CN103088300A

CN103088300A - 有机el器件制造装置

Info

Publication number: CN103088300A
Application number: CN2012104177980A
Authority: CN
Inventors: 图师庵; 龟山大树; 福岛真; 郑载勋; 李相雨
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2011-10-27
Filing date: 2012-10-26
Publication date: 2013-05-08
Also published as: JP2013093278A; TW201327692A; KR20130046365A

Abstract

本发明提供一种能高精度地控制基板与掩模的间隙的有机EL器件制造装置。有机EL器件制造装置的构成为，其具有：设置在真空处理室内的荫罩；放置基板的基板座；使基板与荫罩之间接近或分离的基板密合机构；以及设置于基板座的四角的距离计测机构，距离计测机构具有：设置成贯通基板座的距离计测用空间；设置于基板座的表面上的透明玻璃板；以及配置于距离计测用空间中的距离计测部，距离计测部具有：发射光并接收反射光以计测距离的距离计；使距离计与真空处理室内的气氛隔离的距离计箱体；以及设置在距离计箱体的一部分上的透明玻璃窗，距离计通过透明玻璃窗计测透明玻璃板与荫罩之间的距离。

Description

有机EL器件制造装置

技术领域

本发明涉及有机EL器件制造装置，特别是涉及能够在成膜时等高精度地控制基板与掩模的间隙的有机EL器件制造装置。

背景技术

作为制造有机EL器件的有效方法有真空蒸镀法。真空蒸镀法是在真空处理室内，例如在使玻璃基板等基板与掩模重合的状态下，将它们暴露于处理气体中实施蒸镀处理的方法。另外，近年来，随着处理基板的大型化，G6代的基板尺寸已达到1500mm×1800mm。为了与这种大型基板相对应，在垂直地保持基板面的状态下将其暴露于处理气体中实施蒸镀处理。在下述的专利文献1中公开了如下技术，即、在垂直地保持基板面的状态下，使掩模靠近基板，并在使基板与掩模重合的状态下，实施蒸镀处理。

如上所述，在真空处理室内垂直地保持大型基板的基板面，在重合了掩模的状态下实施蒸镀处理的场合，为了降低蒸镀的模糊，进行高精度的蒸镀，需要高精度地控制基板与掩模的间隙，例如使其达到数十μm以下。一直以来，虽然将放置基板的基板座表面的平坦度机械加工到例如约20μm以下，并提高使基板座移动的移动引导机构的机械加工精度，从而控制基板与掩模的间隙，尤其是在使大型基板为垂直的情况下，不容易在整个基板面的范围内高精度地控制基板与掩模的间隙。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2010－086956号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够将基板与掩模的间隙控制在例如数十μm以下的高精度的有机EL器件制造装置。

为了实现上述目的，在本发明的有机EL器件制造装置中，具有：

荫罩，该荫罩设置在真空处理室内；

基板座，该基板座设置在真空处理室内，包含用于放置基板的基板放置区域的第一面为长方形；

基板密合机构，该基板密合机构使放置在上述基板座上的基板与上述荫罩之间接近或分离；以及

距离计测机构，该距离计测机构在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角，

上述有机EL器件制造装置的特征在于，

上述距离计测机构具有：

距离计测用空间，该距离计测用空间在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角，并设置成贯通上述基板座的第一面和与该第一面相反一侧的第二面；

透明玻璃板，该透明玻璃板在上述距离计测用空间中设置于上述基板座的第一面上；以及

距离计测部，该距离计测部在上述距离计测用空间中配置于上述基板座的第二面上，

上述距离计测部具有：

对对象物发射光并接收从该对象物反射来的反射光，以计测与上述对象物之间的距离的距离计；

使上述距离计与真空处理室内的气氛隔离的距离计箱体；以及

设置在上述距离计箱体的一部分上的透明玻璃窗，

上述距离计接收通过上述透明玻璃窗从上述透明玻璃板反射来的反射光、以及通过上述透明玻璃窗从上述荫罩反射来的反射光，并根据该接收光的结果来计测上述透明玻璃板与上述荫罩之间的距离。

本发明的效果如下。

根据本发明，能够提供可将基板与掩模的间隙控制在例如数十μm以下的高精度的有机EL器件制造装置。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的有机EL器件制造装置的图。

