JP2010161413A - 急激な金属−絶縁体転移半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 246
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 161
- 230000007704 transition Effects 0.000 title claims abstract description 65
- 239000012212 insulator Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 45
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 172
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 13
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 9
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 8
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 7
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- MDPILPRLPQYEEN-UHFFFAOYSA-N aluminium arsenide Chemical compound [As]#[Al] MDPILPRLPQYEEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 4
- LZJCVNLYDXCIBG-UHFFFAOYSA-N 2-(5,6-dihydro-[1,3]dithiolo[4,5-b][1,4]dithiin-2-ylidene)-5,6-dihydro-[1,3]dithiolo[4,5-b][1,4]dithiine Chemical compound S1C(SCCS2)=C2SC1=C(S1)SC2=C1SCCS2 LZJCVNLYDXCIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N vanadium dioxide Chemical compound O=[V]=O GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFKWIEFTBMACPZ-UHFFFAOYSA-N 3-dodecylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=1C=CSC=1 RFKWIEFTBMACPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005872 GeSb Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017231 MnTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000280 Poly(3-octylthiophene) Polymers 0.000 description 2
- 229910002826 PrBa Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002964 pentacenes Chemical class 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRUIOQJBPNKOJG-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-e][1]benzothiole Chemical class C1=C2SC=CC2=C2C=CSC2=C1 CRUIOQJBPNKOJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005461 Bremsstrahlung Effects 0.000 description 1
- 101100069231 Caenorhabditis elegans gkow-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005347 FeSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005329 FeSi 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010027476 Metastases Diseases 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- -1 dioctadecyl-ADT Chemical class 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000009401 metastasis Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
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- H10N70/021—Formation of switching materials, e.g. deposition of layers
- H10N70/026—Formation of switching materials, e.g. deposition of layers by physical vapor deposition, e.g. sputtering
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- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/821—Device geometry
- H10N70/823—Device geometry adapted for essentially horizontal current flow, e.g. bridge type devices
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/821—Device geometry
- H10N70/826—Device geometry adapted for essentially vertical current flow, e.g. sandwich or pillar type devices
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- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
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- H10N70/881—Switching materials
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- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
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- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
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Abstract
【課題】急激な金属−絶縁体転移半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施の一形態に係る2端子半導体素子は、第1電極膜と、第1電極膜上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜と、急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜上に配置される第2電極膜と、を備えている2端子半導体素子である。これによれば、第1電極膜と第2電極膜との間に印加される電界によって急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜では、構造的な相転移ではない正孔ドーピングによる急激な金属−絶縁体転移が発生する。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の実施の一形態に係る2端子半導体素子は、第1電極膜と、第1電極膜上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜と、急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜上に配置される第2電極膜と、を備えている2端子半導体素子である。これによれば、第1電極膜と第2電極膜との間に印加される電界によって急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜では、構造的な相転移ではない正孔ドーピングによる急激な金属−絶縁体転移が発生する。
【選択図】図1
Description
本発明は半導体素子及びその製造方法に係り、さらに詳細には急激な金属−絶縁体転移(Metal−Insulator Transition:MIT)半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法に関する。
最近、構造相転移物質を利用したメモリ素子についての関心及びそれによる研究と開発とが活発に進められつつある。このような構造相転移物質を利用したメモリ素子の一例が特許文献1に開示されている。ここで開示している素子は、高温で発生する結晶相と非結晶相との構造的な相変化を利用した相変化メモリ(Phase Change Memory:PCM)素子である。このようなPCM素子の場合、構造的な相変化による状態変化を利用できるので、メモリ素子として利用され得るが、他の分野、例えば、スイッチング素子としての利用には適切ではない。その理由は、構造的な相変化による原子の位置変化によって速いスイッチング速度を具現できないためである。もしスイッチング速度を速く強制すれば、ヒステリシス現象によって、結局は素子が破壊される。このように、PCM素子の場合には、その適用範囲が狭いという限界を有する。
