JP2012252296A - プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】負圧室の天板のたわみを抑制し、かつ、露光時に近い条件で平面鏡による露光光の平行度の補正を行って、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させる。
【解決手段】マスクホルダ２０の開口の下方にマスク２を保持する前に、複数の押圧装置２３により、第１の加圧力で天板２１の壁部２０ｂからはみ出た箇所を上方から押しながら、平面鏡支持装置５０の各支持機構６０の調整具により、保持具６２の位置を調整し、支持部材６１が第２平面鏡３８の裏面を支持する位置を変更して、第２平面鏡３８により反射される光の平行度を補正する。マスクホルダ２０の開口の下方にマスク２を保持して、天板２１とマスク２との間に負圧室２０ｃを形成し、負圧室２０ｃ内の空気を抜く際、複数の押圧装置２３により、第１の加圧力より大きな第２の加圧力で天板２１の壁部２０ｂからはみ出た箇所を押す。
【選択図】図５

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、マスクの上方に負圧室を設け、負圧室に負圧を掛けてマスクのたわみを抑制しながら、凹面鏡を用いて平行光線束にした光を平面鏡で反射してマスクへ照射するプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。

表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。

プロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板とを極めて接近させて露光を行う。プロキシミティ露光装置では、大型の基板及びマスクを安定して支持及び保持するために、基板を水平に支持して露光を行うのが一般的であり、マスクは、マスクホルダにより周辺部を真空吸着されて、基板の上方に基板と向き合わせて保持される。そのため、マスクには、自重によってたわみが発生する。特に、表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、マスクも大型化して自重によるたわみが大きくなる。マスクにたわみが発生すると、基板へのパターンの焼付けが均一に行われない。

従来、例えば特許文献１に記載の様に、マスクの上方に負圧室を設け、負圧室に負圧を掛けることによって、マスクのたわみを抑制する方法が行われている。負圧室は、マスクと、マスクホルダと、マスクホルダの露光光が通過する開口の上方に設けた石英ガラス板等の透明な天板とで構成されている。

特開２００３−１３１３８８号公報

プロキシミティ方式では、マスクのパターンを基板に一対一で転写する等倍露光を行うため、プロキシミティ露光装置の露光光照射装置には、露光光を平行光線束にするための光学部品が設けられている。従来、平行光線束を作成する光学部品としては、コリメーションレンズ群と凹面鏡とが知られている。表示用パネルの大画面化に伴い露光領域が大きくなると、これらの光学部品も大型化されるが、コリメーションレンズ群は特に大型になると高価となるので、主に大型の基板の露光を行うプロキシミティ露光装置では、凹面鏡が多く使われている。凹面鏡により平行光線束にされた光は、平面鏡により反射されてマスクへ照射される。

プロキシミティ露光装置の露光光照射装置に使用される平面鏡は、ソーダガラス等から成るガラス材の表面に、アルミニウム等から成る反射膜を蒸着して構成されている。露光光照射装置内の平面鏡は、ランプ等の光源、露光光の照度を均一化するフライアイレンズ等のレンズ群、凹面鏡、及びその他の光学部品を限られた空間に効率良く配置するために、水平ではなく、斜めに立てた状態で設置されることが多い。そのため、平面鏡には自重による歪みが発生し、この歪みを矯正しないと、露光光が歪んで露光精度が低下する。

また、凹面鏡を用いて平行光線束の露光光を作成する場合、凹面鏡で反射された光は、理想的な平行光とは成らず、球面収差やコマ収差の成分を含む。そのため、露光光を平面鏡で反射してマスクへ照射する際、平面鏡により露光光の平行度を補正する必要がある。

マスクの上方に負圧室を設けるプロキシミティ露光装置では、負圧室に負圧を掛けない状態でも、負圧室の天板が自重によって下方へたわみ、負圧室に負圧を掛けると、負圧室の天板が負圧によってさらに下方へたわんでしまう。負圧室の天板がたわむと、露光光照射装置から照射された露光光が天板を透過する際に露光光の平行度が低下して、露光精度が低下するという問題がある。