图2是表示本发明的实施方式的搬运腔及处理腔的结构概要的图。

图3是本发明的实施方式的搬运腔及处理腔的构成模式图。

图4是表示本发明的实施方式的动作流程的图。

图5是表示本发明的实施方式的基板旋转机构及基板密合机构的图。

图6是表示本发明的实施方式的基板座的结构及定位时的基板的姿势的图。

图7是表示本发明的实施方式的定位部的结构的图。

图8是表示本发明的实施方式的距离测量机构的图。

图9是表示本发明的实施方式的基板掩模固定装置的实施例的图，是在图5中加上上述实施例的图。

图中：

1—处理腔，1bu—真空蒸镀腔，2—搬运腔，3—装料机群（load cluster），6—基板，6h—基板表面，7—蒸镀部，8—定位部，9—处理交接部，11—隔壁部，20—基板掩模固定机构，21—保持永久磁铁的基板掩模吸附体，21J—永久磁铁，22—吸附体旋转机构，22B—吸附体旋转驱动部，23—保持电磁铁的基板掩模吸附体，23d—电磁铁，23H—23的容纳箱，60—控制装置，61—距离计，62—距离计箱体，63透明玻璃窗，64a、64b—O形圈，65—透明玻璃板，66—固定金属件，67—距离计测部，71—蒸发源，81—荫罩，81a～81d--旋转支撑部，81h—表面，82—定位底座，83—定位驱动部，84—定位从动部，85—定位光学***，91—基板座，91h—第一面，91j—第二面，91k—距离计测用空间，92—基板旋转机构，93—基板密合机构，100—有机EL器件制造装，A～D-机群。

具体实施方式

以下，使用图1～图9说明本发明的实施方式。有机EL器件制造装置不只是用于形成发光材料层（EL层）并以电极夹持该发光材料层的构造，既用于在阳极上形成空穴注入层及输送层、在阴极上形成电子注入层及输送层等，形成以各种材料做成薄膜的多层构造，还用于清洗基板。图1是表示该制造装置的一例的水平剖视图。

本实施方式的有机EL器件制造装100大致包括：搬入处理对象的基板6（以下，也简称为基板）的装料机群3；处理上述基板6的四个机群（A～D），以及设置在各机群间或机群与装料机群3或者下一工序（封装工序）之间的五个交接室4（4a～4d）。就本实施方式的有机EL器件制造装100而言，将基板的蒸镀面作为上表面进行搬运，在进行蒸镀时使基板立着进行蒸镀。

装料机群3包括：为了维持真空而在前后具有闸阀10的装料锁定室31；以及从上述装料锁定室31接收基板6、旋转后将基板搬入交接室4a的搬运机器人5R。各装料锁定室31及各交接室4在前后具有闸阀10，在控制该闸阀10的开关维持真空的同时，向装料机群3或者下一机群等交接基板。

各机群（A～D）分别具有：具有一台搬运机器人5的搬运腔2；以及从搬运腔2接收基板、进行预定的处理的在附图上为上下配置的两个处理腔1（第一下标a～d表示机群，第二下标u、d表示上侧下侧）。在搬运腔2与处理腔1之间设有闸阀10。

图2是表示搬运腔2及处理腔1的结构概要的立体图。处理腔1的结构因处理内容而不同，但以在真空中对作为蒸镀材料的发光材料进行蒸镀而形成EL层的作为真空处理室的真空蒸镀腔1bu为例进行说明。图3是搬运腔2b及真空蒸镀腔1bu的构成模式图及动作说明图。图2的搬运机器人5能整体上下移动（参照图3的箭头59），在左右具有能旋转的三连杆构造的臂57，在其前端具有分为上下两段的两个基板搬运用的梳齿状手柄58。

在一个手柄的场合，在搬入搬出处理之间需要用于将基板转移到下一工序的旋转动作、用于从前工序接收基板的旋转动作、以及与之相应的闸阀的开关动作，但由于做成上下两段，因而能够以一方的手柄保持搬入的基板，以未保持基板的那个手柄从真空处理腔进行基板的送出动作后，连续地进行搬入动作。究竟做成两个手柄还是一个手柄根据所要求的生产能力决定。在以后的说明中，为便于说明以一个手柄进行说明。

