KR100480620B1 - 마이크로 미러 어레이를 구비한 노광 장치 및 이를 이용한노광 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- 반도체 소자의 제조에 사용되는 노광 장치에 있어서,상기 노광 장치의 광학 축을 따라서 전파되는 광을 방출하는 광원;전사하고자 하는 패턴이 형성되어 있으며, 상기 광학 축을 따라서 위치하고 있는 포토 마스크를 구비하는 패턴 전사 유닛; 및상기 광학 축을 따라서 상기 광원과 상기 패턴 전사 유닛 사이에 배치되어서 상기 광원에 의하여 방출되는 광을 상기 패턴 전사 유닛에 반사시키도록 다수의미러를 포함하는 마이크로 미러 어레이(MMA)를 구비한 반사경 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제1항에 있어서,상기 미러들은 상기 마이크로 미러 어레이를 구성하는 미러들의 상대적인 경사각을 개별적으로 조절할 수 있도록 상기 반사경 유닛에 설치되어 있으며,상기 반사경 유닛은 상기 미러들 각각의 뒷면에 구비되어 상기 미러들 각각의 경사각을 개별적으로 조절하는 구동 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제2항에 있어서,상기 반사경 유닛은 상기 구동 수단의 작동을 제어하기 위한 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제3항에 있어서, 상기 제어 수단은상기 노광 장치에서 전사하고자 하는 포토 마스크의 패턴에 관한 정보가 입력되는 입력부;상기 입력부에 입력된 정보에 따라서 최적의 어퍼쳐 형상을 결정하는 판단부; 및상기 판단부의 결정에 따라 상기 구동 수단의 작동을 제어하는 제어부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
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- 제1항에 있어서,상기 패턴 전사 유닛은 집광 렌즈 및 투사 렌즈를 포함하고,상기 집광 렌즈와 상기 투사 렌즈는 상기 광학 축을 따라서 상기 포토 마스크에 대하여 서로 반대쪽에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 포토레지스트를 노광하는 방법에 있어서,광을 발생시키는 단계;전사하고자 하는 패턴이 형성되어 있는 포토 마스크를 제공하는 단계; 및마이크로 미러 어레이를 사용하여 상기 포토 마스크를 통하여 상기 광을 상기 포토레지스트 쪽으로 광학 축을 따라서 상기 광을 투사하는 단계를 포함하는 노광 방법으로서,상기 광을 투사하는 단계에서는 상기 포토 마스크의 패턴에 대한 정보에 기초하여 상기 광학 축에 대한 상기 마이크로 미러 어레이를 구성하는 미러들의 경사각을 개별적으로 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
- 제10항에 있어서,상기 광을 투사하는 단계에서는 상기 마이크로 미러 어레이를 구성하는 미러들의 경사각을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
- 제10항에 있어서,상기 광을 투사하는 단계에서는 상기 포토 마스크의 평면에 대하여 경사진 각도로 상기 포토 마스크 상에 상기 광을 투사하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
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- 포토 레지스트를 노광하는 방법에 있어서,상기 포토 레지스트에 전사되어야 할 패턴이 형성되어 있는 포토 마스크를 제공하는 단계;광을 발생하는 단계;상기 포토 마스크에 대한 정보로부터 상기 포토 마스크를 통과하여 상기 포토레지스트 상에 투사될 상기 광의 모양에 대한 형태를 결정하는 단계; 및상기 광의 모양에 대한 형태를 만들도록 설정된 마이크로 미러 어레이를 사용하여 상기 광학 축을 따라서 상기 포토 마스크를 통하여 상기 광을 투사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
- 제15항에 있어서,상기 광을 투사하는 단계에서는 상기 마이크로 미러 어레이를 구성하는 미러들의 경사각을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
- 제16항에 있어서,상기 광을 투사하는 단계에서는 상기 포토 마스크의 평면에 대하여 경사진 각도로 상기 포토 마스크 상에 상기 광을 투사하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
- 제15항에 있어서,상기 광을 투사하는 단계에서는 상기 포토 마스크의 평면에 대하여 경사진 각도로 상기 포토 마스크 상에 상기 광을 투사하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
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