また、従来、平面鏡の調整は、平面鏡から照射された光の位置のずれを検出して行われていた。このとき、マスクがマスクホルダに装着された状態では、平面鏡から照射された光の一部がマスクのパターンに遮られ、平面鏡から照射された光の位置のずれを所望の場所で検出することができない。そのため、平面鏡の調整は、負圧室の天板のみがマスクホルダに装着された状態か、負圧室の天板及びマスクがマスクホルダに装着されていない状態で行われていた。負圧室の天板のみがマスクホルダに装着された状態では、負圧室が形成されないため、負圧室に負圧を掛ける露光時とは天板のたわみ量が異なる。また、負圧室の天板及びマスクがマスクホルダに装着されていない状態では、平面鏡により反射された光が完全に平行ではないとき、平面鏡のある１点で反射された光が照射される位置は、負圧室の天板及びマスクを透過する露光時と異なる。そのため、露光時と同じ条件で平面鏡による露光光の平行度の補正を行うことができなかった。

また、従来の平面鏡の支持装置は、平面鏡の外周部分を固定するフレームと、平面鏡の裏面に取り付けた複数の調整ねじとを有し、平面鏡の外周部分をフレームに固定した状態で、複数の調整ねじにより平面鏡の裏面を押し引きして、平面鏡の歪みを矯正していた。しかしながら、平面鏡の外周部分をフレームに固定するため、固定された外周部分近くでは、歪みを精度良く矯正するのが困難であった。また、複数の調整ねじにより平面鏡の裏面を押し引きする際、フレームに固定した箇所に過度の応力が掛かり、平面鏡がフレームに固定した箇所から割れて破損する可能性があった。

本発明の課題は、負圧室の天板のたわみを抑制し、かつ、露光時に近い条件で平面鏡による露光光の平行度の補正を行って、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることである。また、本発明の課題は、平面鏡の全面に渡り歪みを精度良く矯正することである。さらに、本発明の課題は、平面鏡の歪みを矯正する際、過度の応力が掛かって平面鏡が破損するのを防止することである。さらに、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。

本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、露光光照射装置が、凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを備え、平面鏡支持装置が、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を有し、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、平面鏡により反射される光の平行度を補正し、マスクホルダが、露光光が通過する開口と、開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、壁部の上に搭載された壁部より大きい透明な天板と、天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを有し、開口の下方にマスクを保持して、天板とマスクとの間に負圧室を形成し、マスクホルダの複数の押圧装置が、マスクホルダがマスクを保持する前に平面鏡支持装置が平面鏡により反射される光の平行度を補正するとき、第１の加圧力で天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押し、マスクホルダがマスクを保持して負圧室内の空気を抜く際、第１の加圧力より大きな第２の加圧力で天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押すものである。

また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、露光光照射装置に、凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを設け、平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、マスクホルダに、露光光が通過する開口と、開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、壁部の上に搭載された壁部より大きい透明な天板と、天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを設け、マスクホルダの開口の下方にマスクを保持する前に、マスクホルダの複数の押圧装置により、第１の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押しながら、平面鏡支持装置の各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、平面鏡により反射される光の平行度を補正し、マスクホルダの開口の下方にマスクを保持して、マスクホルダの天板とマスクとの間に負圧室を形成し、負圧室内の空気を抜く際、マスクホルダの複数の押圧装置により、第１の加圧力より大きな第２の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押すものである。

平面鏡支持装置が平面鏡により反射される光の平行度を補正するとき、壁部からはみ出た箇所が第１の加圧力で上方から押された天板は、中央部が盛り上がる様に上方へたわもうとし、上方へたわもうとする力と、自重により下方へのたわもうとする力が均衡して、たわみが抑制される。負圧室内の空気を抜く際、壁部からはみ出た箇所が第１の加圧力より大きな第２の加圧力で上方から押された天板は、中央部が盛り上がる様に上方へたわもうとし、上方へたわもうとする力と、負圧室の負圧により下方へ引っ張られる力が均衡して、たわみが抑制される。天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す加圧力を、露光光の平行度を補正するときよりも、負圧室内の空気を抜く際に大きくするので、露光光の平行度の補正時と露光時とで負圧室の天板のたわみの変化が少なくなり、露光時に近い条件で平面鏡による露光光の平行度の補正が行われる。

さらに、平面鏡を支持する平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整して、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更するので、平面鏡の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具により支持部材を回転可能に保持するので、保持具の位置を調整する際、支持部材が平面鏡の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛からず、平面鏡の破損が防止される。

さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、平面鏡支持装置の各支持機構が、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、平面鏡支持装置の各支持機構を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置するものである。隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置された各支持機構により、平面鏡を滑らかな曲面状に支持することができ、露光光の平行度の補正が効果的に行われる。

さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、平面鏡支持装置の各支持機構の保持具が、平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整するものである。

平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して受光するので、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれが検出され、平面鏡による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。

あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置は、平面鏡支持装置の各支持機構の保持具が、レーザー光を、チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、レーザー光を、チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整するものである。

露光光照射装置の光源には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入した放電型のランプが使用されており、これらの光源は、点灯を開始してから照度が安定するまでに時間が掛かり、また発生する光の照度が高く熱量が多い。レーザー光を、チャック側の複数箇所から平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整するので、露光光照射装置の光源を点灯することなく、平面鏡による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射するので、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれが検出され、平面鏡による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。

本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うものである。上記のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いることにより、マスクへ照射する露光光の平行度が上がり、露光精度が向上するので、高品質な表示用パネル基板が製造される。

本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、負圧室の天板のたわみを抑制し、かつ、露光時に近い条件で平面鏡による露光光の平行度の補正を行って、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができる。

さらに、平面鏡を支持する平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整して、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更することにより、平面鏡の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具により支持部材を回転可能に保持することにより、保持具の位置を調整する際、支持部材が平面鏡の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛かって平面鏡が破損するのを防止することができる。

さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、平面鏡支持装置の各支持機構を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置することにより、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。

さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することにより、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれを検出して、平面鏡による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。

あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、レーザー光を、チャック側の複数箇所から平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することにより、露光光照射装置の光源を点灯することなく、平面鏡による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射することにより、露光時に近い条件で平面鏡により反射された光の位置ずれを検出して、平面鏡による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。

本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。

本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。 第１平面鏡、凹面鏡及び第２平面鏡の配置を上方から見た図である。 図３（ａ）はマスクホルダの上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ部の一部断面側面図である。 押圧装置の側面図である。 押圧装置の動作を説明する図である。 図６（ａ）は平面鏡支持装置の背面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のＢ−Ｂ部の一部断面側面図である。 図７（ａ）は支持機構の側面図、図７（ｂ）は支持機構の正面図である。 図８（ａ）は支持部材の上面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＣ−Ｃ部の断面図である。 支持部材及び保持具の正面図である。 図９のＤ−Ｄ部の一部断面側面図である。 各支持機構の保持具の位置を調整する手順の一例を説明する図である。 各支持機構の保持具の位置を調整する手順の他の例を説明する図である。 各支持機構の保持具の位置を調整する手順の他の例を説明する図である。 第２平面鏡の支持点の配置を示す図である。 露光光の平行度を補正した状態の第２平面鏡の支持点の一例を示す図である。 液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。 液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。

図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、及び露光光照射装置３０を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。

なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。

図１において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０には、露光光が通過する開口が設けられており、開口の下方には、マスク２が装着されている。マスクホルダ２０の下面の開口の周囲には、吸着溝が設けられており、マスクホルダ２０は、吸着溝により、マスク２の周辺部を真空吸着して保持している。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、露光光照射装置３０が配置されている。露光時、露光光照射装置３０からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。

チャック１０は、Ｘステージ５及びＹステージ７により、露光位置から離れたロード／アンロード位置へ移動される。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。チャック１０は、基板１の裏面を真空吸着して支持する。

チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。

Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。また、図示しないＺ−チルト機構により、マスクホルダ２０をＺ方向（図１の図面上下方向）へ移動及びチルトすることによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１のアライメントが行われる。

なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。

露光光照射装置３０は、光源３１、集光鏡３２、第１平面鏡３３、フライアイレンズ３４、シャッター３５、凹面鏡３７、第２平面鏡３８、照度センサー３９、光源制御装置４０、電源４１、及び後述する平面鏡支持装置５０を含んで構成されている。光源３１には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入した放電型のランプが使用されている。光源３１の周囲には、光源３１から発生した光を集光する集光鏡３２が設けられている。光源３１から発生した光は、集光鏡３２により集光され、第１平面鏡３３へ照射される。