另一方面，真空蒸镀腔1bu大致包括：使发光材料升华而蒸镀在基板6上的蒸镀部7；为了蒸镀在基板6的必要部分上而进行基板6与荫罩81的对位的定位部8；以及与搬运机器人5进行基板6的交接、并使基板6向蒸镀部7移动的处理交接部9。

定位部8与处理交接部9设置右侧R线和左侧L线两个***。本实施方式中的处理的基本方案是，在一方的线（例如R行）进行蒸镀期间，在另一方的L线进行基板6的搬出搬入，并进行基板6与荫罩81的定位，完成进行蒸镀的准备。通过交替地进行该处理，能够减少在未将蒸镀材料蒸镀在基板6上时所浪费的气化时间。

在本实施方式中，如图4所示，进行如下处理：首先，（1）将基板6搬入处理交接部9，其后，（2）使上述基板6大致垂直竖立，接着，（3）使基板6移动接近到距荫罩81一定的距离、例如0.5mm远的位置，（4）在该状态下进行对位。对位结束后，（5）使基板6与荫罩81密合，从而使基板6与荫罩81之间的间隙达到数十μm以下，（6）用磁铁吸附固定基板6与荫罩81，（7）将蒸镀材料蒸镀在基板6上。蒸镀结束后，（8）解除用磁铁对基板6与荫罩81的固定，（9）使基板6从荫罩81离开一定的距离，（10）使基板6位于水平，（11）从处理交接部9搬出基板6。

首先，使用图5说明上述步骤中实现（2）、（10）的基板旋转机构92。图5是表示上述步骤中具有实现（2）、（10）的基板旋转机构92、实现（3）、（5）、（9）的基板密合机构93的处理交接部9（参照图3）的图，而且是表示应用消除从配线的包覆材料逸出气体的问题的真空内配线连杆机构的图。

基板旋转机构92具有下述功能：将放置并保持搬入处理交接部9的基板的基板座91及基板6作为一体，在定位实施前使其大致垂直竖立，在定位结束后返回到水平状态。

图5中，基板旋转机构92大致包括：使作为旋转对象的基板6及基板座91等旋转部旋转的真空内配线连杆机构92L；以及借助于上述机构向箭头A的方向对上述旋转部进行旋转驱动的旋转驱动部92B。

真空内配线连杆机构92L包括：第一连杆92L1和第二连杆92L2；以及从真空侧对它们进行隔离并使其内部为大气气氛的密封部92S。上述第一连杆92L1将其一端支撑在旋转支撑台92k上，将另一端与后述的距离计箱体62连接而使其具有空心部。上述第二连杆92L2相对于上述距离计箱体62设置在与第一连杆92L1相反一侧，将一端与第一连杆92L1同样与上述距离计箱体62连接而使其具有空心部，将另一端与设置在图1所示的隔壁部11上的支撑部11A连接。

上述密封部92S包括：将一端与上述距离计箱体62的连接部连接、而将另一端与真空蒸镀腔1bu的侧壁连接的第一密封部92S1；以及将一端与上述距离计箱体62的连接部连接、而将另一端与支撑部11A连接的第二密封部92S2。各密封部92S1、92S2具有连接各自的两端的波纹管92V1、92V2，另外，各密封部92S1、92S2的距离计箱体62侧的连接部可旋转地支撑第一连杆92L1和第二连杆92L2。

在上述实施方式中，为了将配线94f敷设在连杆内而将连杆内做成空心的，但由于构成为密封部92S包含各自的连杆，因而也可以将配线敷设在连杆与真空密封部之间。在这种情况下，连杆也不必做成空心。

另一方面，旋转驱动部92B具有：设置于大气侧的旋转用电动机92m；将旋转用电动机92m的旋转运动传递给上述第一连杆92L1的齿轮92h1、92h2；以及支撑第一连杆92L1的一端的旋转支撑台92k。此外，旋转用电动机92m用设置于大气侧的控制装置60进行控制。