一方、MITを利用する半導体素子として、連続的なMIT、即ち、2次転移をするモット・ハバード絶縁体をチャンネル層に使用するモット・ハバード電界効果トランジスタが提案されている。モット・ハバード電界効果トランジスタは、非特許文献1に開示されている。モット・ハバード電界効果トランジスタは、MITによってオン/オフ動作を行い、一般的なMOS電界効果トランジスタとは違って、空乏層が存在していないので、素子の集積度を大きく向上させ得るだけでなく、MOS電界効果トランジスタより高速のスイッチング特性を示すものとして知られている。しかし、モット・ハバード電界効果トランジスタは、連続的に発生するMITを利用するので、金属的特性を最もよく示すまで連続的に移動子として利用される電荷を添加しなければならない。従って、添加する電荷が高濃度でなければならないが、それにより、ゲート絶縁膜の誘電率が高いか、ゲート絶縁膜が薄いか、又は、印加されるゲート電圧が大きくならねばならない。しかし、誘電率があまり高くなれば、高速スイッチング動作で誘電体の疲労特性が急激に劣化してトランジスタの寿命が短縮される。そして、絶縁体を薄くすることには、工程上の限界による難点がある。また、ゲート電圧が大きくなる場合、電力消耗が増加して低電力用として使用し難いという問題がある。
このような問題を解決するために連続的でない、急激なMIT物質を利用したスイッチング電界効果トランジスタが特許文献2に開示されている。この急激なMIT物質は、モット絶縁体に低濃度の正孔を添加することによって、絶縁体から金属への転移が、連続的ではなく急激に発生する特性を有している物質である。低濃度の正孔の添加による正孔誘導金属−絶縁体理論は、非特許文献2あるいはhttp://xxx.lanl.gow/abs/cond−mat/0110112に提示されている。そして、モット絶縁体の代表的な物質であるバナジウム二酸化膜(VO2)を利用した急激なMITに関する研究は、非特許文献3に開示されている。添加する正孔の濃度が非常に低濃度であるので、連続的なMIT物質を利用した電界効果トランジスタが有している問題点が解決される。しかし、このような急激なMIT物質には制限があり、これまでは、ほとんどの急激なMIT物質膜を良好な品質で形成するのに高コストが必要になるという問題がある。
米国特許第5,687,112号公報
米国特許第6,624,463号公報
D.M.Newns,J.A.Misewich,C.C.Tsuei,A.Gupta,B.A.Scott,A.Schrott,Appl.Phys.Lett.73(1998)780
Hyun−Tak Kim、"New Trends in Superconductivity"、NATO Science Series Vol II/67(Kluwer,2002)p.137
Hyun−Tak Kim,Byung−Gyu Chae,Doo−Hyeb Youn,Sung−Lyul Maeng,Gyung−ock Kim,Kwang−Yong Kang及びYong−Sik Lim、New Journal of Physics 6(2004)52
本発明が解決しようとする技術的課題は、構造的な相転移を誘発せずに低コストで容易に形成できる急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子を提供することである。
本発明が解決しようとする他の技術的課題は、前記のような急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子を製造する方法を提供することである。
ここで、半導体とは、2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位又は電子準位とを有し、かつ、低温で絶縁体である物質と定義する。正孔準位は正孔を有し、電子準位は電子を有していることを意味し、その物質は有機物と無機物とを含む。
前記課題を解決するために、本発明の実施の一形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子は、第1電極膜と、前記第1電極膜上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜と、前記急激なMIT半導体物質膜上に配置される第2電極膜と、を備えていることを特徴とする。
前記急激なMIT半導体物質膜は、低濃度の正孔が添加されたp型Si、Ge、Al、As、Sb、B、N、Ga、P、In、Te、Ag、Cd、Zn、Pb、S、Bi、K、H、Be、O若しくはCの個別元素、又は、前記元素より構成された化合物半導体を含み得る。
前記急激なMIT半導体物質膜は、低濃度の正孔が添加されたp型酸化物半導体のY、Pr、Ba、Cu、La、Sr、Ti、V、Ca、Fe、W、Mo、Nb、Al、Hf、Ta、Zr、La若しくはPd元素、又は、前記元素より構成された酸化物半導体を含み得る。
前記急激なMIT半導体物質膜は、低濃度の正孔が添加されたp型Fe、S、Sm、Se、Te、Eu、Si、Mn、Co、B、H、Li、Ca、Y、Ru、Os、P、As、P、Ir、Ti、Zr、Hf、Mo、Te、Tc、Re、Rh、Pt、Yb、B若しくはC元素、転移、希土類及びランタン系元素、又は、前記元素より構成された半導体を含み得る。
前記急激なMIT半導体物質膜は、低濃度の正孔が添加されたp型半導体、低濃度の正孔が添加されたp型酸化物半導体、低濃度の正孔が添加されたp型半導体元素(III−V族、II−VI族)、転移金属元素、希土類元素、ランタン系元素を含む無機物化合物半導体又は低濃度の正孔が添加されたp型有機物半導体を含むことが望ましい。
前記低濃度の正孔が添加されたp型半導体は、Si(100)、Si(111)、Si(110)、Si:B、Si:P,Ge(100)、SiC、SiGe、AlAs、InAlAs、AlSb、BN、GaAs、InGaAs、GaP、GaSb、GaxSb1−x(0≦x≦0.5)、GexSb1−x(0≦x≦0.2)、InN、InAs、InP、InSb、InxSb1−x(0≦x≦0.5)、GeaInbSbcTed(0≦a≦0.2、0≦b≦0.2、0.5≦c≦1、0≦d≦0.5)、InxSbyTez(0≦x≦0.2、0.5≦y≦1、0≦z≦0.3)、AgaInbSbcTed(0≦a≦0.2、0≦b≦0.2、0.5≦c≦1、0≦d≦0.5)、TeaGebSncAud(0.5≦a≦1、0≦b≦0.2、0.0≦c≦0.3、0≦d≦0.5)、AgSbTe2、AgInTe2、GeCdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、PbS、PbSe、PbTe、GreySn、GreySe、Sb、Te、Sb1−xTex(0≦x≦0.5)、B、DAC(Diamond like Amorphous−C)、TAC(Tetrahedral Amorphous−C):N、a−C:H(Amorphous hydrogenated carbon films、又はDLC(Diamond−Like Carbon)、K4C60、K6C60、Ga−As−Siシステム、Ga−GaAs−Geシステム、Ga−GaAs−Sn、Ga−As−Snシステム、Ga−As−Znシステム、Ga−P−Siシステム、Ga−P−Znシステム、Ga−P−Geシステム、GaP−Biシステム、GeTe−Bi2Te3システム、GeSb2Te4システム、GaP:N、GaAs:Ca、GaAs:K、GaAs:Cl又はGeBi2Te4を含み得る。
前記低濃度の正孔が添加されたp型酸化物半導体は、Y1−xPrxBa2Cu3O7−d(0≦x≦1)、La2−xSrxCuO4(0≦x≦1)、La2−xBaxCuO4(0≦x≦1)、Ba1−xSrTiO3(0≦x≦1)、La1−xSrTiO3(0≦x≦1)、VO2、V2O3、CaxV1−xO2(0≦x≦1)、AlxV1−xO2(0≦x≦1)、TixV1−xO2(0≦x≦1)、FexV1−xO2(0≦x≦1)、WxV1−xO2(0≦x≦1)、MoxV1−xO2(0≦x≦1)、Fe3O4、Nb2O5、WO3、Ti2O3、PdO、Al2O3、HfO2、SiO2、Y2O3、Ta2O5、TiO2又はZrO2を含み得る。
前記低濃度の正孔が添加されたp型転移金属及びその転移金属を含む半導体は、Fe1−xS(0≦x≦0.5)、SmS、SmSe、SmTe、Eu3S4、FeSi2、Fe1−xMnxSi2(0≦x≦0.5)、Fe1−xCoxSi2(0≦x≦0.5)、B:H(9%)、B:H(11%)、B:H(24%)、LiAlB14、CuB4、CaB6、a−AlB12、YB66、SmB66、Mn11Si19、Mn26Si45、Mn15Si26、Ru2Si3、Fe2Si2、RuP2、RuPAs、RuAs2、OsP2、OsAs2、RhP2、RhAs2、IrP2、IrAs2、RuP4、FeAs、RuAsS、OsPS、OsAsS、OsPSe、Ti1+xS2(0≦x≦0.5)、TiS3−x(0≦x≦0.5)、Zr1+xSe2(0.01≦x≦0.1)、Zr2S3、ZrSe3、HfSe2、MoS2、2H−MoTe2−x(0.01≦x≦0.1)、2H−WSe2、MnTe、TcS2、TcSe2、ReS2、ReSe2、FeS2、RuS2、RuSe2、RhS3、RhSe2、RhSe3、IrS2、IrSe2、PtS、PtxS2(0.9≦x≦1)、SmTe、EuTe、YbSe、YbTe又はBCを含み得る。
前記低濃度の正孔が添加されたp型有機物絶縁体は、D+は有機的ドナーであり、A−は有機的アクセプタであるD+A−類型であり得る。
この場合、前記D+A−類型は、D+A−=TTF+Br、D+A−=BEDT−TTF又はD+A−=TMPD+TCNQを含むが、前記TTFはテトラチオフルバレンであり、前記EDT−TTFはビス−エチレンジチオ−テトラチオフルバレンであり、前記TMPDはN,N,N'N'−テトラメチル−p−フェニレンジアミンであり、前記TCNQは有機テトラシアノ−キノジメタンであり、そして、TCNQは、正孔注入によってTCNQ−とTCNQとの間でスイッチングする活性成分であることが望ましい。
また、前記p型有機物半導体は、ペンタセンとペンタセン誘導体、チオフェンとチオフェンオリゴマー、ベンゾジチオフェンダイマー、フタロシアニン、ポリ(アルキルチオフェン)、ポリ(3−へキシリルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ADT(anthradithiophene)、ジヘキシル(dihexyl)−ADT、ジドデシル(dioctadecy)−ADT、ジオクタデシル(didodecyl)−ADT を含むチオフェン誘導体、アロマチック化合物有機物を含むことが望ましい。
前記第1電極膜及び第2電極膜は、W、Mo、Au/Cr、Ti/W、Ti/Al/N、Ni/Cr、Al/Au、Pt、Cr/Mo/Au、YBa2Cu3O7−d又はNi/Mo/Auを含み得る。
前記第1電極膜及び第2電極膜のうち少なくとも何れか一つに連結される抵抗素子をさらに含むことが望ましい。
前記課題を解決するために、本発明の他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子は、基板と、前記基板上に配置された第1電極膜と、前記第1電極膜上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜と、前記急激なMIT半導体物質膜上に配置される第2電極膜と、を備えていることを特徴とする。
前記基板は、Si、SiO2、GaAs、Al3O4、プラスチック、ガラス、V2O5、PrBa2Cu3O7、YBa2Cu3O7、MgO、SrTiO3、NbがドーピングされたSrTiO3、又は、絶縁膜上のシリコン(SOI:Silicon On Insulator)基板を含み得る。
