 2013-08-23 2014-06-25 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
US20150294037A1 (en) * 2014-04-11 2015-10-15 General Electric Company System and method for automated substation design and configuration
JP5839076B2 (ja) * 2014-04-25 2016-01-06 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
CN105549327B (zh) * 2014-10-29 2018-03-02 上海微电子装备(集团)股份有限公司 曝光装置的调整装置及调整方法
CN104991258A (zh) * 2015-07-16 2015-10-21 哈尔滨工业大学 红外激光匀光照明探测***
KR102460551B1 (ko) * 2015-10-29 2022-10-31 삼성디스플레이 주식회사 레이저 결정화 장치
WO2018168923A1 (ja) 2017-03-16 2018-09-20 株式会社ニコン 制御装置及び制御方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法、データ生成方法、並びに、プログラム
KR102384289B1 (ko) * 2017-10-17 2022-04-08 삼성디스플레이 주식회사 레이저 결정화 장치
TWI670541B (zh) * 2018-07-04 2019-09-01 陽程科技股份有限公司 偏光對位檢測裝置及檢測方法
JP6979391B2 (ja) * 2018-07-11 2021-12-15 株式会社日立製作所 距離測定装置、距離測定方法、及び立体形状測定装置
CN113498488A (zh) * 2019-03-19 2021-10-12 株式会社村田制作所 光学装置
KR102584252B1 (ko) * 2019-06-10 2023-10-05 삼성디스플레이 주식회사 레이저 어닐 장치
TWI728831B (zh) * 2019-08-14 2021-05-21 香港商立景創新有限公司 可對焦成像裝置
JP7469867B2 (ja) * 2019-11-26 2024-04-17 三星電子株式会社 エリプソメータ及び半導体装置の検査装置
US20210239893A1 (en) * 2020-01-30 2021-08-05 Lawrence Livermore National Security, Llc Polarization manipulation of free-space electromagnetic radiation fields
TWI773067B (zh) * 2021-01-04 2022-08-01 財團法人工業技術研究院 雷射光路之調校方法與雷射光路之調校裝置
TW202236117A (zh) * 2021-02-03 2022-09-16 日商東京威力科創股份有限公司 膜厚分析方法、膜厚分析裝置及記錄媒體

Family Cites Families (116)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2465241A1 (fr) * 1979-09-10 1981-03-20 Thomson Csf Dispositif illuminateur destine a fournir un faisceau d'eclairement a distribution d'intensite ajustable et systeme de transfert de motifs comprenant un tel dispositif
US4744615A (en) * 1986-01-29 1988-05-17 International Business Machines Corporation Laser beam homogenizer
JP2527807B2 (ja) * 1989-05-09 1996-08-28 住友大阪セメント株式会社 光学的連想識別装置
JP2995820B2 (ja) * 1990-08-21 1999-12-27 株式会社ニコン 露光方法及び方法,並びにデバイス製造方法
US7656504B1 (en) * 1990-08-21 2010-02-02 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
US6252647B1 (en) * 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6710855B2 (en) * 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
KR950004968B1 (ko) * 1991-10-15 1995-05-16 가부시키가이샤 도시바 투영노광 장치
JP2866243B2 (ja) * 1992-02-10 1999-03-08 三菱電機株式会社 投影露光装置及び半導体装置の製造方法
US5312513A (en) * 1992-04-03 1994-05-17 Texas Instruments Incorporated Methods of forming multiple phase light modulators
JPH06188169A (ja) * 1992-08-24 1994-07-08 Canon Inc 結像方法及び該方法を用いる露光装置及び該方法を用いるデバイス製造方法
US6404482B1 (en) * 1992-10-01 2002-06-11 Nikon Corporation Projection exposure method and apparatus
US5459000A (en) * 1992-10-14 1995-10-17 Canon Kabushiki Kaisha Image projection method and device manufacturing method using the image projection method
JP2698521B2 (ja) * 1992-12-14 1998-01-19 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
US5739898A (en) * 1993-02-03 1998-04-14 Nikon Corporation Exposure method and apparatus
JPH06244082A (ja) * 1993-02-19 1994-09-02 Nikon Corp 投影露光装置
JP3463335B2 (ja) * 1994-02-17 2003-11-05 株式会社ニコン 投影露光装置
US6304317B1 (en) * 1993-07-15 2001-10-16 Nikon Corporation Projection apparatus and method
JP3099933B2 (ja) * 1993-12-28 2000-10-16 株式会社東芝 露光方法及び露光装置
US20020080338A1 (en) * 1994-03-29 2002-06-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US5453814A (en) * 1994-04-13 1995-09-26 Nikon Precision Inc. Illumination source and method for microlithography
JPH088177A (ja) * 1994-04-22 1996-01-12 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
US5631721A (en) * 1995-05-24 1997-05-20 Svg Lithography Systems, Inc. Hybrid illumination system for use in photolithography
