JP2008064833A - 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスクホルダ20を上下に移動及びチルトして、マスク2と基板1とのギャップ制御を行う。移動機構60により、カメラ部59を含む検出装置50を上下に移動して、カメラ部59の焦点をマスク2の表面に合わせ、カメラ部59を用いてマスク2の表面に設けられた位置検出用マークの画像を取得する。カメラ部59が出力した画像信号を処理してマスク2の位置の変化を検出し、マスク2の位置の変化の検出結果に応じて、露光時の基板1の位置を補正する。
【選択図】図1
Description
2 マスク
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
11 チャック支持台
12 ベース板
13 スポーク
14 リム
15 ボールピン
20 マスクホルダ
21 支持用腕
22 チルト用腕
30a,30b,30c,30d マスクホルダ支持部材
31 支持板
41 荷重支持機構
42 Z−チルト機構
50 検出装置
51 光源
52,55,56 ハーフミラー
53 レンズ
54 ロンボイドプリズム
57 ミラー
58 センサー部
58a,58b CCDラインセンサー
59 カメラ部
60 移動機構
61 固定台
62 ベース板
63 ガイド
64 テーパブロック
65 ローラ
66 ボールねじ
67 カップリング
68 モータ
69 ローラ支持部材
70 アーム
71 ばね
72 上板
73 連結板
74 昇降ブロック
75 取付け位置調節具
76 ガイド
77 支持ブロック
80 処理装置
81 MPU
82 メモリ
83,84,85,86,87 インタフェース
88 バス
90 ステージ駆動回路
91 Z−チルト機構駆動回路
92 モータ駆動回路
Claims (8)
- プロキシミティ方式を用いた露光装置であって、
マスクを保持するマスクホルダと、
基板を保持するチャックと、
前記チャックを移動して、基板のXY方向へのステップ移動及び露光時の基板の位置決めを行うステージと、
前記マスクホルダを上下に移動及びチルトして、マスクと基板とのギャップ制御を行うギャップ制御手段と、
マスクの表面に設けられた位置検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置と、
前記画像取得装置を上下に移動して、前記画像取得装置の焦点をマスクの表面に合わせる焦点調節手段と、
前記画像取得装置が出力した画像信号を処理してマスクの位置の変化を検出し、検出結果に応じて前記ステージを制御して、露光時の基板の位置を補正する処理手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記焦点調節手段は、
前記画像取得装置の光軸と同じ光軸を有し、位置検出用マークの近くのマスクの表面に設けられた焦点調節用マークを検出する光学的検出手段と、
前記画像取得装置及び前記光学的検出手段を上下に移動する移動手段と、
前記移動手段を制御する制御手段とを有し、
前記光学的検出手段は、
光源と、
前記光源からの光を焦点調節用マーク及び位置検出用マークへ照射し、反射光を集光するレンズと、
前記レンズで集光された反射光を2つに分割する第1の光学要素と、
前記第1の光学要素で分割された反射光の一方から焦点調節用マークを検出するセンサーとを有し、
前記制御手段は、前記センサーの検出信号を処理して、前記画像取得装置の焦点がマスクの表面に合う様に前記移動手段を制御し、
前記画像取得装置は、前記第1の光学要素で分割された反射光の他方から位置検出用マークの画像を取得することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記光学的検出手段は、前記第1の光学要素で分割された反射光の一方をさらに2つに分割する第2の光学要素を有し、
前記センサーは、
前記画像取得装置の焦点がマスクの表面より所定距離だけ上にずれたとき、前記第2の光学要素で分割された反射光の一方が結像する位置に配置された第1のラインセンサーと、
前記画像取得装置の焦点がマスクの表面より所定距離だけ下にずれたとき、前記第2の光学要素で分割された反射光の他方が結像する位置に配置された第2のラインセンサーとを有し、
前記第1のラインセンサー及び前記第2のラインセンサーは、繰り返しパターンからなる焦点調節用マークを検出し、
前記制御手段は、前記第1のラインセンサーの検出信号の強度変化の割合と前記第2のラインセンサーの検出信号の強度変化の割合が同じになる様に、前記移動手段を制御することを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - プロキシミティ方式を用いた露光方法であって、
マスクの表面に位置検出用マークを設け、
マスクをマスクホルダで保持し、
基板をチャックで保持し、
チャックを移動して、基板のXY方向へのステップ移動及び露光時の基板の位置決めを行い、
マスクホルダを上下に移動及びチルトして、マスクと基板とのギャップ制御を行い、
画像取得装置を上下に移動して、画像取得装置の焦点をマスクの表面に合わせ、
画像取得装置を用いて位置検出用マークの画像を取得し、
画像取得装置が出力した画像信号を処理してマスクの位置の変化を検出し、
マスクの位置の変化の検出結果に応じて、露光時の基板の位置を補正することを特徴とする露光方法。 - 位置検出用マークの近くのマスクの表面に焦点調節用マークを設け、
画像取得装置の光軸と同じ光軸を有する光学的検出手段を用いて、光源からの光を焦点調節用マーク及び位置検出用マークへ照射し、反射光を集光し、集光した反射光を2つに分割し、分割した反射光の一方から焦点調節用マークを検出し、