前記基板と第1電極膜との間に配置されたバッファ層をさらに備えていることが望ましい。
この場合、前記バッファ層は、SiO2又はSi3N4膜を含み得る。
前記第1電極膜及び第2電極膜のうち少なくとも何れか一つに連結される抵抗素子をさらに含むことが望ましい。
前記課題を解決するために、本発明のさらに他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子は、基板と、前記基板上に配置された第1電極膜と、前記第1電極膜上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜と、前記急激なMIT半導体物質膜上に配置される第2電極膜と、前記急激なMIT半導体物質膜の両側面のうち少なくとも何れか一側面上に配置されるゲート絶縁膜と、を備えていることを特徴とする。
前記課題を解決するために、本発明のさらに他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子は、基板と、前記基板上に配置された第1電極膜と、前記第1電極膜上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜と、前記急激なMIT半導体物質膜上に配置される第2電極膜と、前記急激なMIT半導体物質膜の両側面のうち少なくとも何れか一側面上に配置される強磁性体薄膜と、を備えていることを特徴とする。この構造では、急激なMITが起こるときに流れる大きい電流によって生じた同心円状の磁場によって強磁性体薄膜中にある磁気モーメントの方向を制御できる。この原理で不揮発性磁気メモリを作製し得る。
前記課題を解決するために、本発明のまた他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子は、基板と、前記基板上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜と、前記急激なMIT半導体物質膜上において相互に対向しつつ離隔されるように配置される第1電極膜及び第2電極膜と、を備えていることを特徴とする。
前記基板と前記急激なMIT半導体物質膜との間に配置されたバッファ層をさらに備えていることが望ましい。
前記第1電極膜及び第2電極膜のうち少なくとも何れか一つに連結される抵抗素子をさらに含むことが望ましい。
前記第1電極膜及び第2電極膜は、フィンガー状であり得る。
前記課題を解決するために、本発明のさらに他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子は、基板と、前記基板上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜と、前記急激なMIT半導体物質膜上において相互に対向しつつ離隔されるように配置される第1電極膜及び第2電極膜と、前記第1電極膜と第2電極膜との間の前記急激なMIT半導体物質膜上に配置されるゲート絶縁膜と、を備えていることを特徴とする。
前記課題を解決するために、本発明のさらに他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子は、基板と、前記基板上に配置される2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜と、前記急激なMIT半導体物質膜上において相互に対向しつつ離隔されるように配置される第1電極膜及び第2電極膜と、前記第1電極膜と第2電極膜との間の前記急激なMIT半導体物質膜上に配置される強磁性体薄膜と、を備えていることを特徴とする。この構造では、急激なMITが起こるときに流れる大きい電流によって同心円状に生じた磁場により強磁性体薄膜中にある磁気モーメントの方向を制御できる。この原理で不揮発性磁気メモリを作り得る。
前記他の課題を解決するために、本発明の実施の一形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子の製造方法は、基板上に第1電極膜を形成する段階と、前記第1電極膜上に2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜を形成する段階と、前記急激なMIT半導体物質膜上に第2電極膜を形成する段階と、を備えていることを特徴とする。
前記第1電極膜及び第2電極膜を形成する段階は、スパッタリング方法を使用して行うことができる。
前記急激なMIT半導体物質膜を形成する段階は、パルスレーザ方法を使用して行うことができる。
前記急激なMIT半導体物質膜を形成する段階は、分子ビームエピタキシー(MBE:Molecular Beam Epitaxy)方法を使用して行うこともある。
前記急激なMIT半導体物質膜を形成する前に前記基板上にバッファ層を先に形成する段階をさらに含むことが望ましい。
前記他の課題を達成するために、本発明の他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子の製造方法は、基板上に2eV以下のエネルギーギャップと正孔準位内の正孔とを有する急激なMIT半導体物質膜を形成する段階と、前記急激なMIT半導体物質膜上に金属膜を形成する段階と、前記金属膜をパターニングして前記急激なMIT半導体物質膜の一面を露出させ、前記露出面を介して相互に対向するように配置される第1電極膜及び第2電極膜を形成する段階と、を備えていることを特徴とする。
前記急激なMIT半導体物質膜を形成する前に前記基板上にバッファ層を先に形成する段階をさらに含むことが望ましい。
本発明に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法によれば、構造的相転移ではない正孔のドーピングによる急激なMIT半導体物質を利用することによって、狭い面積で高電流利得及び高速動作が可能な素子を作り得る。
以下、添付図面を参照して本発明の望ましい実施の形態を詳細に説明する。しかし、本発明の実施の形態は、様々な形態に変形することができ、本発明の範囲が後述する実施の形態によって限定されると解釈されてはならない。
図1は、本発明の実施の一形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子を示す断面図である。
図1を参照すれば、本実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子100は、垂直方向に電流が流れる積層型構造として、基板110上にバッファ層120、第1電極膜141、急激なMIT半導体物質膜130及び第2電極膜142が順次積層された構造を有する。場合により、基板110、バッファ層120及び第1電極膜141は、一つの膜より形成されることもある。この場合、基板110及びバッファ層120なしに第1電極膜141自体が基板となる。また、場合により、急激なMIT半導体物質膜130の両側面のうち少なくとも何れか一面上にゲート絶縁膜又は強磁性体薄膜が配置され得る。
前記基板110は、特別に制限されず、一例としてSi、SiO2、GaAs、Al3O4、プラスチック、ガラス、V2O5、PrBa2Cu3O7、YBa2Cu3O7、MgO、SrTiO3、NbがドーピングされたSrTiO3、又は、絶縁膜上のSOI基板を使用できる。前記バッファ120は、基板110上に第1電極膜141がよく成長できるように配置されるものであって、場合により省略されることもある。バッファ層141は、基板110及び第1電極141の格子定数を調節することができる物質、例えばSiO2、Si3N4膜等よりなる。
前記急激なMIT半導体物質膜130は、低濃度の正孔が添加されるときに急激なMITを起こす半導体物質よりなる薄膜を意味する。ここで、低濃度とは、モットの基準で考えれば、正孔濃度nは、約(0.2/aH)3(ここで、aHはその物質から見た半径)で与えられる。例として、エネルギーギャップが0.6eVであり、かつ、正孔準位を有するバナジウム二酸化膜VO2に対して、正孔濃度は、約n=0.0018%であって、約n=3×1018cm−3である。このような急激なMIT半導体物質膜130は、2eV以下のエネルギーギャップを有し、正孔準位内の正孔を有する物質よりなる。さらに他の例は、エネルギーギャップが1.45程度であり、ホール準位を有するガリウム砒素pGaAsに対して、正孔濃度は、約n=0.001%であって、約n=1×1014cm−3である。低濃度の正孔の添加による正孔誘導金属−絶縁体理論は、Hyun−Tak Kimの“New Trends in Superconductivity”、NATO Science Series Vol II/67(Kluwer、2002)p.137あるいはhttp://xxx.lanl.gow/abs/cond−mat/0110112に提示されている。その結果式は、図4に示されている。ここで、正孔準位とは、正孔が束縛状態に存在するエネルギー準位を意味する。高抵抗n型半導体の場合にも、急激なMIT物質膜130として使用され得る。
前記急激なMIT半導体物質膜130は、低濃度の正孔が添加されたp型Si、Ge、Al、As、Sb、B、N、Ga、P、In、Te、Ag、Cd、Zn、Pb、S、Bi、K、H、Be、O若しくはCの個別元素、又は、前記元素より構成されたp型化合物半導体を含む。そして、低濃度の正孔が添加されたp型酸化物半導体のY、Pr、Ba、Cu、La、Sr、Ti、V、Ca、Fe、W、Mo、Nb、Al、Hf、Ta、Zr、La、Pd、O元素、又は、前記元素より構成された酸化物半導体を含む。また、低濃度の正孔が添加されたFe、S、Sm、Se、Te、Eu、Si、Mn、Co、B、H、Li、Ca、Y、Ru、Os、P、As、P、Ir、Ti、Zr、Hf、Mo、Te、Tc、Re、Rh、Pt、Yb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Lu若しくはC元素、転移、希土類及びランタン系元素、又は、前記元素より構成された半導体を含む。
これとは異なる分類をすれば、前記急激なMIT半導体物質膜130として、低濃度の正孔が添加されたp型半導体、低濃度の正孔が添加されたp型酸化物半導体、低濃度の正孔が添加されたp型半導体元素(III−V族、II−VI族)、転移金属元素、希土類元素、ランタン系元素を含む無機物化合物半導体、又は、低濃度の正孔が添加されたp型有機物半導体及び絶縁体等がある。