US5815247A (en) * 1995-09-21 1998-09-29 Siemens Aktiengesellschaft Avoidance of pattern shortening by using off axis illumination with dipole and polarizing apertures
DE19535392A1 (de) * 1995-09-23 1997-03-27 Zeiss Carl Fa Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit
JPH1079337A (ja) * 1996-09-04 1998-03-24 Nikon Corp 投影露光装置
DE19781041B4 (de) * 1996-10-08 2010-02-18 Citizen Holdings Co., Ltd., Nishitokyo Optische Vorrichtung
CN1244021C (zh) * 1996-11-28 2006-03-01 株式会社尼康 光刻装置和曝光方法
US6208407B1 (en) * 1997-12-22 2001-03-27 Asm Lithography B.V. Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement
DE19807120A1 (de) * 1998-02-20 1999-08-26 Zeiss Carl Fa Optisches System mit Polarisationskompensator
DE69931690T2 (de) * 1998-04-08 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographischer Apparat
US6238063B1 (en) * 1998-04-27 2001-05-29 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
DE19829612A1 (de) * 1998-07-02 2000-01-05 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem der Mikrolithographie mit Depolarisator
US6031658A (en) * 1998-09-25 2000-02-29 University Of Central Florida Digital control polarization based optical scanner
US6406148B1 (en) * 1998-12-31 2002-06-18 Texas Instruments Incorporated Electronic color switching in field sequential video displays
DE60042186D1 (de) * 1999-01-06 2009-06-25 Nikon Corp Onssystems
JP2001100311A (ja) * 1999-07-23 2001-04-13 Seiko Epson Corp プロジェクタ
WO2001023933A1 (fr) * 1999-09-29 2001-04-05 Nikon Corporation Systeme optique de projection
US6361909B1 (en) * 1999-12-06 2002-03-26 Industrial Technology Research Institute Illumination aperture filter design using superposition
KR20010085493A (ko) * 2000-02-25 2001-09-07 시마무라 기로 노광장치, 그 조정방법, 및 상기 노광장치를 이용한디바이스 제조방법
JP2001264696A (ja) * 2000-03-16 2001-09-26 Canon Inc 照明光学系及びそれを備えた露光装置
JP4689064B2 (ja) * 2000-03-30 2011-05-25 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP3927753B2 (ja) * 2000-03-31 2007-06-13 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
DE60124524T2 (de) * 2000-04-25 2007-03-08 Asml Holding, N.V. Optisches reduktionssystem mit kontrolle der belichtungspolarisation
JP2003532282A (ja) * 2000-04-25 2003-10-28 エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド レチクル回折誘起バイアスのない光学縮小システム
JP3645801B2 (ja) * 2000-08-24 2005-05-11 ペンタックス株式会社 ビーム列検出方法および検出用位相フィルター
US6870668B2 (en) 2000-10-10 2005-03-22 Nikon Corporation Method for evaluating image formation performance
SE0100336L (sv) * 2001-02-05 2002-08-06 Micronic Laser Systems Ab Adresseringsmetod och apparat som använder densamma tekniskt område
WO2002088843A2 (en) * 2001-04-24 2002-11-07 Canon Kabushiki Kaisha Exposure method and apparatus
JP3780873B2 (ja) 2001-05-01 2006-05-31 ソニー株式会社 照明装置
DE10124803A1 (de) * 2001-05-22 2002-11-28 Zeiss Carl Polarisator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisator
US6737662B2 (en) * 2001-06-01 2004-05-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, control system, computer program, and computer program product
WO2002103766A1 (fr) * 2001-06-13 2002-12-27 Nikon Corporation Procede et systeme d'exposition au balayage, et procede de production d'un dispositif associe
CN1393702A (zh) * 2001-06-26 2003-01-29 山东新光量子科技股份有限公司 一种偏光分束棱镜
US6831731B2 (en) * 2001-06-28 2004-12-14 Nikon Corporation Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system
US6727992B2 (en) * 2001-07-06 2004-04-27 Zygo Corporation Method and apparatus to reduce effects of sheared wavefronts on interferometric phase measurements
US6788389B2 (en) * 2001-07-10 2004-09-07 Nikon Corporation Production method of projection optical system
JP2003068600A (ja) * 2001-08-22 2003-03-07 Canon Inc 露光装置、および基板チャックの冷却方法
TW554411B (en) * 2001-08-23 2003-09-21 Nikon Corp Exposure apparatus
US6970232B2 (en) * 2001-10-30 2005-11-29 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems
