KR900008299A - 조명방법 및 그 장치와 투영식 노출방법 및 그 장치 - Google Patents

조명방법 및 그 장치와 투영식 노출방법 및 그 장치 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

조명방법 및 그 장치와 투영식 노출방법 및 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에서 엑사이머노풀장치의 노출 조명계를 도시한 도면,
제2도는 축소렌즈의 눈동자면내의 렌즈스포트상의 주사배열 상황을 도시한 도면,
제3도는 본 발명의 1실시예의 균일빔 노출수단의 구성을 상세하게 도시한 도면.

Claims (23)

  1. 지향성이 높은 광원에서 발사한 광속의 강도분포를 선형인 분포로 변환함과 동시에 이 광속을 여러개의 광속으로 분리하고, 이들 분리된 광속을 간섭하지 않도록 피조사물체상의 바라는 영역에서 중합시켜서 균일한 조도분포로 조명하는 것을 특징으로 하는 조명방법.
  2. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사한 광속에 대해서 바라는 영역을 선형의 강도분포로 변환하는 실효적 진폭분포 제어수단, 상기 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 실효적 진폭분포제어수단 및 광속분리 수단에 의해서 선형인 강도분포로 변환되어 분리된 여러개의 광속을 피조사물체상에 중합시키는 중첩수단을 마련하고, 피조사물체상의 바라는 영역에서 균일한 조도분포를 얻도록 구성 한 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  3. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 광속분리수단에 의해서 분리되는 각 광속에 대해서의 피조사물체에 이르는 광로길이로 코히어런스길이 이상의 차를 갖도록 형성한 것을 특징으로 하는 조명장치.
  4. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 실효적 진폭분포제어수단은 투과 또는 반사매체상에 형성되어 장소에 따라 칫수가 다른 미세패턴과 상기 매체를 투과 또는 반사한 광의 일부분을 선택하는 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 조명장치.
  5. 특허청구의 범위 제4항에 있어서, 상기 미세패턴은 일정피치로 배열한 한쪽 방향을 향한 선형상의 패턴으로 형성한 것을 특징으로 하는 조명장치.
  6. 특허청구의 범위 제4항에 있어서, 상기 미세패턴은 일정피치로 배열한 2차원적으로 배열한 정형패턴으로 형성한 것을 특징으로 하는 조명장치.
  7. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사된 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 광속분리수단에 의해서 분리된 여러개의 광속에 대해서 각 광속의 광로길이가 서로 코히어런스길이 이상으로 형성됨과 아울러 동시에 서로 회전시킨 상태로 피조사물체상에서 중합시키는 중첩수단을 마련한 것을 특징으로 하는 조명 장치.
  8. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사된 광속에 대해서 바라는 영역을 선형의 강도분포로 변환하는 실효적 진폭분포 제어수단, 상기 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 실효적 진폭 분포제어수단 및 광속분리수단 의해서 선형이 강도분포로 변환되어 분리된 여러개의 광속을 일정한 면상에서 중합시키는 중첩수단, 상기 일정한 면을 입사측의 광원면으로 하는 로트렌즈 또는 플라이아이렌즈, 상기 로트렌즈 또는 플라이아이렌즈의 투과광을 피조사물체상으로 유도하는 집광렌즈를 구비한 것을 특징으로 하는 조명장치.
  9. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사된 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 광속분리수단에 의해서 분리된 여러개의 광속에 대해서 각 광속의 광로길이가 서로 코히어런스길이 이상으로 형성됨과 동시에 서로 회전시킨 상태로 일정한 면 상에서 중합시키는 중첩수단, 상기 일정한 면을 입사 측의 광원면으로 하는 로트렌즈 또는 플라이아이렌즈, 상기 로트렌즈 또는 플라이아이렌즈의 투과광을 피조사물체상으로 유도하는 집광렌즈를 구비한 것을 특징으로 하는 조명장치.
  10. 지향성이 높은 광원에서 발사한 광속의 강도분포를 선형인 분포로 변환함과 동시에 이 광속을 여러개의 광속으로 분리하고, 이들 분리된 광속을 간섭하지 않도록 레티클상의 바라는 영역에서 중합시켜서 균일한 조도분포로 조명하고, 상기 레티클상의 회로패턴을 투영렌즈에 의해 기판상에 축소투영하는 것을 특징으로 하는 투영식 노출방법.
  11. 특허청구의 범위 제10항에 있어서, 상기 광속은 자외선 레이저광인 것을 특징으로 하는 투영식 노출방법.