非常に低い濃度の正孔が添加されたp型半導体は、Si(100)、Si(111)、Si(110)、Si:B、Si:P,Ge(100)、SiC、SiGe、AlAs、InAlAs、AlSb、BN、GaAs、InGaAs、GaP、GaSb、GaxSb1−x(0≦x≦0.5)、GexSb1−x(0≦x≦0.2)、InN、InAs、InP、InSb、InxSb1−x(0≦x≦0.5)、GeaInbSbcTed(0≦a≦0.2、0≦b≦0.2、0.5≦c≦1、0≦d≦0.5)、InxSbyTez(0≦x≦0.2、0.5≦y≦1、0≦z≦0.3)、AgaInbSbcTed(0≦a≦0.2、0≦b≦0.2、0.5≦c≦1、0≦d≦0.5)、TeaGebSncAud(0.5≦a≦1、0≦b≦0.2、0.0≦c≦0.3、0≦d≦0.5)、AgSbTe2、AgInTe2、GeCdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、PbS、PbSe、PbTe、GreySn、GreySe、Sb、Te、Sb1−xTex(0≦x≦0.5)、B、DAC(Diamond like Amorphous−C)、TAC(Tetrahedral Amorphous−C):N、a−C:H(Amorphous hydrogenated carbon films、又はDLC(Diamond−Like Carbon)、K4C60、K6C60、Ga−As−Siシステム、Ga−GaAs−Geシステム、Ga−GaAs−Sn、Ga−As−Snシステム、Ga−As−Znシステム、Ga−P−Siシステム、Ga−P−Znシステム、Ga−P−Geシステム、GaP−Biシステム、GeTe−Bi2Te3システム、GeSb2Te4システム、GaP:N、GaAs:Ca、GaAs:K、GaAs:Cl又はGeBi2Te4を含む。
非常に低い濃度の正孔が添加されたp型酸化物半導体は、Y1−xPrxBa2Cu3O7−d(0≦x≦1)、La2−xSrxCuO4(0≦x≦1)、La2−xBaxCuO4(0≦x≦1)、Ba1−xSrTiO3(0≦x≦1)、La1−xSrTiO3(0≦x≦1)、VO2、V2O3、CaxV1−xO2(0≦x≦1)、AlxV1−xO2(0≦x≦1)、TixV1−xO2(0≦x≦1)、FexV1−xO2(0≦x≦1)、WxV1−xO2(0≦x≦1)、MoxV1−xO2(0≦x≦1)、Fe3O4、Nb2O5、WO3、Ti2O3、PdO、Al2O3、HfO2、SiO2、Y2O3、Ta2O5、TiO2又はZrO2を含む。
非常に低い濃度の正孔が添加されたp型転移金属及びその転移金属を含む半導体は、Fe1−xS(0≦x≦0.5)、SmS、SmSe、SmTe、Eu3S4、FeSi2、Fe1−xMnxSi2(0≦x≦0.5)、Fe1−xCoxSi2(0≦x≦0.5)、B:H(9%)、B:H(11%)、B:H(24%)、LiAlB14、CuB4、CaB6、a−AlB12、YB66、SmB66、Mn11Si19、Mn26Si45、Mn15Si26、Ru2Si3、Fe2Si2、RuP2、RuPAs、RuAs2、OsP2、OsAs2、RhP2、RhAs2、IrP2、IrAs2、RuP4、FeAs、RuAsS、OsPS、OsAsS、OsPSe、Ti1+xS2(0≦x≦0.5)、TiS3−x(0≦x≦0.5)、Zr1+xSe2(0.01≦x≦0.1)、Zr2S3、ZrSe3、HfSe2、MoS2、2H−MoTe2−x(0.01≦x≦0.1)、2H−WSe2、MnTe、TcS2、TcSe2、ReS2、ReSe2、FeS2、RuS2、RuSe2、RhS3、RhSe2、RhSe3、IrS2、IrSe2、PtS、PtxS2(0.9≦x≦1)、SmTe、EuTe、YbSe、YbTe又はBCを含む。
非常に低い濃度の正孔が添加されたp型有機物半導体は、D+は有機的ドナーであり、A−は有機的なアクセプタであるD+A−類型であって、D+A−=TTF+Br、D+A−=BEDT−TTF又はD+A−=TMPD+TCNQを含む。ここで、TTFは、テトラチオフルバレンである。BEDT−TTFは、ビス−エチレンジチオ−テトラチオフルバレンである。TMPDは、N,N,N'N'−テトラメチル−p−フェニレンジアミンである。TCNQは、有機テトラシアノ−キノジメタンである。そして、TCNQは、正孔注入によってTCNQ−とTCNQとの間でスイッチングする活性成分である。
また、前記p型有機物半導体は、ペンタセンとペンタセン誘導体、チオフェンとチオフェンオリゴマー、ベンゾジチオフェンダイマー、フタロシアニン、ポリ(アルキルチオフェン)、ポリ(3−へキシリルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ADT、ジヘキシル−ADT、ジドデシル−ADT、ジオクタデシル−ADTを含むチオフェン誘導体、アロマチック化合物有機物を含む。
前記第1電極膜141及び第2電極膜142は、W、Mo、Au/Cr、Ti/W、Ti/Al/N、Ni/Cr、Al/Au、Pt、Cr/Mo/Au、YBa2Cu3O7−d又はNi/Mo/Auを含む。
このような構造の急激なMIT半導体物質を利用した半導体素子の動作を説明すると、第1電極膜141及び第2電極膜142に一定サイズのバイアスを印加すれば、第1電極膜141と第2電極膜142との間の急激なMIT半導体物質膜130の両端に一定サイズの電界が形成される。この電界によって急激なMIT半導体物質膜130内の正孔準位にある正孔がバランスバンドに注入される正孔ドーピング現象が発生する。正孔ドーピング現象が発生することによって急激なMIT半導体物質膜130が絶縁体で金属に転移し、その結果、第1電極膜141と第2電極膜142との間に多くの電流が流れる。
前記積層型構造の急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子を製造する方法を説明すると、先ず、SOI基板のような半導体基板110上に、例えば、Ti膜のようなバッファ層120を形成し、その上に下部電極として第1電極141をPt薄膜より形成する。Pt薄膜は、スパッタリング方法を利用して形成することができる。次いで、急激なMIT半導体物質膜130を、例えば、VO2膜を使用して形成する。VO2膜は、パルスレーザ方法を使用して蒸着することができる。場合により、急激なMIT半導体物質膜130は、MBE方法でも形成することができる。次いで、急激なMIT半導体物質膜130上に第2電極142をAu/Cr膜より形成する。形成方法としては、スパッタリング方法を使用することができる。
図2は、本発明の他の実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子を示す断面図である。
図2を参照すると、本実施の形態に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子200は、水平方向に電流が流れる平面形構造であって、基板210上にバッファ層220が配置され、バッファ層220上に急激なMIT半導体物質膜パターン230が配置される。急激なMIT半導体物質膜パターン230は、バッファ層220の一面上にのみ配置される。第1電極膜241及び第2電極膜242は、急激なMIT半導体物質膜パターン230上で一定間隔で相互に離隔されるように配置される。場合により、急激なMIT半導体物質膜230上の第1電極膜241と第2電極膜242との間にゲート絶縁膜又は強磁性体薄膜が配置され得る。
このような平面状構造の2端子半導体素子200の動作は、急激なMIT半導体物質膜パターン230が金属に転移されて流れる電流の方向が水平方向という点を除いては、図1を参照して説明した積層型構造の2端子半導体素子100と同じである。
前記平面状構造の急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子を製造する方法を説明すると、先ず、SOI基板のような半導体基板210上に、例えば、Ti膜のようなバッファ層220を形成し、その上に急激なMIT半導体物質膜130を、例えば、VO2膜を使用して形成する。次いで、急激なMIT半導体物質膜130をパターニングしてバッファ層220の一面を露出させた後に、全面に金属膜(図示せず)を形成する。そして、この金属膜上にマスク膜パターン(図示せず)を形成し、このマスク膜パターンをエッチングマスクとしたエッチング工程で金属膜の露出部分を除去する。それにより、チャンネル領域で用いられる急激なMIT物質膜130の一面が露出され、この露出部分の両側に配置される第1電極膜241及び第2電極膜242が形成される。次いで、前記マスク膜パターンを除去する。
図3は、本発明に係る急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子を適用した2端子網回路図である。
図3を参照すると、積層型構造又は平面状構造の急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子100又は200の一電極、例えば、第1電極膜141又は241は、第1端子310に連結され、他の電極、例えば第2電極膜142又は242は、抵抗素子300を介して第2端子320に連結される。ここで、抵抗素子300は、前記急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子100又は200内に多くの電流が流れて素子が破壊されることを防止するためのものであって、急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子100又は200が多くの電流によって破壊されない程度の抵抗値Rを有する。この2端子網回路は、トランジスタ又は電源に連結されて使用され得る。
図4は、図1及び図2の急激なMIT半導体物質での正孔ドーピング効果を説明するグラフである。このグラフの内部曲線は、金属で移動子の有効質量m*とバンド充填因子ρとの関係が、m*/m=1/(1−ρ4)式によって与えられる。電気伝導度σは、(m*/m)2に比例する。斯かる関係式は、Hyun−Tak Kimの“New Trends in Superconductivity”、NATO Science Series Vol II/67(Kluwer、2002)p.137あるいはhttp://xxx.lanl.gov/abs/cond−mat/0110112に提示されている。
図4を参照すると、電子数と原子数とが同一であるにも拘わらず、金属ではない物質であるモット絶縁体の場合、原子数に対する電子数の割合で表せるバンド充填因子ρが1より小さくなれば、即ち、正孔ドーピングが起これば、モット絶縁体は、絶縁体から金属に転移する。バンド充填因子ρが1であるモット絶縁体でバンド充填因子ρが1より小さくなるということは、正孔ドーピングが起こったということを意味する。図面で、“410”で表した破線は、絶縁体から金属に急激にジャンプすることを表す線であり、“420”で表した線は、金属に転移された場合の金属状態での電子の有効質量m*/mを表した線である。一般的に、電気伝導度が金属状態での電子の有効質量(m*/m)2に比例するということは、公知である。従って、モット絶縁体に非常に低濃度の正孔をドーピングすれば、絶縁体から金属に転移し、この場合、正孔ドーピングを誘発する正孔添加量が多いほど、ジャンプする程度が低くて低い電気伝導度を示し、一方、正孔ドーピングを誘発する正孔添加量が少ないほど、ジャンプする程度が高くて高い電気伝導度を示す。ところで、一般的に、半導体は、モット絶縁体ではないと解釈されてきた。しかし、前記理論で提示したモット絶縁体の特徴である2eV以下のエネルギーギャップ及び正孔準位又は電子準位を、半導体物質も有するという点で、これを利用した2端子半導体素子の製作が可能である。