JP2003202523A (ja) * 2001-11-02 2003-07-18 Nec Viewtechnology Ltd 偏光ユニット、該偏光ユニットを用いた偏光照明装置及び該偏光照明装置を用いた投写型表示装置
US6577379B1 (en) * 2001-11-05 2003-06-10 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for shaping and/or orienting radiation irradiating a microlithographic substrate
US6900915B2 (en) * 2001-11-14 2005-05-31 Ricoh Company, Ltd. Light deflecting method and apparatus efficiently using a floating mirror
TW567406B (en) * 2001-12-12 2003-12-21 Nikon Corp Diffraction optical device, refraction optical device, illuminating optical device, exposure system and exposure method
US20050134825A1 (en) * 2002-02-08 2005-06-23 Carl Zeiss Smt Ag Polarization-optimized illumination system
JP2003257812A (ja) 2002-02-27 2003-09-12 Nikon Corp 結像光学系の評価方法、結像光学系の調整方法、露光装置および露光方法
WO2003075328A1 (fr) * 2002-03-01 2003-09-12 Nikon Corporation Procede de reglage d'un systeme optique de projection, procede de prediction, procede d'evaluation, procede de reglage, procede d'exposition, dispositif d'exposition, programme et procede de fabrication dudit dispositif
US20050094268A1 (en) * 2002-03-14 2005-05-05 Carl Zeiss Smt Ag Optical system with birefringent optical elements
JP3950732B2 (ja) * 2002-04-23 2007-08-01 キヤノン株式会社 照明光学系、照明方法及び露光装置
JP4333078B2 (ja) * 2002-04-26 2009-09-16 株式会社ニコン 投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法
US20050095749A1 (en) * 2002-04-29 2005-05-05 Mathias Krellmann Device for protecting a chip and method for operating a chip
TW200307179A (en) * 2002-05-27 2003-12-01 Nikon Corp Lighting device, exposing device and exposing method
SG108320A1 (en) * 2002-05-31 2005-01-28 Asml Netherlands Bv Kit of parts for assembling an optical element, method of assembling an optical element, optical element, lithographic apparatus, and device manufacturing method
JP2004051717A (ja) * 2002-07-17 2004-02-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd バイオマスのガス化装置
JP4095376B2 (ja) * 2002-08-28 2008-06-04 キヤノン株式会社 露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
JP2004104654A (ja) * 2002-09-12 2004-04-02 Ricoh Co Ltd 画像読取装置
JP2004111579A (ja) * 2002-09-17 2004-04-08 Canon Inc 露光方法及び装置
KR100480620B1 (ko) * 2002-09-19 2005-03-31 삼성전자주식회사 마이크로 미러 어레이를 구비한 노광 장치 및 이를 이용한노광 방법
JP3958163B2 (ja) * 2002-09-19 2007-08-15 キヤノン株式会社 露光方法
US6844927B2 (en) * 2002-11-27 2005-01-18 Kla-Tencor Technologies Corporation Apparatus and methods for removing optical abberations during an optical inspection
TW200412617A (en) * 2002-12-03 2004-07-16 Nikon Corp Optical illumination device, method for adjusting optical illumination device, exposure device and exposure method
EP1429190B1 (en) * 2002-12-10 2012-05-09 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and method
US6891655B2 (en) * 2003-01-02 2005-05-10 Micronic Laser Systems Ab High energy, low energy density, radiation-resistant optics used with micro-electromechanical devices
EP1857880B1 (en) * 2003-04-09 2015-09-16 Nikon Corporation Exposure method and apparatus and device manufacturing method
US6842223B2 (en) * 2003-04-11 2005-01-11 Nikon Precision Inc. Enhanced illuminator for use in photolithographic systems
TW200507055A (en) * 2003-05-21 2005-02-16 Nikon Corp Polarized cancellation element, illumination device, exposure device, and exposure method
JP2005012190A (ja) 2003-05-23 2005-01-13 Nikon Corp 結像光学系の評価方法、結像光学系の調整方法、露光装置および露光方法
JP4323903B2 (ja) * 2003-09-12 2009-09-02 キヤノン株式会社 照明光学系及びそれを用いた露光装置
KR101119723B1 (ko) * 2003-09-26 2012-03-23 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로 리소그래피 투영 노광
US7408616B2 (en) * 2003-09-26 2008-08-05 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method
US6970233B2 (en) * 2003-12-03 2005-11-29 Texas Instruments Incorporated System and method for custom-polarized photolithography illumination