另外，图5表示的是真空蒸镀腔1bu的R线，以图1所示的隔壁部11为面对称中心，在真空蒸镀腔1bu的L线也配置了相同的构造。因此，做成R线的第一连杆92L1、距离计箱体62、第二连杆92L2、以及L线的第一连杆92L1、距离计箱体62、第二连杆92L2的各空心部借助于设置在隔壁部11上的支撑部11A，以大气相连的构造。第二连杆92L2不必一定为空心部，如后述那样，由于第二连杆92L2必须在隔壁部11的空心部中向图5所示的B方向移动，因而粉尘有在移动部中逸出的可能性，于是做成与支撑部11A的空心部相连、与大气相连的构造。

在上述中，若垂直地竖立基板6，则由于在基板6与基板座91之间也有产生微小间隙的可能性，因而如图6所示，使放置基板6的基板座91有一些倾斜、例如1度左右。这样，若有一些倾斜，则在基板6与基板座91之间不产生间隙，能够稳定地放置，并能由于基板6的自重而可靠地消除基板6的挠曲。另外，在基板座91的下部设有多个高度为具有基板6的厚度程度的基板支撑用的突起体91t。可以理解，即使在基板座91上未使用静电吸附或机械的夹具等基板保持机构，由于上述的倾斜，基板6也通过与基板座91的摩擦而不会滑动地被上述突起体91t保持。另外，由于突起体91t的高度是基板6的厚度程度，因而荫罩81上不必设置不需要的形状，能够进行稳定而可靠性高的蒸镀。

以上，若使用本实施方式的基板旋转机构92，由于以基板蒸镀面为上表面进行搬运，因而只要将基板6竖立就能以原状进行上述的定位。

另外，以在基板座91上使用基板保持用的突起体91t的简单结构就能保持基板6，就能在不破坏荫罩81的张紧状态的情况下进行可靠性高的蒸镀。

下面，使用图7说明实现步骤（4）的定位的结构和动作。图7表示的是本实施方式的定位部8。在本实施方式中，如图7所示，使基板6与荫罩81大致垂直地竖立进行定位。定位部8包括：荫罩81；固定荫罩81的定位底座82；保持定位底座82并规定在定位底座82即荫罩81的XZ平面的姿势的定位驱动部83；从下方支撑定位底座82并与定位驱动部83的动作协调且规定荫罩81的姿势的定位从动部84；检测基板6及设置在上述荫罩81上的定位标记的设置于四处的定位光学***85；以及处理定位标记的图像、求得定位量并控制定位驱动部83的控制装置60（参照图5）。

使用这样的结构如下那样进行定位。定位底座82在其四角附近，利用共计四个旋转支撑部可旋转地支撑，该四个旋转支撑部在上部设有两个81a、81b，在该两个各自的下方设置有两个81c、81d。

利用设置于上述四处的定位光学***85检测基板6及荫罩81的位置偏移（ΔX、ΔY、θ）。θ是图7的XZ面的倾斜度。基于该结果，使设置于定位底座82上部的旋转支撑部81a在图7所示的X方向、Z方向移动，使同样设置于该上部的旋转支撑部81b在Z方向移动，以消除上述位置偏移进行定位。这时，伴随着定位底座82的上述移动，旋转支撑部81b在X方向移动，而设置于定位底座82下部的旋转支撑部81c、81d从动地在X及Z方向移动。旋转支撑部81a的驱动由设置于真空蒸镀腔1bu的上部壁1T上的具有驱动电动机的定位驱动部83L进行，旋转支撑部81b的驱动及从动由定位驱动部83R进行，以及旋转支撑部81c、81d的从动由设置于真空蒸镀腔1bu的下壁部1Y下的定位从动部84L、84R进行。

定位用的机构部通过密封部设置于大气侧，从而不将对真空蒸镀给予坏的影响的粉尘等带入真空内，另外，这样一来还能提高维修保养性。再有，就定位光学***85而言，将照相机及光源等收放在突出于真空侧的内部位于大气中的容纳筒内，也起着同样的效果。

下面，使用图5说明步骤（3）、（5）、（9）的使基板6与荫罩81密合的基板密合机构93的结构及动作。基板密合机构93是这样的机构，即，通过使基板旋转机构92整体地在箭头B方向移动，首先将基板6移动到靠近距荫罩81一定距离之处，进行定位，然后使其密合，蒸镀后再返回到原来的位置。因此，基板密合机构93具有：放置基板旋转机构92的旋转驱动部放置台93t；旋转驱动部放置台93t行走用的导轨93r；以及借助于滚珠丝杠93n对旋转驱动部放置台93t进行驱动的接近用电动机93m。在隔壁部11的空心部还有与旋转驱动部放置台93t的动作从动，使基板旋转机构92的第二连杆92L2在B方向移动的导轨（未图示）。即使称之为导轨，其工作长度至多也就2mm左右。

