JP2007055821A - グラファイトナノファイバの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 少なくとも表層が(001)、(111)、(110)、(211)、(310)の結晶方位を有するFeを含有する金属触媒層からなる基材を使用して、炭素原子含有ガスを用いる化学気相成長法により基材表面にグラファイトナノファイバを成長させる。
【選択図】 図2
Description
Claims (11)
- 基材上にグラファイトナノファイバを製造する方法において、少なくとも表層が特定の結晶方位を有するFeを含有する金属触媒層からなる基材を使用し、原料ガスとして炭素原子含有ガスを用いる化学気相成長法により、前記基材表面にグラファイトナノファイバを成長させることを特徴とするグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記金属触媒層の金属が、FeまたはFeを含む合金であることを特徴とする請求項1に記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記金属触媒層が、所定のパターンとして形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記基材が、前記金属触媒層を構成する金属と同じ金属からなっていることを特徴とする請求項1または2に記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記基板の表面が、パターン化されていることを特徴とする請求項4に記載のグラフィトナノファイバの製造方法。
- 前記基材が、シリコン材表面上に前記金属触媒層を有しているものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記特定の結晶方位が、(100)、(111)、(110)、(211)、および(310)から選ばれた方位であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記金属触媒層が、スパッタリング法、EB蒸着法または抵抗加熱蒸着法に従って金属触媒薄膜を形成し、次いで熱処理することによって形成されたものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記原料ガスが、炭素原子含有ガスとH2ガスとの混合ガスであることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記炭素原子含有ガスが、COガス、CO2ガスおよびCH4ガスから選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
- 前記原料ガスが、COガスとH2ガスとの混合ガスであることを特徴とする請求項9に記載のグラファイトナノファイバの製造方法。
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