KR101230757B1 (ko) * 2004-01-16 2013-02-06 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 편광변조 광학소자
US20070019179A1 (en) * 2004-01-16 2007-01-25 Damian Fiolka Polarization-modulating optical element
TWI505329B (zh) 2004-02-06 2015-10-21 尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
JP4693088B2 (ja) * 2004-02-20 2011-06-01 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP5159027B2 (ja) * 2004-06-04 2013-03-06 キヤノン株式会社 照明光学系及び露光装置
US7283209B2 (en) * 2004-07-09 2007-10-16 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for microlithography
EP1621930A3 (en) * 2004-07-29 2011-07-06 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
JP4599936B2 (ja) * 2004-08-17 2010-12-15 株式会社ニコン 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法
US7245353B2 (en) * 2004-10-12 2007-07-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method
GB2419208A (en) * 2004-10-18 2006-04-19 Qinetiq Ltd Optical correlation employing an optical bit delay
US7271874B2 (en) * 2004-11-02 2007-09-18 Asml Holding N.V. Method and apparatus for variable polarization control in a lithography system
JP2006179516A (ja) * 2004-12-20 2006-07-06 Toshiba Corp 露光装置、露光方法及び半導体装置の製造方法
US7312852B2 (en) * 2004-12-28 2007-12-25 Asml Netherlands B.V. Polarized radiation in lithographic apparatus and device manufacturing method
US7345740B2 (en) * 2004-12-28 2008-03-18 Asml Netherlands B.V. Polarized radiation in lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI423301B (zh) * 2005-01-21 2014-01-11 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
US7317512B2 (en) * 2005-07-11 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Different polarization in cross-section of a radiation beam in a lithographic apparatus and device manufacturing method
US20070058151A1 (en) * 2005-09-13 2007-03-15 Asml Netherlands B.V. Optical element for use in lithography apparatus and method of conditioning radiation beam
JP2008041710A (ja) * 2006-08-01 2008-02-21 Fujitsu Ltd 照明光学装置、露光方法及び設計方法
US8451427B2 (en) * 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US20090091730A1 (en) * 2007-10-03 2009-04-09 Nikon Corporation Spatial light modulation unit, illumination apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101562073B1 (ko) * 2007-10-16 2015-10-21 가부시키가이샤 니콘 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US8379187B2 (en) * 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) * 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20110037962A1 (en) * 2009-08-17 2011-02-17 Nikon Corporation Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20110205519A1 (en) * 2010-02-25 2011-08-25 Nikon Corporation Polarization converting unit, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011003908A5 (ja)
TWI666528B (zh) 超連續譜輻射源及包含其之光學量測系統、對準標記量測系統及微影裝置
TWI712867B (zh) 直接描繪曝光裝置
TWI709006B (zh) 圖案描繪裝置及圖案描繪方法
JP2006514441A5 (ja)
JP5721858B2 (ja) 大きな面積にわたってナノ構造を製造するためのシステムおよび方法
TWI408505B (zh) 曝光方法、電子元件製造方法以及曝光裝置
CN100573335C (zh) 工作台装置、光刻装置及器件制造方法
JP2010192914A5 (ja)
JP2007220767A5 (ja)
JP2009527113A5 (ja)
JP2005236088A5 (ja)
JP2014222343A5 (ja)
TWI456354B (zh) 照明光學系統、曝光裝置以及元件製造方法
KR900008299A (ko) 조명방법 및 그 장치와 투영식 노출방법 및 그 장치
JP2012174936A5 (ja)
JP2011145232A5 (ja)
EP2720089A3 (en) Illumination device, projection device, and projection-type image display device
JP2015132848A5 (ja) 照明光学系、露光装置、照明方法、露光方法、およびデバイス製造方法
US11650513B2 (en) Apparatus and method for measuring a position of a mark
JP2014146542A5 (ja)
TWI463270B (zh) 雷射曝光裝置
WO2017051443A1 (ja) 露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置
WO2009078223A1 (ja) 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2015170780A (ja) 露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置