利用下面叙述的距离计测机构来计测基板6与荫罩81之间的距离，基于该计测结果，通过由控制装置60来控制基板密合机构93，从而能高精度地控制基板6与荫罩81之间的距离，能够使基板6与荫罩8密合。

使用图8说明距离计测机构。如图8所示，在基板座91的基板放置区域外，以贯通基板座91的第一面91h及与该第一面91h相反一侧的第二面91j的方式设有距离计测用空间91k。第一面91h是包含用于放置基板6的基板放置区域的面，面形状为长方形。

在距离计测用空间91k的第一面91h上设有透明玻璃板65。透明玻璃板65的荫罩81侧的表面与第一面91h为同一个面。在距离计测用空间91k的第二面91j上设有距离计测部67。由距离计测用空间91k、透明玻璃板65及距离计测部67构成距离计测机构。

距离计测部67具有距离计61、距离计箱体62、透明玻璃窗63、以及O形圈64a、64b。距离计61在本例中为激光位移计，对对象物发射光，接收从该对象物反射来的反射光，以计测与上述对象物之间的距离。距离计箱体62用于将距离计61与真空处理室内的气氛隔离。距离计箱体62内最好为大气气氛。距离计61利用固定金属件66安装在距离计箱体62上，利用电缆与控制部分60连接。透明玻璃窗63设置在距离计箱体62的一部分上，具体地说，设置在能从距离计61看透透明玻璃板65的位置上。在透明玻璃窗63与距离计箱体62之间***O形圈64a、64b，使距离计箱体62之外的真空气氛与距离计箱体62内的气氛气密地分离。

这样，距离计61配置成能够从距离计测用空间91k通过透明玻璃板65看透荫罩81。

下面，对计测基板6与荫罩81之间的距离的方法进行说明。

如图表8所示，从距离计61发射的激光由透明玻璃板65的表面反射，向距离计61返回。由距离计61接收该反射光，计测与透明玻璃板65的表面之间的距离。另外，从距离计61发射的激光由荫罩81的表面81h反射，向距离计61返回。由距离计61接收该反射光，计测与荫罩81的表面81h之间的距离。由于透明玻璃板65的厚度与基板6的厚度是已知的，根据以上的计测结果，就能算出基板6的表面6h与荫罩81的表面81h之间的距离t。

上述的距离计测机构在基板座91上设置于基板放置区域外的四角，算出该四角的基板6的表面6h与荫罩81的表面81h之间的距离t，根据该计算结果，就能控制基板密合机构93。

根据上述实施方式，在蒸镀时能够消除基板的挠曲。另外，能够一边保持基板6与荫罩81未接触的距离、例如0.5mm左右，一边进行定位，然后，通过使基板6与荫罩81密合，从而能够降低蒸镀的模糊而能进行高精度的蒸镀。

下面，使用图9说明步骤（6）、（8），即在蒸镀时将基板6与荫罩81固定，以便能稳定地进行蒸镀，在蒸镀结束后解除该固定的基板掩模固定机构20的本实施方式的实施例。图9是在图5上附加了基板掩模固定机构20的图。考虑到图面的复杂程度，在说明时将无直接关系的符号省略。

本实施方式的基板掩模固定机构20包括：对吸附固定基板6和荫罩81的永久磁铁21J进行保持的基板掩模吸附体21；以及使上述基板掩模吸附体21从处理交接部9的上部如箭头C那样旋转、使上述基板掩模吸附体21移动到基板座91的位置的作为吸附体移动机构的吸附体旋转机构22。

上述基板掩模吸附体21若旋转并靠近基板座91，则隔着非磁性材料的基板6，开始吸附由磁性材料构成的荫罩81，随着接近而增强吸附力，当接触时便吸附固定。这时，在吸附力过强而使荫罩81变形的情况下，则也可以不使其接触，而使其旋转到能得到适当的吸附力的位置并吸附固定。其结果，通过使基板6与荫罩81一体化，以其一体化的状态进行蒸镀，能够稳定而可靠地进行蒸镀。