図5は、図1及び図2の急激なMIT半導体物質での2eV以下のサブギャップの存在を説明するグラフである。このグラフは、光放出分光学データとして、R.Zimmermann,R.Claessed,F.Reinert,P.Steiner,S.Hufner,J.Phys.:Condens.Matter10(1998)5697から引用された。
図5を参照すると、図4を参照して説明したような正孔ドーピングによる金属への急激な転移現象を表すモット絶縁体であるVO2の光放出スペクトル(“520”で表した線)及びV2O3の光放出スペクトル(“530”で表した線)を参照すれば、結合エネルギー(又はエネルギーギャップ)が約6eV内外で示すメインギャップ以外に、2eVより小さな結合エネルギーで示すサブギャップ(521及び531で表示した部分)が存在するということが分かる。これとは対照的に、正孔ドーピングによっても急激なMITが発生しないV2O5の光放出スペクトル(“510”で表した線)を参照すれば、メインギャップが存在するのみで、2eVより小さな結合エネルギーでいかなるサブギャップも存在していない。このような結果は、急激なMITを表す物質は、2eV以下の結合エネルギーでサブギャップが存在するということを意味する。これは、モット絶縁体の特徴でも半導体の特徴でもある。
図6は、図1及び図2の急激なMIT半導体物質での温度によるキャリア変化を説明するためにホール効果の結果を示すグラフである。
図6を参照すると、約332Kより低い温度での正孔濃度を参照すれば、約1.25 1015/cm3乃至7.37 1015/cm3の正孔濃度を示す(6Aを参照)。図面において、“−”表記は、電子ではなく正孔であるということを表すものである。ここで、約1.25 1015/cm3乃至7.37 1015/cm3の濃度を示す正孔は、バランスバンド内に存在する正孔である。しかし、事実上、このバランスバンド内の正孔以外にも、測定されずとも正孔準位内に存在する少量の正孔が存在する。この正孔準位内の正孔は、温度が上昇するにつれて現れるが、約332Kに温度が上昇すれば、約1.16 1017/cm3の正孔が測定される(6Bを参照)。次いで、温度が上昇すれば、多数の電子が測定され、温度が上昇するほど急激に多数の電子が測定される(6Cを参照)。結論的に、このようにモット絶縁体の温度が上昇すれば、約332Kの温度で正孔電位内の正孔が測定され、温度がさらに上昇すれば、絶縁体から金属に急激に転移される。このような正孔の温度依存性は、半導体の特徴でもある。
図7は、図1及び図2の急激なMIT半導体物質での温度による抵抗値の変化を説明するグラフである。
図7を参照すると、Al2O3(結晶面は、1102)基板上にモット絶縁体であるVO2膜を形成した後に、温度変化による抵抗値を測定した結果、約332Kより低い温度では相対的に非常に高い抵抗値を表す半導体(半導体は、低温で絶縁体である)状態(7Aを参照)であり、約332Kで急激な金属への転移が発生して、約340K以上の温度では非常に低い抵抗値を表す金属状態(7Bを参照)となる。このような結果は、図6を参照して説明した温度による正孔ドーピングの結果、金属への急激な転移がなされることと同じ結果である。領域(7A)において、温度の上昇によって抵抗が指数関数的に減少する特徴は、半導体の特徴である。
図8は、温度の変化による物質の構造的な変化を調べるためのラマン散乱実験の結果データを示すグラフである。図8において、横軸はラマン変位(転移)を表し、縦軸はスペクトルの強度を表す。
図8を参照すると、低温即ち45℃の温度から高温即ち85℃の温度まで変化すれば、原子の位置も変更されるが、具体的に、図面で“800”で表したように、45℃の温度で622cm−1にある最も大きい単斜晶系のAgピークが、温度が上昇して85℃の温度では570cm−1にある広い正方晶系のA1gピークに変更される。このように、特定位置での原子の分極状態を表すピークの位置が変更されるにつれて原子の位置も変更されることが分かる。このように原子の位置が変更されるというのは、構造的な相転移が発生したということを意味し、従って、温度の変化によって構造的な相転移が発生することが分かる。この構造的な相転移は、2次的な現象である。
図9は、電流の変化による物質の構造的な変化を調べるために、図1及び図2の急激なMIT物質VO2に対する急激なMITで観測された分光学的マイクロラマン散乱実験の結果データを示すグラフである。
先ず、図9(a)を参照すると、Al2O3(結晶面は、1102)基板上のVO2膜の場合、“900”で表したピーク位置の変化を参照すれば、VO2膜に流れる電流が約18mAになるまで622cm−1の単斜晶系のAgピークの位置が変わらず、18mA以上で消える。これは、20mA以下では構造的な相転移が発生しないということを意味する。16mA以上で存在するピークは、基板のAl2O3ピークである。そして、約30mAの電流より高い電流が流れる場合に、構造相転移の発生を意味する原子の位置が変更され、広い正方晶系構造を意味するA1gピークが現れる。これにより、30mA以上で構造的な相転移が発生することが分かる。しかし、図11を参照して後述するが、VO2膜に流れる電流が約5mAとなるということは、既にVO2膜から正孔ドーピングによる金属への急激な転移が発生したということを意味する。これは、正孔ドーピングによる金属への急激な転移による構造的な相転移は発生しないということを証明している。約30mAの電流より高い電流が流れる場合に、構造的な相転移が発生する現象は、VO2膜に流れる電流によって発生した熱によって発生する現象であり、これは、正孔ドーピングによる金属への急激な転移と直接的な関連はない。結論的に、正孔ドーピングによる金属への急激な転移は、構造的な相転移と異なる。
次いで、図9(b)を参照すると、VO2膜に流れる電流が約100mAとなる場合、原子の位置が変更されたか否かに関する測定が難しいが、これは、多くの電流によってラマン変位ピークが隠されたためであり、VO2膜が金属的な特性を示すという証拠になる。
図10は、温度の変化による図1及び図2の急激なMIT半導体物質の電圧−電流特性を示すグラフである。図10において、横軸はAl2O3(結晶面は、1102)基板上のVO2膜の両端に印加されるドレイン−ソース電圧VDSであり、縦軸はVO2膜の両端に流れる電流IDS及び電流密度JDSである。そして、VO2膜の両端の長さ、即ち、チャンネル長は5μmである。
図10を参照すると、構造的な相転移が発生する温度の約338K(65℃)の温度より低い温度のドレイン−ソース電圧VDSで金属への急激な転移が起こる。特に、温度が高まるほど、金属への急激な転移が起こるドレイン−ソース電圧VDSが低くなる。そして、338K(65℃)の温度より高い温度では、即ち、既に温度による構造的な相転移が発生した後には、オームの法則が満足される。結果的に、急激な金属への転移は、構造的な相転移を発生させる温度より低い温度で起こり、従って、構造的な相転移と急激なMITとは、直接的な関連性がない。構造的な相転移は、MIT以後に過電流によって素子の温度上昇のために起こる。これは、MITが構造的な相転移に間接的に影響を及ぼすということを意味する。
図11は、図3の2端子網回路での電圧−電流特性を示すグラフである。図11においては、急激なMIT半導体物質を利用した2端子半導体素子として、図2の平面状構造の半導体素子を使用したが、具体的に、基板としてはAl2O3膜を使用し、急激なMIT半導体物質としてはVO2膜を使用し、第1電極及び第2電極としてはAu/Crの2層膜を使用し、第1電極と第2電極との間のVO2膜のチャンネル長は5μmである。一方、抵抗素子は1kΩの抵抗値を有する。
図11を参照すると、第1電極と第2電極との間に印加されるドレイン−ソース電圧VDSが、約22.5Vまでは絶縁体状態(11Aを参照)を維持するが、それ以上になると、急激に金属への転移が発生して金属状態(11Bを参照)となる。これは、約22.5Vの電圧が印加されれば、即ち、一定の大きさ以上の電界がVO2膜の両端に印加されれば、正孔ドーピングによる急激なMITが発生するということを意味する。このように、正孔ドーピングによる急激なMITが発生して絶縁体状態(11A)で金属状態(11B)になれば、VO2膜には電流が流れるが、このときに流れる電流の大きさは、約15mA以上である。
図12は、図1及び図2の急激なMIT半導体物質の金属相のヒステリシス特性を示すグラフである。
図12を参照すると、急激なMIT半導体物質の両端に印加される電界EDSを変化させることによって電流密度JDSの変化を測定した結果、急激なMITの結果現れる金属状態でのヒステリシス特性、即ち、図面で矢印で表す順序(12A→12B→12C→12D)の通りに電流密度JDSが変化する特性があることが分かり、これは、電界印加によって正孔ドーピングによる急激なMITが発生するということを証明している。
図13は、急激なMIT半導体物質としてVO2膜を利用した2端子半導体素子での電圧−電流特性を示すグラフである。
図13を参照すると、図1の積層型構造を有する急激なMIT半導体物質を利用した半導体素子において、急激なMIT半導体物質としてVO2膜を使用した場合、VO2膜の上下部の両端に一定の大きさの電圧VDSを印加した結果、正孔ドーピングによる急激なMITが起こって絶縁体状態(13A)から金属状態(13B)に変化することが分かる。
図14は、急激なMIT半導体物質としてpガリウム砒素(pGaAs)を利用した2端子半導体素子での電圧−電流特性を示すグラフである。
図14を参照すると、GaAs基板上にpGaAs膜を形成し、pGaAs膜の両端に一定大きさの電圧VDSを印加した結果、正孔ドーピングによる急激なMITが起こって絶縁体状態(13A)から金属状態(13B)に変化した。ここで、pGaAsは、2eV以下のサブバンドを有して正孔準位内の正孔を保有している物質であり、従って、約30Vの電圧印加によって正孔ドーピングによる金属への急激な転移が起こることが分かる。急激なMITが起こるとき、低濃度の正孔は、n=(0.2/aH)3からn=0.001% =1x1014cm−3である。
図15は、急激なMIT半導体物質としてpGaAsを利用した2端子半導体素子での電圧−電流特性を示すグラフである。
図15を参照すると、GaAs基板とpGaAs膜との間にアルミニウム砒素(AlAs)バッファ膜を形成した場合には、AlAsバッファ膜がない場合(図14参照)と比較して多少高い電圧を印加したとき、正孔ドーピングによる急激なMITが発生して絶縁体状態(14A)から金属状態(14B)に変更されることが分かる。しかし、このような電圧差は、非常に微細な差である。
図16は、急激なMIT半導体物質としてpGaAsを利用した2端子半導体素子での温度の変化による電圧−電流特性を示すグラフである。ここで、pGaAsのチャンネル長は、約10μmである
図16を参照すると、GaAs基板上にpGaAs膜を形成した場合に、相対的に最も低い温度である300Kで、pGaAs膜は、約80Vの電圧で絶縁体状態(16A1)から金属状態(16B1)への急激な転移が起こる。相対的に多少高い温度である330Kで、pGaAs膜は、約55Vの電圧で絶縁体状態(16A2)から金属状態(16B2)への急激な転移が起こる。そして、相対的に最も高い温度である350Kで、pGaAs膜は、約53Vの電圧で絶縁体状態(16A3)から金属状態(16B3)への急激な転移が起こる。これは、急激なMIT現象を誘発させるために印加される電圧の大きさと温度との相関関係を示すものであって、結果的に、温度が高いほど急激なMIT現象を誘発させるために印加される電圧の大きさは低く、一定温度以上では急激なMIT現象を誘発させるために印加される電圧の大きさとの間に大きな差がないということを示している。