図２は、第１平面鏡、凹面鏡及び第２平面鏡の配置を上方から見た図である。シャッター３５は、基板１の露光を行う時に開き、基板１の露光を行わない時に閉じる。シャッター３５が開いているとき、第１平面鏡３３で反射された光は、フライアイレンズ３４へ入射する。そして、フライアイレンズ３４を透過した光は、凹面鏡３７で反射されて平行光線束となる。図１において、凹面鏡３７で反射されて平行光線束となった光は、第２平面鏡３８で反射されて、マスク２へ照射される。後述する平面鏡支持装置５０は、第２平面鏡３８を、水平ではなく、図１に示す様に斜めに立てた状態で支持している。マスク２へ照射された露光光により、マスク２のパターンが基板１へ転写され、基板１の露光が行われる。シャッター３５が閉じているとき、第１平面鏡３３からフライアイレンズ３４へ照射される光は、シャッター３５に遮断され、基板１の露光は行われない。

第２平面鏡３８の裏側近傍には、照度センサー３９が配置されている。第２平面鏡３８には、露光光の一部を通過させる小さな開口が設けられている。照度センサー３９は、第２平面鏡３８の開口を通過した光を受光して、露光光の照度を測定する。照度センサー３９の測定結果は、光源制御装置４０へ入力される。光源制御装置４０は、照度センサー３９の測定結果に基づき、電源４１から光源３１へ供給される電力を制御して、露光光の照度を調節する。

以下、本実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を説明する。図３（ａ）はマスクホルダの上面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ部の一部断面側面図である。図３（ａ）において、マスクホルダ２０には、露光光が通過する開口２０ａが設けられており、マスクホルダ２０の上面の開口２０ａの周囲には、開口２０ａの周囲全体に渡って連続した壁部２０ｂが設けられている。図３（ｂ）において、壁部２０ｂは、マスクホルダ２０の上面の他の部分より盛り上がった段差部となっている。

壁部２０ｂの上には、図３（ａ）の図面縦方向（図３（ｂ）の図面横方向）の寸法が壁部２０ｂより大きい天板２１が搭載されている。天板２１は、石英ガラス等の透明な材料から成る。図３（ｂ）に示す様に、マスクホルダ２０の下面にマスク２が装着されたとき、マスク２と、マスクホルダ２０の壁部２０ｂと、天板２１とによって、マスク２の上方に負圧室２０ｃが形成される。マスクホルダ２０は、図示しないエア通路から負圧室２０ｃ内の空気を抜き、負圧室２０ｃに負圧を掛けることによって、マスク２の自重によるたわみを抑制する。

図３（ａ）において、マスクホルダ２０の上面には、天板２１の対向する２辺の近くに、複数の支持台２２がそれぞれ設置されており、各支持台２２には、押圧装置２３がそれぞれ取り付けられている。図４は、押圧装置の側面図である。押圧装置２３は、エアシリンダ２４、連結部材２５、及び押圧部材２６を含んで構成されている。エアシリンダ２４のロッド２４ａには、連結部材２５を介して押圧部材２６が取り付けられている。押圧装置２３は、エアシリンダ２４のロッド２４ａを下方へ伸ばして、押圧部材２６の先端により、天板２１の壁部２０ｂからはみ出た箇所を上方から押す。なお、エアシリンダ２４の代わりに、直動モータを用いてもよい。

図５は、押圧装置の動作を説明する図である。図５（ａ）は、マスク２がマスクホルダ２０に装着されていない状態を示している。天板２１は、自重により下方へたわんでいる。この状態で、各押圧装置２３は、天板２１の壁部２０ｂからはみ出た箇所を、第１の加圧力で上方から押す。図５（ｂ）は、天板２１の壁部２０ｂからはみ出た箇所を、第１の加圧力で上方から押した状態を示している。各押圧装置２３により、壁部２０ｂからはみ出た箇所が第１の加圧力で上方から押された天板２１は、中央部が盛り上がる様に上方へたわもうとし、上方へたわもうとする力と、自重により下方へのたわもうとする力が均衡して、たわみが抑制され、ほぼ平坦になる。