  12. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사한 광속에 대해서 바라는 영역을 선형의 강도분포로 변환하는 실효적 진폭분포제어수단, 상기 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 실효적 진폭분포제어수단 및 장속분리수단에 의해서 선형인 강도분포로 변환되어 분리된 여러개의 광속을 레티클상에서 중합시키는 중첩수단을 마련하고, 레티클상의 바라는 영역에서 균일한 조도분포를 얻도록 구성한 조명 장치를 마련하고, 상기 조명장치에 의해 조명된 레티클상의 회로패턴을 기판상에 축소투영하는 투영렌즈를 마련한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  13. 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 상기 광원은 엑사이머레이저광원으로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노줄장치.
  14. 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 상기 투영렌즈를 석영렌즈로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  15. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사된 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 광속분리수단에 의해서 분리된 여러개의 광속에 대해서 각 광속의 광로길이가 서로 코히어런스길이 이상으로 형섬됨과 동시에 서로 회전시킨 상태로 레티클상에서 중합시키는 중첩수단을 갖는 조명장치를 마련하고, 상기 조명장치에 의해 조명된 레티클상의 회로 패턴을 기판상에 축소투영하는 투영렌즈를 마련한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  16. 특허청구의 범위 제15항에 있어서, 상기 광원은 엑사이머레이저광원으로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  17. 특허청구의 범위 제15항에 있어서, 상기 투영렌즈를 석영렌즈로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  18. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사한 광속에 대해서 바라는 영역을 선형의 강도분포로 변환하는 실효적 진폭분포제어수단, 상기 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 실효적 진폭분포제어수단 및 광속분리수단에 의해서 선형인 강도분포로 변환되어 분리된 여러개의 광속을 일정한 면 상에서 중합시키는 중첩수단, 상기 일정한 면을 입사측의 광원면으로 하는 로트렌즈 또는 플라이아이렌즈, 상기 로트렌즈 또는 플라이아이렌즈의 투과광을 레티클상으로 유도하는 집광렌즈를 구비한 조명장치를 마련하고, 상기 조명장치에 의해 조명된 레 티클 상의 회로패턴을 기판상에 축소투영하는 투영렌즈를 마련한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  19. 특허청구의 범위 제18항에 있어서, 상기 광원은 엑사이머레이저광원으로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  20. 특허청구의 범위 제18항에 있어서, 상기 투영렌즈를 석영렌즈로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  21. 지향성이 높은 광원, 상기 광원에서 발사된 광속에 대해서 여러개의 광속으로 분리하는 광속분리수단, 상기 광속분리수단에 의해서 분리된 여러개의 광속에 대해서 각 광속의 광로길이가 서로 코히어런스길이 이상으로 형성됨과 동시에 서로 회전시킨 상태로 일정한 면 상에서 중합시키는 중첩수단, 상기 일정한 면을 입사측의 광원면으로 하는 로트렌즈 또는 플라이아이렌즈, 상기 로트렌즈 또는 플라이 아이렌즈의 투과광을 레티클상으로 유도하는 집광렌즈를 구비한 조명장치클 마련하고, 상기 조명장치에 의해 조명된 레티클 상의 회로패턴을 기판상에 축소투영하는 투영렌즈를 마련한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
  22. 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 상기 광원은 엑사이머레이저광원으로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노줄장치.
  23. 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 상기 투영렌즈를 석영렌즈로 형성한 것을 특징으로 하는 투영식 노출장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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