図16を参照すると、GaAs基板上にpGaAs膜を形成した場合に、相対的に最も低い温度である300Kで、pGaAs膜は、約80Vの電圧で絶縁体状態(16A1)から金属状態(16B1)への急激な転移が起こる。相対的に多少高い温度である330Kで、pGaAs膜は、約55Vの電圧で絶縁体状態(16A2)から金属状態(16B2)への急激な転移が起こる。そして、相対的に最も高い温度である350Kで、pGaAs膜は、約53Vの電圧で絶縁体状態(16A3)から金属状態(16B3)への急激な転移が起こる。これは、急激なMIT現象を誘発させるために印加される電圧の大きさと温度との相関関係を示すものであって、結果的に、温度が高いほど急激なMIT現象を誘発させるために印加される電圧の大きさは低く、一定温度以上では急激なMIT現象を誘発させるために印加される電圧の大きさとの間に大きな差がないということを示している。
図17は、急激なMIT半導体物質としてpGaAsの金属相のヒステリシス特性を示すグラフである。ここで、pGaAsのチャンネル長は、約10μmである。
図17を参照すると、急激なMIT半導体物質の両端に印加される電圧(VDS=チャンネル長×EDS)を変化させることによって電流密度JDSの変化を測定した結果、急激なMITの結果として現れる金属状態でのヒステリシス特性、即ち、図面において矢印で表す順序(17A→17B→17C→17D)の通りに電流密度JDSが変化する特性が現れることが分かり、これは、pGaAsの場合にも、電界印加によって正孔ドーピングによる急激なMITが発生するということを証明している。
図18(a)は、GaAsの電気伝導度σの温度依存性である。このデータは、G.Gattow,G.Buss,Naturwissenschaften 56(1)(1969)35から引用された。これは、GaAsの構造相転移温度を示すために、ここで提示する。図18(b)は、低濃度の正孔が添加されたpGaAsの抵抗の温度依存性を観測して示している。抵抗は、電気伝導度に反比例する。
具体的には、図18(a)において約1240℃で急激な不連続的な電気伝導度を示すが、これは、その温度以下の単斜晶系から正方晶系への構造相転移を意味する。図18(b)は、480Kまで観測された低濃度5×1014cm−3の正孔が添加されたpGaAsの電気抵抗であって急激なMITを示していない。そして、常温で観測された図14、図15、図17及び図16の300K、330K、350Kで観測された急激なMITは、構造相転移温度よりはるかに下側にあるので、GaAsで観測された急激なMITは、構造相転移と直接的に関係しないと解釈することができる。
図19は、急激なMIT物質としてpGaAsの514.5nmのArイオンレーザで測定された光電流特性を示すグラフである。ここで、pGaAsのチャンネル長は、約10μmである。
図19を参照すると、光電流特性は、レーザ光を照射しつつ測定した電流−電圧特性(18A2)とレーザ光を照射せずに測定された電流−電圧特性(19A1)との差と定義される。その光電流特性は、“19A3”曲線で表される。“19A1”曲線において急激なMITが起こる箇所である27.5Vの近傍から太い矢印以下の小さな電圧側に“19A2”曲線と“19A3”曲線とが共に重複されている。これは、“19A1”曲線の値が非常に小さく、“19A2”曲線と“19A1”曲線との差がほぼ“19A2”曲線値となったためである。“19A3”曲線の長さは、レーザ光を照射するときにレーザ光によって励起された正孔キャリア(光電流キャリア)が発生して生じる光電流の大きさとほぼ一致するということを意味する。従って、この大きい光電流を利用すれば、本発明の2端子素子を光電センサとして利用することができる。既知の光電センサは、光電流効果を大きくするために、数十層の薄膜層を積層して作製する。しかし、2端子素子を利用すれば、非常に簡単になり得る。そして、レーザ光をRF(Radio Frequency)波に代える場合、光電センサのような2端子素子は、RF受信器としても使用され得る。一方、27.5Vより大きい電圧側で光電流特性曲線(19A3)が減少することは、金属で光伝導特性が起こらないためである。これが急激なMITの特性である。
図20は、急激なMIT物質としてpGaAsとAlAsとのバッファ層を使用して製造された図2の2端子半導体素子に、波長が488nmであるアルゴンレーザをその素子に入射させて素子から放出された蛍光(Photo−Luminescence:PL)の照度と波長依存性とを示すスペクトルである。
図20を参照すると、細い線のグラフは、第1電極と第2電極とに印加された電場が0Vで測定されたスペクトルであり、太い線のグラフは、第1電極と第2電極とに印加された電場が34Vで測定されたスペクトルである。34Vの近傍で急激なMITが起こった“20A1”ピークは、860nmの約1.45eVのGaAsのサブエネルギーギャップに該当する。これは、pGaAsが、正孔が添加された2eV以下のエネルギーギャップを有する半導体であるということを証明している。第1電極と第2電極との間に34Vの電圧が印加されたとき、サブエネルギーPLの照度が急激に低下した。しかし、“20A2”としてある程度ピークが残っているのは、急激なMITを起こさない相の存在のためであり、これは、物質が急激なMITを起こす相とそうでない相とが互いに混合されていると解釈される。電場が印加されて急激なMITが起こった後、800nmから600nmまでスペクトルの強度が連続的に増加した。600nmから短波長側にスペクトル曲線が急激に減少するのは、フィルタを利用してそれ以下を除去したためである。スペクトル800nm以下で蛍光度が増加する現象“20A4”は、その2端子素子から発生した発光と解釈される。640nm近くの波長を有する光は、赤い光に該当する。従って、図2の2端子素子は、LED(Light Emitting Diode)又はレーザのような発光用素子としても使用することができる。
そして、蛍光度が短波長側に800から600nmまでにおいて連続的に増加する現象は、急激なMITによって生じた電子が強い電場(E=V/dchannel length=34V/5μm=6.8×106V/m)中で加速して連続スペクトルの電磁波を放出する制動放射による発光と解釈される。一種の光を出す加速器のような原理である。
図2のような2端子素子は、加速長が5μmである超小型加速器とみなされ得る。
図2のような2端子素子は、加速長が5μmである超小型加速器とみなされ得る。
図21は、急激なMIT物質としてpGaAsを使用して製造された2端子半導体素子に10μAずつ電流を流しつつ電圧を観測した電流−電圧特性を示すグラフである。ここで、pGaAsのチャンネル長は、約10μmである。
図21を参照すると、初めて電流10μAを流したとき55V(21A)で測定され、再び電流を10μAずつ高めると、電圧は不連続的に約25V(21B)まで低下し、再び電流を高めると、オームの法則によって電圧は上昇する。これは、測定された電圧55Vの“21A”から25Vの“21B”まで不連続的な低下が急激なMITに対応する。
なぜなら、オームの法則を示す直線“19C”が金属特性であるためである。このように、電流の増加によって測定された電圧が低下し、再び上昇する現象は、マイナス抵抗又はネガティブ抵抗という。pGaAsのように、低濃度の正孔が注入された半導体においてネガティブ特性が観測されるのはPCMの特徴である。それは、pGaAsが不揮発性メモリの材料として利用される可能性があるということを意味する。また、低濃度の正孔が添加された総ての半導体物質は、このようなネガティブ抵抗特性を示すものである。
なぜなら、オームの法則を示す直線“19C”が金属特性であるためである。このように、電流の増加によって測定された電圧が低下し、再び上昇する現象は、マイナス抵抗又はネガティブ抵抗という。pGaAsのように、低濃度の正孔が注入された半導体においてネガティブ特性が観測されるのはPCMの特徴である。それは、pGaAsが不揮発性メモリの材料として利用される可能性があるということを意味する。また、低濃度の正孔が添加された総ての半導体物質は、このようなネガティブ抵抗特性を示すものである。
図22は、図2の2端子半導体素子の電極形状の一例を説明する斜視図である。
図22を参照すれば、急激なMIT半導体物質膜300上に第1電極241及び第2電極242が相互に対向する平面状構造である場合、第1電極241及び第2電極242をフィンガー状に形成することによって相互に対向する面の長さが長くなり、その結果、単位面積当りに流れる電流の量も増加する。例えば図面では、第1電極241は、3個のフィンガーを有するように形成され、第2電極242は、2個のフィンガーを有するように形成されているが、その数はさらに増加することもある。また、フィンガーの長さa及び第1電極241と第2電極242との間の水平距離Lも所望の素子の特性によって自由に調節され得る。
図23は、図1及び図2の急激なMIT半導体物質膜の厚さの変化による長さ及び幅の相関関係を説明する図面である。
図23を参照すると、急激なMIT半導体物質膜130又は230の幅W、長さL、厚さt及び面積Aは相互に適切なサイズを有していなければならない。即ち、例えば、常温で少なくともMITが起こったときに、転移が起こる前後の抵抗変化を約104にするためには、薄膜の厚さが100nmである場合、図面において点線で示したように、約20μmの長さL及び約3mmの幅Wを有していなければならない。このように、厚さt、長さL及び幅Wを相互に適切に調節することによって所望の抵抗変化を維持させ得る。
以上、本発明を望ましい実施の形態について詳細に説明したが、本発明は、前述の実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で当業者によって様々な変形が可能である。
本発明は、既存の半導体素子をMIT半導体物質を利用した半導体素子に代替して適用することができる総ての応用分野、任意の特定温度で大きい電流を利用する警報器、温度センサ、スイッチング素子、情報記憶素子、電池の保護回路、PCM、急激なMITと強磁性薄膜とを利用した磁気メモリ、光電センサ、超高速光通信用受信器、RF検出器、トランジスタ等の多様な分野に適用され得る。
100 2端子半導体素子
110 基板
120 バッファ層
130 MIT物質膜
141 第1電極膜
142 第2電極膜
110 基板
120 バッファ層
130 MIT物質膜
141 第1電極膜
142 第2電極膜
Claims (17)
- 半導体エネルギーギャップと不純物準位(正孔あるいは電子)とを有し、所定電圧で絶縁体から金属に急激な金属−絶縁体転移を起こし、電圧印加による発光が発生する急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜。