図５（ｃ）は、マスク２がマスクホルダ２０に装着されて、負圧室２０ｃ内の空気が未だ抜かれていない状態を示している。この状態で、各押圧装置２３は、天板２１の壁部２０ｂからはみ出た箇所を、第１の加圧力より大きい第２の加圧力で上方から押す。各押圧装置２３により、壁部２０ｂからはみ出た箇所が第２の加圧力で上方から押された天板２１は、上方へたわもうとする力が自重により下方へのたわもうとする力に打ち勝って、中央部が盛り上がる様に上方へたわむ。

図５（ｄ）は、負圧室２０ｃ内の空気が抜かれた状態を示している。負圧室２０ｃ内の空気が抜かれて負圧室２０ｃに負圧が掛かると、中央部が盛り上がる様に上方へたわんでいた天板２１は、負圧室２０ｃの負圧により下方へ引っ張られ、上方へたわもうとする力と、負圧により下方へ引っ張られる力が均衡して、たわみが抑制され、ほぼ平坦になる。

本発明では、図５（ｂ）に示した状態で、後述する平面鏡支持装置５０により、第２平面鏡３８の歪みの矯正、及び第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正を行う。天板２１の壁部２０ｂからはみ出た箇所を上方から押す加圧力を、露光光の平行度を補正するときよりも、負圧室２０ｃ内の空気を抜く際に大きくするので、露光光の平行度の補正時と露光時とで負圧室２０ｃの天板２１のたわみの変化が少なくなり、露光時に近い条件で第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正が行われる。

図６（ａ）は平面鏡支持装置の背面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のＢ−Ｂ部の一部断面側面図である。平面鏡支持装置５０は、縦枠５１、横枠５２、及び支持機構６０を含んで構成されている。図６（ａ）に示す様に、２つの縦枠５１を複数の横枠５２で連結して、フレームが構成されている。図６（ａ），（ｂ）に示す様に、各横枠５２には、複数の支持機構６０がそれぞれ設けられている。平面鏡支持装置５０は、複数の支持機構６０により、第２平面鏡３８の裏面を複数箇所で支持している。第２平面鏡３８は、ソーダガラス等から成るガラス材の表面に、アルミニウム等から成る反射膜を蒸着して構成されている。

図７（ａ）は支持機構の側面図、図７（ｂ）は支持機構の正面図である。支持機構６０は、支持部材６１、保持具６２、止めピン６３、ナット６４、及び調整具を含んで構成されている。支持部材６１は、第２平面鏡３８の裏面に取り付けられて、第２平面鏡３８の裏面を支持している。図８（ａ）は支持部材の上面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＣ−Ｃ部の断面図である。支持部材６１には、上方からみて円形の平らな支持部６１ａと、支持部６１ａの上面から突き出た２つの受け部６１ｂとが設けられている。支持部６１ａの下面は、第２平面鏡３８の裏面に取り付けられている。各受け部６１ｂには、図８（ｂ）に示す様に、貫通孔６１ｃが設けられている。

図９は、支持部材及び保持具の正面図である。また、図１０は図９のＤ−Ｄ部の一部断面側面図である。保持具６２は、内輪６２ａ、外輪６２ｂ、及びホルダ６２ｃから構成されている。図９において、内輪６２ａは、球の上下を一部分切り取った形をしており、支持部材６１の貫通孔６１ｃとほぼ同じ大きさの貫通孔が設けられている。内輪６２ａは、支持部材６１の２つの受け部６１ｂの間に挿入され、止めピン６３及びボルト６４により、支持部材６１に固定されている。内輪６２ａの外側には、外輪６２ｂ及びホルダ６２ｃが設けられている。外輪６２ｂの内面には、内輪６２ａの表面に沿った曲面が設けられており、外輪６２ｂは、この曲面を内輪６２ａの表面に接触させながら回転する。これにより、保持具６２は、内輪６２ａが固定された支持部材６１を、図９及び図１０に矢印で示す方向に回転可能に保持している。

図７（ａ），（ｂ）において、調整具は、ボルト６５、ナット６６、及び座金６７を含んで構成されている。ボルト６５は、横枠５２に設けられたねじ穴にねじ込まれ、ナット６６及び座金６７により横枠５２に固定されている。ボルト６５の一端には、保持具６２のホルダ６２ｃが取り付けられている。ナット６６を緩め、ボルト６５のねじ込み量を調整して、保持具６２の第２平面鏡３８の表面と垂直な方向の位置を調整し、各支持機構６０の支持部材６１が第２平面鏡３８の裏面を支持する位置を変更することにより、第２平面鏡３８の歪みが矯正され、また第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正が行われる。