在图9中，吸附体旋转机构22大致包括：使作为旋转对象的基板掩模吸附体21旋转的连杆机构22L；以及通过上述机构在箭头C的方向旋转驱动上述旋物的吸附体旋转驱动部22B。

连杆机构22L由第一连杆22L1及第二连杆22L2、以及将它们与真空侧隔离的密封部22S构成。连杆机构22L的基本结构虽与基板密合机构93的真空内配线连杆机构92L相同，但仍有以下不同之点。

第一，在本实施方式中，由于步骤（6）是在用图4所示的基板密合机构93使基板6与荫罩密合的步骤（5）之后进行的，因而不需要使基板掩模固定机构20前后移动。因此，不需要用于使连杆前后移动的波纹管，密封部22S也可以在真空蒸镀腔1bu的侧壁设置第一密封部22s1，在支撑部11A设置第二密封部22s2，只要将连杆机构22设置成可旋转即可。反过来说，若在上述动作流程（5）之前进行，则为与真空内配线连杆机构92L相同的结构，与基板旋转机构92同样需要使吸附体旋转机构22整体前后移动。

第二，真空内配线连杆机构92L的连杆为了进行配线而做成空心，但就连杆机构22L而言，因不进行配线不必一定为空心的。

另外，在第二连杆22L2的支撑部11A内的旋转支撑体（未图示）上，如果产生粉尘，由于具有与真空内配线连杆机构92L的第二连杆的支撑体相同的空间，因而能够通过上述真空内配线连杆机构92L将上述粉尘向大气侧排出。

另一方面，吸附体旋转驱动部22B虽然与上述旋转驱动部92B的动力的大小不同，但基本上具有与旋转驱动部92B相同的结构。因此，由于能将基板旋转机构92的标号从92置换成22，因而在此省略其说明。此外，基板掩模吸附体21的待机位置可以设在基板旋转机构92的旋转区域的上部，以免成为基板旋转机构92旋转的障碍。

按照基板掩模固定机构20的本实施方式，由于能够将基板掩模吸附体21做成与处理交接部9分离的、或者另外独立的构造，因而即使因故障等产生更换基板掩模吸附体21或处理交接部9的构成机构的需要，对于基板掩模吸附体21来说，与处理交接部9无关，只要更换基板掩模吸附体21即可，对于处理交接部9来说，与基板掩模吸附体21无关，只要更换处理交接部9即可。再有，尤其是对处理交接部9而言，其结构简化，易于维修保养。因此，能够提供维修保养性能高的基板掩模吸附体或处理交接部。

按照基板掩模固定机构20的本实施方式，由于在基板座91上可以不使用机械夹具等保持机构，由于在与上述机械夹具相对应的荫罩部分不需要设置收放上述机械夹具之类的机构的变形部，因而没有因磁场等的紊乱导致的掩模部的变形而能进行精度高的蒸镀。

最后，对步骤（7）的蒸镀处理，使用图3说明本实施方式的实施例。如图3所示，蒸镀部7具有：沿导轨75上使蒸发源71在上下方向移动的上下驱动机构72；以及沿导轨75上使蒸发源71在左右的定位部间移动的左右驱动底座74。蒸发源71在内部具有作为蒸镀材料的发光材料，通过对上述蒸镀材料进行加热控制（未图示）而能得到稳定的蒸发速度，如图3的引出图所示，做成从列状并列的多个喷嘴73进行喷射的构造。根据需要，为了得到稳定的蒸镀膜，还可以对添加剂同时进行加热并蒸镀。

另外，在上述说明中以有机EL器件为例进行了说明，但还能适用于在与有机EL器件相同背景中进行蒸镀处理的成膜装置。

Claims

1.一种有机EL器件制造装置，其具有：

荫罩，该荫罩设置在真空处理室内；

上述有机EL器件制造装置的特征在于，

上述距离计测机构具有：

上述距离计测部具有：

设置在上述距离计箱体的一部分上的透明玻璃窗，

2.根据权利要求1所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，

上述距离计箱体内为大气气氛，上述距离计被配置在大气气氛中。

3.根据权利要求1或2所述的有机EL器件制造装置，其特征在于，上述距离计是激光位移计。