- 前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜は、レーザー光の照射によって前記エネルギーギャップに対応する波長部分に蛍光(PL:Photo−Luminescence)のピーク(peak)部分を有するが、前記急激な金属−絶縁体転移によって前記ピーク部分の前記蛍光の強度が減り、前記ピーク部分以下の波長に対応する前記蛍光の強度は増加することを特徴とする請求項1に記載の急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜。
- 前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜は、p型半導体(III−V族、II−VI族)を含むことを特徴とする請求項1に記載の急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜。
- 前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜は、p型GaAsを含むことを特徴とする請求項3に記載の急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜。
- 前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜は、n型半導体を含むことを特徴とする請求項1に記載の急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜。
- 前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜は、LED(light emitting diode)、発光用素子、及び光を放出する加速器のうち、少なくとも1つに用られることを特徴とする請求項1に記載の急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜。
- 基板と、
前記基板上に配置される請求項1に記載の急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜と、
前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜上において相互に対向しつつ離隔されるように配置される第1電極膜及び第2電極膜と、を備えることを特徴とする発光素子。 - 前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜は、p型半導体(III−V族、II−VI族)を含むことを特徴とする請求項7に記載の発光素子。
- 前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜は、n型半導体を含むことを特徴とする請求項7に記載の発光素子。
- 前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜は、LED、発光用素子、及び光を放出する加速器のうち、少なくとも1つに利用されることを特徴とする請求項7に記載の発光素子。
- 前記基板と前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜との間に配置されたバッファ層をさらに備えることを特徴とする請求項7に記載の発光素子。
- 前記第1電極膜は、前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜の左側に置かれるが、電極の一部は半導体の上部の一部を覆う構造であり、前記第2電極膜は、第1電極膜と同じ構造であり、かつ前記急激な金属−絶縁体半導体物質膜の右側に置かれることを特徴とする請求項7に記載の発光素子。
- 基板と、
前記基板上に配置される請求項1に記載の急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜と、
前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜の下部に形成された第1電極膜と、
前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜の上部に形成された第2電極膜と、を備えることを特徴とする発光素子。 - 前記基板は、サファイア、Si、GaAs、及び金属板を含むことを特徴とする請求項13に記載の発光素子。
- 前記基板と前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜との間に配置されたバッファ層をさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の発光素子。
- 前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜は、p型半導体(III−V族、II−VI族)を含むことを特徴とする請求項13に記載の発光素子。
- 前記急激な金属−絶縁体転移半導体物質膜は、n型半導体を含むことを特徴とする請求項13に記載の発光素子。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040055096A KR100609699B1 (ko) | 2004-07-15 | 2004-07-15 | 급격한 금속-절연체 전이 반도체 물질을 이용한 2단자반도체 소자 및 그 제조 방법 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004381971A Division JP2006032898A (ja) | 2004-07-15 | 2004-12-28 | 急激な金属−絶縁体転移半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010161413A true JP2010161413A (ja) | 2010-07-22 |
Family
ID=34930913
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004381971A Pending JP2006032898A (ja) | 2004-07-15 | 2004-12-28 | 急激な金属−絶縁体転移半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法 |
JP2010087261A Withdrawn JP2010161413A (ja) | 2004-07-15 | 2010-04-05 | 急激な金属−絶縁体転移半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004381971A Pending JP2006032898A (ja) | 2004-07-15 | 2004-12-28 | 急激な金属−絶縁体転移半導体物質を利用した2端子半導体素子及びその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7728327B2 (ja) |
EP (3) | EP1617482B1 (ja) |
JP (2) | JP2006032898A (ja) |
KR (1) | KR100609699B1 (ja) |
CN (2) | CN101673804A (ja) |
AT (1) | ATE502404T1 (ja) |
DE (1) | DE602004031827D1 (ja) |
Families Citing this family (79)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4581068B2 (ja) * | 2004-09-15 | 2010-11-17 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 抵抗スイッチング素子及び界面抵抗型不揮発性メモリ素子 |
KR100639990B1 (ko) * | 2004-12-08 | 2006-10-31 | 한국전자통신연구원 | 급격한 금속-절연체 전이 소자 및 그 제조방법 |
KR100640001B1 (ko) * | 2005-02-21 | 2006-11-01 | 한국전자통신연구원 | 급격한 mit 소자를 이용한 전기전자시스템 보호 회로 및그 회로를 포함한 전기전자시스템 |
JP2006269688A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 不揮発性メモリ素子 |
KR100723872B1 (ko) * | 2005-06-30 | 2007-05-31 | 한국전자통신연구원 | 급격한 금속-절연체 전이를 이용한 메모리소자 및 그동작방법 |
KR100786937B1 (ko) * | 2005-07-20 | 2007-12-17 | 주식회사 엘지화학 | 이차전지 보호장치 |
KR100734882B1 (ko) * | 2005-07-28 | 2007-07-03 | 한국전자통신연구원 | 급격한 금속-절연체 전이를 하는 웨이퍼, 그 열처리 장치및 이를 이용한 열처리 방법 |
KR100744551B1 (ko) | 2005-10-12 | 2007-08-01 | 한국전자통신연구원 | 급격한 mit 소자를 이용한 온도센서 및 그 센서를포함한 경보기 |
RU2392692C2 (ru) | 2006-02-01 | 2010-06-20 | Электроникс Энд Телекоммьюникейшнз Рисерч Инститьют | Прибор с резким переходом металл-изолятор с параллельными проводящими слоями |
JP4859104B2 (ja) * | 2006-02-24 | 2012-01-25 | 学校法人東海大学 | 単斜晶型二酸化バナジウム薄膜製造装置、単斜晶型二酸化バナジウム薄膜製造方法、スイッチング素子製造方法、およびスイッチング素子 |
KR100825738B1 (ko) * | 2006-03-28 | 2008-04-29 | 한국전자통신연구원 | 급격한 금속-절연체 전이를 이용한 전압조정 시스템 |
KR100825760B1 (ko) * | 2006-06-02 | 2008-04-29 | 한국전자통신연구원 | 급격한 mit 소자, 그 소자를 이용한 mit 센서 및 그mit 센서를 포함한 경보기 및 이차전지 폭발 방지 회로 |
KR101159075B1 (ko) * | 2006-06-27 | 2012-06-25 | 삼성전자주식회사 | n+ 계면층을 구비한 가변 저항 랜덤 액세스 메모리 소자 |
KR100842287B1 (ko) * | 2006-07-06 | 2008-06-30 | 한국전자통신연구원 | 급격한 금속-절연체 전이를 갖는 v2o3 박막의 제조방법 |