平面鏡支持装置５０に、第２平面鏡３８の裏面を支持する支持部材６１と、支持部材６１を回転可能に保持する保持具６２と、保持具６２の第２平面鏡３８の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構６０を設け、各支持機構６０の調整具により、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整して、各支持機構６０の支持部材６１が第２平面鏡３８の裏面を支持する位置を変更するので、第２平面鏡３８の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具６２により支持部材６１を回転可能に保持するので、保持具６２の位置を調整する際、支持部材６１が第２平面鏡３８の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛からず、第２平面鏡３８の破損が防止される。

図１１は、各支持機構の保持具の位置を調整する手順の一例を説明する図である。マスクと同じ材料及び厚さで、ピンホールを有するパターンが下面に設けられた測定治具７０を、図１１（ａ）に示す様に、露光時のマスク２の高さと同じ高さに設置する。また、ＣＣＤカメラ７１を、受光面の中心が測定治具７０のパパターンのピンポールと一致する様に設置し、ＣＣＤカメラ７１の焦点を、測定治具７０の下面の高さに合わせる。そして、第２平面鏡３８により反射された光を、測定治具７０のパターンのピンホールを通して、ＣＣＤカメラ７１により受光する。ＣＣＤカメラ７１が撮影した画像は、モニタ７２に表示される。

図１１（ｂ）は、モニタ７２の画面の一例を示している。モニタ７２の画面には、画面の中心からＸＹ方向に伸びる目盛７２ａが設けられている。測定治具７０のパターンのピンホールを通してＣＣＤカメラ７１により受光された光によって、モニタ７２の画面にフライアイレンズ３４の一部分の像３４ａが現れる。第２平面鏡３８により反射された光が完全に平行である場合、像３４ａの中心は、モニタ７２の画面の中心と一致する。図１１（ｂ）に示す様に、像３４ａの中心がモニタ７２の画面の中心からずれている場合、目盛７２ａを用いて、像３４ａの中心位置のずれ量（ｄＸ，ｄＹ）を測定する。この測定を複数箇所で行い、像３４ａの中心位置のずれ量（ｄＸ，ｄＹ）が最小と成る様に、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整する。第２平面鏡３８により反射された光を、マスク２と同じ材料及び厚さの測定治具７０に設けられたピンホールを通して受光するので、露光時に近い条件で第２平面鏡３８により反射された光の位置ずれが検出され、第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。

図１２及び図１３は、各支持機構の保持具の位置を調整する手順の他の例を説明する図である。本実施の形態では、露光光照射装置３０の光源３１を点灯せず、レーザー光を、チャック１０側の複数箇所から第２平面鏡３８へ照射して、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整する。まず、図１２（ａ）に示す様に、レーザー光源８０、ビームエキスパンダ８１、ミラー８２、及び半透明板８４をチャック１０の表面に設置し、ミラー８３をチャック１０の上方にチャック１０の表面と平行に設置する。そして、レーザー光源８０から発生したレーザー光のビーム径をビームエキスパンダ８１で広げ、半透明板８４を通してミラー８２へ照射する。ミラー８２で反射されたレーザー光は、ミラー８３で反射されてミラー８２へ戻り、再びミラー８２で反射されて半透明板８４へ照射される。ビームエキスパンダ８１から半透明板８４へ照射されるレーザー光の位置と、ミラー８３で折り返されて半透明板８４へ照射されるレーザー光の位置とが、半透明板８４上で一致する様に、レーザー光源８０、ビームエキスパンダ８１、及びミラー８２の角度を調節して、ミラー８２から上方へ反射されるレーザー光の光軸が垂直になる様にする。

続いて、ミラー８３及び半透明板８４を取り外し、マスク２と同じ材料及び厚さの測定治具８５を、図１２（ｂ）に示す様に、露光時のマスク２の高さと同じ高さに設置する。また、図１３に示す様に、測定器８６を露光光照射装置３０のフライアイレンズ３４の手前に設置する。そして、ミラー８２により反射されたレーザー光を測定治具８５及び天板２１を介して第２平面鏡３８へ照射する。測定器８６には、ミラー８２を設置した位置に対応する箇所にターゲットマークが設けられており、測定器８６へ照射されるレーザー光がターゲットマークに重なる様に、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整する。図１２（ｂ）に破線で示す様に、この作業をチャック１０上の複数箇所で行う。