焦点調節用マークの検出信号を処理して、画像取得装置の焦点がマスクの表面に合う様に画像取得装置及び光学的検出手段を上下に移動し、
光学的検出手段で分割した反射光の他方から、画像取得装置を用いて位置検出用マークの画像を取得することを特徴とする請求項4に記載の露光方法。 - 位置検出用マークの近くのマスクの表面に繰り返しパターンからなる焦点調節用マークを設け、
分割した反射光の一方をさらに2つに分割し、
第1のラインセンサーを、画像取得装置の焦点がマスクの表面より所定距離だけ上にずれたとき、さらに分割した反射光の一方が結像する位置に配置し、
第2のラインセンサーを、画像取得装置の焦点がマスクの表面より所定距離だけ下にずれたとき、さらに分割した反射光の他方が結像する位置に配置し、
第1のラインセンサーの検出信号の強度変化の割合と第2のラインセンサーの検出信号の強度変化の割合が同じになる様に、画像取得装置及び光学的検出手段を上下に移動することを特徴とする請求項5に記載の露光方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載の露光方法を用いて、マスクのパターンを基板へ転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JP2010025982A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2011124400A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
CN103088300A (zh) * | 2011-10-27 | 2013-05-08 | 株式会社日立高新技术 | 有机el器件制造装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61235808A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Hitachi Ltd | 自動焦点合せ方法及び装置 |
JPH0267713A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Canon Inc | 多重露光方法 |
JPH09219359A (ja) * | 1996-02-09 | 1997-08-19 | Canon Inc | 半導体露光装置およびこの装置を用いた半導体露光方法 |
JP2000035676A (ja) * | 1998-05-15 | 2000-02-02 | Nippon Seiko Kk | 分割逐次近接露光装置 |
JP2001125284A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-11 | Nsk Ltd | 分割逐次近接露光装置 |
JP2002365810A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-18 | Nsk Ltd | 分割逐次近接露光装置 |
JP2004356276A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Riipuru:Kk | 荷電粒子ビーム近接露光方法及び装置 |
-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61235808A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Hitachi Ltd | 自動焦点合せ方法及び装置 |
JPH0267713A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Canon Inc | 多重露光方法 |
JPH09219359A (ja) * | 1996-02-09 | 1997-08-19 | Canon Inc | 半導体露光装置およびこの装置を用いた半導体露光方法 |
JP2000035676A (ja) * | 1998-05-15 | 2000-02-02 | Nippon Seiko Kk | 分割逐次近接露光装置 |
JP2001125284A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-11 | Nsk Ltd | 分割逐次近接露光装置 |
JP2002365810A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-18 | Nsk Ltd | 分割逐次近接露光装置 |
JP2004356276A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Riipuru:Kk | 荷電粒子ビーム近接露光方法及び装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010025982A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2011124400A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
CN103088300A (zh) * | 2011-10-27 | 2013-05-08 | 株式会社日立高新技术 | 有机el器件制造装置 |
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