KR100825762B1 (ko) | 2006-08-07 | 2008-04-29 | 한국전자통신연구원 | 금속-절연체 전이(mit) 소자의 불연속 mit를연속적으로 측정하는 회로 및 그 회로를 이용한 mit센서 |
KR100864827B1 (ko) | 2006-11-02 | 2008-10-23 | 한국전자통신연구원 | Mit 소자를 이용한 논리회로 |
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JP4252110B2 (ja) | 2007-03-29 | 2009-04-08 | パナソニック株式会社 | 不揮発性記憶装置、不揮発性記憶素子および不揮発性記憶素子アレイ |
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JP4621897B2 (ja) | 2007-08-31 | 2011-01-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 固体メモリ |
JP4595125B2 (ja) | 2007-08-31 | 2010-12-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 固体メモリ |
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KR20090049008A (ko) | 2007-11-12 | 2009-05-15 | 한국전자통신연구원 | 금속-절연체 전이(mit)소자를 이용한 트랜지스터발열제어 회로 및 그 발열제어 방법 |
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KR101643758B1 (ko) * | 2009-11-23 | 2016-08-01 | 삼성전자주식회사 | 분자빔 에피탁시 방법을 이용한 카본 절연층 제조방법 및 이를 이용한 전계효과 트랜지스터 제조방법 |
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US9576619B2 (en) | 2011-10-27 | 2017-02-21 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Shiftable memory supporting atomic operation |
WO2013062595A1 (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Metal-insulator phase transition flip-flop |
US8854860B2 (en) | 2011-10-28 | 2014-10-07 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Metal-insulator transition latch |
WO2013115779A1 (en) | 2012-01-30 | 2013-08-08 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Word shift static random access memory (ws-sram) |
WO2013130109A1 (en) | 2012-03-02 | 2013-09-06 | Hewlett-Packard Development Company L.P. | Shiftable memory defragmentation |
US8928560B2 (en) * | 2012-03-20 | 2015-01-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Display matrix with resistance switches |
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JP6429184B2 (ja) * | 2014-10-01 | 2018-11-28 | 株式会社アルバック | 機能性素子、二酸化バナジウム薄膜製造方法 |
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US9455758B1 (en) | 2015-05-18 | 2016-09-27 | The Regents Of The University Of Michigan | Ultra-low power long range transceiver |
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CN107240620B (zh) * | 2016-03-28 | 2019-02-12 | 中国科学院金属研究所 | 一种光响应敏感的碲化铋薄膜和硅基片形成的pn结材料 |
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US10541274B2 (en) | 2017-01-26 | 2020-01-21 | Hrl Laboratories, Llc | Scalable, stackable, and BEOL-process compatible integrated neuron circuit |
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US10216013B2 (en) * | 2017-03-07 | 2019-02-26 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Vanadium dioxide-based optical and radiofrequency switches |
US11861488B1 (en) | 2017-06-09 | 2024-01-02 | Hrl Laboratories, Llc | Scalable excitatory and inhibitory neuron circuitry based on vanadium dioxide relaxation oscillators |
KR101942094B1 (ko) | 2017-09-05 | 2019-01-24 | 한국전자통신연구원 | 산소 리치 바나듐산화물 전자파 센서 및 그 시스템 |
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CN108428736A (zh) * | 2018-02-09 | 2018-08-21 | 沈阳工程学院 | 一种基于n-VO2/p-NiO的异质结构及制备方法 |
US10388646B1 (en) * | 2018-06-04 | 2019-08-20 | Sandisk Technologies Llc | Electrostatic discharge protection devices including a field-induced switching element |
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KR100864833B1 (ko) * | 2006-11-23 | 2008-10-23 | 한국전자통신연구원 | 금속-절연체 전이(mit) 소자 기반의 발진 회로 및 그발진 회로 구동방법 |
-
2004
- 2004-07-15 KR KR1020040055096A patent/KR100609699B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-12-13 US US11/011,878 patent/US7728327B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-14 EP EP04257769A patent/EP1617482B1/en not_active Not-in-force
- 2004-12-14 DE DE602004031827T patent/DE602004031827D1/de active Active
- 2004-12-14 EP EP11151106A patent/EP2315288A3/en not_active Withdrawn
- 2004-12-14 AT AT04257769T patent/ATE502404T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-12-14 EP EP10005213A patent/EP2219243A1/en not_active Withdrawn
- 2004-12-20 CN CN200910174633A patent/CN101673804A/zh active Pending
- 2004-12-20 CN CNA2004101033742A patent/CN1722489A/zh active Pending
- 2004-12-28 JP JP2004381971A patent/JP2006032898A/ja active Pending
-
2010
- 2010-04-05 JP JP2010087261A patent/JP2010161413A/ja not_active Withdrawn
- 2010-04-14 US US12/760,366 patent/US20100193824A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101673804A (zh) | 2010-03-17 |
US20100193824A1 (en) | 2010-08-05 |
DE602004031827D1 (de) | 2011-04-28 |
US7728327B2 (en) | 2010-06-01 |
CN1722489A (zh) | 2006-01-18 |
ATE502404T1 (de) | 2011-04-15 |
US20060011942A1 (en) | 2006-01-19 |
KR20060006195A (ko) | 2006-01-19 |
EP2219243A1 (en) | 2010-08-18 |
EP2315288A2 (en) | 2011-04-27 |
JP2006032898A (ja) | 2006-02-02 |
KR100609699B1 (ko) | 2006-08-08 |
EP1617482A2 (en) | 2006-01-18 |
EP2315288A3 (en) | 2011-07-06 |
EP1617482A3 (en) | 2008-07-23 |
EP1617482B1 (en) | 2011-03-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100415 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20120131 |