なお、測定器８６には、ターゲットマークに限らず、格子状の目盛等の様なレーザー光の位置ずれが分かるものを設けてもよい。また、測定器８６として、ＣＣＤカメラ等の画像取得装置を用い、画像取得装置で受光したレーザー光の位置ずれを、画像処理により検出してもよい。

露光光照射装置３０の光源３１には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入した放電型のランプが使用されており、これらの光源３１は、点灯を開始してから照度が安定するまでに時間が掛かり、また発生する光の照度が高く熱量が多い。レーザー光を、チャック１０側の複数箇所から第２平面鏡３８へ照射し、第２平面鏡３８により反射されたレーザー光を受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整するので、露光光照射装置３０の光源３１を点灯することなく、第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスク２と同じ材料及び厚さの測定治具８５を通して第２平面鏡３８へ照射するので、露光時に近い条件で第２平面鏡３８により反射された光の位置ずれが検出され、第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正が高精度に行われる。

図６（ａ）において、各支持機構６０は、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されている。図１４は、第２平面鏡の支持点の配置を示す図である。各支持機構６０の支持部材６１が第２平面鏡３８の裏面を支持する支持点３８ａを、図１４に示す様に破線で結ぶと、各支持機構６０が、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されていることが分かる。図１５は、露光光の平行度を補正した状態の第２平面鏡の支持点の一例を示す図である。隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置された各支持機構６０により、第２平面鏡３８を滑らかな曲面状に支持することができ、露光光の平行度の補正が効果的に行われる。

以上説明した実施の形態によれば、負圧室２０ｃの天板２１のたわみを抑制し、かつ、露光時に近い条件で第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正を行って、マスク２へ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができる。

さらに、平面鏡支持装置５０に、第２平面鏡３８の裏面を支持する支持部材６１と、支持部材６１を回転可能に保持する保持具６２と、保持具６２の第２平面鏡３８の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構６０を設け、各支持機構６０の調整具により、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整して、各支持機構６０の支持部材６１が第２平面鏡３８の裏面を支持する位置を変更することにより、第２平面鏡３８の全面に渡り歪みを精度良く矯正することができる。また、保持具６２により支持部材６１を回転可能に保持することにより、保持具６２の位置を調整する際、支持部材６１が第２平面鏡３８の裏面を支持する箇所に過度の応力が掛かって第２平面鏡３８が破損するのを防止することができる。

さらに、平面鏡支持装置５０の各支持機構６０を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置することにより、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。

さらに、図１１に示した実施の形態によれば、第２平面鏡３８により反射された光を、マスク２と同じ材料及び厚さの測定治具７０に設けられたピンホールのパターンを通して、ＣＣＤカメラ７１により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構６０の調整具により、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整することにより、露光時に近い条件で第２平面鏡３８により反射された光の位置ずれを検出して、第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。

あるいは、図１２及び図１３に示した実施の形態によれば、レーザー光を、チャック１０側の複数箇所から第２平面鏡３８へ照射し、第２平面鏡３８により反射されたレーザー光を測定器８６により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構６０の調整具により、各支持機構６０の保持具６２の位置を調整することにより、露光光照射装置３０の光源３１を点灯することなく、第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正作業を短時間で安全に行うことができる。また、レーザー光を、マスク２と同じ材料及び厚さの測定治具８５を通して第２平面鏡３８へ照射することにより、露光時に近い条件で第２平面鏡３８により反射された光の位置ずれを検出して、第２平面鏡３８による露光光の平行度の補正を高精度に行うことができる。

本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことにより、マスクへ照射する露光光の平行度を上げ、露光精度を向上させることができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。

例えば、図１６は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。

また、図１７は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法や顔料分散法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。

図１６に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１７に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を適用することができる。

１ 基板
２ マスク
３ ベース
４ Ｘガイド
５ Ｘステージ
６ Ｙガイド
７ Ｙステージ
８ θステージ
９ チャック支持台
１０ チャック
２０ マスクホルダ
２０ａ 開口
２０ｂ 壁部
２１ 天板
２２ 支持台
２３ 押圧装置
２４ エアシリンダ
２４ａ ロッド
２５ 連結部材
２６ 押圧部材
３０ 露光光照射装置
３１ 光源
３２ 集光鏡
３３ 第１平面鏡
３４ フライアイレンズ
３５ シャッター
３７ 凹面鏡
３８ 第２平面鏡
３９ 照度センサー
４０ 光源制御装置
４１ 電源
５０ 平面鏡支持装置
５１ 縦枠
５２ 横枠
６０ 支持機構
６１ 支持部材
６２ 保持具
６３ 止めピン
６４，６６ ナット
６５ ボルト
６７ 座金
７０，８５ 測定治具
７１ ＣＣＤカメラ
７２ モニタ
７２ａ 目盛
８０ レーザー光源
８１ ビームエキスパンダ
８２，８３ ミラー
８４ 半透明板
８６ 測定器

Claims (10)

1. 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び該光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、前記露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
   前記露光光照射装置は、前記凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、該平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを備え、
   前記平面鏡支持装置は、前記平面鏡の裏面を支持する支持部材と、該支持部材を回転可能に保持する保持具と、該保持具の前記平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を有し、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が前記平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、前記平面鏡により反射される光の平行度を補正し、
   前記マスクホルダは、露光光が通過する開口と、該開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、該壁部の上に搭載された該壁部より大きい透明な天板と、該天板の前記壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを有し、前記開口の下方にマスクを保持して、天板とマスクとの間に負圧室を形成し、
   前記マスクホルダの複数の押圧装置は、前記マスクホルダがマスクを保持する前に前記平面鏡支持装置が前記平面鏡により反射される光の平行度を補正するとき、第１の加圧力で前記天板の前記壁部からはみ出た箇所を上方から押し、前記マスクホルダがマスクを保持して負圧室内の空気を抜く際、第１の加圧力より大きな第２の加圧力で前記天板の前記壁部からはみ出た箇所を上方から押すことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
2. 前記平面鏡支持装置は、各支持機構が、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置されたことを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
3. 前記平面鏡支持装置の各支持機構の保持具は、前記平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
4. 前記平面鏡支持装置の各支持機構の保持具は、レーザー光を、前記チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して前記平面鏡へ照射し、前記平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、平面鏡の表面と垂直な方向の位置が調整されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
5. 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、光源及び光源から発生した光を平行光線束にする凹面鏡を有する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から平行光線束の露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、
   露光光照射装置に、凹面鏡により平行光線束にされた光を反射してマスクへ照射する平面鏡と、平面鏡を支持する平面鏡支持装置とを設け、
   平面鏡支持装置に、平面鏡の裏面を支持する支持部材と、支持部材を回転可能に保持する保持具と、保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整する調整具とを有する複数の支持機構を設け、
   マスクホルダに、露光光が通過する開口と、開口の周囲全体に連続して配置された壁部と、壁部の上に搭載された壁部より大きい透明な天板と、天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押す複数の押圧装置とを設け、
   マスクホルダの開口の下方にマスクを保持する前に、マスクホルダの複数の押圧装置により、第１の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押しながら、
   平面鏡支持装置の各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の位置を調整し、各支持機構の支持部材が平面鏡の裏面を支持する位置を変更して、平面鏡により反射される光の平行度を補正し、
   マスクホルダの開口の下方にマスクを保持して、マスクホルダの天板とマスクとの間に負圧室を形成し、
   負圧室内の空気を抜く際、マスクホルダの複数の押圧装置により、第１の加圧力より大きな第２の加圧力でマスクホルダの天板の壁部からはみ出た箇所を上方から押すことを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
6. 平面鏡支持装置の各支持機構を、隣接して並んだ複数の正三角形の頂点の位置に配置することを特徴とする請求項５に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
7. 平面鏡により反射された光を、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具に設けられたピンホールを通して、画像取得装置により複数箇所で受光し、受光した光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
8. レーザー光を、チャック側の複数箇所から、マスクと同じ材料及び厚さの測定治具を通して平面鏡へ照射し、平面鏡により反射されたレーザー光を測定器により受光し、受光したレーザー光の位置のずれに基づいて、各支持機構の調整具により、各支持機構の保持具の平面鏡の表面と垂直な方向の位置を調整することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
9. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
10. 請求項５乃至請求項８のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。

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